JPH0629388A - Method and apparatus for wafer breaking and separation - Google Patents

Method and apparatus for wafer breaking and separation

Info

Publication number
JPH0629388A
JPH0629388A JP17997592A JP17997592A JPH0629388A JP H0629388 A JPH0629388 A JP H0629388A JP 17997592 A JP17997592 A JP 17997592A JP 17997592 A JP17997592 A JP 17997592A JP H0629388 A JPH0629388 A JP H0629388A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
tape
roller
break
breaking
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP17997592A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akihiko Sato
昭彦 佐藤
Takeshi Ogura
剛 小倉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP17997592A priority Critical patent/JPH0629388A/en
Publication of JPH0629388A publication Critical patent/JPH0629388A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
  • Dicing (AREA)

Abstract

PURPOSE:To protect a chip from damage like a split, a break or a crack when the chips are separated from a wafer in a wafer breaking separation method. CONSTITUTION:In a wafer breaking separation method, a wafer 1 having breaking grooves 1A is made on a tape 2 to separate the wafer 1 using a roller 3. While the tape 2 with the wafer 1 is stretched in a reverse direction to the rotational direction of the roller 3, the wafer 1 is separated into chips 4. Also, a breaking separation apparatus comprises a tape stretching means for stretching the tape 2, to which the wafer 1 is attached, in a reverse direction to the rotational direction of the roller 3, an upward pulling means for pulling the tape 2 upward so that the tape stretching direction is slanted upward with respect to a plane of a work stage, and an upward pulling angel setting means for setting a pulling angle in the upward pulling means.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、スクライブダイシン
グ、レーザスクライブ等により、予めブレーク用溝(キ
ズ)が設けられた半導体ウエーハ(以下、単にウエーハ
と称する)を半導体チップ(以下、単にチップと称す
る)に分離するウエーハブレーキング・分離方法及びそ
の実施装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor wafer (hereinafter simply referred to as "wafer") provided with break grooves (scratches) in advance by scribe dicing, laser scribing or the like. The present invention relates to a wafer breaking / separating method and a device for implementing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、光素子を含む化合物半導体(Ga
As,InP)及びシリコン(Si)半導体にスクライブ
等で予めブレーク用溝(キズ)が設けられたウエーハを
チップに分離するウエーハブレーキング技術において
は、分離されたチップにワレ、カケが発生しない正確な
ブレーク分離方法が要求されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, compound semiconductors including optical devices (Ga
In the wafer breaking technology, which separates a wafer in which break grooves (scratches) have been previously provided in As, InP) and silicon (Si) semiconductors by scribing into chips into chips, cracks and chips do not occur in the separated chips. Break break method is required.

【0003】そのブレーク分離方法としては、一般に、
ローラブレーキング方法が広範に使用されており、その
装置も標準的なものが市販されている。この標準的な装
置は、ウエーハを配置する試料台と、ブレーク用ローラ
(以下、単にローラと称する)とで構成されている。そし
て、前記ブレーク用溝(キズ)が設けられたウエーハを
テープに貼り付け、そのテープのウエーハ面を下にして
試料台にセットし、ローラ圧力荷重とローラ移送速度を
選定する。次に、スイッチ操作によりローラをウエーハ
面上を回転移動させてブレークし、分離してチップを得
る。
Generally, the break separation method is as follows.
The roller braking method is widely used, and standard equipment is commercially available. This standard equipment consists of a wafer sample holder and a break roller.
(Hereinafter, simply referred to as a roller). Then, the wafer provided with the break groove (scratch) is attached to a tape, and the wafer surface of the tape is set downward and set on a sample table, and the roller pressure load and the roller transfer speed are selected. Next, a switch is operated to rotationally move the roller on the wafer surface to break the roller and separate the chips to obtain chips.

【0004】[0004]

【本発明が解決しようとする課題】本発明者は、前記従
来のウエーハブレーキング方法を検討した結果、次のよ
うな問題点があることを見い出した。
DISCLOSURE OF THE INVENTION As a result of examining the conventional wafer breaking method, the present inventor has found out the following problems.

【0005】前記従来のウエーハブレーキング方法で
は、図4に示すように、ウエーハ101のブレーク時
に、ブレークされたチップ101Aと、次に、ブレーク
されるチップ101Bとが位置のずれによってぶっかり
合って相互が接触し、ワレ、カケ、クラック等が発生す
る場合がある。図4中、102はローラ、103は接着
テープ、104は保護シート、105はウエーハ載置用
軟材である。
In the conventional wafer breaking method described above, as shown in FIG. 4, when the wafer 101 is broken, the broken chip 101A and the next broken chip 101B collide with each other due to misalignment. They may come into contact with each other and cracks, chips, cracks, etc. may occur. In FIG. 4, 102 is a roller, 103 is an adhesive tape, 104 is a protective sheet, and 105 is a wafer mounting soft material.

【0006】例えば、光素子や化合物半導体の基板材質
は、GaAs,InP結晶が用いられており、この材質
は、Si材に比較し脆弱であるため、前述したワレ、カ
ケ、クラック等の発生度合は高い。
For example, as a substrate material for optical devices and compound semiconductors, GaAs and InP crystals are used. Since this material is more fragile than the Si material, the degree of occurrence of cracks, chips, cracks, etc. described above is high. Is high.

【0007】また、Siデバイスのトランジスタや集積
回路(IC)は、若干のワレ、カケクラック等は製品特
性に対し、影響を及ぼさないが、光素子のレーザダイオ
ードにおいては、微小チップの端部よりレーザ光を発す
る構造となっていることから、チップ端部のワレ、カ
ケ、クラック等は、致命的な不良となる。
In the transistor and integrated circuit (IC) of the Si device, some cracks and cracks do not affect the product characteristics, but in the laser diode of the optical element, the laser is applied from the end of the microchip. Because of the structure that emits light, cracks, chips, cracks, and the like at the end of the chip are fatal defects.

【0008】したがって、光素子のレーザダイオードの
ブレーク分離技術は、製造特性歩留を左右する大きな要
素である。すなわち、ブレーキング時に微小のワレ、カ
ケ、クラック等を最小限に止め、よりシャープエッジの
ブレーク分離を実現することが重要課題である。
Therefore, the break isolation technology for the laser diode of the optical element is a major factor that affects the manufacturing characteristic yield. That is, it is an important issue to minimize breaks, cracks, cracks and the like during braking and realize more sharp edge break separation.

【0009】本発明の目的は、ウエーハブレーキング・
分離方法において、ウエーハからチップに分離する際に
生ずるワレ、カケ、クラク等の損傷を防止することが可
能な技術を提供することにある。
An object of the present invention is to break wafers.
It is an object of the present invention to provide a separation method capable of preventing damages such as cracks, chips, and cracks that occur when separating a wafer into chips.

【0010】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らか
になるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。
Among the inventions disclosed in the present application, a brief description will be given to the outline of typical ones.
It is as follows.

【0012】(1)予めブレーク用溝(キズ)が設けら
れたウエーハをテープに貼り付け、ブレーク用ローラで
ウエーハをブレークしてチップに分離するウエーハブレ
ーキング・分離方法において、前記ブレーク用ローラの
回転する進行方向と逆向きに、前記ウエーハを貼り付け
たテープに張力を加えてウエーハをブレークして分離す
る。
(1) In a wafer breaking / separating method in which a wafer provided with break grooves (scratches) in advance is adhered to a tape, and the break roller breaks the wafer to separate it into chips. In the opposite direction to the direction of rotation, tension is applied to the tape to which the wafer is attached to break the wafer and separate it.

【0013】(2)予めブレーク用溝(キズ)が設けら
れたウエーハをテープに貼り付け、ブレク用ローラでウ
エーハをブレークして分離するウエーハブレーキング・
分離装置において、前記ウエーハを貼り付けたテープ
を、前記ローラの回転する進行方向と逆向きで、引張り
方向がウエーハを配置した試料台の平面に対し上方向に
引張るテープ引張り手段と、該テープ引張り手段による
テープ引張り角度を設定する引張り角度設定手段が設け
られている。
(2) Wafer braking, in which a wafer having a break groove (scratch) formed in advance is adhered to a tape, and the break roller separates the wafer by breaking it.
In the separating device, the tape attached with the wafer is a tape pulling means for pulling the tape in the direction opposite to the direction in which the roller rotates and the pulling direction is upward with respect to the plane of the sample table on which the wafer is arranged, and the tape pulling means. Tension angle setting means is provided for setting the tape tension angle by the means.

【0014】(3)前記テープ引張り力をウエーハの分
割ピッチに合せて変化させるテープ引張り力設定手段が
設けられている。
(3) Tape pulling force setting means for changing the tape pulling force according to the division pitch of the wafer is provided.

【0015】(4)前記試料台には、真空吸引用穴が設
けられ、真空引きによりウエーハを吸着固定するウエー
ハ吸着固定手段が設けられている。
(4) A vacuum suction hole is provided in the sample table, and a wafer suction fixing means for sucking and fixing the wafer by vacuuming is provided.

【0016】[0016]

【作用】前述の手段によれば、ローラの回転する進行方
向と逆向きに、ウエーハを貼り付けたテープに張力を加
えてウエーハをブレークし、ブレークされたチップをい
ち早く分離して引き離し、分離されたチップの相互の接
触をなくすので、分離されたチップのワレ、カケ、クラ
ック等の損傷を防止することができる。
According to the above-described means, tension is applied to the tape on which the wafer is adhered in the direction opposite to the direction in which the roller rotates to break the wafer, and the broken chips are quickly separated and pulled apart. Since the chips are prevented from contacting each other, damage such as cracks, chips and cracks of the separated chips can be prevented.

【0017】[0017]

【実施例】以下、図面を参照して、本発明の実施例を詳
細に説明する。
Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings.

【0018】なお、実施例を説明するための全図におい
て、同一機能を有するものでは、同一符号を付けその繰
り返しの説明は省略する。
In all the drawings for explaining the embodiments, parts having the same function are designated by the same reference numerals and their repeated description will be omitted.

【0019】〔実施例1〕図1は、本発明の実施例1の
ウエーハブレーキング・分離装置の概略構成を示す模式
図であり、1はスクライブ又はダイシング等により予め
ブレーク用溝(キズ)が設けられたウエーハ、1Aはウ
エーハ1を複数のチップに分割するための、ダイヤモン
ドカッタ等でスクライブ又はダイシングにより設けられ
たブレーク用溝、2はウエーハ1のブレーク用溝1Aが
施されている面と反対側の面に貼り付けられた接着テー
プ、3はローラ、4は分離されたチップ、5はウエーハ
1が載置される試料台、6は試料台5の上面に設けられ
ているウエーハ載置用軟材、7はウエーハ1のブレーク
用溝1Aが施されている面に設けられた保護テープ、8
は真空吸引用孔、9Aはローラ3の回転方向を示す矢
印、9Bはローラ3の移動方向を示す矢印、10は接着
テープ2の引張り方向を示す矢印である。
[Embodiment 1] FIG. 1 is a schematic view showing a schematic configuration of a wafer breaking / separating apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. Reference numeral 1 denotes a break groove (scratch) previously formed by scribing or dicing. The provided wafer 1A is a break groove for dividing the wafer 1 into a plurality of chips by scribing or dicing with a diamond cutter or the like, and 2 is a surface of the wafer 1 on which the break groove 1A is provided. Adhesive tape affixed to the opposite surface, 3 rollers, 4 separated chips, 5 a sample table on which the wafer 1 is placed, and 6 a wafer table provided on the upper surface of the sample table 5. Soft material, 7 is a protective tape provided on the surface of the wafer 1 on which the break groove 1A is provided, 8
Is a vacuum suction hole, 9A is an arrow indicating the rotation direction of the roller 3, 9B is an arrow indicating the moving direction of the roller 3, and 10 is an arrow indicating the pulling direction of the adhesive tape 2.

【0020】前記接着テープ2は、弾性を有するもので
あり、弾性限度以上の張力が加えられても伸びるだけで
切断しない特性のものである。
The adhesive tape 2 has elasticity, and has a characteristic that it does not break even if it is applied with a tension above the elastic limit.

【0021】例えば、表1に示すような特性値を備えた
樹脂テープを用いる。
For example, a resin tape having the characteristic values shown in Table 1 is used.

【0022】[0022]

【表1】 [Table 1]

【0023】または、表2に示すような特性値を備えた
接着剤付樹脂テープを用いる。
Alternatively, a resin tape with an adhesive having the characteristic values shown in Table 2 is used.

【0024】[0024]

【表2】 [Table 2]

【0025】前記ローラ3の直径、ローラ3の移動速
度、及びローラ3がウエーハ1上を押えてブレークする
圧力は、ブレークするウエーハ1の分割ピッチサイズに
合せて可変できるようになっている。同様に、接着テー
プ2の引張力をウエーハ載置用軟材6の硬度もウェーハ
1の分割ピッチサイズに合せて選定できるようになって
いる。ローラ3の荷重と接着テープ2の引張り力は、エ
ア駆動やモータによる駆動、直接荷重を加えるなどして
最適なものを選定すればよい。
The diameter of the roller 3, the moving speed of the roller 3, and the pressure at which the roller 3 presses the wafer 1 and breaks can be varied according to the division pitch size of the wafer 1 to be broken. Similarly, the tensile force of the adhesive tape 2 and the hardness of the wafer mounting soft material 6 can be selected according to the division pitch size of the wafer 1. The load of the roller 3 and the pulling force of the adhesive tape 2 may be selected optimally by air driving, driving by a motor, or directly applying a load.

【0026】次に、本実施例1の動作を図1を用いて説
明する。
Next, the operation of the first embodiment will be described with reference to FIG.

【0027】ウエーハ1のブレーク用溝1Aが施されて
いる面を保護テープ7に貼り付け、その面と対向する面
を接着テープ2に貼り付け、それをウエーハ1のブレー
ク用溝1Aを下にして試料台5のウエーハ載置用軟材6
上に装着し、真空吸引用孔8を通して真空に吸引し、接
着テープ2とウエーハ載置用軟材6との間に介在する気
泡を除去してウエーハ1を試料台5に固定する。次に、
ローラ3をウエーハ1のブレークする位置に合せてセッ
トする。そして、接着テープ2の一端を引張り装置(図
示していない)に固定し、矢印10の方向に引張って接
着テープ2に張力を加え、ローラ3を、ウエーハ1の上
を矢印9Aの方向に回転させて矢印9Bの方向に移動さ
せながら、上部から一定の荷重を加える。これにより、
前記ローラ3の移動に合せて接着テープ2は、矢印10
の方向に引張られて伸び、ウエーハ1はブレーク用溝1
Aのところからブレーク(割られる)され、複数のチッ
プ4に分離される。これと同時に、保護テープ7が、試
料台5上のウエーハ載置用軟材6に圧着されて剥離され
る。
The surface of the wafer 1 on which the break groove 1A is formed is adhered to the protective tape 7, the surface opposite to that surface is adhered to the adhesive tape 2, and the break groove 1A of the wafer 1 is placed downward. For placing wafer on sample table 5
The wafer 1 is mounted on the upper surface and vacuumed through the vacuum suction hole 8 to remove air bubbles existing between the adhesive tape 2 and the wafer mounting soft material 6 and fix the wafer 1 to the sample table 5. next,
The roller 3 is set in accordance with the break position of the wafer 1. Then, one end of the adhesive tape 2 is fixed to a pulling device (not shown), pulled in the direction of arrow 10 to apply tension to the adhesive tape 2, and the roller 3 is rotated on the wafer 1 in the direction of arrow 9A. Then, a constant load is applied from above while moving in the direction of arrow 9B. This allows
As the roller 3 moves, the adhesive tape 2 moves in the direction of the arrow 10.
Wafer 1 is stretched in the direction of
The chip is broken (broken) from A and separated into a plurality of chips 4. At the same time, the protective tape 7 is pressure-bonded to the wafer mounting soft material 6 on the sample table 5 and peeled off.

【0028】このようにすることにより、分割されたチ
ップ4はウエーハ1からブレークする位置に分離され、
分離されたチップ4のそれぞれ相互が接触することがな
いので、ワレ、カケ、クラック等の発生を防止すること
ができる。
By doing so, the divided chips 4 are separated from the wafer 1 at break positions,
Since the separated chips 4 do not come into contact with each other, cracks, chips, cracks and the like can be prevented from occurring.

【0029】〔実施例2〕図2は、本発明の実施例2の
ウエーハブレーキング・分離装置の概略構成を示す模式
図であり、11はナイフエッジを有するブレーク板(分
割板)である。
[Embodiment 2] FIG. 2 is a schematic view showing a schematic structure of a wafer breaking / separating apparatus according to Embodiment 2 of the present invention, and 11 is a break plate (dividing plate) having a knife edge.

【0030】本実施例2は、図2に示すように、前記実
施例1のローラ3に代りに、シャープな先端を有するブ
レーク板11を設けたものであり、このブレーク板11
は、矢印12に示すように、上下方向に移動すると同時
に、上方向に位置した状態で矢印9B方向にウエーハ1
の分割ピッチサイズだけ移動するようになっている。こ
の分割ピッチは、ブレークするウエーハ1の分割ピッチ
サイズに合せて変化させることができるようになってい
る。また、上下動の速度と下降時の荷重も変化させるこ
とができるようになっている。
In the second embodiment, as shown in FIG. 2, a break plate 11 having a sharp tip is provided instead of the roller 3 of the first embodiment.
As shown by an arrow 12, the wafer 1 moves in the direction of the arrow 9B while being moved in the vertical direction at the same time as being moved upward.
It is designed to move by the division pitch size of. This division pitch can be changed according to the division pitch size of the wafer 1 to be broken. Further, the vertical movement speed and the load when descending can also be changed.

【0031】次に、本実施例2のウエーハブレーキング
装置の動作を説明する。
Next, the operation of the wafer breaking device of the second embodiment will be described.

【0032】図2において、試料台5の上に配置したウ
エーハ1は、ブレーク用溝1Aに合せた位置にブレーク
板11を矢印12方向に下げ、圧力を加えることでブレ
ークされる。同時に、接着テープ2を矢印10の方向に
引張り、チップ4をウエーハ1より分離することができ
る。
In FIG. 2, the wafer 1 placed on the sample table 5 is broken by lowering the break plate 11 in the direction of the arrow 12 at a position aligned with the break groove 1A and applying pressure. At the same time, the adhesive tape 2 can be pulled in the direction of the arrow 10 to separate the chip 4 from the wafer 1.

【0033】なお、本実施例2では、ブレーク板11を
ピッチ送りする方法を適用したが、ブレーク板11を固
定し、試料台5をピッチ送りしても同様の効果が得られ
る。
Although the method of pitch-feeding the break plate 11 is applied in the second embodiment, the same effect can be obtained by fixing the break plate 11 and pitch-feeding the sample table 5.

【0034】〔実施例3〕図3は、本発明の実施例3の
ウエーハブレーキング・分離装置の概略構成を示す模式
図であり、13はローラブレークしたチップ4を分離す
る接着テープ2の引張り方向を一定にするための接着テ
ープ引張りローラ、14は接着テープ引張りローラ13
の回転方向を示す矢印である。
[Embodiment 3] FIG. 3 is a schematic view showing a schematic structure of a wafer breaking / separating apparatus according to Embodiment 3 of the present invention. Reference numeral 13 is a pulling force of an adhesive tape 2 for separating a roller-breaked chip 4. Adhesive tape pulling roller for keeping the direction constant, 14 is an adhesive tape pulling roller 13
Is an arrow indicating the rotation direction of the.

【0035】本実施例3のウエーハブレーキング・分離
装置は、図3に示すように、前記実施例1において、ロ
ーラブレークしたチップ4を分離する接着テープ引張り
方向を一定にするために、接着テープ引張りローラ14
を設け、この接着テープ引張りローラ14を介して矢印
10の方向に接着テープ2を一定方向に引張るようにし
たものである。
As shown in FIG. 3, the wafer breaking / separating apparatus according to the third embodiment is different from the wafer breaking / separating apparatus in the first embodiment in that the adhesive tape for separating the roller-breaked chips 4 is fixed in the pulling direction. Pulling roller 14
Is provided, and the adhesive tape 2 is pulled in a fixed direction in the direction of arrow 10 via the adhesive tape pulling roller 14.

【0036】前記ローラ3と接着テープ引張りローラ1
4は、予め設定した一定の位置関係で、各々回転しなが
ら試料台5の面と平行の矢印9Bの方向に移動するよう
になっている。
Roller 3 and adhesive tape pulling roller 1
Reference numeral 4 denotes a predetermined fixed positional relationship, which is adapted to move in the direction of arrow 9B parallel to the surface of the sample table 5 while rotating.

【0037】前記ローラ3と接着テープ引張りローラ1
4との位置は、可変できるようになっており、これらを
ブレーキングするウエーハ1の分割ピッチサイズに合せ
て容易に可変できる。また、これにより、試料台5の面
と接着テープ2の角度θを可変できるので、接着テープ
2の引張り角度(=θ)を変えることができる。
Roller 3 and adhesive tape pulling roller 1
The positions of 4 and 4 can be changed, and can be easily changed according to the division pitch size of the wafer 1 for braking them. Further, as a result, the angle θ between the surface of the sample table 5 and the adhesive tape 2 can be changed, so that the pulling angle (= θ) of the adhesive tape 2 can be changed.

【0038】前記ブレークローラ3の荷重、移動速度、
接着テープ2の引張り角度(=θ)等の諸条件は、ブレ
ークするウエーハ1の分割ピッチサイズに合せて変える
ことができるようになっている。
The load of the break roller 3, the moving speed,
Various conditions such as the pulling angle (= θ) of the adhesive tape 2 can be changed according to the division pitch size of the wafer 1 to be broken.

【0039】次に、本実施例3のウエーハブレーキング
装置の動作を説明する。
Next, the operation of the wafer breaking device of the third embodiment will be described.

【0040】図3において、試料台5の上に配置したウ
エーハ1上を分割用溝1Aに合せた位置にローラ3を矢
印9Aの方向に下げ、圧力を加えることでブレーキング
される。同時に、接着チップ2を矢印10の方向に引張
り、チップ4をウエーハ1より分離することができる。
そして、前記ローラ3と接着テープ引張りローラ14と
が一定の位置関係で回転移動することにより、ローラブ
レークしたチップ4を分離する接着テープ2の引張り方
向を一定にすることができる。
In FIG. 3, the wafer 1 placed on the sample table 5 is braked by lowering the roller 3 in the direction of the arrow 9A at a position aligned with the dividing groove 1A and applying pressure. At the same time, the adhesive chip 2 can be pulled in the direction of the arrow 10 to separate the chip 4 from the wafer 1.
Then, the roller 3 and the adhesive tape pulling roller 14 rotate and move in a fixed positional relationship, so that the pulling direction of the adhesive tape 2 for separating the roller-broken chip 4 can be made constant.

【0041】以上の説明からわかるように、前記実施例
1、2、3によれば、ウエーハ1をブレークする際に、
ブレーク前のウエーハ1とブレーク後のチップ4とが完
全に分離され、ブレークされたチップ4のそれぞれが相
互に接触することがないので、分離されたチップ4の端
部等のワレ、カケ、クラック等を防止することができ
る。この効果は、特に、化合物半導体において顕著であ
る。
As can be seen from the above description, according to the first, second, and third embodiments, when the wafer 1 is broken,
The wafer 1 before the break and the chip 4 after the break are completely separated, and the broken chips 4 do not come into contact with each other. Therefore, cracks, chips, cracks or the like at the ends of the separated chips 4 and the like. Etc. can be prevented. This effect is particularly remarkable in compound semiconductors.

【0042】これにより、ワレ、カケ、クラック、異物
の付着等による特性不良を引き起こす確率を低減するこ
とができるので、品質及び歩留りの向上をはかることが
できる。
As a result, it is possible to reduce the probability of causing characteristic defects due to cracks, chips, cracks, adherence of foreign matter, etc., so that it is possible to improve quality and yield.

【0043】以上、本発明者によってなされた発明を、
前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前
記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱し
ない範囲において種々変更可能であることは勿論であ
る。
As described above, the invention made by the present inventor is
Although the present invention has been specifically described based on the above-mentioned embodiments, the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and it goes without saying that various modifications can be made without departing from the scope of the invention.

【0044】[0044]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0045】すなわち、ローラの回転する進行方向と逆
向きに、ウエーハを貼り付けたテープに張力を加えてウ
エーハをブレークし、ブレークされたチップをいち早く
分離して引き離し、分離されたチップの相互の接触をな
くするので、分離されたチップのワレ、カケ、クラック
等の損傷を防止することができる。
That is, tension is applied to the tape on which the wafer is adhered in the direction opposite to the direction in which the roller rotates to break the wafer, the broken chips are quickly separated and separated, and the separated chips are separated from each other. Since there is no contact, damage such as cracks, chips, and cracks of the separated chips can be prevented.

【0046】これにより、ワレ、カケ、クラック、異物
の付着等による特性不良を引き起こす確率を低減するこ
とができるので、品質及び歩留りの向上をはかることが
できる。
As a result, the probability of causing characteristic defects due to cracks, chips, cracks, adhesion of foreign matter, etc. can be reduced, so that the quality and yield can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の実施例1のウエーハブレーキング・
分離装置の概略構成を示す模式図、
FIG. 1 is a diagram illustrating a wafer breaking according to a first embodiment of the present invention.
A schematic diagram showing a schematic configuration of the separation device,

【図2】 本発明の実施例2のウエーハブレーキング・
分離装置の概略構成を示す模式図、
[FIG. 2] Wafer braking of Embodiment 2 of the present invention
A schematic diagram showing a schematic configuration of the separation device,

【図3】 本発明の実施例3のウエーハブレーキング・
分離装置の概略構成を示す模式図、
[FIG. 3] Wafer braking of Embodiment 3 of the present invention
A schematic diagram showing a schematic configuration of the separation device,

【図4】 従来のウエーハブレーキング・分離装置の概
略構成を説明するための模式図。
FIG. 4 is a schematic diagram for explaining a schematic configuration of a conventional wafer breaking / separating device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ウエーハ、1A…ブレーク用溝、2…接着テープ、
3…ブレーク用ローラ、4…チップ、5…試料台、6…
ウエーハ載置用軟材、7…保護テープ、8…真空吸引用
孔、9A…ブレーク用ローラの回転方向を示す矢印、9
B…ブレーク用ローラの移動方向を示す矢印、10…テ
ープ引張り方向を示す矢印、11…ブレーク板(分離
板)、12…ブレーク板の移動方向を示す矢印、13…
接着テープ引張りローラ、14…接着テープ引張りロー
ラの回転方向を示す矢印。
1 ... Wafer, 1A ... Break groove, 2 ... Adhesive tape,
3 ... Break roller, 4 ... Chip, 5 ... Sample stand, 6 ...
Wafer mounting soft material, 7 ... Protective tape, 8 ... Vacuum suction hole, 9A ... Arrow indicating direction of rotation of break roller, 9
B ... Arrow indicating movement direction of break roller, 10 ... Arrow indicating tape pulling direction, 11 ... Break plate (separation plate), 12 ... Arrow indicating movement direction of break plate, 13 ...
Adhesive tape pulling roller, 14 ... Arrow indicating the direction of rotation of the adhesive tape pulling roller.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 予めブレーク用溝が設けられたウエーハ
をテープに貼り付け、ブレーク用ローラでウエーハをブ
レークしてチップに分離するウエーハブレーキング・分
離方法において、前記ブレーク用ローラの回転する進行
方向と逆向きに、前記ウエーハを貼り付けたテープに張
力を加えてウエーハをブレークして分離することを特徴
とするウエーハブレーキング・分離方法。
1. A wafer breaking / separating method in which a wafer provided with a break groove in advance is attached to a tape, and the break roller breaks the wafer to separate it into chips. In the opposite direction to the above, a method of breaking and separating the wafer is characterized in that the wafer is separated by breaking the wafer by applying tension to the tape to which the wafer is attached.
【請求項2】 予めブレーク用溝が設けられたウエーハ
をテープに貼り付け、ブレク用ローラでウエーハをブレ
ークして分離するウエーハブレーキング・分離装置にお
いて、前記ウエーハを貼り付けたテープを、前記ローラ
の回転する進行方向と逆向きで、引張り方向がウエーハ
を配置した試料台の平面に対し上方向に引張るテープ引
張り手段と、該テープ引張り手段によるテープ引張り角
度を設定する引張り角度設定手段が設けられていること
を特徴とするウエーハブレーキング・分離装置。
2. A wafer breaking / separating device in which a wafer having a break groove provided in advance is attached to a tape, and a break roller is used to break and separate the wafer, and the tape to which the wafer is attached is attached to the roller. The tape pulling means for pulling upward in the direction opposite to the rotating traveling direction of the wafer and the pulling direction is upward with respect to the plane of the sample table on which the wafer is arranged, and the pulling angle setting means for setting the tape pulling angle by the tape pulling means are provided. Wafer breaking / separating device.
【請求項3】 前記テープ引張り力をウエーハの分割ピ
ッチに合せて変化させるテープ引張り力設定手段が設け
られていること特徴とする請求項2に記載のウエーハブ
レーキング・分離装置。
3. The wafer breaking / separating apparatus according to claim 2, further comprising tape pulling force setting means for changing the tape pulling force according to a division pitch of the wafer.
【請求項4】 前記試料台には、真空吸引用穴が設けら
れ、真空引きによりウエーハを吸着固定するウエーハ吸
着固定手段が設けられていることを特徴とする請求項2
又は請求項3に記載のウエーハブレーキング・分離装
置。
4. The sample stage is provided with a vacuum suction hole, and is provided with a wafer suction fixing means for sucking and fixing the wafer by vacuuming.
Alternatively, the wafer breaking / separating device according to claim 3.
JP17997592A 1992-07-07 1992-07-07 Method and apparatus for wafer breaking and separation Pending JPH0629388A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17997592A JPH0629388A (en) 1992-07-07 1992-07-07 Method and apparatus for wafer breaking and separation

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17997592A JPH0629388A (en) 1992-07-07 1992-07-07 Method and apparatus for wafer breaking and separation

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0629388A true JPH0629388A (en) 1994-02-04

Family

ID=16075262

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17997592A Pending JPH0629388A (en) 1992-07-07 1992-07-07 Method and apparatus for wafer breaking and separation

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0629388A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19618895A1 (en) * 1996-05-10 1997-11-13 Itt Ind Gmbh Deutsche Process for processing side surfaces of electronic elements
DE102006015142A1 (en) * 2006-03-31 2007-10-04 Dyntest Technologies Gmbh Semiconductor wafer breaking device for manufacturing e.g. integrated circuit, has two counter supports which are provided and turned towards top side of semiconductor wafer, where supports are positioned at sides of preset break line
DE102006015141A1 (en) * 2006-03-31 2007-10-04 Dyntest Technologies Gmbh Semiconductor wafer breaking device for e.g. integrated circuit chip, has wedge arranged at lower side of wafer premarked in starting area of break line, and arranged opposite to wafer plane such that pressure is exerted at wedge sides
WO2015183101A1 (en) 2014-05-30 2015-12-03 Msi As Lifeboat release and retrieval system (lrrs)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19618895A1 (en) * 1996-05-10 1997-11-13 Itt Ind Gmbh Deutsche Process for processing side surfaces of electronic elements
DE102006015142A1 (en) * 2006-03-31 2007-10-04 Dyntest Technologies Gmbh Semiconductor wafer breaking device for manufacturing e.g. integrated circuit, has two counter supports which are provided and turned towards top side of semiconductor wafer, where supports are positioned at sides of preset break line
DE102006015141A1 (en) * 2006-03-31 2007-10-04 Dyntest Technologies Gmbh Semiconductor wafer breaking device for e.g. integrated circuit chip, has wedge arranged at lower side of wafer premarked in starting area of break line, and arranged opposite to wafer plane such that pressure is exerted at wedge sides
WO2015183101A1 (en) 2014-05-30 2015-12-03 Msi As Lifeboat release and retrieval system (lrrs)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7172951B2 (en) Apparatus for controlled fracture substrate singulation
US6121118A (en) Chip separation device and method
US6399464B1 (en) Packaging die preparation
US6589809B1 (en) Method for attaching semiconductor components to a substrate using local UV curing of dicing tape
US20060180136A1 (en) Tape expansion apparatus
US5972154A (en) Methods of dicing flat workpieces
US20070155131A1 (en) Method of singulating a microelectronic wafer
KR101386339B1 (en) Method for manufacturing device
KR19990028523A (en) Method for peeling protective adhesive tape of semiconductor wafer and its device
JP2002050670A (en) Pick-up device and pick-up method
JP2001035817A (en) Method of dividing wafer and manufacture of semiconductor device
KR20080098018A (en) Support for wafer singulation
CN105365060B (en) Method and apparatus for dividing brittle material substrate
JP2007305687A (en) Dicing method and dicing device of wafer
US20110097875A1 (en) Wafer processing method
US20070155055A1 (en) Method of dicing wafer and die
US20080014720A1 (en) Street smart wafer breaking mechanism
JP5396227B2 (en) Protective tape peeling device
JP5879698B2 (en) Semiconductor substrate expansion apparatus and expansion processing method
JPH0629388A (en) Method and apparatus for wafer breaking and separation
KR900001649B1 (en) Semiconductor water break device
JPH0563077A (en) Processing method for semiconductor wafer
JP5102138B2 (en) Protective tape peeling device
CN116053209A (en) Method for cutting gallium nitride wafer and method for packaging gallium nitride power device
JP2002353296A (en) Equipment for peeling wafer protective tape and wafer mounting equipment