JPH06267125A - Magneto-optical recording medium - Google Patents

Magneto-optical recording medium

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JPH06267125A
JPH06267125A JP5614793A JP5614793A JPH06267125A JP H06267125 A JPH06267125 A JP H06267125A JP 5614793 A JP5614793 A JP 5614793A JP 5614793 A JP5614793 A JP 5614793A JP H06267125 A JPH06267125 A JP H06267125A
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JP
Japan
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magnetization
layer
film
magneto
temperature
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP5614793A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsutomu Tanaka
努 田中
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH06267125A publication Critical patent/JPH06267125A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To make possible optically modulated overwriting in a magneto-optical recording medium in a perfectly no magnetic field. CONSTITUTION:This magneto-optical recording medium has a memory layer 15, a bias layer 19 generating a levitating magnetic field and an initialized layer 23. The bias layer 19 is a TbFeCo film 20 having a compsn. ratio determined so as to regulate the compensation temp. to room temp. or below. The memory layer 15 is a DyFeCo film 16 having a compsn. ratio determined so as to regulate the compensation temp. to room temp. or below.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は光磁気記録媒体に係り、
特に光変調オーバライトに適用しうる光磁気記録媒体に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magneto-optical recording medium,
In particular, it relates to a magneto-optical recording medium applicable to optical modulation overwrite.

【0002】光変調オーバライト時、光磁気記録媒体の
磁性層は、レーザ光を照射されてキュリー温度まで一時
的に加熱され、その後、室温まで冷却される。
During optical modulation overwrite, the magnetic layer of the magneto-optical recording medium is irradiated with laser light to be temporarily heated to the Curie temperature and then cooled to room temperature.

【0003】このため、光磁気記録媒体においては、記
録特性を上げるために各磁性層の材料が重要である他
に、上記の室温へ冷却する関係から、補償温度が重要と
なる。
Therefore, in the magneto-optical recording medium, the material of each magnetic layer is important in order to improve the recording characteristics, and the compensation temperature is important because it is cooled to room temperature.

【0004】ここで、補償温度とは、磁性層の組成のう
ち遷移金属成分(Fe,Co等)の磁化の大きさと、希
土類金属成分(Dy等)の磁化の大きさとが等しく、み
かけ上、磁性層の磁化が消失しているときの温度をい
う。
Here, the compensation temperature means that the magnitude of magnetization of the transition metal component (Fe, Co, etc.) and the magnitude of magnetization of the rare earth metal component (Dy, etc.) in the composition of the magnetic layer are equal, and apparently, The temperature at which the magnetization of the magnetic layer disappears.

【0005】[0005]

【従来の技術】従来、記録再生のためのメモリ層、記録
のための浮遊磁場を発生させるバイアス層と、バイアス
層を初期化する初期化層とを有し、外部磁場を必要とせ
ずに光変調オーバライトを可能とした光磁気記録媒体
が、例えば特開平3−156751等により提案されて
いる。
2. Description of the Related Art Conventionally, a memory layer for recording / reproducing, a bias layer for generating a stray magnetic field for recording, and an initialization layer for initializing the bias layer are provided, and an optical field without an external magnetic field is required. A magneto-optical recording medium capable of modulation overwrite has been proposed by, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 3-156751.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のものに
あっては、補償温度については考慮されていず、場合に
よっては、光変調オーバライトが正常に行われない虞れ
もあった。
However, in the conventional device, the compensation temperature is not taken into consideration, and in some cases, the light modulation overwrite may not be normally performed.

【0007】そこで、本発明は、磁性層を補償温度につ
いて配慮した構成として、完全無磁場光変調オーバライ
トを正常に行いうるようにしたことを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to make the magnetic layer a structure in consideration of the compensation temperature so that the complete magnetic field-free optical modulation overwrite can be normally performed.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、垂直
磁気異方性を有し、且つ室温以下に補償温度を有する組
成である希土類−遷移金属製薄膜よりなる記録/再生の
ためのメモリ層と、垂直磁気異方性を有し、且つ室温以
下に補償温度を有する組成である希土類−遷移金属製薄
膜よりなり、上記メモリ層と交換結合しており、記録の
ための浮遊磁場を発生するバイアス層と、垂直磁気異方
性を有し、且つ記録再生、消去の場合にレーザ光を照射
されたときに、磁化の向きが反転しない組成である希土
類−遷移金属製薄膜よりなり、上記バイアス層と交換結
合しており、上記バイアス層を初期化するための初期化
層とよりなる構成としたものである。
According to the invention of claim 1, there is provided a recording / reproducing device comprising a rare earth-transition metal thin film having a composition having perpendicular magnetic anisotropy and having a compensation temperature below room temperature. It is composed of a memory layer and a rare earth-transition metal thin film having a composition having perpendicular magnetic anisotropy and having a compensation temperature at room temperature or lower, and exchange-coupled with the memory layer to prevent a stray magnetic field for recording. A bias layer to be generated, and having a perpendicular magnetic anisotropy, and when recording / reproducing, when irradiated with a laser beam in the case of erasing, is composed of a rare earth-transition metal thin film whose composition does not reverse the direction of magnetization. The bias layer is exchange-coupled with the bias layer and has a structure including an initialization layer for initializing the bias layer.

【0009】請求項2の発明は、垂直磁気異方性を有
し、且つ室温以上に補償温度を有する組成である希土類
−遷移金属製薄膜よりなる記録/再生のためのメモリ層
と、垂直磁気異方性を有し、且つ室温以下に補償温度を
有する組成である希土類−遷移金属製薄膜よりなり、上
記メモリ層と交換結合しており、記録のための浮遊磁場
を発生するバイアス層と、垂直磁気異方性を有し、且つ
記録再生、消去の場合にレーザ光を照射されたときに、
磁化の向きに反転しない組成である希土類−遷移金属製
薄膜よりなり、上記バイアス層と交換結合しており、上
記バイアス層を初期化するための初期化層とよりなる構
成としたものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a memory layer for recording / reproducing comprising a rare earth-transition metal thin film having a composition having perpendicular magnetic anisotropy and having a compensation temperature above room temperature, and a perpendicular magnetic layer. Rare earth having a composition having anisotropy and having a compensation temperature below room temperature-consisting of a transition metal thin film, exchange-coupled with the memory layer, and a bias layer for generating a stray magnetic field for recording, It has perpendicular magnetic anisotropy, and when irradiated with laser light for recording / reproducing and erasing,
It is composed of a rare earth-transition metal thin film having a composition that does not reverse in the direction of magnetization, is exchange-coupled with the bias layer, and has an initialization layer for initializing the bias layer.

【0010】請求項3の発明は、バイアス層は、TbF
eCo膜又はGdTbFeCo膜である構成としたもの
である。
According to the invention of claim 3, the bias layer is made of TbF.
The structure is an eCo film or a GdTbFeCo film.

【0011】請求項4の発明は、メモリ層は、DyFe
Co膜又はGdDyFeCo膜である構成としたもので
ある。
According to a fourth aspect of the invention, the memory layer is DyFe.
The structure is a Co film or a GdDyFeCo film.

【0012】[0012]

【作用】請求項1のバイアス層を補償温度を室温以下に
有する組成とすると共に、メモリ層も補償温度を室温以
下に有する組成とした構成は、バイアス層から発生して
バイアス層のうちレーザ光によって加熱された部分に作
用する浮遊磁場の方向が、メモリ層の磁化の方向と逆向
きとなるように作用すると共に、室温への冷却過程にお
いて、メモリ層のうちレーザ光によって加熱された部分
の磁化の方向が反転しないように作用する。
According to a first aspect of the present invention, the bias layer has a composition having a compensation temperature below room temperature and the memory layer has a composition having a compensation temperature below room temperature. The direction of the stray magnetic field acting on the part heated by the magnetic field acts in the direction opposite to the direction of the magnetization of the memory layer, and during the cooling process to room temperature, the part of the memory layer heated by the laser beam is heated. It acts so that the direction of magnetization is not reversed.

【0013】即ち、レーザ光によって加熱され、その
後、室温にまで冷却された状態において、メモリ層のう
ちレーザ光が照射した部分の磁化の方向を、レーザ光が
照射されない部分の磁化の方向とは反対向きとするよう
に作用する。
That is, the direction of magnetization of the portion of the memory layer that is not irradiated with the laser light is the direction of magnetization of the portion of the memory layer that is irradiated with the laser light when it is heated to the room temperature and then cooled to room temperature. It works in the opposite direction.

【0014】請求項2のバイアス層を補償温度を室温以
下に有する組成とすると共に、メモリ層も補償温度を室
温以上に有する組成とした構成は、バイアス層から発生
してバイアス層のうちレーザ光によって加熱された部分
に作用する浮遊磁場の方向が、メモリ層の磁化の方向と
同じ向きとなるように作用すると共に、室温への冷却過
程において、メモリ層のうちレーザ光によって加熱され
た部分の磁化の方向が反転するように作用する。
According to a second aspect of the present invention, the bias layer has a composition having a compensation temperature below room temperature and the memory layer has a composition having a compensation temperature above room temperature. The stray magnetic field acting on the part heated by the magnetic field acts in the same direction as the magnetization direction of the memory layer, and in the cooling process to room temperature, the part of the memory layer heated by the laser beam is heated. It acts so that the direction of magnetization is reversed.

【0015】即ち、レーザ光によって加熱され、その
後、室温にまで冷却された状態において、メモリ層のう
ちレーザ光が照射した部分の磁化の方向を、レーザ光が
照射されない部分の磁化の方向とは反対向きとするよう
に作用する。
That is, the direction of magnetization of the portion of the memory layer which is not irradiated with the laser light is the direction of magnetization of the portion of the memory layer which is irradiated with the laser light in the state where the memory layer is heated to the room temperature and then cooled to room temperature. It works in the opposite direction.

【0016】請求項3のバイアス層をTbFeCo膜又
はGdTbFeCo膜により形成した構成は、バイアス
層が250Oe程度と大きい浮遊磁場を形成するように
作用する。
In the structure in which the bias layer of claim 3 is formed of the TbFeCo film or the GdTbFeCo film, the bias layer acts so as to form a large stray magnetic field of about 250 Oe.

【0017】請求項4のメモリ層をDyFeCo膜又は
GdDyFeCo膜により形成した構成は、メモリ層が
確実に垂直磁気異方性を有するように作用する。
In the structure in which the memory layer of claim 4 is formed of the DyFeCo film or the GdDyFeCo film, the memory layer surely has the perpendicular magnetic anisotropy.

【0018】[0018]

【実施例】図1は本発明の第1実施例になる光磁気記録
媒体10を示す。
1 shows a magneto-optical recording medium 10 according to a first embodiment of the present invention.

【0019】光磁気記録媒体10は、レーザ光11が入
射する側に基板12を有し、基板12の下面に、順に、
保護層13としてのTb−SiO2 膜14,メモリ層1
5としての膜厚t1 =50nmであり、垂直磁気異方性を
有するDyFeCo膜16,制御層17としての膜厚t
2 =10nmのGdFeCo膜18,バイアス層19とし
ての膜厚t3 =150nmであり、垂直磁気異方性を有す
るTbFeCo膜20,制御層21としての膜厚t4
10nmのTbFeCo膜22,初期化層23としての膜
厚t5 =80nmであり、垂直磁気異方性を有するTbC
o膜24,及び保護層25としてのTb−SiO2 膜2
6が積層された構造を有する。
The magneto-optical recording medium 10 has a substrate 12 on the side on which the laser light 11 is incident, and on the lower surface of the substrate 12, in order,
Tb—SiO 2 film 14 as protective layer 13, memory layer 1
5, the film thickness t 1 = 50 nm, and the film thickness t as the DyFeCo film 16 and the control layer 17 having perpendicular magnetic anisotropy.
The film thickness t 3 = 150 nm as the GdFeCo film 18 and the bias layer 19 of 2 = 10 nm, and the film thickness t 4 = as the TbFeCo film 20 having the perpendicular magnetic anisotropy and the control layer 21.
A TbFeCo film 22 having a thickness of 10 nm, a film thickness t 5 = 80 nm as the initialization layer 23, and TbC having a perpendicular magnetic anisotropy.
o film 24 and Tb—SiO 2 film 2 as protective layer 25
6 has a laminated structure.

【0020】メモリ層15は、記録/再生のための層で
ある。
The memory layer 15 is a layer for recording / reproducing.

【0021】バイアス層19は、記録のための浮遊磁場
を発生する。
The bias layer 19 generates a stray magnetic field for recording.

【0022】初期化層23は、バイアス層19を初期化
させる。
The initialization layer 23 initializes the bias layer 19.

【0023】制御層17は、メモリ層15とバイアス層
19との間の交換結合力を制御する。
The control layer 17 controls the exchange coupling force between the memory layer 15 and the bias layer 19.

【0024】制御層21は、バイアス層15と初期化層
23との間の交換結合力を制御する。
The control layer 21 controls the exchange coupling force between the bias layer 15 and the initialization layer 23.

【0025】ここで、説明の便宜上、希土類金属と、遷
移金属とを有する組成を有する材料の磁化について説明
する。
For convenience of explanation, the magnetization of a material having a composition containing a rare earth metal and a transition metal will be described.

【0026】遷移金属成分の磁化のことを「T磁化」と
呼び、希土類金属成分の磁化のことを「R磁化」と呼
ぶ。T磁化の向きとR磁化の向きとは、互いに逆向きで
あり、ここでは、T磁化が上向き(+),R磁化が下向
き(−)とする。
The magnetization of the transition metal component is called "T magnetization", and the magnetization of the rare earth metal component is called "R magnetization". The directions of T magnetization and R magnetization are opposite to each other, and here, T magnetization is upward (+) and R magnetization is downward (-).

【0027】また、T磁化とR磁化を合わせた全体の磁
化を「N磁化」と呼ぶ。 補償温度について、 T磁化とR磁化の大きさが等しい温度が補償温度であ
る。
The total magnetization of T magnetization and R magnetization is called "N magnetization". Regarding the compensation temperature, the temperature at which the T magnetization and the R magnetization have the same magnitude is the compensation temperature.

【0028】遷移金属成分をリッチとすると、材料は補
償温度を有するようになる。
When the transition metal component is rich, the material has a compensation temperature.

【0029】希土類金属成分をリッチとすると、材料は
補償温度を有しないようになる。
When the rare earth metal component is rich, the material has no compensation temperature.

【0030】又、遷移金属成分のリッチの度合が小さい
場合には、補償温度は室温(25℃)よりも高い温度と
なる。
When the degree of richness of the transition metal component is small, the compensation temperature is higher than room temperature (25 ° C.).

【0031】遷移金属成分のリッチの度合が増えるにつ
れて、補償温度は下がる。
As the degree of richness of the transition metal component increases, the compensation temperature decreases.

【0032】従って、希土類金属成分と遷移金属成分と
の比率を適宜定めることにより、補償温度を適宜定める
ことが出来る。 N磁化の温度依存性について、 材料の温度がキュリー温度に近づくと、T磁化、R磁化
共に小さくなる。
Therefore, the compensation temperature can be appropriately determined by appropriately determining the ratio of the rare earth metal component and the transition metal component. Regarding the temperature dependence of N magnetization, as the material temperature approaches the Curie temperature, both T magnetization and R magnetization become smaller.

【0033】材料の温度が補償温度より低いときには、
R磁化が大きく、T磁化が小さく、よってN磁化は下向
きである。
When the temperature of the material is below the compensation temperature,
The R magnetization is large and the T magnetization is small, so the N magnetization is downward.

【0034】材料の温度が補償温度より高いときには、
T磁化が大きく、R磁化が小さく、よってN磁化は上向
きである。
When the temperature of the material is higher than the compensation temperature,
The T magnetization is large and the R magnetization is small, so the N magnetization is upward.

【0035】従って、補償温度Tcompが室温Troomより
低い材料のN磁化は、温度の変化によって、図2中、線
Iで示す如くに変化する。
Therefore, the N magnetization of the material having the compensation temperature T comp lower than the room temperature T room changes as shown by the line I in FIG. 2 due to the temperature change.

【0036】補償温度Tcompが室温Troomより高い材料
のN磁化は、温度の変化によって、図3中、線IIで示す
如くに変化する。
The N magnetization of the material having the compensation temperature T comp higher than the room temperature T room changes as the temperature changes, as shown by the line II in FIG.

【0037】次に、図1の光磁気記録媒体10を構成す
る層及び膜の磁気特性について説明する。 メモリ層15としてのDyFeCo膜16 キュリー温度TC は180℃である。
Next, the magnetic characteristics of the layers and films constituting the magneto-optical recording medium 10 of FIG. 1 will be described. The Curie temperature T C of the DyFeCo film 16 as the memory layer 15 is 180 ° C.

【0038】DyFeCo膜16は、遷移金属であるF
e,Coが希土類金属であるDyに比べて相当にリッチ
である組成(TMリッチの組成)としてあり、補償温度
co mpは、室温Troom(25℃)より低い。
The DyFeCo film 16 is made of F which is a transition metal.
e, Co is located as considerably composition is rich (TM-rich composition) in comparison to Dy is a rare earth metal, the compensation temperature T co mp is lower than the room temperature T room (25 ℃).

【0039】従って、DyFeCo膜16の磁化は、温
度に応じて、図4の線III で示すように変化する。 バイアス層19としてのTbFeCo膜20 キュリー温度TC は、220℃である。
Therefore, the magnetization of the DyFeCo film 16 changes depending on the temperature as shown by the line III in FIG. The Curie temperature T C of the TbFeCo film 20 as the bias layer 19 is 220 ° C.

【0040】TbFeCo膜20は、遷移金属であるF
e,Coが希土類金属であるTbに比べて相当にリッチ
である組成(TMリッチの組成)としてあり、補償温度
co mpは、室温Troomより低い。
The TbFeCo film 20 is formed of F which is a transition metal.
e, Co is located as considerably composition is rich (TM-rich composition) in comparison with Tb is a rare earth metal, the compensation temperature T co mp is lower than the room temperature T room room.

【0041】従って、TbFeCo膜20の磁化にも、
温度に応じて、図4の線IVで示す如くに変化する。
Therefore, even in the magnetization of the TbFeCo film 20,
Depending on the temperature, it changes as shown by the line IV in FIG.

【0042】キュリー温度TC は220℃であり、上記
の膜16のキュリー温度TC =180℃より高い。この
ため、温度180℃においても、膜20は磁化Aを有し
ている。
The Curie temperature T C is 220 ° C., which is higher than the Curie temperature T C = 180 ° C. of the film 16 described above. Therefore, the film 20 has the magnetization A even at the temperature of 180 ° C.

【0043】このため、180℃の高温時にも、膜20
は、250Oeという十分に大きい浮遊磁場を形成しう
る。 初期化層23としてのTbCo膜24 キュリー温度TC は300℃以上であり、上記の膜1
6,20のキュリー温度TC に比べて相当に高い。
Therefore, even at a high temperature of 180 ° C., the film 20
Can form a sufficiently large stray magnetic field of 250 Oe. The TbCo film 24 as the initializing layer 23 has a Curie temperature T C of 300 ° C. or higher.
It is considerably higher than the Curie temperature T C of 6,20.

【0044】遷移金属であるCoが、希土類金属である
Tbに比べてリッチである組成(TMリッチの組成)と
してあり、補償温度Tcompは、室温Troomより高く、且
つ上記膜16,22のTC に近い温度である200℃で
ある。
The transition metal Co is richer than the rare earth metal Tb (TM rich composition), the compensation temperature T comp is higher than the room temperature T room , and the films 16 and 22 have the same composition. It is 200 ° C., which is a temperature close to T C.

【0045】従って、TbCo膜24の磁化は、温度に
応じて、図4の線Vで示す如くに変化する。
Therefore, the magnetization of the TbCo film 24 changes as shown by the line V in FIG. 4 depending on the temperature.

【0046】このTbCo膜24は、レーザ光を照射さ
れても、磁化の向きが反転することはない。
The direction of magnetization of the TbCo film 24 does not reverse even when irradiated with laser light.

【0047】次に、図1の光磁気記録媒体10に情報が
記録されるときの動作について、図5を参照して説明す
る。
Next, the operation when information is recorded on the magneto-optical recording medium 10 of FIG. 1 will be described with reference to FIG.

【0048】図5中、横が温度を示す。左側が室温T
room,右側がキュリー温度TC を若干超える温度(20
0℃)である。また、上段が加熱過程を示し、下段が冷
却過程を示す。
In FIG. 5, the horizontal axis shows the temperature. Room temperature T on the left
room , the temperature on the right is slightly above the Curie temperature T C (20
0 ° C). The upper part shows the heating process and the lower part shows the cooling process.

【0049】白抜きの矢印は、N磁化の方向と大きさを
示す。
The white arrows indicate the direction and magnitude of N magnetization.

【0050】斜線を付した矢印は、浮遊磁場の磁界の大
きさ及び方向を示す。
The hatched arrows indicate the magnitude and direction of the magnetic field of the stray magnetic field.

【0051】図5(A)は、室温状態にある最初の状態
を示す。メモリ層15,バイアス層19及び初期化層2
3を取り出して示し、制御層17,21は省略してあ
る。
FIG. 5A shows the initial state at room temperature. Memory layer 15, bias layer 19 and initialization layer 2
3 is taken out and shown, and the control layers 17 and 21 are omitted.

【0052】メモリ層15のN磁化30は上向き、バイ
アス層19のN磁化31は上向き、初期化層23のN磁
化32は上向きである。
The N magnetization 30 of the memory layer 15 is upward, the N magnetization 31 of the bias layer 19 is upward, and the N magnetization 32 of the initialization layer 23 is upward.

【0053】初期化層23については、レーザ光を照射
されて加熱された場合でも、N磁化32の向きが反転し
ない組成となっている。このため、初期化層23のN磁
化32は、温度に関係なく、常に上向きで同じ大きさで
示してある。
The initialization layer 23 has such a composition that the direction of the N magnetization 32 is not reversed even when it is heated by being irradiated with laser light. Therefore, the N magnetization 32 of the initialization layer 23 is always shown in the same size in the upward direction regardless of the temperature.

【0054】外部に磁界を発生する手段は有しない。There is no means for generating a magnetic field outside.

【0055】レーザ光11は、図6又は、図7に示すよ
うに光変調されて照射される。
The laser beam 11 is radiated after being modulated as shown in FIG. 6 or 7.

【0056】図6の記録方式は、一般的なものであり、
図7の記録方式は特開平1−119941,特開平1−
119942に示されるものである。
The recording method of FIG. 6 is a general one,
The recording method of FIG. 7 is disclosed in JP-A-1-19941, JP-A-1-
119942.

【0057】レーザ光11が一時的に照射されると、層
15のうちの部分34及び層19のうちの部分35が2
00℃程度にまで加熱され、図5(B)に示す状態とな
る。
When the laser light 11 is temporarily irradiated, the portion 34 of the layer 15 and the portion 35 of the layer 19 are exposed to the light beam.
It is heated to about 00 ° C., and the state shown in FIG.

【0058】即ち、部分34についてはN磁化30が無
くなった状態となる。
That is, in the portion 34, the N magnetization 30 is lost.

【0059】部分35については、N磁化31が無くな
ると共に、層19のうち部分35の周りの加熱されてい
ない部分のN磁化31によって、下向きの浮遊磁場36
が発生する。
In the portion 35, the N magnetization 31 disappears, and the downward stray magnetic field 36 is generated by the N magnetization 31 in the unheated portion of the layer 19 around the portion 35.
Occurs.

【0060】浮遊磁場36の向きである下向きは、層1
9の加熱されていない部分のN磁化31の向きとは反対
である。
In the downward direction, which is the direction of the stray magnetic field 36,
This is opposite to the orientation of the N magnetization 31 of the unheated part of 9.

【0061】浮遊磁場36の強さは250Oeと大き
い。
The strength of the stray magnetic field 36 is as large as 250 Oe.

【0062】レーザ光の照射が断たれると、部分34,
35の温度が低下し、N磁化が徐々に発生する。
When the irradiation of the laser beam is cut off, the parts 34,
The temperature of 35 decreases and N magnetization gradually occurs.

【0063】図5(C)に示すように、まず部分35に
ついてみると、浮遊磁場36と同一方向に揃えられて、
下向きの小さいN磁化37となる。
As shown in FIG. 5C, first, regarding the portion 35, the portion is aligned in the same direction as the stray magnetic field 36,
A small downward N magnetization 37 is obtained.

【0064】部分34についてみると、層19と層15
との間の交換結合力によって、上記小さいN磁化37に
揃えられた、下向きの小さい磁化38となる。
As for the portion 34, the layers 19 and 15
Due to the exchange coupling force between and, the downward small magnetization 38 is aligned with the small N magnetization 37.

【0065】図4中の線IV,III より分かるように、温
度が低下するにつれて、上記の小さいN磁化37,38
は大きくなる。
As can be seen from the lines IV and III in FIG. 4, as the temperature decreases, the above small N magnetizations 37 and 38 are reduced.
Grows.

【0066】室温状態では、図5(D)に示す状態とな
る。
At room temperature, the state shown in FIG.

【0067】メモリ層15についてみると、部分34の
N磁化39は、他の部分のN磁化30とは反対に下向き
となっており、これにより、メモリ層15に情報が記録
された状態となる。
As for the memory layer 15, the N magnetization 39 of the portion 34 is directed downward as opposed to the N magnetization 30 of the other portions, whereby information is recorded in the memory layer 15. .

【0068】バイアス層19についてみると、前記の小
さいN磁化37は大きくなった状態で、層19と層23
との間の交換結合力によって、層23のN磁化32の向
きに揃えられ、部分35は上向きのN磁化40となる。
As for the bias layer 19, the small N magnetization 37 is increased and the layers 19 and 23 are increased.
The exchange coupling force between and aligns the orientation of the N magnetization 32 of the layer 23, and the portion 35 becomes the upward N magnetization 40.

【0069】これにより、光磁気記録媒体10に対し
て、完全無磁場光変調オーバライトが行われたというこ
とになる。
This means that the magneto-optical recording medium 10 was completely overwritten with no magnetic field.

【0070】次に、実際にオーバライトしたときの条件
及びC/Nについて説明する。
Next, the conditions and C / N when actually overwriting will be described.

【0071】光磁気記録媒体10を、線速10m/s で回
転させ、マーク長1.5 μm の信号の上に、マーク長0.8
μm の信号を重ね書きした。
The magneto-optical recording medium 10 was rotated at a linear velocity of 10 m / s, and the mark length of 0.8 μm was applied on the signal of the mark length of 1.5 μm.
The μm signal was overwritten.

【0072】図6の記録方式の場合には、レーザ光の高
パワーは8.5 mW,低パワーは3.5mWに定めた。
In the case of the recording method shown in FIG. 6, the high power of the laser light was set to 8.5 mW and the low power was set to 3.5 mW.

【0073】C/N比は、49.2dBであった。The C / N ratio was 49.2 dB.

【0074】図7の記録方式の場合には、消去部分は9
MHzである。
In the case of the recording method of FIG. 7, the erased portion is 9
MHz.

【0075】C/N比は、49.5dBであった。The C / N ratio was 49.5 dB.

【0076】共に、十分な信号品質を有する。Both have sufficient signal quality.

【0077】なお、図1中のメモリ層15として、Dy
FeCo膜16の代わりに、図4中の線III で示す磁化
の温度特性を有する組成比としたGdDyFeCo膜を
設けた構成とすることもできる。
As the memory layer 15 in FIG. 1, Dy
Instead of the FeCo film 16, a GdDyFeCo film having a composition ratio having a temperature characteristic of magnetization indicated by a line III in FIG. 4 may be provided.

【0078】また、図1中のバイアス層19として、T
bFeCo膜20の代わりに、図4中の線IVで示す磁化
の温度特性を有する組成比としたGdTbFeCo膜を
設けた構成とすることもできる。GdTbFeCo膜
は、240Oeの浮遊磁場を形成する。
Further, as the bias layer 19 in FIG.
Instead of the bFeCo film 20, a GdTbFeCo film having a composition ratio having a temperature characteristic of magnetization shown by a line IV in FIG. 4 may be provided. The GdTbFeCo film forms a stray magnetic field of 240 Oe.

【0079】図8は本発明の第2実施例になる光磁気記
録媒体10Aを示す。
FIG. 8 shows a magneto-optical recording medium 10A according to the second embodiment of the present invention.

【0080】光磁気記録媒体10Aは、メモリ層及びバ
イアス層以外は、図1の媒体10と同じであり、図8
中、図1と対応する部分には、同一符号を付し、その説
明は省略する。
The magneto-optical recording medium 10A is the same as the medium 10 of FIG. 1 except for the memory layer and the bias layer.
In the figure, the portions corresponding to those in FIG.

【0081】メモリ層15Aとしての、DyFeCo膜
16Aは、Dy,Fe,Coの組成比が図1の場合と同
じくTMリッチであり且つ図1の場合よりリッチの程度
が小さいTMリッチの状態としてある。
The DyFeCo film 16A as the memory layer 15A is in the TM rich state in which the composition ratio of Dy, Fe and Co is TM rich as in the case of FIG. 1 and the degree of richness is smaller than that in the case of FIG. .

【0082】これにより、DyFeCo膜16Aは、室
温より若干高い30℃に補償温度を有し、図9中線III
Aで示す磁化温度特性を有する。
As a result, the DyFeCo film 16A has a compensation temperature of 30 ° C., which is slightly higher than room temperature.
It has a magnetization temperature characteristic indicated by A.

【0083】図10(A)は、室温状態にある最初の状
態を示す。
FIG. 10A shows the initial state at room temperature.

【0084】メモリ層15AのN磁化50は下向きであ
る。
The N magnetization 50 of the memory layer 15A is downward.

【0085】外部に磁界を発生する手段を設けることな
く、レーザ光11を一時的に照射する。これにより、部
分34A,35が加熱される。
The laser beam 11 is temporarily irradiated without providing any means for generating a magnetic field outside. As a result, the portions 34A and 35 are heated.

【0086】まず、図10(B)に示すように、部分3
5については、N磁化31が小さくなって、小さいN磁
化51となる。
First, as shown in FIG. 10B, the portion 3
As for No. 5, the N magnetization 31 becomes small and the N magnetization 51 becomes small.

【0087】部分34Aについては、N磁化50が向き
を反転させられると共に小さくなって、小さいN磁化5
2となる。
Regarding the portion 34A, the N magnetization 50 becomes smaller as the direction is reversed, and the N magnetization 5 becomes smaller.
It becomes 2.

【0088】更に加熱されると、図10(C)に示すよ
うに、部分34A,35にN磁化が消滅し、部分35に
下向きの浮遊磁場36が発生する。
When further heated, as shown in FIG. 10C, the N magnetization disappears in the portions 34A and 35, and a downward stray magnetic field 36 is generated in the portion 35.

【0089】レーザ光の照射が断たれ、部分34A,3
5の温度が低下し始めると、図10(D)に示すように
なる。
When the irradiation of the laser beam is cut off, the parts 34A, 3
When the temperature of 5 starts to decrease, it becomes as shown in FIG.

【0090】即ち、まず、浮遊磁場36によって、部分
35が下向きの小さいN磁化37となり、層19と層1
5Aとの間の交換結合力によって、部分34Aは、上記
小さいN磁化37に揃った下向きの小さい磁化38とな
る。
That is, first, the stray magnetic field 36 causes the portion 35 to have a small downward N magnetization 37, and the layers 19 and 1
Due to the exchange coupling force with 5A, the portion 34A becomes the downward small magnetization 38 aligned with the small N magnetization 37.

【0091】図9の線IVより分かるように、温度が低下
するにつれて、上記のN磁化37は大きくなる。
As can be seen from the line IV in FIG. 9, the N magnetization 37 increases as the temperature decreases.

【0092】また、図9の線III Aより分かるように、
温度が低下するにつれて、下向きのN磁化38は、一旦
大きくなり、その後小さくなり、補償温度Tcompで零と
なり、補償温度Tcompを下回ると、向きを反転されて、
上向きのN磁化52となる。
Also, as can be seen from the line IIIA in FIG.
As the temperature decreases, the downward N magnetization 38 is temporarily increased, then decreases, becomes zero at the compensation temperature T comp, below the compensation temperature T comp, are inverted orientation,
The upward N magnetization 52 results.

【0093】室温状態では、図10(E)に示す状態と
なる。
At room temperature, the state shown in FIG.

【0094】メモリ層15Aについてみると、部分34
AのN磁化52は、他の部分のN磁化50とは反対に上
向きとなっており、これによりメモリ層15Aに情報が
記録されたことになる。
As for the memory layer 15A, the portion 34
The N magnetization 52 of A is directed upward, which is opposite to the N magnetization 50 of the other portions, which means that information is recorded in the memory layer 15A.

【0095】バイアス層19についてみると、N磁化3
7は、層19と層23との間の交換結合力によって、層
23のN磁化32の向きに揃えられ、部分35は上向き
のN磁化40となる。
Regarding the bias layer 19, the N magnetization 3
7 is aligned with the direction of the N magnetization 32 of the layer 23 by the exchange coupling force between the layers 19 and 23, and the portion 35 has the upward N magnetization 40.

【0096】これにより、光磁気記録媒体10Aに対し
て、完全無磁場光変調オーバライトが行われたことにな
る。
As a result, the complete magnetic field-free optical modulation overwrite has been performed on the magneto-optical recording medium 10A.

【0097】次に、実際にオーバライトしたときの条件
及びC/Nについて説明する。
Next, the condition and C / N when actually overwriting will be described.

【0098】光磁気記録媒体10Aを、線速10m/s で
回転させ、マーク長1.5 μm の信号の上に、マーク長0.
8 μm の信号を重ね書きした。
The magneto-optical recording medium 10A was rotated at a linear velocity of 10 m / s, and a mark length of 0.
The 8 μm signal was overwritten.

【0099】図6の記録方式の場合には、レーザ光の高
パワーは8.5 mW,低パワーは3.5mWに定めた。
In the case of the recording system shown in FIG. 6, the high power of the laser light is set to 8.5 mW and the low power is set to 3.5 mW.

【0100】C/N比は、49.2dBであった。The C / N ratio was 49.2 dB.

【0101】図7の記録方式の場合には、消去部分は9
MHzである。
In the case of the recording method of FIG. 7, the erased portion is 9
MHz.

【0102】C/N比は、49.5dBであった。The C / N ratio was 49.5 dB.

【0103】共に、十分な信号品質を有する。Both have sufficient signal quality.

【0104】なお、図10中のメモリ層15Aとして、
DyFeCo膜16の代わりに、図9中の線III Aで示
す磁化の温度特性を有するGdDyFeCo膜を設けた
構成とすることもできる。
As the memory layer 15A in FIG. 10,
Instead of the DyFeCo film 16, a GdDyFeCo film having a temperature characteristic of magnetization shown by line IIIA in FIG. 9 may be provided.

【0105】また、図10中のバイアス層19として、
TbFeCo膜20の代わりに、図9中の線IVで示す磁
化の温度特性を有する組成比としたGdTbFeCo膜
を設けた構成とすることもできる。GdTbFeCo膜
は、240Oeの浮遊磁場を形成する。
Further, as the bias layer 19 in FIG.
Instead of the TbFeCo film 20, a GdTbFeCo film having a composition ratio having a temperature characteristic of magnetization shown by a line IV in FIG. 9 may be provided. The GdTbFeCo film forms a stray magnetic field of 240 Oe.

【0106】また、上記各実施例において、膜16,1
6A,20,24の成膜条件を適宜定めることにより、
膜18,22(制御層17,21)を省略することもで
きる。
In each of the above embodiments, the films 16, 1
By appropriately setting the film forming conditions of 6A, 20, 24,
The membranes 18, 22 (control layers 17, 21) can be omitted.

【0107】また、上記各実施例において、メモリ層1
5,15A及びバイアス層19の材料は、以下の手順で
求めたものである。
In each of the above embodiments, the memory layer 1
The materials of 5, 15 A and the bias layer 19 are obtained by the following procedure.

【0108】 浮遊磁場が十分に大きいかという観点
から、バイアス層の材料を定める(完全無磁場光変調オ
ーバライトを実現するには、浮遊磁場は200Oe以上
であることが必要である)。
The material of the bias layer is determined from the viewpoint of whether the stray magnetic field is sufficiently large (the stray magnetic field needs to be 200 Oe or more in order to realize the complete field-free optical modulation overwrite).

【0109】 C/N比を十分に大きくし得るかとい
う観点から、上記定めたバイアス層の材料とマッチする
メモリ層の材料を定める。
From the viewpoint of whether the C / N ratio can be made sufficiently large, the material of the memory layer that matches the material of the bias layer defined above is determined.

【0110】このとき、キュリー温度の無い材料は、メ
モリ層としては不適である。膜が面内膜となってしまい
易いからである。
At this time, a material having no Curie temperature is not suitable for the memory layer. This is because the film easily becomes an in-plane film.

【0111】[0111]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明に
よれば、レーザ光によって照射された後、冷却されて室
温とされた状態において、レーザ光によって照射された
個所の磁化の向きをレーザ光によって照射されない個所
の磁化の向きと逆向きとすることが出来る。
As described above, according to the first aspect of the present invention, the direction of the magnetization of the portion irradiated with the laser beam is changed in the state where it is cooled to room temperature after being irradiated with the laser beam. The direction of magnetization of a portion not irradiated with laser light can be opposite to that.

【0112】従って、請求項1の発明の光磁気記録媒体
によれば、外部磁界を必要とせずに、即ち無磁場で、光
変調オーバライトを行うことが出来る。
Therefore, according to the magneto-optical recording medium of the first aspect of the present invention, the optical modulation overwrite can be performed without the need for an external magnetic field, that is, without a magnetic field.

【0113】請求項2の発明によれば、レーザ光によっ
て照射された後、冷却されて室温とされた状態におい
て、レーザ光によって照射された個所の磁化の向きをレ
ーザ光によって照射されない個所の磁化の向きと逆向き
とすることが出来る。
According to the second aspect of the present invention, the direction of magnetization of the portion irradiated with the laser beam is changed to the magnetization direction of the portion irradiated with the laser beam in a state where the temperature is cooled to room temperature after being irradiated with the laser beam. The direction can be reversed.

【0114】従って、請求項2の発明の光磁気記録媒体
によれば、外部磁界を必要とせずに、即ち無磁場で、光
変調オーバライトを行うことが出来る。
Therefore, according to the magneto-optical recording medium of the second aspect of the present invention, the optical modulation overwrite can be performed without the need for an external magnetic field, that is, without a magnetic field.

【0115】請求項3の発明によれば、バイアス層のう
ちレーザ光によって加熱された部分の磁化の方向を確実
に定めることが出来、C/N比を十分に良好にすること
が出来る。
According to the third aspect of the present invention, the direction of magnetization of the portion of the bias layer heated by the laser beam can be reliably determined, and the C / N ratio can be made sufficiently good.

【0116】請求項4の発明によれば、メモリ層に情報
信号を記録することが出来、C/N比を十分に良好とす
ることが出来る。
According to the invention of claim 4, an information signal can be recorded in the memory layer, and the C / N ratio can be made sufficiently good.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1実施例の光磁気記録媒体の構造を
示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a structure of a magneto-optical recording medium according to a first embodiment of the present invention.

【図2】Tcomp<Troomである材料のN磁化の温度依存
性を説明する図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating temperature dependence of N magnetization of a material having T comp <T room .

【図3】Tcomp>Troomである材料のN磁化の温度依存
性を説明する図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating the temperature dependence of N magnetization of a material having T comp > T room .

【図4】図1中の膜16,20,24の磁化の温度依存
性を説明する図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating temperature dependence of magnetization of films 16, 20, and 24 in FIG.

【図5】図1の光磁気記録媒体への完全無磁場光変調オ
ーバライトを説明する図である。
FIG. 5 is a diagram for explaining a complete magnetic field-free optical modulation overwrite on the magneto-optical recording medium of FIG.

【図6】記録方式の1例を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing an example of a recording method.

【図7】記録方式の別の例を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing another example of a recording method.

【図8】本発明の第2実施例の光磁気記録媒体の構造を
示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing the structure of a magneto-optical recording medium according to a second embodiment of the present invention.

【図9】図8中の層(膜)の磁化の温度依存性を示す図
である。
9 is a diagram showing the temperature dependence of the magnetization of the layer (film) in FIG.

【図10】図8の光磁気記録媒体への完全無磁場光変調
オーバライトを説明する図である。
FIG. 10 is a diagram for explaining a complete magnetic field-free optical modulation overwrite on the magneto-optical recording medium of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10,10A 光磁気記録媒体 11 レーザ光 12 基板 13,25 保護層 14,26 Tb−SiO2 層 15,15A メモリ層 16,16A DyFeCo膜 17,21 制御層 18 GdFeCo膜 19 バイアス層 20,22 TbFeCo膜 23 初期化層 24 TbCo膜 30 メモリ層15のN磁化 31 バイアス層19のN磁化 32 初期化層23のN磁化 34,34A,35 部分 36 浮遊磁場 37,38,51 小さいN磁化 39,40 N磁化 50 メモリ層15AのN磁化 52 上向きのN磁化10,10A magneto-optical recording medium 11 the laser beam 12 substrate 13, 25 protective layer 14, 26 Tb-SiO 2 layer 15,15A memory layer 16, 16A DyFeCo film 17 and 21 control layer 18 GdFeCo film 19 bias layers 20, 22 TbFeCo Film 23 Initialization layer 24 TbCo film 30 N magnetization of memory layer 15 N magnetization of bias layer 19 32 N magnetization of initialization layer 23 34, 34A, 35 Part 36 Stray magnetic field 37, 38, 51 Small N magnetization 39, 40 N magnetization 50 N magnetization of the memory layer 15A 52 Upward N magnetization

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 垂直磁気異方性を有し、且つ室温以下に
補償温度を有する組成である希土類−遷移金属製薄膜よ
りなる記録/再生のためのメモリ層(15)と、 垂直磁気異方性を有し、且つ室温以下に補償温度を有す
る組成である希土類−遷移金属製薄膜よりなり、上記メ
モリ層と交換結合しており、記録のための浮遊磁場を発
生するバイアス層(19)と、 垂直磁気異方性を有し、且つ記録再生、消去の場合にレ
ーザ光を照射されたときに、磁化の向きに反転しない組
成である希土類−遷移金属製薄膜よりなり、上記バイア
ス層と交換結合しており、上記バイアス層を初期化する
ための初期化層(23)とよりなる構成としたことを特
徴とする光磁気記録媒体。
1. A recording / reproducing memory layer (15) comprising a rare earth-transition metal thin film having a composition having perpendicular magnetic anisotropy and a compensation temperature below room temperature, and a perpendicular magnetic anisotropy. And a bias layer (19) which is composed of a rare earth-transition metal thin film having a composition having a compensating temperature below room temperature and which is exchange-coupled with the memory layer and generates a stray magnetic field for recording. , A rare earth-transition metal thin film having perpendicular magnetic anisotropy and having a composition that does not reverse to the direction of magnetization when irradiated with a laser beam for recording / reproducing and erasing, and exchanges with the above bias layer. A magneto-optical recording medium, characterized in that the magneto-optical recording medium is composed of an initialization layer (23) which is coupled to the bias layer and initializes the bias layer.
【請求項2】 垂直磁気異方性を有し、且つ室温以上に
補償温度を有する組成である希土類−遷移金属製薄膜よ
りなる記録/再生のためのメモリ層(15A)と、 垂直磁気異方性を有し、且つ室温以下に補償温度を有す
る組成である希土類−遷移金属製薄膜よりなり、上記メ
モリ層と交換結合しており、記録のための浮遊磁場を発
生するバイアス層(19)と、 垂直磁気異方性を有し、且つ記録再生、消去の場合にレ
ーザ光を照射されたときに、磁化の向きに反転しない組
成である希土類−遷移金属製薄膜よりなり、上記バイア
ス層と交換結合しており、上記バイアス層を初期化する
ための初期化層(23)とよりなる構成としたことを特
徴とする光磁気記録媒体。
2. A memory layer (15A) for recording / reproducing, which comprises a rare earth-transition metal thin film having a composition having perpendicular magnetic anisotropy and a compensation temperature above room temperature, and a perpendicular magnetic anisotropy. And a bias layer (19) which is composed of a rare earth-transition metal thin film having a composition having a compensating temperature below room temperature and which is exchange-coupled with the memory layer and generates a stray magnetic field for recording. , A rare earth-transition metal thin film having perpendicular magnetic anisotropy and having a composition that does not reverse to the direction of magnetization when irradiated with a laser beam for recording / reproducing and erasing, and exchanges with the above bias layer. A magneto-optical recording medium, characterized in that the magneto-optical recording medium is composed of an initialization layer (23) which is coupled to the bias layer and initializes the bias layer.
【請求項3】 請求項1又は2において、該バイアス層
は、TbFeCo膜(20)又はGdTbFeCo膜で
ある構成としたことを特徴とする光磁気記録媒体。
3. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the bias layer is a TbFeCo film (20) or a GdTbFeCo film.
【請求項4】 請求項1又は2において、該メモリ層
は、DyFeCo膜(16)又はGdDyFeCo膜で
ある構成としたことを特徴とする光磁気記録媒体。
4. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the memory layer is a DyFeCo film (16) or a GdDyFeCo film.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2805530A1 (en) * 2000-02-29 2001-08-31 Teleflex Gallet PACKAGE TRANSFER METHOD AND AGENT TRANSPORTATION INSTALLATION FOR CARRYING OUT SUCH A METHOD

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