JPH06267054A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH06267054A JPH06267054A JP20169093A JP20169093A JPH06267054A JP H06267054 A JPH06267054 A JP H06267054A JP 20169093 A JP20169093 A JP 20169093A JP 20169093 A JP20169093 A JP 20169093A JP H06267054 A JPH06267054 A JP H06267054A
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/021—Cleaning or etching treatments
- C23C14/022—Cleaning or etching treatments by means of bombardment with energetic particles or radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/20—Metallic material, boron or silicon on organic substrates
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Abstract
(57)【要約】
【目的】 シート状重合体基板と、この基板の処理され
た主要面上にＰＶＤ法により形成された厚さ５０−１０
００ｎｍの強磁性の、コバルトを含有する金属密着薄層
とから成り、亀裂をもたらすことなく、内部応力を持た
ず、均斉で機械的に安定な磁気記録媒体を提供するこ
と。 【構成】 主要面の少なくとも１面がイオンエッチング
で前処理されているシート状重合体基板と、この基板の
処理された主要面上にＰＶＤ法により形成された厚さ５
０−１０００ｎｍの強磁性の、コバルトを含有する金属
密着薄層とから成り、金属薄層用の基板の少なくともそ
の主要面が、窒素もしくは酸素を含有する気体によるイ
オンエッチングであらかじめ変性されていることを特徴
とする磁気記録媒体。
た主要面上にＰＶＤ法により形成された厚さ５０−１０
００ｎｍの強磁性の、コバルトを含有する金属密着薄層
とから成り、亀裂をもたらすことなく、内部応力を持た
ず、均斉で機械的に安定な磁気記録媒体を提供するこ
と。 【構成】 主要面の少なくとも１面がイオンエッチング
で前処理されているシート状重合体基板と、この基板の
処理された主要面上にＰＶＤ法により形成された厚さ５
０−１０００ｎｍの強磁性の、コバルトを含有する金属
密着薄層とから成り、金属薄層用の基板の少なくともそ
の主要面が、窒素もしくは酸素を含有する気体によるイ
オンエッチングであらかじめ変性されていることを特徴
とする磁気記録媒体。
Description
【０００１】
【技術分野】本発明は主要面の少なくとも１面がイオン
エッチングで前処理されているシート状重合体基板と、
この基板の処理された主要面上にＰＶＤ法により形成さ
れた厚さ５０−１０００ｎｍの強磁性の、コバルトを含
有する金属密着薄層とから成り、金属薄層に施された少
なくとも１層の保護層を有する、あるいは有しない磁気
記録媒体に関するものである。
エッチングで前処理されているシート状重合体基板と、
この基板の処理された主要面上にＰＶＤ法により形成さ
れた厚さ５０−１０００ｎｍの強磁性の、コバルトを含
有する金属密着薄層とから成り、金属薄層に施された少
なくとも１層の保護層を有する、あるいは有しない磁気
記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来技術】強磁性の密着金属薄層から成る磁性層を有
する磁気記録媒体は公知である。このような記録媒体
は、ことに高周波数であるいは高記録密度で磁気記録す
るために次第に重要性を増している。そしてこの点に関
し、この種の記録媒体は、従来の磁性金属粉体層を基礎
とする記録媒体より秀れている。このような金属薄層記
録媒体は、ＰＶＤ法（物理的蒸着法）により、重合体シ
ートの基板表面上に層状強磁性材料、ことにＦｅ、Ｎ
ｉ、Ｃｒ、Ｐｔのような少なくとも１種類の合金組成分
および場合によりＯを含むＣｏ合金を成層して製造され
る。この重合体基板は、磁気テープ、磁気ディクス用に
使用される可撓性重合体、ことにＰＥＴもしくはＰＩ、
さらにはＰＡ、ＰＥＮ、ＰＥＥＫあるいはＰＳである。
これら密着金属薄層を上述した、あるいはこれに類する
重合体基板に成層するには、望ましい磁気特性、化学的
安定性、金属層の充分な接着性を要するのみでなく、磁
性層の良好な機械的安定性を保証するものでなければな
らない。この目的のために磁性層はよく密着しなければ
ならず、ことに亀裂、しわ、剥離などの欠陥があっては
ならず、弯曲がなく平坦でなければならない。亀裂がな
く平滑な層は、ことにヘッドとの摩擦的応力による摩耗
を少なくするために必要である。
する磁気記録媒体は公知である。このような記録媒体
は、ことに高周波数であるいは高記録密度で磁気記録す
るために次第に重要性を増している。そしてこの点に関
し、この種の記録媒体は、従来の磁性金属粉体層を基礎
とする記録媒体より秀れている。このような金属薄層記
録媒体は、ＰＶＤ法（物理的蒸着法）により、重合体シ
ートの基板表面上に層状強磁性材料、ことにＦｅ、Ｎ
ｉ、Ｃｒ、Ｐｔのような少なくとも１種類の合金組成分
および場合によりＯを含むＣｏ合金を成層して製造され
る。この重合体基板は、磁気テープ、磁気ディクス用に
使用される可撓性重合体、ことにＰＥＴもしくはＰＩ、
さらにはＰＡ、ＰＥＮ、ＰＥＥＫあるいはＰＳである。
これら密着金属薄層を上述した、あるいはこれに類する
重合体基板に成層するには、望ましい磁気特性、化学的
安定性、金属層の充分な接着性を要するのみでなく、磁
性層の良好な機械的安定性を保証するものでなければな
らない。この目的のために磁性層はよく密着しなければ
ならず、ことに亀裂、しわ、剥離などの欠陥があっては
ならず、弯曲がなく平坦でなければならない。亀裂がな
く平滑な層は、ことにヘッドとの摩擦的応力による摩耗
を少なくするために必要である。
【０００３】蒸着により層形成される金属層が、本質的
に、常に固有の各種応力を有することは周知である。層
の内面で被覆された基板をまるめようとする引張り応力
が存在する。一般的にこのような応力は、金属層に亀裂
をもたらす。これは層を局所的に引きちぎり、まるめよ
うとすることでもたらされる。
に、常に固有の各種応力を有することは周知である。層
の内面で被覆された基板をまるめようとする引張り応力
が存在する。一般的にこのような応力は、金属層に亀裂
をもたらす。これは層を局所的に引きちぎり、まるめよ
うとすることでもたらされる。
【０００４】この亀裂ないしひびわれの傾向は、Ｃｏ−
Ｎｉ−Ｏ磁性層の場合比較的少ないが、Ｃｏ−Ｎｉ、こ
とにもろいＣｏ−Ｃｒ層の場合には甚だしい。１５原子
％までのＣｒを含有するＣｏ−Ｃｒを重合体基板上に施
した層は、亀裂をもたらすほどに高い固有応力を持たな
い。しかしながら、望ましい磁気特性をもたらすに必要
な１５から３０原子％の高いＣｒ分を含有する場合に
は、亀裂が生じ、これはＣｒ含有分が増大するほど甚だ
しくなる。２６原子％のＣｒを含有する場合、磁性層は
亀裂で覆われる。なお、金属層が厚い場合は、薄い場合
にくらべて亀裂が顕著になる。
Ｎｉ−Ｏ磁性層の場合比較的少ないが、Ｃｏ−Ｎｉ、こ
とにもろいＣｏ−Ｃｒ層の場合には甚だしい。１５原子
％までのＣｒを含有するＣｏ−Ｃｒを重合体基板上に施
した層は、亀裂をもたらすほどに高い固有応力を持たな
い。しかしながら、望ましい磁気特性をもたらすに必要
な１５から３０原子％の高いＣｒ分を含有する場合に
は、亀裂が生じ、これはＣｒ含有分が増大するほど甚だ
しくなる。２６原子％のＣｒを含有する場合、磁性層は
亀裂で覆われる。なお、金属層が厚い場合は、薄い場合
にくらべて亀裂が顕著になる。
【０００５】磁気接触記録の場合には、満足すべき記録
をもたらすため亀裂のない層が絶対的に必要である。亀
裂縁辺の屈曲が、ヘッドと媒体（例えばテープ）間の非
接触状態のため、記録／再生処理の間に若干の距離ロス
をもたらし、またヘッドトラックに沿ってヘッドによる
磁性層の剥離をもたらす。この剥離はヘッドの亀裂縁辺
に係合した所で始まり、次第に増大する。従って磁性層
にもヘッドにも障害がもたらされる。
をもたらすため亀裂のない層が絶対的に必要である。亀
裂縁辺の屈曲が、ヘッドと媒体（例えばテープ）間の非
接触状態のため、記録／再生処理の間に若干の距離ロス
をもたらし、またヘッドトラックに沿ってヘッドによる
磁性層の剥離をもたらす。この剥離はヘッドの亀裂縁辺
に係合した所で始まり、次第に増大する。従って磁性層
にもヘッドにも障害がもたらされる。
【０００６】このような亀裂を回避するための各種の方
法が開示されており、例えば特開昭５９−９７１５４号
公報には、磁性層における固有の応力を代償する応力
が、層形成の間に基板温度を１５０−２５０℃に上げ、
次いで冷却することにより、磁性層と基板材料の間の収
縮挙動の差違により、両者の界面に形成されると記載さ
れている。またクロム含有量が相違する多重層の形成
（特開昭６３−１５３１７９号）、あるいは酸化コバル
ト下方層の形成（特開平１−１８３０２０号）、あるい
は金属カーバイド下方層の形成（特開平１−１４０１７
０号）、あるいは表面の炭化による下方層の形成（特開
平１−１４０１７３号）によっても亀裂が抑止されるこ
とが提案されている。また２段階の被覆処理の間のホッ
トカレンダー処理によりこれを抑止することが提案され
ている（韓国特許出願公開２０９４／１９９０号）。し
かしながら、これら各提案のいずれも、特に熱安定性の
基板を必要とするか、あるいは複数のパラメータを、処
理技術および記録層の磁気特性に適合させることを必要
とする。これらに属するものとして、さらに特定の熱膨
張係数を有する重合体基板の選択（特開昭６０−１１７
００９号）あるいは特殊な裏打ち層の形成（東独特許公
開２６６７１０号）により、亀裂問題を解決しようとし
ている。
法が開示されており、例えば特開昭５９−９７１５４号
公報には、磁性層における固有の応力を代償する応力
が、層形成の間に基板温度を１５０−２５０℃に上げ、
次いで冷却することにより、磁性層と基板材料の間の収
縮挙動の差違により、両者の界面に形成されると記載さ
れている。またクロム含有量が相違する多重層の形成
（特開昭６３−１５３１７９号）、あるいは酸化コバル
ト下方層の形成（特開平１−１８３０２０号）、あるい
は金属カーバイド下方層の形成（特開平１−１４０１７
０号）、あるいは表面の炭化による下方層の形成（特開
平１−１４０１７３号）によっても亀裂が抑止されるこ
とが提案されている。また２段階の被覆処理の間のホッ
トカレンダー処理によりこれを抑止することが提案され
ている（韓国特許出願公開２０９４／１９９０号）。し
かしながら、これら各提案のいずれも、特に熱安定性の
基板を必要とするか、あるいは複数のパラメータを、処
理技術および記録層の磁気特性に適合させることを必要
とする。これらに属するものとして、さらに特定の熱膨
張係数を有する重合体基板の選択（特開昭６０−１１７
００９号）あるいは特殊な裏打ち層の形成（東独特許公
開２６６７１０号）により、亀裂問題を解決しようとし
ている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の目的
は、シート状重合体基板と、この基板の処理された主要
面上にＰＶＤ法により形成された厚さ５０−１０００ｎ
ｍの強磁性の、コバルトを含有する金属密着薄層とから
成り、亀裂をもたらすことなく、内部応力を持たず、均
斉で機械的に安定であって、上述した欠点を示さない磁
気記録媒体を提供することである。
は、シート状重合体基板と、この基板の処理された主要
面上にＰＶＤ法により形成された厚さ５０−１０００ｎ
ｍの強磁性の、コバルトを含有する金属密着薄層とから
成り、亀裂をもたらすことなく、内部応力を持たず、均
斉で機械的に安定であって、上述した欠点を示さない磁
気記録媒体を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】しかるに、この目的は主
要面の少なくとも１面がイオンエッチングで前処理され
ているシート状重合体基板と、この基板の処理された主
要面上にＰＶＤ法により形成された厚さ５０−１０００
ｎｍの強磁性の、コバルトを含有する金属密着薄層とか
ら成り、金属薄層用の基板の少なくともその主要面が、
窒素もしくは酸素を含有する気体によるイオンエッチン
グであらかじめ変性されていることを特徴とする磁気記
録媒体により達成されることが本発明者らにより見出さ
れた。
要面の少なくとも１面がイオンエッチングで前処理され
ているシート状重合体基板と、この基板の処理された主
要面上にＰＶＤ法により形成された厚さ５０−１０００
ｎｍの強磁性の、コバルトを含有する金属密着薄層とか
ら成り、金属薄層用の基板の少なくともその主要面が、
窒素もしくは酸素を含有する気体によるイオンエッチン
グであらかじめ変性されていることを特徴とする磁気記
録媒体により達成されることが本発明者らにより見出さ
れた。
【０００９】イオンエッチングにおいて、加熱陰極から
放射される電子は電場、磁場により加速され、その陽極
に至る途中で導入された気体、例えばＡｒ、Ｏ2 、Ｎ2
の粒子をイオン化する。正に帯電された気体イオンと電
子の一部（荷電中性化）が加速され、基板シートに向か
う。典型的イオンエネルギーは１０から２０００ｅＶで
あって、このイオン衝撃が基板シート表面を浄化し、気
体排除し、化学組成とトポグラフィーを変化させる。
放射される電子は電場、磁場により加速され、その陽極
に至る途中で導入された気体、例えばＡｒ、Ｏ2 、Ｎ2
の粒子をイオン化する。正に帯電された気体イオンと電
子の一部（荷電中性化）が加速され、基板シートに向か
う。典型的イオンエネルギーは１０から２０００ｅＶで
あって、このイオン衝撃が基板シート表面を浄化し、気
体排除し、化学組成とトポグラフィーを変化させる。
【００１０】本発明による磁気記録媒体の製造におい
て、基板材料重合体がＰＥＴ（ポリエステル）、ＰＥＮ
（ポリエチレンナフタレート）、ＰＳ（ポリスルホ
ン）、ＰＩ（ポリイミド）、ＰＡ（ポリアミド）、ＰＥ
ＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）の中から選定され
る。このようなシート状基板の少なくとも主要面が、Ｐ
ＶＤ法で金属薄層を成層する前に、酸素を少なくとも５
容量％含有する気体を使用するプラズマエッチング処理
される。酸素含有量は約２０容量％であるのが好まし
い。
て、基板材料重合体がＰＥＴ（ポリエステル）、ＰＥＮ
（ポリエチレンナフタレート）、ＰＳ（ポリスルホ
ン）、ＰＩ（ポリイミド）、ＰＡ（ポリアミド）、ＰＥ
ＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）の中から選定され
る。このようなシート状基板の少なくとも主要面が、Ｐ
ＶＤ法で金属薄層を成層する前に、酸素を少なくとも５
容量％含有する気体を使用するプラズマエッチング処理
される。酸素含有量は約２０容量％であるのが好まし
い。
【００１１】次いで、コバルト含有、ことにコバルト／
クロム含有磁性層が、公知のＰＶＤ法で上記のように事
前処理された基板上に施される。ニッケルを４０原子％
まで含有するコバルト／ニッケル層およびクロムを１５
から３０原子％含有するコバルト／クロムがことに好ま
しい。またコバルト含有磁性層が酸化物として酸素を結
合含有しているのも有利である。特殊な実施態様で、コ
バルト／クロム層は、Ｎｉ、Ｔａ、Ｚｎ、Ｎｂ、Ｈｆ、
Ｗ、Ｃ、Ｐ、Ｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｆｅ、Ｐｔ、Ｙ、Ｌａ、Ｃ
ｅ、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｇｄ、Ｓｍ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅ
ｒ、Ｙｂ、Ａｇ、Ｚｒのいずれかを追加的に含有する。
クロム含有磁性層が、公知のＰＶＤ法で上記のように事
前処理された基板上に施される。ニッケルを４０原子％
まで含有するコバルト／ニッケル層およびクロムを１５
から３０原子％含有するコバルト／クロムがことに好ま
しい。またコバルト含有磁性層が酸化物として酸素を結
合含有しているのも有利である。特殊な実施態様で、コ
バルト／クロム層は、Ｎｉ、Ｔａ、Ｚｎ、Ｎｂ、Ｈｆ、
Ｗ、Ｃ、Ｐ、Ｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｆｅ、Ｐｔ、Ｙ、Ｌａ、Ｃ
ｅ、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｇｄ、Ｓｍ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅ
ｒ、Ｙｂ、Ａｇ、Ｚｒのいずれかを追加的に含有する。
【００１２】本発明磁気記録媒体は、必要に応じ、磁性
層の滑動性、摩擦性改善あるいは腐蝕防止のため、これ
自体は公知であるが、無機および／あるいは有機の保護
層で被覆され得る。
層の滑動性、摩擦性改善あるいは腐蝕防止のため、これ
自体は公知であるが、無機および／あるいは有機の保護
層で被覆され得る。
【００１３】上述したように予備処理された基板を使用
する場合の１利点は、基板温度が低くても、すなわち−
２０から１００℃でも、磁性層を形成し得ることであ
る。このようにして得られる磁気記録媒体は、亀裂をも
たらさず、内部応力を持たず、機械的に安定で従来技術
における欠点を持たない。
する場合の１利点は、基板温度が低くても、すなわち−
２０から１００℃でも、磁性層を形成し得ることであ
る。このようにして得られる磁気記録媒体は、亀裂をも
たらさず、内部応力を持たず、機械的に安定で従来技術
における欠点を持たない。
【００１４】このように亀裂をもたらさない記録層は、
引張り応力による弯曲を招来することなく、長期間にわ
たり平坦性を維持する。
引張り応力による弯曲を招来することなく、長期間にわ
たり平坦性を維持する。
【００１５】以下の実施例により、本発明をさらに具体
的に説明し、対比例との比較によりその利点を実証す
る。
的に説明し、対比例との比較によりその利点を実証す
る。
【００１６】
【実施例】実験例１（対比例） ５０μｍ厚さのＰＥＴシート（デュポン社のＭｙｌａｒ
２００Ｄ）から成る基板に、室温の２成分系蒸着装置に
より３０ｎｍ厚さのＣｏ74Ｃｒ26層を蒸着成層した。こ
の基板は蒸着前に予備処理しなかった。この層は光学的
顕微鏡写真（図１、図面代用写真）に示されるように層
全体にわたる亀裂が認められた。
２００Ｄ）から成る基板に、室温の２成分系蒸着装置に
より３０ｎｍ厚さのＣｏ74Ｃｒ26層を蒸着成層した。こ
の基板は蒸着前に予備処理しなかった。この層は光学的
顕微鏡写真（図１、図面代用写真）に示されるように層
全体にわたる亀裂が認められた。
【００１７】実験例２（対比例） ５０μｍ厚さのＰＩシート（宇部興産のＵｐｉｌｅｘ
Ｒ）から成る基板上に、室温の２成分系蒸着装置で３０
０ｎｍ厚さのＣｏ74Ｃｒ26層を蒸着形成したが、この場
合も基板の事前処理はしなかった。この層の光学的顕微
鏡写真（図２）から認められるように層全体にわたり亀
裂が認められた。
Ｒ）から成る基板上に、室温の２成分系蒸着装置で３０
０ｎｍ厚さのＣｏ74Ｃｒ26層を蒸着形成したが、この場
合も基板の事前処理はしなかった。この層の光学的顕微
鏡写真（図２）から認められるように層全体にわたり亀
裂が認められた。
【００１８】実験例３（対比例） 実験例１と同様に処理したが、ＰＥＴシート基板は、蒸
着による磁性層形成前にイオンエッチングで予備処理処
理した。イオンガン（６０ｅＶ、陽極電流１Ａ、０．２
Ｗ／ｃｍ2 、コモンウエルス、サイエンティフィック、
コーポレイション製）をこのために使用した。処理はア
ルゴンを（２０ｓｃｃｍ、すなわち標準条件下、毎分ｃ
ｍ3 ）を使用して１０分間行われた。この層の光学的顕
微鏡写真（図３）から認められるように、予備処理は、
亀裂に対して本質的な影響を与えなかった。
着による磁性層形成前にイオンエッチングで予備処理処
理した。イオンガン（６０ｅＶ、陽極電流１Ａ、０．２
Ｗ／ｃｍ2 、コモンウエルス、サイエンティフィック、
コーポレイション製）をこのために使用した。処理はア
ルゴンを（２０ｓｃｃｍ、すなわち標準条件下、毎分ｃ
ｍ3 ）を使用して１０分間行われた。この層の光学的顕
微鏡写真（図３）から認められるように、予備処理は、
亀裂に対して本質的な影響を与えなかった。
【００１９】実験例４（本発明実施例） 実験例３と同様に処理したが、基板を窒素（２０ｓｃｃ
ｍ）の使用下に１０分間予備処理した。その上に形成さ
れた磁性金属薄層の光学的顕微鏡写真（図４）から認め
られるように、この予備処理により亀裂数は劇的に低減
された。
ｍ）の使用下に１０分間予備処理した。その上に形成さ
れた磁性金属薄層の光学的顕微鏡写真（図４）から認め
られるように、この予備処理により亀裂数は劇的に低減
された。
【００２０】実験例５（本発明実施例） 実験例３と同様に処理したが、基板を酸素（２０ｓｃｃ
ｍ）の使用下に１０分間予備処理した。その上に形成さ
れた磁性金属薄層の光学的顕微鏡写真（図５）から認め
られるように、この予備処理により亀裂形成は完全に阻
止された。
ｍ）の使用下に１０分間予備処理した。その上に形成さ
れた磁性金属薄層の光学的顕微鏡写真（図５）から認め
られるように、この予備処理により亀裂形成は完全に阻
止された。
【００２１】実験例６（対比例） 実験例２と同様に処理したが、このＰＩシート基板は、
磁性金属薄層の蒸着前、アルゴン（２０ｓｃｃｍ）の使
用下に１０分間イオンエッチング予備処理した。この金
属薄層の光学的顕微鏡写真（図６）から認められるよう
に、本数は少ないが亀裂は認められた。
磁性金属薄層の蒸着前、アルゴン（２０ｓｃｃｍ）の使
用下に１０分間イオンエッチング予備処理した。この金
属薄層の光学的顕微鏡写真（図６）から認められるよう
に、本数は少ないが亀裂は認められた。
【００２２】実験例７（本発明実施例） 実験例６と同様に処理したが、基板は窒素（２０ｓｃｃ
ｍ）を使用して１０分間予備処理した。この基板上に形
成された金属層の光学的顕微鏡写真（図７）から認めら
れるように、この予備処理により亀裂形成は完全に阻止
された。
ｍ）を使用して１０分間予備処理した。この基板上に形
成された金属層の光学的顕微鏡写真（図７）から認めら
れるように、この予備処理により亀裂形成は完全に阻止
された。
【００２３】実験例８（本発明実施例） 実験例６と同様に処理したが、基板は酸素（２０ｓｃｃ
ｍ）を使用して１０分間予備処理した。これにより金属
層の光学的顕微鏡写真（図８）から認められるように、
この予備処理により亀裂形成は完全に阻止された。
ｍ）を使用して１０分間予備処理した。これにより金属
層の光学的顕微鏡写真（図８）から認められるように、
この予備処理により亀裂形成は完全に阻止された。
【図１】基板の予備処理を行わずにこれに金属蒸着した
場合の磁気記録媒体磁性金属薄層の図面代用光学的顕微
鏡写真（倍率は写真下方の５０μｍ線分で示される）で
ある。
場合の磁気記録媒体磁性金属薄層の図面代用光学的顕微
鏡写真（倍率は写真下方の５０μｍ線分で示される）で
ある。
【図２】基板の予備処理を行わずにこれに金属蒸着した
場合の磁気記録媒体磁性金属薄層の図面代用光学的顕微
鏡写真（倍率は写真下方の５０μｍ線分で示される）で
ある。
場合の磁気記録媒体磁性金属薄層の図面代用光学的顕微
鏡写真（倍率は写真下方の５０μｍ線分で示される）で
ある。
【図３】アルゴンによるイオンエッチングで予備処理し
た基板に金属蒸着した場合の磁気記録媒体磁性金属薄層
の図面代用光学的顕微鏡写真（倍率は写真下方の５０μ
ｍ線分で示される）である。
た基板に金属蒸着した場合の磁気記録媒体磁性金属薄層
の図面代用光学的顕微鏡写真（倍率は写真下方の５０μ
ｍ線分で示される）である。
【図４】本発明により窒素を使用してイオンエッチング
予備処理した基板上に金属蒸着した場合の磁気記録媒体
磁性金属薄層の図面代用光学的顕微鏡写真（倍率は写真
下方の５０μｍ線分で示される）である。
予備処理した基板上に金属蒸着した場合の磁気記録媒体
磁性金属薄層の図面代用光学的顕微鏡写真（倍率は写真
下方の５０μｍ線分で示される）である。
【図５】本発明により酸素を使用してイオンエッチング
予備処理した基板上に金属蒸着した場合の磁気記録媒体
磁性金属薄層の図面代用光学的顕微鏡写真（倍率は写真
下方の５０μｍ線分で示される）である。
予備処理した基板上に金属蒸着した場合の磁気記録媒体
磁性金属薄層の図面代用光学的顕微鏡写真（倍率は写真
下方の５０μｍ線分で示される）である。
【図６】アルゴンを使用して予備処理した基板上に金属
蒸着した場合の磁気記録媒体磁性金属薄層の図面代用光
学的顕微鏡写真（倍率は写真下方の５０μｍ線分で示さ
れる）である。
蒸着した場合の磁気記録媒体磁性金属薄層の図面代用光
学的顕微鏡写真（倍率は写真下方の５０μｍ線分で示さ
れる）である。
【図７】本発明により窒素を使用してエッチング予備処
理した基板上に金属蒸着した場合の磁気記録媒体磁性金
属薄層の図面代用光学的顕微鏡写真（倍率は写真下方の
５０μｍ線分で示される）である。
理した基板上に金属蒸着した場合の磁気記録媒体磁性金
属薄層の図面代用光学的顕微鏡写真（倍率は写真下方の
５０μｍ線分で示される）である。
【図８】本発明により酸素を使用してエッチング予備処
理した基板上に金属蒸着した場合の磁気記録媒体磁性金
属薄層の図面代用光学的顕微鏡写真（倍率は写真下方の
５０μｍ線分で示される）である。
理した基板上に金属蒸着した場合の磁気記録媒体磁性金
属薄層の図面代用光学的顕微鏡写真（倍率は写真下方の
５０μｍ線分で示される）である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 5/85 Ａ 7303−5Ｄ (72)発明者 アルフレート、ハーゲマイァー ドイツ連邦共和国、6700、ルートヴィヒス ハーフェン、アン、デァ、フロシュラヘ、 23 (72)発明者 ハルトムート、ヒブスト ドイツ連邦共和国、6905、シュリースハイ ム、ブラニヒシュトラーセ、23
Claims (1)
- 【請求項１】 主要面の少なくとも１面がイオンエッチ
ングで前処理されているシート状重合体基板と、この基
板の処理された主要面上にＰＶＤ法により形成された厚
さ５０−１０００ｎｍの強磁性の、コバルトを含有する
金属密着薄層とから成り、金属薄層用の基板の少なくと
もその主要面が、窒素もしくは酸素を含有する気体によ
るイオンエッチングであらかじめ変性されていることを
特徴とする磁気記録媒体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4226911.3 | 1992-08-14 | ||
| DE19924226911 DE4226911A1 (de) | 1992-08-14 | 1992-08-14 | Magnetischer Aufzeichnungsträger |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06267054A true JPH06267054A (ja) | 1994-09-22 |
Family
ID=6465538
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20169093A Pending JPH06267054A (ja) | 1992-08-14 | 1993-08-13 | 磁気記録媒体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06267054A (ja) |
| DE (1) | DE4226911A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016194383A1 (ja) * | 2015-06-02 | 2016-12-08 | 富士電機株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1992
- 1992-08-14 DE DE19924226911 patent/DE4226911A1/de not_active Withdrawn
-
1993
- 1993-08-13 JP JP20169093A patent/JPH06267054A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016194383A1 (ja) * | 2015-06-02 | 2016-12-08 | 富士電機株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| CN107430872A (zh) * | 2015-06-02 | 2017-12-01 | 富士电机株式会社 | 磁记录介质的制造方法 |
| JPWO2016194383A1 (ja) * | 2015-06-02 | 2018-03-01 | 富士電機株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| CN107430872B (zh) * | 2015-06-02 | 2019-07-30 | 富士电机株式会社 | 磁记录介质的制造方法 |
| US10923150B2 (en) | 2015-06-02 | 2021-02-16 | Fuji Electric Co., Ltd. | Method for producing magnetic recording medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE4226911A1 (de) | 1994-02-17 |
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