JPH0626853U

JPH0626853U - 真空発生装置

Info

Publication number: JPH0626853U
Application number: JP4836893U
Authority: JP
Inventors: ハンスユルゲンスアヒム; ミオンスコヴスキーゲアハルト
Original assignee: ドイッチェネメクトロンゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
Priority date: 1984-07-17
Filing date: 1993-09-06
Publication date: 1994-04-12
Also published as: DE3426225A1; JPS6137160A; AU4461285A; AU574801B2

Abstract

(57)【要約】【目的】真空ポンプを用いて身体の表面に載置可能な
少なくとも２つの吸盤に真空を発生する装置を、より小
さく静かなポンプを使用でき、吸盤の当付けが容易であ
り、生体に対する危険および吸盤の落下が回避されるよ
うに改良する。【構成】吸盤１１〜１４に弁１１．１，１１．２〜１
４．１，１４．２が、真空が一方の吸盤において発生さ
れ、他方の吸盤において解除されるように配属されかつ
弁を制御する制御ユニット３，２６，２７が設けられて
いる。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、少なくとも１つの真空ポンプを用いた、例えば電気治療法との関連において使用するための、身体の表面に載置可能な少なくとも２つの吸盤または吸着ヘッドに真空を発生するための装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】

実用から公知の上記形式の装置では、真空ポンプに共通に接続されている複数の吸盤において一定圧力の真空が生じるかまたは吸盤は前以って決めることができる脈動化リズムによって同相的に給気され、これにより付加的な吸込みマッサージが実施される。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題点】

この種の公知の装置における欠点は、複数の吸盤を連続して当てるまたは離す際に吸盤の真空がこの当て付けまたは引き離しによって影響を受けるということである。第１の場合おのおのの吸盤における真空度は当てられる吸盤の数にしたがって上昇し、第２の場合まだ当付けられている吸盤のおのおのにおける真空度は低減される。第１の場合、ユーザが付けられた電極の数が上昇したときそれに応じて真空度を手で低減しないとき、検査生体に対して危険が生じることを意味する。第２の場合吸盤の所望しない落下を来すことがある。パルス形動作形式の欠点は、複数の電流回路の場合殊に、これら電流回路において電極と皮膚との間の接触抵抗が脈動リズム（パルスリズム）で同相に変化することである。つまりこの場合このリズムで不都合なことに同相の電流強度変化、殊に上昇を来す。一方パルスマッサージに伴って電流強度が変化することも不都合である。上記の接触抵抗の変化は、電流源と結び付いた危険および欠点を排除するために、有利にも電気治療法において使用される電圧源を処理回路に使用した際に生じる。さらには上記公知の装置では、脈動すなわちパルス作動において給気の際失われる必要な真空を４つすべての吸盤において発生するために、比較的大きな、したがって騒音の大きい、高価なポンプ装置が必要である。

【０００４】したがって本考案の課題は、上に挙げた欠点を回避すること、すなわちポンプをより小さく、したがってより静かなポンプを使用して、吸着ヘッドの当て付けが容易になりかつ検査生体に対する危険並びに吸盤の落下が回避されるようにした、冒頭に述べた形式の装置を提供することである。さらに吸盤を少なくとも対毎に真空排気するかないし給気するかし、その際一度発生した真空を再び利用するような比較的多数の変形を行うことができるようにしたい。

【０００５】

【課題点を解決するための手段】

本考案によれば上記課題は冒頭に述べた形式の装置において、次のような特徴事項によって解決される。すなわち吸盤に弁が、少なくとも２つの吸盤において真空が発生ないし高められ、一方別の２つの吸盤において真空が解除ないし低減されるように対応して配置しかつ前記弁を制御可能とする制御ユニットを設ける。さらに本考案によれば吸盤内の真空度が上昇した場合、同じ電流回路の電極を備えている、別の吸盤における真空度が相応に低減され、その結果同じ電流回路の電極それぞれと皮膚との間の両方の接触抵抗の和は実質的に一定に維持される。

【０００６】

【考案の作用】

本考案によれば、従来必要であったものより小さいポンプの使用が可能になる。というのはポンプは吸盤の一部分にしか真空を同時に発生する必要がないからであり、存在するすべての吸盤において発生する必要がないからである。ポンプは磁石弁を介して前以って決められた所望の方法において、例えば順次ないし少なくとも対毎に吸盤に接続される。同様にして吸盤は前以って決められた方法で給気される。このために別の実施例によれば、吸盤に対する給気用に導管に弁が設けられている。有利な実施例によれば弁は順次制御可能であり、その際殊に吸盤は順次真空ポンプに接続可能である。吸盤は順次連続的にポンプに接続される。したがって吸盤は相互に何の影響も有さずかつ当て着けられる電極または引き離される吸盤の数に無関係に、ポンプの出力が僅かな場合にも従来の実施例に比べると申し分なくくっつく。

【０００７】別の実施例によれば、第１電流回路の電極を備えた、複数の吸盤における真空度が上昇した際別の電流回路の電極を備えた吸盤における真空度の低減が行われ、その結果これにより生じる、それぞれの電極と皮膚との間の接触抵抗の変化によって２つの電流回路における強度の反対方向の変化が惹き起こされる。例えば、療法に対して所望の、所定の作用を得るために、この種の反対方向の強度変化が電子的に発生される、干渉電流装置が公知である。

【０００８】種々異なった吸盤の電磁弁を介した制御は、干渉電流装置との協働において、複数の回路において反対方向に変化する電流強度の増幅作用が生じるように行うことができる。すなわち真空度の変化および電流強度の変化は、おのおのの処理回路において同方向において実現され、その結果効果は増強される。有利な実施例によれば、装置は脈動リズムの周波数および位相に関する干渉電流装置と協働して、干渉電流装置の２つの電流回路に生じる強度変化によって調整可能であるようになっている。別の実施例は、吸盤が相互にだけ接続可能であるという特徴を有している。これによって真空化、すなわち吸盤への一層高い真空化と環境による給気との間に中間相が導入され、一方４つすべての吸盤は相互間でのみ接続され、給気装置には接続されない。これにより給気すべき吸盤は、排気すべき吸盤から空気を吸込む。この実施例において、ポンプの出力を一層低減することが可能になる。

【０００９】本考案の別の利点および特徴は、その他の請求項に記載されており、以下の説明からも明らかである。

【００１０】

【実施例】

次に本考案を図示の実施例につき図面を用いて詳細に説明する。

【００１１】図１に図示の本考案の装置１は、真空部２、電子部３および図示の実施例では電子部３に対応して配属されている、干渉電流部４を有する。その際電子部はアナログまたはデジタル形式に構成することができかつ殊にマイクロプロセッサおよび所属の接続および揮発性メモリを有することができる。真空部２は、真空ポンプ６、給気装置７および機械的に作用する真空終値調整設定装置８から成る。

【００１２】真空ポンプ６は図示の実施例において集合導管１６並びに個別の吸盤１１ないし１４に対応して配設されている分岐導管１１．１′ないし１４．１′およびそれぞれこれら分岐導管１１．１′ないし１４．１′に配設されている弁１１．１ないし１４．１を介して全部で４つの吸盤１１ないし１４に空圧的に接続されている。弁１１．１ないし１４．１は制御線路２１．１ないし２４．１を介して電子部、すなわち制御部３の電子制御システム２６によって制御もしくは操作される。その他図１の空気圧弁または真空導管は実線で示されており、一方電気的な線路は破線で示されている。集合導管１６に、真空値変換器１７が接続されており、この変換器は真空集合導管１６にその都度存在する真空度を電子的な制御システム２６に伝達する。

【００１３】吸盤１１ないし１４の、分岐導管１１．１′ないし１４．１′を介した真空ポンプとの接続の他に、おのおのの吸盤１１ないし１４はそれぞれ弁１１．２ないし１４．２が配設されている分岐導管１１．２′ないし１４．２′並びに共通の集合導管１８およびこの導管に設けられている、電子的な制御システム２６によって制御可能な換気弁１９を介して給気装置７に接続されている。真空値調整設定装置８並びに給気装置７は、後者は電子的な制御システム２６によって制御可能な連続的にないし別個に調整設定可能な調整素子２０を介してだが、真空集合導管１６に接続されている。電子的な制御システムには、入力ユニット２７が対応して配属されている。入力ユニットによって本考案の装置の種々の作用経過を調整設定するか、または前以って定めることができる。

【００１４】図示の実施例において個別の吸盤１１ないし１４は干渉電流装置４の電極３１ないし３４を有する。電極はそれぞれ電気線路４８ないし５１を介してこの干渉電流装置に接続されている。この種の干渉電流装置４は少なくとも２つの異なった電流回路４６，４７を有する。図示の実施例において吸盤１１，１２における電極３１，３２は出力分岐または出力回路４６の電極でありかつ吸盤１３，１４の電極３３，３４は回路４７の電極である。通例２つの回路４６，４７は装置において電流的に分離されておりかつ周波数に関して前以って決められた周波数差異を有し、この差によって電極が当て付けられた際に２つの回路の電流の重畳によって生体にうなりが生じる。その際周波数差は固定としてもよいしまたは所定のように可変とすることができる。しかし電流的な分離の代わりに、電流的な結合を行うことも公知であり、その際例えば部分電極を設けることができ、そのうちの１つが２つの回路に対応して配属されている。数個の回路、したがって多数の吸盤の使用も考えられる。

【００１５】ところで本考案の装置は次のように動作し、その際個々のクロック時間における調整部材の状態が示されている表１を用いて説明する。

【００１６】

【表１】

【００１７】表１において、各記号は次の意味を表わしている：ｔ_i−時点０−弁は遮断されている１−弁は開放されているｘ−調整部材は、真空度終値予設定に相応して条件付きで、開放されている。

【００１８】使用の専門用語に対してさらに、次のことを決めておく。すなわち一義性の理由から、個別流体導管が遮断されているかまたは通路が開放されているかどうか、それに相応して短時間遮断ないし開放される弁ないし調整機構が応動することを問題にする。この場合調整機構を切換える電気的な切換回路の切換状態は、問題にしない。例えば真空ポンプによって集合導管１６に前以って決められた固定値の真空度にされる。第１の動作態様（固定真空度）において弁１１．１ないし１４．１は電子制御システム２６によって順次開放され、したがって順次に吸盤３１ないし３４は真空ポンプに接続される。このことは図１および表１に示されている通りである。時点ｔ₁において弁１１．１は開放されており、したがって吸盤１１が真空ポンプ６に接続されており、時点ｔ₂においてこのことは弁１２．１したがって吸盤１２に対して当て嵌まり、このことは時点ｔ₅で再び弁１１．１が開放され、したがって吸盤１１が真空ポンプに接続されるように、循環的に繰返される。その際表１において“０”は、弁が閉じている、すなわち遮断されていることを意味し、“１”は、その都度弁が開放されている、すなわちその都度導管における通路を開放することを意味している。その際ｔ_iは、所定の持続時間を表わすその都度の時点を理想的に示す。調整部材２０における記号“ｘ ”は、この部材が前以って決められた最大真空度に相応して調整設定されていることを示している。その際真空度終値は、電子制御システム２６からのデータ入力を介して調整部材２０によって定められるのではなく、付加的に機械的な真空度終値調節装置によって定めることができる。図１に関連した表１からわかるように、この動作態様ではすべての時点において弁１１．２ないし１４．２は閉じられている。すなわちこれら弁は相互に接続されている導管１１．２′ないし１４．２′を遮断している。本考案のこの動作態様によって、吸盤が相互に直接影響を及ぼし合わずかつさらに公知の実施例に比べてポンプの出力が小さい場合も当て付けられる吸盤または引き離される吸盤の数に無関係に申し分なく吸いつくようにすることが可能になる。すなわちこの動作態様において設けられた４つの全部の吸盤を生体に当て付けず、そのうち２つまたは３つだけを当て付けるようにすることもできる。

【００１９】別の動作態様において（脈動真空）、第１時相ｔ₁において弁１１．１，１２．２，１３．１および１４．２が開放され、一方弁１１．２，１２．１，１３．２および１４．１は遮断状態にとどまる。これにより、第１電流回路に対応して配属されている吸盤１１および第２電流回路４７に対応して配属されている吸盤１３から空気が排気され、一方同時に第１電流回路４６に対応して配属されている吸盤１２および第２電流回路４７に対応して配属されている吸盤１４が給気される。第２時相ｔ₂において弁１１．１ないし１４．１および１９が遮断され、弁１１．２ないし１４．２は同時に開放され、その結果全部の吸盤１１ないし１４は真空ポンプ６から切離されるが、吸盤１１ないし１４は相互に分岐導管１１．２′ないし１４．２′および集合導管１８を介して接続され、その際同時に弁１９の遮断により給気装置に対する切離しが生じる。したがってすべての吸盤において真空度の均衡が計られる。第３時相ｔ₃において弁１１．２，１２．１，１３．２，１４．１並びに１９が開放されかつ弁１１．１，１２．２，１３．１および１４．２が遮断され、その結果電流回路４６の吸盤１１および電流回路４７の吸盤１３は、給気装置７を介して給気され、一方電流回路４６の吸盤１２および電流回路４７の吸盤１４は集合導管１６を介して真空ポンプ６に接続されている。第４時相ｔ₄は、第２時相ｔ₂に相応し、一方第５時相ｔ₅においてｔ₁からの最初の経過が繰返される。この動作態様において脈動変化する真空化は２つの回路の電流に何らの影響も及ぼさない。というのは同じ電流回路のそれぞれの電極と皮膚との間の２つの接触抵抗の和は一定にとどまりかつなお２つの電流回路における接触抵抗の和は同時に電気療法が実施されている際に同じ値を維持する。

【００２０】図１に関する表１の脈動真空化ＩＩに別の動作態様が示されている。この動作態様は例えば干渉電流療法に対する中心周波数電流の使用の際に有利である。この場合第１の時点ｔ₁において、スイッチ１１．１および１２．１が開放され、第１電流回路４６に対応して配属されている２つの吸盤１１，１２は真空ポンプ６に接続されており、一方対応して配属している弁１１．２および１２．２は遮断している。時点ｔ₂ないしｔ₄において弁１１．１および１２．１が遮断されかつ弁１１．２および１２．２が開放され、その結果第１電流回路４６に対応して配属する吸盤１１，１２は給気され、一方時点ｔ₅における接続は再び時点ｔ₁における状態と一致する。ｔ₆以下も同様に繰返される。同じ電流回路４６に対応して配属する２つの吸盤１１，１２におけるこの同方向に脈動する真空化によって、電極３１，３２と皮膚との間のそれぞれの接触抵抗の和、ひいてはこの分岐から人体に供給される電流の強度は周期的に変化する。

【００２１】相応のやり方で、回路４７の電極３３，３４と皮膚との間のそれぞれの接触抵抗の和は周期的に変化し、その際この場合は時点ｔ₁で真空ポンプ６から到来する導管内に配置されている弁１３．１および１４．１が遮断されており、給気弁１３．２，１４．２は開放されているが、時点ｔ₃において弁１３．１および１４．１は開放され、したがって吸盤１３，１４は真空ポンプ６に接続されており、その際給気弁１３．２および１４．２は遮断されている。中間時点ｔ₂およびｔ₄において第２電流回路４７に対応して配属された吸盤１３，１４に所属する弁の切換状態は電流回路４６に対応して配属する吸盤１１．１２に所属する弁に相応する。したがって第２電流回路４７における、電極３３，３４と皮膚との間のそれぞれの接触抵抗の和は、電流回路４６における変化とは反対方向に変化する。すなわち時点ｔ₁，ｔ₅において電流回路４６における接触抵抗は最小でありかつ電流回路４７における接触抵抗は最大であるが、このことは時点ｔ₃においてまさしく反対となる。時点ｔ₂，ｔ₄では平衡状態が生じる。これに応じて給気弁１９も時点ｔ₁，ｔ₃，ｔ₅において開放され、これにより吸盤１３，１４の給気（時点ｔ₁，ｔ₅）など吸盤１１．１２の給気（ｔ₃）を行うことができ、一方給気弁１９は時点ｔ₂およびｔ₄において遮断されており、そこでは全部の吸盤１１ないし１４間で真空度の平衡状態が生じるようになっている。

【００２２】既述のように、これまで説明してきた動作態様において、そこで異なった回路において一時的に変化する、電極と皮膚との間の接触抵抗を利用して２つの電流回路において一時的な電流強度変化が惹起される。

【００２３】図２および図３において、本考案の装置の別の実施例が原理的にわかるように略示されている。その際簡単にする理由から一方において弁の制御のための電子部分および他方において必要に応じて電流療法に対する電子部分は省略されている。図１の要素と一致する部分には同じ番号を使用している。

【００２４】図２において吸盤１１ないし１４は、弁１１．０ないし１４．０が配設されている相応の流体導管１１′−１４′に接続されている。吸盤１１，１２，１３，１４は相応に弁１１および３７，１２および３７，１３および３８，１４および３８を介してポンプ６と接続可能である。さらに吸盤１１，１２，１３，１４は同様弁１１および３６，１２および３６，１３および３９，１４および３９を介して給気装置７に接続可能である。一方における２つの吸盤１１，１２および他方における吸盤１３，１４の２つの分岐は、弁３５を介して、場合により圧力平衡を行うために相互に接続可能である。ポンプ６は図１の実施例と類似して調整弁２０を介して次のときに給気装置に接続することができる。それは例えばポンプの真空出力とは異なった、最大真空度より僅かな真空度を調整設定すべきときである。弁２０は、開閉弁として構成することができる。図２の実施例の作用経過が少しだけ表２に示されている。

【００２５】

【表２】

【００２６】例えば時点ｔ₁において弁１１．０および弁３７が閉じることができ、その結果吸盤１１はポンプ６によって負圧にされ、したがって例えば患者の人体に容易に載置することができる。過大なポンプ出力を必要としない、或いはこの時点における吸盤１１における負圧が不足することがないように、弁１２．０は遮断されなければならない。同じことは弁３５，３６および３８に対して当て嵌まり、一方弁１３．０，１４．０および３９の位置は強制的ではなく、むしろ相応の吸盤１３，１４が場合に応じてその前に形成された真空度を維持するかまたは給気されるべきかに依存している。この場合弁１３．０および１４．０は遮断していると見做され、これは弁がその前に形成された真空度を保持することである。同じことは、弁１３．０および１４．０が開放されているときも生じるが、例えばこの場合開放することができる弁３９は閉じることになる。

【００２７】時点ｔ₂において吸盤１２は開放された弁１２．０および３７を介してポンプに接続されておりかつ排気され、一方遮断された弁１１．０によって吸盤１１における真空が保持される。時点ｔ₃およびｔ₄においては弁１３．０ないし１４．０により開放された弁３８との組合せにおいて相応のことが生じる。弁２０は調整弁として最大の負圧を定めることができる。

【００２８】表２からさらに明らかである脈動真空は、吸盤１１，１２が電流回路の電極を有するとき、表１から明らかな脈動真空ＩＩに実質的に相応する。吸盤１１，１３が共通の電流回路の電極を有しかつ相応に吸盤１２，１４が別の電流回路の電極を有するとき、状態は表１の脈動真空Ｉに相応して設定される。表２からわかるように、この動作態様において吸盤１１ないし１４に対応して配属する全部の弁１１．０ないし１４．０が開放されかつ制御は弁３５ないし３９の切換によってのみ行われる。時点ｔ₁において吸盤１１，１２は弁３７を介してポンプ６に接続され、一方吸盤１３，１４は弁３９を介して給気される。時点ｔ₂において全部の吸盤間の圧力平衡が生じる。時点ｔ₃において弁３６を介して吸盤１１，１２が給気され、一方吸盤１３，１４は弁３８を介して弁６に接続される。時点ｔ₄において再び全部の吸盤間の圧力平衡が生じ、以下同様に繰返される。この場合も弁２０は調整弁として最大の負圧を定めることができる。

【００２９】図３の実施例において再びそれぞれの吸着ヘッド１１ないし１４は弁１１．０ないし１４．０を介してポンプに共通に導かれている導管の分岐路１６に接続されている。それぞれ２つの吸着ヘッド１１ないし１４の間に、圧力均衡弁４１ないし４３が配設されている。給気装置７に通じている導管には、給気弁４４，４５が設けられている。

【００３０】この実施例では第１の切換過程において、時点ｔ₁で弁１１．０を開放し、時点ｔ₂で弁１２．０を開放し、時点ｔ₃で弁１３．０を開放し、時点ｔ₄で弁１４．０を開放し、一方（表１の“固定真空”と比較するために）すべて別の弁を遮断することによって、個別の吸着ヘッド１１ないし１４における順次の真空度は図１の実施例の場合と類似している。

【００３１】所謂脈動真空は、表２から明らかである真空度に相応する。時点ｔ₁において吸盤１１，１２は弁１１．０および４１を介してポンプ６に接続され、すなわち排気される。弁１２．０の位置は、それ自体任意である。この弁はこの場合遮断されているものとすれば、この弁を図示の動作態様において弁１４．０と同様に操作することが不要になる。上記時点ｔ₁において吸着ヘッド１３，１４は弁４５および４３を介して給気される。時点ｔ₂において弁４１ないし４３を介して吸着ヘッド１１ないし１４の間に圧力均衡状態が生じ、一方すべての別の弁は遮断されており、その結果吸着ヘッドは全体としてポンプ６からも給気装置からも切離されている。時点ｔ₃において吸着ヘッド１３および１４は弁１３．０，４３を介して接続され、一方吸着ヘッド１１，１２は弁４４を介して給気される。時点ｔ₄において再び時点ｔ₂に相応して圧力平衡が生じる。弁２０に関しては図１および図２との関連において説明したことが当嵌まる。

【００３２】装置的にも、回路的にも必要に応じて勿論多様な変形が可能であるが、所望の動作態様に関しても同じことがいえる。装置構成の具体的な実現にあたって、一方ではどの動作態様が最もひんぱんに生じるかに依存し、他方では総じてどの動作態様が実施されるべきであるかないしどの動作態様を断念することができるかに依存している。しかしあらゆる実施例において共通していることは、従来より著しく小さなポンプ装置によって申し分のない真空を発生することができることである。

【００３３】本考案の装置は図示の実施例に限定されず、多種多様に変形することができる。少なくとも所定の時点においてすべての吸着ヘッドが同時にポンプに接続されていないこと、その結果少なくともこの種の時点において、比較的小さなポンプを用いた技術水準に比べた場合最大の真空度を得ることができる。その際例えば一方の電流回路における接触抵抗の平均の真空度に基づいて平均値に一定に保持されるが、他方の電流回路において周期的に変化する。またこれにより僅かだが最大のうなり（ビート）のストロークの延長を行うことができるようになり、その際その値は同様に周期的に変化する。吸盤の真空度を、電極３１ないし３４を介して加わる電流の強度変化を順次行うようにして制御することもできる。表にはその都度個別値のみが生じるように示されているが、個々の吸盤における連続的な真空度変化を行うこともでき、その際１つの吸盤における真空度の変化の時間は、別の吸盤における例えば一時的な変化にオーバラップすることができる。その際調整部材の制御はアナログおよびデジタルに行うことができ、デジタルの場合例えばマイクロプロセッサを介してメモリに前以って決められている方法において行うことができる。

【００３４】以上の説明、図面並びに実用新案登録請求の範囲に明らかにされた本考案の特徴は、個別にもまた適当な組合せにおいても、本考案を種々の実施例において実現するために重要である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の装置の有利な実施例の概略図である。

【図２】別の実施例を主要なところだけ取り出して示す
概略図である。

【図３】さらに別の実施例を図２に相応して示す概略図
である。

【符号の説明】

１真空発生装置、２真空部、３電子部、４
干渉電流部、６真空部、７給気装置、８真
空度終値設定装置、１１〜１４吸盤ないし吸着ヘッ
ド、１１．０〜１４．０，１１．１〜１４．１，１
１．２〜１４．２，１９，２０，３５，４１〜４３調
整部材、１１．１′〜１４．１′ 接続ないし分岐導
管、１１．２′〜１４．２′ 給気導管、１７真
空値変換器、１８集合導管、２６電子制御シス
テム、２７入力ユニット、３１〜３４電極、４
６，４７電流回路

Claims

【実用新案登録請求の範囲】

【請求項１】少なくとも１つの真空ポンプを用いて、
身体の表面に載置可能な少なくとも２つの吸盤または吸
着ヘッドに真空を発生するための装置において、吸盤
（１１ないし１４）に弁（１１.０ないし１４.０；１
１.１，１１.２ないし１４.１，１４.２）が、少なくと
も２つの吸盤において真空が発生ないし高められ、一方
別の２つの吸盤において真空が解除ないし低減されるよ
うに対応して配属されておりかつ前記弁（１１.０ない
し１４.０，１１.１，１１.２ないし１４.１，１４.
２）を制御可能である制御ユニット（３，２６，２７）
が設けられていることを特徴とする真空発生装置。
【請求項２】おのおのの吸盤に少なくとも１つの弁
（１１.０ないし１４.０，１１.１，１１.２ないし１
４.１，１４.２）が対応して配属されている請求項１記
載の真空発生装置。
【請求項３】吸着ヘッド（１１ないし１４）に少なく
とも１つの複数の弁が対応して配属されている請求項１
または２記載の真空発生装置。
【請求項４】弁（１１.０ないし１４.０；１１.１な
いし１４.１）は、それぞれの吸盤（１１ないし１４）
に通じる真空ポンプ（６）の接続導管（１１.１′ない
し１４.１′）に配設されている請求項１から３までの
いづれか１項記載の真空発生装置。
【請求項５】弁（１１.２ないし１４.２）は、吸着ヘ
ッドに対する給気導管（１１.２′ないし１４.２′）に
設けられている請求項１から４までのいづれか１項記載
の真空発生装置。
【請求項６】おのおのの弁（１１.０ないし１４.０，
１１.１，１１.２ないし１４.１，１４.２）は順次制御
可能である請求項１から５までのいづれか１項記載の真
空発生装置。
【請求項７】吸盤（１１ないし１４）は順次ないし少
なくとも対毎に真空ポンプ（６）に接続可能である請求
項６記載の真空発生装置。
【請求項８】吸盤（１１ないし１４）が少なくとも１
つの電流回路の電極（３１ないし３４）を有しており、
前記少なくとも１つの電流回路において、吸盤（１１）
における真空度の上昇の際同じ電流回路の１つの電極
（３２）を備えている別の吸盤における真空度は相応に
低減され、その結果同じ電流回路の電極それぞれ（３
１，３２）と皮膚との間のそれぞれの２つの接触抵抗の
和が実質的に一定に維持される請求項１記載の真空発生
装置。
【請求項９】吸盤（１１ないし１４）が少なくとも１
つの電流回路の電極（３１ないし３４）を有しており、
その際第１の電流回路（４６）の電極（３１，３２）を
備えている複数の吸盤（１１，１２）における真空度の
上昇の際、別の電流回路（４７）の電極（３３，３４）
を備えている吸盤（１３，１４）における真空度の低減
が生じる請求項８記載の真空発生装置。
【請求項１０】吸盤（１１ないし１４）は弁（１１.
２ないし１４.２；１１.０ないし１４.０，３５；４１
ないし４３）を介して時間的に相互接続可能である請求
項８または９記載の真空発生装置。
【請求項１１】真空発生装置は、周波数および位相に
関する干渉電流装置（４）と協働して、該干渉電流装置
（４）の２つの電流回路（４６，４７）に生じる強度変
化によって調節可能である請求項８から１０までのいづ
れか１項記載の真空発生装置。
【請求項１２】弁は、多路弁を有する請求項８から１
１までのいづれか１項記載の真空発生装置。