JPH0625203A - Production of epoxidized (meth)acrylate compound and purified and epoxidized (meth)acrylate compound - Google Patents

Production of epoxidized (meth)acrylate compound and purified and epoxidized (meth)acrylate compound

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JPH0625203A
JPH0625203A JP8211593A JP8211593A JPH0625203A JP H0625203 A JPH0625203 A JP H0625203A JP 8211593 A JP8211593 A JP 8211593A JP 8211593 A JP8211593 A JP 8211593A JP H0625203 A JPH0625203 A JP H0625203A
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acrylate
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章博 桑名
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Abstract

PURPOSE:To produce the subject compound having satisfactory qualities in an industrial scale by washing reaction crude liquid obtained by epoxidizing using an organic peracid with water for a short contact time and then lowering heating temperature and remov ing low-boiling opint components with 2 stages. CONSTITUTION:(a) A reaction crude liquid containing 3, 4-epoxycyclohexylmethyl (meth)acrylate of formula II obtained by epoxidizing a cyclohexylmethyl (meth)acrylate of formula I (R<1> and R<2> are H or 1-5C alkyl; R<3> is H or mathacryl) is washed with water using an apparatus (e.g. centrifugal extraction apparatus) for a short contact time and (b) the liquid is treated with an aqueous solution of an alkali to remove an organic acid and an organic peracid both of whose main chains exist in the crude liquid washed with water. Then, (c) the liquid is subjected to low-boiling point component-removing treatment at <=100 deg.C heating temperature under reduced pressure to afford a liquid having 3-50wt.% content of low-boiling point component and (d) further, the washed liquid is subjected to low-boiling point component-removing treatment at <=100%oC heating temperature and under reduced pressure of <=1/2 of the step (c). Thereby, a liquid having <1wt.% content of low-boiling point component is obtained to provide the objective purified compound of formula II.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は置換基を有するかまたは
置換基を有しないエポキシ化された(メタ)アクリレ―
ト化合物の製造方法および精製されたエポキシ化された
(メタ)アクリレ―ト化合物に関するものである。
The present invention relates to epoxidized (meth) acrylates with or without substituents.
And a purified epoxidized (meth) acrylate compound.

【0002】(メタ)アクリレ―ト化合物は熱、紫外
線、イオン化放射線、ラジカル重合開始剤の存在下で容
易に単独重合または他の不飽和基含有化合物と共重合す
ることが可能で、また塗料用樹脂の中間原料としても有
用である。
(Meth) acrylate compounds can be easily homopolymerized or copolymerized with other unsaturated group-containing compounds in the presence of heat, ultraviolet rays, ionizing radiation or radical polymerization initiators, and also for paints. It is also useful as an intermediate raw material for resins.

【0003】[0003]

【従来の技術】これまでに、有機過酸を用いてエポキシ
化を行なって得られた反応粗液の精製方法として、 (1)蒸留による精製方法 生成物が熱に対して比較的安定である場合は、蒸留によ
って精製する方法が一般的に用いられている。
2. Description of the Related Art Heretofore, as a purification method of a reaction crude liquid obtained by epoxidation using an organic peracid, (1) purification method by distillation The product is relatively stable against heat. In this case, a method of purifying by distillation is generally used.

【0004】(2)水洗による精製方法 反応粗液中に有機酸や有機過酸が存在するので、反応粗
液を蒸留するとエポキシ化合物が重合したり副反応を起
こすことが多い。このような場合、水洗によって重合や
副反応を誘起する有機酸や有機過酸を除去した後、通常
蒸留によって精製する。
(2) Purification method by washing with water Since organic acids and organic peracids are present in the reaction crude liquid, distillation of the reaction crude liquid often causes the epoxy compound to polymerize or cause a side reaction. In such a case, the organic acid or organic peracid that induces the polymerization or side reaction is removed by washing with water, and then the product is usually purified by distillation.

【0005】(3)中和による精製方法 水洗によって有機酸や有機過酸を除去できない場合や有
機酸の水溶液とエポキシ化合物とが反応しやすい場合に
は、中和による精製方法を用いる。単に液のpHを中和
点まで調整するだけでは、重合や副反応を誘起する物質
を除去できない場合には、アルカリ水溶液で重合や副反
応を誘起する物質を除去する場合もある。中和によって
重合や副反応を誘起する物質を洗浄除去した後、蒸留に
よって精製する。
(3) Purification Method by Neutralization If the organic acid or organic peracid cannot be removed by washing with water, or if the aqueous solution of the organic acid and the epoxy compound easily react, the purification method by neutralization is used. If the substance that induces the polymerization or side reaction cannot be removed by merely adjusting the pH of the liquid to the neutralization point, the substance that induces the polymerization or side reaction may be removed with an alkaline aqueous solution. A substance that induces polymerization or a side reaction by neutralization is washed and removed, and then purified by distillation.

【0006】等の方法が知られている。Methods such as the above are known.

【0007】しかしながら、有機酸とエポキシ基とは反
応しやすいものであるので、蒸留時にエポキシ基の重合
反応や開環反応が起こってしまい上記従来技術(1)を
用いることができない場合が多い。
However, since the organic acid and the epoxy group are likely to react with each other, the above-mentioned prior art (1) cannot be used in many cases because the polymerization reaction or ring-opening reaction of the epoxy group occurs during distillation.

【0008】上記従来技術(1)を用いることができな
い場合に用いられている上記従来技術(2)および
(3)にも問題があり、有機酸や水とエポキシ基の反応
速度が速い場合には従来技術(2)を用いることができ
ない。
The above-mentioned conventional techniques (2) and (3), which are used when the above-mentioned conventional technique (1) cannot be used, also have a problem. In the case where the reaction rate between the organic acid or water and the epoxy group is high, Cannot use the prior art (2).

【0009】また上記従来技術(3)は、工業的規模で
製造しようとする場合に有価物のロスを招くだけでな
く、排水負荷が大きくなる。
Further, the above-mentioned prior art (3) not only causes the loss of valuables when manufacturing on an industrial scale, but also increases the drainage load.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】上述のように、重合や
副反応のために反応粗液を蒸留によって精製することが
できない場合でしかも有機酸や水との反応速度が速いエ
ポキシ化合物の場合には、従来技術では工業的規模で製
造することはできなかった。
As described above, when the reaction crude liquid cannot be purified by distillation due to polymerization or side reaction, and in the case of an epoxy compound having a high reaction rate with an organic acid or water, Could not be produced on an industrial scale with the prior art.

【0011】これに対して、本発明者らは、前記従来技
術(2)の改良方法として、有機過酸を用いてエポキシ
化を行なった反応粗液から水洗によって有機酸及び有機
過酸を除去する方法において、以下のようなメカニズム
で有価物のロスが発生することをつきとめた。即ち、有
価物のロスは、水層に溶解した有価物が水層中で、水の
有機酸と反応することにより、水層中の有価物濃度が低
下し、さらに有価物の水層への溶解を促進する反応抽出
の形態で起こっていることが確かめられた。
On the other hand, as a method for improving the above-mentioned prior art (2), the present inventors removed the organic acid and the organic peracid by washing with water from the reaction crude liquid which was epoxidized with the organic peracid. In this method, it was found that valuable materials are lost by the following mechanism. That is, the loss of valuables is that the valuables dissolved in the water layer react with the organic acid of the water in the water layer, the concentration of valuables in the water layer decreases, and It was confirmed to occur in the form of a reactive extraction that promotes dissolution.

【0012】このメカニズムが生じないように有機層と
水層の接触時間の短い装置を用いることにより、有機酸
や水とエポキシ化合物の反応を非常に小さくすることが
可能である。
By using an apparatus in which the contact time between the organic layer and the water layer is short so that this mechanism does not occur, the reaction between the organic acid or water and the epoxy compound can be made extremely small.

【0013】また、このエポキシ化された(メタ)アク
リル酸エステル[以下、本発明においては説明を簡略化
するために前記一般式化1および化2において、R1
2が共に水素でR3 が水素の場合をAETHB、
1 、R2 が共に水素でR3 がメタクリル基の場合をM
ETHBと称して代表的に説明する]は極めて重合し易
く製造工程、貯蔵及び輸送中に熱、光及びその他の要因
によってしばしば重合することが知られている。
The epoxidized (meth) acrylic acid ester [hereinafter, in the present invention, in order to simplify the explanation, R 1
AETHB when both R 2 are hydrogen and R 3 is hydrogen,
When R 1 and R 2 are both hydrogen and R 3 is a methacryl group, M
It is known that ETHB is representatively referred to as ETHB] and is often polymerized by heat, light and other factors during the manufacturing process, storage and transportation.

【0014】上記の接触時間の短い装置を用いて水洗し
た粗液中の溶媒を除去し、製品化した時に得られる製品
の純度は低く(純度90%)、重合性の高いものであっ
た。このような、純度が低く、重合性の高いAETHB
(METHB)は重合物が粘着性の不溶解物として析出
し、プロセス上種々の問題を生じるとともに商品価値を
著しく低下せしめてしまう。
The product obtained when the solvent was removed from the crude liquid washed with water using the above-mentioned apparatus having a short contact time to obtain a product had a low purity (purity 90%) and had a high polymerizability. Such low purity and high polymerizability AETHB
In (METHB), a polymer precipitates as a sticky insoluble substance, which causes various problems in the process and significantly reduces the commercial value.

【0015】これは、短時間の接触による水洗だけで
は、反応工程で生成する主鎖を有する有機酸が十分除去
できないために、製品中にそれらが持ち越され、そのた
めに重合性が高くなるためと思われる。このような現象
に対して本発明者らは、反応粗液を短時間の接触による
水洗を行なった後さらにアルカリ水溶液で処理し、水洗
粗液中に存在する主鎖を有する有機酸及び有機過酸を除
去することにより、純度94〜97%の製品が得られる
ことを見出した。
This is because the organic acid having a main chain formed in the reaction step cannot be sufficiently removed only by washing with water for a short period of time, so that they are carried over to the product, and therefore the polymerizability becomes high. Seem. Against such a phenomenon, the inventors of the present invention washed the reaction crude liquid with water for a short period of time and then treated it with an alkaline aqueous solution to wash the organic acid and organic peroxide having a main chain present in the crude water washed. It was found that by removing the acid, a product with a purity of 94-97% was obtained.

【0016】さらに商品として使えるAETHB(ME
THB)は、様々な制約があり、これらをクリヤしたも
のでなけらばならない。即ち、AETHB(METH
B)製品中に含有する低沸成分を2〜3%から1%以内
にしなければならず、そのためには、脱低沸工程におい
て加熱温度を上昇させるか、あるいは滞留時間を長くし
なければならないが、こうした場合、製品中に微量の重
合物が含まれる。この点に関してその後開発が進み製品
中に微量の重合物が含まれていると問題があることが明
らかになっている。
Furthermore, AETHB (ME
THB) has various restrictions, and these must be cleared. That is, AETHB (METH
B) The low boiling point component contained in the product must be within 2-3% to 1%, and for that purpose, the heating temperature must be raised or the residence time must be prolonged in the deboiling step. However, in such a case, a trace amount of polymer is contained in the product. With respect to this point, it has been clarified that there is a problem if the development progresses after that and the product contains a trace amount of the polymer.

【0017】これら微量の重合物は、例えば、塗料用樹
脂の中間原料を合成する際に、種々の問題を引き起こし
塗料の商品価値を著しく低下せしめてしまう。
These minute amounts of polymers cause various problems when synthesizing an intermediate raw material for a paint resin, for example, and significantly reduce the commercial value of the paint.

【0018】製品AETHB(METHB)中に含まれ
る微量の重合物は、AETHB(METHB)自体の低
分子重合物が主成分と考えられる。これらの重合物は、
n-ヘキサンあるいは、n-ヘプタン100ccに製品10
gを溶解したときに生ずるスラリ−を濾過し、重量を測
定することにより製品中に含有する重合物の重量%で表
すことができる(n-ヘプタンを使ったこのような溶解性
試験を以下ヘプタンテスト=HTと呼ぶ)。
The trace amount of the polymer contained in the product AETHB (METHB) is considered to be the low molecular weight polymer of AETHB (METHB) itself. These polymers are
Product 10 in 100 cc of n-hexane or n-heptane
The slurry formed when g is dissolved can be expressed by the weight% of the polymer contained in the product by filtering the slurry and measuring the weight (such solubility test using n-heptane will be referred to as heptane hereinafter). Test = call HT).

【0019】製品として使えるAETHB(METH
B)は、HTが0.1%以下でなければならないことが
わかっている。すなわち、AETHB(METHB)を
工業的に生産するには、さらに効果的な重合抑制方法を
確立する必要があった。
AETHB (METH that can be used as a product
It has been found that B) must have an HT of 0.1% or less. That is, in order to industrially produce AETHB (METHB), it was necessary to establish a more effective polymerization suppressing method.

【0020】このような、課題に対して鋭意研究を行な
い、加熱温度を下げ、溶媒を2段階で脱低沸すれば上記
目的に極めて合致することを見出だし、ついに品質的に
満足し得るAETHB(METHB)を工業的規模で製
造する方法を確立し、本発明を完成するに至った。
[0020] By conducting intensive studies on such problems, and finding that the heating temperature is lowered and the solvent is deboiling in two steps to achieve low boiling point, the above object is extremely met, and finally AETHB which is satisfactory in quality is found. The method for producing (METHB) on an industrial scale was established, and the present invention was completed.

【0021】[0021]

【発明の構成】すなわち、本発明は「アルキル置換基を
有するかまたはアルキル置換基を有しないシクロヘキシ
ルメチル(メタ)アクリレ−トを有機過酸を用いてエポ
キシ化して得られるアルキル置換基を有するかまたはア
ルキル置換基を有しない3,4−エポキシシクロヘキシ
ルメチル(メタ)アクリレ−トを含有する反応粗液を以
下 (a) 接触時間の短い装置を用いて水洗する工程 (b) アルカリ中和処理する工程 (c) 加熱温度100℃以下、減圧下で脱低沸することに
より、低沸成分含有量3〜50重量%の液を得る工程 (d) 加熱温度100℃以下、(c) 工程の1/2以下の減
圧下で脱低沸することにより低沸成分含有量1重量%未
満の液を得る工程 で処理することを特徴とする精製されたアルキル置換基
を有するかまたはアルキル置換基を有しない3,4−エ
ポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレ−トの製
造方法」および「0.15重量%未満のヘプタンテスト
値を有するアルキル置換基を有するかまたはアルキル置
換基を有しない3,4−エポキシシクロヘキシルメチル
(メタ)アクリレ−ト」である。
That is, the present invention relates to "whether it has an alkyl substituent obtained by epoxidizing cyclohexylmethyl (meth) acrylate having an alkyl substituent or having no alkyl substituent with an organic peracid. Alternatively, a reaction crude liquid containing 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate having no alkyl substituent is washed with water using a device having a short contact time as follows (b) alkali neutralization treatment Step (c) A step of obtaining a liquid having a low boiling point component content of 3 to 50 wt% by deboiling under reduced pressure at a heating temperature of 100 ° C. or lower (d) Heating temperature of 100 ° C. or lower, (c) Step 1 Having a purified alkyl substituent or having an alkyl substituent, which is characterized by treatment in a step of obtaining a liquid having a low boiling point content of less than 1% by weight by deboiling under a reduced pressure of / 2 or less. For producing 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate "and" 3,4-epoxy with or without alkyl substituent having a heptane test value of less than 0.15% by weight And cyclohexylmethyl (meth) acrylate ".

【0022】本発明における前記化1で表わされるエポ
キシ化前のアルキル置換基を有するかまたはアルキル置
換基を有しないシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレ
−トは一方の原料として1,3−ブタジエンを使用し、
もう一方の原料としてアクロレイン、メタクロレイン、
クロトンアルデヒド、3エチルアクロレインまたは2,
3ジメチルアクロレインから選ばれる少なくとも1種類
の化合物を使用してディ−ルスアルダ−反応によりまず
アルキル置換基を有するか、またはアルキル置換基を有
しないテトラヒドロベンズアルデヒドを合成し、これを
選択水素化して対応するアルコ−ルを得る。これにアク
リル酸又はメタクリル酸を反応させてエステル化する
か、またはアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エス
テルを反応させてエステル交換させることにより化1で
表わされる化合物を得ることができる。 出発原料とし
て1,3−ブタジエンとアクロレインを用いた場合、前
記化1において、R1 およびR2 はいずれも水素であ
り、最も一般的に知られているものが得られる。
In the present invention, cyclohexylmethyl (meth) acrylate represented by the above chemical formula 1 with or without an alkyl substituent before epoxidation uses 1,3-butadiene as one raw material. ,
As the other raw material, acrolein, methacrolein,
Crotonaldehyde, 3 ethylacrolein or 2,
Using at least one compound selected from 3 dimethyl acrolein, a tetrahydrobenzaldehyde having an alkyl substituent or no alkyl substituent is first synthesized by a Diels-Alder reaction, which is selectively hydrogenated to give a corresponding compound. Get an alcohol. The compound represented by Chemical formula 1 can be obtained by reacting this with acrylic acid or methacrylic acid for esterification, or by reacting with acrylic acid ester or methacrylic acid ester for transesterification. When 1,3-butadiene and acrolein are used as the starting materials, R 1 and R 2 in the above chemical formula 1 are both hydrogen, and the most commonly known one is obtained.

【0023】以下、AETHB(METHB)の製造方
法について代表的に詳しく説明する。 先ずエポキシ化
反応工程について説明する。
A typical method of manufacturing AETHB (METHB) will be described below in detail. First, the epoxidation reaction step will be described.

【0024】すなわち、前記化1におけるR1 およびR
2 がいずれも水素であるシクロヘキセニル(メタ)アク
リレ−トを有機過酸でエポキシ化する。具体的な有機過
酸としては過ギ酸、過酢酸、過プロピオン酸、m−クロ
ロ過安息香酸、トリフルオロ過酢酸、過安息香酸などを
挙げることができる。これらは触媒と併用してもよく、
炭酸ソ−ダなどのアルカリや硫酸などの酸を触媒として
併用し得る。
That is, R 1 and R in the above chemical formula 1
Cyclohexenyl (meth) acrylate in which 2 is hydrogen is epoxidized with an organic peracid. Specific organic peracids include performic acid, peracetic acid, perpropionic acid, m-chloroperbenzoic acid, trifluoroperacetic acid, and perbenzoic acid. These may be used in combination with a catalyst,
An alkali such as sodium carbonate or an acid such as sulfuric acid may be used together as a catalyst.

【0025】反応をバッチで行なう場合は先ず、反応器
内にシクロヘキセニルメチル(メタ)アクリレ―トを所
定量仕込み、この中に必要に応じて触媒、安定剤を溶解
させ、この中に前記有機過酸を滴下して行なう。
When the reaction is carried out in a batch, first, a predetermined amount of cyclohexenylmethyl (meth) acrylate is charged in a reactor, and a catalyst and a stabilizer are dissolved therein, if necessary. Perform by adding peracid dropwise.

【0026】有機過酸とシクロヘキセニルメチル(メ
タ)アクリレ―トとの反応モル比は理論的には1/1で
あるが、本発明の方法では0.1〜10の範囲、好まし
くは、0.5〜10の範囲、さらに好ましくは0.8〜
1.5の範囲が良い。
The reaction molar ratio between the organic peracid and cyclohexenylmethyl (meth) acrylate is theoretically 1/1, but in the method of the present invention, it is in the range of 0.1 to 10, preferably 0. .5 to 10, more preferably 0.8 to
A range of 1.5 is good.

【0027】有機過酸とシクロヘキセニルメチル(メ
タ)アクリレ―トとのモル比が10を越える場合はシク
ロヘキセニルメチル(メタ)アクリレ―トの転化率およ
び反応時間短縮、(メタ)アクリレ―トの重合によるロ
スの減少という点で好ましいが、過剰の有機過酸による
副反応や有機過酸の選択率および未反応の酸化剤を回収
する場合に多大の費用を要する、などの欠点がある。
When the molar ratio of the organic peracid to cyclohexenylmethyl (meth) acrylate exceeds 10, the conversion rate of cyclohexenylmethyl (meth) acrylate and the reaction time are shortened, and (meth) acrylate Although it is preferable from the viewpoint of reduction of loss due to polymerization, it has drawbacks such as side reaction due to excess organic peracid, selectivity of organic peracid, and great expense in recovering unreacted oxidizing agent.

【0028】逆に有機過酸とシクロヘキセニルメチル
(メタ)アクリレ―トとの反応のモル比が0.1以下の
場合は有機過酸の選択率、転化率、有機過酸による副反
応を抑制するという点で好ましいが、(メタ)アクリレ
―トの重合によるロス、未反応のシクロヘキセニルメチ
ル(メタ)アクリレ―トを回収する場合に多大の費用を
要する、などの欠点がある。
On the contrary, when the molar ratio of the reaction between the organic peracid and cyclohexenylmethyl (meth) acrylate is 0.1 or less, the selectivity of the organic peracid, the conversion rate, and the side reaction due to the organic peracid are suppressed. However, there are drawbacks such as a loss due to polymerization of the (meth) acrylate and a large amount of cost for recovering unreacted cyclohexenylmethyl (meth) acrylate.

【0029】反応温度はエポキシ化反応が有機過酸の分
解反応に優先するような上限値以下で行なう。具体的に
は、70℃以下が好ましい。
The reaction temperature is lower than the upper limit value so that the epoxidation reaction has priority over the decomposition reaction of the organic peracid. Specifically, 70 ° C. or lower is preferable.

【0030】反応温度が低いと反応の完結までに長時間
を要するので、有機過酸の代表例である過酢酸を用いる
場合なら0℃という下限値以上で行うことが好ましい。
When the reaction temperature is low, it takes a long time to complete the reaction. Therefore, when peracetic acid, which is a typical organic peracid, is used, it is preferable to perform the reaction at a lower limit of 0 ° C. or higher.

【0031】また、エポキシ化反応の際、有機過酸から
生じる対応する有機酸および副生してくるその他の有機
酸、アルコ−ル、水でエポキシ基が開環してしまう副反
応が生じるので、副反応量が少なくなるような温度を前
記したような温度領域から選定して実施する。
In addition, during the epoxidation reaction, a side reaction occurs in which the epoxy group is ring-opened by the corresponding organic acid generated from the organic peracid and other by-produced organic acids, alcohol and water. The temperature at which the amount of side reaction is reduced is selected from the above-mentioned temperature range and the operation is performed.

【0032】反応圧力は一般的には常圧下で操作される
が、加圧または低圧下でも実施できる。また、反応は溶
媒存在下でも実施できる。
The reaction pressure is generally operated under normal pressure, but it can be carried out under pressure or under low pressure. The reaction can also be carried out in the presence of a solvent.

【0033】溶媒存在下での反応は反応粗液の粘度低
下、有機過酸を希しゃくすることによる安定化、有機酸
とエポキシ化シクロヘキセニルメチル(メタ)アクリレ
―トとの反応速度を遅くするなどの効果があるため好ま
しい。
The reaction in the presence of a solvent lowers the viscosity of the reaction crude liquid, stabilizes the organic peracid by diluting it, and slows the reaction rate between the organic acid and the epoxidized cyclohexenylmethyl (meth) acrylate. It is preferable because it has the effect of

【0034】使用される溶媒としてはベンゼン、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼ
ン、ジエチルベンゼン、p−シメンなどの芳香族炭化水
素、シクロヘキサン、n−ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、ノナン、デカン、デカリンなどの脂肪族炭化水素、
シクロヘキサノ−ル、ヘキサノ−ル、ヘプタノ−ル、オ
クタノ−ル、ノナノ−ル、フルフリルアルコ−ルなどの
アルコ−ル、クロロフォルム、ジメチルクロライド、四
塩化炭素、クロルベンゼンなどのハロゲン化物、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、酢酸n−アミル、酢酸シクロヘキシ
ル、プロピオン酸イソアミル、安息香酸メチルなどのエ
ステル化物、メチルエチルケトンなどのケトン化合物、
などを用いることができる。
Examples of the solvent used include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, isopropylbenzene, diethylbenzene and p-cymene, and fats such as cyclohexane, n-hexane, heptane, octane, nonane, decane and decalin. Group hydrocarbons,
Cyclohexanol, hexanole, heptanol, octanole, nonanol, furfuryl alcohol and other alcohols, chloroform, dimethyl chloride, carbon tetrachloride, chlorobenzene and other halides, ethyl acetate , Butyl acetate, n-amyl acetate, cyclohexyl acetate, isoamyl propionate, esterified products such as methyl benzoate, ketone compounds such as methyl ethyl ketone,
Etc. can be used.

【0035】溶媒の使用量はシクロヘキセニルメチル
(メタ)アクリレ―トに対して0.5〜5倍量、さらに
好ましくは1.5〜3倍である。
The amount of the solvent used is 0.5 to 5 times, more preferably 1.5 to 3 times the amount of cyclohexenylmethyl (meth) acrylate.

【0036】0.5倍量より少ない場合は有機過酸を希
しゃくすることによる安定化などの効果が少なく、逆に
5倍量より多くしても安定化効果はそれ程アップせず溶
媒の回収に多大の費用を要するので無駄となる。
When the amount is less than 0.5 times, the stabilizing effect by diluting the organic peracid is small. On the contrary, when the amount is more than 5 times, the stabilizing effect is not so improved and the solvent is recovered. It costs a lot of money and is wasted.

【0037】また上記のようなエポキシ化反応を行う
際、重合禁止剤として分子状酸素含有ガスとともに、重
合禁止剤としてハイドロキノン、ハイドロキノンモノメ
チルエ−テル、P−ベンゾキノン、クレゾ−ル、t−ブ
チルカテコ−ル、2,4−ジメチル−6−t−ブチルフ
ェノ−ル、2−t−ブチル−4−メトキシフェノ−ル、
3−t−ブチル−4−メトキシフェノ−ル、2,6−ジ
−t−ブチル−P−クレゾ−ル、2,5−ジヒドロキシ
−P−キノン、ピペリジン、エタノ−ルアミン、α−ニ
トロソ−β−ナフト−ル、ジフェニルアミン、フェノチ
アジン、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン、
N、N−ジエチルヒドロキシルアミン等を用いる。
When carrying out the epoxidation reaction as described above, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, P-benzoquinone, cresol and t-butyl catechol are used as polymerization inhibitors together with a molecular oxygen-containing gas as a polymerization inhibitor. 2,4-dimethyl-6-t-butylphenol, 2-t-butyl-4-methoxyphenol,
3-t-butyl-4-methoxyphenol, 2,6-di-t-butyl-P-cresol, 2,5-dihydroxy-P-quinone, piperidine, ethanolamine, α-nitroso-β -Naphthol, diphenylamine, phenothiazine, N-nitrosophenylhydroxylamine,
N, N-diethylhydroxylamine or the like is used.

【0038】また有機過酸の安定剤としてリン酸水素ア
ンモニウム、ピロリン酸カリウム、ピロリン酸−2−エ
チルヘキシルエステル、ピロリン酸カリウム−2−エチ
ルヘキシルエステル、ピロリン酸ナトリウム−2−エチ
ルヘキシルエステルトリポリリン酸、トリポリリン酸カ
リウム、トリポリリン酸ナトリウム、トリポリリン酸−
2−エチルヘキシルエステル、トリポリリン酸カリウム
−2−エチルヘキシルエステル、テトラポリリン酸、テ
トラポリリン酸カリウム、テトラポリリン酸ナトリウ
ム、テトラポリリン酸−2−エチルヘキシルエステル、
テトラポリリン酸カリウム−2−エチルヘキシルエステ
ル、テトラポリリン酸ナトリウム−2−エチルヘキシル
エステル、ヘキサメタリン酸カリウム、ヘキサメタリン
酸ナトリウム等を用いることができる。これらは、単独
で使用してもよいし、いくつかを併用してもよい。
Ammonium hydrogen phosphate, potassium pyrophosphate, pyrophosphoric acid-2-ethylhexyl ester, potassium pyrophosphate-2-ethylhexyl ester, sodium pyrophosphate-2-ethylhexyl ester tripolyphosphoric acid, tripolyphosphoric acid as stabilizers of organic peracids. Potassium, sodium tripolyphosphate, tripolyphosphate-
2-ethylhexyl ester, potassium tripolyphosphate-2-ethylhexyl ester, tetrapolyphosphoric acid, potassium tetrapolyphosphate, sodium tetrapolyphosphate, tetrapolyphosphoric acid-2-ethylhexyl ester,
Tetrapolyphosphate potassium-2-ethylhexyl ester, sodium tetrapolyphosphate-2-ethylhexyl ester, potassium hexametaphosphate, sodium hexametaphosphate and the like can be used. These may be used alone or in combination.

【0039】分子状酸素としては通常空気が用いられ反
応器に吹込まれる。
Air is usually used as the molecular oxygen and is blown into the reactor.

【0040】吹込み位置は液中に直接吹込んでも良いし
また気相中に吹込んでも所定の効果は得られる。吹込量
は任意に選べるが、多過ぎると、溶媒ロスとなるので好
ましくない。また、系内での爆発混合気形成を回避する
ため空気とともに系内に窒素を吹込むのが通常である
が、その場合吹込みガス中の酸素濃度が0.01%(容
量)以上好ましくは3%(容量)以上である。
The blowing position may be directly blowing into the liquid or blowing into the gas phase to obtain a predetermined effect. The blowing amount can be arbitrarily selected, but if it is too large, solvent loss occurs, which is not preferable. Further, in order to avoid the formation of an explosive mixture in the system, it is usual to blow nitrogen into the system together with air. In that case, the oxygen concentration in the blown gas is preferably 0.01% (volume) or more. It is 3% (volume) or more.

【0041】酸素濃度は高い程効果があるが上限値は系
での爆発下限界酸素濃度となり、その値は使用溶媒によ
り異なるものである。窒素の吹込みは必ずしも空気と同
位置にする必要はないが、系内で局所的に爆発混合気を
形成しないよう設備上の工夫をすることが安全上重要あ
る。
The higher the oxygen concentration is, the more effective it is, but the upper limit value is the lower limit oxygen concentration for explosion in the system, and the value depends on the solvent used. The blowing of nitrogen does not necessarily have to be at the same position as air, but it is important for safety to devise a facility so as not to locally form an explosive mixture in the system.

【0042】次に重合防止剤の使用量は対象とする化合
物の種類、製造工程上の条件によって任意に変えられる
が、反応原料であるシクロヘキセニルメチル(メタ)ア
クリレ−トに対して0.005〜5重量%、より好まし
くは0.001〜0.1重量%、有機過酸の安定剤とし
て0.001〜1重量%、より好ましくは0.01〜
0.2重量%の範囲で添加するのがよい。添加方法は粉
末のままでも良いし、溶媒に溶解して添加してもよい。
The amount of the polymerization inhibitor to be used can be optionally changed depending on the kind of the compound to be treated and the conditions in the manufacturing process, but it is 0.005 with respect to the reaction starting material cyclohexenylmethyl (meth) acrylate. To 5% by weight, more preferably 0.001 to 0.1% by weight, 0.001 to 1% by weight as a stabilizer of organic peracid, and more preferably 0.01 to 0.1% by weight.
It is preferable to add it in the range of 0.2% by weight. The powder may be added as it is, or may be dissolved in a solvent and added.

【0043】反応は連続もしくはバッチで行うが、連続
の場合はピストンフロ−型式が好ましい。また、バッチ
方式の場合は、有機過酸は逐次的に仕込むセミバッチ方
式が望ましい。その場合は、まず反応容器内に、シクロ
ヘキセニルメチル(メタ)アクリレ−トおよび溶媒を所
定量仕込み、この中に必要に応じて触媒、安定剤を溶解
させ、この中に前記有機過酸を滴下して行う。
The reaction is carried out continuously or batchwise. In the case of continuous reaction, the piston flow type is preferred. Further, in the case of the batch system, a semi-batch system in which organic peracids are sequentially charged is desirable. In that case, first, a predetermined amount of cyclohexenylmethyl (meth) acrylate and a solvent are charged into a reaction vessel, and if necessary, a catalyst and a stabilizer are dissolved therein, and the organic peracid is dropped therein. Then do.

【0044】反応の終了の確認は、残存する有機過酸濃
度あるいはガスクロ分析によるのがよい。反応終了後の
エポキシ化反応粗液から有機酸および有機過酸を除去す
るためにまず水洗を行う。
The completion of the reaction may be confirmed by the residual organic peracid concentration or gas chromatographic analysis. After the completion of the reaction, water is first washed to remove the organic acid and the organic peracid from the crude liquid for the epoxidation reaction.

【0045】水洗に用いる装置の条件としては有機層と
水層との接触時間が短いことが挙げられる。どの程度ま
での滞留時間の短さが必要とされるかは、水洗工程で許
容されるロス量およびエポキシ化シクロヘキセニルメチ
ル(メタ)アクリレ−トと有機酸水溶液との反応速度に
よって決定される。
The conditions of the apparatus used for washing with water include that the contact time between the organic layer and the aqueous layer is short. To what extent the residence time is required is determined by the amount of loss allowed in the washing step and the reaction rate between the epoxidized cyclohexenylmethyl (meth) acrylate and the aqueous organic acid solution.

【0046】そのような滞留時間が短い装置の代表的な
例として、遠心抽出器があるが、通常水洗工程で一般的
に用いられているミキサ−セトラ−タイプや抽出塔など
の装置を滞留時間が短くなるように工夫を加えても良
い。例えば、ミキサ−セトラ−タイプの場合なら、ミキ
サ−部にラインミキサ−等を用い、セトラ−部にできる
だけ小さい槽を用いれば良く、抽出塔の場合ならできる
だけ小さい塔を用いて仕込み量を大きくすれば良い。ま
た、抽出塔の場合には、有機層と水層のどちらを連続層
にするかということも、滞留時間に影響する。
A typical example of such a device having a short residence time is a centrifugal extractor, and a device such as a mixer-settler type or an extraction tower which is generally used in a water washing step is used as a residence time. You may add ingenuity to shorten. For example, in the case of a mixer-settler type, a line mixer or the like may be used in the mixer part, and a tank as small as possible may be used in the settler part. Good. Further, in the case of the extraction tower, which of the organic layer and the aqueous layer is the continuous layer also affects the residence time.

【0047】ただし、ミキサ−セトラ−タイプや抽出塔
のいずれの場合でも有機層と水層の混合度合を強くする
ほど分液時間が長く必要となるので、どこまで滞留時間
を短くすることができるかはそれぞれの系の分液性に大
きく影響される。
However, in any of the mixer-settler type and the extraction column, the longer the liquid separation time is, the longer the mixing degree of the organic layer and the water layer is. Therefore, how long can the retention time be shortened? Is greatly affected by the liquid separation properties of each system.

【0048】その点では、遠心抽出器の場合、比重差の
小さく分液性の悪い場合でも遠心力を利用して短時間に
分液させることが可能であるので有利である。
In this respect, the centrifugal extractor is advantageous because it can perform the liquid separation in a short time by utilizing the centrifugal force even when the difference in specific gravity is small and the liquid separation property is poor.

【0049】ちなみに、遠心抽出器における滞留時間は
数秒〜数十秒、高々1分程度である。 水洗工程の操作
温度は、エポキシ化シクロヘキセニルメチル(メタ)ア
クリレ−トと有機酸水溶液との反応速度が小さくなるほ
ど好ましいので低温のほうがよい。ただし、温度を下げ
過ぎると分液性が悪くなる場合があるので注意を要す
る。 水洗工程での反応粗液と抽剤である水との仕込み
割合は、任意であるが通常はS/F=0.5〜3.0
(Wt比、Sは水、Fは反応粗液)の範囲で行うことが
多い。水洗工程では、有機酸の抽出除去とともに残存有
機過酸を除去することが重要である。次のアルカリ処理
工程で充分な主鎖を有する有機酸および有機過酸の除去
を行うには、水洗粗液中の残存有機酸含量を0.1%以
下、好ましくは0.05%以下、また残存有機過酸含量
を0.1%以下、好ましくは0.05%以下になるよう
にS/Fを調節する必要がある。
By the way, the residence time in the centrifugal extractor is several seconds to several tens of seconds, and at most about 1 minute. The operating temperature of the water washing step is preferably lower as the reaction rate between the epoxidized cyclohexenylmethyl (meth) acrylate and the organic acid aqueous solution becomes smaller. However, care must be taken because if the temperature is too low, the liquid separation property may deteriorate. The charging ratio of the reaction crude liquid in the water washing step and water as the extraction agent is arbitrary, but usually S / F = 0.5 to 3.0.
(Wt ratio, S is water, F is reaction crude liquid). In the water washing step, it is important to remove the residual organic peracid together with the extraction and removal of the organic acid. In order to remove the organic acid and organic peracid having a sufficient main chain in the subsequent alkali treatment step, the residual organic acid content in the crude water washed with water is 0.1% or less, preferably 0.05% or less, and It is necessary to adjust the S / F so that the residual organic peracid content is 0.1% or less, preferably 0.05% or less.

【0050】本発明のポイントは、上記のようにエポキ
シ化後の反応粗液を短時間の接触で水洗を行った後にア
ルカリ水溶液で処理し、さらに2段階の脱低沸工程で処
理して精製されたエポキシ化シクロヘキセニルメチル
(メタ)アクリレ−トを得るところにある。
The point of the present invention is that the reaction crude liquid after epoxidation is washed with water for a short time as described above, then treated with an alkaline aqueous solution, and further treated with a two-step de-low boiling step to purify. This is to obtain the epoxidized cyclohexenylmethyl (meth) acrylate.

【0051】ところで、上記短時間の接触による水洗後
の粗液をアルカリ水溶液で処理せずに特願平1−320
956号および特願平2−276099号出願に記載さ
れた方法で脱低沸を行い製品化した場合、製品純度は9
0%以下であった。
By the way, Japanese Patent Application No. 1-320 without treating the crude liquid after washing with water for a short time with an alkaline aqueous solution.
The product purity is 9 when the product is produced by deboiling by the method described in Japanese Patent Application No. 956 and Japanese Patent Application No. 2-276099.
It was 0% or less.

【0052】これは短時間の接触による水洗だけでは、
反応工程で生成する主鎖を有する有機酸および有機過酸
が充分除去出きず、製品中にそれらが存在し、そのため
に重合性が高くなるためと思われる。
This is because washing with water for a short time only
It is considered that the organic acids and organic peracids having a main chain formed in the reaction step cannot be removed sufficiently, and they are present in the product, which increases the polymerizability.

【0053】このような現象に対して本発明者らは、反
応粗液を短時間の接触による水洗を行ない、さらにアル
カリ水溶液で処理し、水洗粗液中に存在する主鎖を有す
る有機酸および有機過酸を除去することにより、純度9
4〜97%の製品が得られることを見出だした。
Against such a phenomenon, the inventors of the present invention washed the reaction crude liquid with water for a short period of time and then treated it with an alkaline aqueous solution to remove the organic acid having a main chain present in the crude water washed and Purity 9 by removing organic peracid
It was found that 4-97% product was obtained.

【0054】アルカリ処理に用いるアルカリ水溶液とし
ては例えば、NaOH、KOH、K2 CO3 、Na2
3 、NaHCO3 、KHCO3 、NH3 などを使用す
ることができる。分液性の点からNaOH、NaC
3 、NaHCO3 水溶液を用いるのが好ましい。
Examples of the alkaline aqueous solution used for the alkaline treatment include NaOH, KOH, K 2 CO 3 and Na 2 C.
O 3 , NaHCO 3 , KHCO 3 , NH 3 and the like can be used. From the viewpoint of liquid separation, NaOH, NaC
It is preferable to use an aqueous solution of O 3 and NaHCO 3 .

【0055】アルカリ水溶液の濃度は、0.1〜10
%、より好ましくは0.5〜2%の濃度範囲で行うのが
良い。アルカリ水溶液の濃度を0.1%以下にした場合
は、水洗液中に存在する高沸点有機酸および高沸点有機
過酸を充分除去できないので良くない。またアルカリ水
溶液の濃度を10%以上にした場合は、処理時の排水負
荷が大きくなる、経済的でない等の問題となる。
The concentration of the alkaline aqueous solution is 0.1 to 10
%, More preferably 0.5 to 2% concentration range. When the concentration of the alkaline aqueous solution is set to 0.1% or less, the high-boiling organic acid and the high-boiling organic peracid present in the washing solution cannot be sufficiently removed, which is not good. Further, when the concentration of the alkaline aqueous solution is 10% or more, there are problems that the drainage load at the time of treatment becomes large and it is not economical.

【0056】アルカリ処理工程での水洗粗液と抽剤であ
るアルカリ水溶液との仕込み割合は任意であるが、S/
F=0.1〜5、より好ましくは0.3〜2(Wt比、
Sはアルカリ水溶液、Fは水洗粗液)の範囲で行うのが
好ましい。S/Fを0.1以下にした場合は、水洗液中
に存在する高沸点有機酸および高沸点有機過酸を充分除
去できないので良くない。またS/Fを5以上にした場
合は、処理槽が大きくなる、処理時の排水負荷が大きく
なる等の問題となる。
In the alkali treatment step, the ratio of the raw water for washing and the aqueous alkaline solution which is the extractant may be arbitrary, but S /
F = 0.1-5, more preferably 0.3-2 (Wt ratio,
It is preferable that S is an alkaline aqueous solution, and F is a water washing crude liquid. If the S / F is set to 0.1 or less, the high-boiling organic acid and the high-boiling organic peracid present in the washing solution cannot be sufficiently removed, which is not good. Further, if the S / F is set to 5 or more, the treatment tank becomes large and the drainage load at the time of treatment becomes large.

【0057】アルカリ処理重液のpHは、9以上にしな
ければならない。これ以下であると有機酸あるいは有機
過酸が除去できないため問題となる。
The pH of the alkali-treated heavy liquid must be 9 or more. If it is less than this, there is a problem because the organic acid or organic peracid cannot be removed.

【0058】処理温度は0〜50℃の温度範囲で行うの
が良い。温度を0℃以下で行うと分液性が悪くなる。ま
た50℃以上で行うとアルカリ水溶液中に溶解する有機
物が増加し、排水負荷の問題となる。
The processing temperature is preferably in the range of 0 to 50 ° C. If the temperature is lower than 0 ° C, the liquid separation property will be deteriorated. If it is carried out at 50 ° C. or higher, the amount of organic substances dissolved in the alkaline aqueous solution increases, which causes a problem of drainage load.

【0059】処理方法は連続もしくはバッチで行うが、
連続の場合はミキサ−セトラ−タイプが好ましい。
The treatment method is continuous or batch,
When continuous, the mixer-settler type is preferred.

【0060】アルカリ処理工程では、主鎖を有する有機
酸の除去とともに残存有機過酸を除去することが重要で
ある。次の低沸点成分除去工程を安定に操作するために
は、粗液中の残存有機過酸含量を0.01%以下にする
必要がある。
In the alkali treatment step, it is important to remove the organic acid having a main chain as well as the residual organic peracid. In order to stably operate the subsequent low boiling point component removing step, the residual organic peracid content in the crude liquid must be 0.01% or less.

【0061】水洗およびアルカリ処理を行った粗液から
低沸点成分を除去する際には重合禁止剤を添加するのが
好ましい。
When the low boiling point component is removed from the crude liquid which has been washed with water and treated with an alkali, it is preferable to add a polymerization inhibitor.

【0062】特に反応粗液中に含まれる重合禁止剤とし
てのハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエ−テ
ル、P−ベンゾキノン、クレゾ−ル、t−ブチルカテコ
−ル、2,4−ジメチル−6−t−ブチルフェノ−ル、
2−t−ブチル−4−メトキシフェノ−ル、3−t−ブ
チル−4−メトキシフェノ−ル、2,6−ジ−t−ブチ
ル−P−クレゾ−ル、2,5−ジヒドロキシ−P−キノ
ン、ピペリジン、エタノ−ルアミン、α−ニトロソ−β
−ナフト−ル、ジフェニルアミン、フェノチアジン、N
−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン、N、N−ジエ
チルヒドロキシルアミン等、あるいは有機過酸の安定剤
としてのリン酸水素アンモニウム、ピロリン酸カリウ
ム、ピロリン酸−2−エチルヘキシルエステル、ピロリ
ン酸カリウム−2−エチルヘキシルエステル、ピロリン
酸ナトリウム−2−エチルヘキシルエステルトリポリリ
ン酸、トリポリリン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリ
ウム、トリポリリン酸−2−エチルヘキシルエステル、
トリポリリン酸カリウム−2−エチルヘキシルエステ
ル、テトラポリリン酸、テトラポリリン酸カリウム、テ
トラポリリン酸ナトリウム、テトラポリリン酸−2−エ
チルヘキシルエステル、テトラポリリン酸カリウム−2
−エチルヘキシルエステル、テトラポリリン酸ナトリウ
ム−2−エチルヘキシルエステル、ヘキサメタリン酸カ
リウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム等の化合物が水洗
あるいはアルカリ処理時に抽出され水洗粗液中の含量が
減少する場合もあるが、その際は、アルカリ処理終了後
上記の化合物を適当量補充するのが好ましい。
In particular, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, P-benzoquinone, cresol, t-butyl catechol, 2,4-dimethyl-6-t-butylphenol as a polymerization inhibitor contained in the reaction crude liquid. Le,
2-t-butyl-4-methoxyphenol, 3-t-butyl-4-methoxyphenol, 2,6-di-t-butyl-P-cresol, 2,5-dihydroxy-P- Quinone, piperidine, ethanolamine, α-nitroso-β
-Naphthol, diphenylamine, phenothiazine, N
-Nitrosophenylhydroxylamine, N, N-diethylhydroxylamine, etc., or ammonium hydrogenphosphate as a stabilizer of organic peracid, potassium pyrophosphate, pyrophosphate-2-ethylhexyl ester, potassium pyrophosphate-2-ethylhexyl ester, Sodium pyrophosphate-2-ethylhexyl ester tripolyphosphate, potassium tripolyphosphate, sodium tripolyphosphate, tripolyphosphate-2-ethylhexyl ester,
Potassium tripolyphosphate-2-ethylhexyl ester, tetrapolyphosphoric acid, potassium tetrapolyphosphate, sodium tetrapolyphosphate, tetrapolyphosphoric acid-2-ethylhexyl ester, potassium tetrapolyphosphate-2
-Ethylhexyl ester, sodium tetrapolyphosphate-2-ethylhexyl ester, potassium hexametaphosphate, compounds such as sodium hexametaphosphate may be extracted during water washing or alkali treatment and the content in the water rinse crude solution may decrease, but in that case, It is preferable to replenish the above-mentioned compound in an appropriate amount after the completion of the alkali treatment.

【0063】<脱低沸工程>脱低沸には通常薄膜蒸発器
を用い、特願平2−276099号出願に記載のように
2段に分割して処理するのが良い。
<De-low boiling step> For the low-boiling point, a thin film evaporator is usually used, and it is preferable to treat it in two stages as described in Japanese Patent Application No. 2-276099.

【0064】1段で溶媒を1重量%以下に脱溶媒するた
め、高真空にした場合、溶媒蒸気の体積が莫大なものと
なり十分な蒸発能力を実現するためには大きな蒸発器が
必要となる。逆に低真空で行なうと加熱温度を高くしな
ければならないため重合が促進される。また、加熱温度
を低くした場合でも薄膜蒸発器内でのAETHB(ME
THB)の滞留時間が長くなり重合が促進される。
Since the solvent is desolvated to 1% by weight or less in one stage, when a high vacuum is applied, the volume of the solvent vapor becomes enormous and a large evaporator is required to realize a sufficient evaporation capacity. . On the contrary, if the heating is carried out in a low vacuum, the heating temperature must be raised, so that the polymerization is accelerated. In addition, even when the heating temperature is lowered, AETHB (ME
The residence time of THB) becomes longer and the polymerization is accelerated.

【0065】つまり、1段で溶媒を1重量%まで除去し
た場合HTで0.1%以下の品質のものは得られない。そ
こで、2段による脱低沸を行なう。
That is, when the solvent is removed up to 1% by weight in one step, HT having a quality of 0.1% or less cannot be obtained. Therefore, low boiling point removal by two steps is performed.

【0066】アルカリ処理して得られた液の一段目脱低
沸工程では、加熱温度50〜100℃、好ましくは50
〜70℃の範囲で行うのがよい。また、その時の圧力は
溶媒の物性によって任意に選べるが加熱温度との関係で
減圧で操作するのが一般的である。
In the first step of removing the low boiling point liquid obtained by the alkali treatment, the heating temperature is 50 to 100 ° C., preferably 50.
It is good to carry out in the range of up to 70 ° C. The pressure at that time can be arbitrarily selected depending on the physical properties of the solvent, but it is common to operate under reduced pressure in relation to the heating temperature.

【0067】このようにして得られた薄膜蒸発器の塔底
液中の溶媒濃度は3〜50wt%、より好ましくは10
〜20wt%の範囲にしなければならない。溶媒濃度を
3wt%以下にした場合、高真空にしなければならず、
留出する溶媒をコンデンサ−で補集する際、回収のロス
が大きくなるため好ましくない。
The solvent concentration in the bottom liquid of the thin film evaporator thus obtained is 3 to 50 wt%, more preferably 10%.
Must be in the range of ~ 20 wt%. When the solvent concentration is 3 wt% or less, high vacuum must be applied,
When collecting the distilled solvent with a condenser, the recovery loss becomes large, which is not preferable.

【0068】逆に溶媒濃度を50wt%以上にした場
合、2段目脱低沸工程で高真空で行うため留出する溶媒
をコンデンサ−で補修できず、回収のロスが大きくなる
ため好ましくない。
On the contrary, when the solvent concentration is set to 50 wt% or more, the solvent to be distilled out cannot be repaired by the condenser because the second step of removing low boiling point is performed in a high vacuum, and the recovery loss becomes large, which is not preferable.

【0069】2段目脱低沸工程では、加熱温度50〜1
00℃、好ましくは50〜70℃の範囲で行うのがよ
い。また、その時の圧力は溶媒の物性によって異なるが
加熱温度との関係で任意に選べる。
In the second step of removing low boiling point, the heating temperature is 50 to 1
It may be carried out at 00 ° C, preferably in the range of 50 to 70 ° C. The pressure at that time varies depending on the physical properties of the solvent, but can be arbitrarily selected in relation to the heating temperature.

【0070】重合防止効果のある分子状酸素を蒸発器に
導入する場所は任意に選べるが塔底液が留出するライン
から吹き込むのが普通である。
The position where molecular oxygen having a polymerization preventing effect is introduced into the evaporator can be arbitrarily selected, but it is usually blown from a line through which the bottom liquid is distilled.

【0071】吹き込み量は任意に選べるが上限量は真空
系の能力、あるいは塔底液が安定に流下するかどうか、
あるいは留出した溶媒をコンデンサ−で捕集する際の回
収ロスという観点から自ずと制限される。
The blowing amount can be arbitrarily selected, but the upper limit amount is the capacity of the vacuum system or whether or not the bottom liquid stably flows down.
Alternatively, it is naturally limited from the viewpoint of recovery loss when the distilled solvent is collected by the condenser.

【0072】脱低沸工程で得られる塔底液は純度的には
94〜97wt%製品であるが、本発明の成果としては
溶媒濃度は、1重量%以下、HTは、0.1重量%以下
程度の品質である。
The bottom liquid obtained in the deboiling step is 94 to 97 wt% in terms of purity, but as a result of the present invention, the solvent concentration is 1 wt% or less, and HT is 0.1 wt%. The quality is as follows.

【0073】[0073]

【発明の効果】以下に実施例を示し本発明の効果を具体
的に説明するが、本発明は、これらの実施例によって限
定されるものではない。
The effects of the present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0074】実施例1 攪拌機および冷却用ジャケットが付いた内容量20リッ
トルのSUS316製反応器にシクロヘキセニルメチル
アクリレ−ト(以後CHAAと略する)3000g、酢
酸エチル11100g、ハイドロキノンモノメチルエ−
テル0.9gr、トリポリリン酸ナトリウム9.0gを
加え、かつ反応器に挿入管から酸素/チッ素(10/9
0容量%)の混合ガスを32Nリットル/Hrで吹込ん
だ。
Example 1 In a reactor made of SUS316 having an internal capacity of 20 liter, equipped with a stirrer and a cooling jacket, 3000 g of cyclohexenyl methyl acrylate (hereinafter abbreviated as CHAA), 11100 g of ethyl acetate, and hydroquinone monomethyl ether.
Tellurium 0.9 gr, sodium tripolyphosphate 9.0 g, and oxygen / nitrogen (10/9
0% by volume) of the mixed gas was blown at 32 Nl / Hr.

【0075】次いで反応温度を40℃に保ち、30%過
酢酸溶液5623gを定量ポンプで4時間かけて仕込ん
だ。仕込み終了後、さらに5時間熟成後反応を終了させ
た。このようにして3,4−エポキシシクロヘキシルメ
チルアクリレ−ト(以後AETHBと略する)を含む反
応粗液反応粗液19723gを得た。
Then, the reaction temperature was kept at 40 ° C., and 5623 g of a 30% peracetic acid solution was charged by a metering pump over 4 hours. After the completion of the charging, the reaction was terminated after aging for 5 hours. Thus, 19723 g of a reaction crude liquid containing 3,4-epoxycyclohexylmethyl acrylate (hereinafter abbreviated as AETHB) was obtained.

【0076】ロ−タ外径46cm,ロ−タ内径25mm
のロ−タを4000回転させている遠心抽出器に軽液入
口よりAETHBを含む反応粗液を2108g/分の速
度で仕込むと同時に、重液入口より水を3590g/分
の速度で仕込むことにより、軽液出口より軽液を166
4g/分の速度で、重液出口より重液を4034g/分
の速度で得た。
Rotor outer diameter 46 cm, rotor inner diameter 25 mm
By charging the reaction crude liquid containing AETHB from the light liquid inlet at a rate of 2108 g / min into the centrifugal extractor rotating the rotor of No. 4 at a rate of 2108 g / min, and simultaneously charging water from the heavy liquid inlet at a rate of 3590 g / min. , 166 light liquid from the light liquid outlet
Heavy liquid was obtained from the heavy liquid outlet at a rate of 434 g / min at a rate of 40 g / min.

【0077】得られた軽液を再度同じ遠心抽出器に21
08g/分の速度で仕込むと同時に、重液入口より水を
3590g/分の速度で仕込むことにより、軽液出口よ
り軽液を1877g/分の速度で、重液出口より重液を
3821g/分の速度で得た。 軽液中の酢酸、過酢酸
濃度はそれぞれ400ppm,150ppmであった。
このようにして得られた軽液を攪拌機および冷却用ジ
ャケットが付いた内容量15リットルのSUS316製
処理槽に3000g仕込み、そこに1%NaOH水溶液
を3000g仕込み、温度を10℃に保ちながら1時間
攪拌をした。
The obtained light liquid is again placed in the same centrifugal extractor.
At the same time as charging at a rate of 08 g / min, by charging water from the heavy liquid inlet at a rate of 3590 g / min, the light liquid is discharged from the light liquid outlet at a rate of 1877 g / min and the heavy liquid is discharged from the heavy liquid outlet at 3821 g / min. Got at the speed of. The acetic acid and peracetic acid concentrations in the light liquid were 400 ppm and 150 ppm, respectively.
The light liquid thus obtained was charged into a SUS316 treatment tank having a stirrer and a cooling jacket and having an internal capacity of 15 liters (3000 g), and 1 g NaOH aqueous solution (3000 g) was charged therein, and the temperature was kept at 10 ° C. for 1 hour. It was stirred.

【0078】得られた粗液中の残存過酢酸濃度は100
ppm以下であった。
The residual peracetic acid concentration in the obtained crude liquid was 100.
It was below ppm.

【0079】次にこの軽液2790gにハイドロキノン
モノメチルエ−テル0.16gを加え、SUS製スミス
式薄膜蒸発器で1段目脱低沸した。操作条件は加熱温度
60℃圧力、150mmHgで、塔底液留出ラインから
酸素/窒素の混合ガスを32リットル/Hrで吹き込ん
だ。
Next, 0.16 g of hydroquinone monomethyl ether was added to 2790 g of this light liquid, and the first stage deboiling was carried out with a Smith type thin film evaporator made of SUS. The operating conditions were a heating temperature of 60 ° C. and a pressure of 150 mmHg, and a mixed gas of oxygen / nitrogen was blown at a rate of 32 L / Hr from the bottom liquid distillation line.

【0080】この塔底液を加熱温度60℃、圧力40m
mHgの条件で2段目脱低沸を行い、塔底液留出ライン
から、酸素/窒素(10/90容量%)の混合ガスを3
2Nリットル/Hrで吹込んだ。塔底液は538gであ
った。
This bottom liquid is heated at a temperature of 60 ° C. and a pressure of 40 m.
The second stage deboiling was performed under the condition of mHg, and a mixed gas of oxygen / nitrogen (10/90% by volume) was mixed with 3 from the bottom liquid distillation line.
Blow at 2 Nl / Hr. The bottom liquid was 538 g.

【0081】またガスクロマトグラフィ−分析で組成を
調べたところAETHB96.4%であった。
When the composition was examined by gas chromatography analysis, it was found that AETHB was 96.4%.

【0082】HTを行なった結果、ポリマ−含量は0.
01%であった。
As a result of HT, the polymer content was 0.
It was 01%.

【0083】実施例2 実施例1で得た遠心抽出軽液を攪拌機および冷却用ジャ
ケットが付いた内容量15リットルのSUS316製処
理槽に3000g仕込み、そこに0.5%NaOH水溶
液を3000g仕込み、温度を10℃に保ちながら1時
間攪拌をした。得られた粗液中の残存過酢酸濃度は10
0ppm以下であった。
Example 2 3000 g of the centrifugally extracted light liquid obtained in Example 1 was charged into a SUS316-made treatment tank having an internal volume of 15 liters equipped with a stirrer and a cooling jacket, and 3000 g of 0.5% NaOH aqueous solution was charged therein. The mixture was stirred for 1 hour while keeping the temperature at 10 ° C. The residual peracetic acid concentration in the obtained crude liquid was 10
It was 0 ppm or less.

【0084】次にこの軽液2790gにハイドロキノン
モノメチルエ−テル0.21gを加え、SUS製スミス
式薄膜蒸発器で1段目脱低沸した。操作条件は加熱温度
60℃圧力、150mmHgで、塔底液留出ラインから
酸素/窒素の混合ガスを32リットル/Hrで吹き込ん
だ。
Next, 0.21 g of hydroquinone monomethyl ether was added to 2790 g of this light liquid, and the first stage deboiling was carried out with a Smith type thin film evaporator made of SUS. The operating conditions were a heating temperature of 60 ° C. and a pressure of 150 mmHg, and a mixed gas of oxygen / nitrogen was blown at a rate of 32 L / Hr from the bottom liquid distillation line.

【0085】この塔底液を加熱温度60℃、圧力40m
mHgの条件で2段目脱低沸を行い、塔底液留出ライン
から、酸素/窒素(10/90容量%)の混合ガスを3
2Nリットル/Hrで吹込んだ。塔底液は538gであ
った。
This bottom liquid is heated at a temperature of 60 ° C. and a pressure of 40 m.
The second stage deboiling was performed under the condition of mHg, and a mixed gas of oxygen / nitrogen (10/90% by volume) was mixed with 3 from the bottom liquid distillation line.
Blow at 2 Nl / Hr. The bottom liquid was 538 g.

【0086】またガスクロマトグラフィ−分析で組成を
調べたところAETHB95.7%であった。
When the composition was examined by gas chromatography analysis, it was found that AETHB was 95.7%.

【0087】HTを行なった結果、ポリマ−含量は0.
02%であった。
As a result of HT, the polymer content was 0.
It was 02%.

【0088】実施例3 実施例1で得た遠心抽出軽液を攪拌機および冷却用ジャ
ケットが付いた内容量15リットルのSUS316製処
理槽に3000g仕込み、そこに0.1%NaOH水溶
液を3000g仕込み、温度を10℃に保ちながら1時
間攪拌をした。得られた粗液中の残存過酢酸濃度は10
0ppm以下であった。
Example 3 3000 g of the centrifugally extracted light liquid obtained in Example 1 was charged into a SUS316-made treatment tank having an internal volume of 15 liter equipped with a stirrer and a cooling jacket, and 3000 g of 0.1% NaOH aqueous solution was charged therein. The mixture was stirred for 1 hour while keeping the temperature at 10 ° C. The residual peracetic acid concentration in the obtained crude liquid was 10
It was 0 ppm or less.

【0089】次にこの軽液2790gにハイドロキノン
モノメチルエ−テル0.16gを加え、SUS製スミス
式薄膜蒸発器で1段目脱低沸した。操作条件は加熱温度
60℃圧力、150mmHgで、塔底液留出ラインから
酸素/窒素の混合ガスを32リットル/Hrで吹き込ん
だ。
Next, 0.16 g of hydroquinone monomethyl ether was added to 2790 g of this light liquid, and the first stage deboiling was carried out with a Smith type thin film evaporator made of SUS. The operating conditions were a heating temperature of 60 ° C. and a pressure of 150 mmHg, and a mixed gas of oxygen / nitrogen was blown at a rate of 32 L / Hr from the bottom liquid distillation line.

【0090】この塔底液を加熱温度60℃、圧力40m
mHgの条件で2段目脱低沸を行い、塔底液留出ライン
から、酸素/窒素(10/90容量%)の混合ガスを3
2Nリットル/Hrで吹込んだ。塔底液は538gであ
った。
This bottom liquid is heated at a temperature of 60 ° C. and a pressure of 40 m.
The second stage deboiling was performed under the condition of mHg, and a mixed gas of oxygen / nitrogen (10/90% by volume) was mixed with 3 from the bottom liquid distillation line.
Blow at 2 Nl / Hr. The bottom liquid was 538 g.

【0091】またガスクロマトグラフィ−分析で組成を
調べたところAETHB92.3%であった。
When the composition was examined by gas chromatography analysis, it was found to be 92.3% AETHB.

【0092】比較例1 実施例1で得た遠心抽出軽液を攪拌機および冷却用ジャ
ケットが付いた内容量15リットルのSUS316製処
理槽に3000g仕込み、そこに蒸留水を3000g仕
込み、温度を10℃に保ちながら1時間攪拌をした。
Comparative Example 1 3000 g of the centrifugally extracted light liquid obtained in Example 1 was charged into a SUS316-made treatment tank having an internal volume of 15 liters equipped with a stirrer and a cooling jacket, and 3000 g of distilled water was charged therein, and the temperature was adjusted to 10 ° C. The mixture was stirred for 1 hour while maintaining the above.

【0093】次にこの軽液2790gにハイドロキノン
モノメチルエ−テル0.16gを加え、SUS製スミス
式薄膜蒸発器で1段目脱低沸した。操作条件は加熱温度
60℃圧力、150mmHgで、塔底液留出ラインから
酸素/窒素の混合ガスを32リットル/Hrで吹き込ん
だ。
Next, 0.16 g of hydroquinone monomethyl ether was added to 2790 g of this light liquid, and the first stage deboiling was carried out with a Smith type thin film evaporator made of SUS. The operating conditions were a heating temperature of 60 ° C. and a pressure of 150 mmHg, and a mixed gas of oxygen / nitrogen was blown at a rate of 32 L / Hr from the bottom liquid distillation line.

【0094】この塔底液を加熱温度60℃、圧力40m
mHgの条件で2段目脱低沸を行い、塔底液留出ライン
から、酸素/窒素(10/90容量%)の混合ガスを3
2Nリットル/Hrで吹込んだ。塔底液は538gであ
った。
This bottom liquid is heated at a temperature of 60 ° C. and a pressure of 40 m.
The second stage deboiling was performed under the condition of mHg, and a mixed gas of oxygen / nitrogen (10/90% by volume) was mixed with 3 from the bottom liquid distillation line.
Blow at 2 Nl / Hr. The bottom liquid was 538 g.

【0095】またガスクロマトグラフィ−分析で組成を
調べたところAETHB86.5%であった。
When the composition was examined by gas chromatography analysis, it was found to be 86.5% AETHB.

【0096】実施例4 実施例1で得た遠心抽出軽液を攪拌機および冷却用ジャ
ケットが付いた内容量15リットルのSUS316製処
理槽に3000g仕込み、そこに1%NaOH水溶液を
300g仕込み、温度を10℃に保ちながら1時間攪拌
をした。
Example 4 3000 g of the centrifugally extracted light liquid obtained in Example 1 was placed in a SUS316-made treatment tank having an internal volume of 15 liter, equipped with a stirrer and a cooling jacket, and 300 g of a 1% NaOH aqueous solution was placed therein, and the temperature was raised. The mixture was stirred for 1 hour while maintaining the temperature at 10 ° C.

【0097】得られた粗液中の残存過酢酸濃度は100
ppm以下であった。
The residual peracetic acid concentration in the obtained crude liquid was 100.
It was below ppm.

【0098】次にこの軽液2790gにハイドロキノン
モノメチルエ−テル0.21gを加え、SUS製スミス
式薄膜蒸発器で1段目脱低沸した。操作条件は加熱温度
60℃圧力、150mmHgで、塔底液留出ラインから
酸素/窒素の混合ガスを32リットル/Hrで吹き込ん
だ。
Next, 0.21 g of hydroquinone monomethyl ether was added to 2790 g of this light liquid, and the first stage deboiling was carried out in a Smith type thin film evaporator made of SUS. The operating conditions were a heating temperature of 60 ° C. and a pressure of 150 mmHg, and a mixed gas of oxygen / nitrogen was blown at a rate of 32 L / Hr from the bottom liquid distillation line.

【0099】この塔底液を加熱温度60℃、圧力40m
mHgの条件で2段目脱低沸を行い、塔底液留出ライン
から、酸素/窒素(10/90容量%)の混合ガスを3
2Nリットル/Hrで吹込んだ。またガスクロマトグラ
フィ−分析で組成を調べたところAETHB92.4%
であった。
This bottom liquid is heated at a temperature of 60 ° C. and a pressure of 40 m.
The second stage deboiling was performed under the condition of mHg, and a mixed gas of oxygen / nitrogen (10/90% by volume) was mixed with 3 from the bottom liquid distillation line.
Blow at 2 Nl / Hr. Moreover, when the composition was examined by gas chromatography analysis, AETHB was 92.4%.
Met.

【0100】(以下余白)(Hereinafter, margin)

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は本発明の「精製されたエポキシ化された
(メタ)アクリレ―ト化合物」を製造するための各工程
を組み合わせて表示したフロ−シ−トである。
FIG. 1 is a flow chart showing a combination of steps for producing a “purified epoxidized (meth) acrylate compound” of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

(a) 接触時間の短い装置を用いて水洗する工程 (b) アルカリ中和処理する工程 (c) 加熱温度100℃以下、減圧下で脱低沸することに
より、低沸成分含有量3〜50重量%の液を得る工程 (d) 加熱温度100℃以下、(c) 工程の1/2以下の減
圧下で脱低沸することにより低沸成分含有量1重量%未
満の液を得る工程
(a) a step of washing with water using a device having a short contact time (b) a step of neutralizing with an alkali (c) a heating temperature of 100 ° C. or lower, and a low boiling point component content of 3 to 50 by deboiling under reduced pressure Step of obtaining a liquid by weight% (d) Step of obtaining a liquid having a low boiling point component content of less than 1% by weight by deboiling under a heating temperature of 100 ° C. or lower and (c) a reduced pressure of 1/2 or less of the step

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式 【化1】 で表わされるアルキル置換基を有するかまたはアルキル
置換基を有しないシクロヘキシルメチル(メタ)アクリ
レ−トを有機過酸を用いてエポキシ化して得られる下記
一般式 【化2】 《ただし、上記一般式化1および化2において、R1
2 は水素またはC1 〜C5 を有するアルキル基、R3
は水素またはメタクリル基》で表わされるアルキル置換
基を有するかまたはアルキル置換基を有しない3,4−
エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレ−トを
含有する反応粗液を以下 (a) 接触時間の短い装置を用いて水洗する工程 (b) アルカリ中和処理する工程 (c) 加熱温度100℃以下、減圧下で脱低沸することに
より、低沸成分含有量3〜50重量%の液を得る工程 (d) 加熱温度100℃以下、(c) 工程の1/2以下の減
圧下で脱低沸することにより低沸成分含有量1重量%未
満の液を得る工程で処理することを特徴とする精製され
たアルキル置換基を有するかまたはアルキル置換基を有
しない3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)
アクリレ−トの製造方法。
1. The following general formula: Embedded image The following general formula obtained by epoxidizing cyclohexylmethyl (meth) acrylate having an alkyl substituent or having no alkyl substituent with an organic peracid: << However, in the above general formulas 1 and 2, R 1 ,
R 2 is hydrogen or an alkyl group having C 1 to C 5 , R 3
Has an alkyl substituent represented by hydrogen or a methacryl group or does not have an alkyl substituent 3,4-
The reaction crude liquid containing epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate is washed with (a) a device having a short contact time with water (b) an alkali neutralization process (c) a heating temperature of 100 ° C or lower, a reduced pressure The step of obtaining a liquid having a low boiling point content of 3 to 50% by weight by deboiling under low temperature (d) Heating temperature of 100 ° C or lower, (c) Low boiling point under reduced pressure of 1/2 or less of the step Purified alkyl-substituted or non-alkyl-substituted 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth), characterized in that it is treated in a step to obtain a liquid having a low boiling point content of less than 1% by weight.
Acrylate manufacturing method.
【請求項2】 0.15重量%未満のヘプタンテスト値
を有するアルキル置換基を有するかまたはアルキル置換
基を有しない3,4−エポキシシクロヘキシルメチル
(メタ)アクリレ−ト。
2. A 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate with or without alkyl substituents having a heptane test value of less than 0.15% by weight.
【請求項3】 有機過酸が過酢酸である請求項1記載の
化合物の製造方法。
3. The method for producing a compound according to claim 1, wherein the organic peracid is peracetic acid.
【請求項4】 接触時間の短い装置が遠心抽出装置であ
る請求項1記載の化合物の製造方法。
4. The method for producing a compound according to claim 1, wherein the device having a short contact time is a centrifugal extraction device.
【請求項5】 一般式、化1および化2におけるR1
よびR2 が水素である請求項1記載の化合物の製造方
法。
5. The method for producing a compound according to claim 1, wherein R 1 and R 2 in the general formulas, 1 and 2 are hydrogen.
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JP2020105440A (en) * 2018-12-28 2020-07-09 株式会社ダイセル High-purity 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate

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