JPH06266124A - Electrophotographic sensitive body - Google Patents

Electrophotographic sensitive body

Info

Publication number
JPH06266124A
JPH06266124A JP8025693A JP8025693A JPH06266124A JP H06266124 A JPH06266124 A JP H06266124A JP 8025693 A JP8025693 A JP 8025693A JP 8025693 A JP8025693 A JP 8025693A JP H06266124 A JPH06266124 A JP H06266124A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
resin
block
polymer
polymer component
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8025693A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Eiichi Kato
栄一 加藤
Kazuo Ishii
一夫 石井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP8025693A priority Critical patent/JPH06266124A/en
Priority to DE4392441T priority patent/DE4392441T1/en
Priority to US08/193,071 priority patent/US5459005A/en
Priority to PCT/JP1993/000748 priority patent/WO1993024864A1/en
Publication of JPH06266124A publication Critical patent/JPH06266124A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide an electrophotographic sensitive body improved in image reproducibility, moisture resistance and surface strength, excellent in reproducibility of a high definition image especially with a liq. developer and also excellent in image pickup property by a scanning exposure system with a low output laser light. CONSTITUTION:This electrophotographic sensitive body contains a low mol.wt. AB block copolymer resin consisting of block A contg. a polymer component having a specified polar group and block B contg. a polymer component represented by formula I and a medium to high mol.wt. AB and/or ABA block copolymer resin consisting of block A contg. a polymer component represented by formula II and block B contg. a monofunctional macromonomer contg. a component having a specified polar group as binding resins. In the formula I, R<11> is a hydrocarbon. In the formula II, each of a<1> and a<2> is H, a halogen, cyano or hydrocarbon and R<11> is a hydrocarbon.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関し、
詳しくは画像再現性、耐湿性及び耐面強度に優れた電子
写真感光体に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor,
More specifically, it relates to an electrophotographic photoreceptor having excellent image reproducibility, moisture resistance and surface strength.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子写真感光体は、所定の特性を得るた
め、あるいは適用される電子写真プロセスの種類に応じ
て、種々の構成をとる。電子写真感光体の代表的なもの
として、支持体上に光導電層が形成されている感光体及
び表面に絶縁層を備えた感光体があり、広く用いられて
いる。
2. Description of the Related Art Electrophotographic photoreceptors have various structures in order to obtain predetermined characteristics or depending on the type of electrophotographic process applied. Typical electrophotographic photoconductors are a photoconductor having a photoconductive layer formed on a support and a photoconductor having an insulating layer on the surface thereof, which are widely used.

【0003】支持体と少なくとも1つの光導電層から構
成される感光体は、最も一般的な電子写真プロセスによ
る、即ち帯電、画像露光及び現像、更に必要に応じて転
写による画像形成に用いられる。更には、ダイレクト製
版用のオフセット原版として電子写真感光体を用いる方
法が広く実用されている。特に近年、ダイレクト電子写
真平版は数百枚から数千枚程度の印刷枚数で高画質の印
刷物を印刷する方式として重要となってきている。こう
した状況の中で、電子写真感光体の光導電層を形成する
ために使用する結着樹脂は、それ自体の成膜性および光
導電性粉体の結着樹脂への分散能力が優れるとともに、
形成された記録体層の基材に対する接着性が良好であ
り、しかも記録体層の光導電層は帯電能力に優れ、暗減
衰が小さく、光減衰が大きく、前露光疲労が少なく、且
つ、撮影時の湿度の変化によってこれら特性を安定に保
持していることが必要である等の各種の静電特性および
優れた撮像性を具備する必要がある。
Photoreceptors composed of a support and at least one photoconductive layer are used for image formation by the most common electrophotographic processes, ie charging, imagewise exposure and development, and optionally transfer. Further, a method of using an electrophotographic photosensitive member as an offset original plate for direct plate making is widely used. Particularly in recent years, the direct electrophotographic lithographic printing plate has become important as a method for printing high-quality printed matter by printing several hundred to several thousand sheets. In such a situation, the binder resin used for forming the photoconductive layer of the electrophotographic photosensitive member has excellent film-forming property of itself and dispersibility in the binder resin of the photoconductive powder,
The formed recording layer has good adhesion to the substrate, and the photoconductive layer of the recording layer has excellent charging ability, small dark decay, large light decay, little pre-exposure fatigue, and shooting It is necessary to have various electrostatic characteristics such as being required to stably maintain these characteristics due to changes in humidity with time, and excellent image pickup properties.

【0004】更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用
原版の研究が鋭意行なわれており、電子写真感光体とし
ての静電特性と印刷原版としての印刷特性を両立させた
光導電層用の結着樹脂が必要である。無機光導電材料、
分光増感色素及び結着樹脂を少なくとも含有する光導電
層において、結着樹脂の化学構造によって、平滑性のみ
ならず静電特性が大きく影響を受けることが判ってき
た。特に静電特性において、暗電荷保持率(D.R.
R.)や光感度が大きく左右される。
Further, research on a lithographic printing original plate using an electrophotographic photosensitive member has been earnestly conducted, and a photoconductive layer for a photoconductive layer having both electrostatic characteristics as an electrophotographic photosensitive member and printing characteristics as a printing original plate has been made. Binder resin is required. Inorganic photoconductive material,
It has been found that, in the photoconductive layer containing at least the spectral sensitizing dye and the binder resin, not only the smoothness but also the electrostatic properties are greatly affected by the chemical structure of the binder resin. Particularly in the electrostatic characteristics, the dark charge retention rate (D.R.
R. ) And light sensitivity are greatly affected.

【0005】これに対し、酸性基を含有する比較的低分
子量(103 〜104 程度)の樹脂を結着樹脂として用
いる事で、平滑性及び静電特性を良化する技術が種々検
討されている。例えば、特開昭63−217354号に
は酸性基含有重合成分が重合体主鎖にランダムに存在す
る樹脂、同64−70761号には重合体主鎖の片末端
に酸性基を結合して成る樹脂、特開平2−67563
号、同2−236561号、同2−238458号、同
2−236562号及び同2−247656号等には酸
性基をグラフト型共重合体の主鎖末端に結合して成る樹
脂又は酸性基をグラフト型共重合体のグラフト部に含有
する樹脂、同3−181948号には酸性基をブロック
で含有するAB型ブロック共重合体等がそれぞれ記載さ
れている。これらは、該低分子量の樹脂が、光導電体の
分散を充分に行ない光導電体同志の凝集を抑制する効果
を有すること及び光導電体と分光増感色素との吸着を疎
外しないで該無機光導電体の化学量論的な欠陥に充分に
吸着するとともに光導電体の表面をゆるやかに且つ充分
に被覆していることによると推定される。
On the other hand, various techniques for improving smoothness and electrostatic characteristics have been studied by using a resin having a relatively low molecular weight (about 10 3 to 10 4 ) containing an acidic group as a binder resin. ing. For example, JP-A No. 63-217354 discloses a resin in which an acidic group-containing polymerization component is randomly present in the polymer main chain, and JP-A No. 64-70761 has an acidic group bonded to one end of the polymer main chain. Resin, JP-A-2-67563
Nos. 2,236,561, 2,238,458, 2,236,562, and 2,247,656, etc., each have a resin or an acidic group formed by bonding an acidic group to the end of the main chain of the graft copolymer. Resins contained in the graft portion of the graft type copolymer, and JP-A No. 3-181948 describe AB type block copolymers containing an acidic group as a block. These are such that the low molecular weight resin has an effect of sufficiently dispersing the photoconductor and suppressing the aggregation of the photoconductors, and the inorganic substance without alienating the adsorption between the photoconductor and the spectral sensitizing dye. It is presumed that this is due to the fact that the photoconductor is sufficiently adsorbed to the stoichiometric defects and the surface of the photoconductor is covered gently and sufficiently.

【0006】その作用機構により、無機光導電体の化学
量論的な欠陥部が多少変動しても、充分な吸着領域をも
つ事から比較的安定した無機光導電体、分光増感色素及
び樹脂同志の相互作用が保たれると推論される。更に、
これらの低分子量の樹脂のみでは不充分な光導電層の機
械的強度を充分ならしめるために、中〜高分子量の他の
樹脂を併用する技術あるいは硬化性基を含有した樹脂を
併用して成膜後に硬化する技術、あるいは更に、環境の
変化や半導体レーザー光を用いた場合においても比較的
高い性能を維持する技術等が種々検討されている。例え
ば、特開昭64−564号、同63−220149号、
同63−220148号、特開平1−280761号、
同1−116643号、同1−169455号、同1−
211766号、同2−34859号、同2−5306
4号、同2−56558号、同3−29954号、同3
−77954号、同3−92861号、同3−5325
7号、同3−92863号、同3−206464号、同
3−225344号、同3−181948号、同3−2
38462号、同4−22961号、同4−30169
号、同4−29243号、同4−27951号、同4−
25849号、同4−31866号及び同4−3285
0号各公報等に記載されている。
Due to its mechanism of action, the inorganic photoconductor, the spectral sensitizing dye, and the resin are relatively stable because they have a sufficient adsorption region even if the stoichiometric defects of the inorganic photoconductor fluctuate to some extent. It is inferred that mutual interaction is maintained. Furthermore,
In order to make the mechanical strength of the photoconductive layer sufficient by using only these low molecular weight resins, the technique of using another resin of medium to high molecular weight or the resin containing a curable group is used in combination. Various studies have been conducted on a technique of curing after film formation, or a technique of maintaining a relatively high performance even when an environment change or a semiconductor laser beam is used. For example, JP-A-64-564, JP-A-63-220149,
63-220148, JP-A-1-280761,
No. 1-116643, No. 1-169455, No. 1-
No. 211766, No. 2-34859, No. 2-5306
No. 4, No. 2-56558, No. 3-29954, No. 3
-77954, 3-92861, 3-5325.
No. 7, No. 3-92863, No. 3-206464, No. 3-225344, No. 3-181948, No. 3-2.
No. 38462, No. 4-22961, No. 4-30169
No. 4-29243, 4-27951, 4-
No. 25849, No. 4-31866 and No. 4-3285.
No. 0, etc.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の酸性基を含有する種々の低分子量の樹脂、更にこれら
の樹脂に種々の中〜高分子量の樹脂を組み合わせて用い
ても、実用上の光導電層の機械的強度に問題を生じる場
合のある事がわかった。例えば、感光体がシート状ある
いはロール状で、複写機(あるいは製版機)に供される
場合、これらの感光体は、光導電層表面と感光体の裏面
が常に接触しており、時により激しくコスられることは
避けられない。こうした時、電子写真プロセスを経て、
複写画像を形成して見ると、コスられた部分では画像の
欠落、あるいは非画像部の地汚れを生じてしまうという
問題が現われた。
However, even if various low molecular weight resins containing these acidic groups, and further various medium to high molecular weight resins are used in combination, the photoconductive property in practical use is reduced. It has been found that problems can occur in the mechanical strength of the layers. For example, when the photoconductor is used in a copying machine (or a plate making machine) in the form of a sheet or a roll, the photoconductive layer surface of the photoconductor is always in contact with the back surface of the photoconductor, and the photoconductor is sometimes violently violent. It's inevitable that you'll be costed. At such time, through the electrophotographic process,
When a copied image is formed and viewed, there is a problem that the image is missing or the non-image portion is smeared at the distorted portion.

【0008】又、環境が高温・高湿から低温・低湿まで
著しく変動した場合でも、オリジナルに対する複写画像
再現性が良好且つ安定に維持されることが望ましい。特
に半導体レーザー光を用いたスキャンニング露光方式で
は、従来の可視光による全面同時露光方式に比べ、露光
時間が長くなり、また露光強度にも制約があることか
ら、静電特性、特に暗電荷保持特性、光感度に対して、
より高い性能が要求される。
Further, it is desirable that the reproduced image reproducibility with respect to the original is kept good and stable even when the environment changes remarkably from high temperature / high humidity to low temperature / low humidity. In particular, the scanning exposure method using semiconductor laser light has a longer exposure time than the conventional simultaneous full-time exposure method using visible light, and there is also a restriction on the exposure intensity, so electrostatic characteristics, especially dark charge retention, are retained. For characteristics and light sensitivity,
Higher performance is required.

【0009】更に、近年、線画及び網点から成る画像の
複写画像のみならず、連続階調から成る高精細な画像を
液体現像剤を用いて忠実に再現する技術の実現が望まれ
ている。従来の感光体で、実際に画像再現性を試験して
みると、複写画像の階調が軟調になったり、あるいは、
原稿の貼り込み跡が生じたりした。あるいは、静電特性
は良好であるが実際の複写画像は連続階調部に濃度ムラ
が生じたりしてしまった。
Further, in recent years, it has been desired to realize a technique for faithfully reproducing not only a copied image of an image composed of line drawings and halftone dots but also a high-definition image composed of continuous gradations by using a liquid developer. When actually testing the image reproducibility with a conventional photoconductor, the gradation of the copied image becomes soft, or
There was a trace of pasting the original. Alternatively, the electrostatic characteristics are good, but the actual copy image has uneven density in the continuous tone portion.

【0010】特に、電子写真式平版印刷用原版におい
て、半導体レーザー光を用いたスキャンニング露光方式
を採用した場合、印刷物に、階調部の濃度ムラ、あるい
は低湿条件下で、ベタ画像部に白班ムラ等生じてしまっ
た。従来公知の技術においては、低分子量の樹脂と併用
する中〜高分子量の樹脂によって、上記低分子量の樹脂
で高性能化された実際の画像再現性が低下することがあ
り、実際に前記した様なこれら公知の樹脂の組合せで用
いた光導電層を有する電子写真感光体は、前述の様な高
精細な画像(特に連続階調画像)の忠実な複写画像の再
現性あるいは、低出力のレーザー光を用いたスキャンニ
ング露光方式による撮像性に対して、問題を生じ得るこ
とが明らかになった。
In particular, when a scanning exposure method using a semiconductor laser beam is adopted in an electrophotographic lithographic printing plate, the printed matter may have white spots in a solid image area under uneven density in gradation areas or under low humidity conditions. The unevenness has occurred. In the conventionally known technique, the medium to high molecular weight resin used in combination with the low molecular weight resin may reduce the actual image reproducibility which is improved by the low molecular weight resin. The electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer used in combination with these known resins is a reproducible copy image of a high-definition image (especially continuous tone image) as described above, or a low output laser. It has become clear that a problem may occur with respect to the imaging property of the scanning exposure method using light.

【0011】本発明は、以上の様な従来公知の電子写真
感光体の有する課題を改良するものである。本発明の目
的は、光導電層の耐コスレ性が著しく良好で、複写画像
再現性の優れた鮮明で良質な画像を有する電子写真感光
体を提供することである。本発明の他の目的は、複写画
像形成時の環境が低温低湿あるいは高温高湿の如く変動
した場合でも、常に安定して良好な静電特性を維持し、
鮮明で良質な画像を有する電子写真感光体を提供するこ
とである。
The present invention is intended to improve the problems of the above-described conventionally known electrophotographic photoreceptors. An object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member having a sharp and high-quality image with excellent reproducibility of copied images, in which the photoconductive layer has extremely good resistance to abrasion. Another object of the present invention is to always maintain stable and good electrostatic characteristics even when the environment during copy image formation changes such as low temperature low humidity or high temperature high humidity.
An object is to provide an electrophotographic photosensitive member having a clear and high-quality image.

【0012】本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ
環境依存性の小さいCPC電子写真感光体を提供するこ
とである。本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用
いたスキャンニング露光方式に有効な電子写真感光体を
提供することである。本発明の更なる目的は、静電特性
(特に暗電荷保持性及び光感度)に優れ、原画(特に高
精細な連続階調画像)に対して忠実な複写画像を再現
し、且つ、印刷物の全面一様な地汚れはもちろん点状の
地汚れをも発生させず、また耐刷性の優れた電子写真式
平版印刷原版を提供することである。
Another object of the present invention is to provide a CPC electrophotographic photosensitive member which is excellent in electrostatic characteristics and has little environmental dependence. Another object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member effective for a scanning exposure system using a semiconductor laser beam. A further object of the present invention is to have excellent electrostatic properties (especially dark charge retention and photosensitivity), reproduce a faithful copy image with respect to an original image (especially a high-definition continuous tone image), and obtain a printed matter. An object of the present invention is to provide an electrophotographic lithographic printing original plate which does not generate spot stains as well as uniform stains on the entire surface and has excellent printing durability.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記目的は、無機光導電
材料、分光増感色素及び結着樹脂を少なくとも含有する
光導電層を有する電子写真感光体において、該結着樹脂
が、下記樹脂〔A〕の少なくとも1種及び下記樹脂
〔B〕の少なくとも1種を各々含有して成ることを特徴
とする電子写真感光体により達成されることが見出され
た。 樹脂〔A〕 1×103 〜2×104 の重量平均分子量を有し、−P
3 2 、−COOH、−SO3 H、フェノール性OH
基、−P(=O)(OH)R1 〔R1 は炭化水素基又は
−OR2 (R2 は炭化水素基を表す)を表す〕及び環状
酸無水物基から選択される少なくとも1種の極性基を有
する重合体成分を含有するAブロックと下記一般式
(I)で示される重合体成分を少なくとも含有するBブ
ロックとから構成されるAB型ブロック共重合体。
The above object is to provide an electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductive material, a spectral sensitizing dye and a binder resin, wherein the binder resin is It was found to be achieved by an electrophotographic photosensitive member characterized by containing at least one kind of A] and at least one kind of the following resin [B]. Resin [A] having a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 10 4 ,
O 3 H 2, -COOH, -SO 3 H, phenolic OH
Group, -P (= O) (OH ) R 1 [R 1 is a hydrocarbon group or -OR 2 (R 2 represents a hydrocarbon group)] at least one selected from and cyclic acid anhydride group An AB-type block copolymer composed of an A block containing a polymer component having a polar group and a B block containing at least a polymer component represented by the following general formula (I).

【0014】[0014]

【化5】 [Chemical 5]

【0015】〔式(I)中、R11は炭化水素基を表わ
す。〕 樹脂〔B〕 3×104 〜1×106 の重量平均分子量を有し、下記
一般式(II)で示される繰り返し単位から成る重合体成
分を少なくとも含有するAブロックと、−PO3 2
−COOH、−SO3 H、−P(=O)(OH)R
1 (R1 は上記と同様の内容を表す)及び環状酸無水物
基から選ばれる少なくとも1種の極性基を有する重合体
成分を含有する重合体主鎖の一方の末端のみに重合性二
重結合基を結合して成る重量平均分子量1×103 〜2
×104 の一官能性マクロモノマー(M)を少なくとも
1種含有するBブロックとで構成されるAB型及び/又
はABA型ブロック共重合体。
[In the formula (I), R 11 represents a hydrocarbon group. Resin [B] A block having a weight average molecular weight of 3 × 10 4 to 1 × 10 6 and containing at least a polymer component composed of a repeating unit represented by the following general formula (II), and —PO 3 H 2 ,
-COOH, -SO 3 H, -P ( = O) (OH) R
1 (R 1 has the same meaning as described above) and a polymerizable double bond only at one end of the polymer main chain containing a polymer component having at least one polar group selected from cyclic acid anhydride groups. Weight average molecular weight 1 × 10 3 to 2 formed by bonding a bonding group
An AB-type and / or ABA-type block copolymer composed of a B block containing at least one monofunctional macromonomer (M) of × 10 4 .

【0016】[0016]

【化6】 [Chemical 6]

【0017】〔式(II)中、a1 、a2 は各々水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表す。R
12は炭化水素基を表す。〕
[In the formula (II), a 1 and a 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. R
12 represents a hydrocarbon group. ]

【0018】即ち、本発明の結着樹脂は、上記特定の極
性基成分を含有するAブロックと上記一般式(I)で示
される重合体成分を含有するBブロックからなる低分子
量の樹脂〔A〕と、一般式(II)で示される重合体成分
を少なくとも含有し、且つ上記特定の極性基成分を含有
しないAブロックと、上記特定の極性基成分を重合体成
分として含有する一官能性マクロモノマー(M)を少な
くとも共重合成分として含有するBブロックとから成る
中〜高分子量のAB型及び/又はABA型ブロック共重
合体(樹脂〔B〕)とから少なくとも構成される。
That is, the binder resin of the present invention is a low molecular weight resin [A having a block A containing the specific polar group component and a block B containing the polymer component represented by the general formula (I). ], And a monoblock containing at least the polymer component represented by the general formula (II) and not containing the specific polar group component, and the specific polar group component as the polymer component. It is composed at least of a medium to high molecular weight AB type and / or ABA type block copolymer (resin [B]) comprising a B block containing at least a monomer (M) as a copolymerization component.

【0019】光導電層の結着樹脂は、無機光導電体粒子
を充分に均一に分散し、且つ凝集しない状態を形成し、
且つ、分光増感色素更には化学増感剤が該粒子表面に充
分に吸着することを阻害しない事がまず重要である。本
発明の樹脂〔A〕及び樹脂〔B〕は、上記の状態を適切
に形成するものである。
The binder resin of the photoconductive layer disperses the inorganic photoconductive particles sufficiently uniformly and forms a state in which they do not aggregate.
In addition, it is first important not to prevent the spectral sensitizing dye and the chemical sensitizer from being sufficiently adsorbed on the surface of the grain. The resin [A] and the resin [B] of the present invention appropriately form the above state.

【0020】即ち、本発明の樹脂〔A〕は、低分子量体
で該粒子に吸着する働きをもつ特定の極性基成分を多く
含有することから、樹脂〔B〕よりも吸着性が強く、選
択的に該粒子に充分に吸着し、それにより該粒子を均一
に分散する。更にその高分子鎖が非常に短いことにより
該粒子の凝集を抑制する働きも有する。従って、無機光
導電体の化学量論的な欠陥部が多少変動しても充分な吸
着領域をもつ事から、常に安定した無機光導電体と樹脂
〔A〕との相互作用が保たれ、更には分光増感色素、化
学増感剤等の添加剤の吸着疎外を起こさないという重要
な作用をも有するものと考えられる。
That is, since the resin [A] of the present invention contains a large amount of a specific polar group component which is a low molecular weight substance and has a function of adsorbing to the particles, the resin [A] has a stronger adsorptivity than the resin [B] and is therefore selected. To the particles sufficiently to thereby uniformly disperse the particles. Further, since the polymer chain is very short, it also has a function of suppressing aggregation of the particles. Therefore, even if the stoichiometric defect portion of the inorganic photoconductor fluctuates to some extent, it has a sufficient adsorption region, so that a stable interaction between the inorganic photoconductor and the resin [A] is always maintained. Is also considered to have an important action of preventing the adsorption of additives such as spectral sensitizing dyes and chemical sensitizers.

【0021】また、低分子量の樹脂〔A〕と併用すべき
中〜高分子量としての本発明の樹脂〔B〕は、併用する
樹脂〔A〕よりも特定の極性基成分含有量が少なく且つ
下記化7に示す様に、該極性基が該樹脂〔B〕のブロッ
クポリマーの重合体中において、特定の位置に含有され
ている事を特徴とする。
The resin [B] of the present invention having a medium to high molecular weight to be used in combination with the low molecular weight resin [A] has a specific polar group component content lower than that of the resin [A] used in combination and has the following content. As shown in Chemical formula 7, the polar group is contained at a specific position in the block polymer of the resin [B].

【0022】[0022]

【化7】 [Chemical 7]

【0023】従って、本発明の樹脂〔B〕は、Bブロッ
クのマクロモノマー重合体部分が無機光導電体粒子と吸
着し、逆にAブロックは該粒子表面から離れて存在する
という状態を形成していると考えられる。この事によ
り、樹脂〔A〕及び添加剤の吸着状態を疎外せず、且つ
該樹脂の高分子鎖が長いにも拘わらず、該光導電体粒子
と吸着するブロックと吸着しないブロックになっている
ことで、吸着しないブロックは該粒子間で吸着して、粒
子の凝集を生じることもない。更には、充分に長い鎖長
のAブロック部分は、高分子鎖間で充分な絡み合いを形
成し易くなっていると推定される。
Therefore, the resin [B] of the present invention forms a state in which the macromonomer polymer portion of the B block is adsorbed to the inorganic photoconductive particles, and conversely, the A block exists away from the surface of the particles. It is thought that As a result, the adsorbed state of the resin [A] and the additive is not alienated, and a block that adsorbs the photoconductor particles and a block that does not adsorb despite the long polymer chain of the resin. As a result, the non-adsorbed block is not adsorbed between the particles to cause agglomeration of the particles. Furthermore, it is presumed that the A block portion having a sufficiently long chain length is likely to form sufficient entanglement between polymer chains.

【0024】以上の様な事から、本発明の結着樹脂を用
いることにより、環境条件が変動しても、良好で安定し
た複写画像再現性を示し、且つ、膜の機械的強度が飛躍
的に向上し、コスリ等の力に対しても耐久性を有し、い
わゆる圧力カブリの現象が著しく改善されたと考えられ
る。この作用は、近赤外〜赤外光の分光増感用色素とし
て特に有効なポリメチン色素あるいはフタロシアニン系
顔料で特に顕著な効果を示した。
From the above, by using the binder resin of the present invention, good and stable reproduced image reproducibility is exhibited even when environmental conditions are changed, and the mechanical strength of the film is dramatically improved. It is considered that the phenomenon of so-called pressure fog is remarkably improved because it has improved durability and durability against forces such as abrasion. This effect was particularly remarkable with polymethine dyes or phthalocyanine pigments, which are particularly effective as dyes for spectral sensitization from near infrared to infrared light.

【0025】更には本発明において、樹脂〔A〕とし
て、下記一般式(Ia)及び一般式(Ib)で示され
る、特定の置換基をもつメタクリレート成分と極性基成
分とを含有する樹脂〔A〕(以降この樹脂を特に樹脂
〔A′〕と称する)であることが好ましい。
Further, in the present invention, as the resin [A], a resin [A] containing a methacrylate component having a specific substituent and a polar group component represented by the following general formulas (Ia) and (Ib) ] (Hereinafter, this resin is particularly referred to as a resin [A ']).

【0026】[0026]

【化8】 [Chemical 8]

【0027】[0027]

【化9】 [Chemical 9]

【0028】〔式(Ia)及び(Ib)中、A1 及びA
2 は互いに独立に各々水素原子、炭素数1〜10の炭化
水素基、ハロゲン原子、シアノ基、−COZ2 又は−C
OOZ2 (Z2 は炭素数1〜10の炭化水素基を表す)
を表し、B1 及びB2 は各々−COO−とベンゼン環を
結合する単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表
す〕 上記特定の樹脂〔A′〕を用いると樹脂〔A〕の場合よ
りもより一層電子写真特性(特にV10、D.R.R、E
1/10)の向上とともに、実際の複写画像再現性も、著し
く良化できる。この事の理由は不明であるが、1つの理
由として、メタクリレートのエステル成分である、平面
性のベンゼン環又はナフタレン環の効果により、膜中の
光導電体界面でのこれらのポリマー分子鎖の配列が適切
に行なわれることによるものと考えられる。
[In the formulas (Ia) and (Ib), A 1 and A
2 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a halogen atom, a cyano group, -COZ 2 or -C.
OOZ 2 (Z 2 represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms)
And B 1 and B 2 each represent a single bond or a linking group having 1 to 4 connecting atoms for connecting —COO— and a benzene ring.] When the above specific resin [A ′] is used, resin [A] Electrophotographic characteristics (especially V 10 , DRR, E
With the improvement of 1/10 ), the reproducibility of the actual copied image can be significantly improved. The reason for this is unclear, but one reason is that due to the effect of the planar benzene ring or naphthalene ring, which is the ester component of methacrylate, the alignment of these polymer molecular chains at the photoconductor interface in the film. It is thought that this is due to the fact that

【0029】一方、光導電体として光導電性酸化亜鉛を
用いた本発明の電子写真感光体を従来公知のダイレクト
刷版として用いた場合には優れた撮像性とともに著しく
良好な保水性を示す。即ち、電子写真プロセスを経て複
写画像を形成した本発明の感光体を、従来公知の不感脂
化処理液により非画像部を化学処理により不感脂化し
て、印刷用原版とし、これをオフセット印刷により印刷
した時に優れた印刷用原版としての性能を示すものであ
る。
On the other hand, when the electrophotographic photoreceptor of the present invention using photoconductive zinc oxide as the photoconductor is used as a conventionally known direct printing plate, it exhibits excellent image pick-up property and remarkably good water retention. That is, the photoconductor of the present invention on which a copied image is formed through an electrophotographic process is desensitized to a non-image portion by a chemical treatment with a conventionally known desensitizing treatment liquid to prepare a printing original plate, which is subjected to offset printing. It shows excellent performance as an original plate for printing when printed.

【0030】本発明の感光体を不感脂化処理すると、非
画像部の親水化が充分になされ、保水性が向上すること
から印刷枚数が飛躍的に向上した。これは、上記した酸
化亜鉛粒子が均一に分散されていること及び酸化亜鉛粒
子表面に存在する結着樹脂の存在状態が適切で不感脂化
処理液との不感脂化反応が疎外されず迅速に且つ効果的
に進行することによるものと考えられる。
When the photosensitizer of the present invention is desensitized, the non-image areas are sufficiently hydrophilized and the water retention is improved, so that the number of printed sheets is dramatically improved. This is because the zinc oxide particles are uniformly dispersed and the presence state of the binder resin present on the surface of the zinc oxide particles is appropriate and the desensitizing reaction with the desensitizing treatment liquid is not alienated and quickly. It is considered that this is due to effective progress.

【0031】以下に、本発明の結着樹脂について詳しく
説明する。まず、本発明の樹脂〔A〕について説明す
る。樹脂〔A〕の重量平均分子量は1×103 〜2×1
4 、好ましくは2×103 〜1×104 であり、樹脂
〔A〕のガラス転移点は好ましくは−10℃〜100℃
の範囲のものが好ましいが、より好ましくは−5℃〜8
5℃である。
The binder resin of the present invention will be described in detail below. First, the resin [A] of the present invention will be described. The weight average molecular weight of the resin [A] is 1 × 10 3 to 2 × 1.
0 4 , preferably 2 × 10 3 to 1 × 10 4 , and the glass transition point of the resin [A] is preferably −10 ° C. to 100 ° C.
It is preferably in the range of, but more preferably -5 ° C to 8
It is 5 ° C.

【0032】樹脂〔A〕の分子量が1×103 より小さ
くなると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度を保てず、
一方分子量が2×104 より大きくなると本発明の樹脂
であっても、特に近赤外〜赤外分光増感色素を用いた感
光体において、高温・高湿、低温・低湿の苛酷な条件下
での暗電荷保持率及び光感度の変動が多少大きくなり、
安定した複写画像が得られるという本発明の効果が薄れ
てしまう。
When the molecular weight of the resin [A] is less than 1 × 10 3 , the film forming ability is deteriorated and sufficient film strength cannot be maintained.
On the other hand, when the molecular weight is more than 2 × 10 4 , even in the case of the resin of the present invention, particularly in a photoreceptor using a near infrared to infrared spectral sensitizing dye, high temperature / high humidity, low temperature / low humidity under severe conditions. Fluctuation of dark charge retention rate and photosensitivity in
The effect of the present invention that a stable copy image is obtained is diminished.

【0033】樹脂〔A〕におけるAB型ブロック共重合
体での特定の極性基含有成分の重合体成分量は、樹脂
〔A〕100重量部当り好ましくは0.5〜20重量
部、より好ましくは3〜15重量部の割合で含有され
る。
The amount of the polymer component of the specific polar group-containing component in the AB type block copolymer in the resin [A] is preferably 0.5 to 20 parts by weight, more preferably 100 parts by weight of the resin [A]. It is contained in a proportion of 3 to 15 parts by weight.

【0034】樹脂〔A〕における極性基含有成分量が
0.5重量%より少ないと、初期電位が低くて充分な画
像濃度を得ることができない。一方、該極性基含有成分
量が20重量%よりも多いと、いかに低分子量体といえ
ども光導電体粒子の分散性が低下し、高温高湿での膜平
滑度及び電子写真特性が低下し、更にオフセットマスタ
ーとして用いるときに地汚れが増大する。
When the amount of the polar group-containing component in the resin [A] is less than 0.5% by weight, the initial potential is low and a sufficient image density cannot be obtained. On the other hand, when the content of the polar group-containing component is more than 20% by weight, the dispersibility of the photoconductor particles is lowered, no matter how low the molecular weight is, and the film smoothness at high temperature and high humidity and the electrophotographic properties are deteriorated. Moreover, when used as an offset master, the background stain increases.

【0035】次に、樹脂〔A〕であるAB型ブロック共
重合体のAブロックを構成する特定の極性基を含有する
重合体成分について、更に具体的に説明する。該極性基
としては、−PO3 2 基、−SO3 H基、−COOH
基、フェノール性OH基、−P(=O)(OH)R1 基及
び環状酸無水物基が挙げられ、好ましくは、−SO3
基、−COOH基、−P(=O)(OH)R1 基及びフェ
ノール性OH基が挙げられる。
Next, the polymer component containing a specific polar group constituting the A block of the AB type block copolymer which is the resin [A] will be described more specifically. The polar group, -PO 3 H 2 group, -SO 3 H group, -COOH
Groups, phenolic OH groups, -P (= O) (OH ) R 1 group and a cyclic acid anhydride group, and preferably, -SO 3 H
Group, -COOH group, -P (= O) (OH ) R 1 group and the phenolic OH group.

【0036】ここで、−P(=O)(OH)R1 は、下記
化10で表わされる基を示し、ここにおいて該R1 は炭
化水素基又は−OR2 基(R2 は炭化水素基を表す)を
表し、R1 は好ましくは炭素数1〜22の脂肪族基(例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
キシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタ
デシル基、プロペニル基、メトキシメチル基、エトキシ
メチル基、2−エトキシエチル基,2−クロロエチル
基、2−ブロムエチル基、2−メトキシエチル基、2−
フロロエチル基、3−クロロプロピル基、3−メトキシ
プロピル基、3−エトキシプロピル基、2−メトキシブ
チル基、アリル基、クロトニル基、ブテニル基、シクロ
ヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニル
プロピル基、メチルベンジル基、クロロベンジル基、フ
ロロベンジル基、メトキシベンジル基等)又は置換され
てもよいアリール基(例えば、フェニル基、トリル基、
エチルフェニル基、プロピルフェニル基、クロロフェニ
ル基、フロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロ−
メチル−フェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフ
ェニル基、シアノフェニル基、アセトアミドフェニル
基、アセチルフェニル基、ブトキシフェニル基等)等を
表わし、R2 はR1 と同一の内容を表す。
Here, -P (= O) (OH) R 1 represents a group represented by the following chemical formula 10 , wherein R 1 is a hydrocarbon group or an -OR 2 group (R 2 is a hydrocarbon group. R 1 is preferably an aliphatic group having 1 to 22 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, Propenyl group, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-
Fluoroethyl group, 3-chloropropyl group, 3-methoxypropyl group, 3-ethoxypropyl group, 2-methoxybutyl group, allyl group, crotonyl group, butenyl group, cyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group , A methylbenzyl group, a chlorobenzyl group, a fluorobenzyl group, a methoxybenzyl group, etc.) or an optionally substituted aryl group (eg, a phenyl group, a tolyl group,
Ethylphenyl group, propylphenyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, bromophenyl group, chloro-
Methyl-phenyl group, dichlorophenyl group, methoxyphenyl group, cyanophenyl group, acetamidophenyl group, acetylphenyl group, butoxyphenyl group, etc.) and R 2 has the same content as R 1 .

【0037】[0037]

【化10】 [Chemical 10]

【0038】フェノール性OH基としては、ヒドロキシ
フェノール又はヒドロキシフェニル基を置換基として含
有するメタクリル酸エステルもしくはアミド類を例とし
て挙げることができる。
Examples of the phenolic OH group include methacrylic acid esters or amides containing a hydroxyphenol or hydroxyphenyl group as a substituent.

【0039】また、環状酸無水物基とは、少なくとも1
つの環状酸無水物を含有する基であり、含有される環状
酸無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族
ジカルボン酸無水物が挙げられる。
The cyclic acid anhydride group means at least 1
It is a group containing one cyclic acid anhydride, and examples of the cyclic acid anhydride contained therein include an aliphatic dicarboxylic acid anhydride and an aromatic dicarboxylic acid anhydride.

【0040】脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、
コハク酸無水物、、グルタコン酸無水物環、マレイン酸
無水物環、シクロぺンタン−1,2−ジカルボン酸無水
物環、シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物
環、シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物環、
2,3−ビシクロ〔2.2.2〕オクタジカルボン酸無
水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば塩素原子、
臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチ
ル基、ヘキシル基等のアルキル基等が置換されていても
よい。
Examples of the aliphatic dicarboxylic acid anhydride include:
Succinic anhydride, glutaconic anhydride ring, maleic anhydride ring, cyclopentane-1,2-dicarboxylic acid anhydride ring, cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid anhydride ring, cyclohexene-1,2- Dicarboxylic acid anhydride ring,
2,3-bicyclo [2.2.2] octadicarboxylic acid anhydride ring and the like can be mentioned, and these rings are, for example, chlorine atom,
A halogen atom such as a bromine atom, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a butyl group and a hexyl group may be substituted.

【0041】また、芳香族ジカルボン酸無水物の例とし
ては、フタル酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無
水物環、ピリジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン
−ジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、
例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、
ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカル
ボニル基(アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、
エトキシ基等)等が置換されていてもよい。
Examples of aromatic dicarboxylic acid anhydrides include phthalic anhydride ring, naphthalene-dicarboxylic acid anhydride ring, pyridine-dicarboxylic acid anhydride ring, thiophene-dicarboxylic acid anhydride ring, and the like. These rings are
For example, chlorine atom, halogen atom such as bromine atom, methyl group, ethyl group, propyl group, alkyl group such as butyl group,
Hydroxyl group, cyano group, nitro group, alkoxycarbonyl group (as the alkoxy group, for example, methoxy group,
Ethoxy group etc.) may be substituted.

【0042】以上の如き「特定の極性基を含有する重合
体成分」としては、例えば一般式(I)で示される繰り
返し単位に相当する単量体と共重合し得る該極性基を含
有するビニル系化合物であればいずれでもよく、例え
ば、高分子学会編「高分子データ・ハンドブック〔基礎
編〕」培風館(1986年刊)等に記載されている。具
体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル酸
(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、
α−(2−アミノ)メチル体、α−クロロ体、α−ブロ
モ体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−シ
アノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β
−メトキシ体、α,β−ジクロロ体等)、メタクリル
酸、イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸
半アミド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類
(例えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン
酸、2−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4
−エチル−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン
酸半エステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼ
ンカルボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスル
ホン酸、ビニルホスホン酸、ジカルボン酸類のビニル基
又はアリル基の半エステル誘導体及びこれらのカルボン
又はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換
基中に該極性基を含有する化合物等が挙げられる。
The "polymer component containing a specific polar group" as described above is, for example, a vinyl group-containing vinyl group copolymerizable with a monomer corresponding to the repeating unit represented by the general formula (I). Any compound may be used as long as it is a system compound, and is described, for example, in "Polymer Data Handbook [Basic Edition]", edited by The Society of Polymer Science, Baifukan (1986). Specifically, acrylic acid, α- and / or β-substituted acrylic acid (for example, α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form,
α- (2-amino) methyl, α-chloro, α-bromo, α-fluoro, α-tributylsilyl, α-cyano, β-chloro, β-bromo, α-chloro- β
-Methoxy form, α, β-dichloro form, etc.), methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half-esters, itaconic acid half-amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (eg 2-pentenoic acid, 2-methyl- 2-hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4
-Ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half-esters, maleic acid half-amides, vinylbenzenecarboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinylsulfonic acid, vinylphosphonic acid, vinyl groups of dicarboxylic acids or allyl. Examples thereof include a half-ester derivative of a group, an ester derivative of a carboxylic acid or a sulfonic acid thereof, and a compound having the polar group in the substituent of an amide derivative.

【0043】以下に極性基含有の共重合体成分について
例示する。ここで、b1 は−H、−CH3 、−Cl、−
Br、−CN、−CH2 COOCH3 又は−CH2 CO
OHを示し、b2 は−H又は−CH3 を示し、fは2〜
18の整数を示し、gは1〜12の整数を示し、hは1
〜4の整数を示す。
The polar group-containing copolymer component is exemplified below. Here, b 1 is -H, -CH 3, -Cl, -
Br, -CN, -CH 2 COOCH 3 or -CH 2 CO
OH, b 2 represents —H or —CH 3 , and f is 2 to
18 is an integer, g is an integer of 1 to 12, and h is 1
Indicates an integer of ˜4.

【0044】[0044]

【化11】 [Chemical 11]

【0045】[0045]

【化12】 [Chemical 12]

【0046】[0046]

【化13】 [Chemical 13]

【0047】[0047]

【化14】 [Chemical 14]

【0048】[0048]

【化15】 [Chemical 15]

【0049】上記の如き特定の極性基を含有する重合体
成分は該Aブロック中に2種以上含有されていてもよ
く、その場合における該2種以上の極性基含有成分は該
Aブロック中においてランダム共重合又はブロック共重
合のいずれの態様で含有されていてもよい。
Two or more polymer components containing a specific polar group as described above may be contained in the A block. In that case, the two or more polar group-containing components are contained in the A block. It may be contained in any form of random copolymerization or block copolymerization.

【0050】また、該極性基を含有しない成分がAブロ
ック中に含まれていてもよく、該成分の例としては、B
ブロック中に含有され得る成分と同様のもの、例えば後
述の一般式(I)、(II)又は(III)で示される成分あ
るいはその他の成分として挙げられたもの等が挙げられ
る。かかる極性基非含有成分の含有量はAブロック中好
ましくは0〜50重量%、より好ましくは0〜20重量
%であるが、かかる極性基非含有成分がAブロック中に
含まれないことが最も好ましい。
A component which does not contain the polar group may be contained in the A block, and examples of the component include B.
The same as the components that can be contained in the block, for example, the components represented by the general formula (I), (II) or (III) described below or the components listed as other components can be mentioned. The content of such a polar group-free component in the A block is preferably 0 to 50% by weight, more preferably 0 to 20% by weight, but it is most preferable that such a polar group-free component is not contained in the A block. preferable.

【0051】次にAB型ブロック共重合体である樹脂
〔A〕において、Bブロック成分を構成する重合体成分
について詳しく説明する。Bブロック成分は、少なくと
も一般式(I)で示されるメタクリレート成分を含有
し、該式(I)のメタクリレート成分は好ましくはBブ
ロック成分中、30〜100重量%、より好ましくは5
0〜100重量%含有される。
Next, the polymer component constituting the B block component in the resin [A] which is an AB type block copolymer will be described in detail. The B block component contains at least a methacrylate component represented by the general formula (I), and the methacrylate component of the formula (I) is preferably 30 to 100% by weight, more preferably 5% by weight in the B block component.
It is contained in an amount of 0 to 100% by weight.

【0052】一般式(I)で示される繰り返し単位にお
いて、R11の炭化水素基は置換されていてもよい。R11
は好ましくは炭素数1〜18の置換されていてもよい炭
化水素基を表わす。置換基としては上記該AB型ブロッ
ク共重合体のAブロックを構成する重合体成分に含有さ
れる前記極性基以外の置換基であればいずれでもよく、
例えば、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子等)、−OZ1 、−COO−Z1 、−OC
OZ1 (Z1 は炭素数1〜22のアルキル基を表わし、
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
キシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサ
デシル基、オクタデシル基等である)等の置換基が挙げ
られる。好ましい炭化水素基としては、炭素数1〜18
の置換されてもよいアルキル基(例えば、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル
基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基、2−クロロエチル基、2−ブロモ
エチル基、2−シアノエチル基、2−メトキシカルボニ
ルエチル基、2−メトキシエチル基、3−ブロモプロピ
ル基等)、炭素数4〜18の置換されてもよいアルケニ
ル基(例えば、2−メチル−1−プロペニル基、2−ブ
テニル基、2−ペンテニル基、3−メチル−2−ペンテ
ニル基、1−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘ
キセニル基、4−メチル−2−ヘキセニル基等)、炭素
数7〜12の置換されてもよいアラルキル基(例えば、
ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、
ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル基、クロロベン
ジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、エチル
ベンジル基、メトキシベンジル基、ジメチルベンジル
基、ジメトキシベンジル基等)、炭素数5〜8の置換さ
れてもよい脂環式基(例えば、シクロヘキシル基、2−
シクロヘキシルエチル基、2−シクロペンチルエチル基
等)又は炭素数6〜12の置換されてもよい芳香族基
(例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリ
ル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチ
ルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル
基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、デシル
オキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニ
ル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル基、アセチル
フェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシ
カルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル
基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミドフェニル
基、ドデシロイルアミドフェニル基等)等があげられ
る。
In the repeating unit represented by the general formula (I), the hydrocarbon group of R 11 may be substituted. R 11
Is preferably an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. The substituent may be any substituent other than the polar group contained in the polymer component constituting the A block of the AB type block copolymer,
For example, a halogen atom (e.g., fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), - OZ 1, -COO- Z 1, -OC
OZ 1 (Z 1 represents an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms,
Examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group, a dodecyl group, a hexadecyl group, an octadecyl group and the like). The preferred hydrocarbon group has 1 to 18 carbon atoms.
An optionally substituted alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2 -Bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc.), an alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, 2-methyl- 1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, etc.), Aralkyl groups having 7 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example,
Benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group,
Naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), even if substituted with 5 to 8 carbon atoms Good cycloaliphatic radicals (eg cyclohexyl, 2-
A cyclohexylethyl group, a 2-cyclopentylethyl group, etc.) or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octyl group) Phenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl Group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dodecyloylamidophenyl group, etc.) and the like.

【0053】R11の炭化水素基において、R11が脂肪族
基の場合には好ましくは炭素数1〜5の炭化水素基を式
(I)で表わされる成分中の60重量%以上含有するこ
とが好ましい。
[0053] In the hydrocarbon groups R 11, R 11 may contain preferably in the case of an aliphatic group or 60% by weight of the component represented a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms in formula (I) Is preferred.

【0054】更に、該樹脂〔A〕において、Bブロック
成分を構成する一般式(I)で示される繰り返し単位の
一部又は全部が前記一般式(Ia)及び一般式(Ib)
で示される、2位に、及び/又は2位と6位に特定の置
換基を有するベンゼン環又は無置換のナフタレン環を含
有する、特定の置換基をもつメタクリレート成分である
ことが好ましい。従ってBブロック成分中一般式(I
a)及び(Ib)から選択される少なくとも1つの繰り
返し単位がBブロック中30重量%以上、特に50〜1
00重量%含有されることが好ましい。
Further, in the resin [A], a part or all of the repeating unit represented by the general formula (I) constituting the B block component is represented by the general formula (Ia) and the general formula (Ib).
It is preferable that the methacrylate component having a specific substituent has a benzene ring or an unsubstituted naphthalene ring having a specific substituent at the 2-position and / or the 2-position and the 6-position shown by. Therefore, the general formula (I
At least one repeating unit selected from a) and (Ib) is 30% by weight or more in the B block, especially 50 to 1
It is preferably contained in an amount of 00% by weight.

【0055】式(Ia)において、好ましいA1 及びA
2 として、互いに独立に各々水素原子、ハロゲン原子
(例えば、塩素原子及び臭素原子等)及びシアノ基の外
に、炭素数1〜10の炭化水素基として、好ましくは炭
素数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、炭素数7〜9のアラルキル基
(例えばベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロ
ピル基、クロロベンジル基、ジクロロベンジル基、ブロ
モベンジル基、メチルベンジル基、メトキシベンジル
基、クロロメチルベンジル基)及びアリール基(例えば
フェニル基、トリル基、キシリル基、ブロモフェニル
基、メトキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロ
フェニル基)、並びに−COZ2 及び−COOZ2 (好
ましいZ2 としては上記の炭素数1〜10の好ましい炭
化水素基として記載したものを挙げることができる)を
挙げることができる。但し、A1 とA2 がともに水素原
子を表わすことはない。
In formula (Ia), preferred A 1 and A
2 , independently of each other, a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom and a bromine atom) and a cyano group, as well as a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. (For example, methyl group, ethyl group,
Propyl group, butyl group, aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, chlorobenzyl group, dichlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, chloromethyl group benzyl) and aryl groups (e.g. phenyl group, tolyl group, xylyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group), and -COZ 2 and -COOZ 2 (above carbon number preferred Z 2 1 to 10 may be mentioned). However, neither A 1 nor A 2 represents a hydrogen atom.

【0056】式(Ia)及び(Ib)において、B1
びB2 は各々−COO−とベンゼン環を結合する単結合
又は−(CH2 a −(aは1〜3の整数を表す)、−
CH2 OCO−、−CH2 CH2 OCO−、−(CH2
O)b −(bは1又は2の整数を表す)、−CH2 CH
2 O−等の如き連結原子数1〜4個の連結基であり、よ
り好ましくは単結合又は連結原子数1〜2個の連結基を
挙げることができる。
In the formulas (Ia) and (Ib), B 1 and B 2 are each a single bond connecting —COO— and the benzene ring or — (CH 2 ) a — (a represents an integer of 1 to 3). ,-
CH 2 OCO -, - CH 2 CH 2 OCO -, - (CH 2
O) b - (b represents an integer of 1 or 2), - CH 2 CH
A connecting group having 1 to 4 connecting atoms such as 2 O- and the like, and more preferably a single bond or a connecting group having 1 to 2 connecting atoms can be mentioned.

【0057】本発明の樹脂〔A〕で用いられる式(I
a)又は(Ib)で示される繰り返し単位の具体例を以
下に挙げる。しかし、本発明の範囲はこれに限定される
ものではない。
The formula (I) used in the resin [A] of the present invention is
Specific examples of the repeating unit represented by a) or (Ib) are shown below. However, the scope of the present invention is not limited to this.

【0058】[0058]

【化16】 [Chemical 16]

【0059】[0059]

【化17】 [Chemical 17]

【0060】[0060]

【化18】 [Chemical 18]

【0061】[0061]

【化19】 [Chemical 19]

【0062】更に、この樹脂〔A〕において、一般式
(I)及び極性基含有成分以外の成分として、前記一般
式(II)で示される単量体が好ましい。
Further, in the resin [A], the monomer represented by the general formula (II) is preferable as the component other than the general formula (I) and the polar group-containing component.

【0063】一般式(II)で示される重合体成分におい
て、a1 及びa2 は各々水素原子、ハロゲン原子(例え
ば塩素原子、臭素原子等)、シアノ基又は炭素数1〜4
のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基等)等を表す。特に、a1 が水素原子を表
し、a2 がメチル基を表す場合が好ましい。
In the polymer component represented by the general formula (II), a 1 and a 2 are each a hydrogen atom, a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, etc.), a cyano group or a carbon number of 1 to 4
Represents an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.) and the like. Particularly, it is preferable that a 1 represents a hydrogen atom and a 2 represents a methyl group.

【0064】R12は炭化水素基を表し、具体的にはアル
キル基、アラルキル基又は芳香族基を表し、好ましくは
ベンゼン環又はナフタレン環を含有する炭化水素基であ
るアラルキル基又は芳香族基である。更に具体的なR12
としては、前記式(I)で記載したR11と同様のものを
挙げることができる。
R 12 represents a hydrocarbon group, specifically an alkyl group, an aralkyl group or an aromatic group, preferably an aralkyl group or an aromatic group which is a hydrocarbon group containing a benzene ring or a naphthalene ring. is there. More specific R 12
Examples of the same include the same as R 11 described in the above formula (I).

【0065】また、樹脂〔A〕において、前記の特定の
極性基を含有する重合体成分から成るAブロックとは別
に構成される該Bブロックにおいて、前記式(I){好
ましくは(Ia)、(Ib)}又は前記式(II)で示さ
れる繰り返し単位は2種以上含有されていてもよく、更
にこれら以外の他の重合体成分を含有していてもよい。
極性基を含有しないBブロックにおいて2種以上の重合
体成分が含有される場合には、該ABブロック共重合体
成分は該Bブロック中においてランダム共重合又はブロ
ック共重合のいずれの態様で含有されていてもよいが、
ランダムに含有されることが好ましい。但し、Bブロッ
クにおいては、Aブロックで含有される特定の極性基含
有成分を含有しないことを特徴とする。
Further, in the resin [A], in the B block formed separately from the A block composed of the polymer component containing the specific polar group, the above formula (I) {preferably (Ia), (Ib)} or the repeating unit represented by the above formula (II) may be contained in two or more kinds, and may further contain a polymer component other than these.
When two or more polymer components are contained in the B block which does not contain a polar group, the AB block copolymer component is contained in the B block by either random copolymerization or block copolymerization. May be
It is preferably contained randomly. However, the B block is characterized by not containing the specific polar group-containing component contained in the A block.

【0066】前記した式(I)又は(II)で示される繰
り返し単位から選ばれた重合体成分とともにBブロック
中に含有され得る他の重合体成分は、これらと共重合す
る成分であればいずれでもよい。
The other polymer component that can be contained in the B block together with the polymer component selected from the repeating units represented by the above formula (I) or (II) is not limited as long as it is a component copolymerizable with these. But it's okay.

【0067】例えば下記一般式(III)で示される繰り返
し単位が挙げられる。
For example, a repeating unit represented by the following general formula (III) can be mentioned.

【0068】[0068]

【化20】 [Chemical 20]

【0069】〔式(III)中、V1 は−COO−、−OC
O−、−(CH2 i OCO−、−(CH2 i COO
−、−O−、−SO2 −、−CON(R22)−、−SO
2 N(R22)−、−CO−、−CONHCOO−、−C
ONHCONH−又は−C6 4 −を表わす(ここで、
iは1〜3の整数を表わし、R22は水素原子又は炭化水
素を表わす)。R13は炭化水素基を表わす。c1 及びc
2 は、互いに同じでも異なってもよく、前記式(II)中
のa1 、a2 とそれぞれ同一の内容を表わす。〕ここ
で、R22は水素原子のほか、好ましい炭化水素基として
は、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
プチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシ
ル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−クロロエ
チル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2
−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル
基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置換
されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−
プロペニル基、2−ブテニル基、2−ぺンテニル基、3
−メチル−2−ぺンテニル基、1−ぺンテニル基、1−
ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘ
キセニル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいア
ラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−
フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチル
エチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチ
ルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル
基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、
炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シ
クロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シ
クロぺンチルエチル基等)、又は炭素数6〜12の置換
されてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル
基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチ
ルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル
基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキ
シフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニ
ル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノ
フェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニル
フェニル基、エトキシカルボキシフェニル基、ブトキシ
カルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロ
ピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基
等)が挙げられる。
[In the formula (III), V 1 Is -COO-, -OC
O-,-(CH 2 ) i OCO-,-(CH 2 ) i COO
-, -O-, -SO 2 -, -CON (R twenty two )-,-SO
2 N (R twenty two )-, -CO-, -CONHCOO-, -C
ONHCONH- or -C 6 H Four Represents- (where
i represents an integer of 1 to 3 and R twenty two Is hydrogen atom or carbonized water
Represents the prime). R 13 Represents a hydrocarbon group. c 1 And c
2 May be the same or different from each other, and in the above formula (II)
Of a 1 , A 2 And have the same contents respectively. 〕here
And R twenty two Is a hydrogen atom or a preferable hydrocarbon group.
Is an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (eg,
For example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group,
Butyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl
Group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroene group
Cyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2
-Methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl
Group, 3-bromopropyl group, etc.), substituted with 4 to 18 carbon atoms
Optionally alkenyl groups (eg 2-methyl-1-
Propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3
-Methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-
Hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-he
Xenyl group, etc.), an alkyl group having 7 to 12 carbon atoms which may be substituted.
Aralkyl group (eg, benzyl group, phenethyl group, 3-
Phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthyl
Ethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methyl
Rubenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group
Group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.),
An alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms which may be substituted (for example,
Chlorohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclohexyl group
(Clopentylethyl group, etc.) or substitution of 6 to 12 carbon atoms
Optionally aromatic groups (eg phenyl, naphthyl)
Group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, buty
Ruphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl
Group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoki
Cyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl
Group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyano
Phenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonyl
Phenyl group, ethoxycarboxyphenyl group, butoxy
Carbonylphenyl group, acetamidophenyl group, pro
Pioamidophenyl group, dodecyloylamidophenyl group
Etc.) can be mentioned.

【0070】V1 が−C6 4 −を表わす場合、ベンゼ
ン環は置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲ
ン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
クロロメチル基、メトキシメチル基等)、アルコキシ基
(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブ
トキシ基等)等が挙げられる。
[0070] V 1 is -C 6 H 4 - may represent a benzene ring may have a substituent. As the substituent, a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group,
Chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, etc.) and the like.

【0071】R13は、炭化水素基を表わし、好ましい炭
化水素基としては、炭素数1〜22の置換されてもよい
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−クロロエチ
ル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−
メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル基、
3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置換され
てもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−プロ
ペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3−メ
チル−2−ぺンテニル基、1−ぺンテニル基、1−ヘキ
セニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘキセ
ニル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラル
キル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェ
ニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチ
ル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベ
ンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジ
メチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、炭素数
5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シクロヘ
キシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロぺ
ンチルエチル基等)、炭素数6〜12の置換されてもよ
い芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル
基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル
基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキ
シフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル
基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジク
ロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル
基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル
基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニ
ルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミ
ドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等)が挙
げられる。
R 13 represents a hydrocarbon group, and a preferable hydrocarbon group is an optionally substituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group). , Hexyl group, octyl group,
Decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-
Methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group,
3-bromopropyl group, etc.), an alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, 2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-perenyl group). Ntenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, etc.), and optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (eg, benzyl group, phenethyl group). Group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), carbon number 5 to 8 optionally substituted alicyclic groups (eg, cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc. An optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, Ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, A propioamidophenyl group, a dodecyloylamidophenyl group, etc.).

【0072】更に好ましくは、一般式(III)において、
1 は−COO−、−OCO−、−CH2 OCO−、−
CH2 COO−、−O−、−CONH−、−SO2 NH
−又は−C6 4 −を表わす。
More preferably, in the general formula (III),
V 1 is -COO-, -OCO-, -CH 2 OCO-,-.
CH 2 COO -, - O - , - CONH -, - SO 2 NH
- or -C 6 H 4 - represents a.

【0073】更に含有され得るこれら以外の繰り返し単
位を構成する共重合体成分として、例えば一般式(I)
で説明した以外の置換基を含有するメタクリル酸エステ
ル類、アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類に
加え、α−オレフィン類、カルボン酸ビニル又はアリル
酸エステル類(例えばカルボン酸として、酢酸、プロピ
オン酸、酪酸、吉草酸、安息香酸、ナフタレンカルボン
酸等)、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ビニ
ルエーテル類、イタコン酸エステル類(例えばジメチル
エステル、ジエチルエステル等)、アクリルアミド類、
メタクリルアミド類、スチレン類(例えばスチレン、ビ
ニルトルエン、クロロスチレン、ヒドロキシスチレン、
N,N−ジメチルアミノメチルスチレン、メトキシカル
ボニルスチレン、メタンスルホニルオキシスチレン、ビ
ニルナフタレン等)、ビニルスルホン含有化合物、ビニ
ルケトン含有化合物、複素環ビニル類(例えばビニルピ
ロリドン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニ
ルチオフェン、ビニルイミダゾリン、ビニルピラゾー
ル、ビニルジオキサン、ビニルキノリン、ビニルテトラ
ゾール、ビニルオキサジン等)等が挙げられる。
As the copolymer component constituting the repeating unit other than these, which may be further contained, for example, a compound represented by the general formula (I)
In addition to methacrylic acid esters, acrylic acid esters, and crotonic acid esters containing a substituent other than those described above, α-olefins, vinyl carboxylates or allyl acid esters (for example, acetic acid and propionic acid as carboxylic acids). , Butyric acid, valeric acid, benzoic acid, naphthalenecarboxylic acid, etc.), acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers, itaconic acid esters (eg, dimethyl ester, diethyl ester, etc.), acrylamides,
Methacrylamides, styrenes (eg styrene, vinyltoluene, chlorostyrene, hydroxystyrene,
N, N-dimethylaminomethylstyrene, methoxycarbonylstyrene, methanesulfonyloxystyrene, vinylnaphthalene, etc.), vinylsulfone-containing compound, vinylketone-containing compound, heterocyclic vinyls (eg vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylimidazole, vinylthiophene, Vinyl imidazoline, vinyl pyrazole, vinyl dioxane, vinyl quinoline, vinyl tetrazole, vinyl oxazine and the like).

【0074】本発明の樹脂〔A〕で用いられるABブロ
ック共重合体は、従来公知の重合反応法によって製造す
ることができる。具体的には、該特定の極性基を含有す
る重合体成分に相当する単量体において該極性基を予め
保護した官能基としておき、有機金属化合物(例えばア
ルキルリチウム類、リチウムジイソプロピルアミド、ア
ルキルマグネシウムハライド類等)もしくはヨウ化水素
/ヨウ素系等によるイオン重合反応、ポルフィリン金属
錯体を触媒とする光重合反応又はグループ移動重合反応
等の公知のいわゆるリビング重合反応でABブロック共
重合体を合成した後、極性基を保護した官能基を加水分
解反応、加水素分解反応、酸化分解反応又は光分解反応
等によって脱保護反応を行ない、極性基を形成させる方
法が挙げられる。その1つの例を下記の反応スキーム
(1)に示した。
The AB block copolymer used in the resin [A] of the present invention can be produced by a conventionally known polymerization reaction method. Specifically, in the monomer corresponding to the polymer component containing the specific polar group, the polar group is preliminarily protected as a functional group, and an organometallic compound (eg, alkyllithium, lithium diisopropylamide, alkylmagnesium) is used. After synthesizing an AB block copolymer by a known so-called living polymerization reaction such as an ionic polymerization reaction with a halide or the like) or a hydrogen iodide / iodine system, a photopolymerization reaction using a porphyrin metal complex as a catalyst, or a group transfer polymerization reaction A method of forming a polar group by performing a deprotection reaction on a functional group having a protected polar group by a hydrolysis reaction, a hydrogenolysis reaction, an oxidative decomposition reaction, a photodecomposition reaction, or the like. One example thereof is shown in the following reaction scheme (1).

【0075】[0075]

【化21】 [Chemical 21]

【0076】これらは、例えば、P.Lutz、P.M
asson etal、Polym.Bull.
.,79(1984)、B.C.Anderson、
G.D.Andrews etal、Macromol
ecules、14、1601(1981)、K.Ha
tada、K.Ute.etal、Polym.J.
、977(1985)、18、1037(198
6)、右手浩一、畑田耕一、高分子加工、36、366
(1987)、東村敏延、沢本光男、高分子論文集、
、189(1989)、M.Kuroki、T.Ai
da、J.Am.Chem.Soc.109、4737
(1987)、相田卓三、井上祥平、有機合成化学、
、300(1985)、D.Y.Sogah、W.
R.Hertleretal.Macromolecu
les、20、1473(1987)等に記載の合成方
法に従って容易に合成することができる。
These are, for example, P.P. Lutz, P.M. M
asson et al, Polym. Bull. 1
2 . 79 (1984), B.I. C. Anderson,
G. D. Andrews et al, Macromol
ecules, 14 , 1601 (1981), K.S. Ha
tada, K .; Ute. et al, Polym. J. 1
7 , 977 (1985), 18 , 1037 (198)
6), Koichi Right Hand, Koichi Hatada, Polymer Processing, 36 , 366
(1987), Toshinobu Higashimura, Mitsuo Sawamoto, Transactions on Polymers, 4
6 , 189 (1989), M.S. Kuroki, T .; Ai
da, J. Am. Chem. Soc. 109 , 4737
(1987), Takuzo Aida, Shohei Inoue, Synthetic Organic Chemistry, 4.
3 , 300 (1985), D.I. Y. Sogah, W.C.
R. Herretaltal. Macromolecule
It can be easily synthesized according to the synthetic method described in Les, 20 , 1473 (1987) and the like.

【0077】更に、ABブロック共重合体は、極性基を
保護しないままの単量体を用い、ジシオカーバメント基
を含有する化合物及び/又はザンテート基を含有する化
合物を開始剤として、光照射下に重合反応を行なって合
成することもできる。例えば、大津隆行、高分子、
,248(1988)、檜森俊一、大津隆一、Pol
ym.Rep.Jap.37.3508(1988)、
特開昭64−111号、特開昭64−26619号、東
信行等、Polymer Preprints、Jap
an、36、(6)、1511(1987)、M.Ni
wa、N.Higashi、etal、J.Macro
mol.Sci.Chem.A24(5)、567(1
987)等に記載の合成方法に従って合成することがで
きる。
Further, the AB block copolymer uses a monomer in which a polar group is not protected, and is irradiated with light by using a compound containing a disiocarbament group and / or a compound containing a xanthate group as an initiator. It can also be synthesized by performing a polymerization reaction below. For example, Takayuki Otsu, Polymer, 3
7 , 248 (1988), Shunichi Hinomori, Ryuichi Otsu, Pol
ym. Rep. Jap. 37 . 3508 (1988),
JP-A-64-111, JP-A-64-26619, Nobuyuki Higashi, Polymer Preprints, Japan
an, 36 , (6), 1511 (1987), M.A. Ni
wa, N.W. Higashi, et al. Macro
mol. Sci. Chem. A24 (5), 567 (1
987) and the like.

【0078】又、本発明の特定の極性基の保護基による
保護及びその保護基の脱離(脱保護反応)については、
従来公知の知見を利用して容易に行なうことができる。
例えば前記引用文献にも種々記載されており、更には、
岩倉義男、栗田恵輔、「反応性高分子」(株)講談社刊
(1977年)、T.W.Greene、「Prote
ctive Groups in Organic S
ynthesis」,John Wiley & So
ns(1981年)、J.F.W.McOmie、「P
rotective Groups in Organ
ic Chemistry」Plenum Pres
s、(1973年)等の総説に詳細に記載されている方
法を適宜選択して行なうことができる。
Regarding protection of a specific polar group with a protecting group and elimination of the protecting group (deprotection reaction) of the present invention,
This can be easily performed by utilizing the conventionally known knowledge.
For example, various descriptions are given in the above cited document, and further,
Yoshio Iwakura, Keisuke Kurita, "Reactive Polymer" published by Kodansha Co., Ltd. (1977), T.S. W. Greene, "Prote
ctive Groups in Organic S
"Thesis", John Wiley & So
ns (1981), J. F. W. McOmie, "P
Protective Groups in Organ
ic Chemistry "Plenum Pres
s, (1973) and the like, which are described in detail in the review article, can be appropriately selected and performed.

【0079】更には、AブロックはBブロックのいずれ
かの部分を含有するアゾビス化合物(即ち、高分子アゾ
ビス開始剤)を合成し、これを開始剤として、他の一方
のブロックを形成するに相当する単量体類をラジカル重
合反応で合成する方法を用いることもできる。
Further, the A block is equivalent to synthesizing an azobis compound (that is, a high molecular weight azobis initiator) containing any part of the B block, and using this as an initiator to form the other block. It is also possible to use a method of synthesizing the above-mentioned monomers by radical polymerization reaction.

【0080】具体的には、上田明、永井進、高分子論文
集、44、469(1987)、上田明、大阪市立工業
研究所報告、84(1989)等に記載された方法で合
成することができる。
Specifically, it should be synthesized by the method described in Akira Ueda, Susumu Nagai, Kobunshi Shinbun, 44 , 469 (1987), Akira Ueda, Osaka Municipal Industrial Research Institute Report, 84 (1989) and the like. You can

【0081】本反応を利用して合成する場合には、高分
子アゾビス開始剤の合成のし易さ及びブロック化の重合
反応の規則性等から該高分子開始剤の重量平均分子量
は、2×104 以下が好ましい。
In the case of synthesizing using this reaction, the weight average molecular weight of the polymer azobis initiator is 2 × because of the ease of synthesis of the polymer azobis initiator and the regularity of the polymerization reaction of blocking. It is preferably 10 4 or less.

【0082】以上のことから、本反応で合成する場合、
Aブロック含有の高分子開始剤を用いる方法が好まし
い。例えば下記に示す様な反応スキーム(2)で反応す
ることができる。
From the above, when synthesizing by this reaction,
A method using a polymer initiator containing an A block is preferable. For example, the reaction can be carried out according to the reaction scheme (2) shown below.

【0083】[0083]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0084】次に本発明の樹脂〔B〕について説明す
る。樹脂〔B〕は、前記一般式(II)で示される重合体
成分を含有し且つ特定の極性基を含有しないAブロック
と特定の極性基含有の重合体成分を含有する一官能性マ
クロモノマー(M)を共重合成分として含有するBブロ
ックとを含むAB型あるいはABA型ブロック共重合体
から成る樹脂である(該重合体のパターンは、前記模式
図に示す)。
Next, the resin [B] of the present invention will be described. The resin [B] is a monofunctional macromonomer (A block containing the polymer component represented by the general formula (II) and containing no specific polar group and a specific polar group-containing polymer component ( It is a resin composed of an AB type or ABA type block copolymer containing a B block containing M) as a copolymerization component (the pattern of the polymer is shown in the schematic diagram).

【0085】ここで、樹脂〔B〕がABA型ブロック共
重合体である場合には、両端にあるAブロックは各々構
造的に同じであっても異なっていてもよく、それぞれ少
なくともBブロック中の極性基成分を含まず且つ一般式
(II)で示される重合体成分を含んでいればよい。また
それぞれの重合体鎖の長さも同じであっても異なってい
てもよい。
When the resin [B] is an ABA type block copolymer, the A blocks at both ends may be structurally the same or different, and at least the B blocks in each B block are the same. It suffices that it does not contain the polar group component and also contains the polymer component represented by the general formula (II). The length of each polymer chain may be the same or different.

【0086】樹脂〔B〕の重量平均分子量は3×104
〜1×106 、好ましくは5×104 〜5×105 であ
る。樹脂〔B〕の分子量が3×104 より小さくなる
と、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、また分
子量が1×106 より大きくなると本発明の樹脂〔B〕
の効果が少なくなり、従来公知の樹脂と同程度の電子写
真特性になってしまう。
The weight average molecular weight of the resin [B] is 3 × 10 4.
˜1 × 10 6 , preferably 5 × 10 4 to 5 × 10 5 . When the molecular weight of the resin [B] is smaller than 3 × 10 4 , the film forming ability is lowered and sufficient film strength cannot be maintained, and when the molecular weight is larger than 1 × 10 6 , the resin [B] of the present invention is used.
Is less effective, and the electrophotographic characteristics are the same as those of conventionally known resins.

【0087】該樹脂〔B〕のガラス転移点は、−10℃
〜100℃の範囲のものが好ましいが、より好ましくは
0℃〜90℃である。本発明に供される一官能性マクロ
モノマー(M)は、Bブロック中において、全重合体中
1〜60重量%であり、好ましくは5〜40重量%であ
る。一官能性マクロモノマー(M)の含有量が1重量%
以下になると、Bブロックをグラフト構造にした効果が
薄れてしまい、電子写真特性及び保水性が劣化する。ま
た、60重量%以上になると、他の共重合成分との共重
合性が低下し好ましくなくなる。
The glass transition point of the resin [B] is −10 ° C.
The temperature is preferably in the range of -100 to 100 ° C, more preferably 0 to 90 ° C. The monofunctional macromonomer (M) used in the present invention is contained in the B block in an amount of 1 to 60% by weight, preferably 5 to 40% by weight, based on the whole polymer. Content of monofunctional macromonomer (M) is 1% by weight
When the amount is below, the effect of making the B block a graft structure is diminished, and the electrophotographic characteristics and water retention are deteriorated. On the other hand, when it is 60% by weight or more, the copolymerizability with other copolymerization components is lowered, which is not preferable.

【0088】ブロック共重合体樹脂〔B〕における、特
定の極性基含有成分の重合体成分量は、共重合体樹脂
〔B〕中全重合体総量100重量部当り0.05〜10
重量部、好ましくは0.5〜8重量部の割合で含有され
る。樹脂〔B〕における該極性基含有成分量が0.05
重量%より少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度
を得ることができず、該極性基含有量が10重量%より
も多いと、光導電体粒子の分散性が低下し、高温高湿に
おいての膜平滑度及び電子写真特性が低下し、更にオフ
セットマスターとして用いるときに地汚れが増大するた
め、好ましくない。
The amount of the polymer component of the specific polar group-containing component in the block copolymer resin [B] is 0.05 to 10 per 100 parts by weight of the total amount of all the polymers in the copolymer resin [B].
It is contained in an amount of 0.5 part by weight, preferably 0.5 to 8 parts by weight. The amount of the polar group-containing component in the resin [B] is 0.05
If it is less than 10% by weight, the initial potential is low and a sufficient image density cannot be obtained, and if the content of the polar group is more than 10% by weight, the dispersibility of the photoconductor particles is lowered and the high temperature and high humidity are increased. In this case, the film smoothness and the electrophotographic characteristics in Example 2 are deteriorated, and the background stain is increased when used as an offset master, which is not preferable.

【0089】更に、樹脂〔B〕中に含有される特定の極
性基含有の重合体成分は、樹脂〔A〕中に含有される特
定の極性基含有重合体成分の総量に対して10重量%〜
50重量%の範囲で用いられることが好ましい。該量が
10重量%より少ないと、電子写真特性(特に暗電荷保
持率、光感度)の低下が著しく、膜の強度も低下する。
また、50重量%を超えると、光導電体粒子の分散の均
一化が不充分となり、電子写真特性が低下し、オフセッ
ト原版としては保水性が低下する。
Further, the specific polar group-containing polymer component contained in the resin [B] is 10% by weight based on the total amount of the specific polar group-containing polymer component contained in the resin [A]. ~
It is preferably used in the range of 50% by weight. When the amount is less than 10% by weight, electrophotographic characteristics (especially dark charge retention rate, photosensitivity) are significantly deteriorated and the strength of the film is also decreased.
On the other hand, when it exceeds 50% by weight, the dispersion of the photoconductor particles becomes insufficient, the electrophotographic characteristics are deteriorated, and the water retention property is lowered as the offset original plate.

【0090】次に、樹脂〔B〕におけるAブロックの重
合体成分について説明する。Aブロックの主たる重合体
成分は、一般式(II)で示される繰り返し単位であり、
その含有量は、そのAブロックにおける全重量中、好ま
しくは30重量%〜100重量%、より好ましくは50
重量%〜100重量%である。一般式(II)で示される
重合体成分の具体例は、樹脂〔A〕で例示したと同様の
内容のものが挙げられる。
Next, the polymer component of the A block in the resin [B] will be described. The main polymer component of the A block is a repeating unit represented by the general formula (II),
The content is preferably 30% by weight to 100% by weight, more preferably 50% by weight based on the total weight of the A block.
% To 100% by weight. Specific examples of the polymer component represented by the general formula (II) include those having the same contents as those exemplified for the resin [A].

【0091】また、樹脂〔B〕のAブロックにおいて、
上記した重合体成分以外に他の共重合体成分を含有して
もよく、前記樹脂〔A〕のBブロックの説明の中の、一
般式(I)あるいはそれ以外に含まれてもよい共重合体
成分と同様の内容のものが挙げられる。これら他の単量
体はAブロックの全重合体成分100重量部中30重量
部を超えない範囲で用いられる。
Further, in the A block of the resin [B],
In addition to the above-mentioned polymer components, other copolymer components may be contained, and the copolymer weight in the description of the B block of the resin [A] may be represented by the general formula (I) or other components. The same content as the combined component can be mentioned. These other monomers are used in an amount not exceeding 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the total polymer component of the A block.

【0092】次に樹脂〔B〕におけるBブロックの重合
体成分について説明する。Bブロックは、特定の極性基
含有の一官能性マクロモノマー(M)を少なくとも1種
含有し、又、他の重合体成分としては、該特定の極性基
含有の重合体成分を含有しないことを特徴とする。該一
官能性マクロモノマー(M)は、重量平均分子量1×1
3 〜2×104であり、好ましくは3×103 〜1×
104 である。
Next, the polymer component of the B block in the resin [B] will be described. The B block contains at least one monofunctional macromonomer (M) containing a specific polar group, and does not contain the specific polar group-containing polymer component as another polymer component. Characterize. The monofunctional macromonomer (M) has a weight average molecular weight of 1 × 1.
0 3 to 2 × 10 4 , preferably 3 × 10 3 to 1 ×
It is 10 4 .

【0093】マクロモノマー(M)の重量平均分子量が
2×104 を超えると、他の単量体との共重合性が低下
するため好ましくない。他方、重量平均分子量が小さす
ぎると、感光層の電子写真特性の向上効果が小さくなる
ため、1×103 以上であることが好ましい。該マクロ
モノマー(M)は、重合体主鎖の片末端に重合性二重結
合基を結合して成り、具体的には、一般式(IV)で示さ
れる二重結合基が挙げられる。
When the weight average molecular weight of the macromonomer (M) exceeds 2 × 10 4 , the copolymerizability with other monomers decreases, which is not preferable. On the other hand, if the weight average molecular weight is too small, the effect of improving the electrophotographic characteristics of the photosensitive layer becomes small, so that it is preferably 1 × 10 3 or more. The macromonomer (M) is formed by binding a polymerizable double bond group to one end of the polymer main chain, and specific examples thereof include the double bond group represented by the general formula (IV).

【0094】[0094]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0095】〔式(IV)中、e1 及びe2 は各々水素原
子、ハロゲン原子、トリフロロメチル基、シアノ基又は
炭化水素基を表わす。V2 は−COO−、−OCO−、
−(CH2 m3OCO−、−(CH2 m3COO−(m
3 は1〜3の整数を表す)、−O−、−SO2 −、−C
O−、−CON(T1 )−、−SO2 N(T1 )−、−
CONHCOO−、−CONHCONH−又は−C6
4 −を表わす(ここで、T1 は水素原子又は炭化水素基
を表す)。
[In the formula (IV), e 1 and e 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a trifluoromethyl group, a cyano group or a hydrocarbon group. V 2 is -COO-, -OCO-,
- (CH 2) m3 OCO - , - (CH 2) m3 COO- (m
3 represents an integer of 1~3), - O -, - SO 2 -, - C
O -, - CON (T 1 ) -, - SO 2 N (T 1) -, -
CONHCOO -, - CONHCONH- or -C 6 H
4 - represents a (wherein, T 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group).

【0096】ここで、T1 は水素原子のほか、好ましい
炭化水素基としては、炭素数1〜18の置換されてもよ
いアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル
基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シ
アノエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−
メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数
4〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えば、2
−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペ
ンテニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペン
テニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−
メチル−2−ヘキセニル基、等)、炭素数7〜12の置
換されてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フ
ェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル
基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモ
ベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メ
トキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベ
ンジル基等)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式
基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエ
チル基、2−シクロペンチルエチル基等)又は炭素数6
〜12の置換されてもよい芳香族基(例えば、フェニル
基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェ
ニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデ
シルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニ
ル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、
クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニ
ル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキ
シカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル
基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェ
ニル基、プロピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミ
ドフェニル基等)あげられる。
Here, T 1 is not only a hydrogen atom but also a preferable hydrocarbon group is an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group). Group, hexyl group, octyl group,
Decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-
Methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc.), alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms which may be substituted (eg, 2
-Methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-
Methyl-2-hexenyl group, etc.), C7-C12 optionally substituted aralkyl group (eg, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl) Group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), an alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms which may be substituted (eg, cyclohexyl group, 2 -Cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.) or C6
To 12 optionally substituted aromatic groups (eg, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, Butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group,
Chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dodecyloylamidophenyl group, etc. )can give.

【0097】V2 が−C6 4 −を表わす場合、ベンゼ
ン環は置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲ
ン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
クロロメチル基、メトキシメチル基等)、アルコキシ基
(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブ
トキシ基等)等が挙げられる。
When V 2 represents —C 6 H 4 —, the benzene ring may have a substituent. As the substituent, a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group,
Chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, etc.) and the like.

【0098】e1 及びe2 は、互いに同じでも異なって
いてもよく、好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例え
ば、塩素原子、臭素原子等)、トリフロロメチル基、シ
アノ基、炭素数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基等)、−COOZ3
は炭化水素を介した−COOZ3 (Z3 は、水素原子又
は炭素数1〜18のアルキル基、アルケニル基、アラル
キル基、脂環式基またはアリール基を表わし、これらは
置換されていてもよく、具体的には、上記T1について
説明したものと同様の内容を表わす)を表わす。
E 1 and e 2 may be the same as or different from each other, preferably a hydrogen atom, a halogen atom (eg chlorine atom, bromine atom etc.), a trifluoromethyl group, a cyano group, a carbon number of 1 to 4 An alkyl group (for example, a methyl group,
Ethyl, propyl, butyl, etc.), - COOZ 3 or -COOZ 3 (Z 3 through the hydrocarbon is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group, an aralkyl group, an alicyclic group Or an aryl group, which may be substituted, and specifically represents the same contents as those described above for T 1 .

【0099】上記炭化水素を介した−COOZ3 におけ
る炭化水素としては、メチレン基、エチレン基、プロピ
レン基等が挙げられる。更に好ましくは、一般式(IV)
において、V2 は−COO−、−OCO−、−CH2
CO−、−CH2 COO−、−O−、−CONH−、−
SO2 NH−又は−C6 4 −を表わし、e1 及びe2
は互いに同じでも異なってもよく、水素原子、メチル
基、−COOZ3 又は−CH2 COOZ3 {Z3 は好ま
しくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基(例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基等)を表わす)を表わす。更により好ましくは、e1
及びe2 においていずれか一方が水素原子を表わす。
Examples of the hydrocarbon in -COOZ 3 via the above hydrocarbon include a methylene group, an ethylene group, a propylene group and the like. More preferably, the general formula (IV)
In, V 2 is -COO-, -OCO-, -CH 2 O.
CO -, - CH 2 COO - , - O -, - CONH -, -
SO 2 NH- or -C 6 H 4 - represents, e 1 and e 2
May be the same or different from each other, and are preferably a hydrogen atom, a methyl group, -COOZ 3 or -CH 2 COOZ 3 {Z 3 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, propyl). Group, butyl group, hexyl group, etc.)). Even more preferably, e 1
And one of e 2 represents a hydrogen atom.

【0100】本発明において供されるマクロモノマー
(M)は重合体主鎖の片末端に、一般式(IV)で示され
る重合性二重結合基が、直接結合するか、あるいは、任
意の連結基で結合された化学構造を有するものである。
連結する基としては、炭素−炭素結合(単結合又は二重
結合)、炭素−ヘテロ原子結合(ヘテロ原子としては例
えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素原子
等)、ヘテロ原子−ヘテロ原子結合の原子団の任意の組
合せで構成されるものである。
In the macromonomer (M) used in the present invention, the polymerizable double bond group represented by the general formula (IV) is directly bonded to one end of the polymer main chain, or any linking is carried out. It has a chemical structure bonded by a group.
As the group to be linked, carbon-carbon bond (single bond or double bond), carbon-hetero atom bond (as a hetero atom, for example, oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom, silicon atom, etc.), hetero atom-hetero atom It is composed of any combination of bonding atomic groups.

【0101】任意の連結基の具体的内容は、−〔C(d
1 )(d2 )〕−(d1 、d2 は同じでも異なってもよ
く、各々水素原子、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子
等)、OH基、シアノ基、アルキル基(メチル基、エチ
ル基、2−クロロエチル基、2−ヒドロキシエチル基、
プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等)、アラルキル基
(ベンジル基、フェネチル基等)、又はフェニル基等を
表す)、−〔(C(d3)=C(d4 )〕−(d3 、d
4 はd1 、d2 と同一の内容を表す)、−C6 10−、
−C6 4 −、−O−、−S−、−N(d5 )−〔d5
は、水素原子又は炭化水素基を表す(炭化水素基として
具体的には炭素数1〜12の炭化水素基(例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オ
クチル基、デシル基、ドデシル基、2−メトキシエチル
基、2−クロロエチル基、2−シアノエチル基、ベンジ
ル基、メチルベンジル基、フェネチル基、フェニル基、
トリル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基、ブ
チルフェニル基等)が挙げられる)〕、−CO−、−C
OO−、−OCO−、−CON(d5 )−、−SO2
(d5 )−、−SO2 −、−NHCONH−、−NHC
OO−、−NHSO2−、−CONHCOO−、−CO
NHCONH−、複素環(ヘテロ原子として、O、S、
N等を少なくとも1種含有する5〜6員環又はこれらの
縮合環であればいずれでもよい:例えばチオフェン環、
ピリジン環、フラン環、イミダゾール環、ピペリジン
環、モルホリン環等が挙げられる)又は−Si(d6
(d7 )−(d6 、d7 は同じでも異なってもよく、炭
化水素基又は−Od8 (d8 は炭化水素基)を表す。こ
れらの炭化水素基としては、d5 で挙げたものと同一の
ものを挙げることができる)等の結合基の単独又は、こ
れらの組合せにより構成された連結基等が挙げられる。
The specific content of the optional linking group is-[C (d
1 ) (d 2 )]-(d 1 and d 2 may be the same or different and each is a hydrogen atom, a halogen atom (chlorine atom, bromine atom, etc.), an OH group, a cyano group, an alkyl group (a methyl group, ethyl group). Group, 2-chloroethyl group, 2-hydroxyethyl group,
Propyl group, butyl group, hexyl group, etc.), aralkyl group (benzyl group, phenethyl group, etc.), phenyl group, etc.),-[(C (d 3 ) = C (d 4 )]-(d 3 , d
4 represents the same content as d 1 and d 2 ), -C 6 H 10- ,
-C 6 H 4 -, - O -, - S -, - N (d 5) - [d 5
Represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group (specifically, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group. , Dodecyl group, 2-methoxyethyl group, 2-chloroethyl group, 2-cyanoethyl group, benzyl group, methylbenzyl group, phenethyl group, phenyl group,
Tolyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, butylphenyl group, etc.)], -CO-, -C.
OO -, - OCO -, - CON (d 5) -, - SO 2 N
(D 5) -, - SO 2 -, - NHCONH -, - NHC
OO -, - NHSO 2 -, - CONHCOO -, - CO
NHCONH-, heterocycle (as a hetero atom, O, S,
It may be any 5- or 6-membered ring containing at least one N or the like or a condensed ring thereof: for example, a thiophene ring,
Pyridine ring, furan ring, imidazole ring, piperidine ring, morpholine ring and the like) or -Si (d 6 ).
(D 7) -. (D 6, d 7 , which may be the same or different, represent a hydrocarbon group or -Od 8 (d 8 represents a hydrocarbon group) as these hydrocarbon groups, mentioned in d 5 The same as those mentioned above) can be used alone or a linking group constituted by a combination thereof.

【0102】該マクロモノマー(M)の重合体成分とし
ては、特定の極性基を含有する重合体成分を少なくとも
1種含有する。樹脂〔B〕において、これら特定の極性
基としては−PO3 2 、−COOH、−SO3 H、−
P(=O)(OH)R1 (R1 は上記と同様の内容を表
す)及び環状酸無水物基が挙げられ、又、極性基含有重
合体成分の具体的内容については、樹脂〔A〕で例示し
た重合体成分と同様のものが挙げられる。
The polymer component of the macromonomer (M) contains at least one polymer component containing a specific polar group. In the resin (B), -PO 3 H 2 These specific polar group, -COOH, -SO 3 H, -
P (═O) (OH) R 1 (R 1 has the same meanings as described above) and cyclic acid anhydride groups are mentioned, and the specific contents of the polar group-containing polymer component are described in Resin [A ] The same thing as the polymer component illustrated in [] is mentioned.

【0103】又該極性基含有の重合体成分とともに含有
される他の共重合成分としては、前記一般式(II)で示
す重合体成分が挙げられ、マクロモノマー(M)の全重
合体成分100重量部中30〜99.5重量%であり、
好ましくは50〜99重量%である。更には、その他の
重合体成分を含有してもよく、上記極性基含有重合体成
分及び一般式(II)で示される重合体成分に各々相当す
る単量体と共重合する単量体に相当する重合成分であれ
ばいずれでもよい。これらその他の重合体成分は、好ま
しくは30重量%以下であり、より好ましくは20重量
%以下である。
Examples of the other copolymerizable component to be contained together with the polar group-containing polymer component include the polymer component represented by the general formula (II), and the total polymer component 100 of the macromonomer (M) can be mentioned. 30 to 99.5% by weight in parts by weight,
It is preferably 50 to 99% by weight. Further, it may contain other polymer components, and corresponds to a monomer copolymerized with the monomers corresponding to the polar group-containing polymer component and the polymer component represented by the general formula (II), respectively. Any polymerization component can be used. The content of these other polymer components is preferably 30% by weight or less, more preferably 20% by weight or less.

【0104】これら他の重合体成分としては、前記樹脂
〔A〕のBブロックの一般式(I)、(III) 及びその他
の成分と同様のものが挙げられる。又、該特定の極性基
を含有する重合体成分は、マクロモノマー(M)の重合
体主鎖中において、ランダム共重合又はAB型ブロック
共重合のいずれの態様で含有されてもよい。
Examples of these other polymer components include the same compounds as those of the above-mentioned resin B, the general formulas (I) and (III) of the B block of the resin [A]. Further, the polymer component containing the specific polar group may be contained in the polymer main chain of the macromonomer (M) in any mode of random copolymerization or AB type block copolymerization.

【0105】但し、ブロック共重合で含有される場合に
は、重合性二重結合基の結合したと反対側のブロックに
極性基含有重合体成分が含まれる。更には、極性基含有
成分を含むブロックにおいて、他の重合体成分を含有し
てもよく、具体的には、前記した樹脂〔B〕のBブロッ
クの極性基含有重合体成分以外に含まれてもよい他の重
合体成分のいずれでもよい。
However, when it is contained by block copolymerization, a polar group-containing polymer component is contained in the block on the side opposite to the side where the polymerizable double bond group is bonded. Further, the block containing the polar group-containing component may contain other polymer component, and specifically, it may be contained in the block [B] of the resin [B] other than the polar group-containing polymer component. It may be any of the other polymer components.

【0106】本発明のマクロモノマー(M)は、従来公
知の合成方法によって製造することができる。例えば、
該特定の極性基を含有する重合体成分に相当する単量体
において、極性基を予め保護した官能基としておき、有
機金属化合物(例えばアルキルリチウム類、リチウムジ
イソピルアミド類、アルキルマグネシウムハライド類
等)あるいはヨウ化水素/ヨウ素系等によるイオン重合
反応、ポルフィリン金属錯体を触媒とする光重合反応、
あるいはグループ移動重合反応等の公知のいわゆるリビ
ング重合反応で共重合体を合成した後、このリビングポ
リマーの末端に種々の試薬を反応させて重合性二重結合
基を導入する。
The macromonomer (M) of the present invention can be produced by a conventionally known synthesis method. For example,
In the monomer corresponding to the polymer component containing the specific polar group, the polar group is preliminarily protected as a functional group, and an organometallic compound (eg, alkyllithium, lithium diisopyramide, alkylmagnesium halide) is used. Etc.) or an ionic polymerization reaction with a hydrogen iodide / iodine system, a photopolymerization reaction using a porphyrin metal complex as a catalyst,
Alternatively, after a copolymer is synthesized by a known so-called living polymerization reaction such as a group transfer polymerization reaction, various reagents are reacted with the ends of this living polymer to introduce a polymerizable double bond group.

【0107】この後、極性基を保護した官能基を加水分
解反応、加水素分解反応、酸化分解反応あるいは光分解
反応等によって脱保護反応を行ない、極性基を形成させ
る方法が挙げられる。その1つの例を下記の反応スキー
ム(3)に示した。
After that, a functional group having a protected polar group is subjected to a deprotection reaction by a hydrolysis reaction, a hydrogenolysis reaction, an oxidative decomposition reaction, a photolysis reaction or the like to form a polar group. One example thereof is shown in the following reaction scheme (3).

【0108】[0108]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0109】例えば、P.Lutz、P.Masson
et al、Polym.Bull.、12、79
(1984)、B.C.Anderson、G.D.A
ndrews et al、Macromolecul
es、14、1601(1981)、K.Hatad
a、K.Ute et al、Polym.J.17、
977(1985)、18、1037(1986)、右
手浩一、畑田耕一、高分子加工、36、366(198
7)、東村敏延、沢本光男、高分子論文集、46、18
9(1989)、M.Kuroki、T.Aida、
J.Am.Chem.Soc.109、4737(19
87)、相田卓三、井上祥平、有機合成化学、43、3
00(1985)、D.Y.Sogoh、W.R.He
rtler etal、Macromolecule
s、20、1473(1987)等に記載の合成方法に
従って容易にリビングポリマーを合成することができ
る。又、該リビングポリマーの末端に重合性二重結合基
を導入する方法としては、従来公知のマクロモノマー法
の合成法に従って容易に本発明のマクロモノマーとする
ことができる。
For example, P. Lutz, P.M. Masson
et al, Polym. Bull. , 12, 79
(1984), B.I. C. Anderson, G.M. D. A
ndrews et al, Macromolecule
es, 14, 1601 (1981), K.S. Hatad
a, K. Ute et al, Polym. J. 17,
977 (1985), 18, 1037 (1986), Koichi Right Hand, Koichi Hatada, Polymer Processing, 36, 366 (198).
7), Toshinobu Higashimura, Mitsuo Sawamoto, Transactions on Polymers, 46, 18
9 (1989), M.A. Kuroki, T .; Aida,
J. Am. Chem. Soc. 109, 4737 (19
87), Takuzo Aida, Shohei Inoue, Synthetic Organic Chemistry, 43, 3
00 (1985), D.I. Y. Sogoh, W.A. R. He
rtler et al, Macromolecule
The living polymer can be easily synthesized according to the synthetic method described in S., 20, 1473 (1987) or the like. Further, as a method for introducing a polymerizable double bond group to the terminal of the living polymer, the macromonomer of the present invention can be easily obtained according to a conventionally known synthesis method of a macromonomer method.

【0110】具体的には、P.Dreyfuss an
d R.P.Quirk,Encycl.Polym.
Sci.Eng.、,551(1987)、P.F.
Rempp,E.Franta,Adv.Polym.
Sci.、58,1(1984)、V.Percec、
Appl.Polym.Sci.、285,95(19
84)、R.Asami、M.Takari、Makr
amol.Chem.Suppl.、12,163(1
985)、P.Rempp et al、Makram
ol.Chem.Suppl.、8、3(1984)、
川上雄資,化学工業、38、56(1987)、山下雄
也、高分子、31、988(1982)、小林四郎、高
分子、30、625(1981)、東村敏延,日本接着
協会誌18、536(1982)、伊藤浩一、高分子加
工、35、262(1986)、東貴四郎、津田隆、機
能材料、1987、No.10、5等の総説及びそれに
引例の文献、特許等に記載の方法に従って合成すること
ができる。
Specifically, P.I. Dreyfuss an
d R. P. Quirk, Encycl. Polym.
Sci. Eng. 7 , 551 (1987), p. F.
Rempp, E. Franta, Adv. Polym.
Sci. 58, 1 (1984), V.I. Percec,
Appl. Polym. Sci. , 285, 95 (19
84), R.A. Asami, M .; Takari, Makr
amol. Chem. Suppl. , 12,163 (1
985), P. Rempp et al, Makram
ol. Chem. Suppl. , 8, 3 (1984),
Yusuke Kawakami, Kagaku Kogyo, 38, 56 (1987), Yuya Yamashita, Polymer, 31, 988 (1982), Kobayashi Shiro, Polymer, 30, 625 (1981), Toshinobu Higashimura, Journal of Japan Adhesion Society 18, 536 (1982), Koichi Ito, Polymer Processing, 35, 262 (1986), Kishiro Azuma, Takashi Tsuda, Functional Materials, 1987, No. It can be synthesized according to the methods described in the reviews such as 10, 5 and the references and patents cited therein.

【0111】又、本発明の特定の極性基を保護する保護
基及びその保護基の脱離(脱保護反応)については、従
来公知の知見を利用して容易に行なうことができる。例
えば、前記した引用文献にも種々記載されており、更に
は、岩倉義男、栗田恵輔「反応性高分子」(株)講談社
刊(1977年)、T.W.Greene、「Prot
ective Groups in Organic
Synthesis」John Wiley and
Sons(1981)、J.F.W.McOmie、
「Protective Groups in Org
anic Chemistry」Plenum Pre
ss(1973)等の総説に詳細に記載されている方法
を適宜選択して行なうことができる。
The protecting group for protecting the specific polar group of the present invention and the elimination of the protecting group (deprotection reaction) can be easily carried out by utilizing the conventionally known knowledge. For example, various references are given in the above-mentioned references, and further, Yoshio Iwakura, Keisuke Kurita "Reactive Polymer", Kodansha Co., Ltd. (1977), T.S. W. Greene, "Prot
active Groups in Organic
"Synthesis" John Wiley and
Sons (1981), J. Am. F. W. McOmie,
"Protective Groups in Org
anic Chemistry "Plenum Pre
The method described in detail in the review article such as ss (1973) can be appropriately selected and performed.

【0112】他の合成法としては、ジシオカーバメイト
化合物を開始剤とした光イニファーター重合法によって
合成することもできる。例えば、大津隆行、高分子、3
7、248(1988年)、檜森俊一、大津隆一、Po
lym.Rep.Jap.37、3508(1988
年)、特開昭64−111号、特開昭64−26619
号等に記載の合成方法に従って合成され、これを上記し
たマクロモノマー合成法を利用して本発明のマクロモノ
マーを得ることができる。
As another synthetic method, a photoiniferter polymerization method using a disiocarbamate compound as an initiator can be used. For example, Takayuki Otsu, polymer, 3
7, 248 (1988), Shunichi Hinomori, Ryuichi Otsu, Po
lym. Rep. Jap. 37, 3508 (1988
Year), JP-A-64-111, JP-A-64-26619
The macromonomer of the present invention can be obtained by utilizing the above-mentioned macromonomer synthesis method.

【0113】より具体的な、本発明のマクロモノマーの
合成法としては、米国特許555017号、同6389
22号等の明細書中により具体的に記載されている。本
発明の樹脂〔B〕において、Aブロック/Bブロック比
は50〜99/50〜1(重量比)で、好ましくは60
〜95/40〜5(重量比)である。光導電層中に供さ
れる本発明の樹脂〔B〕としては、AB型またはABA
型共重合体を各々いずれか一種含まれても良いし、AB
型及びABA型共重合体を両方含まれても良い。
More specific methods for synthesizing the macromonomer of the present invention include US Pat. Nos. 5,550,017 and 6,389.
It is more specifically described in the specification such as No. 22. In the resin [B] of the present invention, the A block / B block ratio is 50 to 99/50 to 1 (weight ratio), preferably 60.
˜95 / 40 to 5 (weight ratio). The resin [B] of the present invention provided in the photoconductive layer may be AB type or ABA.
Any one type of type copolymer may be contained, and AB
Both type and ABA type copolymers may be included.

【0114】本発明の光導電層に供される結着樹脂とし
て、本発明の樹脂〔A〕及び樹脂〔B〕以外に前記した
無機光導電体用の公知の樹脂を併用することもできる。
但し、これらの他の樹脂の使用割合は、全結着樹脂10
0重量部中30重量%を越えない範囲が好ましい。この
割合を越えると、本発明の効果は著しく低下してしま
う。
As the binder resin used for the photoconductive layer of the present invention, in addition to the resins [A] and [B] of the present invention, the above-mentioned known resins for inorganic photoconductors can be used in combination.
However, the proportion of these other resins used is the total amount of the binder resin 10
A range not exceeding 30% by weight in 0 part by weight is preferable. If this ratio is exceeded, the effect of the present invention will be significantly reduced.

【0115】併用可能な他の樹脂としては例えば、代表
的なものは塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン
−ブタジエン共重合体、スチレン−メタクリレート共重
合体、メタクリレート共重合体、アクリレート共重合
体、酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、アル
キド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、エポキシエ
ステル樹脂、ポリエステル樹脂等である。
Typical other resins that can be used in combination are, for example, vinyl chloride-vinyl acetate copolymers, styrene-butadiene copolymers, styrene-methacrylate copolymers, methacrylate copolymers, acrylate copolymers. , Vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, alkyd resin, silicone resin, epoxy resin, epoxy ester resin, polyester resin and the like.

【0116】具体的には、柴田隆治・石綿次郎「高分
子」第17巻、第278頁(1968年)、宮本晴視・
武井英彦「イメージング」1973(No.8)第9
頁、中村孝一編「絶縁材料用バインダーの実際技術」第
10章、C.H.C.出版(1985年刊)、D.D.
Tatt、S.C.Heidecker、Tappi、
49(No.10)、439(1966)、E.S.B
altazzi、R.G.Blanclotte et
al、Photo.Sci.Eng.16(No.
5)、354(1972)、グエン・チャン・ケー、清
水 勇、井上英一、電子写真学会誌18(No.2)、
28(1980)、特公昭50−31011号、特開昭
53−54027号、同54−20735号、同57−
202544号、同58−68046号各号公報等に開
示の樹脂が挙げられる。
Specifically, Ryuji Shibata and Jiro Ishiwata, “Polymer”, Vol. 17, p. 278 (1968), Harumi Miyamoto.
Hidehiko Takei "Imaging" 1973 (No.8) 9th
Pp. Koichi Nakamura, "Practical Technology of Binders for Insulating Materials," Chapter 10, C.I. H. C. Published (1985), D.M. D.
Tatt, S. C. Heidecker, Tappi,
49 (No. 10), 439 (1966), E.I. S. B
Altazzi, R.A. G. Blanklotte et
al, Photo. Sci. Eng. 16 (No.
5), 354 (1972), Nguyen Chan Kae, Isamu Shimizu, Eiichi Inoue, The Electrophotographic Society of Japan 18 (No. 2),
28 (1980), JP-B-50-31011, JP-A-53-54027, JP-A-54-20735, and JP-A-57-57.
The resins disclosed in JP-A-202544 and JP-A-58-68046 are cited.

【0117】本発明の光導電層において用いられる結着
樹脂の総量は、無機光導電体100重量部に対して、1
0重量部〜100重量部であることが好ましく、より好
ましくは15重量部〜50重量部である。本発明の樹脂
〔A〕と樹脂〔B〕の使用割合は、樹脂〔A〕/樹脂
〔B〕の重量比で0.05〜0.8/0.95〜0.2
0であることが好ましく、より好ましくは0.10〜
0.50/0.90〜0.50である。
The total amount of the binder resin used in the photoconductive layer of the present invention is 1 with respect to 100 parts by weight of the inorganic photoconductor.
The amount is preferably 0 to 100 parts by weight, more preferably 15 to 50 parts by weight. The ratio of the resin [A] and the resin [B] used in the present invention is 0.05 to 0.8 / 0.95 to 0.2 in terms of a resin [A] / resin [B] weight ratio.
It is preferably 0, and more preferably 0.10.
It is 0.50 / 0.90 to 0.50.

【0118】結着樹脂の総量比が10重量部以下となる
と、光導電層の膜強度が維持できなくなる。又100重
量部以上になると、静電特性が低下し、実際の撮像性に
おいても複写画像の悪化を生じてしまう。又、本発明の
樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の使用割合において樹脂〔A〕
の重量比が0.05以下になると、静電特性向上の効果
が薄れてしまう。一方0.8以上になると光導電層の膜
強度が充分維持できなくなる場合(特に電子写真式平版
印刷用原版として)が生じる。
If the total amount ratio of the binder resin is 10 parts by weight or less, the film strength of the photoconductive layer cannot be maintained. On the other hand, when the amount is 100 parts by weight or more, the electrostatic characteristics are deteriorated and the copy image is deteriorated in the actual image pickup property. In addition, the resin [A] and the resin [B] of the present invention are used in the ratio of
If the weight ratio is less than or equal to 0.05, the effect of improving the electrostatic characteristics is diminished. On the other hand, when it is 0.8 or more, the film strength of the photoconductive layer cannot be sufficiently maintained (particularly as an electrophotographic lithographic printing plate precursor).

【0119】本発明に使用する無機光導電材料として
は、酸化亜鉛、酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウ
ム、炭酸カドミウム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウ
ム、セレン化テルル、硫化鉛等を併用してもよい。本発
明に使用する分光増感色素としては、必要に応じて各種
の色素を単独又は併用して用いる。例えば、宮本晴視,
武井英彦、イメージング1973(No.8)第12
頁、C.J.Young等、RCA Review
,469(1054)、清田航平等、電気通信学会論
文誌J63−C(No.2)、97(1980)、原崎
勇次等、工業科学雑誌66、78及び188(196
3)、谷忠昭、日本写真学会誌35、208(197
2)等の総説引例のカーボニウム系色素、ジフェニルメ
タン色素、トリフェニルメタン色素、キサンテン系色
素、フタレイン系色素、ポリメチン色素(例えば、オキ
ソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、ロダ
シアニン色素、シチリル色素等)、フタロシアニン色素
(金属を含有してもよい)等が挙げられる。
As the inorganic photoconductive material used in the present invention, zinc oxide, titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide, cadmium carbonate, zinc selenide, cadmium selenide, tellurium selenide, lead sulfide, etc. may be used in combination. Good. As the spectral sensitizing dye used in the present invention, various dyes are used alone or in combination as necessary. For example, Harumi Miyamoto,
Hidehiko Takei, Imaging 1973 (No. 8) No. 12
Page, C.I. J. Young et al., RCA Review 1
5 , 469 (1054), Kouhei Kiyota, The Institute of Electrical Communication, J63- C (No. 2), 97 (1980), Yuji Harasaki, etc., Industrial Science Journals 66 , 78 and 188 (196).
3), Tadaaki Tani, Journal of the Photographic Society of Japan 35 , 208 (197).
2) Carbonyl dyes, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, phthalein dyes, polymethine dyes (for example, oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, rhodacyanine dyes, cythylyl dyes, etc.), phthalocyanines Examples thereof include dyes (which may contain a metal).

【0120】更に具体的には、カーボニウム系色素、ト
リフェニルメタン色素、キサンテン系色素、フタレイン
系色素を中心に用いたものとしては、特公昭51−45
2号、特開昭50−90334号、同50−11422
7号、同53−39130号、同53−82353号、
米国特許第3,052,540号、同4,054,45
0号、特開昭57−16456号等に記載のものが挙げ
られる。
More specifically, those mainly containing carbonium dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, and phthalein dyes are disclosed in JP-B-51-45.
2, JP-A-50-90334 and JP-A-50-11422.
No. 7, No. 53-39130, No. 53-82353,
US Pat. Nos. 3,052,540 and 4,054,45
No. 0, those described in JP-A-57-16456, and the like.

【0121】オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素とし
ては、F.M.Harmmer 「The Cyani
neDyes and Related Compou
nd」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的
には、米国特許第3,047,384号、同3,11
0,591号、同3,121,008号、同3,12
5,447号、同3,128,179号、同3,13
2,942号、同3,622,317各、英国特許第
1,226,892号、同1,309,274号、同
1,405,898号、特公昭48−7814号、同5
5−18892号等に記載の色素が挙げられる。
Examples of polymethine dyes such as oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes and rhodacyanine dyes include F.I. M. Harmmer "The Cyani
neDyes and Related Compou
The dyes described in "nd" and the like can be used, and more specifically, U.S. Pat. Nos. 3,047,384 and 3,11.
0,591, 3,121,008, 3,12
5,447, 3,128,179 and 3,13
2,942, 3,622,317, British Patents 1,226,892, 1,309,274, 1,405,898, Japanese Patent Publication Nos. 48-7814, 5
Examples thereof include dyes described in No. 5-18892.

【0122】更に700nm以上の長波長の近赤外〜赤
外光域を分光増感するポリメチン色素として、特開昭4
7−840号、同47−44180号、特公昭51−4
1061号、特開昭49−5034号、同49−451
22号、同57−46245号、同56−35141
号、同57−157254号、同61−26044号、
同61−27551号、米国特許第3,619,154
号、同4,175,956号、「Research D
isclosure」1982年、216、第117〜
118頁等に記載のものが挙げられる。本発明の感光体
は種々の増感色素を併用させても、その性能が増感色素
により変動しにくい点において優れている。更には、必
要に応じて、化学増感剤等の従来知られている電子写真
感光層用各種添加剤を併用することもできる。例えば、
前記した総説:イメージング1973(No.8)第1
2頁等の総説引例の電子受容性化合物(例えば、ハロゲ
ン、ベンゾキノン、クロラニル、酸無水物有機カルボン
酸等)、小門宏等、「最近の光導電材料と感光体の開発
・実用化」第4章〜第6章:日本科学情報(株)出版部
(1986年)の総説引例のポリアリールアルカン化合
物、ヒンダートフェノール化合物、p−フェニレンジア
ミン化合物等が挙げられる。
Further, as a polymethine dye for spectrally sensitizing the near infrared to infrared light region having a long wavelength of 700 nm or more, JP-A-4,
No. 7-840, No. 47-44180, and Japanese Patent Publication No. 51-4
1061, JP-A-49-5034, and JP-A-49-451.
No. 22, No. 57-46245, No. 56-35141.
No. 57-157254, No. 61-26044,
No. 61-27551, U.S. Pat. No. 3,619,154.
No. 4,175,956, "Research D
isclosure ", 1982, 216, 117-
Examples thereof include those described on page 118. The photoconductor of the present invention is excellent in that the performance thereof hardly changes depending on the sensitizing dye even when various sensitizing dyes are used in combination. Furthermore, if necessary, various conventionally known additives for electrophotographic photosensitive layers such as chemical sensitizers can be used in combination. For example,
Review Article: Imaging 1973 (No. 8) No. 1
Electron-accepting compounds (eg halogen, benzoquinone, chloranil, organic carboxylic acid anhydrides, etc.) in the review article on page 2 etc., Hiroshi Komon, et al., "Recent Developments and Commercialization of Photoconductive Materials and Photoconductors" Chapter 4 to Chapter 6: Polyarylalkane compounds, hindered phenol compounds, p-phenylenediamine compounds, and the like, which are the reference examples of the Japanese Scientific Information Co., Ltd. Publishing (1986).

【0123】これら各種添加剤の添加量は、特に限定的
ではないが、通常光導電体100重量部に対して0.0
001〜2.0重量部である。光導電層の厚さは1〜1
00μm、特に10〜50μmが好適である。また、電
荷発生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷発生層とし
て光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さは0.0
1〜1μm、特に0.05〜0.5μmが好適である。
The addition amount of these various additives is not particularly limited, but usually 0.0 to 100 parts by weight of the photoconductor.
001 to 2.0 parts by weight. The photoconductive layer has a thickness of 1 to 1.
00 μm, particularly 10 to 50 μm is suitable. Further, when the photoconductive layer is used as the charge generation layer of the laminated type photoreceptor having the charge generation layer and the charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is 0.0
1 to 1 μm, particularly 0.05 to 0.5 μm is suitable.

【0124】感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の
改善等を主目的として絶縁層を付設させる場合もある。
この時は絶縁層は比較的薄く設定され、感光体を特定の
電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比
較的厚く設定される。後者の場合、絶縁層の厚さは、5
〜70μm、特には、10〜50μmに設定される。
In some cases, an insulating layer may be additionally provided for the purpose of protecting the photoreceptor and improving durability and dark decay characteristics.
At this time, the insulating layer is set to be relatively thin, and the insulating layer provided when the photoconductor is used in a specific electrophotographic process is set to be relatively thick. In the latter case, the thickness of the insulating layer is 5
˜70 μm, especially 10 to 50 μm.

【0125】積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリ
ビニルカルバゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン
系色素、トリフェニルメタン系色素などがある。電荷輸
送層の厚さとしては5〜40μm、特には10〜30μ
mが好適である。絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用
いる樹脂としては、代表的なものは、ポリスチレン樹
脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル
樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビー酸ビ共
重合体樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、
ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコン
樹脂の熱可塑性樹脂及び硬化性樹脂が適宜用いられる。
As the charge transport material for the laminated type photoreceptor, there are polyvinyl carbazole, oxazole dyes, pyrazoline dyes, triphenylmethane dyes and the like. The thickness of the charge transport layer is 5 to 40 μm, particularly 10 to 30 μm.
m is preferred. As the resin used for forming the insulating layer or the charge transport layer, typical ones are polystyrene resin, polyester resin, cellulose resin, polyether resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride vinyl chloride copolymer resin, Polyacrylic resin, polyolefin resin,
A urethane resin, an epoxy resin, a melamine resin, a thermoplastic resin such as a silicone resin, and a curable resin are appropriately used.

【0126】本発明による光導電層は、従来公知の支持
体上に設けることができる。一般に云って電子写真感光
層の支持体は、導電性であることが好ましく、導電性支
持体としては、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プ
ラスチックシート等の基体に低抵抗性物質を含浸させる
などして導電処理したもの、基体の裏面(感光層を設け
る面と反対面)に導電性を付与し、更にはカール防止を
図る等の目的で少なくとも1層以上をコートしたもの、
前記支持体の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支
持体の表面層に必要に応じて少なくとも1層以上のプレ
コート層が設けられたもの、Al等を蒸着した基体導電
化プラスチックを紙にラミネートしたもの等が使用でき
る。
The photoconductive layer according to the present invention can be provided on a conventionally known support. Generally speaking, the support of the electrophotographic photosensitive layer is preferably conductive, and as the conductive support, for example, a substrate such as metal, paper or plastic sheet is impregnated with a low resistance substance as in the conventional case. Those which have been subjected to a conductive treatment by, for example, those to which at least one layer is coated for the purpose of imparting conductivity to the back surface of the substrate (the surface opposite to the surface on which the photosensitive layer is provided) and further preventing curling,
Paper having a water-resistant adhesive layer provided on the surface of the support, paper having at least one precoat layer provided on the surface layer of the support, if necessary, and electroconductive plastic substrate having Al vapor deposited thereon. Those laminated to can be used.

【0127】具体的に、導電性基体あるいは導電化材料
の例としては、坂本幸男、電子写真、14(No.1)
第2〜11頁(1975)、森賀弘之「入門特殊紙の化
学」高分子刊行会(1975)、M.F.Hoove
r,J.Macromol.Sci.Chem.A−4
(6)、第1327〜第1417頁(1970)等に記
載されているもの等を用いる。
Specifically, as an example of the conductive substrate or the conductive material, Yukio Sakamoto, Electrophotography, 14 (No. 1)
2-11 (1975), Hiroyuki Moriga, "Introduction to Special Paper Chemistry," Polymer Publishing (1975), M.S. F. Hoove
r, J. Macromol. Sci. Chem. A-4
(6), those described on pages 1327 to 1417 (1970) and the like are used.

【0128】本発明の電子写真感光体は、従来公知のあ
らゆる電子写真プロセスを利用した用途において利用す
ることができる。即ち、本発明の感光体はPPC方式お
よびCPC方式のいずれの記録方式にも利用でき、又、
現像剤として乾式現像剤あるいは液体現像剤のいずれの
組合せにも用いることができる。
The electrophotographic photosensitive member of the present invention can be used in applications using any conventionally known electrophotographic process. That is, the photoconductor of the present invention can be used for both PPC and CPC recording systems, and
As the developer, any combination of a dry developer and a liquid developer can be used.

【0129】特に、高精細なオリジナルの忠実な複写画
像形成が可能なことから、液体現像剤との組合せで利用
すると、本発明の効果がより発揮される。又カラー現像
剤との組合せとすることで、黒白複写画像のみならず、
カラー複写画像にも応用することができる(例えば、滝
沢九郎「写真工業」33、34(1975年)、安西正
保「電子通信学会技術研究報告」77、17(1977
年)等に記載の方法)。
In particular, since it is possible to form a copy image of a high-definition original faithfully, the effect of the present invention is more exerted when it is used in combination with a liquid developer. Also, by combining with a color developer, not only black and white copy images,
It can also be applied to color copy images (for example, Kuro Takizawa "Photo Industry" 33 , 34 (1975), Masayasu Anzai "Technical Research Report of the Institute of Electronics and Communication Engineers" 77 , 17 (1977).
Year)) etc.)).

【0130】更に近年の電子写真プロセスを利用した他
の用途への利用のシステムにおいても有効である。例え
ば光導電体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の感
光体は、オフセット平版印刷用原版として、又無公害で
白色度の良好な光導電性酸化亜鉛あるいは光導電性酸化
チタンを用いた感光体は、オフセット印刷プロセスで用
いられる版下用記載材料あるいはカラープループ等に用
いることができる。
Further, it is effective in a system used for other purposes using the electrophotographic process in recent years. For example, the photoconductor of the present invention using photoconductive zinc oxide as a photoconductor is used as an offset lithographic printing plate precursor and is made of photoconductive zinc oxide or photoconductive titanium oxide which is pollution-free and has a good whiteness. The photoconductor can be used as an underprinting material used in an offset printing process, a color group, or the like.

【0131】[0131]

【実施例】以下に本発明の実施例を例示するが、本発明
の内容がこれらに限定されるものではない。 〔樹脂〔A〕の合成〕 樹脂〔A〕の合成例1:〔A−1〕 エチルメタクリレート95g及びテトラヒドロフラン2
00gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、−20
℃に冷却した。1,1−ジフェニルブチルリチウム1.
5gを加え12時間反応した。更に、この混合溶液に、
トリフェニルメチルメタクリレート5g及びテトラヒド
ロフラン5gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気した
後添加し、更に8時間反応した。この混合物を0℃にし
た後、メタノール10mlを加え30分間反応し、重合を
停止させた。得られた重合体溶液を攪拌下にて温度30
℃とし、これに30%塩化水素エタノール溶液3mlを加
え1時間攪拌した。次に、減圧下に反応混合物を全体量
が半分になるまで溶媒を留去した後、石油エーテル1リ
ットル中に再沈した。
EXAMPLES Examples of the present invention will be illustrated below, but the contents of the present invention are not limited thereto. [Synthesis of Resin [A]] Synthesis Example 1 of Resin [A] 1: [A-1] 95 g of ethyl methacrylate and tetrahydrofuran 2
Thoroughly degas the mixed solution of 00g under a nitrogen stream, and
Cooled to ° C. 1,1-diphenylbutyllithium 1.
5 g was added and reacted for 12 hours. Furthermore, in this mixed solution,
A mixed solution of 5 g of triphenylmethyl methacrylate and 5 g of tetrahydrofuran was thoroughly degassed under a nitrogen stream and added, and the mixture was further reacted for 8 hours. After this mixture was heated to 0 ° C., 10 ml of methanol was added and reacted for 30 minutes to terminate the polymerization. The resulting polymer solution was stirred at a temperature of 30
The temperature was adjusted to 0 ° C., 3 ml of a 30% hydrogen chloride ethanol solution was added thereto, and the mixture was stirred for 1 hour. Then, the solvent was distilled off from the reaction mixture under reduced pressure until the total amount was halved, followed by reprecipitation in 1 liter of petroleum ether.

【0132】沈澱物を捕集し、減圧乾燥して得られた重
合体の重量平均分子量(Mw)8.5×103 で収量7
0gであった。
The weight average molecular weight (Mw) of the polymer obtained by collecting the precipitate and drying it under reduced pressure was 8.5 × 10 3 , and the yield was 7
It was 0 g.

【0133】[0133]

【化25】 [Chemical 25]

【0134】樹脂〔A〕の合成例2:〔A−2〕 n−ブチルメタクリレート46g、( テトラフェニルポ
ルフィナート) アルミニウムメチル0.5g及び塩化メ
チレン60gの混合溶液を窒素気流下にて温度30℃と
した。これに300W−キセノンランプ光をガラスフィ
ルターを通して25cmの距離から光照射し、12時間反
応した。この混合物に更に、ベンジルメタクリレート4
gを加え、同様に8時間光照射した後、この反応混合物
にメタノール3gを加えて30分間攪拌し反応を停止さ
せた。次にこの反応混合物にPd−Cを加え、温度25
℃で1時間接触還元反応を行なった。
Synthesis Example 2 of Resin [A]: [A-2] A mixed solution of 46 g of n-butyl methacrylate, 0.5 g of (tetraphenylporphinato) aluminum methyl and 60 g of methylene chloride was heated at a temperature of 30 ° C. under a nitrogen stream. And This was irradiated with 300 W-xenon lamp light from a distance of 25 cm through a glass filter and reacted for 12 hours. This mixture was further mixed with benzyl methacrylate 4
After irradiating with light for 8 hours in the same manner, 3 g of methanol was added to this reaction mixture and stirred for 30 minutes to stop the reaction. Then Pd-C was added to the reaction mixture at a temperature of 25
The catalytic reduction reaction was carried out at 0 ° C for 1 hour.

【0135】不溶物を濾別した後石油エーテル500ml
中に再沈し、沈澱物を捕集し乾燥した。得られた重合体
のMw9.3×103 、収量33gであった。
After filtering off the insoluble matter, 500 ml of petroleum ether
The precipitate was collected and dried. The polymer obtained had Mw of 9.3 × 10 3 and a yield of 33 g.

【0136】[0136]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0137】樹脂〔A〕の合成例3:〔A−3〕 2−クロロ−6−メチルフェニルメタクリレート90g
及びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下に充分に
脱気し0℃に冷却した。次いで1,1−ジフェニル−3
−メチルペンチルリチウム2.5gを加え、6時間攪拌
した。更にこの混合物に4−ビニルフェニルオキシトリ
メチルシラン10gを加え6時間攪拌した後、メタノー
ル3gを加えて30分間攪拌した。
Synthesis Example 3 of resin [A]: [A-3] 90 g of 2-chloro-6-methylphenyl methacrylate
A mixed solution of toluene and 200 g of toluene was thoroughly degassed under a nitrogen stream and cooled to 0 ° C. Then 1,1-diphenyl-3
-Methylpentyllithium (2.5 g) was added, and the mixture was stirred for 6 hours. Further, 10 g of 4-vinylphenyloxytrimethylsilane was added to this mixture and stirred for 6 hours, then 3 g of methanol was added and stirred for 30 minutes.

【0138】次にこの反応混合物に30%塩化水素エタ
ノール溶液10gを加え25℃で1時間攪拌した後、石
油エーテル1リットル中に再沈し捕集した沈澱物をジエ
チルエーテル300mlで2回洗浄し乾燥した。得られた
重合体のMw7.8×103、収量58gであった。
Next, 10 g of a 30% hydrogen chloride ethanol solution was added to this reaction mixture, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 1 hour, then reprecipitated in 1 liter of petroleum ether and the collected precipitate was washed twice with 300 ml of diethyl ether. Dried. The obtained polymer Mw was 7.8 × 10 3 , and the yield was 58 g.

【0139】[0139]

【化27】 [Chemical 27]

【0140】樹脂〔A〕の合成例4:〔A−4〕 フェニルメタクリレート95g、ベンジルN,N−ジエ
チルジチオカーバメート4.8gの混合物を、窒素気流
下に容器に密閉し、温度60℃に加温した。これに、4
00Wの高圧水銀灯で10cmの距離からガラスフィルタ
ーを通して、10時間光照射し光重合した。
Synthesis Example 4 of resin [A]: [A-4] A mixture of 95 g of phenyl methacrylate and 4.8 g of benzyl N, N-diethyldithiocarbamate was sealed in a container under a nitrogen stream and heated to 60 ° C. Warmed. To this, 4
Photopolymerization was carried out by irradiating with a 00W high pressure mercury lamp from a distance of 10 cm through a glass filter for 10 hours.

【0141】これにアクリル酸5g及びメチルエチルケ
トン180gを加えた後窒素置換し再び10時間光照射
した。得られた反応物をヘキサン1.5リットルに再
沈、捕集し乾燥した。得られた重合体はMw9.5×1
3 、収量68gであった。
Acrylic acid (5 g) and methyl ethyl ketone (180 g) were added thereto, the atmosphere was replaced with nitrogen, and light was again irradiated for 10 hours. The obtained reaction product was reprecipitated in 1.5 liters of hexane, collected, and dried. The polymer obtained has a Mw of 9.5 × 1.
0 3 and the yield was 68 g.

【0142】[0142]

【化28】 [Chemical 28]

【0143】樹脂〔A〕の合成例5〜18:〔A−5〕
〜〔A−18〕 前記樹脂〔A〕の合成例1と同様にして下記表−Aに示
す樹脂〔A〕を合成した。各樹脂のMwは6×103
9.5×103 であった。
Synthesis Examples 5 to 18 of Resin [A]: [A-5]
~ [A-18] A resin [A] shown in Table A below was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1 of the resin [A]. Mw of each resin is 6 × 10 3 ~
It was 9.5 × 10 3 .

【0144】[0144]

【表1】 [Table 1]

【0145】[0145]

【表2】 [Table 2]

【0146】[0146]

【表3】 [Table 3]

【0147】樹脂〔A〕の合成例19〜23:〔A−1
9〕〜〔A−23〕 前記樹脂〔A〕の合成例4と同様にして下記表−Bに示
す樹脂〔A〕を合成した。各樹脂のMwは8×103
1×104 であった。
Synthesis Examples 19 to 23 of Resin [A]: [A-1
9] to [A-23] Resin [A] shown in Table B below was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 4 of resin [A]. Mw of each resin is 8 × 10 3 ~
It was 1 × 10 4 .

【0148】[0148]

【表4】 [Table 4]

【0149】〔樹脂〔B〕の合成〕 〔マクロモノマーの合成〕 マクロモノマー(M)の合成例1:(MM−1) トリフェニルメチルメタクリレート10g及びトルエン
100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し−20
℃に冷却した。1,1−ジフェニルブチルリチウム0.
02 gを加え10時間反応した。更にこの混合溶液に、
エチルメタクリレート90g及びトルエン100gの混
合溶液を窒素気流下に充分に脱気した後添加し、更に1
0時間反応した。この混合物を0℃にした後、炭酸ガス
を毎分60mlの流量で30分間通気し、重合反応を停
止させた。得られた反応液を、攪拌下に、温度25℃と
し、2−ヒドロキシエチルメタクリレート6gを加え、
更に、ジシクロヘキシルカルボジイミド10g、4−
N,N−ジメチルアミノピリジン0.2g及び塩化メチ
レン30gの混合溶液を30分間で滴下し、そのまま3
時間攪拌した。
[Synthesis of Resin [B]] [Synthesis of Macromonomer] Synthesis Example 1 of Macromonomer (M) 1: (MM-1) A mixed solution of 10 g of triphenylmethyl methacrylate and 100 g of toluene was thoroughly passed under a nitrogen stream. Degassed-20
Cooled to ° C. 1,1-diphenylbutyllithium 0.
02 g was added and reacted for 10 hours. Furthermore, in this mixed solution,
A mixed solution of 90 g of ethyl methacrylate and 100 g of toluene was thoroughly degassed under a nitrogen stream, and then added.
Reacted for 0 hours. After the temperature of this mixture was set to 0 ° C., carbon dioxide gas was bubbled at a flow rate of 60 ml / min for 30 minutes to stop the polymerization reaction. The resulting reaction liquid was heated to 25 ° C. with stirring, 6 g of 2-hydroxyethyl methacrylate was added,
Furthermore, dicyclohexylcarbodiimide 10 g, 4-
A mixed solution of 0.2 g of N, N-dimethylaminopyridine and 30 g of methylene chloride was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was kept at 3
Stir for hours.

【0150】析出した不溶物を濾別後、この混合溶液に
30重量%塩化水素・エタノール溶液10mlを加え1
時間攪拌した。次に減圧下に反応混合物を全体量が半分
になるまで溶媒を留去した後、石油エーテル1リットル
中に再沈した。沈澱物を捕集し、減圧乾燥して得られた
重合体は、Mw6.5×103 で収量56gであった。
The precipitated insoluble matter was filtered off, and then 10 ml of a 30% by weight hydrogen chloride / ethanol solution was added to this mixed solution to obtain 1
Stir for hours. Next, the solvent was distilled off from the reaction mixture under reduced pressure until the total amount was halved, followed by reprecipitation in 1 liter of petroleum ether. The polymer obtained by collecting the precipitate and drying it under reduced pressure had a Mw of 6.5 × 10 3 and a yield of 56 g.

【0151】[0151]

【化29】 [Chemical 29]

【0152】 マクロモノマー(M)の合成例2:(MM−2) ベンジルメタクリレート5g、(テトラフェニルポルフ
ィナート)アルミニウムメチル0.01g及び塩化メチ
レン60gの混合溶液を窒素気流下に温度30℃とし
た。これに300W−キセノンランプ光をガラスフィル
ターを通して25cmの距離から光照射し、18時間反
応した。この混合物に更にブチルメタクリレート45g
を加え、同様に20時間光照射した後、この反応混合物
に2−ブロモエチルメタクリレート8gを加え3分間攪
拌し反応を停止させた。
Synthesis Example 2 of Macromonomer (M): (MM-2) A mixed solution of 5 g of benzyl methacrylate, 0.01 g of (tetraphenylporphinato) aluminum methyl and 60 g of methylene chloride was heated to 30 ° C. under a nitrogen stream. . This was irradiated with light of 300 W-xenon lamp through a glass filter from a distance of 25 cm and reacted for 18 hours. Add 45 g of butyl methacrylate to this mixture.
After irradiating for 20 hours in the same manner, 8 g of 2-bromoethyl methacrylate was added to this reaction mixture, and the reaction was stopped by stirring for 3 minutes.

【0153】次にこの反応混合物にPd−Cを加え、温
度25℃で1時間接触還元反応を行なった。不溶物を濾
別した後、石油エーテル500ml中に再沈し、沈澱物
を捕集し乾燥した。得られた重合体は収量33gでMw
7×103 であった。
Next, Pd-C was added to this reaction mixture, and catalytic reduction reaction was carried out at a temperature of 25 ° C. for 1 hour. The insoluble material was filtered off and then reprecipitated in 500 ml of petroleum ether, and the precipitate was collected and dried. The obtained polymer had a yield of 33 g and Mw.
It was 7 × 10 3 .

【0154】[0154]

【化30】 [Chemical 30]

【0155】 マクロモノマー(M)の合成例3:(MM−3) メチルメタクリレート60g、メチルアクリレート20
g、ベンジル−N−ヒドロキシエチル−N−エチルジチ
オカーバメート6.3g及びテトラヒドロフラン80g
の混合物を、窒素気流下に容器に密閉し、温度60℃に
加温した。これに400Wの高圧水銀灯で10cmの距
離からガラスフィルターを通して10時間光照射し光重
合した。これにアクリル酸10g、メチルメタクリレー
ト10g及びテトラヒドロフラン40gを加えた後、窒
素置換し再び10時間光照射した。
Synthesis Example 3 of Macromonomer (M): (MM-3) Methyl Methacrylate 60 g, Methyl Acrylate 20
g, benzyl-N-hydroxyethyl-N-ethyldithiocarbamate 6.3 g and tetrahydrofuran 80 g
The mixture of (1) was sealed in a container under a nitrogen stream and heated to a temperature of 60 ° C. This was irradiated with light from a high pressure mercury lamp of 400 W from a distance of 10 cm through a glass filter for 10 hours to perform photopolymerization. After 10 g of acrylic acid, 10 g of methyl methacrylate and 40 g of tetrahydrofuran were added thereto, the atmosphere was replaced with nitrogen, and light was irradiated again for 10 hours.

【0156】得られた反応混合物に、2−イソシアナー
トエチルメタクリレート6g及びテトラブトキシチタネ
ート0.01gを温度30℃で1時間で滴下し更に4時
間攪拌した。得られた反応物をヘキサン1.5リットル
中に再沈し、捕集し乾燥した。得られた重合体は、68
gでMw8.0×103 であった。
6 g of 2-isocyanatoethyl methacrylate and 0.01 g of tetrabutoxy titanate were added dropwise to the obtained reaction mixture at a temperature of 30 ° C. over 1 hour, and the mixture was further stirred for 4 hours. The resulting reaction product was reprecipitated in 1.5 liters of hexane, collected, and dried. The polymer obtained is 68
The Mw was 8.0 × 10 3 in g.

【0157】[0157]

【化31】 [Chemical 31]

【0158】 マクロモノマー(M)の合成例4:(MM−4) メチルメタクリレート66.5g、メチルアクリレート
28.5g、トリメチルシリルメタクリレート6.8
g、チオグリコール酸2.5g及びテトラヒドロフラン
200gの混合溶液を、窒素気流下に温度75℃とし
た。これに2,2′−アゾビスイソブチロニトリル(略
号A.I.B.N)0.8gを加え4時間反応し、更に
A.I.B.N.0.3gを加えて4時間反応した。温
度25℃に冷却後、この反応混合物に2−ヒドロキシエ
チルメタクリレート7.0gを加え、ジシクロヘキシル
カルボジイミド(略号D.C.C.)10.0g、4−
N,N−ジメチルアミノピリジン0.1g及び塩化メチ
レン20gの混合溶液を攪拌下に1時間で滴下し、その
まま更に、4時間反応した。
Synthesis Example 4 of Macromonomer (M): (MM-4) 66.5 g of methyl methacrylate, 28.5 g of methyl acrylate, 6.8 trimethylsilyl methacrylate
g, thioglycolic acid 2.5 g, and tetrahydrofuran 200 g were mixed at a temperature of 75 ° C. under a nitrogen stream. To this, 0.8 g of 2,2'-azobisisobutyronitrile (abbreviation AIBN) was added and reacted for 4 hours. I. B. N. 0.3 g was added and reacted for 4 hours. After cooling to a temperature of 25 ° C., 7.0 g of 2-hydroxyethyl methacrylate was added to the reaction mixture, and 10.0 g of dicyclohexylcarbodiimide (abbreviation D.C.C.), 4-
A mixed solution of 0.1 g of N, N-dimethylaminopyridine and 20 g of methylene chloride was added dropwise with stirring for 1 hour, and the reaction was further continued for 4 hours.

【0159】次にこの反応物に85%ギ酸水溶液10g
を加え、2時間攪拌した後、析出物を吸引濾過により濾
別した。濾液をメタノール1リットル中に再沈し、デカ
ンテーションで沈澱物を補集した。この沈澱物を、トル
エン300gに溶解し、不溶物を濾別後、濾液を、n−
ヘキサン/エタノール(3/1)比溶液1リットル中に
再び再沈し、沈澱物を補集した。減圧乾燥して得られた
重合体は、7×103 で収量58gであった。
Next, 10 g of an 85% formic acid aqueous solution was added to the reaction product.
Was added and stirred for 2 hours, and then the precipitate was filtered off by suction filtration. The filtrate was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the precipitate was collected by decantation. This precipitate was dissolved in 300 g of toluene, the insoluble material was filtered off, and the filtrate was n-
The precipitate was collected again by reprecipitation in 1 liter of a hexane / ethanol (3/1) ratio solution. The polymer obtained by drying under reduced pressure was 7 × 10 3 and the yield was 58 g.

【0160】[0160]

【化32】 [Chemical 32]

【0161】 マクロモノマー(M)の合成例5:(MM−5) エチルメタクリレート96g、3−スルホプロピルメタ
クリレート4g、2−メルカプトエタノール3g、テト
ラヒドロフラン150g及びメタノール50gの混合溶
液を窒素気流下に攪拌しながら温度65℃に加熱した。
これに2,2′−アゾビスイソバレロニトリル(略号
A.I.V.N)0.8gを加え4時間反応し、更に
A.I.V.N.0.5gを加えて4時間反応した。冷
却後、メタノール1リットル中に再沈した。沈澱物を補
集し減圧乾燥した後、重合体63gを得た。
Synthesis Example 5 of Macromonomer (M): (MM-5) A mixed solution of 96 g of ethyl methacrylate, 4 g of 3-sulfopropyl methacrylate, 3 g of 2-mercaptoethanol, 150 g of tetrahydrofuran and 50 g of methanol was stirred under a nitrogen stream. While heating to a temperature of 65 ° C.
To this, 0.8 g of 2,2'-azobisisovaleronitrile (abbreviation A.I.V.N) was added and reacted for 4 hours. I. V. N. 0.5 g was added and reacted for 4 hours. After cooling, it was reprecipitated in 1 liter of methanol. The precipitate was collected and dried under reduced pressure to obtain 63 g of a polymer.

【0162】この重合体50gをテトラヒドロフラン1
00gに溶解し、アクリル酸5.5gを加え、攪拌下温
度25℃とした。D.C.C.15.9g、4−(N,
N−ジメチルアミノ)ピリジン0.6g及び塩化メチレ
ン20gの混合溶液を1時間で滴下し、そのまま更に3
時間攪拌した。85%ギ酸水溶液8gを加えて、1時間
攪拌した後、不溶物を吸引濾過にて濾別した。
50 g of this polymer was added to tetrahydrofuran 1
It was dissolved in 00 g, 5.5 g of acrylic acid was added, and the temperature was raised to 25 ° C. with stirring. D. C. C. 15.9 g, 4- (N,
A mixed solution of 0.6 g of N-dimethylamino) pyridine and 20 g of methylene chloride was added dropwise over 1 hour, and the mixture was further added as it was to 3
Stir for hours. After adding 8 g of 85% formic acid aqueous solution and stirring for 1 hour, the insoluble matter was filtered off by suction filtration.

【0163】濾液をヘキサン/エタノール(3/1)溶
液700mlに再沈し、沈澱物を補集後、減圧乾燥して
得られた重合体は、6×103 であった。
The filtrate was reprecipitated in 700 ml of a hexane / ethanol (3/1) solution, and the precipitate was collected and dried under reduced pressure to obtain a polymer of 6 × 10 3 .

【0164】[0164]

【化33】 [Chemical 33]

【0165】樹脂〔B〕の合成例1:〔B−1〕 メチルメタクリレート54g、メチルアクリレート26
g、n−ブチル−N,N−ジエチルジチオカーバメイト
1.7g及びテトラヒドロフラン80gの混合溶液を、
窒素気流下に容器に密閉し、温度50℃に加温した。こ
れに400Wの高圧水銀灯で10cmの距離からガラス
フィルターを通して8時間光照射し光重合した。これ
に、メチルアクリレート10g、マクロモノマー(MM
−1)10g及びテトラヒドロフラン30gを加えた
後、窒素置換し、再び18時間光照射した。
Synthesis Example of Resin [B] 1: [B-1] 54 g of methyl methacrylate, 26 of methyl acrylate
g, n-butyl-N, N-diethyldithiocarbamate 1.7 g and a mixed solution of 80 g of tetrahydrofuran,
The container was sealed under a nitrogen stream and heated to a temperature of 50 ° C. This was irradiated with light from a high pressure mercury lamp of 400 W from a distance of 10 cm through a glass filter for 8 hours to perform photopolymerization. To this, 10 g of methyl acrylate, macromonomer (MM
-1) After adding 10 g and 30 g of tetrahydrofuran, the atmosphere was replaced with nitrogen, and light irradiation was again performed for 18 hours.

【0166】この反応物を、メタノール1リットル中に
再沈し沈澱物を濾集し減圧乾燥して、Mw8.5×10
4 の重合体75gを得た。
This reaction product was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the precipitate was collected by filtration and dried under reduced pressure to obtain Mw 8.5 × 10.
75 g of 4 polymer was obtained.

【0167】[0167]

【化34】 [Chemical 34]

【0168】樹脂〔B〕の合成例2:〔B−2〕 メチルメタクリレート75g、マクロモノマー(MM−
2)25g、下記構造の開始剤〔I−1〕5.4g及び
テトラヒドロフラン105.4gの混合溶液を、窒素気
流下に容器に密閉した。温度50℃で、合成例1と同様
の光重合反応条件下で12時間光重合した。
Synthesis Example 2 of Resin [B]: [B-2] 75 g of methyl methacrylate, macromonomer (MM-
2) A mixed solution of 25 g, 5.4 g of an initiator [I-1] having the following structure and 105.4 g of tetrahydrofuran was sealed in a container under a nitrogen stream. Photopolymerization was carried out at a temperature of 50 ° C. for 12 hours under the same photopolymerization reaction conditions as in Synthesis Example 1.

【0169】[0169]

【化35】 [Chemical 35]

【0170】上記重合体20g(固形分量10g)、メ
チルメタノール58g、メチルアクリレート19.5
g、N−ビニルピロリドン2.5g及びテトラヒドロフ
ラン100gの混合溶液を窒素気流下に容器に密閉し
た。温度50℃にて、上記光重合反応条件で10時間光
重合した。次にメタノール、1リットル中に再沈し、沈
澱物を濾集し、減圧乾燥して、Mw1.2×105 の重
合体を80g得た。
20 g of the above polymer (solid content 10 g), methylmethanol 58 g, methyl acrylate 19.5
A mixed solution of g, 2.5 g of N-vinylpyrrolidone and 100 g of tetrahydrofuran was sealed in a container under a nitrogen stream. Photopolymerization was carried out at a temperature of 50 ° C. for 10 hours under the above photopolymerization reaction conditions. Next, it was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the precipitate was collected by filtration and dried under reduced pressure to obtain 80 g of a polymer having Mw of 1.2 × 10 5 .

【0171】[0171]

【化36】 [Chemical 36]

【0172】樹脂〔B〕の合成例3:〔B−3〕 メチルメタクリレート70g、マクロモノマー(MM−
3)30g、下記構造の開始剤〔I−2〕4.3g及び
テトラヒドロフラン104.3gの混合溶液を〔B−
2〕の合成例と同じ条件で、光重合した。
Synthesis Example 3 of Resin [B]: [B-3] 70 g of methyl methacrylate, macromonomer (MM-
3) A mixed solution of 30 g, 4.3 g of an initiator [I-2] having the following structure and 104.3 g of tetrahydrofuran was added to [B-
Photopolymerization was carried out under the same conditions as in the synthesis example 2).

【0173】[0173]

【化37】 [Chemical 37]

【0174】上記重合体10g(固形分量5g)、メチ
ルメタノール60.3g、メチルアクリレート29.7
g、及びテトラヒドロフラン100gの混合溶液を、上
記〔B−2〕の合成例と同様にして、更に光重合した。
次にメタノール1リットル中に再沈し、沈澱物を濾集
し、減圧乾燥して、Mw1×105 の重合体を76g得
た。
10 g of the above polymer (solid content 5 g), 60.3 g of methylmethanol, 29.7 of methyl acrylate.
A mixed solution of 100 g of tetrahydrofuran and 100 g of tetrahydrofuran was further photopolymerized in the same manner as in the synthesis example of [B-2] above.
Next, it was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the precipitate was collected by filtration and dried under reduced pressure to obtain 76 g of a polymer having Mw of 1 × 10 5 .

【0175】[0175]

【化38】 [Chemical 38]

【0176】樹脂〔B〕の合成例4:〔B−4〕 メチルメタクリレート67g、ブチルメタクリレート3
3g、ベンジル−N,N−ジメチルジチオカーバメイト
0.8g及びテトラヒドロフラン100gの混合溶液を
〔B−1〕の合成例と同様の条件で光重合した。この重
合体溶液に、エチルメタクリレート24g、マクロモノ
マー(MM−5)6g及びテトラヒドロフラン30gの
混合溶液を混合した後、上記と同条件で更に光重合し
た。
Synthesis Example 4 of Resin [B]: [B-4] 67 g of methyl methacrylate, 3 of butyl methacrylate
A mixed solution of 3 g, benzyl-N, N-dimethyldithiocarbamate 0.8 g and tetrahydrofuran 100 g was photopolymerized under the same conditions as in the synthesis example of [B-1]. After mixing a mixed solution of 24 g of ethyl methacrylate, 6 g of macromonomer (MM-5) and 30 g of tetrahydrofuran with this polymer solution, photopolymerization was further performed under the same conditions as above.

【0177】この重合体溶液に、メチルメタクリレート
42g、エチルアクリレート18g及びテトラヒドロフ
ラン60gの混合溶液を混合した後、更に上記と同条件
で光重合した。得られた反応物を、メタノール1リット
ル中に再沈し、沈澱物を補集・乾燥してMw1.1×1
5 の重合体152gを得た。
A mixed solution of 42 g of methyl methacrylate, 18 g of ethyl acrylate and 60 g of tetrahydrofuran was mixed with this polymer solution, and then photopolymerization was conducted under the same conditions as above. The obtained reaction product was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the precipitate was collected and dried to obtain Mw 1.1 × 1.
This gave 152 g of a polymer of 0 5 .

【0178】[0178]

【化39】 [Chemical Formula 39]

【0179】樹脂〔B〕の合成例5〜11:〔B−5〕
〜〔B−11〕 〔B−1〕の合成例と同様の方法で、下記表−Cの各重
合体を合成した。得られた重合体のMwは8×104
1×105 の範囲であった。
Synthesis Examples 5 to 11 of Resin [B]: [B-5]
-[B-11] Each polymer of the following Table-C was synthesize | combined by the method similar to the synthesis example of [B-1]. The Mw of the obtained polymer was 8 × 10 4 to
The range was 1 × 10 5 .

【0180】[0180]

【表5】 [Table 5]

【0181】[0181]

【表6】 [Table 6]

【0182】樹脂〔B〕の合成例12〜36:〔B−1
2〕〜〔B−36〕 〔B−3〕の合成例と同様にして、下記表−D及び表−
Eの樹脂〔B〕を合成した。各樹脂〔B〕のMwは9×
104 〜2×105 の範囲であった。
Synthesis Examples 12 to 36 of Resin [B]: [B-1
2] to [B-36] In the same manner as in the synthesis example of [B-3], the following Table-D and Table-D are shown.
The resin [B] of E was synthesized. Mw of each resin [B] is 9x
It was in the range of 10 4 to 2 × 10 5 .

【0183】[0183]

【表7】 [Table 7]

【0184】[0184]

【表8】 [Table 8]

【0185】[0185]

【表9】 [Table 9]

【0186】[0186]

【表10】 [Table 10]

【0187】[0187]

【表11】 [Table 11]

【0188】[0188]

【表12】 [Table 12]

【0189】[0189]

【表13】 [Table 13]

【0190】[0190]

【表14】 [Table 14]

【0191】実施例1並びに比較例1及び比較例2 樹脂〔A−7〕6g(固形分量として)、樹脂〔B−
2〕34g(固形分量として)、光導電性酸化亜鉛20
0g、下記構造の色素〔I〕0.018g、無水フタル
酸0.15g及びトルエン300gの混合物をホモジナ
イザー(日本精機(株)製)中、回転数7×103 rp
mで8分間分散して、感光層形成物を調製し、これを導
電処理した紙に、乾燥付着量が25g/m2 となる様に
ワイヤーバーで塗布し、110℃で10秒間乾燥し、つ
いで暗所で20℃、65%RHの条件下で24時間放置
することにより、電子写真感光材料(以下、感材と称す
ることもある)を作製した。
Example 1 and Comparative Examples 1 and 2 6 g of resin [A-7] (as solid content), resin [B-
2] 34 g (as solid content), photoconductive zinc oxide 20
A mixture of 0 g, 0.018 g of the dye [I] having the following structure, 0.15 g of phthalic anhydride and 300 g of toluene was placed in a homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.) to rotate at 7 × 10 3 rp.
m to disperse for 8 minutes to prepare a photosensitive layer-formed product, which was applied to a conductive-treated paper with a wire bar so that the dry adhesion amount was 25 g / m 2, and dried at 110 ° C. for 10 seconds, Then, by leaving it in the dark at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours, an electrophotographic photosensitive material (hereinafter sometimes referred to as a sensitive material) was produced.

【0192】[0192]

【化40】 [Chemical 40]

【0193】比較例1 実施例1において、樹脂〔B−2〕34gの代わりに下
記構造の樹脂〔R−1〕34gを用いた他は、実施例1
と同様に操作して電子写真感光材料を作製した。
Comparative Example 1 Example 1 was repeated except that 34 g of resin [R-1] having the following structure was used in place of 34 g of resin [B-2] in Example 1.
An electrophotographic photosensitive material was produced in the same manner as in.

【0194】[0194]

【化41】 [Chemical 41]

【0195】比較例2 実施例1において、樹脂〔B−2〕34gの代わりに下
記構造の樹脂〔R−2〕とした他は、実施例1と同様に
操作して電子写真感光材料を作製した。
Comparative Example 2 An electrophotographic photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 1, except that 34 g of the resin [B-2] in Example 1 was replaced with the resin [R-2] having the following structure. did.

【0196】[0196]

【化42】 [Chemical 42]

【0197】これらの感光材料について、光導電層の平
滑性、耐コスレ性、印刷性並びに環境条件(20℃、6
5%RH)、(30℃、80%RH)及び(15℃、3
0%RH)とした時の撮像性を調べた。以上の結果を表
−Fに示す。
Regarding these photosensitive materials, the smoothness of the photoconductive layer, abrasion resistance, printability and environmental conditions (20 ° C., 6
5% RH), (30 ° C, 80% RH) and (15 ° C, 3
The imaging property when 0% RH) was examined. The above results are shown in Table-F.

【0198】[0198]

【表15】 [Table 15]

【0199】表−Fに記した評価項目の実施の態様は以
下の通りである。 注1) 表面層の平滑性:感光材料は、ベック平滑度試
験機(熊谷理工(株)製)を用い、空気容量1ccの条
件にて、その平滑度(sec/cc)を測定した。 注2) 撮像性:感光材料を以下の環境条件で1昼夜放
置した後、感光材料を−6kVで帯電し、光源として
2.8mW出力のガリウム−アルミニウム−ヒ素半導体
レーザー(発振波長780nm)を用いて、感光材料表
面上で64erg/cm2 の照射量下、ピッチ25μm
及びスキャニング速度300m/secのスピード露光
後液体現像剤として、ELP−T(富士写真フィルム
(株)製)を用いて現像し、イソパラフィンアイソパー
G(エッソ化学(株)製)溶媒のリンス液で洗浄後定着
することで得られた複写画像(カブリ、画像の画質)を
目視評価した。
Embodiments of the evaluation items shown in Table-F are as follows. Note 1) Smoothness of surface layer: The photosensitive material was measured for its smoothness (sec / cc) using a Beck's smoothness tester (manufactured by Kumagai Riko Co., Ltd.) under an air volume of 1 cc. Note 2) Imaging property: After the photosensitive material was left for one day under the following environmental conditions, the photosensitive material was charged at −6 kV, and a 2.8 mW output gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength 780 nm) was used as a light source. And a pitch of 25 μm on the surface of the photosensitive material under an irradiation amount of 64 erg / cm 2.
After speed exposure at a scanning speed of 300 m / sec, ELP-T (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was used as a liquid developer and developed, and a rinse liquid of isoparaffin Isopar G (manufactured by Esso Kagaku) was used. The copied image (fog, image quality) obtained by fixing after washing was visually evaluated.

【0200】撮像時の環境条件は20℃65%RH
(I)、30℃80%RH(II)及び15℃30%R
H(III)で実施した。 注3) 耐コスレ性 感光材料の表面上に、同じ感光材料を裏面と重なる様に
して置き、更にその上に重量75gの分銅を置いて、上
の感光層を、ゆっくり水平方向に引く、その後光導電層
がコスられた感材を用いて注2)と同様の操作で製版
(即ち、複写画像の形成)を行ない、分銅でコスられた
部分の画像及び非画像部の画像を目視評価した。撮像時
の環境条件は(20℃65%RH)(I)で行なった。
The environmental conditions at the time of imaging are 20 ° C. and 65% RH.
(I), 30 ° C 80% RH (II) and 15 ° C 30% R
Performed with H (III). Note 3) Scratch resistance The same photosensitive material is placed on the surface of the photosensitive material so that it overlaps with the back surface, a weight of 75 g is placed on it, and the upper photosensitive layer is pulled slowly in the horizontal direction. A photosensitive material having a photoconductive layer was used to perform plate making (that is, formation of a copy image) in the same manner as in Note 2), and the image of the portion costly with the weight and the image of the non-image portion were visually evaluated. . The environmental conditions at the time of imaging were (20 ° C. 65% RH) (I).

【0201】注4) 印刷性 注3)と同様にして、感光体表面にコスレ操作を行なっ
た後、前記注2)の撮像性と同条件にして製版して、ト
ナー画像を形成した後、ELP−EXを用いてエッチン
グプロセッサーに2回通して不感脂化処理し、これをオ
フセットマスターとして、オフセット印刷機(桜井製作
所(株)製オリバー52型)にかけ、印刷物の非画像部
の地汚れ及び画像部の画質に問題が生じないで印刷でき
る枚数を示す(印刷枚数が多い程、印刷性が良好なこと
を表わす)。
Note 4) Printability In the same manner as in Note 3), the surface of the photoconductor was subjected to a scoring operation, and then plate making was carried out under the same conditions as in Note 2) above to form a toner image. The ELP-EX was passed through an etching processor twice for desensitization, and this was applied as an offset master to an offset printing machine (Oliver 52 type manufactured by Sakurai Seisakusho Co., Ltd.) to remove scumming in the non-image area of the printed matter. Indicates the number of prints that can be printed without causing a problem in the image quality of the image area (the larger the number of prints, the better the printability).

【0202】表−Fに示す様に、本発明の感光材料は、
環境条件が変動しても静電特性が良好で、実際の複写画
像も地カブリがなく複写画質も鮮明であった。一方、比
較例1及び2は、環境条件が変動すると、高精細な複写
画像である複写原稿の連続階調部分に、中間濃度でのム
ラの発生を生じた。又、光導電層表面に荷重をかけての
コスリテストでは、本発明の感材は、コスリの有無にか
かわらず、良好な画像を示した。しかし、比較例1及び
2の感材は、コスリテストをしたものではコスられた部
分の画像部はカスレが、又非画像部は地汚れが各々著し
く発生し実用に供しえない複写画像のものとなってしま
った。
As shown in Table-F, the light-sensitive material of the present invention is
Even if the environmental conditions changed, the electrostatic characteristics were good, and the actual copied image had no background fog and the copied image quality was clear. On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, when the environmental conditions changed, unevenness at intermediate density occurred in the continuous tone part of the copy document which is a high-definition copy image. Further, in a kosuri test in which a load was applied to the surface of the photoconductive layer, the photosensitive material of the present invention showed good images regardless of the presence or absence of kosuri. However, the light-sensitive materials of Comparative Examples 1 and 2 are those of the copied image which cannot be put to practical use because the image portion of the worn portion is greatly scratched and the non-image portion is significantly smeared by the kosuri test. It is had.

【0203】更に、これらの製版後の感材を不感脂化処
理して、オフセット印刷版として印刷機で印刷してみた
所、本発明の印刷版は、鮮明な画像で地汚れのない印刷
物が1万枚得られた。他方、比較例1及び2は、画像部
のカスレがそのまま印刷物の画像に現われ且つ、非画像
部の汚れも、不感脂化処理しても除去されず、印刷物の
非画像部の地汚れとして、刷り出しから発生してしまっ
た。
Further, when these photosensitive materials after plate-making were subjected to desensitization treatment and printed as an offset printing plate with a printing machine, the printing plate of the present invention showed clear images with clear images and no background stains. I got 10,000 copies. On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, the blurring of the image portion appears in the image of the printed matter as it is, and the stain of the non-image portion is not removed even by the desensitizing treatment, and as the background stain of the non-image portion of the printed matter, It occurred from the printing.

【0204】以上のことより、本発明の樹脂を用いた場
合にのみ、耐コスレに優れた撮像性(特に高精細な画
像)を設定する電子写真感光体が得られ、特に半導体レ
ーザー光スキャンニング露光方式の感光体システムに優
位になること及び、電子写真式平版印刷原版として用い
ても、極めて良好な印刷版の性能を示すことが明らかと
なった。 実施例2及び実施例3 樹脂〔A−22〕5g(固形分量として)(実施例2)
又は樹脂〔A−19〕5g(固形分量として)(実施例
3)、樹脂〔B−3〕35g(固形分量として)、光導
電性酸化亜鉛200g、下記構造の色素〔II〕0.0
20g、N−ヒドロキシマレインイミド0.20g及び
トルエン300gの混合物を、実施例1と同様に操作し
て、電子写真感光材料を作製した。
From the above, an electrophotographic photosensitive member having excellent image pick-up resistance (especially high-definition image) can be obtained only when the resin of the present invention is used, and particularly semiconductor laser light scanning It was clarified that it was superior to the exposure type photoreceptor system and that it exhibited extremely good printing plate performance even when used as an electrophotographic lithographic printing original plate. Example 2 and Example 3 Resin [A-22] 5 g (as solid content) (Example 2)
Alternatively, resin [A-19] 5 g (as solid content) (Example 3), resin [B-3] 35 g (as solid content), photoconductive zinc oxide 200 g, dye [II] 0.0 having the following structure:
A mixture of 20 g, N-hydroxymaleinimide 0.20 g and toluene 300 g was treated in the same manner as in Example 1 to prepare an electrophotographic photosensitive material.

【0205】[0205]

【化43】 [Chemical 43]

【0206】各感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、耐
コスレ性、印刷性及び環境条件を20℃、65%RH、
30℃、80%RH及び15℃、30%RHとした時の
撮像性を実施例1と同様にして調べた。その結果を表−
Gに示す。
The film properties (surface smoothness), abrasion resistance, printability and environmental conditions of each light-sensitive material were set to 20 ° C., 65% RH,
The imaging properties at 30 ° C., 80% RH and 15 ° C., 30% RH were examined in the same manner as in Example 1. Table of the results
Shown in G.

【0207】[0207]

【表16】 [Table 16]

【0208】各感光材料とも、実施例1と同様に各性能
を調べた所、いずれの性能とも良好であった。特に、特
定の置換基を含有する樹脂〔A〕を用いた実施例2は、
より優れた撮像性を示した。 実施例4〜6 実施例1において用いた色素〔I〕の代わりに下記表−
Hの色素に代えた他は実施例1と同様の条件で電子写真
感光体材料を作製した。
When the respective performances of the respective light-sensitive materials were examined in the same manner as in Example 1, all the performances were good. In particular, Example 2 using the resin [A] containing a specific substituent,
It showed a better imaging property. Examples 4 to 6 Instead of the dye [I] used in Example 1, the following table-
An electrophotographic photosensitive material was prepared under the same conditions as in Example 1 except that the dye of H was used instead.

【0209】[0209]

【表17】 [Table 17]

【0210】本発明の各感光材料は、いずれの複写画像
も高温・高湿(30℃、80%RH)及び低温低湿(1
5℃、30%RH)の過酷な条件においても、地カブリ
の発生のない、鮮明な画像を与えた。又耐コスレ性も、
極めて良好で、更にオフセット印刷版として印刷した
所、1万枚印刷しても、良好な印刷物を得ることができ
た。 実施例7〜26 実施例1において、樹脂〔A−7〕6g及び樹脂〔B−
2〕34gの代わりに、下記表−Iの各樹脂〔A〕6g
及び各樹脂〔B〕34gを各々用いた他は実施例1と同
様にして各感光材料を作成した。
In each of the light-sensitive materials of the present invention, all copied images have high temperature and high humidity (30 ° C., 80% RH) and low temperature and low humidity (1
Even under the severe conditions of 5 ° C. and 30% RH), a clear image with no background fog was provided. Also, the anti-corrosion property
It was extremely good, and when printed as an offset printing plate, a good printed matter could be obtained even after printing 10,000 sheets. Examples 7 to 26 In Example 1, 6 g of resin [A-7] and resin [B-
2] Instead of 34 g, 6 g of each resin [A] in Table I below.
And each photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 1 except that 34 g of each resin [B] was used.

【0211】[0211]

【表18】 [Table 18]

【0212】各感光材料の撮像性を実施例1と同様にし
て測定した。いづれの感光材料も実際の撮像性は、細線
・文字の再現性良好で中間調のムラの発生もなく、地カ
ブリの全くない鮮明な複写画像のものが得られた。耐コ
スレ性も、極めて良好であった。また、オフセットマス
ター原版として用いて、実施例2と同様にして印刷した
ところ、いづれも少なくとも1万枚以上良好に印刷する
ことができた。
The image pickup property of each light-sensitive material was measured in the same manner as in Example 1. The actual image pick-up of each of the light-sensitive materials was excellent in reproducibility of fine lines and characters, no generation of halftone unevenness, and clear copy images with no background fog were obtained. The abrasion resistance was also extremely good. Further, when printing was performed in the same manner as in Example 2 using the offset master original plate, at least 10,000 or more sheets could be printed favorably.

【0213】以上のことから、本発明の各感光材料は光
導電層の平滑性、膜強度、静電特性及び印刷性の全ての
点において良好なものであった。 実施例27及び比較例3 樹脂〔A−18〕5g及び樹脂〔B−17〕35g、光
導電性酸化亜鉛200g、ウラニン0.02g、ローズ
ベンガル0.04g、ブロムフェノールブルー0.03
g、無水フタル酸0.40g及びトルエン300gの混
合物を、ホモジナイザー中で回転数8×103 rpmで
6分間分散して感光層形成物を調整し、これを導電処理
した紙に、乾燥付着量が25g/m2 となる様にワイヤ
ーバーで塗布し、110℃で20秒間乾燥した。次いで
暗所で20℃、65%RHの条件下で24時間放置する
ことにより、各電子写真感光材料を作製した。 比較例3 実施例27において、樹脂〔B−17〕の代わりに、前
記した樹脂〔R−2〕とした他は、実施例27と同様に
操作して電子写真感光材料を作製した。
From the above, each of the light-sensitive materials of the present invention was good in all aspects of the smoothness, film strength, electrostatic properties and printability of the photoconductive layer. Example 27 and Comparative Example 3 5 g of resin [A-18] and 35 g of resin [B-17], 200 g of photoconductive zinc oxide, 0.02 g of uranine, 0.04 g of rose bengal, 0.03 g of bromphenol blue.
g, 0.40 g of phthalic anhydride, and 300 g of toluene were dispersed in a homogenizer at a rotation speed of 8 × 10 3 rpm for 6 minutes to prepare a photosensitive layer-forming material, which was dried and attached to a conductive-treated paper. Of 25 g / m 2 was applied with a wire bar and dried at 110 ° C. for 20 seconds. Then, each electrophotographic photosensitive material was produced by leaving it in the dark at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours. Comparative Example 3 An electrophotographic photosensitive material was produced in the same manner as in Example 27, except that the resin [R-2] was used instead of the resin [B-17] in Example 27.

【0214】各感光材料の平滑性・撮像性、耐コスレ性
及び印刷性を実施例1と同様にして測定した。その結果
を表−Jに示した。
The smoothness / imaging property, the abrasion resistance and the printability of each light-sensitive material were measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table-J.

【0215】[0215]

【表19】 [Table 19]

【0216】表−J中、撮像性及び耐コスレ性は、下記
の操作に従い、その他は実施例1と同様に行なった。 注5) 撮像性:感光材料を以下の環境条件で1昼夜放
置した後、全自動製版機EPL−404V(富士写真フ
ィルム(株)製)でEPL−Tをトナーとして用いて製
版して得られた複写画像(カブリ、画像の画質)を目視
評価した。撮像時の環境条件は20℃65%RH
(I)、30℃80%RH(II)及び15℃30%R
H(III)で実施した。但し、複写用の原稿(即ち、
版下原稿)には、ほかの原稿を切り抜いて、貼り込みを
行なって作成したものを用いた。 注6) 耐コスレ性 注3)の耐コスレテストにおいて、撮像方法を注5)に
代えた他は、注3)と同様にして行なった。
In Table-J, the image pickup property and the abrasion resistance were the same as in Example 1 except for the following operations. Note 5) Imaging property: Obtained by leaving the light-sensitive material to stand for one day under the following environmental conditions and then making a plate using EPL-T as a toner with a fully automatic plate-making machine EPL-404V (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.). The copied image (fog, image quality) was visually evaluated. Environmental conditions during imaging are 20 ° C and 65% RH
(I), 30 ° C 80% RH (II) and 15 ° C 30% R
Performed with H (III). However, the manuscript for copying (that is,
The original copy) was prepared by cutting out and pasting other originals. Note 6) Corrosion resistance In the Kossure resistance test of Note 3), the same method as Note 3) was used except that the image capturing method was changed to Note 5).

【0217】本発明の感光材料及び比較例3ともに、光
導電層の平滑性は良好であった。実際の撮像性を調べて
見ると、比較例3は、複写画像として原稿以外に、切り
抜いて貼り込んだ部分の枠(即ち、貼り込み跡)が非画
像部の地汚れとして認められた。更に、撮像時の環境条
件が高温高湿(II)、低温低湿(III)下で複写画
像の連続階調部の中間調域にムラの発生、ベタ画像部の
白ヌケの微小のムラの発生等がみられた。しかし、本発
明のものは、いずれも、地汚れのない、鮮明な画像のも
のが得られた。
In both the light-sensitive material of the present invention and Comparative Example 3, the smoothness of the photoconductive layer was good. As a result of examining the actual image pick-up property, in Comparative Example 3, the frame (that is, the sticking mark) of the cut-out and stuck part was recognized as the background image of the non-image part in addition to the original as the copied image. Furthermore, when the environmental conditions at the time of image pickup are high temperature and high humidity (II) and low temperature and low humidity (III), unevenness occurs in the halftone region of the continuous tone part of the copy image, and minute unevenness of white spots in the solid image part occurs. Etc. were seen. However, in all cases of the present invention, clear images having no background stain were obtained.

【0218】耐コスレ性は、本発明のものは、極めて良
好であったが、比較例3は、コスられた所は、画像部分
では画像のカスレ、他方非画像部では地汚れが各々顕著
に認められた。更に、これらをオフセット印刷用原版と
して不感脂化処理して印刷した所、本発明のものはいず
れも地汚れのない鮮明な画質の印刷物が1万枚得られ
た。しかし、比較例3は、上記の貼り込み跡が、不感脂
化処理でも除去されず、更に、コスられた部分の非画像
部の地汚れ・画像部のカスレが刷り出しの印刷物から発
生してしまった。
The abrasion resistance of the present invention was extremely good, however, in Comparative Example 3, the abrasion was observed in the image portion and the background stain was remarkable in the non-image portion. Admitted. Further, when these were subjected to a desensitizing treatment as offset printing original plates and printed, all of the present invention produced 10,000 printed matters with clear image quality without background stains. However, in Comparative Example 3, the above-mentioned sticking mark is not removed even by the desensitizing treatment, and further, the background stain of the non-image portion of the worn portion and the blurring of the image portion are generated from the printed matter. Oops.

【0219】以上の事から、本発明の感光材料は、撮像
性、耐コスレ性及び印刷性の全ての点において良好なも
のであった。 実施例28〜51 実施例27において、樹脂〔A−18〕5g及び樹脂
〔B−17〕35gの代わりに、下記表−Kに記載の各
樹脂〔A〕6g及び樹脂〔B〕34gを用いた他は、実
施例27と同様にして各感光材料を作製した。
From the above, the light-sensitive material of the present invention was good in all aspects of image pick-up property, abrasion resistance and printability. Examples 28 to 51 In Example 27, instead of 5 g of the resin [A-18] and 35 g of the resin [B-17], 6 g of each resin [A] and 34 g of the resin [B] shown in Table K below were used. Photosensitive materials were produced in the same manner as in Example 27 except that the above was used.

【0220】[0220]

【表20】 [Table 20]

【0221】本発明の各感光材料は、いずれも、撮像
性、耐コスレ性及び印刷性ともに実施例27と同様に良
好な性能を示した。
Each of the light-sensitive materials of the present invention showed good performance in image pick-up, abrasion resistance and printability as in Example 27.

【0222】[0222]

【発明の効果】本発明によれば、鮮明で良質な画像を有
し、更に優れた画像再現性、耐湿性及び耐面強度を有す
る電子写真感光体を得ることができる。特に、半導体レ
ーザー光を用いたスキャニング露光方式に有効である。
式(Ia)又は(Ib)で示される特定のメタクリレー
ト成分を含有する繰り返し単位を本発明に用いることに
より、更に画像再現性が向上する。
According to the present invention, it is possible to obtain an electrophotographic photosensitive member having a clear and high-quality image and further having excellent image reproducibility, moisture resistance and surface strength. In particular, it is effective for a scanning exposure method using semiconductor laser light.
By using the repeating unit containing the specific methacrylate component represented by the formula (Ia) or (Ib) in the present invention, the image reproducibility is further improved.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 無機光導電材料、分光増感色素及び結着
樹脂を少なくとも含有する光導電層を有する電子写真感
光体において、該結着樹脂が、下記樹脂〔A〕の少なく
とも1種及び下記樹脂〔B〕の少なくとも1種を各々含
有して成ることを特徴とする電子写真感光体。 樹脂〔A〕 1×103 〜2×104 の重量平均分子量を有し、−P
3 2 、−COOH、−SO3 H、フェノール性OH
基、−P(=O)(OH)R1 〔R1 は炭化水素基又は
−OR2 (R2 は炭化水素基を表す)を表す〕及び環状
酸無水物基から選択される少なくとも1種の極性基を有
する重合体成分を含有するAブロックと下記一般式
(I)で示される重合体成分を少なくとも含有するBブ
ロックとから構成されるAB型ブロック共重合体。 【化1】 〔式(I)中、R11は炭化水素基を表わす。〕 樹脂〔B〕 3×104 〜1×106 の重量平均分子量を有し、下記
一般式(II)で示される繰り返し単位から成る重合体成
分を少なくとも含有するAブロックと、−PO3 2
−COOH、−SO3 H、−P(=O)(OH)R
1 (R1 は上記と同様の内容を表す)及び環状酸無水物
基から選ばれる少なくとも1種の極性基を有する重合体
成分を含有する重合体主鎖の一方の末端のみに重合性二
重結合基を結合して成る重量平均分子量1×103 〜2
×104 の一官能性マクロモノマー(M)を少なくとも
1種含有するBブロックとで構成されるAB型及び/又
はABA型ブロック共重合体。 【化2】 〔式(II)中、a1 、a2 は各々水素原子、ハロゲン原
子、シアノ基又は炭化水素基を表す。R12は炭化水素基
を表す。〕
1. An electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductive material, a spectral sensitizing dye and a binder resin, wherein the binder resin is at least one of the following resins [A] and the following: An electrophotographic photoreceptor comprising at least one resin [B]. Resin [A] having a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 10 4 ,
O 3 H 2, -COOH, -SO 3 H, phenolic OH
Group, -P (= O) (OH ) R 1 [R 1 is a hydrocarbon group or -OR 2 (R 2 represents a hydrocarbon group)] at least one selected from and cyclic acid anhydride group An AB-type block copolymer composed of an A block containing a polymer component having a polar group and a B block containing at least a polymer component represented by the following general formula (I). [Chemical 1] [In the formula (I), R 11 represents a hydrocarbon group. Resin [B] A block having a weight average molecular weight of 3 × 10 4 to 1 × 10 6 and containing at least a polymer component composed of a repeating unit represented by the following general formula (II), and —PO 3 H 2 ,
-COOH, -SO 3 H, -P ( = O) (OH) R
1 (R 1 has the same meaning as described above) and a polymerizable double bond only at one end of the polymer main chain containing a polymer component having at least one polar group selected from cyclic acid anhydride groups. Weight average molecular weight 1 × 10 3 to 2 formed by bonding a bonding group
An AB-type and / or ABA-type block copolymer composed of a B block containing at least one monofunctional macromonomer (M) of × 10 4 . [Chemical 2] [In the formula (II), a 1 and a 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. R 12 represents a hydrocarbon group. ]
【請求項2】 上記樹脂〔A〕が、一般式(I)で示さ
れる重合体成分として下記一般式(Ia)及び下記一般
式(Ib)で示されるアリール基含有のメタクリレート
成分のうちの少なくとも1つを含有することを特徴とす
る請求項1記載の電子写真感光体。 【化3】 【化4】 〔式(Ia)及び(Ib)中、A1 及びA2 は互いに独
立に各々水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、ハロ
ゲン原子、シアノ基、−COZ2 又は−COOZ2 (Z
2 は炭素数1〜10の炭化水素基を表す)を表し、B1
及びB2 は各々−COO−とベンゼン環を結合する単結
合又は連結原子数1〜4個の連結基を表す。〕
2. The resin [A] comprises at least one of aryl group-containing methacrylate components represented by the following general formulas (Ia) and (Ib) as a polymer component represented by the general formula (I). The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, which contains one of them. [Chemical 3] [Chemical 4] [In formulas (Ia) and (Ib), A 1 and A 2 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a halogen atom, a cyano group, —COZ 2 or —COOZ 2 (Z
2 represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms), and B 1
And B 2 each represent a single bond or a connecting group having 1 to 4 connecting atoms for connecting —COO— and the benzene ring. ]
【請求項3】 上記樹脂〔B〕において、全共重合体中
に含有される特定の極性基含有重合体成分の総量が、上
記樹脂〔A〕中に含有される特定の極性基含有重合体成
分の総量に対し10重量%〜50重量%であることを特
徴とする請求項1又は2のいずれかに記載の電子写真感
光体。
3. In the resin [B], the total amount of the specific polar group-containing polymer component contained in all the copolymers is the specific polar group-containing polymer contained in the resin [A]. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, which is 10% by weight to 50% by weight based on the total amount of the components.
JP8025693A 1992-06-03 1993-03-16 Electrophotographic sensitive body Pending JPH06266124A (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8025693A JPH06266124A (en) 1993-03-16 1993-03-16 Electrophotographic sensitive body
DE4392441T DE4392441T1 (en) 1992-06-03 1993-06-03 Photosensitive electrophotographic material
US08/193,071 US5459005A (en) 1992-06-03 1993-06-03 Electrophotographic light-sensitive material
PCT/JP1993/000748 WO1993024864A1 (en) 1992-06-03 1993-06-03 Electrophotographic photoreceptor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8025693A JPH06266124A (en) 1993-03-16 1993-03-16 Electrophotographic sensitive body

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06266124A true JPH06266124A (en) 1994-09-22

Family

ID=13713239

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8025693A Pending JPH06266124A (en) 1992-06-03 1993-03-16 Electrophotographic sensitive body

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06266124A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO1993024864A1 (en) Electrophotographic photoreceptor
JPH0619147A (en) Electrophotographic sensitive body
JP2670884B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JPH06266124A (en) Electrophotographic sensitive body
JP3112704B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JP3219842B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JP3112715B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JP2676645B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JPH0651541A (en) Electrophotographic sensitive body
JP2623152B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JPH06250408A (en) Electrophotographic sensitive body
JP3112712B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JPH075716A (en) Electrophotographic photoreceptor
JP3096705B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JPH06161120A (en) Photosensitive body for electrophotography
JP2982081B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JPH06289630A (en) Electrophotographic photoreceptor
JPH0534942A (en) Electrophotographic sensitive body
JPH06250409A (en) Electrophotographic sensitive body
JP3115362B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
JPH06180508A (en) Electrophotographic sensitive body
JPH05107779A (en) Electrophotographic sensitive body
JPH05100447A (en) Electr0photographic sensitive body
JPH05142797A (en) Electrophotographic sensitive body
JPH06175379A (en) Electrophotographic sensitive body