JPH06293831A - Chain polyorganosiloxane and its production - Google Patents

Chain polyorganosiloxane and its production

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JPH06293831A
JPH06293831A JP3922794A JP3922794A JPH06293831A JP H06293831 A JPH06293831 A JP H06293831A JP 3922794 A JP3922794 A JP 3922794A JP 3922794 A JP3922794 A JP 3922794A JP H06293831 A JPH06293831 A JP H06293831A
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浩一 山口
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健一 福田
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義和 斉藤
Nobuyuki Kobayashi
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Abstract

PURPOSE:To obtain the subject compound having excellent heatresistance and scarcely containing volatile low-molecular siloxane causing environmental pollution by polymerizing a fluorine-containing cyclo}risiloxane, etc., in the presence of a catalyst and removing volatile components from the product. CONSTITUTION:The objective compound of formula IV [X is H or group of formula V (R3 is univalent hydrocarbon group; (q) is 0-3); (m) is 15-4,000; (n) is integer satisfying the formula 0<=n/(n+m)<=0.1] containing <=50ppm of cyclic polysiloxane having a molecular weight of <=3,000 is produced by polymerizing (A) a fluorine-containing cyclotrisiloxane of formula I [R1 is univalent hydrocarbon group; Rf is fluorine-containing group such as group of formula II (R2 is CF(CF3), CF2CF2, etc.; (p) is 1-5)[ or a mixture of the component A and (B) a vinyl-containing cyclotrisiloxane of formula III in the presence of (C) a lithium silanolate catalyst, etc., and purifying the product by heating under reduced pressure and/or extracting with a solvent to remove volatile components.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、揮発性低分子シロキサ
ンを含まず、しかも耐熱性に優れた新規な含フッ素鎖状
ポリオルガノシロキサン及びその製造方法に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel fluorine-containing chain polyorganosiloxane which does not contain a volatile low molecular weight siloxane and is excellent in heat resistance, and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】ポリオルガノシロキサンは、低表面張力
及び低屈折率を有し、耐熱性、耐寒性、電気絶縁性、撥
水性、離型性、消泡性、耐薬品性等の特性が優れている
ため、広範囲の産業分野において使用されている。しか
し、最近の技術の進展に伴い、さらに高度の要求に応え
るために、種々の特性に優れたポリオルガノシロキサン
の開発が要請されている。
2. Description of the Related Art Polyorganosiloxane has a low surface tension and a low refractive index and is excellent in properties such as heat resistance, cold resistance, electric insulation, water repellency, releasability, defoaming property and chemical resistance. Therefore, it is used in a wide range of industrial fields. However, with the recent progress of technology, in order to meet higher requirements, development of polyorganosiloxane having various properties is required.

【0003】これらの要求のいくつかに応えるものとし
て、例えば、分子内に含フッ素有機基を有するポリオル
ガノシロキサンが知られている。然しながら、その含フ
ッ素有機基は多くが3,3,3-トリフロロプロピル基であ
り、より長鎖の含フッ素有機基を有するオルガノポリシ
ロキサンとしては、下記式:
To meet some of these requirements, for example, polyorganosiloxane having a fluorine-containing organic group in the molecule is known. However, most of the fluorine-containing organic groups are 3,3,3-trifluoropropyl groups, and an organopolysiloxane having a longer-chain fluorine-containing organic group has the following formula:

【0004】[0004]

【化7】 式中、aは1〜3の整数、bは1〜5の整数、cは1又
は2の整数であり、 Rは炭素原子数3〜10の2価のフッ素を含まない有機基
を表わす、で表される含フッ素有機基を有しているオル
ガノポリシロキサンが知られているに過ぎなかった(特
開平2−219829号、同2−219830号)。
[Chemical 7] In the formula, a is an integer of 1 to 3, b is an integer of 1 to 5, c is an integer of 1 or 2, and R represents a divalent fluorine-free organic group having 3 to 10 carbon atoms, Organopolysiloxanes having a fluorine-containing organic group represented by the following formulas have only been known (JP-A-2-219829 and JP-A-2-219830).

【0005】しかし、上記式で表される長鎖の含フッ素
有機基は、−CH2 −O−R−の結合部分が高温条件で
は不安定で、ひいてはポリオルガノシロキサンの耐熱性
に限界をもたらすという不利を有していた。
However, in the long-chain fluorine-containing organic group represented by the above formula, the bonding portion of --CH 2 --O--R-- is unstable under high temperature conditions, and thus the heat resistance of polyorganosiloxane is limited. Had the disadvantage.

【0006】また、長鎖のフルオロアルキル基やフルオ
ロポリエーテル基等の含フッ素有機基を有するポリオル
ガノシロキサンを製造する方法としては、当該含フッ素
有機基を有するシクロトリシロキサンを合成し、これを
単独で、あるいはヘキサメチルシクロトリシロキサン等
のフッ素を含まないシクロトリシロキサンと共に、濃硫
酸、活性白土、酸処理活性白土、アルカリ金属の水酸化
物もしくはシラノレート、水酸化第四級アンモニウム、
水酸化第四級ホスホニウム等の触媒の存在下で重合する
方法が考えられる。しかしこの方法においては、解重合
反応も生起するため、目的とする高分子体を高収率で得
ることが困難であり、また、含フッ素シクロトリシロキ
サンとフッ素を含まないシクロトリシロキサンの共重合
の場合、両者の反応性の違いにより、含フッ素有機基が
各分子に均一に導入されたポリオルガノシロキサンを得
ることも困難であった。
Further, as a method for producing a polyorganosiloxane having a fluorine-containing organic group such as a long-chain fluoroalkyl group or a fluoropolyether group, cyclotrisiloxane having the fluorine-containing organic group is synthesized and used. Alone or with fluorine-free cyclotrisiloxane such as hexamethylcyclotrisiloxane, concentrated sulfuric acid, activated clay, acid-treated activated clay, alkali metal hydroxide or silanolate, quaternary ammonium hydroxide,
A method of polymerizing in the presence of a catalyst such as quaternary phosphonium hydroxide can be considered. However, in this method, since a depolymerization reaction also occurs, it is difficult to obtain the target polymer in a high yield, and the copolymerization of fluorine-containing cyclotrisiloxane and fluorine-free cyclotrisiloxane is difficult. In this case, it was also difficult to obtain a polyorganosiloxane in which a fluorine-containing organic group was uniformly introduced into each molecule due to the difference in reactivity between the two.

【0007】さらに、上記の製造方法では、解重合反応
の生起のため、目的の高分子鎖状シロキサンの他に、環
状シロキサンや低分子鎖状シロキサンが副生し、特に環
状シロキサンは3量体から数十量体まで連続的に生成す
る。これらのうち、低分子鎖状シロキサンや重合度の低
い環状シロキサンは、重合体を減圧下に加熱することに
より除去できるが、10量体以上、特に20量体以上の環状
体の除去は非常に困難である。従って、この様にして得
られたポリオルガノシロキサン重合体は、公知の技術に
よって、オイル、ゴム状硬化物、コーティング被膜等の
形態で用いられるわけであるが、該オルガノポリシロキ
サン中に含まれる環状シロキサンがオイル、ゴム状硬化
物、被膜等から徐々に揮発、ブリードを起こし、電気分
野においては電気接点トラブル、建材分野では周辺汚染
等の原因となっている。
Furthermore, in the above-mentioned production method, in order to cause the depolymerization reaction, cyclic siloxanes and low-molecular chain siloxanes are by-produced in addition to the objective polymer chain siloxane, and in particular, the cyclic siloxane is a trimer. To continuously generate tens of tens. Of these, low-molecular chain siloxanes and cyclic siloxanes having a low degree of polymerization can be removed by heating the polymer under reduced pressure, but removal of 10-mer or more, especially 20-mer or more cyclics is very difficult. Have difficulty. Therefore, the polyorganosiloxane polymer thus obtained is used in the form of an oil, a rubber-like cured product, a coating film, or the like by a known technique, and the cyclic organopolysiloxane contained in the organopolysiloxane is used. Siloxane gradually volatilizes and bleeds from oils, rubber-like cured products, coatings, etc., causing electrical contact troubles in the electric field and surrounding pollution in the construction material field.

【0008】低分子シロキサンや環状シロキサンを副生
しないポリオルガノシロキサンの製造方法としては、例
えば下記式:
As a method for producing a polyorganosiloxane that does not form a low-molecular siloxane or a cyclic siloxane as a by-product, for example, the following formula:

【0009】[0009]

【化8】 〔式中、Mは、アルカリ金属、Aは、Si原子またはホ
ウ素原子、Q1 及びQ2 は、アルキル基等の一価炭化水
素基であり、uは、AがSiのとき1,Aがホウ素のと
き0であり、vは、0〜2の整数である〕で表される触
媒を用いて、ヘキサメチルシクロトリシロキサン等を重
合する方法が提案されている(特公昭45−1070号、米国
特許第3,445,426 号)。しかしながら、この様な触媒を
用いても、10量体以上の環状シロキサンが400ppm以上生
成することが明らかとなっている。
[Chemical 8] [In the formula, M is an alkali metal, A is a Si atom or a boron atom, Q 1 and Q 2 are monovalent hydrocarbon groups such as an alkyl group, and u is 1 when A is Si and 1 is A. When boron is 0, v is an integer of 0 to 2], a method of polymerizing hexamethylcyclotrisiloxane and the like using a catalyst represented by (Japanese Patent Publication No. 45-1070) is proposed. U.S. Pat. No. 3,445,426). However, it has been clarified that 400 ppm or more of a 10-mer or more cyclic siloxane is produced even if such a catalyst is used.

【0010】また、リチウムシラノレートや有機リチウ
ム化合物を触媒としたヘキサメチルトリシロキサンの単
独重合、あるいはヘキサメチルトリシロキサンとヘキサ
フェニルトリシロキサン等とのブロック共重合による単
分散ポリオルガノシロキサンの製造方法も公知である
(特公昭46−27267 号、E.E.Bostick, ACS PolymerPrep
rint,10(2), 877(1969)、特開平1−294738号等)。と
ころが、この方法も前記と同様に、2000 ppm以上の割合
で10量体以上の環状シロキサンの生成が避けられない。
Further, a method for producing a monodisperse polyorganosiloxane by homopolymerization of hexamethyltrisiloxane using lithium silanolate or an organic lithium compound as a catalyst, or block copolymerization of hexamethyltrisiloxane and hexaphenyltrisiloxane is also available. Known (Japanese Patent Publication No. 46-27267, EEBostick, ACS PolymerPrep)
rint, 10 (2), 877 (1969), JP-A-1-294738, etc.). However, similarly to the above, this method also inevitably produces a 10-mer or more cyclic siloxane at a ratio of 2000 ppm or more.

【0011】さらに、減圧・加熱によるストリップや溶
剤抽出等の手段による低分子シロキサン、環状シロキサ
ンの除去方法も行われているが(例えば特開昭64−6930
6 号参照)、この方法は、例えば含有する環状体のうち
何量体までカットできるかという精製レベルを向上させ
るものであり、環状シロキサン等の副生を防止するもの
ではない。
Further, a method of removing low-molecular siloxanes and cyclic siloxanes by means of stripping by reduced pressure and heating, solvent extraction, etc. has been carried out (for example, JP-A-64-6930).
(See No. 6), this method improves the purification level, for example, how much of the contained cyclic compounds can be cut, and does not prevent by-products such as cyclic siloxanes.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、耐熱
性に優れたた含フッ素鎖状ポリオルガノシロキサンを提
供することである。本発明の他の目的は、環状シロキサ
ンや低分子シロキサンを実質的に含まない含フッ素鎖状
ポリオルガノシロキサンの製造方法を提供することであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a fluorine-containing chain polyorganosiloxane having excellent heat resistance. Another object of the present invention is to provide a method for producing a fluorine-containing chain polyorganosiloxane that is substantially free of cyclic siloxane and low molecular weight siloxane.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記一
般式(1):
According to the present invention, the following general formula (1):

【化9】 〔式中、R1 は、非置換または置換の一価炭化水素基で
あり、Rfは、下記式(1a):
[Chemical 9] [In the formula, R 1 represents an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, and Rf represents the following formula (1a):

【化10】 または下記式(1b): CL 2L+1− (1b) (式中、R2 は、−CF(CF3 )−,−CF2 CF2
−または−CF(CF3 )CF2 − であり、pは1〜
5の整数であり、Lは1〜20の整数である)で表され
る含フッ素基であり、Xは、水素原子または下記式(1
c):
[Chemical 10] Or the following formula (1b): C L F 2L + 1 - (1b) ( wherein, R 2 is, -CF (CF 3) -, - CF 2 CF 2
- or -CF (CF 3) CF 2 - a and, p is 1
5 is an integer of 5 and L is an integer of 1 to 20), and X is a hydrogen atom or the following formula (1
c):

【化11】 (式中、R3 は非置換又は置換の一価炭化水素基、qは
0〜3の整数である)で表わされる基であり、mは、15
〜4000の整数であり、nは、0≦n/(n+m)≦0.1
を満足する整数である〕で表され、分子量が 3,000以下
の環状ポリシロキサンの含有量が50ppm 以下である鎖状
ポリオルガノシロキサンが提供される。
[Chemical 11] (Wherein R 3 is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, q is an integer of 0 to 3), and m is 15
Is an integer of up to 4000, and n is 0 ≦ n / (n + m) ≦ 0.1
Of a cyclic polysiloxane having a molecular weight of 3,000 or less, and a chain polyorganosiloxane having a content of 50 ppm or less.

【0014】本発明によれば、さらに、下記一般式
(2):
According to the present invention, the following general formula (2):

【化12】 (式中、R1 、Rfは前記と同じ)で表される含フッ素シ
クロトリシロキサン、または該含フッ素シクロトリシロ
キサンと下記一般式(3):
[Chemical 12] (Wherein R 1 and Rf are the same as above), or the fluorine-containing cyclotrisiloxane and the following general formula (3):

【化13】 (式中、R1 は前記と同じ)で表される含ビニルシクロ
トリシロキサンとの混合物を、リチウムシラノレート触
媒または下記一般式(4):
[Chemical 13] (Wherein R 1 is the same as the above), and a mixture with a vinyl-containing cyclotrisiloxane represented by the formula:

【化14】 〔式中、R4 及びR5 は、一価の有機基であり、Mは、
(R6 4 N、(R6 4 P及びアルカリ金属原子から
選択され(ここでR6 は一価の有機基である)、Aは、
Siまたはホウ素原子を表し、sは、AがSiのとき
1、Aがホウ素原子のとき0であり、tは、0〜2の整
数である〕で表される触媒を用いて重合し、得られた重
合生成物を減圧下での加熱及び/又は溶媒抽出による精
製処理に付して揮発成分を除去する工程を有する前記一
般式(1)で表される鎖状ポリオルガノシロキサンの製
造方法が提供される。
[Chemical 14] [In the formula, R 4 and R 5 are monovalent organic groups, and M is
Selected from (R 6 ) 4 N, (R 6 ) 4 P and alkali metal atoms (wherein R 6 is a monovalent organic group), A is
Represents Si or a boron atom, s is 1 when A is Si, 0 when A is a boron atom, and t is an integer of 0 to 2]. A method for producing a chain polyorganosiloxane represented by the general formula (1), which has a step of subjecting the obtained polymerization product to a heating treatment under reduced pressure and / or a purification treatment by solvent extraction to remove a volatile component, Provided.

【0015】鎖状ポリオルガノシロキサン 本発明の鎖状ポリオルガノシロキサンは、前記一般式
(1)で表されるものであり、該式から明らかな通り、
Rfで表わされる直鎖又はポリエーテル構造のパーフロロ
基と、Si原子の間がエチレン基で結合されており、この
ため熱安定性の高い構造を有している。また、この鎖状
ポリオルガノシロキサンは、前記一般式(2)で表わさ
れる含フッ素シクロトリシロキサンを使用し、リチウム
シラノレート触媒または一般式(4)で表される触媒を
用いてのアニオン開環重合によって製造されるものであ
り、重合中のシロキサンの解重合、再配列が極度に抑制
される故、その分子中には、前記含フッ素シクロトリシ
ロキサン中のRfで表わされるパーフロロ基がシロキサン
3単位毎に1つずつ導入されていることが特徴である。
Chain Polyorganosiloxane The chain polyorganosiloxane of the present invention is represented by the above general formula (1), and as is clear from the formula,
The linear or polyether perfluoro group represented by Rf is bonded to the Si atom by an ethylene group, and thus has a structure with high thermal stability. The chain polyorganosiloxane uses the fluorine-containing cyclotrisiloxane represented by the general formula (2) and anion ring-opening using a lithium silanolate catalyst or a catalyst represented by the general formula (4). It is produced by polymerization, and depolymerization and rearrangement of siloxane during polymerization are extremely suppressed. Therefore, the perfluoro group represented by Rf in the fluorine-containing cyclotrisiloxane is siloxane 3 in the molecule. The feature is that one is introduced for each unit.

【0016】前記一般式(1)において、非置換又は置
換の一価炭化水素基R1 としては、例えば、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基、ヘキセニル
基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリー
ル基、ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル
基、及びこれらの基の水素原子の一部または全部をハロ
ゲン原子等で置換した基、例えばクロロメチル基、3,3,
3-トリフロロプロピル基等を例示することができる。こ
れらの中でも炭素原子数が1〜6のもの、特にメチル
基、フェニル基等が好適である。
In the above general formula (1), the unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group R 1 is, for example, a methyl group,
Alkyl groups such as ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, etc., vinyl, allyl, alkenyl such as hexenyl, phenyl, aryl such as tolyl, benzyl, phenylethyl, etc. Aralkyl groups, and groups in which some or all of the hydrogen atoms of these groups have been replaced with halogen atoms, such as chloromethyl groups, 3,3,
Examples thereof include a 3-trifluoropropyl group. Among these, those having 1 to 6 carbon atoms, particularly methyl group, phenyl group and the like are preferable.

【0017】またRfは、前記式(1a)または(1b)
で表される含フッ素有機基である。ここで式(1a)で
表される含フッ素有機基の具体例としては、以下のもの
を挙げることができる。
Further, Rf is the above formula (1a) or (1b)
Is a fluorine-containing organic group represented by. Specific examples of the fluorine-containing organic group represented by the formula (1a) include the followings.

【0018】[0018]

【化15】 [Chemical 15]

【0019】また式(1b)で表される含フッ素有機基
としては、 CF3 −, C4 9 −, C8 17− 等を例示することができる。
Examples of the fluorine-containing organic group represented by the formula (1b) include CF 3 −, C 4 F 9 −, C 8 F 17 − and the like.

【0020】またXは、水素原子又は前記式(1c)で
表わされる基であり、該式(1c)中、R3 は非置換ま
たは置換の一価炭化水素基、例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基、
ヘキセニル基等のアルケニル基、及びこれらの基の水素
原子の一部をハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基等
で置換した基、例えばクロロエチル基、クロロプロピル
基、シアノエチル基、メトキシエチル基等を例示するこ
とができる。特にR3 としては、上記の中でも炭素原子
数が1〜8のものが好適である。
X is a hydrogen atom or a group represented by the above formula (1c), and in the formula (1c), R 3 is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group such as a methyl group or an ethyl group. , Alkyl groups such as propyl group, vinyl group, allyl group,
Examples include alkenyl groups such as hexenyl group, and groups in which a part of hydrogen atoms of these groups are substituted with halogen atoms, cyano groups, alkoxy groups, etc., such as chloroethyl group, chloropropyl group, cyanoethyl group, methoxyethyl group and the like. be able to. In particular, as R 3 , those having 1 to 8 carbon atoms are preferable among the above.

【0021】また一般式(1)において、mは15〜4000
の整数であり、nは0≦n/(n+m)≦0.1を満足す
る整数である。
In the general formula (1), m is 15 to 4000.
And n is an integer satisfying 0 ≦ n / (n + m) ≦ 0.1.

【0022】上述した本発明の鎖状オルガノポリシロキ
サンは、両末端や側鎖にビニル基、水酸基、アルコキシ
基等の官能基を有しており、適当な架橋剤、触媒を用い
て、付加硬化、縮合硬化、過酸化物硬化等の公知の方法
で硬化物を形成することができる。
The chain organopolysiloxane of the present invention described above has functional groups such as vinyl group, hydroxyl group and alkoxy group at both ends and side chains, and is addition-cured by using a suitable crosslinking agent and catalyst. The cured product can be formed by a known method such as condensation curing or peroxide curing.

【0023】鎖状ポリオルガノシロキサンの製造方法 本発明の鎖状ポリオルガノシロキサンは、前記一般式
(2)で表される含フッ素シクロトリシロキサン、また
は該含フッ素シクロトリシロキサンと前記一般式(3)
で表される含ビニルシクロトリシロキサンとの混合物
を、出発原料として使用することにより製造される。即
ち、これらの原料を、リチウムシラノレート触媒または
前記一般式(4)で表される触媒の存在下で加熱重合
し、必要により触媒の不活性化処理、シリル化処理を行
った後、重合生成物を精製して、揮発成分を除去するこ
とにより前述した一般式(1)で表される鎖状オルガノ
ポリシロキサンを得ることができる。
Method for Producing Chain Polyorganosiloxane The chain polyorganosiloxane of the present invention comprises the fluorine-containing cyclotrisiloxane represented by the above general formula (2), or the fluorine-containing cyclotrisiloxane and the above general formula (3). )
It is produced by using a mixture with a vinyl-containing cyclotrisiloxane represented by as a starting material. That is, these raw materials are heated and polymerized in the presence of a lithium silanolate catalyst or a catalyst represented by the above-mentioned general formula (4), and if necessary, a catalyst inactivation treatment and a silylation treatment are carried out, followed by polymerization formation. The chain organopolysiloxane represented by the above general formula (1) can be obtained by purifying the product and removing the volatile components.

【0024】(出発原料)前記一般式(1)におけるn
が0である鎖状オルガノポリシロキサンを製造する場合
には、前記一般式(2)の含フッ素シクロトリシロキサ
ンを単独で出発原料として使用し、またnが1以上であ
るものを製造する場合には、一般式(2)の含フッ素シ
クロトリシロキサンと一般式(3)の含ビニルシクロト
リシロキサンとを出発原料として使用する。
(Starting material) n in the general formula (1)
In the case of producing a chain organopolysiloxane in which is 0, the fluorine-containing cyclotrisiloxane of the general formula (2) is used alone as a starting material, and when n is 1 or more. Uses the fluorine-containing cyclotrisiloxane of the general formula (2) and the vinyl-containing cyclotrisiloxane of the general formula (3) as starting materials.

【0025】かかる製造方法においては、前記式(2)
で表される含フッ素シクロトリシロキサンを使用するこ
とが極めて重要であり、これにより、リチウムシラノレ
ート等の触媒を用いての重合に際して、10量体以上の環
状シロキサンの生成を有効に抑制することに成功したも
のである。即ち、先にも説明した通り、原料としてヘキ
サメチルトリシロキサンを用いた場合には、10量体以上
の環状シロキサンが数百ppm 以上の割合で生成するので
あり、かかる事実から考えて、本発明の製造方法によれ
ば、前記式(2)で表される含フッ素シクロトリシロキ
サンの使用が、重合に際しての環状体生成の抑制に大き
く寄与しているものと推定される。この理由は正確には
不明であるが、この含フッ素シクロトリシロキサンの分
子中の3個のシロキサン結合の反応性が等価でないこと
に起因しているのではないかと考えられる。
In this manufacturing method, the above formula (2) is used.
It is extremely important to use the fluorine-containing cyclotrisiloxane represented by the formula (1), which effectively suppresses the formation of a 10-mer or more cyclic siloxane during the polymerization using a catalyst such as lithium silanolate. Is a successful one. That is, as described above, when hexamethyltrisiloxane is used as a raw material, a cyclic siloxane having a decamer of 10 or more is produced at a ratio of several hundred ppm or more. It is presumed that the use of the fluorine-containing cyclotrisiloxane represented by the above formula (2) greatly contributes to the suppression of the formation of a cyclic body during polymerization. The reason for this is not exactly clear, but it is considered that this is because the reactivity of the three siloxane bonds in the molecule of the fluorine-containing cyclotrisiloxane is not equivalent.

【0026】従って、このような含フッ素シクロトリシ
ロキサンを出発原料として重合することにより得られる
重合生成物中には、10量体以上の環状シロキサンが実質
的に含まれておらず、微量含まれている10量体未満の環
状体シロキサン及び低分子シロキサンが微量含まれてい
るに過ぎないのであって、これらは後述する精製処理に
よって容易に除去される。
Therefore, the polymerization product obtained by polymerizing such a fluorine-containing cyclotrisiloxane as a starting material does not substantially contain a 10-mer or more cyclic siloxane, but contains a trace amount thereof. Since the cyclic siloxane and low-molecular-weight siloxane having less than 10 mers are contained in trace amounts, they are easily removed by the purification treatment described later.

【0027】本発明の製造方法において、前記一般式
(2)で表される含フッ素シクロトリシロキサンの最も
好適な例としては、下記式で表されるものを挙げること
ができる。
In the production method of the present invention, the most preferred examples of the fluorine-containing cyclotrisiloxane represented by the above general formula (2) include those represented by the following formula.

【0028】[0028]

【化16】 [Chemical 16]

【0029】この含フッ素シクロトリシロキサンの使用
量は、一般式中(1)中のmが前述した範囲(15〜400
0)の範囲となるように、重合条件等に応じて設定され
る。また、この含フッ素シクロトリシロキサンは、例え
ば、下記式で示す様に、これに相当する含フッ素基を有
するジクロロシラン化合物と、テトラメチルジシロキサ
ンジオール等のジシロキサンとを脱塩酸反応させること
により、製造することができる
The amount of the fluorine-containing cyclotrisiloxane used is such that m in the general formula (1) is in the range described above (15 to 400).
It is set so as to be in the range of 0) according to the polymerization conditions and the like. Further, this fluorine-containing cyclotrisiloxane can be obtained, for example, by subjecting a dichlorosilane compound having a fluorine-containing group corresponding thereto to a disiloxane such as tetramethyldisiloxanediol, as shown in the following formula. Can be manufactured

【0030】[0030]

【化17】 [Chemical 17]

【0031】ここで用いられる脱塩酸剤としては、例え
ば、トリエチルアミン等の第3アミン、ピリジン等の活
性水素を含まない環状アミンなどが挙げられる。
Examples of the dehydrochlorinating agent used here include tertiary amines such as triethylamine and cyclic amines containing no active hydrogen such as pyridine.

【0032】また一般式(1)におけるnが1以上であ
る鎖状オルガノポリシロキサンを製造する場合に使用さ
れる式(3)の含ビニルシクロトリシロキサンの最も好
適な例としては、下記式で表されるものを挙げることが
できる。
The most preferable example of the vinyl-containing cyclotrisiloxane of the formula (3) used in the case of producing a chain organopolysiloxane in which n in the general formula (1) is 1 or more is the following formula. There may be mentioned those represented.

【0033】[0033]

【化18】 [Chemical 18]

【0034】上記の含ビニルシクロトリシロキサンの使
用量は、一般式(1)中のnが前述した範囲、即ち0≦
n/(n+m)≦0.1を満足する数となるように、重合
条件等に応じて設定される。
The amount of the above-mentioned vinyl-containing cyclotrisiloxane used is such that n in the general formula (1) is in the above-mentioned range, that is, 0 ≦.
The number is set according to the polymerization conditions and the like so that the number satisfies n / (n + m) ≦ 0.1.

【0035】(重合触媒)本発明において、重合触媒と
して用いられるリチウムシラノレートとしては、例え
ば、以下のものが好適に使用される。
(Polymerization catalyst) In the present invention, as the lithium silanolate used as a polymerization catalyst, for example, the following are preferably used.

【0036】[0036]

【化19】 [Chemical 19]

【0037】このリチウムシラノレートの使用量は特に
制限はなく、目的とする鎖状オルガノポリシロキサンの
重合度に応じて設定される。一般的には、出発原料であ
る一般式(2)の含フッ素シクロトリシロキサン中の全
Si原子/触媒分子(モル比)が 100〜10,000程度となる
ような量で使用される。
The amount of this lithium silanolate used is not particularly limited and is set according to the degree of polymerization of the target chain organopolysiloxane. Generally, all of the fluorine-containing cyclotrisiloxane of the general formula (2) which is the starting material
It is used in an amount such that the Si atom / catalyst molecule (molar ratio) is about 100 to 10,000.

【0038】また本発明においては、上記のリチウムシ
ラノレート触媒以外にも、前記一般式(4)で表される
触媒を使用することができる。この触媒は、出発原料と
して前記一般式(2)の含フッ素シクロトリシロキサン
を単独で使用する場合に好適であり、中でも一般式
(1)中のXが水素原子である鎖状オルガノポリシロキ
サン(即ち、末端がシラノールであるもの)を合成する
場合に最も好適に使用される。
In the present invention, in addition to the above lithium silanolate catalyst, the catalyst represented by the above general formula (4) can be used. This catalyst is suitable when the above-mentioned fluorine-containing cyclotrisiloxane of the general formula (2) is used alone as a starting material, and in particular, a chain organopolysiloxane (X in the general formula (1) is a hydrogen atom ( That is, it is most preferably used when synthesizing silanol at the terminal).

【0039】一般式(4)において、一価の有機基であ
るR4 〜R6 は、それぞれ同一でも異なっていてもよ
く、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、オクタデ
シル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシクロア
ルキル基、ビニル基、アリル基、エチニル基等の脂肪族
不飽和基、フェニル基、トリル基、キセニル基等のアリ
ール基、ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル
基、及びこれらの基の水素原子の一部または全部をハロ
ゲン原子等で置換した基、例えばクロロメチル基、クロ
ロエチル基等を例示することができる。かかる一般式
(4)で表される触媒として、特に好適に使用されるも
のとしては、以下のものを例示することができる。
In the general formula (4), R 4 to R 6 which are monovalent organic groups may be the same or different, and examples thereof include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group and octadecyl group, Cycloalkyl groups such as cyclohexyl group, aliphatic unsaturated groups such as vinyl group, allyl group, ethynyl group, aryl groups such as phenyl group, tolyl group, xenyl group, aralkyl groups such as benzyl group, phenylethyl group, and the like. Examples of the group include a group obtained by substituting a part or all of hydrogen atoms of the group with a halogen atom or the like, for example, a chloromethyl group, a chloroethyl group and the like. As the catalyst represented by the general formula (4), the following can be given as examples of catalysts that are particularly preferably used.

【0040】[0040]

【化20】 [Chemical 20]

【0041】上記の一般式(4)で表される重合触媒
は、通常、一般式(2)の含フッ素シクロトリシロキサ
ン当り、0.05重量%以下、特に0.001 〜0.02重量%の量
で使用されることが望ましい。
The polymerization catalyst represented by the above general formula (4) is usually used in an amount of 0.05% by weight or less, particularly 0.001 to 0.02% by weight, based on the fluorine-containing cyclotrisiloxane of the general formula (2). Is desirable.

【0042】(重合条件)本発明において、上述した重
合触媒を用いての重合反応は、通常、目的とする鎖状オ
ルガノポリシロキサンの分子構造や重合触媒の種類に応
じて、重合時間が数分〜数十時間、好ましくは10時間
以内となる様に重合条件を設定して行われる。例えば重
合温度は、リチウムシラノレート触媒を用いた場合に
は、150 ℃以下、特に20〜100 ℃に設定することが望ま
しいが、特に一般式(1)のXが水素原子である鎖状オ
ルガノポリシロキサンを目的とする時には40〜150 ℃、
特に60〜110 ℃に設定することが好適である。また一般
式(4)の触媒を用いた場合には、該触媒の分解温度以
下であって、25〜200 ℃、特に50〜150 ℃の範囲に重合
温度を設定することが望ましい。何れの触媒を用いる場
合にも、重合温度が高すぎると、平衡化反応によって低
分子環状体の生成が増大するおそれがあるので注意を要
する。
(Polymerization Conditions) In the present invention, the polymerization reaction using the above-mentioned polymerization catalyst is usually carried out for several minutes depending on the molecular structure of the target chain organopolysiloxane and the kind of the polymerization catalyst. It is carried out by setting the polymerization conditions so that the polymerization time is within 10 hours to several tens hours, preferably within 10 hours. For example, when a lithium silanolate catalyst is used, the polymerization temperature is preferably set to 150 ° C. or lower, and particularly preferably set to 20 to 100 ° C. In particular, the chain-like organopolyene in which X in the general formula (1) is a hydrogen atom is used. 40 to 150 ℃ when siloxane is used,
It is particularly preferable to set the temperature to 60 to 110 ° C. When the catalyst represented by the general formula (4) is used, it is desirable to set the polymerization temperature to a temperature not higher than the decomposition temperature of the catalyst and 25 to 200 ° C, particularly 50 to 150 ° C. No matter which catalyst is used, if the polymerization temperature is too high, the equilibration reaction may increase the production of low molecular weight cyclic compounds, so care must be taken.

【0043】また重合反応は非溶媒系で行うこともでき
るし、溶媒系で行うこともできるが、一般式(4)の重
合触媒を用いる場合には極性溶媒の存在下で行うことが
望ましい。この極性溶媒としては、アセトニトリル、ジ
メチルスルホン、テトラメチレンスルホン、ジエチルス
ルホン、メチルプロピルスルホン等が好適に使用され、
その使用量は、一般式(4)の重合触媒が十分に溶解す
るような量とする。さらにリチウムシラノレート触媒を
用いて重合反応を行うときに使用可能な溶媒としては、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライム、テトラ
グライム等の非プロトン性溶媒、フロン、メタキシレン
ヘキサフルオライド、塩化メチレン、トリクロロエタン
等のフッ素系、塩素系の不活性溶媒が適当である。
The polymerization reaction can be carried out in a non-solvent system or a solvent system, but when the polymerization catalyst of the general formula (4) is used, it is preferably carried out in the presence of a polar solvent. As the polar solvent, acetonitrile, dimethyl sulfone, tetramethylene sulfone, diethyl sulfone, methylpropyl sulfone and the like are preferably used,
The amount used is such that the polymerization catalyst of general formula (4) is sufficiently dissolved. Further, as a solvent that can be used when performing a polymerization reaction using a lithium silanolate catalyst,
Suitable aprotic solvents such as tetrahydrofuran, dioxane, diglyme, and tetraglyme, and fluorine-based and chlorine-based inert solvents such as freon, metaxylene hexafluoride, methylene chloride, and trichloroethane are suitable.

【0044】さらに一般式(1)のXが水素原子である
鎖状オルガノポリシロキサンを目的とする場合には、分
子鎖末端をシラノール基で停止するために、重合反応を
少量の水の存在下で行うことが望ましい。この場合、水
は、ジオキサン、ジグライム、THF等の親水性の溶媒
に混合し、反応系中にSi/H2 O=20〜6000
(モル比)程度の濃度となるように用いればよい。
Further, in the case of aiming at a chain organopolysiloxane in which X in the general formula (1) is a hydrogen atom, the polymerization reaction is carried out in the presence of a small amount of water in order to terminate the molecular chain end with a silanol group. It is desirable to do in. In this case, water is mixed with a hydrophilic solvent such as dioxane, diglyme, or THF, and Si / H 2 O = 20 to 6000 is added to the reaction system.
The concentration may be about (molar ratio).

【0045】(触媒の不活性化)上記の重合によって得
られた反応混合物中には、通常、重合触媒が含まれてい
るため、この重合触媒を不活性化することにより重合生
成物の安定化を図ることが望ましい。
(Deactivation of catalyst) Since the reaction mixture obtained by the above-mentioned polymerization usually contains a polymerization catalyst, the polymerization product is stabilized by deactivating the polymerization catalyst. Is desirable.

【0046】かかる触媒の不活性化は、例えばリチウム
シラノレートを重合触媒として用いた場合には、希塩
酸、希硫酸、リン酸、酢酸、テトラクロルエタン等の酸
性物質を混合して触媒を中和することにより容易に行わ
れる。酸性物質の使用量は、通常、リチウムシラノレー
トの使用量に対して2〜5倍等量程度とすることが好ま
しい。また一般式(4)の触媒を用いて重合を行った場
合には、200℃以上の温度に加熱したり、炭酸ガス、
酢酸等の弱酸を重合生成物中に加えることによって、該
触媒の不活性化を行うことができる。
For the deactivation of the catalyst, for example, when lithium silanolate is used as a polymerization catalyst, the catalyst is neutralized by mixing an acidic substance such as dilute hydrochloric acid, dilute sulfuric acid, phosphoric acid, acetic acid or tetrachloroethane. This is easily done by doing. Usually, the amount of the acidic substance used is preferably about 2 to 5 times the amount of the lithium silanolate used. When polymerization is carried out using the catalyst of the general formula (4), heating to a temperature of 200 ° C. or higher, carbon dioxide gas,
The catalyst can be deactivated by adding a weak acid such as acetic acid to the polymerization product.

【0047】上記の処理後、生成した塩や過剰の酸性物
質を重合生成物から除去することにより、末端がシラノ
ール基で停止した鎖状オルガノポリシロキサン、即ち一
般式(1)のXが水素原子であるものが得られる。
After the above treatment, the formed salt or excess acidic substance is removed from the polymerization product to give a chain organopolysiloxane terminated with silanol groups, that is, X in the general formula (1) is a hydrogen atom. You get what is.

【0048】(シリル化)本発明において、一般式
(1)のXが式(1c)で表されるトリオルガノシリル
基である鎖状オルガノポリシロキサンを目的とする場合
には、上記で得られた重合生成物のシリル化を行う。こ
のシリル化は、下記一般式(5):
(Silylation) In the present invention, when the chain organopolysiloxane in which X in the general formula (1) is a triorganosilyl group represented by the formula (1c) is intended, it is obtained as described above. The polymerized product is silylated. This silylation is represented by the following general formula (5):

【化21】 式中、R3 及びqは、前記と同じであり、Yは加水分解
性基である、で表されるシリル化剤を用いて行われる。
[Chemical 21] In the formula, R 3 and q are the same as those described above, and Y is a hydrolyzable group.

【0049】上記の一般式(5)において、加水分解性
基Yとしては、例えば塩素等のハロゲン原子、メトキシ
基、エトキシ基等のアルコキシ基を例示することができ
る。このようなシリル化剤の代表的なものとしては、以
下のものを挙げることができる。
In the above general formula (5), examples of the hydrolyzable group Y include a halogen atom such as chlorine and an alkoxy group such as methoxy group and ethoxy group. Typical examples of such a silylating agent include the following.

【0050】[0050]

【化22】 等のトリオルガノハロシラン。[Chemical formula 22] Triorganohalosilanes, etc.

【0051】[0051]

【化23】 等のトリオルガノアルコキシシラン。[Chemical formula 23] And other triorganoalkoxysilanes.

【0052】[0052]

【化24】 等のトリオルガノアセトキシシラン。[Chemical formula 24] Such as triorganoacetoxysilane.

【0053】[0053]

【化25】 等のトリオルガノアシロキシシラン。[Chemical 25] Such as triorganoacyloxysilane.

【0054】シリル化剤の使用量は、重合に使用した触
媒量の1〜5倍モル量程度が好適であり、反応温度は1
0〜100℃が好ましく、反応時間は2〜20時間程度
が好ましい。
The amount of the silylating agent used is preferably about 1 to 5 times the molar amount of the catalyst used for the polymerization, and the reaction temperature is 1
0 to 100 ° C. is preferable, and the reaction time is preferably about 2 to 20 hours.

【0055】また、前記のシリル化剤の内、トリオルガ
ノハロシランを用いる場合には、下記一般式(6):
When triorganohalosilane is used among the above silylating agents, the following general formula (6):

【化26】 式中、R3 及びqは前記と同じ、で表されるジシラザン
化合物を組み合わせで使用することが好ましい。このジ
シラザン化合物を併用する場合には、前述した重合触媒
の中和処理を行うことなく、重合終了後、直ちにシリル
化を行い得るという利点がある。この場合、トリオルガ
ノハロシランの使用量は、触媒に対して1〜3倍モル、
ジシラザン化合物の使用量は、触媒に対し1.5〜4.5倍
モル程度とすることが好適である。かかるジシラザン化
合物の代表的なものとしては、以下のものを例示するこ
とができる。
[Chemical formula 26] In the formula, it is preferable to use a disilazane compound represented by the following formula in which R 3 and q are the same as above. When this disilazane compound is used in combination, there is an advantage that the silylation can be carried out immediately after the completion of the polymerization without carrying out the above-mentioned neutralization treatment of the polymerization catalyst. In this case, the amount of triorganohalosilane used is 1 to 3 times the molar amount of the catalyst,
The amount of the disilazane compound used is preferably about 1.5 to 4.5 times the mol of the catalyst. The following can be illustrated as a typical thing of such a disilazane compound.

【0056】[0056]

【化27】 [Chemical 27]

【0057】(精製)本発明によれば、上述した触媒の
不活性化或いはシリル化処理後に精製を行って重合度が
10未満の環状シロキサン等の低分子シロキサンを除去
することによって、目的とする一般式(1)で表される
鎖状オルガノポリシロキサンを得ることができる。
(Purification) According to the present invention, purification is carried out after the above-mentioned catalyst inactivation or silylation treatment to remove low-molecular siloxanes such as cyclic siloxanes having a degree of polymerization of less than 10, thereby obtaining the object. The chain organopolysiloxane represented by the general formula (1) can be obtained.

【0058】この精製は、上記処理後の反応混合物を、
10-1mmHg以下の減圧条件下で100℃以上に加熱するこ
とによって行われる。この場合、分子鎖末端がトリオル
ガノシリル化された鎖状オルガノポリシロキサンを目的
物としている時には、加熱温度を200〜300℃の範
囲とすることが好ましい。また分子鎖末端がシラノール
基で停止している鎖状オルガノポリシロキサンを目的物
としている時には、加熱温度を100〜180℃の範囲
とすることが好ましい。あまり高温に加熱すると、分子
鎖末端のシラノール基同士の縮合を生じてしまうからで
ある。また、このような減圧下での加熱による精製は、
例えば薄膜式蒸発装置を用いて好適に行うことができ
る。
In this purification, the reaction mixture after the above treatment was
It is carried out by heating to 100 ° C. or higher under a reduced pressure condition of 10 −1 mmHg or lower. In this case, when the target is a chain organopolysiloxane whose molecular chain terminals are triorganosilylated, the heating temperature is preferably in the range of 200 to 300 ° C. Further, when the intended product is a chain organopolysiloxane whose molecular chain ends are silanol groups, the heating temperature is preferably in the range of 100 to 180 ° C. This is because if it is heated to an excessively high temperature, the silanol groups at the ends of the molecular chains will be condensed. In addition, such purification by heating under reduced pressure,
For example, it can be suitably carried out using a thin film type evaporator.

【0059】さらに、上記の減圧条件下での加熱に代え
て、或いはこれと併用して、溶媒抽出を行うことにより
精製を行うこともできる。ここで抽出溶媒としては、低
分子のシロキサンを溶解するが、目的物の鎖状オルガノ
ポリシロキサンを溶解せず且つそのポリマー鎖を分断し
ないものであれば特に制限されず、種々のものを使用す
ることができる。一般的には、アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン等の極性溶媒、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒等が好適に使用
される。溶媒抽出により低分子シロキサンを除去した後
は、減圧して残存する溶媒を除去することにより、目的
とする鎖状オルガノポリシロキサンを得ることができ
る。
Further, instead of the heating under the above-mentioned reduced pressure condition or in combination therewith, the solvent extraction may be carried out to carry out the purification. Here, the extraction solvent is not particularly limited as long as it dissolves the low-molecular siloxane but does not dissolve the target chain organopolysiloxane and does not break the polymer chain, and various solvents can be used. be able to. Generally, polar solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene are preferably used. After removing the low-molecular-weight siloxane by solvent extraction, the target chain organopolysiloxane can be obtained by removing the remaining solvent by reducing the pressure.

【0060】[0060]

【実施例】以下の実施例において、粘度は25℃での測
定値である。実施例1 攪拌装置付1リットルセパラフラスコに、下記式:
EXAMPLES In the following examples, the viscosity is a value measured at 25 ° C. Example 1 In a 1 liter separa flask equipped with a stirrer, the following formula:

【化28】 で表されるシクロトリシロキサン1000g(1.458 モ
ル)、
[Chemical 28] 1000 g (1.458 mol) of cyclotrisiloxane represented by

【0061】下記式:The following formula:

【化29】 で表されるリチウムシラノレート23.2g(0.0292モ
ル)、テトラグライム 1.0g、を入れ、窒素雰囲気下で
100℃へ昇温し、5時間反応させた。
[Chemical 29] 23.2 g (0.0292 mol) of lithium silanolate represented by and tetraglyme 1.0 g are added, and the mixture is placed under a nitrogen atmosphere.
The temperature was raised to 100 ° C. and the reaction was carried out for 5 hours.

【0062】次いで降温し、50℃の温度で、下記式:Then, the temperature is lowered, and at the temperature of 50 ° C., the following formula:

【化30】 で表されるハロシラン5.3 g(0.438 モル)、[Chemical 30] 5.3 g (0.438 mol) of halosilane represented by

【0063】下記式:The following formula:

【化31】 で表されるジシラザン12.2g(0.0657モル)、を投入
し、2時間攪拌し、中和及びシリル化を行なった。
[Chemical 31] Then, 12.2 g (0.0657 mol) of disilazane represented by the following formula was added and the mixture was stirred for 2 hours for neutralization and silylation.

【0064】その後、150 ℃にて減圧ストリップを行
い、次に塩をろ過したところ、 983g(粘度 798cs)の
ポリシロキサンを得た。このポリシロキサンをトリクロ
ロトリフロロエタン(フロン113 )に溶解させ(濃度1
%)、GPC分析に供した所、図−1のチャートが得ら
れた。このチャートでは、高分子体に由来するピーク1
の面積は約98%である。
Thereafter, vacuum stripping was carried out at 150 ° C., and then salt was filtered to obtain 983 g (viscosity 798 cs) of polysiloxane. This polysiloxane was dissolved in trichlorotrifluoroethane (Freon 113) (concentration 1
%), And when subjected to GPC analysis, the chart of FIG. 1 was obtained. In this chart, peak 1 derived from the polymer
The area of is about 98%.

【0065】次にこのオルガノポリシロキサンを270
℃、1×10-4mmHgにて薄膜式分子蒸留装置に通して精製
を行い、精製オルガノポリシロキサン 951g(粘度1160
cSt )を得た。この精製オルガノポリシロキサンを、上
記と同様にGPC分析に供したところ、図−2に示すG
PCチャートが得られた。このチャートから、高分子体
に由来するピーク4の面積は 100%であり、環状ポリシ
ロキサン(ピーク2,3 )をほとんど含んでいないことが
判った。
Next, this organopolysiloxane was mixed with 270
° C., followed by purification through at 1 × 10 -4 mmHg in thin-film type molecular distillation apparatus, purified organopolysiloxane 951 g (viscosity 1160
cSt) was obtained. When this purified organopolysiloxane was subjected to GPC analysis in the same manner as described above, G shown in FIG.
A PC chart was obtained. From this chart, it was found that the area of the peak 4 derived from the polymer was 100% and contained almost no cyclic polysiloxane (peaks 2 and 3).

【0066】次に、環状ポリシロキサン定量の為、フタ
付ガラスビンに、生成オルガノポリシロキサン1.0 g、
内部標準としてn−デカン20 ppm含有アセトン10.0gを
入れ、振盪後、静置24時間後、アセトン層に抽出された
環状ポリシロキサンを、フレームイオン化検出器(FI
D)にて検出したところ、1 ppm以下であった。尚、こ
の測定条件は以下の通りである。 使用機器:島津 GC-14A カラム:GL製キャピラリーカラム TC-1701 0.53mm×
30m 昇温条件:初期温度70℃(1分),昇温速度15K/
分,最終温度270 ℃(保持40分)
Next, in order to quantify the cyclic polysiloxane, 1.0 g of the produced organopolysiloxane was placed in a glass bottle with a lid.
As an internal standard, 10.0 g of acetone containing 20 ppm of n-decane was added, and after shaking and standing for 24 hours, the cyclic polysiloxane extracted in the acetone layer was detected by a flame ionization detector (FI).
It was 1 ppm or less when detected by D). The measurement conditions are as follows. Equipment used: Shimadzu GC-14A Column: GL capillary column TC-1701 0.53 mm ×
30m temperature raising condition: initial temperature 70 ° C (1 minute), temperature raising rate 15K /
Min, final temperature 270 ℃ (hold 40 minutes)

【0067】さらに、上記で得られた精製オルガノポリ
シロキサンについて、赤外吸収スペクトル、 1H-NMR ス
ペクトルの測定及びビニル基の定量を行ったところ、下
記の結果が得られた。赤外吸収スペクトル:図−3に示
す。 特性吸収 1000〜1130cm-1 (Si-O-Si) 2970, 1260, 810 cm-1(Si-CH3 ) 1000〜1400cm-1 (C-F)1 H-NMR :(フレオン113 溶媒) 0.75〜1.62 ppm (m -CH2 -Si- 2H) 1.83〜2.82 ppm (m -CH2 -CF 2H) 0.20〜0.52 ppm (m -Si- CH3 15H) ビニル基の定量:GC−MSによる。 末端ビニル基量 0.0055モル/100g (理論値 0.0057モル/100g)
Furthermore, the purified organopolysiloxane obtained above was subjected to infrared absorption spectrum, 1 H-NMR spectrum measurement and vinyl group quantification, and the following results were obtained. Infrared absorption spectrum: shown in Fig. 3. Characteristic absorption 1000 to 1130 cm -1 (Si-O-Si) 2970, 1260, 810 cm -1 (Si-CH 3 ) 1000 to 1400 cm -1 (CF) 1 H-NMR: (Freon 113 solvent) 0.75 to 1.62 ppm (m -CH 2 -Si- 2H) 1.83~2.82 ppm (m -CH 2 -CF 2H) 0.20~0.52 ppm (m -Si- CH 3 15H) vinyl group determination: According to GC-MS. Amount of terminal vinyl group 0.0055mol / 100g (Theoretical value 0.0057mol / 100g)

【0068】以上の結果から、得られたオルガノポリシ
ロキサンは、下記式:の平均分子式で表される鎖状オル
ガノポリシロキサンであることが認められる。
From the above results, it is recognized that the obtained organopolysiloxane is a chain organopolysiloxane represented by the following average molecular formula:

【化32】 [Chemical 32]

【0069】実施例2 含フッ素シクロトリシロキサンとして、下記式: Example 2 As the fluorine-containing cyclotrisiloxane, the following formula:

【化33】 で表されるもの1000g(2.203 モル)を使用し、リチウ
ムシラノレートとして下記式:
[Chemical 33] Using 1000 g (2.203 mol) of the compound represented by the following formula as lithium silanolate:

【0070】[0070]

【化34】 [Chemical 34]

【0071】で表されるもの12.4g( 0.02203モル)を
使用した以外は、実施例1と同様な操作で重合反応を行
なった。またハロシランの使用量を4.0 g(0.033 モ
ル)とし且つジシラザンの使用量を9.2 g(0.0496g)
とした以外は、実施例1と同様にして中和及びシリル化
を行った。得られた重合物を実施例1と同様な方法で精
製して環状ポリシロキサンを除去し、オルガノポリシロ
キサン 963g(3,340cSt)を得た。これを実施例1と同様
にFID検出したところ、環状ポリシロキサンは23ppm
以下であった。
Polymerization reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that 12.4 g (0.02203 mol) of the compound represented by The amount of halosilane used was 4.0 g (0.033 mol) and the amount of disilazane used was 9.2 g (0.0496 g).
Neutralization and silylation were performed in the same manner as in Example 1 except that The polymer obtained was purified in the same manner as in Example 1 to remove the cyclic polysiloxane, and 963 g (3,340 cSt) of organopolysiloxane was obtained. When FID was detected in the same manner as in Example 1, the amount of cyclic polysiloxane was 23 ppm.
It was below.

【0072】さらに、赤外吸収スペクトル、 1H-NMR ス
ペクトルの測定及び末端ビニル基の定量を行ったとこ
ろ、以下の結果が得られた。 赤外吸収スペクトル:図−4に示す。 特性吸収 1000〜1130cm-1 (Si-O-Si) 2970, 1260, 810 cm-1(Si-CH3 ) 1000〜1450cm-1 (C-F)1 H-NMR :(フレオン113 溶媒) 0.72〜1.60 ppm (m -CH2 -Si- 2H) 1.74〜2.80 ppm (m -CH2 -CF 2H) 0.15〜0.61 ppm (m -Si- CH3 15H) 末端ビニル基量 理論値 0.0043 モル/100g 実測値 0.0042 モル/100g
Further, when the infrared absorption spectrum and 1 H-NMR spectrum were measured and the terminal vinyl group was quantified, the following results were obtained. Infrared absorption spectrum: shown in Figure 4. Characteristic absorption 1000 to 1130 cm -1 (Si-O-Si) 2970, 1260, 810 cm -1 (Si-CH 3 ) 1000 to 1450 cm -1 (CF) 1 H-NMR: (Freon 113 solvent) 0.72 to 1.60 ppm (M -CH 2 -Si-2H) 1.74 to 2.80 ppm (m -CH 2 -CF 2H) 0.15 to 0.61 ppm (m -Si- CH 3 15H) Amount of vinyl end group Theoretical value 0.0043 mol / 100 g Measured value 0.0042 mol / 100g

【0073】以上の結果から、得られたオルガノポリシ
ロキサンは、下記式の平均分子式で表される鎖状オルガ
ノポリシロキサンであることが認められる。
From the above results, it is recognized that the obtained organopolysiloxane is a chain organopolysiloxane represented by the following average molecular formula.

【化35】 [Chemical 35]

【0074】実施例3 含フッ素シクロトリシロキサンとして、下記式: Example 3 As the fluorine-containing cyclotrisiloxane, the following formula:

【化36】 で表されるもの1000g(1.458 モル)を使用し、リチウ
ムシラノレートとして下記式:
[Chemical 36] Using 1000 g (1.458 mol) of the compound represented by, the following formula as lithium silanolate:

【0075】[0075]

【化37】 で表されるもの11.9g( 0.01458モル)を使用した以外
は、実施例1と同様な操作で重合反応を行なった。また
ハロシランの使用量を2.6 g(0.0219モル)とし且つジ
シラザンの使用量を6.1 g(0.0328g)とした以外は、
実施例1と同様にして中和及びシリル化を行った。
[Chemical 37] Polymerization reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that 11.9 g (0.01458 mol) of the compound represented by Also, except that the amount of halosilane used was 2.6 g (0.0219 mol) and the amount of disilazane used was 6.1 g (0.0328 g),
Neutralization and silylation were carried out in the same manner as in Example 1.

【0076】得られた重合物をアセトン 2,000gにて数
回溶媒抽出することにより環状ポリシロキサンを除去
し、最後に150 ℃/2mmHg の減圧条件にて溶媒を留去す
ることにより、 938g(3,570cSt)のオルガノポリシロキ
サンを得た。これを実施例1と同様にFID検出したと
ころ、環状ポリシロキサンは1 ppm以下であった。
The polymer obtained was subjected to solvent extraction several times with 2,000 g of acetone to remove the cyclic polysiloxane, and finally the solvent was distilled off under a reduced pressure condition of 150 ° C./2 mmHg to obtain 938 g (3,570 g). An organopolysiloxane of cSt) was obtained. When FID was detected in the same manner as in Example 1, the amount of cyclic polysiloxane was 1 ppm or less.

【0077】さらに、赤外吸収スペクトル、 1H-NMR ス
ペクトルの測定及び末端ビニル基の定量を行ったとこ
ろ、以下の結果が得られた。 赤外吸収スペクトル:図−5に示す。 特性吸収 1000〜1300cm-1 (Si-O-Si) 2970, 1260, 810 cm-1(Si-CH3 ) 1000〜1450cm-1 (C-F)1 H-NMR :(フレオン113 溶媒) 0.77〜1.73 ppm (m -CH2 -Si- 2H) 2.03〜2.87 ppm (m -CH2 -CF 2H) 0.02〜0.70 ppm (m -Si- CH3 15H) 末端ビニル基量 実測値 0.0055 モル/100g 理論値 0.0058 モル/100g
Further, when the infrared absorption spectrum and 1 H-NMR spectrum were measured and the terminal vinyl group was quantified, the following results were obtained. Infrared absorption spectrum: shown in Figure 5. Characteristic absorption 1000 to 1300 cm -1 (Si-O-Si) 2970, 1260, 810 cm -1 (Si-CH 3 ) 1000 to 1450 cm -1 (CF) 1 H-NMR: (Freon 113 solvent) 0.77 to 1.73 ppm (M -CH 2 -Si-2H) 2.03 to 2.87 ppm (m -CH 2 -CF 2H) 0.02 to 0.70 ppm (m -Si- CH 3 15H) Terminal vinyl group content 0.0055 mol / 100 g theoretical 0.0058 mol / 100g

【0078】以上の結果から、得られたオルガノポリシ
ロキサンは、下記式の平均分子式で表される鎖状オルガ
ノポリシロキサンであることが認められる。
From the above results, it is recognized that the obtained organopolysiloxane is a chain organopolysiloxane represented by the following average molecular formula.

【化38】 [Chemical 38]

【0079】比較例1 実施例1において、シクロトリシロキサンとしてヘキサ
メチルシクロトリシロキサン1000g(4.505 モル)、リ
チウムシラノレートとして下記式:
Comparative Example 1 In Example 1, 1000 g (4.505 mol) of hexamethylcyclotrisiloxane was used as the cyclotrisiloxane, and the following formula was used as the lithium silanolate:

【化39】 で表されるもの24.9g( 0.045モル)を使用した以外
は、同様な操作にて重合反応を行なった。またハロシラ
ンの使用量を8.1 g(0.0675モル)とし且つジシラザン
の使用量を18.7g(0.101 モル)とした以外は、実施例
1と同様にして中和及びシリル化を行った。
[Chemical Formula 39] Polymerization reaction was carried out in the same manner except that 24.9 g (0.045 mol) of the compound represented by was used. Neutralization and silylation were performed in the same manner as in Example 1 except that the amount of halosilane used was 8.1 g (0.0675 mol) and the amount of disilazane used was 18.7 g (0.101 mol).

【0080】得られた重合物を実施例1と同様な方法で
精製して環状ポリシロキサンを除去し、ジメチルポリシ
ロキサン 891g(2410cSt)を得た。これを実施例1と同
様にFID検出したところ、環状ポリシロキサン15量体
以上のものが 583ppm 残存していた。
The polymer obtained was purified in the same manner as in Example 1 to remove the cyclic polysiloxane, and 891 g (2410 cSt) of dimethylpolysiloxane was obtained. When FID was detected in the same manner as in Example 1, 583 ppm of cyclic polysiloxane having a content of 15-mer or more remained.

【0081】実施例4 攪拌棒、温度計及び還流冷却器を付した1リットル4つ
口フラスコに、下記式:
Example 4 A 1 liter four-necked flask equipped with a stir bar, thermometer and reflux condenser was charged with the following formula:

【化40】 で表されるシクロトリシロキサン1000g(1.46モル)、[Chemical 40] 1000 g (1.46 mol) of cyclotrisiloxane represented by

【0082】水の40%THF溶液0.75g(0.02モル)、
テトラグライム 1.0g、を仕込み、100 ℃へ昇温後、下
記式:
0.75 g (0.02 mol) of 40% THF solution in water,
Charge 1.0 g of tetraglyme, raise the temperature to 100 ° C, and then use the following formula:

【化41】 で表されるリチウムシラノレートの5%THF溶液19.2
g(5.4 ×10-3モル)を添加して5時間反応させた。
[Chemical 41] 5% THF solution of lithium silanolate represented by 19.2
g (5.4 × 10 −3 mol) was added and the reaction was carried out for 5 hours.

【0083】反応後、80℃まで冷却し、テトラクロルエ
タン 8.9gを加え、3時間かけて中和を行った後に塩を
ろ過し、溶媒等を減圧留去した。さらに、150 ℃/1×
10-5Torrにて薄膜式蒸留装置を通したところ、無色透明
で、粘度5,286cSt、屈折率1.3442、比重1.41、シラノー
ル基含有量 0.006モル/100gである末端がシラノール
基で停止されたオルガノポリシロキサンを得た。
After the reaction, the mixture was cooled to 80 ° C., 8.9 g of tetrachloroethane was added, neutralization was carried out for 3 hours, the salts were filtered off, and the solvent and the like were distilled off under reduced pressure. Furthermore, 150 ° C / 1 ×
When it was passed through a thin film distillation apparatus at 10 -5 Torr, it was colorless and transparent, and had an viscosity of 5,286 cSt, a refractive index of 1.3442, a specific gravity of 1.41, and a silanol group content of 0.006 mol / 100 g. A siloxane was obtained.

【0084】上記で得られたオルガノポリシロキサンに
ついて、実施例1と同様に環状ポリシロキサンの定量を
行ったところ、その含有量は1ppm 以下であった。
With respect to the organopolysiloxane obtained above, the amount of cyclic polysiloxane was determined in the same manner as in Example 1. The content was 1 ppm or less.

【0085】さらに、赤外吸収スペクトル及び 1H-NMR
スペクトルを測定した。測定結果を下に示す。 赤外吸収スペクトル:チャートを図−6に示す。 特性吸収 990〜1130cm-1 (Si-O-Si) 2970, 1260, 800 cm-1(Si-CH3 ) 990〜1400cm-1 (C-F)1 H-NMR スペクトル δ: 0.75〜1.60 ppm (m -CH2 -Si- 2H) 1.83〜2.83 ppm (m -CH2 -CF 2H) 0.21〜0.52 ppm (m Si-CH3 15H)
Further, infrared absorption spectrum and 1 H-NMR
The spectrum was measured. The measurement results are shown below. Infrared absorption spectrum: A chart is shown in FIG. Characteristic absorption 990 to 1130 cm -1 (Si-O-Si) 2970, 1260, 800 cm -1 (Si-CH 3 ) 990 to 1400 cm -1 (CF) 1 H-NMR spectrum δ: 0.75 to 1.60 ppm (m- CH 2 -Si-2H) 1.83 to 2.83 ppm (m -CH 2 -CF 2H) 0.21 to 0.52 ppm (m Si-CH 3 15H)

【0086】以上の結果から、得られたオルガノポリシ
ロキサンは、下記式:の平均分子式で表される鎖状オル
ガノポリシロキサンであることが認められる。
From the above results, it is recognized that the obtained organopolysiloxane is a chain organopolysiloxane represented by the following average molecular formula.

【化42】 [Chemical 42]

【0087】実施例5 4つ口フラスコに、下記式: Example 5 In a four-necked flask, the following formula:

【化43】 で表されるシクロトリシロキサン 100g(0.15モル)、[Chemical 43] 100 g (0.15 mol) of cyclotrisiloxane represented by

【0088】水の40%THF溶液0.05g(1.1×10-3
ル)、テトラグライム 0.1g、を仕込み、100 ℃へ昇温
後、実施例4と同様のLiシラノレートの5%THF溶液
0.99g(2.78×10-4モル)を添加して5時間重合反応を
行った。
A 40% THF solution of water (0.05 g, 1.1 × 10 -3 mol) and tetraglyme (0.1 g) were charged, the temperature was raised to 100 ° C., and the same 5% THF solution of Li silanolate as in Example 4 was added.
0.99 g (2.78 × 10 -4 mol) was added and a polymerization reaction was carried out for 5 hours.

【0089】反応後、テトラクロルエタン 0.4gにて中
和し、実施例1と同様な操作により、無色透明で粘度
8,209cSt 、屈折率 1.3444 、比重 1.41 、シラノール
基含有量 0.004モル/100gである末端がシラノール基で
停止されたオルガノポリシロキサンを得た。実施例1と
同様に環状ポリシロキサンの定量を行ったところ、15
ppm であった。
After the reaction, the mixture was neutralized with 0.4 g of tetrachloroethane, and the same procedure as in Example 1 was carried out to give a colorless and transparent solution.
There was obtained organopolysiloxane having silanol groups terminated at 8,209 cSt, a refractive index of 1.3444, a specific gravity of 1.41, and a silanol group content of 0.004 mol / 100 g. When the amount of cyclic polysiloxane was determined in the same manner as in Example 1, it was found to be 15
It was ppm.

【0090】さらに、赤外吸収スペクトル及び 1H-NMR
スペクトルを測定した。測定結果を下に示す。赤外吸収
スペクトル:チャートを図−7に示す。 特性吸収 990〜1130cm-1 (Si-O-Si) 2970, 1260, 800 cm-1(Si-CH3 ) 990〜1380cm-1 (C-F)1 H-NMR スペクトル δ: 0.77〜1.73 ppm (m -CH2 -Si- 2H) 2.03〜2.87 ppm (m -CH2 -CF 2H) 0.02〜0.70 ppm (m CH3 -Si 15H)
Furthermore, infrared absorption spectrum and 1 H-NMR
The spectrum was measured. The measurement results are shown below. Infrared absorption spectrum: A chart is shown in Fig. 7. Characteristic absorption 990 to 1130 cm -1 (Si-O-Si) 2970, 1260, 800 cm -1 (Si-CH 3 ) 990 to 1380 cm -1 (CF) 1 H-NMR spectrum δ: 0.77 to 1.73 ppm (m- CH 2 -Si-2H) 2.03 to 2.87 ppm (m -CH 2 -CF 2H) 0.02 to 0.70 ppm (m CH 3 -Si 15H)

【0091】以上の結果から、得られたオルガノポリシ
ロキサンは、下記式の平均分子式で表される鎖状オルガ
ノポリシロキサンであることが認められる。
From the above results, it is recognized that the obtained organopolysiloxane is a chain organopolysiloxane represented by the following average molecular formula.

【化44】 [Chemical 44]

【0092】実施例6 4つ口フラスコに、下記式: Example 6 In a four-necked flask, the following formula:

【化45】 で表される含フッ素シクロトリシロキサン 100g(0.22
モル)、
[Chemical formula 45] Fluorinated cyclotrisiloxane represented by 100 g (0.22
Mol),

【0093】水の40%THF溶液 0.4g(8.80×10-3
ル)、テトラグライム 0.1g、を仕込み、100 ℃へ昇温
後、実施例4と同様のLiシラノレートの5%THF溶液
0.705g (1.98×10-4モル)を添加して5時間反応させ
た。
A 40% THF solution of water (0.4 g, 8.80 × 10 -3 mol) and tetraglyme (0.1 g) were charged, the temperature was raised to 100 ° C., and the same 5% THF solution of Li silanolate as in Example 4 was added.
0.705 g (1.98 × 10 -4 mol) was added and the reaction was carried out for 5 hours.

【0094】反応後、テトラクロルエタン 0.3gにて中
和し、実施例1と同様な操作により、無色透明:粘度
3,611cSt 、屈折率 1.3673 、比重 1.27 、シラノール
基含有量 0.009モル/100gである末端がシラノール基で
停止されたオルガノポリシロキサンを得た。実施例1と
同様に環状ポリシロキサンの定量を行ったところ、1pp
m 以下であった。
After the reaction, the mixture was neutralized with 0.3 g of tetrachloroethane, and the same procedure as in Example 1 was carried out to give a colorless transparent resin: viscosity
An organopolysiloxane having a terminal silanol group and having a silanol group content of 3,611 cSt, a refractive index of 1.3673, a specific gravity of 1.27, and a silanol group content of 0.009 mol / 100 g was obtained. When the amount of cyclic polysiloxane was determined in the same manner as in Example 1, it was 1 pp.
It was less than m.

【0095】さらに、赤外吸収スペクトル及び 1H-NMR
スペクトルを測定した。測定結果を下に示す。 赤外吸収スペクトル:チャートを図−8に示す。 特性吸収 990〜1140cm-1 (Si-O-Si) 2970, 1260, 800 cm-1(Si-CH3 ) 990〜1450cm-1 (C-F)1 H-NMR スペクトル δ: 0.72〜1.58 ppm (m -CH2 -Si- 2H) 1.75〜2.82 ppm (m -CH2 -CF 2H) 0.15〜0.62 ppm (m CH3 -Si 15H)
Further, infrared absorption spectrum and 1 H-NMR
The spectrum was measured. The measurement results are shown below. Infrared absorption spectrum: A chart is shown in FIG. Characteristic absorption 990 to 1140 cm -1 (Si-O-Si) 2970, 1260, 800 cm -1 (Si-CH 3 ) 990 to 1450 cm -1 (CF) 1 H-NMR spectrum δ: 0.72 to 1.58 ppm (m- CH 2 -Si-2H) 1.75 to 2.82 ppm (m -CH 2 -CF 2H) 0.15 to 0.62 ppm (m CH 3 -Si 15H)

【0096】以上の結果から、得られたオルガノポリシ
ロキサンは、下記の平均分子式で表される鎖状オルガノ
ポリシロキサンであることが認められる。
From the above results, it is recognized that the obtained organopolysiloxane is a chain organopolysiloxane represented by the following average molecular formula.

【化46】 [Chemical formula 46]

【0097】実施例7 4つ口フラスコに、実施例1と同様な含フッ素シクロト
リシロキサン 100g(0.15モル)、水 0.3g(0.02モ
ル)、4ミリリットルのジメチルスルホキシド、下記
式:
Example 7 In a four-necked flask, the same fluorine-containing cyclotrisiloxane as in Example 1 (100 g (0.15 mol), water 0.3 g (0.02 mol), 4 ml of dimethyl sulfoxide, the following formula:

【化47】 で表されるシラン化合物 1.0g、を添加し、110 ℃で5
時間加熱したところ、粘稠液体を得ることができた。
[Chemical 47] Add 1.0 g of the silane compound represented by
When heated for a time, a viscous liquid could be obtained.

【0098】実施例4と同様、薄膜蒸留を行ったとこ
ろ、無色透明で、粘度5,443cSt、屈折率1.3442、比重1.
41、シラノール基含有量 0.006モル/100gである末端が
シラノール基で停止されたオルガノポリシロキサンを得
た。実施例1と同様に環状ポリシロキサンの定量を行っ
たところ、23ppm であった。
When thin film distillation was carried out in the same manner as in Example 4, it was colorless and transparent, had a viscosity of 5,443 cSt, a refractive index of 1.3442 and a specific gravity of 1.
41, a silanol group-terminated organopolysiloxane having a silanol group content of 0.006 mol / 100 g was obtained. When the amount of cyclic polysiloxane was determined in the same manner as in Example 1, it was 23 ppm.

【0099】さらに、赤外吸収スペクトル及び 1H-NMR
スペクトルを測定した。測定結果を下に示す。 赤外吸収スペクトル: 特性吸収 990〜1140cm-1 (Si-O-Si) 2970, 1260, 800 cm-1(Si-CH3 ) 990〜1450cm-1 (C-F)1 H-NMR スペクトル δ: 0.76〜1.62 ppm (m -CH2 -Si- 2H) 1.80〜2.91 ppm (m -CH2 -CF 2H) 0.19〜0.59 ppm (m CH3 -Si 15H)
Furthermore, infrared absorption spectrum and 1 H-NMR
The spectrum was measured. The measurement results are shown below. Infrared absorption spectrum: Characteristic absorption 990 ~ 1140cm -1 (Si-O-Si) 2970, 1260, 800 cm -1 (Si-CH 3 ) 990 ~ 1450cm -1 (CF) 1 H-NMR spectrum δ: 0.76 ~ 1.62 ppm (m -CH 2 -Si-2H) 1.80 to 2.91 ppm (m -CH 2 -CF 2H) 0.19 to 0.59 ppm (m CH 3 -Si 15H)

【0100】以上の結果から、得られたオルガノポリシ
ロキサンは、下記の平均分子式で表される鎖状オルガノ
ポリシロキサンであることが認められる。
From the above results, it is recognized that the obtained organopolysiloxane is a chain organopolysiloxane represented by the following average molecular formula.

【化48】 [Chemical 48]

【0101】実施例8 1リットルセパラフラスコに、下記式: Example 8 A 1 liter separa flask was charged with the following formula:

【化49】 で表されるシクロトリシロキサン1000g(1.458 モル)[Chemical 49] 1000 g (1.458 mol) of cyclotrisiloxane represented by

【0102】ペンタメチルビニルシクロトリシロキサン
2.27g(0.00972 モル) 下記式:
Pentamethylvinylcyclotrisiloxane
2.27 g (0.00972 mol) The following formula:

【化50】 で示されるリチウムシラノレート 7.7g(0.00972 モ
ル)、及び、テトラグライム 1.0gを仕込み、窒素雰囲
気下で 100℃へ昇温、5時間反応させた。
[Chemical 50] 7.7 g (0.00972 mol) of lithium silanolate represented by and 1.0 g of tetraglyme were charged, and the mixture was heated to 100 ° C. in a nitrogen atmosphere and reacted for 5 hours.

【0103】次いで、降温し、50℃の温度で、ビニルジ
メチルクロロシラン 1.76 g(0.01458 モル)及び、下
記式:
Then, the temperature was lowered, and at a temperature of 50 ° C., 1.76 g (0.01458 mol) of vinyldimethylchlorosilane and the following formula:

【化51】 で示されるジシラザン4.05g(0.022 モル)を投入し、
2時間攪拌し、中和を行った。その後、150 ℃にて減圧
ストリップを行い、次に塩をろ過したところ、952g(1
4,150cSt)のオルガノポリシロキサンを得た。
[Chemical 51] Add 4.05 g (0.022 mol) of disilazane represented by
The mixture was stirred for 2 hours and neutralized. After that, vacuum stripping was performed at 150 ° C, and then salt was filtered off.
4,150 cSt) of organopolysiloxane was obtained.

【0104】次にこの生成物を270 ℃、1×10-4mmHgの
条件で薄膜式分子蒸留装置に通したところ、926g(粘度
15,010cSt )のオルガノポリシロキサンを得た。上記の
オルガノポリシロキサンについて、実施例1と同様に環
状ポリシロキサン定量を行ったところ、その含有量は、
1ppm 以下であった。
Next, this product was passed through a thin film type molecular distillation apparatus under the conditions of 270 ° C. and 1 × 10 −4 mmHg.
15,010 cSt) of organopolysiloxane was obtained. When the amount of cyclic polysiloxane was determined for the above organopolysiloxane in the same manner as in Example 1, the content was
It was 1 ppm or less.

【0105】さらに上記で最終的に得られたオルガノポ
リシロキサンについて、赤外吸収スペクトル、 1H-NMR
スペクトルの測定及びビニル基の定量を行ったところ、
下記の結果が得られた。 赤外吸収スペクトル: 図−9に示す。 特性吸収 990〜1130cm-1 (Si-O-Si) 2970, 1260, 810 cm-1 (Si-CH3 ) 1000〜1450cm-1 (C-F)1 H-NMR (フレオン113 溶媒) 0.76〜1.60 ppm (m -CH2 -Si- 2H) 1.83〜2.81 ppm (m -CH2 -CF 2H) 0.21〜0.52 ppm (m -CH3 -Si 15H) ビニル基の定量: GC−MSによる。
Further, the organopolysiloxane finally obtained above was analyzed by infrared absorption spectrum and 1 H-NMR.
When the spectrum was measured and the vinyl group was quantified,
The following results were obtained. Infrared absorption spectrum: shown in Figure-9. Characteristic absorption 990 to 1130 cm -1 (Si-O-Si) 2970, 1260, 810 cm -1 (Si-CH 3 ) 1000 to 1450 cm -1 (CF) 1 H-NMR (Freon 113 solvent) 0.76 to 1.60 ppm ( m -CH 2 -Si- 2H) 1.83~2.81 ppm (m -CH 2 -CF 2H) 0.21~0.52 ppm (m -CH 3 -Si 15H) vinyl group determination: According to GC-MS.

【0106】以上の結果から、得られたオルガノポリシ
ロキサンは、下記式の平均分子式で表される鎖状オルガ
ノポリシロキサンであることが認められる。
From the above results, it is recognized that the obtained organopolysiloxane is a chain organopolysiloxane represented by the following average molecular formula.

【化52】 [Chemical 52]

【0107】実施例9 含フッ素シクロトリシロキサンとして下記式: Example 9 A fluorine-containing cyclotrisiloxane represented by the following formula:

【化53】 で表されるもの1000g(2.203 モル)を使用し、ペンタ
メチルビニルシクロトリシロキサンの使用量を15.5g
(0.0661モル)とし、
[Chemical 53] The amount of pentamethylvinylcyclotrisiloxane used is 15.5 g, using 1000 g (2.203 mol)
(0.0661 mol),

【0108】且つリチウムシリコネートとして、下記
式:
Further, as lithium siliconate, the following formula:

【化54】 で表されるもの 3.9g(0.022 モル)を使用した以外
は、実施例8と同様な操作にて反応後、10%希塩酸32g
にて中和、後処理を行う。得られた重合物を200 ℃、1
×10-4mmHgの条件で薄膜式分子蒸留装置に通し、環状ポ
リシロキサンを除去した。オルガノポリシロキサン 936
g(3,800cSt)を得た。これを実施例1と同様にFID検
出したところ、環状ポリシロキサンの含有量は15ppm で
あった。
[Chemical 54] After reacting in the same manner as in Example 8 except that 3.9 g (0.022 mol) of the compound represented by
Neutralize and post-process. The polymer obtained is at 200 ° C., 1
The cyclic polysiloxane was removed by passing through a thin film molecular distillation apparatus under the condition of × 10 -4 mmHg. Organopolysiloxane 936
g (3,800 cSt) was obtained. When this was subjected to FID detection in the same manner as in Example 1, the content of cyclic polysiloxane was 15 ppm.

【0109】さらに、赤外吸収スペクトル、 1H-NMR ス
ペクトルの測定及び側鎖ビニル基の定量を行ったとこ
ろ、下記の結果が得られた。 赤外吸収スペクトル:図−10に示す。 特性吸収 1000〜1130cm-1 (Si-O-Si) 2970, 1260, 810 cm-1 (Si-CH3 ) 1000〜1450cm-1 (C-F)1 H-NMR (フレオン113 溶媒) 0.70〜1.62 ppm (m -CH2 -Si- 2H) 1.75〜2.80 ppm (m -CH2 -CF 2H) 0.14〜0.63 ppm (m CH3 -Si 15H) 側鎖ビニル基量 実測値 0.0061 モル/100g 理論値 0.0065 モル/100g
Further, when the infrared absorption spectrum and 1 H-NMR spectrum were measured and the side chain vinyl group was quantified, the following results were obtained. Infrared absorption spectrum: shown in Fig. 10. Characteristic absorption 1000 to 1130 cm -1 (Si-O-Si) 2970, 1260, 810 cm -1 (Si-CH 3 ) 1000 to 1450 cm -1 (CF) 1 H-NMR (Freon 113 solvent) 0.70 to 1.62 ppm ( m-CH 2 -Si- 2H) 1.75 to 2.80 ppm (m -CH 2 -CF 2H) 0.14 to 0.63 ppm (m CH 3 -Si 15H) Side chain vinyl group content 0.0061 mol / 100 g theoretical 0.0065 mol / 100 g

【0110】以上の結果から、得られたオルガノポリシ
ロキサンは、下記式の平均分子式で表される鎖状オルガ
ノポリシロキサンであることが認められる。
From the above results, it is recognized that the obtained organopolysiloxane is a chain organopolysiloxane represented by the following average molecular formula.

【化55】 [Chemical 55]

【0111】[0111]

【発明の効果】本発明の鎖状ポリオルガノシロキサン
は、不純物として含まれる揮発性低分子シロキサンの含
有量が実質的にゼロもしくは著しく微量に抑制されてい
るという顕著な利点を有しており、例えば分子量が3,00
0 以下の環状ポリシロキサンの含有量は50ppm 以下であ
る。従って、この鎖状ポリオルガノシロキサンを各種の
用途に供した場合、揮発性低分子シロキサンの存在によ
り発生する種々の問題、例えばゴム硬化物からの低分子
シロキサンの揮発による電気接点トラブル(特に電気分
野)、周辺汚染(特に建築分野)等の問題が有効に回避
される。
The chain polyorganosiloxane of the present invention has the remarkable advantage that the content of the volatile low-molecular-weight siloxane contained as an impurity is suppressed to substantially zero or a remarkably small amount, For example, the molecular weight is 3,000
The content of 0 or less cyclic polysiloxane is 50 ppm or less. Therefore, when this chain polyorganosiloxane is used for various purposes, various problems caused by the presence of volatile low-molecular-weight siloxane, such as electrical contact trouble due to volatilization of low-molecular-weight siloxane from a rubber cured product (especially in the electrical field) ), Problems such as environmental pollution (especially in the field of construction) are effectively avoided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例1の精製前のオルガノポリシロキサンの
GPCチャートを示す図。
FIG. 1 is a view showing a GPC chart of an organopolysiloxane before purification in Example 1.

【図2】実施例1の精製後のオルガノポリシロキサンの
GPCチャートを示す図。
FIG. 2 is a view showing a GPC chart of the purified organopolysiloxane of Example 1.

【図3】実施例1の精製後のオルガノポリシロキサンの
IRチャートを示す図。
3 is a view showing an IR chart of organopolysiloxane after purification in Example 1. FIG.

【図4】実施例2の精製後のオルガノポリシロキサンの
IRチャートを示す図。
4 is a view showing an IR chart of the organopolysiloxane after purification in Example 2. FIG.

【図5】実施例3の精製後のオルガノポリシロキサンの
IRチャートを示す図。
5 is a view showing an IR chart of the organopolysiloxane after purification in Example 3. FIG.

【図6】実施例4の精製後のオルガノポリシロキサンの
IRチャートを示す図。
6 is a view showing an IR chart of the organopolysiloxane after purification in Example 4. FIG.

【図7】実施例5の精製後のオルガノポリシロキサンの
IRチャートを示す図。
FIG. 7 shows an IR chart of the organopolysiloxane after purification in Example 5.

【図8】実施例6の精製後のオルガノポリシロキサンの
IRチャートを示す図。
FIG. 8 is a view showing an IR chart of the organopolysiloxane after purification in Example 6.

【図9】実施例8の精製後のオルガノポリシロキサンの
IRチャートを示す図。
9 is a view showing an IR chart of the organopolysiloxane after purification in Example 8. FIG.

【図10】実施例9の精製後のオルガノポリシロキサン
のIRチャートを示す図。
FIG. 10 is a view showing an IR chart of the organopolysiloxane after purification in Example 9.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山口 浩一 群馬県碓氷郡松井田町大字人見1番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内 (72)発明者 福田 健一 群馬県碓氷郡松井田町大字人見1番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内 (72)発明者 斉藤 義和 群馬県碓氷郡松井田町大字人見1番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内 (72)発明者 小林 延幸 群馬県碓氷郡松井田町大字人見1番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Koichi Yamaguchi Inventor Koichi Yamaguchi Matsuida-cho, Usui-gun Gunma No. 1 Hitomi 10 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silicone Electronic Materials Research Laboratory (72) Kenichi Fukuda Matsuida-cho, Usui-gun Gunma Daiji Hitomi 1-10 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silicone Electronic Materials Research Laboratory (72) Inventor Yoshikazu Saito Matsui-cho, Usui-gun, Gunma Daiji Hitomi 10 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silicone Electronic Materials Research Laboratory (72) Inventor Kobayashi Nobuyuki 1 Hitomi, Oita, Matsuida-cho, Usui-gun, Gunma 10 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silicone Electronic Materials Research Laboratory

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(1): 【化1】 〔式中、R1 は、非置換または置換の一価炭化水素基で
あり、 Rfは、下記式(1a): 【化2】 または下記式(1b): CL 2L+1− (1b) (式中、R2 は、−CF(CF3 )−,−CF2 CF2
−または−CF(CF3 )CF2 − であり、pは1〜
5の整数であり、 Lは1〜20の整数である)で表される含フッ素基であ
り、 Xは、水素原子または下記式(1c): 【化3】 (式中、R3 は非置換又は置換の一価炭化水素基、qは
0〜3の整数である)で表わされる基であり、 mは、15〜4000の整数であり、 nは、0≦n/(n+m)≦0.1を満足する整数であ
る〕で表され、分子量が 3,000以下の環状ポリシロキサ
ンの含有量が50ppm 以下である鎖状ポリオルガノシロキ
サン。
1. The following general formula (1): [In the formula, R 1 represents an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, and Rf represents the following formula (1a): Or the following formula (1b): C L F 2L + 1 - (1b) ( wherein, R 2 is, -CF (CF 3) -, - CF 2 CF 2
- or -CF (CF 3) CF 2 - a and, p is 1
5 is an integer of 5, L is an integer of 1 to 20), X is a hydrogen atom or the following formula (1c): (Wherein R 3 is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, q is an integer of 0 to 3), m is an integer of 15 to 4000, and n is 0. ≦ n / (n + m) ≦ 0.1], and a chain polyorganosiloxane having a content of cyclic polysiloxane having a molecular weight of 3,000 or less of 50 ppm or less.
【請求項2】 下記一般式(2): 【化4】 (式中、R1 、Rfは前記と同じ)で表される含フッ素シ
クロトリシロキサン、または該含フッ素シクロトリシロ
キサンと下記一般式(3): 【化5】 (式中、R1 は前記と同じ)で表される含ビニルシクロ
トリシロキサンとの混合物を、リチウムシラノレート触
媒または下記一般式(4): 【化6】 〔式中、R4 及びR5 は、一価の有機基であり、 Mは、(R6 4 N、(R6 4 P及びアルカリ金属原
子から選択され(ここでR6 は一価の有機基である)、 Aは、Siまたはホウ素原子を表し、 sは、AがSiのとき1、Aがホウ素原子のとき0であ
り、 tは、0〜2の整数である〕で表される触媒を用いて重
合し、得られた重合生成物を減圧下での加熱及び/又は
溶媒抽出による精製処理に付して揮発成分を除去する工
程を有する請求項1に記載の鎖状ポリオルガノシロキサ
ンの製造方法。
2. The following general formula (2): (Wherein R 1 and Rf are the same as above), or the fluorine-containing cyclotrisiloxane and the following general formula (3): (Wherein R 1 is the same as the above), a mixture with a vinyl-containing cyclotrisiloxane represented by the following formula is used as a lithium silanolate catalyst or the following general formula (4): [Wherein R 4 and R 5 are monovalent organic groups, and M is selected from (R 6 ) 4 N, (R 6 ) 4 P and an alkali metal atom (wherein R 6 is a monovalent group. Is an organic group of A), A represents Si or a boron atom, s is 1 when A is Si, is 0 when A is a boron atom, and t is an integer of 0 to 2] Polymerization using the catalyst described above, the resulting polymerized product is subjected to a purification treatment by heating under reduced pressure and / or solvent extraction to remove volatile components. Method for producing organosiloxane.
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