JPH06275037A - 浮上式スライダと浮上式スライダを用いた磁気ディスク装置 - Google Patents

浮上式スライダと浮上式スライダを用いた磁気ディスク装置

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JPH06275037A
JPH06275037A JP6193393A JP6193393A JPH06275037A JP H06275037 A JPH06275037 A JP H06275037A JP 6193393 A JP6193393 A JP 6193393A JP 6193393 A JP6193393 A JP 6193393A JP H06275037 A JPH06275037 A JP H06275037A
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JP
Japan
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slider
magnetic disk
flying
abs
flying slider
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JP6193393A
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English (en)
Inventor
Hideyuki Nagao
英幸 長尾
Hiroshi Tomiyasu
弘 冨安
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 スライダのL/UL時にスライダと磁気ディ
スクとが接触しても磁気ディスクをクラッシュすること
のない浮上式スライダを得ることを目的とする。 【構成】 スライダ1の4隅に、磁気ディスクの表面部
材より軟質な部材からなる保護部材5を配設するととも
に、スライダ1と保護部材5のABS面2を同一平滑面
に形成したことにより、L/UL時にスライダ1が磁気
ディスクに接触しても保護部材5が摩耗するので磁気デ
ィスクの表面部材は摩耗することがなく、磁気ディスク
はクラッシュすることがない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ヘッドに搭載され
る浮上式スライダと浮上式スライダを用いた磁気ディス
ク装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、磁気ディスク装置は小型化,大容
量化,高性能化が盛んに進められている。これにともな
い浮上式スライダの浮上高さは狭小化し、現在では0.1
μm程度までに達している。この低浮上化の中でディス
クの起動、停止機構は従来のコンタクト・スタート・ス
トップ機構(以下CSS機構という)に代替して、ロー
ド・アンロード機構(以下L/UL機構という)が検討
され一部実用化されている。また、磁気ディスク装置の
高性能化の必要上、アクセス速度が高速化し、平均アク
セス時間は10msecをきるまでになっている。
【0003】前記したL/UL機構とは、磁気ディスク
が停止中は浮上式式スライダ(以下、スライダという)
が、磁気ディスクと隙間を有して離れており、磁気ディ
スクが回転するとスライダは磁気ディスク面に近づき、
磁気ディスクの回転による空気流で浮上するというもの
である。
【0004】以下、このL/UL機構に搭載される従来
のスライダの構成を図9および図10により説明する。
【0005】スライダ21の一面にはABS面(AIR
BEARING SURFACE)22が形成され、
ABS面22の一方の端部にはテーパー面23が形成さ
れている。
【0006】上記構成において、磁気ディスク24が回
転するとその面に空気流が生じ、空気流がテーパー面2
3に流入することによりスライダ21が浮上する。
【0007】ところで、スライダ21は磁気ディスク2
4の停止中も磁気ディスク24に対して平行であること
が理想的であるが、実際には、加工誤差、組立誤差等に
より、図10(a)に示したように非平行となってい
る。この状態でも、スライダ21が磁気ディスク24に
近づくとスライダ21のABS面22には空気流により
自らの姿勢を整えようとする力が働き、図10(b)に
示したように姿勢を回復して磁気ディスク24に対して
ほぼ平行な状態となる。そして、さらにスライダ21が
磁気ディスク24に近づくと図10(c)に示したよう
に浮上状態になり、スライダ21を支持するサスペンシ
ョンの支持力とスライダ21のABS面22に発生する
浮上力の釣り合い位置で小隙Gを有して浮上する。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】このような従来の構成
のスライダでは、L/UL機構を用いれば理想的にはス
ライダ21を磁気ディスク24に非接触で浮上させるこ
とができる。
【0009】しかし、磁気ディスク24に対するスライ
ダ21の初期姿勢が許容範囲より大きいときやスライダ
21の磁気ディスク24に近づく速度が速いとき、ある
いは外部から振動が伝わったときなどにはスライダ21
が磁気ディスク24に接触することがある。
【0010】このような接触が生じるといずれかの方に
摩耗が発生する。スライダ21と磁気ディスク24の場
合、磁気ディスク24の表面部材の硬さとスライダ21
の硬さの差によりどちらが先に多く摩耗するかが決ま
り、もし、スライダ21の方が硬い場合には磁気ディス
ク24の表面部材は浮上式スライダ21によって削り取
られ、やがて磁性層にまで摩耗は進行してクラッシュに
到ることになる。そして従来は、スライダ21の硬さが
原因でその接触部分において磁気ディスク24の表面部
材に摩耗が発生し、L/ULと浮上が繰り返される度に
摩耗が進行し、やがてクラッシュに到るという問題があ
った。
【0011】因に、スライダ21を形成するAl2 3
TiC(アルチック)の硬さは1400kgf/mm2 で、磁
気ディスク24の表面部材を形成するカーボン皮膜の硬
さは、カーボン皮膜を形成するスパット条件や加工環境
によって差異があるが、最も軟質に形成された場合で8
00kgf/mm2 である。
【0012】なお、上記した硬さは、島津製作所製硬度
計DUH−200で測定したものである。
【0013】また、磁気ディスク24とスライダ21と
の接触はL/UL時以外にも、スライダ21が磁気ディ
スク24のトラック間移動する高速シーク時やスライダ
21の暴走時にも発生することがある。高速シーク中の
スライダ21には大きな加速度が加わるためスライダ2
1に回転力が生じ、この回転力がスライダ21と磁気デ
ィスク24の間に存在する空気膜のパネ剛性から得られ
る許容力よりも大きくなったとき、スライダ21はその
初期浮上姿勢を崩して磁気ディスク24と接触するとい
うもので、L/UL時と同様に、接触部において磁気デ
ィスク24の表面部材を摩耗してクラッシュさせるとい
う問題があった。
【0014】このような問題に対して特開昭57−11
1827号公報には、一体構造基板の薄膜構造物を形成
する面にアルミナ・チタニア、アルミナチタンカーバイ
ド又はサファイア等の高硬度材料を用い、変換器浮動体
の浮上面を形成する面にフォトセラム、フェライト、チ
タバリ等の低硬度材料を用いた構成が示されている。し
かし、このものは、TD部の逆側の端面に近い摺動部と
記録担体との接触による記録担体の切削を防止するもの
で、TD部側と記録担体との接触による記録担体の切削
については配慮されていないものであった。
【0015】本発明は上記問題を解決するもので、スラ
イダのL/UL時および高速シーク時、あるいは暴走時
にスライダと磁気ディスクとが接触しても磁気ディスク
を摩耗することがなく、クラッシュすることのない浮上
式スライダと浮上式スライダを用いた磁気ディスク装置
を提供することを目的としている。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、浮上式スライダの4隅、または、前端側も
しくは後端側のいずれか一方の2隅、または、前後の両
側面もしくは左右両側面またはそのいずれかの両側面、
または、4隅の外面、または、前端側もしくは後端側の
いずれか一方の2隅に、磁気ディスクの表面部材より軟
質な部材からなる保護部材をそれぞれ配設するととも
に、前記浮上式スライダのABS面と前記保護部材のA
BS面とを同一平滑面に形成した構成としたものであ
る。
【0017】
【作用】上記各構成において、L/UL機構を用いてス
ライダを磁気ディスク上に非接触で浮上させる際に前記
した何らかの原因でスライダが磁気ディスクに接触して
も、スライダの要所に配設された磁気ディスクの表面部
材より軟質な部材からなる保護部材が摩耗するので磁気
ディスクの表面部材は摩耗することがなく、磁気ディス
クはクラッシュすることがない。
【0018】
【実施例】以下、本発明の一実施例について図1から図
10を参照しながら説明する。
【0019】(実施例1)まず、第1の実施例について
図1により説明する。
【0020】図において、1は浮上式スライダ(以下、
スライダという)で、そのABS面2の前端側3には空
気流が流入するテーパー面4が形成されている。5は三
角錐状の保護部材で、スライダ1のABS面2に面した
4隅に配設され、磁気ディスクの表面部材の硬さ210
0kgf/mm2 (島津製作所製硬度計DUH−200によ
る)より硬質な部材、たとえば、(表1)に示したよう
な部材からなっている。
【0021】
【表1】
【0022】この保護部材5はスライダ1に適宜な方法
で取着され、ABS面2とテーパー面4とともに同一平
滑面を形成するように研磨仕上げされている。
【0023】(実施例2)次に、第2の実施例について
図2により説明する。
【0024】なお、第1の実施例に示したものと同一部
品には同じ符号を付して説明を省略する(以下、実施例
3、4、5、6においても同じ)。
【0025】(a)に示したように、スライダ1の前端
側、つまりテーパー面4側のABS面2に面した2隅に
は、(表1)に示したような磁気ディスクの表面部材よ
り軟質な部材で三角錐状に形成された保護部材5が配設
されている。そして、ABS面2とテーパー面4ととも
に同一平滑面を形成するように研磨仕上げされている。
【0026】また、(b)に示したように、スライダ1
の後端側6、つまり空気流の流出側のABS面2に面し
た2隅には、(a)に示したものと同様の保護部材5が
配設され(a)と同様に研磨仕上げされている。
【0027】(実施例3)次に、第3の実施例について
図3により説明する。
【0028】(a)に示したように、スライダ1の左右
の側面7には、その全面に、(表1)に示したような部
材で形成された保護部材5が配設されている。そして、
ABS面2とテーパー面4とともに同一平滑面を形成す
るように研磨仕上げされている。
【0029】また、(b)に示したように、スライダ1
の前面8および後面9には、その全面に、(表1)に示
したような部材で形成された保護部材5、5が配設され
(a)と同様に研磨仕上げされている。
【0030】(実施例4)次に、第4の実施例について
図4により説明する。
【0031】スライダ1の4隅には、(表1)に示した
ような部材でL字状に形成された保護部材5、5が配設
されている。そして、ABS面2とテーパー面4ととも
に同一平滑面を形成するように研磨仕上げされている。
【0032】(実施例5)次に、第5の実施例について
図5により説明する。
【0033】スライダ1の後端側10の2隅の外面に
は、(表1)に示したような部材でL字状に形成された
保護部材5、5が配設されている。そして、ABS面2
とテーパー面4とともに同一平滑面を形成するように研
磨仕上げされている。
【0034】また、図示していないが、スライダ1の前
端側の2隅の外面には、(表1)に示したような部材で
形成された保護部材が配設され上記と同様に研磨仕上げ
されている。
【0035】(実施例6)次に、第6の実施例について
図6により説明する。
【0036】図に示したように、スライダ1は、その全
体が、(表1)に示したような部材で形成されている。
【0037】上記各実施例に示した構成のスライダ1
は、図7に示したように、L/UL機構を用いた磁気デ
ィスク装置に搭載されるものである。
【0038】ここで、L/UL機構の動作について図7
により簡単に説明する。スライダ1、1を弾支するサス
ペンション11、11はスライダ1、1を上下の磁気デ
ィスク24、24の面に付勢している。そして、磁気デ
ィスク24、24の非回転時にはロードバー12で保持
されて磁気ディスク24、24から離隔されている。磁
気ディスク24、24が回転すると、サスペンション1
1、11を保持するアーム13は図示しない回転軸を軸
に磁気ディスク24、24の中心方向に回動する。この
回動によりサスペンション11、11はロードバー12
から解放され、スライダ1、1は上下の磁気ディスク2
4、24の面に近接する。このとき、磁気ディスク2
4、24の面には空気流が発生しているので、この空気
流によりスライダ1、1は磁気ディスク24、24の面
との間に微小間隙を有して浮上する。
【0039】磁気ディスク24、24の回転が止まると
アーム13が逆に回動してサスペンション11、11は
ロードバー12で保持される。
【0040】この一連の動作において、スライダ1、1
は磁気ディスク24、24に近接し、ときには従来例で
示したように接触することがある。
【0041】しかし、本発明の実施例によれば、スライ
ダ1の要所には、(表1)に示したような磁気ディスク
24の表面部材より軟質な部材からなる保護部材5を配
設し、あるいは、スライダ1全体を(表1)に示したよ
うな部材で形成してあるので、スライダ1と磁気ディス
ク24が接触しても保護部材5が摩耗して磁気ディスク
24の表面を摩耗させることがない。これにより磁気デ
ィスクのクラッシュを防止することができるものであ
る。
【0042】この実験結果の一例を図8に示す。図から
明らかなように、従来例のAl2 3 TiC(硬さ:1
400kgf/mm2)でスライダを形成したものは、L/U
L中のスライダと磁気ディスクの接触力に関係なく磁気
ディスクのクラッシュは早期に発生したが、スライダの
要所にMnZnFe(硬さ:733kgf/mm2 )からなる
保護部材を配設したものでは、L/UL中のスライダと
磁気ディスクの接触力に関係なく多数回の接触でも磁気
ディスクのクラッシュは発生しなかった。また、保護部
材をMnZnFeより硬度の高いα−Fe2 3 (硬
さ:825kgf/mm2 )で形成したものでは、磁気ディス
クの表面部材であるカーボン皮膜の硬さ(800kgf/mm
2 )とほぼ同等であるため、L/UL中のスライダと磁
気ディスクの接触力が大きい場合には比較的早期に磁気
ディスクのクラッシュが発生したが、接触力が小さくな
るにつれて多数回の接触でもクラッシュは発生しなかっ
た。
【0043】この結果から、保護部材をMnZnフェラ
イトよりも硬度の小さい、たとえば(表1)に示したよ
うな合成樹脂で形成してもL/UL中のスライダと磁気
ディスクの接触力に関係なく、かつ、多数回の接触でも
磁気ディスクのクラッシュをなくすることができること
は明らかである。
【0044】次に、保護部材5をスライダ1の隅部、ま
たは前後面部もしくは側面部に配設したことにより、シ
ーク時や暴走時の磁気ディスク24のクラッシュを防止
することができる。すなわち、シーク時や暴走時には、
スライダ1の隅部や前後面部あるいは側面部のエッジ部
が磁気ディスク24の表面に接触するが、本発明では、
スライダ1の隅部や前後面部あるいは側面部に保護部材
5を配設しているので接触による磁気ディスク24のク
ラッシュを防止することができる。この場合、保護部材
5のエッジ部に緩やかな曲面を形成すれば、なお有効に
クラッシュを防止することができる。
【0045】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、浮上式スライダの4隅、または、前端側もし
くは後端側のいずれか一方の2隅、または、前後の両側
面もしくは左右の両側面またはそのいずれかの両側面、
または、4隅の外面、または、前端側もしくは後端側の
いずれか一方の2隅に、磁気ディスクの表面部材より軟
質な部材からなる保護部材をそれぞれ配設するととも
に、浮上式スライダのABS面と保護部材のABS面と
を同一平滑面に形成したことにより、L/UL機構を用
いて浮上式スライダを磁気ディスク上に非接触で浮上さ
せる際や、高速シーク時、あるいは暴走時に浮上式スラ
イダが磁気ディスクに接触しても、浮上式スライダの要
所に配設された磁気ディスクの表面部材より軟質な部材
からなる保護部材が摩耗するので磁気ディスクの表面部
材は摩耗することがなく、磁気ディスクのクラッシュを
防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の浮上式スライダの第1の実施例の斜視
【図2】(a)、(b)は同第2の実施例の斜視図
【図3】(a)、(b)は同第3の実施例の斜視図
【図4】同第4の実施例の斜視図
【図5】同第5の実施例の斜視図
【図6】同第6の実施例の斜視図
【図7】同浮上式スライダを用いた磁気ディスク装置の
要部の斜視図
【図8】本発明と従来例の浮上式スライダによる磁気デ
ィスククラッシュ特性図
【図9】従来例の浮上式スライダの斜視図
【図10】(a)、(b)、(c)は浮上式スライダの
動作を説明する動作状態図
【符号の説明】
1 浮上式スライダ 2 ABS面 3 前端側 5 保護部材 6、10 後端側 7 左右の側面 8 前面 9 後面

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】浮上式スライダの4隅に、磁気ディスクの
    表面部材より軟質な部材からなる保護部材を配設すると
    ともに、前記浮上式スライダのABS面と前記保護部材
    のABS面とを同一平滑面に形成したことを特徴とする
    浮上式スライダ。
  2. 【請求項2】浮上式スライダの前端側または後端側のい
    ずれか一方の2隅に、磁気ディスクの表面部材より軟質
    な部材からなる保護部材を配設するとともに、前記浮上
    式スライダのABS面と前記保護部材のABS面とを同
    一平滑面に形成したことを特徴とする浮上式スライダ。
  3. 【請求項3】浮上式スライダの前後の両面および左右の
    両側面または、そのいずれかの両側面に、磁気ディスク
    の表面部材より軟質な部材からなる保護部材を配設する
    とともに、前記浮上式スライダのABS面と前記保護部
    材のABS面とを同一平滑面に形成したことを特徴とす
    る浮上式スライダ。
  4. 【請求項4】浮上式スライダの4隅の外面に、磁気ディ
    スクの表面部材より軟質な部材からなる保護部材を配設
    するとともに、前記浮上式スライダのABS面と前記保
    護部材のABS面とを同一平滑面に形成したことを特徴
    とする浮上式スライダ。
  5. 【請求項5】浮上式スライダの前端側または後端側のい
    ずれか一方の2隅の外面に磁気ディスクの表面部材より
    軟質な部材からなる保護部材を配設するとともに、前記
    浮上式スライダのABS面と前記保護部材のABS面と
    を同一平滑面に形成したことを特徴とする浮上式スライ
    ダ。
  6. 【請求項6】保護部材のエッジ部に緩やかな曲面を形成
    したことを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載
    の浮上式スライダ。
  7. 【請求項7】マンガン亜鉛フェライト、カーボン、α−
    Fe2 3 のいずれかとポリアミド、ポリアセタール、
    ポリカーボネート、変性ポリフェニレンオキサイド、ポ
    リブチレンテレフタレート、エポキシ、シリコーン、芳
    香族ポリアミド、芳香族ポリエステル、ビスマレイミド
    トリアジン、ふっ素樹脂、ポリアミドイミド、ポリサル
    フォン、ポリフェニレンオキサイド、ポリフェニレンサ
    ルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテ
    ルサルフォン、ポリエーテルイミドからなる群のうちの
    いずれかの樹脂とで形成した保護部材を有する請求項1
    から5のいずれかに記載の浮上式スライダ。
  8. 【請求項8】浮上式スライダ全体を請求項7に記載の保
    護部材と同部材で形成したことを特徴とする浮上式スラ
    イダ。
  9. 【請求項9】浮上式スライダをAl2 3 TiCで形成
    し、保護部材を請求項7記載の部材で形成したことを特
    徴とする請求項1から5のいずれかに記載の浮上式スラ
    イダ。
  10. 【請求項10】浮上式スライダのエッジ部に緩やかな曲
    面を形成したことを特徴とする請求項8記載の浮上式ス
    ライダ。
  11. 【請求項11】請求項1から5のいずれかに記載の浮上
    式スライダを搭載したことを特徴とする磁気ディスク装
    置。
  12. 【請求項12】起動、停止機構をロード・アンロード機
    構としたことを特徴とする請求項11記載の磁気ディス
    ク装置。
  13. 【請求項13】請求項6記載の浮上式スライダを搭載し
    たことを特徴とする磁気ディスク装置。
  14. 【請求項14】起動、停止機構をロード・アンロード機
    構としたことを特徴とする請求項13に記載する磁気デ
    ィスク装置。
JP6193393A 1993-03-22 1993-03-22 浮上式スライダと浮上式スライダを用いた磁気ディスク装置 Pending JPH06275037A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5985163A (en) * 1994-12-19 1999-11-16 Seagate Technology, Inc. Partially etched protective overcoat for a disk drive slider
US7573678B2 (en) 2005-03-02 2009-08-11 Tdk Corporation Magnetic head slider with shock absorption layer and manufacturing the same

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