JPH06252375A - Solid-state image pickup device - Google Patents
Solid-state image pickup deviceInfo
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Landscapes
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は固体撮像装置に係り、特
に、高解像度な画像信号を扱える固体撮像装置に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a solid-state image pickup device, and more particularly to a solid-state image pickup device capable of handling high resolution image signals.
【0002】[0002]
【従来の技術】図5に1991年テレビジョン学会年次
大会講演予稿集pp33〜34に記載の、従来の固体撮
像素子構成を示す。1フィールド期間中にホトダイオー
ド1に蓄積された信号電荷はホトゲート2を介して垂直
CCDレジスタ3に転送される。垂直CCDレジスタ3
に転送された信号電荷は、垂直クロック入力端子40,
41,42,43に印加される外部パルスによって各垂
直クロックゲート線10,11,12,13が駆動され
ることにより、一水平走査期間毎に水平CCDレジスタ
5に送り込まれ、出力アンプ6を介して外部に出力され
る。2. Description of the Related Art FIG. 5 shows a conventional solid-state image pickup device structure described in Proceedings pp33 to 34 of the 1991 Annual Conference of the Television Society. The signal charge accumulated in the photodiode 1 during one field period is transferred to the vertical CCD register 3 via the photogate 2. Vertical CCD register 3
The signal charge transferred to the vertical clock input terminal 40,
Each vertical clock gate line 10, 11, 12, 13 is driven by an external pulse applied to 41, 42, 43 to be sent to the horizontal CCD register 5 every horizontal scanning period, and output via the output amplifier 6. Output to the outside.
【0003】図6はホトダイオードおよび垂直CCDレ
ジスタの平面パターンを示したものである。ここで、1
0および12は第1層目のポリシリコンゲート電極、1
1および13は第2層目のポリシリコンゲート電極であ
り、図5の10〜13にそれぞれ対応している。14〜
19はポリシリコンゲート電極上に形成されるアルミニ
ウム等から成る遮光膜の覆われてない領域で、これを開
口領域と呼ぶ。FIG. 6 shows a plane pattern of a photodiode and a vertical CCD register. Where 1
0 and 12 are polysilicon gate electrodes of the first layer, 1
Reference numerals 1 and 13 denote second-layer polysilicon gate electrodes, which correspond to 10 to 13 in FIG. 5, respectively. 14 ~
Reference numeral 19 denotes an area which is not covered with the light shielding film made of aluminum or the like formed on the polysilicon gate electrode and is called an opening area.
【0004】図6において、A−A′線での断面図を図
7に、B−B′線での断面図を図8に示す。図7におい
て、20のN型半導体基板内に形成された21のP型ウ
エル内にこれより高濃度の22,122のP型ウエル
を、さらにその中にCCDチャネルを形成する23,1
23のN型不純物領域が設けられている。また、24は
ホトダイオードとなるN型不純物領域であり、その上面
に形成される25のP+型不純物領域は半導体表面で発
生する暗電流を抑圧するために設けられている。23,
123の片側に設けられた26,126のP型不純物領
域は垂直CCDレジスタとホトダイオードとを分離する
ためのものである。CCDチャネル上には27,127
のポリシリコンゲートが29の酸化膜等の絶縁膜を介し
て形成される。さらにその上面には28,128の遮光
用のアルミニュウムが配置される。また、23と24と
の対向する部分はゲート27によりポテンシャルが制御
され、ホトダイオードの選択ゲートとして働く。In FIG. 6, a sectional view taken along the line AA 'is shown in FIG. 7, and a sectional view taken along the line BB' is shown in FIG. In FIG. 7, 22,122 P-type wells of higher concentration are formed in 21 P-type wells formed in 20 N-type semiconductor substrates, and CCD channels are formed therein 23,1.
23 N-type impurity regions are provided. Further, 24 is an N-type impurity region which becomes a photodiode, and 25 P + -type impurity region formed on the upper surface thereof is provided to suppress a dark current generated on the semiconductor surface. 23,
26 and 126 P-type impurity regions provided on one side of 123 are for separating the vertical CCD register and the photodiode. 27,127 on the CCD channel
Is formed through an insulating film 29 such as an oxide film. Further, 28,128 light-shielding aluminum is arranged on the upper surface thereof. The potential of the opposing portion of 23 and 24 is controlled by the gate 27, and the portion functions as a selection gate of the photodiode.
【0005】図8は図6におけるB−B′線での断面図
を示したものである。ここで、10〜29の各要素は図
7の各要素と同じものである。さらにその上面に形成さ
れるアルミニウム等はここでは省略してある。FIG. 8 is a sectional view taken along line BB 'in FIG. Here, each element of 10 to 29 is the same as each element of FIG. 7. Further, aluminum and the like formed on the upper surface thereof are omitted here.
【0006】図9は図8における垂直CDDレジスタの
チャネル電位の時間変化を模式的に示したものである。
まず、時刻t=taにおいて第2層目のポリシリコンゲ
ートに高レベル電圧が印加され、各ホトダイオードから
の信号電荷Qa,Qb,Qc…が垂直CCDレジスタに
移される。続いて、時刻t=tbでは各信号電荷はQa
+Qb,Qc+Qd…というように二つの画素信号が混
合され、中間レベル電圧になった二つの転送ゲート電極
下に保持される。続いて、時刻t=tcでは各信号電荷
は次のゲートが中間レベル電圧となり三つの転送ゲート
電極下に保持される。続いて、時刻t=tdでは各信号
電荷は前のゲートが低レベル電圧に戻り二つの転送ゲー
ト電極下に保持される。この様にして、転送ゲートに高
レベル電圧が印加されて垂直CCDレジスタに読み込ま
れた信号電荷は、二つの画素信号が混合されて、転送ゲ
ートに中間レベル電圧と低レベル電圧の4相のクロック
パルスを交互に印加されながら水平CCDレジスタに転
送されていく。FIG. 9 schematically shows the time variation of the channel potential of the vertical CDD register shown in FIG.
First, at time t = ta, a high level voltage is applied to the polysilicon gate of the second layer, and the signal charges Qa, Qb, Qc ... From each photodiode are transferred to the vertical CCD register. Then, at time t = tb, each signal charge is Qa
Two pixel signals such as + Qb, Qc + Qd ... Are mixed and held under the two transfer gate electrodes having the intermediate level voltage. Then, at time t = tc, each signal charge is held under the three transfer gate electrodes at the next gate as an intermediate level voltage. Subsequently, at time t = td, each signal charge is held at the lower level of the two transfer gate electrodes by returning the previous gate to the low level voltage. In this way, the signal charge read by the vertical CCD register when the high level voltage is applied to the transfer gate is mixed with two pixel signals, and the transfer gate is fed with a four-phase clock signal of an intermediate level voltage and a low level voltage. The pulses are alternately applied and transferred to the horizontal CCD register.
【0007】本来、撮像装置の信号は各画素の信号を独
立に読み出す方が解像度の点で望ましいが、4相駆動の
垂直CCDレジスタにより画素混合読み出しとせざるを
得ず、従って垂直方向の解像度を十分に引き出すもので
はなかった。Originally, it is desirable that the signals of the image pickup device read the signals of each pixel independently from the viewpoint of resolution. It didn't bring out enough.
【0008】図10は特開昭58−175372号公報における
別の従来の撮像装置の例を示したものである。ここで5
1はホトダイオードであり、52は垂直CCDレジスタ
を示す。二個の一対のホトダイオードからの信号電荷が
一本の垂直CCDレジスタに転送され、垂直CCDレジ
スタに転送された信号電荷は53の水平CCDレジスタ
および54の出力アンプを介して外部に出力されるもの
である。二個の一対のホトダイオードからの信号電荷の
垂直CCDレジスタへの読み込みは同図に矢印で示した
ように交互にずらされている。FIG. 10 shows an example of another conventional image pickup apparatus disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. 58-175372. 5 here
Reference numeral 1 is a photodiode, and 52 is a vertical CCD register. Signal charges from two pairs of photodiodes are transferred to one vertical CCD register, and the signal charges transferred to the vertical CCD register are output to the outside through a horizontal CCD register 53 and an output amplifier 54. Is. The reading of the signal charges from the two pairs of photodiodes into the vertical CCD register is staggered as shown by the arrows in the figure.
【0009】垂直CCDレジスタの4相の転送電極当り
二個の一対のホトダイオードからの信号電荷が転送され
ることになり、垂直CCDレジスタの転送に関しては先
の従来例では画素混合とせざるを得なかったが、この従
来例では画素独立とすることが出来るので垂直解像度の
向上が期待できる。また、二個一対のホトダイオードか
らの信号電荷を使うので、一個のホトダイオードの電荷
量は1/2にしてもよく、ホトダイオードの面積を下げ
ることも可能である。その結果、水平方向の画素ピッチ
を小さくすることが出来るので水平解像度をある程度向
上させることが出来る。Since signal charges from two pairs of photodiodes are transferred per four-phase transfer electrode of the vertical CCD register, the above-mentioned conventional example has no choice but to mix pixels in the transfer of the vertical CCD register. However, in this conventional example, since the pixels can be made independent, an improvement in vertical resolution can be expected. Further, since the signal charges from the pair of two photodiodes are used, the charge amount of one photodiode may be halved, and the area of the photodiode can be reduced. As a result, the pixel pitch in the horizontal direction can be reduced, so that the horizontal resolution can be improved to some extent.
【0010】しかし、2個のホトダイオードで一つの信
号電荷を生成するので空間的なサンプリング点が分離し
ており、MTF(Modulation Transfer Function;解像
度の空間変調度特性)の向上は見込めないという問題が
あった。この様な固体撮像装置の解像度を向上させるた
めには画素数の増加が必要であるが、より微細な加工技
術が必然的に要求される。However, since two photodiodes generate one signal charge, spatial sampling points are separated, and there is a problem that improvement of MTF (Modulation Transfer Function; spatial modulation degree characteristic of resolution) cannot be expected. there were. In order to improve the resolution of such a solid-state imaging device, it is necessary to increase the number of pixels, but a finer processing technique is inevitably required.
【0011】[0011]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、画素
数を増加させることなく高解像度な固体撮像装置を提供
することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a high resolution solid-state image pickup device without increasing the number of pixels.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】上記目的は、垂直CCD
レジスタの電荷転送路を正弦波状に蛇行させ、水平方向
に隣接する光電変換素子の間に2本の垂直CCDレジス
タの電荷転送路を配置することにより達成される。The above object is to provide a vertical CCD.
This is achieved by causing the charge transfer paths of the registers to meander in a sinusoidal shape and disposing the charge transfer paths of the two vertical CCD registers between the photoelectric conversion elements adjacent in the horizontal direction.
【0013】[0013]
【作用】垂直CCDレジスタの電荷転送路を正弦波状に
蛇行させることにより、光電変換素子群の配置を一行毎
に半ピッチ分ずらすことができる。その結果、水平方向
に画素が補完されるので、水平解像度が2倍になる。ま
た、水平方向に隣接する光電変換素子の間に2本の垂直
CCDレジスタの電荷転送路を配置することにより、垂
直方向に隣接する画素の信号電荷を独立に読み出すこと
が出来るので、垂直解像度も向上する。この様に、撮像
装置の画素数を増加することなく解像度を向上させるこ
とが出来る。By making the charge transfer path of the vertical CCD register meander like a sine wave, the arrangement of the photoelectric conversion element groups can be shifted by a half pitch for each row. As a result, the pixels are complemented in the horizontal direction, so that the horizontal resolution is doubled. Further, by arranging the charge transfer paths of two vertical CCD registers between the photoelectric conversion elements adjacent in the horizontal direction, the signal charges of the pixels adjacent in the vertical direction can be independently read out, so that the vertical resolution is also increased. improves. Thus, the resolution can be improved without increasing the number of pixels of the image pickup device.
【0014】[0014]
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1により説明す
る。同図は、本発明の撮像装置の平面図を示したもので
あり、従来の撮像装置の平面図の図6と比較してみると
その違いが良く分かる。図中、121,122,12
3,124は垂直CCDレジスタの電荷転送路、すなわ
ち、チャネルを示している。また、131〜142は光
電変換素子であるホトダイオードを示している。110
〜116は垂直CCDレジスタの転送ゲートを示してお
り、ここで110,112等の偶数番は第一層目のポリ
シリコンゲートを、111,113等の奇数番は第二層
目のポリシリコンゲートを示す。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. This figure shows a plan view of the image pickup apparatus of the present invention, and the difference can be seen clearly when compared with FIG. 6 which is a plan view of the conventional image pickup apparatus. 121, 122, 12 in the figure
Reference numeral 3124 denotes a charge transfer path of the vertical CCD register, that is, a channel. Moreover, 131-142 have shown the photodiode which is a photoelectric conversion element. 110
Reference numerals 116 to 116 denote transfer gates of the vertical CCD register, in which even numbers such as 110 and 112 are polysilicon gates of the first layer, and odd numbers such as 111 and 113 are polysilicon gates of the second layer. Indicates.
【0015】各ホトダイオードに蓄積された信号電荷は
第2層目のポリシリコンゲートに高レベル電圧が印加さ
れ、各ホトダイオードからの信号電荷がそれぞれ独立に
垂直CCDレジスタに移される。例えば、ホトダイオー
ド132,139の信号電荷は123の垂直CCDレジ
スタに移される。垂直CCDレジスタに移された信号電
荷は垂直CCDレジスタのチャネルに沿って一行毎水平
CCDレジスタに移され、外部に信号として出力され
る。A high level voltage is applied to the second gate polysilicon gate of the signal charges accumulated in each photodiode, and the signal charges from each photodiode are independently transferred to the vertical CCD register. For example, the signal charges of the photodiodes 132 and 139 are transferred to 123 vertical CCD registers. The signal charges transferred to the vertical CCD registers are transferred to the horizontal CCD registers row by row along the channels of the vertical CCD registers and output as signals to the outside.
【0016】ここで水平方向の空間的なサンプリングピ
ッチは、水平方向の画素ピッチをXPとすると、XP/
2となる。従って、同一水平画素数の従来の撮像装置と
比較すると、水平解像度が2倍に向上することが分か
る。また、垂直方向の空間的なサンプリングピッチは同
一垂直画素数の従来の撮像装置と比較すると同じである
が、従来装置では垂直方向に隣接する画素の信号を混合
せざるを得ないため、垂直解像度が劣化していたが、本
撮像装置では垂直方向に隣接する画素の信号を混合せず
独立に転送することが出来るので垂直解像度の劣化もな
い。このように、撮像装置の画素数を増加することなく
解像度を向上させることが出来る。Here, the spatial sampling pitch in the horizontal direction is XP /, where XP is the pixel pitch in the horizontal direction.
It becomes 2. Therefore, it can be seen that the horizontal resolution is doubled as compared with the conventional image pickup device having the same number of horizontal pixels. Also, the spatial sampling pitch in the vertical direction is the same as that of the conventional image pickup device having the same number of vertical pixels, but in the conventional device, signals of pixels adjacent in the vertical direction have to be mixed, so that the vertical resolution is increased. However, in the present image pickup apparatus, since signals of pixels vertically adjacent to each other can be independently transferred without being mixed, vertical resolution is not deteriorated. In this way, the resolution can be improved without increasing the number of pixels of the image pickup device.
【0017】図2は図1のC−C′線における垂直CC
Dレジスタの断面図を示したものである。同図における
各要素は図8の従来の垂直CCDレジスタの断面図と本
質的に同じである。垂直CCDレジスタの転送ゲートの
み図1における番号と合わせてある。FIG. 2 shows a vertical CC on line CC 'of FIG.
It is a sectional view of a D register. Each element in the figure is essentially the same as the sectional view of the conventional vertical CCD register of FIG. Only the transfer gates of the vertical CCD register are combined with the numbers in FIG.
【0018】図3は図2における垂直CDDレジスタの
チャネル電位の時間変化を模式的に示したものである。
まず、時刻t=taにおいて第2層目のポリシリコンゲ
ートに高レベル電圧が印加され、各ホトダイオードから
の信号電荷Qa,Qb,Qc…が垂直CCDレジスタに
移される。続いて、時刻t=tb,時刻t=tc,時刻
t=tdでの状態を見ると分かるように、各信号電荷が
独立に転送されていき、水平CCDレジスタに転送され
た後、外部に出力される。FIG. 3 schematically shows the time variation of the channel potential of the vertical CDD register shown in FIG.
First, at time t = ta, a high level voltage is applied to the polysilicon gate of the second layer, and the signal charges Qa, Qb, Qc ... From each photodiode are transferred to the vertical CCD register. Then, as can be seen from the states at time t = tb, time t = tc, and time t = td, each signal charge is transferred independently, transferred to the horizontal CCD register, and then output to the outside. To be done.
【0019】図4は、本撮像装置上面に形成されるアル
ミニウム等の遮光パターンを示したものである。同図
は、図1に対応して描かれてあり、150はアルミニウ
ム等の遮光膜の有る部分で151等の遮光のない部分、
すなわち、開口部は円形となる。この様な円形パターン
は、図1のようにホトダイオードをジグザグに配置でき
たことから可能になったものであるが、MTF(Modula
tion Transfer Function;解像度の空間変調度特性)の
観点からも水平,垂直共にバランスがとれ望ましいもの
である。また、近年、素子上面に各画素対応のマイクロ
レンズを形成して、感度を向上できるようになったが、
円形パターンのホトダイオードはマイクロレンズを形成
する上でも都合がよい。図中、152はマイクロレンズ
の周辺端を示した。従来の角形ホトダイオードではマイ
クロレンズも角形とせざるを得ず、レンズの形状を精度
良く作るのが難しかったが、円形パターンのレンズでは
レンズの径と厚さだけの管理でよいと言う利点もある。FIG. 4 shows a light-shielding pattern of aluminum or the like formed on the upper surface of the image pickup device. This drawing is drawn corresponding to FIG. 1, and 150 is a portion with a light shielding film such as aluminum and the like, and a portion without light shielding such as 151,
That is, the opening has a circular shape. Such a circular pattern is made possible by the fact that the photodiodes can be arranged in a zigzag manner as shown in FIG. 1, but the MTF (Modula)
From the viewpoint of the spatial transfer degree characteristic of the resolution), horizontal and vertical balance is also desirable. In recent years, it has become possible to improve sensitivity by forming a microlens for each pixel on the top surface of the device.
The circular pattern photodiode is also convenient for forming a microlens. In the figure, reference numeral 152 indicates the peripheral edge of the microlens. In the conventional rectangular photodiode, the microlenses have to be rectangular and it is difficult to form the shape of the lens with high accuracy. However, in the case of a circular pattern lens, there is also an advantage that only the diameter and thickness of the lens need to be controlled.
【0020】[0020]
【発明の効果】本発明によれば、撮像装置の画素数を増
加することなく解像度を向上させることが出来る。According to the present invention, the resolution can be improved without increasing the number of pixels of the image pickup device.
【図1】本発明の実施例を示す撮像装置の平面図。FIG. 1 is a plan view of an image pickup apparatus showing an embodiment of the present invention.
【図2】図1におけるC−C′部の素子の断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view of the element at the CC ′ portion in FIG.
【図3】図2における信号電荷に対するポテンシャル説
明図。FIG. 3 is a potential explanatory diagram for the signal charges in FIG.
【図4】本発明の実施例を示す撮像装置の平面図。FIG. 4 is a plan view of an image pickup apparatus showing an embodiment of the present invention.
【図5】従来の撮像装置のブロック図。FIG. 5 is a block diagram of a conventional imaging device.
【図6】従来の素子の平面図。FIG. 6 is a plan view of a conventional element.
【図7】図6におけるA−A′部の素子の断面図。7 is a cross-sectional view of the element taken along the line AA ′ in FIG.
【図8】図6におけるB−B′部の素子の断面図。FIG. 8 is a cross-sectional view of the element taken along the line BB ′ in FIG.
【図9】図8における信号電荷に対するポテンシャル説
明図。9 is a potential explanatory diagram for the signal charges in FIG. 8. FIG.
【図10】従来の別の素子の平面図。FIG. 10 is a plan view of another conventional device.
121…垂直CCDレジスタの電荷転送路、131…光
電変換素子、110…垂直CCDレジスタの転送ゲー
ト、150…アルミニウム等の遮光膜、151…開口
部。121 ... Vertical CCD register charge transfer path, 131 ... Photoelectric conversion element, 110 ... Vertical CCD register transfer gate, 150 ... Aluminum, etc. light-shielding film, 151 ... Opening part.
フロントページの続き (72)発明者 木村 勝高 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内Front page continuation (72) Inventor Katsutaka Kimura 1-280 Higashi Koigokubo, Kokubunji, Tokyo Inside Hitachi Central Research Laboratory
Claims (3)
光電変換素子群と、前記各光電変換素子群からの信号電
荷を垂直方向に転送する垂直CCDレジスタ群と、前記
垂直CCDレジスタ群の転送ゲートと共用化され前記光
電変換素子群からの信号を前記垂直CCDレジスタ群に
転送する選択ゲートと、前記各垂直CCDレジスタ群か
らの信号を水平方向に転送する水平読み出し部を有する
固体撮像装置において、水平方向に隣接する前記光電変
換素子の間に2本の前記垂直CCDレジスタの電荷転送
路を有し、垂直方向に隣接する前記光電変換素子の行が
水平方向に1/2画素分ずれていることを特徴とする固
体撮像装置。1. A photoelectric conversion element group formed two-dimensionally on the same semiconductor substrate, a vertical CCD register group for vertically transferring signal charges from each photoelectric conversion element group, and the vertical CCD register group. Solid-state image pickup having a selection gate which is shared with the transfer gate of FIG. 2 and which transfers a signal from the photoelectric conversion element group to the vertical CCD register group, and a horizontal readout section which horizontally transfers the signal from each vertical CCD register group. In the device, the charge transfer paths of the two vertical CCD registers are provided between the photoelectric conversion elements that are adjacent in the horizontal direction, and the rows of the photoelectric conversion elements that are adjacent in the vertical direction correspond to 1/2 pixel in the horizontal direction. A solid-state imaging device characterized by being deviated.
タの前記電荷転送路が正弦波状に蛇行する固体撮像装
置。2. The solid-state imaging device according to claim 1, wherein the charge transfer path of the vertical CCD register meanders in a sinusoidal shape.
外の領域を遮光する膜の開口部が円形である固体撮像装
置。3. The solid-state imaging device according to claim 1, wherein an opening of a film which shields a region other than the photoelectric conversion element group is circular.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5039636A JPH06252375A (en) | 1993-03-01 | 1993-03-01 | Solid-state image pickup device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5039636A JPH06252375A (en) | 1993-03-01 | 1993-03-01 | Solid-state image pickup device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH06252375A true JPH06252375A (en) | 1994-09-09 |
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ID=12558583
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP5039636A Pending JPH06252375A (en) | 1993-03-01 | 1993-03-01 | Solid-state image pickup device |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH06252375A (en) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1091412A2 (en) * | 1999-10-07 | 2001-04-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Charge transfer path having lengthwisely varying channel width and image pickup device using it |
KR100322701B1 (en) * | 1997-12-25 | 2002-06-20 | 미다라이 후지오 | Photoelectric conversion device, and image pickup device and autofocus camera using the same |
WO2010046994A1 (en) * | 2008-10-24 | 2010-04-29 | 日本ユニサンティスエレクトロニクス株式会社 | Solid-state image sensor, solid-state image pickup device and its manufacturing method |
JP2010103540A (en) * | 2008-10-24 | 2010-05-06 | Unisantis Electronics Japan Ltd | Solid-state imaging device, solid-state imaging apparatus, and method of manufacturing the same |
US7956388B2 (en) | 2008-10-24 | 2011-06-07 | Unisantis Electronics (Japan) Ltd. | Solid-state image pickup element and solid-state image pickup device |
JP2014060380A (en) * | 2012-06-14 | 2014-04-03 | Rohm Co Ltd | Photoelectric conversion device |
CN111430397A (en) * | 2020-04-01 | 2020-07-17 | 中国电子科技集团公司第四十四研究所 | Multi-spectrum TDICCD structure with antireflection film |
-
1993
- 1993-03-01 JP JP5039636A patent/JPH06252375A/en active Pending
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100322701B1 (en) * | 1997-12-25 | 2002-06-20 | 미다라이 후지오 | Photoelectric conversion device, and image pickup device and autofocus camera using the same |
US6704051B1 (en) | 1997-12-25 | 2004-03-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoelectric conversion device correcting aberration of optical system, and solid state image pick-up apparatus and device and camera using photoelectric conversion device |
EP1091412A2 (en) * | 1999-10-07 | 2001-04-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Charge transfer path having lengthwisely varying channel width and image pickup device using it |
EP1091412A3 (en) * | 1999-10-07 | 2004-01-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Charge transfer path having lengthwisely varying channel width and image pickup device using it |
US6914633B1 (en) | 1999-10-07 | 2005-07-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Charge transfer path having lengthwisely varying channel width and image pickup device using it |
WO2010047412A1 (en) * | 2008-10-24 | 2010-04-29 | 日本ユニサンティスエレクトロニクス株式会社 | Solid-state imaging element, solid-state imaging device and method for manufacturing same |
WO2010046994A1 (en) * | 2008-10-24 | 2010-04-29 | 日本ユニサンティスエレクトロニクス株式会社 | Solid-state image sensor, solid-state image pickup device and its manufacturing method |
JP2010103540A (en) * | 2008-10-24 | 2010-05-06 | Unisantis Electronics Japan Ltd | Solid-state imaging device, solid-state imaging apparatus, and method of manufacturing the same |
US7956388B2 (en) | 2008-10-24 | 2011-06-07 | Unisantis Electronics (Japan) Ltd. | Solid-state image pickup element and solid-state image pickup device |
US8115237B2 (en) | 2008-10-24 | 2012-02-14 | Unisantis Electronics Singapore Pte Ltd. | Solid-state image pickup element and solid-state image pickup device having a transfer electrode formed on the entire sidewall of a hole |
US8114695B2 (en) | 2008-10-24 | 2012-02-14 | Unisantis Electronics Singapore Pte Ltd. | Solid-state image pickup element, solid-state image pickup device and production method therefor |
JP2014060380A (en) * | 2012-06-14 | 2014-04-03 | Rohm Co Ltd | Photoelectric conversion device |
CN111430397A (en) * | 2020-04-01 | 2020-07-17 | 中国电子科技集团公司第四十四研究所 | Multi-spectrum TDICCD structure with antireflection film |
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