JPH06282884A - Manufacture of writable optical information recording medium - Google Patents

Manufacture of writable optical information recording medium

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Publication number
JPH06282884A
JPH06282884A JP9536093A JP9536093A JPH06282884A JP H06282884 A JPH06282884 A JP H06282884A JP 9536093 A JP9536093 A JP 9536093A JP 9536093 A JP9536093 A JP 9536093A JP H06282884 A JPH06282884 A JP H06282884A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
information recording
recording medium
optical information
light absorbing
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP9536093A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toru Fujii
徹 藤井
Yoshikazu Takagishi
吉和 高岸
Emiko Hamada
恵美子 浜田
Chiharu Tsukamoto
千晴 塚本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taiyo Yuden Co Ltd
Original Assignee
Taiyo Yuden Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Taiyo Yuden Co Ltd filed Critical Taiyo Yuden Co Ltd
Priority to JP9536093A priority Critical patent/JPH06282884A/en
Publication of JPH06282884A publication Critical patent/JPH06282884A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To obtain a writable optical information recording medium having no fear of peeling between layers by dissolving to remove a light absorption layer on a peripheral edge of a board and so forming a protective layer as to bring the edge of the board into contact with that of the protective layer. CONSTITUTION:A light absorption layer 14 and an enhancement layer 16 are formed on a light transmissive board 12. A reflecting layer 18 is so formed as not to cover an outer peripheral edge of a surface of the board 12 at the layer 14 side. The layers 14, 16 of the edge of the board 12 are dissolved to be removed, and a protective layer 20 is formed on the layer 18 and the edge of the board 12. With this structure, since the edge of the board 12 can be rigidly connected to the edge of the layer 20, a writable optical information recording medium 10 with high reliability and having no fear of peeling between the layers can be manufactured. When the layers 14, 16 at the edge of the board 12 are dissolved to be removed, it is preferable to dissolve to remove it by using resin liquid for forming the layer 20 while rotating the board 12.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、情報を重畳させた記
録用レーザ光を有機色素を含有する光吸収層に照射して
背景部分との間に光学的な位相差を有するピットを形成
させることのできる書き込み可能な光情報記録媒体の製
造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention irradiates a light absorbing layer containing an organic dye with a recording laser beam on which information is superimposed to form a pit having an optical phase difference with a background portion. The present invention relates to a method of manufacturing a writable optical information recording medium.

【0002】[0002]

【従来の技術】書き込み可能な光情報記録媒体として
は、種々のものが提案されている。本件出願人は、この
ような書き込み可能な光情報記録媒体を改良し、ROM
型光情報記録媒体であるコンパクトディスク(CD)の
規格に適合させることができる書き込み可能な光情報記
録媒体として、特開平2−87342号公報に開示され
ているものを提案している。
2. Description of the Related Art Various writable optical information recording media have been proposed. The applicant of the present invention has improved such a writable optical information recording medium and
As a writable optical information recording medium which can be adapted to the standard of a compact disc (CD) which is a type optical information recording medium, a writable optical information recording medium disclosed in JP-A-2-87342 is proposed.

【0003】この書き込み可能な光情報記録媒体は、光
吸収層と光反射層との間に再生用レーザ光の波長に対し
て透明(複素屈折率の虚数部kehs =0)なエンハンス
(enhance) 層を設けたことを特徴とするものである。こ
の書き込み可能な光情報記録媒体は光吸収層と光反射層
との間にこのようなエンハンス層を備えているので、再
生用レーザ光の反射率が70%以上と高くなっている。
This writable optical information recording medium is an enhancement between the light absorption layer and the light reflection layer which is transparent to the wavelength of the reproducing laser light (imaginary part of complex refractive index k ehs = 0).
(enhance) layer is provided. Since this writable optical information recording medium has such an enhancement layer between the light absorption layer and the light reflection layer, the reflectance of the reproducing laser light is as high as 70% or more.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、この書き込み
可能な光情報記録媒体は、透光性基板と保護層との間に
他の層に対する接着力の弱い光吸収層、エンハンス層及
び光反射層を層間に介在させているので、層間、特に周
縁部の層間で剥れるおそれがあり、信頼性に欠けるとい
う問題点があった。
However, this writable optical information recording medium has a light absorbing layer, an enhance layer and a light reflecting layer which have a weak adhesive force to other layers between the transparent substrate and the protective layer. Since it is interposed between the layers, there is a risk of peeling between the layers, particularly between the layers at the peripheral portion, and there is a problem of lack of reliability.

【0005】この発明は上記問題点を解決するためにな
されたもので、層間で剥れるおそれのない、信頼性の高
い書き込み可能な光情報記録媒体の製造方法を提供する
ことを目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a highly reliable writable optical information recording medium which is free from peeling between layers.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この発明に係る書き込み
可能な光情報記録媒体の製造方法は、透光性基板の上に
有機色素を含有する光吸収層を直接または他の層を介し
て形成する工程と、該光吸収層の上に反射層を直接また
は他の層を介して該透光性基板の光吸収層側の面の外周
縁部を被覆しないように形成する工程と、該透光性基板
の周縁部上の光吸収層及びそれに隣接する層を溶解除去
する工程と、該反射層の上及び該透光性基板の周縁部に
保護層を直接または他の層を介して形成する工程とを備
えたものである。
In the method for producing a writable optical information recording medium according to the present invention, a light absorbing layer containing an organic dye is formed directly or through another layer on a transparent substrate. And a step of forming a reflective layer on the light absorbing layer directly or through another layer so as not to cover the outer peripheral edge portion of the surface of the light transmissive substrate on the light absorbing layer side, and the transparent layer. A step of dissolving and removing the light absorption layer on the peripheral portion of the light-transmitting substrate and a layer adjacent thereto, and forming a protective layer on the reflective layer and on the peripheral portion of the light-transmitting substrate directly or via another layer. And a step of performing.

【0007】ここで、保護層を形成する樹脂液を用いて
光吸収層及びそれに隣接する層を溶解除去してもよい。
また、透光性基板を回転させながら光吸収層及びそれに
隣接する層を溶解除去してもよい。
Here, the light absorbing layer and the layer adjacent thereto may be dissolved and removed by using a resin liquid for forming the protective layer.
Alternatively, the light absorbing layer and the layer adjacent thereto may be dissolved and removed while rotating the transparent substrate.

【0008】[0008]

【作用】[Action]

【0009】この発明においては、透光性基板の上に有
機色素を含有する光吸収層を直接または他の層を介して
形成する工程と、該光吸収層の上に反射層を直接または
他の層を介して該透光性基板の光吸収層側の面の外周縁
部を被覆しないように形成する工程と、該透光性基板の
周縁部上の光吸収層及びそれに隣接する層を溶解除去す
る工程と、該反射層の上及び該透光性基板の周縁部に保
護層を直接または他の層を介して形成する工程とを備え
ているので、保護層がその外周縁部を透光性基板の光吸
収層側の面の外周縁部に接着させた状態で形成される。
In the present invention, a step of forming a light absorbing layer containing an organic dye directly or through another layer on a transparent substrate, and a step of forming a reflecting layer directly or other on the light absorbing layer. The step of forming the outer peripheral edge of the surface of the light-transmissive substrate on the light-absorption layer side through the layer of (1) and the light-absorption layer on the peripheral edge of the light-transmissive substrate and a layer adjacent thereto. Since the step of dissolving and removing and the step of forming a protective layer on the reflective layer and on the peripheral portion of the translucent substrate directly or via another layer, the protective layer covers the outer peripheral portion thereof. It is formed in a state of being adhered to the outer peripheral edge portion of the surface of the transparent substrate on the side of the light absorption layer.

【0010】また、保護層を形成する樹脂液を用いて光
吸収層及びそれに隣接する層を溶解除去する場合は、保
護層を形成させる樹脂液を滴下する一つの工程だけで、
透光性基板の光吸収層側の面の外周縁部上の光吸収層の
除去と保護層の形成とが行なわれる。
When the resin solution for forming the protective layer is used to dissolve and remove the light absorbing layer and the layer adjacent thereto, only one step of dropping the resin solution for forming the protective layer,
The removal of the light absorbing layer and the formation of the protective layer on the outer peripheral portion of the surface of the transparent substrate on the side of the light absorbing layer are performed.

【0011】また、透光性基板を回転させながら光吸収
層及びそれに隣接する層を溶解除去する場合は、透光性
基板の光吸収層側の面の外周縁部上の光吸収層の除去と
保護層の形成とが効率的に行なわれる。
Further, when the light absorbing layer and the layer adjacent thereto are dissolved and removed while rotating the light transmitting substrate, the light absorbing layer on the outer peripheral edge of the surface of the light transmitting substrate on the light absorbing layer side is removed. And the formation of the protective layer is efficiently performed.

【0012】[0012]

【実施例】図1はこの発明に係る光情報記録媒体の一例
の一部切欠斜視図、図2は図1のA部拡大図である。こ
の光情報記録媒体10では、同図に示すように、透光性
基板12の一方の面に、光吸収層14、エンハンス層1
6、反射層18及び保護層20がこの順に積層形成され
されている。
1 is a partially cutaway perspective view of an example of an optical information recording medium according to the present invention, and FIG. 2 is an enlarged view of portion A in FIG. In this optical information recording medium 10, as shown in the figure, the light absorption layer 14 and the enhancement layer 1 are provided on one surface of the transparent substrate 12.
6, the reflective layer 18 and the protective layer 20 are laminated in this order.

【0013】ここで、透光性材料としては、ポリカーボ
ネート、アクリル樹脂、ポリオレフィン、ガラス等を挙
げることができるが、これら以外の材料であっても、レ
ーザ光に対する屈折率が1.4〜1.6で、耐衝撃性に
優れたものであれば使用することができる。
Here, examples of the translucent material include polycarbonate, acrylic resin, polyolefin, glass, and the like, but even materials other than these materials have a refractive index of 1.4 to 1. No. 6 can be used as long as it has excellent impact resistance.

【0014】透光性基板12は、例えば射出成形等の手
段により成形させることができる。また、透光性基板1
2にはあらかじめプリグルーブがスパイラル状に形成さ
れていてもよい。プリグルーブは、通常考えられるもの
であればどのような条件のものでもよいが、深さが50
〜300nmのものが好ましい。プリグルーブは、透光
性基板12を射出成形して製造する際にスタンパを押し
当てることにより形成されるのが一般的であるが、必ず
しもこの方法に限られるものではない。
The transparent substrate 12 can be molded by means such as injection molding. In addition, the transparent substrate 1
The 2 may have pregrooves formed in a spiral shape in advance. The pregroove may be under any condition that is usually considered, but the depth is 50
It is preferably about 300 nm. The pre-groove is generally formed by pressing a stamper when manufacturing the transparent substrate 12 by injection molding, but the pre-groove is not necessarily limited to this method.

【0015】光吸収層14の材料としては、光吸収性の
有機色素が好ましい。光吸収性の有機色素としては、具
体的には、例えば、シアニン色素、トリアリールメタン
色素、ピリリウム色素、フェナンスレン色素、テトラデ
ヒドロコリン色素、トリアリールアミン色素、スクアリ
リウム色素、クロコニックメチン色素、フタロシアニン
色素、アズレニウム系色素等を挙げることができるが、
これら以外の光吸収性の有機色素であっても、使用する
ことができる。なお、以上の説明は、Te,Bi,Mn
等の公知の材料を光吸収層14の材料から除外するもの
ではない。
As the material of the light absorbing layer 14, a light absorbing organic dye is preferable. Specific examples of the light absorbing organic dyes include cyanine dyes, triarylmethane dyes, pyrylium dyes, phenanthrene dyes, tetradehydrocholine dyes, triarylamine dyes, squarylium dyes, croconic methine dyes, and phthalocyanine dyes. , And azurenium dyes,
Other light-absorbing organic dyes can also be used. The above description is based on Te, Bi, Mn.
Well-known materials such as are not excluded from the material of the light absorption layer 14.

【0016】光吸収層14には、他の色素、樹脂(例え
ばニトロセルロース等の熱可塑性樹脂、熱可塑性エラス
トマー)、液ゴム等を含んでいてもよい。光吸収層14
は、上記の色素及び任意の添加剤を有機溶剤(例えばア
ルコール、アセチルアセトン、メチルセロソルブ、トル
エン等)で溶解したものをプリグルーブが形成された透
光性基板12、または、透光性基板12の上にコーティ
ングした他の層の上に被覆される。
The light absorbing layer 14 may contain other dyes, resins (for example, thermoplastic resin such as nitrocellulose, thermoplastic elastomer), liquid rubber and the like. Light absorbing layer 14
Is a translucent substrate 12 on which a pre-groove is formed by dissolving the above-described dye and any additive in an organic solvent (for example, alcohol, acetylacetone, methyl cellosolve, toluene, etc.), or of the translucent substrate 12. Coated on top of the other layers coated above.

【0017】光吸収層14の被覆方法としては、蒸着
法、LB法、スピンコート法等が挙げられるが、光吸収
層14の濃度、粘度、溶剤の乾燥速度を調節することに
より層厚を制御できるために、スピンコート法が好まし
い。
The coating method of the light absorbing layer 14 includes vapor deposition method, LB method, spin coating method and the like. The layer thickness is controlled by adjusting the concentration, viscosity and solvent drying rate of the light absorbing layer 14. The spin coating method is preferable because it is possible.

【0018】エンハンス層16は、例えば、シリコン樹
脂等の有機誘電体等により形成できる。エンハンス層1
6を有機誘電体によって形成する場合は原料液を光吸収
層14の上に直接又は他の層を介してスピンコートす
る。
The enhancement layer 16 can be formed of, for example, an organic dielectric such as silicon resin. Enhance layer 1
When 6 is formed of an organic dielectric, the raw material liquid is spin-coated on the light absorption layer 14 directly or through another layer.

【0019】エンハンス層16の膜厚dehs は、光吸収
層14の複素屈折率の実数部nabs、光吸収層14の膜
厚dabs 、エンハンス層16の複素屈折率の実数部n
ehs 、エンハンス層16の膜厚dehs 及び再生用レ−ザ
光の波長λによって与えられる値ρ=(nabs ・dabs
+nehs ・dehs )÷λが、0.05≦ρ≦1.6にな
るように設定する。また、光吸収層14の複素屈折率の
虚部kabs は0.04以下となるようにする。
The thickness d ehs of the enhancement layer 16 is the real part n abs of the complex refractive index of the light absorption layer 14, the thickness d abs of the light absorption layer 14, the real part n of the complex refractive index of the enhancement layer 16.
ehs, the film thickness d ehs and reproducing Les enhancement layer 16 - the value given by the wavelength of the laser light λ ρ = (n abs · d abs
+ N ehs · d ehs ) ÷ λ is set so that 0.05 ≦ ρ ≦ 1.6. Further, the imaginary part kabs of the complex refractive index of the light absorption layer 14 is set to 0.04 or less.

【0020】なお、図2の例では光吸収層14と反射層
18との間にエンハンス層16を設けているが、透光性
基板12と光吸収層14との間にエンハンス層16を設
けてもよい。また、エンハンス層16を設けなくてもよ
い。
Although the enhancement layer 16 is provided between the light absorption layer 14 and the reflection layer 18 in the example of FIG. 2, the enhancement layer 16 is provided between the transparent substrate 12 and the light absorption layer 14. May be. Further, the enhancement layer 16 may not be provided.

【0021】反射層18は、例えば、金、銀、アルミニ
ウムあるいはこれらを含む合金等の金属膜が好ましい。
反射層18は透光性基板12より小さく形成されてい
る。金属膜は、蒸着法、スパッタリング等の手段により
形成することができる。なお、反射層18にはその酸化
を防止するために耐酸化層を被覆させてもよい。
The reflective layer 18 is preferably a metal film such as gold, silver, aluminum, or an alloy containing these.
The reflective layer 18 is formed smaller than the translucent substrate 12. The metal film can be formed by means such as vapor deposition and sputtering. The reflective layer 18 may be coated with an oxidation resistant layer in order to prevent its oxidation.

【0022】保護層20は、例えばポリアクリレート樹
脂等のような耐衝撃性の優れた紫外線硬化樹脂によって
形成するのが好ましい。保護層20は周縁部で透光性基
板12と直接的に接着しているが、これは次のいずれか
の方法によってそのように構成することができる。
The protective layer 20 is preferably formed of an ultraviolet curable resin having excellent impact resistance such as polyacrylate resin. Although the protective layer 20 is directly adhered to the translucent substrate 12 at the peripheral portion, it can be so configured by any of the following methods.

【0023】一の方法は、透光性基板12を回転させな
がら、有機溶剤からなる洗浄液を透光性基板12上の外
周縁部に滴下し、透光性基板12の外周縁部の上の光吸
収層14及びエンハンス層16を溶解除去させる。そし
て、保護層20を形成する樹脂液を反射層16の上にス
ピンコートさせる。保護層20を形成する樹脂液は遠心
力で反射層16に被覆された後、透光性基板12の外周
縁部にも被覆される。なお、有機溶剤からなる洗浄液と
しては、メタノール、エタノール等のアルコールを使用
することができる。
In one method, a cleaning liquid made of an organic solvent is dropped on the outer peripheral edge of the transparent substrate 12 while the transparent substrate 12 is rotated, and the cleaning liquid is placed on the outer peripheral edge of the transparent substrate 12. The light absorption layer 14 and the enhancement layer 16 are dissolved and removed. Then, the resin liquid forming the protective layer 20 is spin-coated on the reflective layer 16. The resin liquid forming the protective layer 20 is coated on the reflective layer 16 by centrifugal force and then on the outer peripheral edge of the translucent substrate 12. As the cleaning liquid composed of an organic solvent, alcohol such as methanol or ethanol can be used.

【0024】他の方法は、透光性基板12を回転させな
がら、保護層20を形成する樹脂液を反射層18の上に
過剰に滴下し、この樹脂液を遠心力で反射層18に被覆
させ、更に反射層18の外側に流出させ、この流出させ
た樹脂液で透光性基板12上の外周縁部上の光吸収層1
4及びエンハンス層16を溶解除去させる。そして、反
射層18の上及び透光性基板12の外周縁部の上に残っ
た樹脂液を乾燥させて保護層20とする。
In another method, while rotating the translucent substrate 12, the resin liquid for forming the protective layer 20 is excessively dropped on the reflection layer 18, and the resin liquid is coated on the reflection layer 18 by centrifugal force. Then, the resin liquid is allowed to flow to the outside of the reflective layer 18, and the resin liquid thus flowed out is used to absorb the light absorption layer 1 on the outer peripheral edge of the transparent substrate 12.
4 and the enhancement layer 16 are dissolved and removed. Then, the resin liquid remaining on the reflective layer 18 and on the outer peripheral edge of the transparent substrate 12 is dried to form the protective layer 20.

【0025】なお、図2の例では保護層20の外周縁部
と透光性基板12の外周縁部とが対向した状態で接着し
ているが、保護層20の外周縁部が透光性基板12の外
周縁部を包み込むようにして接着していてもよい。
In the example of FIG. 2, the outer peripheral edge portion of the protective layer 20 and the outer peripheral edge portion of the transparent substrate 12 are adhered in a state of facing each other, but the outer peripheral edge portion of the protective layer 20 is transparent. The outer peripheral edge of the substrate 12 may be adhered so as to wrap it.

【0026】実施例1 まず、スパイラル状のプリグルーブが形成された円板状
の透光性基板12を射出成形法により形成した。ここ
で、透光性基板12の材料としてはポリカーボネートを
使用した。透光性基板12のサイズは、厚さ1.2m
m、外径120mmφ、内径15mmφとした。プリグ
ルーブは、幅0.8μm、深さ0.08μm、ピッチ
1.6μmとし、透光性基板12の直径46〜117m
mφの範囲に形成した。
Example 1 First, a disk-shaped light-transmitting substrate 12 having spiral pre-grooves was formed by an injection molding method. Here, polycarbonate was used as the material of the transparent substrate 12. The transparent substrate 12 has a thickness of 1.2 m.
m, outer diameter 120 mmφ, and inner diameter 15 mmφ. The pre-groove has a width of 0.8 μm, a depth of 0.08 μm and a pitch of 1.6 μm, and the diameter of the transparent substrate 12 is 46 to 117 m.
It was formed in the range of mφ.

【0027】次に、透光性基板12の上に1,1’ジブ
チル3,3,3’,3’テトラメチル4,5,4’5’
ジベンゾインドジカーボシアニンパークロレート(株式
会社日本感光色素研究所製:NK3219)のジアセト
ンアルコール溶液をスピンコート法により塗布し、膜厚
abs =130nmの光吸収層14を形成した。
Next, 1,1'dibutyl 3,3,3 ', 3' tetramethyl 4,5,4'5 'is formed on the transparent substrate 12.
A diacetone alcohol solution of dibenzoindodicarbocyanine perchlorate (manufactured by Japan Photosensitive Dye Research Institute, Inc .: NK3219) was applied by a spin coating method to form a light absorption layer 14 having a film thickness d abs = 130 nm.

【0028】ここで、このジアセトンアルコール溶液
は、0.65gの1,1’ジブチル3,3,3’,3’
テトラメチル4,5,4’5’ジベンゾインドジカーボ
シアニンパークロレートを10ccのジアセトンアルコ
ールに溶解させたものを使用した。
Here, this diacetone alcohol solution contained 0.65 g of 1,1'dibutyl 3,3,3 ', 3'.
Tetramethyl 4,5,4'5 'dibenzoindodicarbocyanine perchlorate dissolved in 10 cc of diacetone alcohol was used.

【0029】次に、モノメチルシロキサン(信越化学工
業株式会社製KR−220)1.2gを100mlのシ
クロヘキサンに溶解したものを、光吸収層14の上にス
ピンコート法により塗布した後、80℃で30分間キュ
アリングしてエンハンス層16を得た。このエンハンス
層16の膜厚dehs は52nm、複素屈折率の実数部n
ehs は1.41であった。
Next, 1.2 g of monomethyl siloxane (KR-220 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) dissolved in 100 ml of cyclohexane was applied onto the light absorption layer 14 by spin coating, and then at 80 ° C. Curing was performed for 30 minutes to obtain an enhancement layer 16. The film thickness d ehs of the enhancement layer 16 is 52 nm, and the real part n of the complex refractive index is n.
The ehs was 1.41.

【0030】次に、エンハンス層16の上にAlをスパ
ッタリング法により被覆し、膜厚100nmの反射層1
8を形成した。
Next, Al is coated on the enhancement layer 16 by a sputtering method to form a reflection layer 1 having a film thickness of 100 nm.
8 was formed.

【0031】次に、反射層18の上にポリアクリレート
樹脂を過剰にスピンコートさせ、周縁部の光吸収層14
及びエンハンス層3を溶解除去させるとともに、透光性
基板12の周縁部及び反射層18の上にこの樹脂液を被
覆させた。そして、紫外線を照射してこのポリアクリレ
ート樹脂液を硬化させ、膜厚10μmの保護層20を形
成した。
Next, a polyacrylate resin is excessively spin-coated on the reflective layer 18 so that the light absorbing layer 14 on the peripheral portion is formed.
The enhancer layer 3 was dissolved and removed, and the peripheral portion of the translucent substrate 12 and the reflective layer 18 were coated with this resin liquid. Then, the polyacrylate resin liquid was cured by irradiation with ultraviolet rays to form a protective layer 20 having a film thickness of 10 μm.

【0032】以上のようにして形成した光情報記録媒体
10について、その周縁部の積層状態を観察したとこ
ろ、完全に一体的に接着しており、剥れるおそれのない
状態になっていることがわかった。
When the laminated state of the peripheral portion of the optical information recording medium 10 formed as described above is observed, it is found that the optical information recording medium 10 is completely integrally bonded and is in a state where there is no fear of peeling. all right.

【0033】実施例2 保護層20を形成する前に、洗浄剤(メタノール)を用
いて反射層18の外側部の光吸収層14及びエンハンス
層3を洗浄除去させた他は実施例1と同様にして光情報
記録媒体を作製し、この光情報記録媒体について、上記
実施例1と同様にしてその周縁部の積層状態を観察した
ところ、完全に一体的に接着しており、剥れるおそれの
ない状態になっていることがわかった。
Example 2 The same as Example 1 except that the light absorbing layer 14 and the enhancement layer 3 on the outer side of the reflective layer 18 were removed by washing with a cleaning agent (methanol) before forming the protective layer 20. An optical information recording medium was manufactured in the above manner, and the laminated state of the peripheral portion of this optical information recording medium was observed in the same manner as in Example 1 above. It turns out that it is in a state of no.

【0034】[0034]

【発明の効果】この発明によれば、透光性基板の外周縁
部と保護層の外周縁部とが強固に結合しているので、層
間が剥れ難い信頼性の高い光情報記録媒体を得ることが
できるという効果がある。
According to the present invention, since the outer peripheral edge portion of the transparent substrate and the outer peripheral edge portion of the protective layer are firmly bonded to each other, a highly reliable optical information recording medium in which the layers are not easily peeled off is provided. There is an effect that can be obtained.

【0035】また、この発明によれば、保護層がその外
周縁部を透光性基板の外周縁部に接着させた状態の光情
報記録媒体を簡単に製造することができるという効果が
ある。
Further, according to the present invention, there is an effect that the optical information recording medium having the outer peripheral edge portion of the protective layer adhered to the outer peripheral edge portion of the transparent substrate can be easily manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1はこの発明に係る光情報記録媒体の一例の
一部切欠斜視図である。
FIG. 1 is a partially cutaway perspective view of an example of an optical information recording medium according to the present invention.

【図2】図2は図1のA部拡大図である。FIG. 2 is an enlarged view of part A of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 光情報記録媒体 12 透光性基板 14 光吸収層 16 エンハンス層 18 光反射層 20 保護層 10 Optical Information Recording Medium 12 Translucent Substrate 14 Light Absorbing Layer 16 Enhance Layer 18 Light Reflecting Layer 20 Protective Layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 塚本 千晴 東京都台東区上野6丁目16番20号 太陽誘 電株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Chiharu Tsukamoto 6-16-20 Ueno Taito-ku, Tokyo Taiyo Induction Co., Ltd.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透光性基板の上に有機色素を含有する光
吸収層を直接または他の層を介して形成する工程と、該
光吸収層の上に反射層を直接または他の層を介して該透
光性基板の光吸収層側の面の外周縁部を被覆しないよう
に形成する工程と、該透光性基板の周縁部上の光吸収層
及びそれに隣接する層を溶解除去する工程と、該反射層
の上及び該透光性基板の周縁部に保護層を直接または他
の層を介して形成する工程とを備えた書き込み可能な光
情報記録媒体の製造方法。
1. A step of forming a light absorbing layer containing an organic dye directly or through another layer on a transparent substrate, and a reflecting layer directly or on another layer on the light absorbing layer. Through the step of forming so as not to cover the outer peripheral edge of the surface of the transparent substrate on the side of the light absorbing layer, and dissolving and removing the light absorbing layer on the peripheral edge of the transparent substrate and the layer adjacent thereto. A method of manufacturing a writable optical information recording medium, comprising: a step of forming a protective layer on the reflective layer and on a peripheral portion of the translucent substrate either directly or via another layer.
【請求項2】 請求項1記載の書き込み可能な光情報記
録媒体の製造方法において、保護層を形成する樹脂液を
用いて光吸収層及びそれに隣接する層を溶解除去するこ
とを特徴とする書き込み可能な光情報記録媒体の製造方
法。
2. The method for producing a writable optical information recording medium according to claim 1, wherein the light absorbing layer and a layer adjacent thereto are dissolved and removed by using a resin liquid for forming a protective layer. Manufacturing method of possible optical information recording medium.
【請求項3】 請求項1又は2記載の書き込み可能な光
情報記録媒体の製造方法において、透光性基板を回転さ
せながら光吸収層及びそれに隣接する層を溶解除去する
ことを特徴とする書き込み可能な光情報記録媒体の製造
方法。
3. The method for manufacturing a writable optical information recording medium according to claim 1, wherein the light absorbing layer and a layer adjacent thereto are dissolved and removed while rotating the transparent substrate. Manufacturing method of possible optical information recording medium.
JP9536093A 1993-03-30 1993-03-30 Manufacture of writable optical information recording medium Withdrawn JPH06282884A (en)

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