JPH06252237A - Semiconductor wafer test apparatus - Google Patents

Semiconductor wafer test apparatus

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Publication number
JPH06252237A
JPH06252237A JP3591193A JP3591193A JPH06252237A JP H06252237 A JPH06252237 A JP H06252237A JP 3591193 A JP3591193 A JP 3591193A JP 3591193 A JP3591193 A JP 3591193A JP H06252237 A JPH06252237 A JP H06252237A
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JP
Japan
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wafer
test
yield
test apparatus
semiconductor
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Application number
JP3591193A
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Japanese (ja)
Inventor
Arahiro Toukawa
新浩 東川
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

PURPOSE:To provide a semiconductor wafer test apparatus for automatically confirming, upon a low yield wafer being produced, the fact with use of a wafer already measured by preventing the operation of the apparatus from being interrupted owing to a change in the yield of each wafer in an inspection process of the semiconductor wafer. CONSTITUTION:There is provided in a wafer prober storage device 2a means for storing quality control data of an object to be measured and the test yield of a wafer already measured, and there is further provided in a wafer prober control portion 3a means for comparing the quality control data and the test yield and altering an inspection procedure based on a comparison result. There is additionally provided a wafer transfer system 1a useable for supply of a wafer for re-measurement of the wafer and accommodation of a wafer from the measurement portion.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、半導体ウエハの検査
に用いる半導体ウエハテスト装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor wafer tester used for inspecting a semiconductor wafer.

【0002】[0002]

【従来の技術】ウエハテストとはウエハプロセスを完了
した半導体ウエハ上に製造された複数の半導体チップに
ついてその電気的特性の検査を行なう半導体装置の検査
工程のことである。
2. Description of the Related Art A wafer test is an inspection process of a semiconductor device for inspecting the electric characteristics of a plurality of semiconductor chips manufactured on a semiconductor wafer which has completed a wafer process.

【0003】ウエハテストの段階では、その取扱いはウ
エハ単位となり、チップとLSIテスタ等の検査装置と
のプロービングを行なうウエハプローブカードやそのウ
エハをハンドリングするウエハプローバおよび外部の検
査装置等を用いてウエハ上に形成された個々のチップの
テストが行なわれる。
At the wafer test stage, the wafer is handled on a wafer-by-wafer basis, and a wafer probe card for probing chips and an inspection device such as an LSI tester, a wafer prober for handling the wafer, and an external inspection device are used. The individual chips formed above are tested.

【0004】ウエハテストの目的は、ウエハプロセスを
完了した時点で電気的特性の検査を行ない、良品チップ
を選別することであり、組立以降の生産コストを最小に
すること、並びにウエハプロセス工程への品質に関する
フィードバックを早く行なうことである。
The purpose of the wafer test is to inspect the electrical characteristics at the time when the wafer process is completed and to select non-defective chips, to minimize the production cost after assembling and to perform the wafer process steps. To give quality feedback quickly.

【0005】図3は従来の半導体ウエハテスト装置のウ
エハ搬送系と制御信号系を示したものである。図におい
て、1はウエハをウエハテストを行なうステージに搬送
するウエハ搬送系、2は被測定ウエハとプローブカード
とのアライメントを行なう際の位置合わせ用の情報とし
て必要な被測定ウエハのウエハサイズやチップサイズを
記憶するウエハプローバ記憶装置、4は被測定ウエハの
テストに必要なテスト信号を生成し、チップからの応答
信号をその内部に記憶している期待値と比較したり、D
Cテストを行なったりしてチップの良否を判定する外部
検査装置、3はこのウエハ搬送系1,ウエハプローバ記
憶装置2や外部検査装置を制御するウエハプローバ制御
部である。
FIG. 3 shows a wafer transfer system and a control signal system of a conventional semiconductor wafer tester. In the figure, 1 is a wafer transfer system for transferring a wafer to a stage for performing a wafer test, and 2 is a wafer size or a chip of a wafer to be measured which is necessary as information for alignment when aligning a wafer to be measured with a probe card. A wafer prober storage device 4 for storing the size generates a test signal necessary for testing the wafer to be measured, compares the response signal from the chip with an expected value stored therein, and D
An external inspection device 3 for determining the quality of the chip by performing a C test is a wafer prober control unit for controlling the wafer transfer system 1, the wafer prober storage device 2 and the external inspection device.

【0006】また、ウエハ搬送系1において、11は駆
動部A12により駆動されてその上面に搭載された被搬
送物を双方向に搬送する搬送ベルト、13aは被測定ウ
エハを収納するウエハ供給カセット、17aはウエハ供
給カセット13aを上下移動させるとともに被測定ウエ
ハを取り出してこれを搬送ベルト11へ移動させるため
の供給側ウエハ駆動部、13bは測定が終了したウエハ
を収納するウエハ収納カセット、17bはウエハ収納カ
セット13bを上下移動させるとともに、テストが完了
した後に搬送ベルト11により戻された測定済みウエハ
をウエハ収納カセット13bに収納する収納側ウエハ駆
動部である。
Further, in the wafer transfer system 1, 11 is a transfer belt driven bidirectionally by the drive unit A12 to transfer an object to be transferred mounted on its upper surface, 13a is a wafer supply cassette for accommodating a wafer to be measured, Reference numeral 17a denotes a supply-side wafer drive unit for moving the wafer supply cassette 13a up and down, taking out a wafer to be measured and moving it to the transfer belt 11, 13b a wafer storage cassette for storing the wafers after the measurement, and 17b a wafer It is a storage-side wafer drive unit that moves the storage cassette 13b up and down and stores the measured wafer returned by the transfer belt 11 after the test is completed in the wafer storage cassette 13b.

【0007】図4は従来の半導体ウエハテスト装置の半
導体ウエハの試験処理の単位となるウエハロットの、ウ
エハテストスタートからロット処理完了までの検査手順
を示す。
FIG. 4 shows an inspection procedure from a wafer test start to a lot processing completion of a wafer lot which is a unit of a semiconductor wafer test processing of a conventional semiconductor wafer test apparatus.

【0008】また、表1はウエハテスト装置に入力さ
れ、試験時にウエハテスト装置を制御するための被試験
ウエハ(品種)に固有の管理データを示す。
Table 1 shows management data that is input to the wafer test apparatus and is specific to the wafer under test (product type) for controlling the wafer test apparatus during the test.

【0009】[0009]

【表1】 [Table 1]

【0010】次に動作について説明する。このウエハテ
スト装置においては、ウエハプローバ制御部3が駆動部
17aを制御しウエハ供給カセット13aを上下方向に
移動させてこれに収納されている被測定ウエハを1枚ず
つ取出し搬送ベルト11に載置する。次にウエハプロー
バ制御部3は駆動部A12を制御して搬送ベルト11を
駆動しウエハを図中の左方向に搬送させ、図示しないウ
エハステージに移動させる。そしてウエハプローバ制御
部3は、このウエハステージに移されたウエハと図示し
ないプローブカードとの位置合わせをウエハプローバ記
憶装置2に記憶されているウエハサイズやチップサイズ
データを参照して行ない、その位置合わせが完了する
と、外部検査装置4を駆動してそのテストを行なう。そ
して、そのテストが完了するとウエハプローバ制御部3
はウエハステージ上にあるウエハを搬送ベルト11に移
動させ、駆動部A12を制御してこの搬送ベルト11を
図中の右方向に駆動させてウエハをその右端に移動させ
る。そして駆動部B17bを制御してウエハ収納カセッ
ト13bを上下方向に移動させ、ウエハを1枚ずつ収納
する。
Next, the operation will be described. In this wafer test apparatus, the wafer prober control unit 3 controls the drive unit 17a to move the wafer supply cassette 13a in the vertical direction, and the wafers to be measured are taken out one by one and placed on the transfer belt 11. To do. Next, the wafer prober control unit 3 controls the drive unit A12 to drive the transfer belt 11 to transfer the wafer leftward in the drawing and move it to a wafer stage (not shown). Then, the wafer prober control unit 3 aligns the wafer transferred to the wafer stage and a probe card (not shown) with reference to the wafer size and chip size data stored in the wafer prober storage device 2, and the position thereof is determined. When the matching is completed, the external inspection device 4 is driven to perform the test. When the test is completed, the wafer prober control unit 3
Moves the wafer on the wafer stage to the transfer belt 11 and controls the drive unit A12 to drive the transfer belt 11 in the right direction in the drawing to move the wafer to the right end thereof. Then, the drive unit B17b is controlled to move the wafer storage cassette 13b in the vertical direction to store the wafers one by one.

【0011】そしてこのような搬送動作によりウエハの
搬送を行なうウエハテスト装置の制御動作は次のように
なる。即ち、図4に示すように、ロットスタートにより
初期データの設定がなされた後(ステップS1)、該当
ロットのウエハを外部検査装置とのインターフェイス機
構にセットアップし(ステップS2)、外部検査装置4
により試験が開始される(ステップS3)。外部検査装
置4からの試験結果信号により本ウエハテスト装置は被
試験素子の良品・不良品信号をテストエンド信号として
受け取る(ステップS4)。ウエハテスト装置は該当ロ
ットの全てのウエハに関してテストが終了するまでテス
トを継続し(ステップS5)、テストスタート信号の回
数と良品・不良品信号の回数から該当ウエハのテスト歩
留りを算出し、あらかじめ入力されている表1の管理デ
ータを参照し(ステップS6)、該当ウエハのテスト歩
留りが管理データの範囲内にある場合は該当ウエハの試
験を継続する。該当ウエハのテストが完了した場合は、
次のウエハをセットアップし、該当ロットのウエハ全て
の試験が完了するまで装置稼働を続ける(ステップS
7)。一方、テスト歩留りが管理データの範囲を越えた
場合は、本ウエハテスト装置は検査装置または外部に対
し異常を伝えるアラーム信号を発生し(ステップS6
6)、プローバーの装置稼働を停止または一時保留状態
とし、作業者での処置を要求する。
The control operation of the wafer test apparatus for carrying the wafer by the carrying operation is as follows. That is, as shown in FIG. 4, after the initial data is set by the lot start (step S1), the wafer of the lot is set up in the interface mechanism with the external inspection device (step S2), and the external inspection device 4
Then, the test is started (step S3). The wafer test apparatus receives the non-defective / defective signal of the device under test as a test end signal according to the test result signal from the external inspection apparatus 4 (step S4). The wafer tester continues the test until all the wafers of the lot are tested (step S5), calculates the test yield of the wafer from the number of test start signals and the number of non-defective / defective signals, and inputs it in advance. The management data in Table 1 is referred to (step S6), and if the test yield of the relevant wafer is within the range of the management data, the test of the relevant wafer is continued. When the test of the relevant wafer is completed,
The next wafer is set up, and the operation of the device is continued until all the wafers of the relevant lot have been tested (step S
7). On the other hand, if the test yield exceeds the range of the management data, the present wafer test equipment generates an alarm signal to inform the inspection equipment or the outside of the abnormality (step S6).
6) Stop the operation of the prober device or suspend it, and request the operator to take measures.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】従来の半導体ウエハテ
スト装置は以上のように構成されているので、ロット処
理途中の異常歩留りの処理としてはアラームの発生や、
装置の停止をしなければならず、作業者によるアラーム
内容の確認・判断が必要であり、ウエハ毎に歩留りの変
化がある半導体ウエハの検査工程においては稼働率の低
下を招くという問題点があった。
Since the conventional semiconductor wafer test apparatus is configured as described above, an alarm is generated as an abnormal yield process during the lot process,
There is a problem in that the operation rate must be reduced in the inspection process of semiconductor wafers, where the equipment must be stopped, the operator must confirm and judge the alarm content, and the yield changes from wafer to wafer. It was

【0013】この発明は、上記のような問題点を解消す
るためになされたもので、歩留り低下の発生時に、既測
定済みウエハの再試験を自動的に実施することにより、
ロット内の歩留りの変化による低歩留りの発生に対する
装置の停止を防止でき、稼働率を高くすることのでき
る、またこのような手順を実行するのに適した半導体ウ
エハプロービンク装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and by automatically re-testing the already-measured wafers when the yield is reduced,
(EN) Provided is a semiconductor wafer probing apparatus capable of preventing the apparatus from being stopped due to the occurrence of a low yield due to a change in the yield within a lot, increasing the operating rate, and suitable for executing such a procedure. To aim.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体ウ
エハテスト装置は、品種管理データ,ウエハ単位のテス
ト歩留データにもとづき、既測定済みウエハを再セット
アップ,再測定する手段を設けたものである。
The semiconductor wafer test apparatus according to the present invention is provided with means for re-setting up and re-measuring an already-measured wafer based on the product type management data and the test yield data for each wafer. is there.

【0015】また、この発明に係る半導体ウエハテスト
装置は、同一のウエハ収納部に測定前のウエハと測定完
了後のウエハを収納し、制御信号に応じてウエハの供
給,収納を行なうことが可能なウエハ搬送系を備えたも
のである。
Further, the semiconductor wafer test apparatus according to the present invention can store a wafer before measurement and a wafer after measurement in the same wafer storage portion, and supply and store the wafer according to the control signal. It is equipped with a simple wafer transfer system.

【0016】[0016]

【作用】この発明における半導体ウエハテスト装置は、
テスト歩留データと管理データにより、既測定済みウエ
ハの自動再測定を可能とする。
The semiconductor wafer test apparatus according to the present invention is
The test yield data and management data enable automatic re-measurement of already-measured wafers.

【0017】また、この発明における半導体ウエハテス
ト装置は、制御信号にもとづき供給,収納いずれの方向
にもウエハが搬送されるので、ウエハの収納,供給が同
一のカセットで可能となり、これにより装置の小型化が
可能となる。またその構成が自動再測定を実現するのに
適する。
Further, in the semiconductor wafer test apparatus according to the present invention, the wafer is conveyed in either the supply or the storage direction based on the control signal, so that the wafers can be stored and supplied in the same cassette. Miniaturization is possible. The configuration is also suitable for realizing automatic remeasurement.

【0018】[0018]

【実施例】実施例1.以下、この発明の一実施例を図に
ついて説明する。図1は本発明の一実施例による半導体
ウエハテスト装置のウエハ搬送系と制御信号系を示した
ものである。図において、1aはウエハをウエハテスト
を行なうステージに搬送するウエハ搬送系、2aは被測
定ウエハとプローブカードとのアライメントを行なう際
の位置合わせ用の情報として必要な被測定ウエハのウエ
ハサイズやチップサイズを記憶するウエハプローバ記憶
装置であり、本実施例では、管理設定歩留りや品種管理
データ等のウエハ検査管理情報や、ウエハ単位の歩留り
データ等の試験データ情報についてもこれを記憶する。
4は被測定ウエハのテストに必要なテスト信号を生成
し、チップからの応答信号をその内部に記憶している期
待値と比較したり、DCテストを行なったりしてチップ
の良否を判定する外部検査装置、3aはこのウエハ搬送
系1a,ウエハプローバ記憶装置2a,および外部検査
装置4を制御するウエハプローバ制御部であり、本実施
例では被試験ウエハの検査管理情報と試験データ情報と
を比較し、歩留り低下発生時に既測定済ウエハの再試験
を自動的に行なうように検査手順の変更を行なう。
EXAMPLES Example 1. An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a wafer transfer system and a control signal system of a semiconductor wafer test apparatus according to an embodiment of the present invention. In the figure, 1a is a wafer transfer system for transferring a wafer to a stage for performing a wafer test, and 2a is a wafer size or chip of a wafer to be measured which is necessary as information for alignment when performing alignment between a wafer to be measured and a probe card. This is a wafer prober storage device for storing sizes, and in the present embodiment, it also stores wafer inspection management information such as management setting yield and product type management data, and test data information such as yield data for each wafer.
Reference numeral 4 is an external circuit for generating a test signal necessary for testing the wafer to be measured, comparing a response signal from the chip with an expected value stored therein, and performing a DC test to judge whether the chip is good or bad. The inspection device 3a is a wafer prober control unit that controls the wafer transfer system 1a, the wafer prober storage device 2a, and the external inspection device 4. In this embodiment, the inspection management information of the wafer under test and the test data information are compared. Then, the inspection procedure is changed so that the re-test of the already-measured wafer is automatically performed when the yield decrease occurs.

【0019】また、ウエハ搬送系1aにおいて、11は
駆動部A12により駆動されてその上面に搭載された被
搬送物を双方向に搬送する搬送ベルト、13はウエハを
収納するウエハ収納カセット、14はウエハ収納部16
のウエハを供給時に搬送ベルト11へ移動させるための
駆動部B、15はウエハを保持し駆動部B14により駆
動されてウエハをウエハ収納カセット13と搬送ベルト
11との間で双方向に移動させるためのウエハ保持棒、
17はウエハ収納カセットを上下移動するための収納カ
セット駆動部である。
In the wafer transfer system 1a, 11 is a transfer belt which is driven by a drive unit A12 to transfer an object to be transferred, which is mounted on the upper surface of the transfer belt, 13 is a wafer storage cassette for storing wafers, and 14 is a wafer storage cassette. Wafer storage unit 16
Drive units B and 15 for moving the wafer to the transfer belt 11 at the time of supplying the wafer hold the wafer and are driven by the drive unit B14 to move the wafer bidirectionally between the wafer storage cassette 13 and the transfer belt 11. Wafer holding rod,
Reference numeral 17 denotes a storage cassette drive unit for vertically moving the wafer storage cassette.

【0020】図2はこの発明の一実施例による半導体ウ
エハテスト装置の制御手順を示すフローチャートであ
る。
FIG. 2 is a flow chart showing the control procedure of the semiconductor wafer test apparatus according to the embodiment of the present invention.

【0021】また、表1は本半導体ウエハテスト装置に
入力される製品型名と管理基準となる設定歩留りテーブ
ル、表2は本半導体ウエハテスト装置のウエハプローバ
記憶装置2aに格納されるウエハ毎のウエハナンバーと
テスト歩留りデータを示す。
Further, Table 1 is a product type name input to the semiconductor wafer test apparatus and a set yield table serving as a management reference, and Table 2 is for each wafer stored in the wafer prober storage device 2a of the semiconductor wafer test apparatus. The wafer number and the test yield data are shown.

【0022】[0022]

【表2】 [Table 2]

【0023】次に本発明の一実施例による半導体ウエハ
テスト装置の動作について説明する。本ウエハテスト装
置においては、ウエハプローバ制御部3aが駆動部17
を制御してウエハ収納カセット13を上下方向に移動さ
せ、駆動部14を制御して保持棒15を駆動しウエハ収
納カセット13に収納されている被測定ウエハを1枚ず
つ取出し搬送ベルト11に載置する。次にウエハプロー
バ制御部3aは駆動部12を制御して搬送ベルト11を
駆動しウエハを図中の左方向に搬送させ、図示しないウ
エハステージに移動させる。そしてウエハプローバ制御
部3aはウエハステージに移されたウエハと図示しない
プローブカードとの位置合わせをウエハプローバ記憶装
置2aに記憶されているウエハサイズやチップサイズデ
ータを参照して行ない、その位置合わせが完了すると、
外部検査装置4を駆動してそのテストを行なう。そし
て、そのテストが完了するとウエハプローバ制御部3a
はウエハステージ上にあるウエハを搬送ベルト11に移
動させ、駆動部12を制御してこの搬送ベルト11を図
中の右方向に駆動させてウエハをその右端に移動させ
る。そして駆動部13を制御してウエハ収納カセット1
7を上下方向に移動させ、駆動部14を制御して保持棒
15を駆動しウエハを1枚ずつ収納する。
Next, the operation of the semiconductor wafer test apparatus according to the embodiment of the present invention will be described. In the present wafer test apparatus, the wafer prober control unit 3a includes the drive unit 17
To move the wafer storage cassette 13 in the vertical direction, and to control the drive unit 14 to drive the holding rod 15 to take out the wafers to be measured stored in the wafer storage cassette 13 one by one and place them on the transfer belt 11. Place. Next, the wafer prober control unit 3a controls the drive unit 12 to drive the transfer belt 11 to transfer the wafer leftward in the drawing and move it to a wafer stage (not shown). Then, the wafer prober control unit 3a aligns the wafer transferred to the wafer stage with a probe card (not shown) by referring to the wafer size and chip size data stored in the wafer prober storage device 2a. When done,
The external inspection device 4 is driven to perform the test. When the test is completed, the wafer prober control unit 3a
Moves the wafer on the wafer stage to the transfer belt 11 and controls the drive unit 12 to drive the transfer belt 11 in the right direction in the drawing to move the wafer to the right end. The drive unit 13 is controlled to control the wafer storage cassette 1
7 is moved up and down, and the drive unit 14 is controlled to drive the holding rods 15 to store the wafers one by one.

【0024】次いで、本発明の一実施例による半導体ウ
エハテスト装置の制御を図2を用いて説明する。プロー
ビング装置はデータを初期設定した後(ステップS
1)、該当ロットのウエハナンバー「1」のウエハをセ
ットアップし(ステップS2)、外部検査装置4により
測定を開始する(ステップS3)。テストスタートによ
りテストチップ数,テストエンド信号(ステップS4)
により被測定チップの良,不良カウントを実施する。次
いで、ウエハナンバ「1」の全チップ測定完了時点(ス
テップS5)で、テスト歩留を算出する。
Next, the control of the semiconductor wafer test apparatus according to one embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. After the probing device initializes the data (step S
1) Then, the wafer with the wafer number "1" of the relevant lot is set up (step S2), and the measurement is started by the external inspection device 4 (step S3). Test chip number and test end signal by test start (step S4)
The good and bad counts of the chip to be measured are performed by. Next, the test yield is calculated when the measurement of all chips of the wafer number “1” is completed (step S5).

【0025】次いで、表1の管理データに記憶されてい
る該当チップの管理設定歩留と該ウエハのテスト歩留と
を比較し(ステップS6)、管理範囲内にある場合は次
ウエハのテストに移行し、該ウエハのテスト歩留はウエ
ハナンバーと対応したデータとして表2のテスト歩留デ
ータに格納される(ステップS7)。管理範囲を越えた
場合は、表2のテスト歩留データを参照し(ステップS
61)、既測定ウエハの中から管理範囲内に入っている
ウエハを再測定の対象に選定し(ステップS62)、ス
テップS3,S4,S5と同様の手順により再度測定す
る(ステップS62,S63,S64)。再測定のテス
ト歩留を前回測定時のテスト歩留と比較し、正常な場合
は、再測定動作に入る前の被測定ウエハのうち管理範囲
を越えたウエハについてはこれを低歩留ウエハと判断す
る。この場合は次の被測定ウエハをセットアップし装置
稼働を継続する。再測定結果が異常な場合は、検査装置
を含む測定系に異常が発生したものと判断し、アラーム
を発生し、稼働停止にする(ステップS66)。
Next, the management setting yield of the corresponding chip stored in the management data of Table 1 is compared with the test yield of the wafer (step S6), and if it is within the control range, the next wafer is tested. Then, the test yield of the wafer is stored in the test yield data of Table 2 as data corresponding to the wafer number (step S7). If the control range is exceeded, refer to the test yield data in Table 2 (step S
61), a wafer within the control range is selected from the already measured wafers as an object of remeasurement (step S62), and the measurement is performed again by the same procedure as steps S3, S4, S5 (steps S62, S63, S64). Compare the test yield of remeasurement with the test yield of the previous measurement, and if it is normal, for the wafers under measurement that have exceeded the control range among the wafers under measurement before entering the remeasurement operation, this is the low yield wafer. to decide. In this case, the next wafer to be measured is set up and the operation of the apparatus is continued. If the remeasurement result is abnormal, it is determined that an abnormality has occurred in the measurement system including the inspection device, an alarm is generated, and the operation is stopped (step S66).

【0026】ところで、上述のように、被測定ウエハの
供給時、ウエハプローバ制御部3からの信号により駆動
部A12が作動し、搬送ベルト11は収納部からウエハ
を測定装置側に搬送するが、ウエハテストの完了時に、
図2に示す記憶装置2aの管理データを参照し、この結
果にもとづき、既測定済みウエハの再測定を行うか否か
を決定するが、既測定済みウエハの再測定を行う場合、
まず該ウエハを搬送ベルトによりウエハ収納部13に収
納し、次いでウエハプローバ制御部3aからの制御信号
により再測定対象ウエハの位置まで収納部駆動部17に
よりウエハ収納部13を上下動させ、次いで駆動部B1
4によりウエハ保持棒15を動作させ、ウエハを搬送ベ
ルト11に押し出し再測定を実施する。
By the way, as described above, when the wafer to be measured is supplied, the drive section A12 is actuated by the signal from the wafer prober control section 3, and the transfer belt 11 transfers the wafer from the storage section to the measuring apparatus side. At the completion of the wafer test,
The management data of the storage device 2a shown in FIG. 2 is referred to, and based on this result, it is determined whether or not to re-measure the already-measured wafer.
First, the wafer is stored in the wafer storage unit 13 by the transfer belt, and then the storage unit drive unit 17 moves the wafer storage unit 13 up and down to the position of the wafer to be remeasured by the control signal from the wafer prober control unit 3a, and then it is driven. Part B1
4, the wafer holding rod 15 is operated to push the wafer onto the transfer belt 11 to perform remeasurement.

【0027】このような自動再測定を行なうことにより
本装置の稼働率を上昇できる理由は次の通りである。即
ち、ウエハテスト工程をはじめとする半導体製造工程に
おいてはコスト削減のための省力化が1つの課題となっ
ており、ウエハテスト工程でも作業者1人当たりの装置
台数が数台ないし十台以上となってきている。装置のア
ラーム発生の要因としては装置の動作異常のように作業
者による確認、判断、処置が必要なケースと、単にウエ
ハの歩留りが一部のウエハで極端に低下した場合にアラ
ームを発生するケースとの2つのケースがあり、後者の
ウエハの歩留り低下によりアラームが発生する場合、別
のウエハまたは歩留りのよいウエハで再テストを行な
い、このウエハの歩留り低下によりアラームが発生する
場合に該当するか否かを判断する。この処置を行なう
間、複数の装置でアラームが発生している時は処置待ち
の状態が続き稼働率の低下が発生する。従って、自動再
測定を行なうことにより、歩留りの低下がウエハによる
ものか装置異常によるものかの1次調査を作業者なしで
行なうことができるので、稼働率を向上することができ
る。また、上記実施例によれば、ウエハを格納するウエ
ハカセットをウエハの収納,供給の両方に使用できるよ
うにしたので、装置の小型化が可能となり、しかもその
構成が既測定済ウエハの自動再測定に適したものとなっ
た。
The reason why the operation rate of the present apparatus can be increased by performing such automatic re-measurement is as follows. That is, in the semiconductor manufacturing process including the wafer test process, labor saving for cost reduction is one of the problems, and even in the wafer test process, the number of devices per worker is several to ten or more. Is coming. The cause of the alarm of the equipment is the case where the operator needs to confirm, judge and take action like abnormal operation of the equipment, and the case where the alarm is generated when the yield of the wafers is extremely lowered on some wafers. If the alarm is generated due to the lowering of the yield of the wafer in the latter case, retesting is performed on another wafer or a wafer with a good yield, and whether the alarm occurs due to the lowering of the yield of this wafer? Determine whether or not. While performing this treatment, when an alarm occurs in a plurality of devices, the state of waiting for treatment continues and the operating rate decreases. Therefore, by performing the automatic re-measurement, it is possible to carry out a primary investigation as to whether the yield decrease is due to the wafer or due to the device abnormality, without an operator, so that the operation rate can be improved. Further, according to the above-described embodiment, since the wafer cassette for storing the wafers can be used for both storing and supplying the wafers, the apparatus can be downsized, and the structure can be automatically re-used for the already measured wafers. It became suitable for measurement.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上のように、この発明に係る半導体ウ
エハテスト装置によれば、プロービング装置の制御を管
理データを参照し、自動的に再測定する構成としたの
で、装置の稼働率を向上できる効果が得られる。
As described above, according to the semiconductor wafer test apparatus of the present invention, the control of the probing apparatus is referred to the management data and automatically re-measured, so that the operation rate of the apparatus is improved. The effect that can be obtained is obtained.

【0029】また、この発明に係る半導体ウエハテスト
装置によれば、ウエハ搬送系をウエハの収納,供給の両
機能を実現できる構成としたので、装置の稼働率を向上
するのに適した構成となり、また装置を小型化できる効
果がある。
Further, according to the semiconductor wafer test apparatus of the present invention, since the wafer transfer system has a structure capable of realizing both functions of storing and supplying the wafer, the structure is suitable for improving the operation rate of the apparatus. Moreover, there is an effect that the device can be downsized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施例によるウエハテスト装置の
ウエハ搬送システムを示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a wafer transfer system of a wafer test apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】この発明の一実施例によるウエハテスト装置の
制御フローチャートを示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a control flowchart of the wafer test apparatus according to the embodiment of the present invention.

【図3】従来のウエハテスト装置のウエハ搬送システム
を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a wafer transfer system of a conventional wafer test apparatus.

【図4】従来のウエハテスト装置の制御フローチャート
を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a control flowchart of a conventional wafer test apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a ウエハ搬送系 11 ウエハ搬送ベルト 13 ウエハ収納部 2a 記憶装置 3a 制御装置 1a Wafer Transfer System 11 Wafer Transfer Belt 13 Wafer Storage 2a Storage Device 3a Control Device

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 その上に複数の半導体素子が形成された
半導体ウエハを検査する装置において、 被試験ウエハのウエハ検査管理情報と試験データ情報に
応じて検査手順の変更を行なう検査手順変更手段を備え
たことを特徴とする半導体ウエハテスト装置。
1. An apparatus for inspecting a semiconductor wafer having a plurality of semiconductor elements formed thereon, comprising inspection procedure changing means for changing the inspection procedure according to wafer inspection management information and test data information of a wafer under test. A semiconductor wafer test apparatus characterized by being provided.
【請求項2】 請求項1記載の半導体ウエハテスト装置
において、 同一のウエハ収納部に測定前のウエハと測定完了後のウ
エハを収納し、制御信号によりウエハの供給および収納
を行なうことが可能なウエハ搬送系を備えたことを特徴
とする半導体ウエハテスト装置。
2. The semiconductor wafer test apparatus according to claim 1, wherein a wafer before measurement and a wafer after measurement are stored in the same wafer storage portion, and the wafers can be supplied and stored by a control signal. A semiconductor wafer test apparatus having a wafer transfer system.
JP3591193A 1993-02-25 1993-02-25 Semiconductor wafer test apparatus Pending JPH06252237A (en)

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