JPH06247507A - Conveyer arm - Google Patents

Conveyer arm

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JPH06247507A
JPH06247507A JP5061400A JP6140093A JPH06247507A JP H06247507 A JPH06247507 A JP H06247507A JP 5061400 A JP5061400 A JP 5061400A JP 6140093 A JP6140093 A JP 6140093A JP H06247507 A JPH06247507 A JP H06247507A
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JP
Japan
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mounting table
suction
transfer arm
loading
glass substrate
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Kiyotaka Akiyama
清隆 秋山
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Tokyo Electron Yamanashi Ltd
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Abstract

PURPOSE:To prevent a large size object to be conveyed from bending due to its dead weight, by providing suction pads made of a PEEK material on a loading surface so as to suck up a planar material through the intermediary of this pad. CONSTITUTION:A conveying arm 1 adapted used in a plasma treating device or the like, is composed of a loading bed 4 on which an object to be conveyed is loaded directly, a slide mechanism incorporating extendable shafts for reciprocating the loading bed 4, and a base bed 6 supporting the loading bed 4 and the slide mechanism and moved up and down by an elevating mechanism. Further, loading bed 4 comprises upper and lower loading beds 11, 21 which are made of aluminum, and are arranged in two vertical stages with a spacer 31 being interposed therebetween, suction pads 12 to 15 made of a PEEK material (polyester-ether-ketone) are provided at the four corners of the peripheral edge of a large diameter part on the upper surface of the upper loading bed 11. Supports 17, 18 made of a PEEK material are located at middle points between the suction pads 12, 13, 14, 15 on lines connecting between the pads.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、大気雰囲気中にて、L
CD基板をはじめとする被処理基板やその他各種の板状
体の搬送に使用される搬送アームに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention
The present invention relates to a transfer arm used for transferring a substrate to be processed such as a CD substrate and various other plate-shaped bodies.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来この種の搬送アームとしては、例え
ばLCD(Liquid Crystal Display;液晶表示装置)基
板の製造工程において使用される搬送アームが知られて
いる。そしてこの種の大気雰囲気内で使用される搬送ア
ームについては、従来技術の下では、例えば図5に示し
たような搬送アーム51がある。
2. Description of the Related Art Conventionally, as this type of transfer arm, for example, a transfer arm used in a manufacturing process of an LCD (Liquid Crystal Display) substrate is known. Regarding the transfer arm used in this kind of atmosphere, under the conventional technique, there is a transfer arm 51 as shown in FIG. 5, for example.

【0003】即ち従来の搬送アーム51は全体として、
回転駆動自在な基台(図示せず)に設置された第1アー
ム52、この第1アーム52に連動して回転駆動される
第2アーム53、この第2アーム53に対して回転駆動
される載置台54によって構成されている。また上記載
置台54の載置面側には、載置されるLCD用ガラス基
板55を真空吸着するための吸引口56が通常4カ所に
設けられ、これら各吸引口56周縁部にはOリング57
が夫々設けられていた。
That is, the conventional transfer arm 51 as a whole is
A first arm 52 installed on a rotatably driven base (not shown), a second arm 53 that is rotationally driven in conjunction with the first arm 52, and is rotationally driven with respect to the second arm 53. It is composed of a mounting table 54. Further, on the mounting surface side of the mounting table 54, suction ports 56 for vacuum-sucking the LCD glass substrate 55 to be mounted are usually provided at four places, and O-rings are provided at the peripheral portions of these suction ports 56. 57
Were provided respectively.

【0004】そして搬送対象となる上記LCD用ガラス
基板55は、上記載置台54のOリング57上に載置さ
れ、載置台54内に設けられた真空引き流路(図示せ
ず)から真空引きされることによって上記LCD用ガラ
ス基板55は上記各Oリング57に対して密着保持さ
れ、摩擦力と真空吸着によって載置台54に保持されて
搬送時のズレ等が防止されるようになっていた。
The LCD glass substrate 55 to be transported is mounted on the O-ring 57 of the mounting table 54 and is evacuated from a vacuum evacuation channel (not shown) provided in the mounting table 54. As a result, the LCD glass substrate 55 is held in close contact with the respective O-rings 57, and is held on the mounting table 54 by frictional force and vacuum suction to prevent misalignment during transportation. .

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな従来の搬送アームによれば、以下のような問題が生
ずる。まず搬送対象であるLCD用ガラス基板55と接
触しているのは、Oリング57であるが、従来この種の
Oリングはその材質がシリコンやバイトンからなってお
り、そのため搬送を繰り返していると摩擦によってこれ
らシリコンやバイトンのパーティクルが発生して、LC
D用ガラス基板55を汚染させる原因となっていた。
However, the above-described conventional transfer arm causes the following problems. First, it is the O-ring 57 that is in contact with the LCD glass substrate 55 to be transported. Conventionally, the material of this type of O-ring is silicon or Viton, and therefore, the transport is repeated. Particles of these silicon and viton are generated by friction, and LC
It was a cause of contaminating the glass substrate 55 for D.

【0006】また最近はLCD用ガラス基板が大型化し
ているが、例えばその大きさが450mm×500mmにも
なると、一般にこの種のLCD用ガラス基板は厚さ1mm
程度であるから、基板自体の中央が自重によって撓み、
そのため基板周辺部で基板と接触しているOリングと当
該基板との間に隙間が生じ、真空吸着ができないおそれ
もあった。このことは特に硬性の材質でOリングを構成
した場合に顕著となる。
Recently, the glass substrate for LCD has been increased in size. For example, when the size becomes 450 mm × 500 mm, the glass substrate for LCD of this kind generally has a thickness of 1 mm.
Since it is about the degree, the center of the substrate itself bends due to its own weight,
Therefore, a gap may be formed between the O-ring that is in contact with the substrate in the peripheral portion of the substrate and the substrate, and vacuum suction may not be possible. This is particularly remarkable when the O-ring is made of a hard material.

【0007】さらに図5からも明らかなように、上記従
来の搬送アーム51では1度に1枚の基板しか搬送でき
ず、高スループット化するにも限界があった。
Further, as is apparent from FIG. 5, the conventional transfer arm 51 can transfer only one substrate at a time, and there is a limit in achieving high throughput.

【0008】本発明は叙上の問題点に鑑みてなされたも
のであって、搬送対象への汚染を防止するとともに、搬
送対象の大型化、さらには高スループットにも対応でき
る搬送アームを提供することを目的とするものである。
The present invention has been made in view of the above problems, and provides a transfer arm capable of preventing contamination of an object to be transferred, increasing the size of the object to be transferred, and capable of handling high throughput. That is the purpose.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1の発明では、載置手段を有し、この載置手
段に板状体を載置してこれを搬送する搬送アームにおい
て、前記載置手段の載置面側にPEEK(ポリ・エーテ
ル・エーテル・ケトン)材からなる吸着パッドを設け、
当該吸着パッドを介して刃層対象である板状体を吸着す
る如く構成したことを特徴とする、搬送アームを提供す
る。
In order to achieve the above object, in the invention according to claim 1, there is provided a placing arm, and a carrying arm for placing a plate-like body on the placing means and carrying it. , A suction pad made of PEEK (polyether ether ether ketone) material is provided on the mounting surface side of the mounting means,
There is provided a transfer arm, which is configured to adsorb a plate-shaped body that is a blade layer target via the adsorption pad.

【0010】この場合、請求項2に記載したように、P
EEK材からなる支持体を載置手段の載置面側に設け、
この支持体の高さを吸着パッド材と略同一に設定しても
よい。
In this case, as described in claim 2, P
A support made of EEK material is provided on the mounting surface side of the mounting means,
The height of this support may be set to be substantially the same as that of the suction pad material.

【0011】さらにまた上記各搬送アームにおいて、請
求項3に記載したように、適宜間隔の下で載置手段を上
下複数段に構成してもよい。
Furthermore, in each of the above-mentioned transfer arms, as described in claim 3, the mounting means may be constructed in a plurality of upper and lower stages at appropriate intervals.

【0012】[0012]

【作用】PEEK材は、極めて安定した材質であり、対
薬品、対摩耗性、機械特性に優れている。従って搬送を
繰り返しても、従来のシリコンやバイトンからなるOリ
ングと較べて、パーティクル発生の可能性は格段に低下
するため、搬送対象に対する汚染を防止できる。
The PEEK material is an extremely stable material and is excellent in chemical resistance, abrasion resistance and mechanical properties. Therefore, even if the conveyance is repeated, the possibility of particle generation is significantly reduced as compared with the conventional O-ring made of silicon or Viton, so that contamination of the conveyance target can be prevented.

【0013】PEEK材からなる支持体を載置手段の載
置面側に設け、この支持体の高さを吸着パッド材と略同
一に設定した場合には、吸着パッドのみならずこれら各
支持体によっても板状体が支持されるので、大型の搬送
対象が自重によって撓むのを防止できる。
When a support made of a PEEK material is provided on the mounting surface side of the mounting means and the height of the support is set to be substantially the same as the suction pad material, not only the suction pad but also each support Since the plate-like body is also supported by, it is possible to prevent the large object to be conveyed from being bent by its own weight.

【0014】適宜間隔の下で載置手段を上下複数段に構
成した場合には、一度に複数の板状体を搬送することが
可能である。
In the case where the mounting means is composed of a plurality of upper and lower stages at appropriate intervals, it is possible to convey a plurality of plate-like bodies at one time.

【0015】[0015]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づき説明す
ると、本実施例はプラズマ処理装置に使用される搬送ア
ームとして構成されており、図1は本実施例にかかる搬
送アーム1を概略的に示しており、同図から明らかなよ
うに、本実施例における搬送アーム1は、搬送対象を直
接載置させる載置台4、当該載置台4を図1中の往復矢
印に示されるようにスライド自在に駆動させる例えば伸
縮軸などのスライド機構(図示せず)、並びにこれら載
置台4と上記スライド機構を支持し、かつこれらを回転
自在に駆動するための基台6によって構成されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. This embodiment is configured as a transfer arm used in a plasma processing apparatus, and FIG. 1 is a schematic view of a transfer arm 1 according to this embodiment. As is clear from the figure, the transfer arm 1 in the present embodiment includes a mounting table 4 on which a transfer target is directly mounted, and the mounting table 4 is indicated by a reciprocating arrow in FIG. It is configured by a slide mechanism (not shown) such as a telescopic shaft that is slidably driven, and a mounting base 4 and a base 6 that supports the slide mechanism and rotatably drives them.

【0016】さらにまた上記基台6そのものも、適宜の
昇降機構によって上下動、例えば基板のピックアップや
ダウン程度の上下動も自在になるように構成され、この
基台6は、駆動手段等が収納されている支持台5上に設
けられている。上記構成により、搬送アーム1は載置台
4の旋回範囲内において、両サイドを始めとする上記支
持台5の周囲空間に位置する搬送対象(板状体の基板)
の搬送入が可能になっている。
Further, the base 6 itself is constructed so that it can be moved up and down by an appropriate elevating mechanism, for example, the pickup of a substrate and the up and down movement can be freely performed. The base 6 accommodates drive means and the like. It is provided on the supporting table 5 that is provided. With the above configuration, the transfer arm 1 is a transfer target (a plate-shaped substrate) located in the space around the support table 5 on both sides within the turning range of the mounting table 4.
It is possible to carry in.

【0017】上記載置台4は、夫々アルミ材からなる上
側載置台11と下側載置台21とが、やはりアルミ材か
らなるスペーサ31を挟んで上下2段に配置している構
成を有し、これらは適宜の接地線(図示せず)によって
電気的に接地されている。
The above-described mounting table 4 has a structure in which an upper mounting table 11 and a lower mounting table 21 each made of an aluminum material are arranged in two upper and lower steps with a spacer 31 also made of an aluminum material interposed therebetween. These are electrically grounded by an appropriate ground wire (not shown).

【0018】上記上側載置台11と下側載置台21とは
同形同一構成であり、いま上側載置台11の平面形態を
図2に基づいて説明すると、この上側載置台11におけ
る先端部となる他端部側(図2における左側)略半分は
台形をなし、一端部側(図2における左側)略半分は方
形をなしている。このように挿入側の平面を台形に形成
することにより、載置台4の回転や搬送対象であるLC
D基板の収納カセットからの取り出し、処理室への搬送
入の際のゲートバルブへの挿入等にあたり、載置台4の
回転に支障が生じないようになっている。またさらにか
かる構成により載置台4の他端部(先端部)の重量を軽
減することができ、搬送の際、特に始動時や停止時の際
に載置台4が振動することが防止される。なおさらに載
置台4の先端部の重量を軽減するためには、適宜窓等の
打ち抜き部分を先端部側に設けてもよい。
The upper mounting table 11 and the lower mounting table 21 have the same shape and the same structure. The plane form of the upper mounting table 11 will now be described with reference to FIG. Approximately half of the end side (left side in FIG. 2) is trapezoidal, and approximately half of one end side (left side in FIG. 2) is rectangular. By forming the flat surface on the insertion side into a trapezoidal shape in this manner, the rotation of the mounting table 4 and the LC that is the object of conveyance
The rotation of the mounting table 4 is not hindered when the D substrate is taken out of the storage cassette and is inserted into the gate valve when being transferred into the processing chamber. Further, with such a configuration, the weight of the other end portion (tip portion) of the mounting table 4 can be reduced, and the mounting table 4 is prevented from vibrating during transportation, particularly at the time of starting and stopping. Furthermore, in order to further reduce the weight of the tip portion of the mounting table 4, a punched portion such as a window may be appropriately provided on the tip portion side.

【0019】そして上側載置台11における上面、即ち
載置面側には、図2に示したように上記台形部分の周縁
四隅にPEEK材からなる吸着パッド12、13、1
4、15が設けられている。これら各吸着パッド12、
13、14、15は同形同大であり、例えば吸着パッド
15についていえば、図3に示したように、上側載置台
11の載置面側に穿たれた孔に吸着パッド15を嵌入さ
せて接着することによって上記載置台11に固定され、
当該吸着パッド15の頂部は載置台11の表面から例え
ば約0.5mm程度突出するように設定されている。
On the upper surface of the upper mounting table 11, that is, on the mounting surface side, as shown in FIG. 2, suction pads 12, 13, 1 made of PEEK material are provided at four corners of the trapezoidal portion.
4, 15 are provided. Each of these suction pads 12,
13, 14 and 15 have the same shape and the same size. For example, as for the suction pad 15, as shown in FIG. 3, the suction pad 15 is fitted into the hole formed on the mounting surface side of the upper mounting table 11. It is fixed to the above-mentioned mounting base 11 by bonding with
The top of the suction pad 15 is set to project from the surface of the mounting table 11 by, for example, about 0.5 mm.

【0020】この吸着パッド15は中心部に吸引孔15
aを有しており、この吸引孔15aはこの吸着パッド1
5が嵌入されている孔の底部に設けられた吸引口15b
と通じており、さらに当該吸引口15bは上記載置台1
1の内部に配設されている吸引流路16と通じている。
この吸引流路16は上記他の吸着パッド12、13、1
4の吸引孔と連通しており、この搬送アーム1とは別設
の真空ポンプ等の吸引手段(図示せず)によって、各吸
着パッド12、13、14、15において均等に吸引さ
れるように構成されている。
The suction pad 15 has a suction hole 15 at its center.
a, and this suction hole 15a has a suction pad 1
5b has a suction port 15b provided at the bottom of the hole
And the suction port 15b is connected to the mounting table 1 described above.
1 communicates with the suction flow path 16 disposed inside.
This suction channel 16 is provided with the other suction pads 12, 13, 1 described above.
4 so that the suction pads 12, 13, 14, 15 are evenly sucked by suction means (not shown) such as a vacuum pump provided separately from the transfer arm 1. It is configured.

【0021】さらに図2、図3に示したように、ちょう
ど上記吸着パッド12と13とを結ぶ線上における吸着
パッド14と15との間の中間地点には、PEEK材か
らなる支持体17、18が設けられている。これら支持
体17、18は、上記各吸着パッド12、13、14、
15よりも小さい外径、例えば直径5mmの大きさを有
し、図3に示したように、上側載置台11の載置面側に
穿たれた孔に挿入されて、接着剤によって固定されてい
る。そしてこれら各支持体17、18も上記各吸着パッ
ド12、13、14、15と同様、上側載置台11の表
面から例えば約0.5mm程度突出するように設定されて
いる。
Further, as shown in FIGS. 2 and 3, at the intermediate point between the suction pads 14 and 15 just on the line connecting the suction pads 12 and 13, the supports 17, 18 made of PEEK material are provided. Is provided. These supports 17, 18 are the suction pads 12, 13, 14,
It has an outer diameter smaller than 15, for example, a diameter of 5 mm, and as shown in FIG. 3, it is inserted into a hole formed on the mounting surface side of the upper mounting table 11 and fixed by an adhesive. There is. Each of the supports 17 and 18 is also set to project from the surface of the upper mounting table 11 by, for example, about 0.5 mm, like the suction pads 12, 13, 14, and 15.

【0022】以上のように構成された上側載置台11の
載置面側に、搬送対象であるLCDガラス基板32が載
置される際は、図2に示したように、例えば当該LCD
ガラス基板32が450mm×500mmの大きさの場合、
当該LCDガラス基板32の裏面における周縁部から内
側に10mm〜20mmの間に、上記各吸着パッド12、1
3、14、15が接して載置されるように設定されてい
る。そのようにLCDガラス基板32の周縁部にて吸着
させることにより、搬送に伴う当該LCDガラス基板3
2に対する影響を極力抑えることが可能であり、例えば
前処理段階で搬送するにあたっても、後の処理を支障な
く実施することが可能である。
When the LCD glass substrate 32 to be conveyed is placed on the placing surface side of the upper placing table 11 constructed as described above, as shown in FIG.
When the glass substrate 32 has a size of 450 mm × 500 mm,
The suction pads 12 and 1 are provided between the periphery of the back surface of the LCD glass substrate 32 and 10 mm to 20 mm inward.
It is set so that 3, 14, 15 are placed in contact with each other. By adsorbing the liquid crystal on the peripheral edge of the LCD glass substrate 32 in this manner, the LCD glass substrate 3 is conveyed during transportation.
It is possible to suppress the influence on 2 as much as possible, and it is possible to carry out the subsequent processing without any trouble, for example, even when carrying it in the preprocessing stage.

【0023】一方上記載置台11の下方にスペーサ31
の高さ分間隔をおいて位置する下側載置台21も上記上
側載置台11と全く同一構成を有しており、上記上側載
置台11における上記各吸着パッド12、13、14、
15と同じ位置にPEEK材からなる吸着パッド22、
22、22、22が、また一方上記上側載置台11にお
ける上記支持体17、18と同一位置にPEEK材から
なる支持体23、23が設けられており、さらに図3に
示したように、吸着パッド22の吸引孔22aも、下側
載置台21内部に配設されている吸引流路26と吸引口
22bを介して連通している。なお以上のような上側載
置台11と下側載置台21との間隔は、LCDガラス基
板を収納する後述のカセットの上下ピッチと同一に設定
されている。
On the other hand, a spacer 31 is provided below the table 11 described above.
The lower mounting table 21 positioned at an interval corresponding to the height of the upper mounting table 11 has the same structure as the upper mounting table 11, and the suction pads 12, 13, 14, on the upper mounting table 11,
Adsorption pad 22 made of PEEK material at the same position as 15.
22, 22, 22 and, on the other hand, support members 23, 23 made of PEEK material are provided at the same positions as the support members 17, 18 on the upper mounting table 11, and as shown in FIG. The suction hole 22a of the pad 22 also communicates with the suction flow passage 26 provided inside the lower mounting table 21 via the suction port 22b. The interval between the upper placing table 11 and the lower placing table 21 as described above is set to be the same as the vertical pitch of a cassette (to be described later) that houses the LCD glass substrate.

【0024】上記構成からなる下側載置台21に載置さ
れる、例えば450mm×500mmの大きさのLCDガラ
ス基板33も上記LCDガラス基板32の場合と同様、
当該LCDガラス基板33の裏面における周縁部から内
側に10mm〜20mmの間に、上記各吸着パッド22、2
2、22、22が接するように設定されている。そして
以上の構成にかかる搬送アーム1は、既述の如くプラズ
マ処理装置41における大気搬送系に使用される。
Similarly to the LCD glass substrate 32, the LCD glass substrate 33 having a size of, for example, 450 mm × 500 mm, which is mounted on the lower mounting table 21 having the above structure, is also used.
The suction pads 22 and 2 are provided between the periphery of the back surface of the LCD glass substrate 33 and 10 mm to 20 mm inward.
It is set so that 2, 22, and 22 are in contact with each other. The transfer arm 1 having the above configuration is used for the atmospheric transfer system in the plasma processing apparatus 41 as described above.

【0025】即ちこのプラズマ処理装置41は3つのプ
ロセスチャンバ41a、41b、41cが、夫々ゲート
バルブ42を介して搬送チャンバ43の3つの側面に隣
接して設けてあり、当該搬送チャンバ43の残りの側面
にはゲートバルブ44を介してロードロック室45が隣
接して位置し、このロードロック室45における大気側
のゲートバルブ46の搬送入口に、上記実施例にかかる
搬送アーム1を支持した既述の支持台5が配置されてい
る。
That is, in the plasma processing apparatus 41, three process chambers 41a, 41b, 41c are provided adjacent to three side surfaces of the transfer chamber 43 via gate valves 42, respectively, and the remaining process chambers 41a, 41b, 41c are provided. The load lock chamber 45 is located adjacent to the side surface via the gate valve 44, and the transfer arm 1 according to the above-described embodiment is supported at the transfer inlet of the gate valve 46 on the atmosphere side in the load lock chamber 45. The support base 5 is arranged.

【0026】そしてこの支持台5の両側には、処理対象
であるLCDガラス基板が多数(例えば20枚)収納さ
れたカセット34、35が位置し、これら各カセット3
4、35は適宜のエレベーション機構(図示せず)によ
って上下動自在となるように構成されている。
On both sides of the support table 5, cassettes 34 and 35 containing a large number (for example, 20) of LCD glass substrates to be processed are located.
Reference numerals 4 and 35 are configured to be vertically movable by an appropriate elevation mechanism (not shown).

【0027】本実施例にかかる搬送アーム1を採用した
プラズマ処理装置41は以上のように構成されており、
その動作について説明すると、まず未処理のLCDガラ
ス基板Pを収納したカセット34がその出入口(オープ
ン側)を上記支持台5に向けて所定位置にセットされる
と、上記エレベーション機構によって当該カセット34
が上昇し、その最下部、並びに最下部から2番目に収納
されているLCD用ガラス基板33、32が夫々搬送ア
ーム1の下側載置台21と上側載置台11の位置に略対
応する位置(下側載置台21と上側載置台11よりも夫
々若干高い位置)まで上昇する。
The plasma processing apparatus 41 employing the transfer arm 1 according to this embodiment is constructed as described above.
The operation will be described. First, when the cassette 34 accommodating an unprocessed LCD glass substrate P is set at a predetermined position with its entrance (open side) facing the support table 5, the cassette 34 is moved by the elevation mechanism.
Of the LCD glass substrates 33 and 32 housed in the lowermost position and second from the lowermost position substantially correspond to the positions of the lower mounting table 21 and the upper mounting table 11 of the transfer arm 1 ( (The positions are slightly higher than the lower mounting table 21 and the upper mounting table 11, respectively).

【0028】次にスライド機構による伸張により載置台
4はカセット34側へと伸張し、上側載置台11は上部
のLCD用ガラス基板32の下方に、下側載置台21は
最下部のLCD用ガラス基板33の下方に挿入され、基
台6の上昇によって上側載置台11の吸着パッド12等
が上記LCD用ガラス基板32の裏面に、下側載置台2
1の吸着パッド22が上記LCD用ガラス基板33の裏
面に密着し(図3に示される状態)、直ちに別設の吸引
機構(図示せず)によって真空吸引されて、これら各L
CD用ガラス基板32、33は夫々上側載置台11、下
側載置台21に夫々これら吸着パッド12、22等を介
して吸着保持される。
Next, the mounting table 4 is expanded to the cassette 34 side by the expansion by the slide mechanism, the upper mounting table 11 is below the upper LCD glass substrate 32, and the lower mounting table 21 is the lowermost LCD glass. The lower mounting table 2 is inserted below the substrate 33, and the suction pad 12 and the like of the upper mounting table 11 are mounted on the back surface of the LCD glass substrate 32 by the raising of the base 6.
The suction pad 22 of No. 1 is in close contact with the back surface of the glass substrate 33 for LCD (the state shown in FIG. 3), and is immediately vacuum-sucked by a suction mechanism (not shown) provided separately, and each of these L
The glass substrates 32 and 33 for CD are suction-held on the upper mounting table 11 and the lower mounting table 21 via the suction pads 12 and 22, respectively.

【0029】この状態で搬送アーム1はスライド機構に
よって収縮し、さらに基台6の回転によって今度は載置
台4がゲートバルブ46の搬送入口に対向し、搬送アー
ム1の伸張によって上記LCD用ガラス基板32、33
を吸着保持されている載置台4はロードロック室45内
に挿入され、当該ロードロック室45内に設置されてい
る位置決め機構を有する載置台(図示せず)に載置され
る。本実施例ではカセット34、35が支持台5の両サ
イドに位置しているため、上記基台6による載置台4の
回転角度は、90゜となるように制御されているが、カ
セットの位置が例えば上記支持第5の斜め後方に位置さ
せた場合には、それに対応して基台6の回転角度を適宜
大きくするように制御すればよい。このような制御によ
り、LCD用ガラス基板を収納するカセットの設置位置
の選択度が高まり、レイアウト等の自由度を高めること
が可能である。
In this state, the transfer arm 1 is contracted by the slide mechanism, and further the rotation of the base 6 causes the mounting table 4 to face the transfer inlet of the gate valve 46, and the expansion of the transfer arm 1 causes the glass substrate for the LCD described above. 32, 33
The mounting table 4 which is suction-held is inserted into the load lock chamber 45, and is mounted on a mounting table (not shown) having a positioning mechanism installed in the load lock chamber 45. In this embodiment, since the cassettes 34 and 35 are located on both sides of the support base 5, the rotation angle of the mounting table 4 by the base 6 is controlled to be 90 °. However, for example, when it is positioned diagonally rearward of the support fifth, the rotation angle of the base 6 may be controlled to be appropriately increased accordingly. With such control, it is possible to increase the degree of selectivity of the installation position of the cassette that houses the glass substrate for LCD, and increase the degree of freedom in layout and the like.

【0030】その後搬送アーム1が再び収縮してゲート
バルブ46が閉じられると、上記ロードロック室45内
は真空引きされ、その後搬送チャンバ43内にある別設
の真空雰囲気用搬送アームによって、これら各LCD用
ガラス基板32、33は夫々プロセスチャンバ41a、
41b、41cに予め設定されたプログラムに従って振
り分けられ、そこでエッチングやアッシング等のプラズ
マ処理がなされる。
After that, when the transfer arm 1 contracts again and the gate valve 46 is closed, the inside of the load lock chamber 45 is evacuated, and then the transfer arm 43 provided in the transfer chamber 43 separately provides each of these. The glass substrates 32 and 33 for LCD are respectively the process chamber 41a,
41b and 41c are distributed according to a preset program, and plasma processing such as etching and ashing is performed there.

【0031】このように上記プラズマ処理装置41は3
つのプロセスチャンバ41a、41b、41cを有し、
例えばそのうち2つのプロセスチャンバをエッチング処
理室として、残りの1つのプロセスチャンバをアッシン
グ処理室として構成することができ、極めて高いスルー
プットが可能となるように設計されているが、上記実施
例にかかる搬送アーム1によれば、1度に2枚のLCD
用ガラス基板を搬送することが可能であるから、そのよ
うな高スループットに十分対応して基板の搬送を実施す
ることができる。例えば上記の如く、1度に2枚のLC
D用ガラス基板をロードロック室45内に搬入して、そ
こで待機させることが可能である。また当然のことなが
ら処理済みのLCD用ガラス基板も1度に2枚ずつ搬送
することもまた可能である。
As described above, the plasma processing apparatus 41 has three
Having one process chamber 41a, 41b, 41c,
For example, two process chambers can be configured as an etching process chamber and the remaining one process chamber can be configured as an ashing process chamber, which is designed to achieve extremely high throughput. According to arm 1, two LCDs at a time
Since it is possible to transport the glass substrate for use, the substrate can be transported sufficiently corresponding to such high throughput. For example, as mentioned above, two LCs at a time
It is possible to carry the D glass substrate into the load lock chamber 45 and to wait there. Further, as a matter of course, it is also possible to convey the processed glass substrates for LCD two at a time.

【0032】而して搬送中は、LCD用ガラス基板に直
接接触するのが、極めて安定した材質で、対薬品、対摩
耗性、機械特性に優れているPEEK材からなる吸着パ
ッド12、13、14、15並びに22であるから、従
来のシリコンゴムやバイトンゴムからなるOリングと較
べて、パーティクル発生の可能性は格段に低下し、搬送
対象に対する汚染を防止することが可能である。
During transportation, the suction pads 12, 13 made of PEEK material, which is a very stable material, is in direct contact with the LCD glass substrate, and is excellent in chemical resistance, abrasion resistance, and mechanical properties. Since these are Nos. 14, 15 and 22, the possibility of particle generation is significantly reduced compared to the conventional O-ring made of silicone rubber or Viton rubber, and it is possible to prevent contamination of the object to be conveyed.

【0033】さらにまた上記吸着パッド12、13、1
4、15並びに22以外に、同じくPEEK材からなる
支持体17、18、23が載置台4の載置面側に設けて
あるから、搬送対象であるLCD用ガラス基板が叙上の
ように、450mm×500mmと大きなものであって自重
により中央部が撓もうとしても、当該LCD用ガラス基
板は上記支持体17、18、23によっても支持されて
いるので、その裏面が載置台4の表面に接することはな
く、また各吸着パッド12、13、14、15、22と
上記LCD用ガラス基板との間に空隙が生ずることはな
い。従って、真空吸引による吸着保持を安定して維持す
ることが可能であり、搬送対象が大型化してもこれを高
速にかつ安定して搬送することができ、高スループット
化に対応できる。
Furthermore, the suction pads 12, 13, 1 are also provided.
In addition to 4, 15, and 22, supports 17, 18, and 23, which are also made of PEEK material, are provided on the mounting surface side of the mounting table 4, so that the glass substrate for LCD, which is the transfer target, is placed above, Even if the central portion of the LCD glass substrate is as large as 450 mm × 500 mm and is about to bend due to its own weight, the LCD glass substrate is also supported by the supports 17, 18, and 23, so that its back surface is on the front surface of the mounting table 4. They do not come into contact with each other, and no air gap is generated between the suction pads 12, 13, 14, 15, 22 and the glass substrate for LCD. Therefore, it is possible to stably maintain suction-holding by vacuum suction, and even if the object to be conveyed becomes large, it can be stably conveyed at high speed, and high throughput can be dealt with.

【0034】またさらに載置台4は接地されているか
ら、載置台4自体が帯電して浮遊パーティクルを吸引す
ることはない。それゆえこの点からも、搬送対象の汚染
防止が図られている。
Further, since the mounting table 4 is grounded, the mounting table 4 itself is not charged and attracts floating particles. Therefore, also from this point, the contamination of the object to be transported is prevented.

【0035】上記実施例はLCD用ガラス基板の搬送用
アームとして構成されていたが、これに限らず本発明に
よれば、大気雰囲気中にて他の板状体を搬送する目的で
使用されるの搬送アームにも対しても適用できる。
Although the above embodiment is constructed as a transfer arm for the glass substrate for LCD, the present invention is not limited to this, and according to the present invention, it is used for the purpose of transferring another plate-like body in the atmosphere. It can also be applied to the transfer arm of.

【0036】[0036]

【発明の効果】請求項1によれば、搬送対象に直接接触
するのが、極めて安定した材質で、対薬品、対摩耗性、
機械特性に優れているPEEK材であるから、従来のシ
リコンやバイトンからなるOリングと較べて、パーティ
クル発生の可能性は格段に低下し、搬送対象に対する汚
染を防止できる。
According to the first aspect of the present invention, the material which comes into direct contact with the object to be conveyed is an extremely stable material, and is resistant to chemicals and abrasion.
Since it is a PEEK material having excellent mechanical properties, the possibility of particle generation is significantly reduced compared to the conventional O-ring made of silicon or Viton, and the contamination of the object to be transported can be prevented.

【0037】請求項2によれば、PEEK材からなる支
持体を載置手段の載置面側に設け、この支持体の高さを
吸着パッド材と略同一に設定してあるから、大型の搬送
対象が自重によって撓むのを防止でき、例えば真空吸引
によって搬送対象を吸着する場合、支持箇所に空隙が発
生するおそれはなく、安定、かつ確実に真空吸引による
搬送対象の吸着保持が可能である。
According to the second aspect, the support made of the PEEK material is provided on the mounting surface side of the mounting means, and the height of the support is set to be substantially the same as the suction pad material. It is possible to prevent the transfer target from bending due to its own weight, and for example, when suctioning the transfer target by vacuum suction, there is no possibility of creating a gap in the support location, and it is possible to hold the transfer target by suction by vacuum suction reliably. is there.

【0038】請求項3によれば、上記各効果に加えてさ
らに一度に複数の搬送対象を搬送することが可能であ
り、高スループット化に対応した搬送系を実現すること
が可能である。
According to the third aspect, in addition to the above-mentioned effects, it is possible to further convey a plurality of conveyance targets at one time, and it is possible to realize a conveyance system compatible with high throughput.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例にかかる搬送アームの斜視図で
ある。
FIG. 1 is a perspective view of a transfer arm according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施例にかかる搬送アームにおける載
置台の平面図である。
FIG. 2 is a plan view of a mounting table in the transfer arm according to the embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例にかかる搬送アームにおける載
置台の側面の要部拡大断面図である。
FIG. 3 is an enlarged sectional view of an essential part of a side surface of a mounting table in the transfer arm according to the embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施例にかかる搬送アームが使用され
ているプラズマエッチング/アッシング装置の斜視図で
ある。
FIG. 4 is a perspective view of a plasma etching / ashing apparatus using a transfer arm according to an exemplary embodiment of the present invention.

【図5】従来技術にかかる搬送アームの斜視図である。FIG. 5 is a perspective view of a transfer arm according to a conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 搬送アーム 4 載置台 5 支持台 6 基台 11 上側載置台 12、13、14、15、22 吸着パッド 15a 吸引孔 17、18 支持体 21 下側載置台 23 支持体 31 スペーサ 32、33 LCD用ガラス基板 35 カセット 41 プラズマエッチング/アッシング装置 45 ロードロック室 46 ゲートバルブ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transport arm 4 Mounting table 5 Support table 6 Base 11 Upper mounting table 12, 13, 14, 15, 22 Suction pad 15a Suction hole 17, 18 Support 21 Lower mounting table 23 Support 31 Spacer 32, 33 For LCD Glass substrate 35 Cassette 41 Plasma etching / ashing device 45 Load lock chamber 46 Gate valve

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 載置手段を有し、この載置手段に板状体
を載置してこれを搬送する搬送アームにおいて、前記載
置手段の載置面側にPEEK材からなる吸着パッドを設
け、当該吸着パッドを介して上記板状体を吸着する如く
構成したことを特徴とする、搬送アーム。
1. A transfer arm having a mounting means for mounting and transporting a plate-shaped body on the mounting means, wherein a suction pad made of a PEEK material is provided on the mounting surface side of the mounting means. A transfer arm, wherein the transfer arm is provided so as to adsorb the plate-shaped body through the adsorption pad.
【請求項2】 PEEK材からなる支持体を載置手段の
載置面側に設け、さらにこの支持体の高さを吸着パッド
材と略同一に設定したことを特徴とする、搬送アーム。
2. A transfer arm, characterized in that a support made of PEEK material is provided on the mounting surface side of the mounting means, and the height of the support is set to be substantially the same as that of the suction pad material.
【請求項3】 載置手段は適宜間隔の下で上下複数段に
構成されていることを特徴とする、請求項1又は2に記
載の搬送アーム。
3. The transfer arm according to claim 1, wherein the mounting means is configured in a plurality of upper and lower stages at appropriate intervals.
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000053246A (en) * 1998-08-11 2000-02-22 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd Supporting structure of glass substrate and hand for carrying glass substrate
JPWO2004113205A1 (en) * 2003-06-19 2006-08-24 ローツェ株式会社 Thin plate support, end effector and thin plate storage cassette
KR100765144B1 (en) * 2001-09-22 2007-10-15 삼성전자주식회사 Rubbing equipment for forming align grooves
WO2010017340A2 (en) * 2008-08-08 2010-02-11 Applied Materials, Inc. Magnetic pad for end-effectors
KR20110108393A (en) * 2009-01-11 2011-10-05 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 Electrostatic end effector apparatus, systems and methods for transporting substrates
US8189867B2 (en) 2008-09-29 2012-05-29 Daifuku Co., Ltd. Learning method for article storage facility
WO2016117095A1 (en) * 2015-01-22 2016-07-28 株式会社島津製作所 Substrate transfer system
CN110450185A (en) * 2019-08-01 2019-11-15 广东华工佳源环保科技有限公司 A kind of moulded paper pulp product dry and wet base transfer robot
KR20210030726A (en) * 2019-09-10 2021-03-18 세메스 주식회사 Transfer robot and Apparatus for treating substrate with the robot
WO2022209888A1 (en) * 2021-03-30 2022-10-06 東京エレクトロン株式会社 Processing device and substrate transport method

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000053246A (en) * 1998-08-11 2000-02-22 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd Supporting structure of glass substrate and hand for carrying glass substrate
KR100765144B1 (en) * 2001-09-22 2007-10-15 삼성전자주식회사 Rubbing equipment for forming align grooves
JPWO2004113205A1 (en) * 2003-06-19 2006-08-24 ローツェ株式会社 Thin plate support, end effector and thin plate storage cassette
WO2010017340A2 (en) * 2008-08-08 2010-02-11 Applied Materials, Inc. Magnetic pad for end-effectors
WO2010017340A3 (en) * 2008-08-08 2010-05-14 Applied Materials, Inc. Magnetic pad for end-effectors
US8276959B2 (en) 2008-08-08 2012-10-02 Applied Materials, Inc. Magnetic pad for end-effectors
US8189867B2 (en) 2008-09-29 2012-05-29 Daifuku Co., Ltd. Learning method for article storage facility
JP2012514872A (en) * 2009-01-11 2012-06-28 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド Electrostatic end effector apparatus, system, and method for transporting a substrate
KR20110108393A (en) * 2009-01-11 2011-10-05 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 Electrostatic end effector apparatus, systems and methods for transporting substrates
WO2016117095A1 (en) * 2015-01-22 2016-07-28 株式会社島津製作所 Substrate transfer system
JPWO2016117095A1 (en) * 2015-01-22 2017-06-15 株式会社島津製作所 Substrate transfer system
CN110450185A (en) * 2019-08-01 2019-11-15 广东华工佳源环保科技有限公司 A kind of moulded paper pulp product dry and wet base transfer robot
CN110450185B (en) * 2019-08-01 2023-12-05 广东华工环源环保科技有限公司 Pulp molding product dry and wet blank transfer robot
KR20210030726A (en) * 2019-09-10 2021-03-18 세메스 주식회사 Transfer robot and Apparatus for treating substrate with the robot
WO2022209888A1 (en) * 2021-03-30 2022-10-06 東京エレクトロン株式会社 Processing device and substrate transport method

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