JPH06232018A - Monitoring system for manufacturing line, and manufacturing line - Google Patents

Monitoring system for manufacturing line, and manufacturing line

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Publication number
JPH06232018A
JPH06232018A JP1623993A JP1623993A JPH06232018A JP H06232018 A JPH06232018 A JP H06232018A JP 1623993 A JP1623993 A JP 1623993A JP 1623993 A JP1623993 A JP 1623993A JP H06232018 A JPH06232018 A JP H06232018A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
inspection
final
data
database
intermediate inspection
Prior art date
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Pending
Application number
JP1623993A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsutomu Sakamoto
勉 坂本
Jun Nakazato
純 中里
Sadao Shimosha
貞夫 下社
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP1623993A priority Critical patent/JPH06232018A/en
Publication of JPH06232018A publication Critical patent/JPH06232018A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To predict the final yield of a product as the ratio of nondefective product works to all product works by substituting intermediate inspection results actually obtained from each intermediate inspecting device into a functional expression indicating the latest correlation between the intermediate inspection data and final inspection data. CONSTITUTION:A data analyzing station 1 prepares a correlation diagram for predicting yield by plotting the number of foreign matters in an inspection process B on the axis of abscissa and displays the diagram on a display 4. At the same time, a functional expression and coefficient of correlation between the number of foreign matters and yield are calculated and displayed on the display 4. After displaying the functional expression, etc., a foreign matter inspecting device 2 actually inspects a semiconductor wafer selected as an object for prediction for foreign matters as an intermediate inspection. When the actually obtained foreign matter inspected results are plotted on the axis of abscissa of the graph of the functional expression, the yield of the semiconductor wafer can be easily predicted from the graph.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、製造ライン上の製品ワ
ーク各々に対し中間検査を行うことによって、製造途中
状態にある製品ワークに対しての最終歩留、グレード等
が予測可とされた製造ライン監視システム、更には、そ
のような製造ライン監視システムが一体的に付加されて
なる製造ラインに関するものである。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention makes it possible to predict the final yield, grade, etc. for a product work in the process of production by performing an intermediate inspection for each product work on the production line. The present invention relates to a manufacturing line monitoring system, and further to a manufacturing line to which such a manufacturing line monitoring system is integrally added.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体製品一般はその加工寸法精
度が1μm(0.001mm)程度以下と非常に微細な
傾向にあり、しかも製造工程は数百工程と多く完成まで
に数ケ月間の時間が要されているが、半導体製品には製
造途中の全ての製造工程各々で各種不良が発生する虞が
あるものとなっている。例えば半導体ウエハ中には異物
が混入したり、あるいは何等かの欠陥や薄膜形成不良等
(以下、異物混入や欠陥、薄膜形成不良等を中間検査不
良と称す)が発生する虞があるというわけである。この
中間検査不良は後にチップ不良の原因となるが、中間検
査不良一般はその寸法が微細であることから、目視によ
ってはその良否を容易に判定し得ず、最終的にその良否
は最終検査によって初めて判明されるものとなってい
る。換言すれば、作業者や製造スタッフは半導体ウエハ
が一旦製造ラインに投入されたならば、その製造が完了
するまでの数カ月間、その半導体ウエハについての歩
留、即ち、良品チップ取得数が如何程になるかが杳とし
て知れないというものである。
2. Description of the Related Art In recent years, semiconductor products generally have a very fine processing dimension accuracy of about 1 μm (0.001 mm) or less, and the manufacturing process is hundreds of processes, and many manufacturing processes take several months to complete. However, there is a possibility that various defects may occur in the semiconductor product in each of all manufacturing steps in the process of manufacturing. For example, there is a possibility that foreign matter may be mixed into the semiconductor wafer, or some kind of defect or defective thin film formation (hereinafter, foreign matter mixed in, defective, defective thin film formation, etc. is referred to as an intermediate inspection defect). is there. This intermediate inspection failure later causes a chip failure.However, since the size of the intermediate inspection failure generally is fine, the quality cannot be easily judged by visual inspection, and the quality is finally determined by the final inspection. It is the first to be known. In other words, once a semiconductor wafer has been put into the production line, the workers and the manufacturing staff need to know the yield, that is, the number of non-defective chips acquired for the semiconductor wafer, for several months until the manufacturing is completed. It is something that is not known as Heki.

【0003】以上の事情を考慮の上、製造途中状態にあ
る半導体ウエハを管理すべく、半導体ウエハに対して
は、特定の中間製造工程各々で中間検査を実施すること
も現に行われているのが実情である。具体的には、特定
の幾つかの中間製造工程各々で一部の半導体ウエハ、あ
るいは全ての半導体ウエハに対しては中間検査が行われ
つつ、一定の管理基準下に半導体ウエハ各々は製造工程
を順次介されるようにして製造されているものである。
因みに、最終製造工程としての最終検査工程では、各半
導体ウエハ上の全チップに対しては最終検査が行われて
おり、その際での良品チップ数を歩留とされているが、
歩留向上を図るべくその最終検査結果からは、不良要因
の解析や不良製造工程の抽出が行われるものとなってい
る。明らかにされた不良要因や不良製造工程に対して
は、適切な措置が講じられることで、歩留向上が図られ
ているものである。
In consideration of the above circumstances, in order to manage semiconductor wafers in the process of being manufactured, it is actually practiced to carry out an intermediate inspection on each semiconductor wafer in each specific intermediate manufacturing process. Is the reality. Specifically, some semiconductor wafers or some semiconductor wafers are subjected to an intermediate inspection in each of several specific intermediate manufacturing steps, and each of the semiconductor wafers undergoes a manufacturing step under a certain control standard. It is manufactured so as to be sequentially interposed.
By the way, in the final inspection process as the final manufacturing process, the final inspection is performed on all the chips on each semiconductor wafer, and the number of non-defective chips at that time is regarded as the yield.
In order to improve the yield, the analysis of the cause of the defect and the extraction of the defective manufacturing process are performed from the final inspection result. Appropriate measures are taken for the clarified defective factors and defective manufacturing processes, thereby improving the yield.

【0004】なお、この種の技術に関連する文献、例え
ば特開平3−44054号公報には、不良発生に係る製
造工程を特定すべく製品ワークに対する中間検査データ
および最終検査データはワークステーションで解析され
ており、特定された不良発生製造工程に対しては適切な
対策が講じられるようになっている。
Incidentally, in documents related to this type of technology, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 3-44054, intermediate inspection data and final inspection data for a product work are analyzed at a workstation in order to specify a manufacturing process relating to a defect. Therefore, appropriate measures are taken for the identified defective manufacturing process.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記公
報による場合には、検査データの解析により不良発生製
造工程は特定可とされているも、最終製造段階での歩留
を予測し得なく、したがって、歩留予測を前提として、
任意に設定される最終目標歩留に対しても何等、生産管
理上での管理基準を設定し得ないものとなっている。
However, according to the above-mentioned publication, although the defective manufacturing process can be specified by the analysis of the inspection data, the yield at the final manufacturing stage cannot be predicted, so that , Assuming yield prediction,
Even for the final target yield that is arbitrarily set, it is impossible to set a control standard in production control.

【0006】また、中間検査を実施するにしても、半導
体製造現場では一日当り数百ロットの製品について数十
製造工程各々で中間検査が行われていることから、その
中間検査結果を手作業で解析することはもはや不可能と
なっているのが実情である。そこで、ワークステーショ
ンを利用して品種、ロット毎に製造工程各々における中
間検査結果をデータベースとして管理することが考えら
れる。中間検査結果がデータベースとして管理される場
合は、日々生成される新たな中間検査結果が記憶可とさ
れるばかりか、膨大な量の検査結果を一定期間保存し得
るものである。更に、中間検査結果と最終検査結果を解
析することで、最終検査で不良となった製品についての
不良解析が支援可となっている。例えば最終検査不良と
製造工程各々での中間検査結果との突合せを行うこと
で、最終検査不良と相関の高い中間製造工程が見出さ
れ、その製造工程を重点対策対象として、検査頻度の見
直しや管理基準の見直しを行うことで、不良低減が図れ
るものである。しかしながら、これら解析は全て製品の
最終検査結果後でのものであり、現在仕掛り中の製品が
最終検査で良品製品として如何程得られるか、つまり、
歩留は如何程になるかは杳として知れないものとなって
いる。
Even if the intermediate inspection is carried out, since the intermediate inspection is performed in several tens of manufacturing processes for hundreds of lots of products per day at the semiconductor manufacturing site, the result of the intermediate inspection is manually performed. The reality is that analysis is no longer possible. Therefore, it is conceivable to use a workstation to manage the intermediate inspection results in each manufacturing process for each product type and lot as a database. When the intermediate inspection results are managed as a database, not only the new intermediate inspection results generated every day can be stored, but also a huge amount of inspection results can be stored for a certain period. Further, by analyzing the intermediate inspection result and the final inspection result, it is possible to support the failure analysis of the product which has become defective in the final inspection. For example, by matching the final inspection failure with the intermediate inspection results of each manufacturing process, an intermediate manufacturing process that has a high correlation with the final inspection failure is found, and the inspection frequency is reviewed with the manufacturing process as the priority measure. By reviewing the management standards, it is possible to reduce defects. However, these analyzes are all after the final inspection result of the product, and how much the product currently in process can be obtained as a good product at the final inspection, that is,
How much the yield will be is unknown.

【0007】本発明の第1の目的は、製品ワーク各々が
製造ラインとしての各種製造工程各々を順次介されるこ
とによって、完成状態の製品ワークを順次得るに際し
て、全製品ワークに占める良品製品ワークの割合として
の最終歩留を予測し得る製造ライン監視システムと製造
ラインを供するにある。本発明の第2の目的は、製品ワ
ーク各々が製造ラインとしての各種製造工程各々を順次
介されることによって、完成状態の製品ワークを順次得
るに際して、設定目標良品製品ワーク数が得られるべ
く、製品ワークの製造ラインへ追加投入や投入停止、製
造保留を制御し得る製造ライン監視システムと製造ライ
ンを供するにある。本発明の第3の目的は、製品ワーク
各々が製造ラインとしての各種製造工程各々を順次介さ
れることによって、完成状態の製品ワークを順次得るに
際して、製品ワークの不良カテゴリの発生率を予測し得
る製造ライン監視システムと製造ラインを供するにあ
る。本発明の第4の目的は、製品ワーク各々が製造ライ
ンとしての各種製造工程各々を順次介されることによっ
て、完成状態の製品ワークを順次得るに際して、最終歩
留を予測可として、これと設定目標最終歩留との比較結
果にもとづき、製造ライン上での製品ワークの製造を以
降、続行し得るか否かを制御し得る製造ライン監視シス
テムと製造ラインを供するにある。本発明の第5の目的
は、製品ワーク各々が製造ラインとしての各種製造工程
各々を順次介されることによって、完成状態の製品ワー
クを順次得るに際して、製品ワークの最終グレードを予
測し得る製造ライン監視システムと製造ラインを供する
にある。本発明の第6の目的は、製品ワーク各々が製造
ラインとしての各種製造工程各々を順次介されることに
よって、完成状態の製品ワークを順次得るに際して、中
間検査結果にもとづき製品ワーク各々についてグレード
分けを行い、以降、グレードに応じた生産管理を行い得
る製造ライン監視システムと製造ラインを供するにあ
る。本発明の第7の目的は、製品ワーク各々が製造ライ
ンとしての各種製造工程各々を順次介されることによっ
て、完成状態の製品ワークを順次得るに際して、半導体
ウエハ上での不良カテゴリの発生率を予測し得る製造ラ
イン監視システムと製造ラインを供するにある。
[0007] A first object of the present invention is to obtain a product work in a completed state in order by sequentially passing through each manufacturing process as a production line for each product work. There is a production line monitoring system and a production line that can predict the final yield as a percentage. A second object of the present invention is to obtain a set target number of non-defective product work pieces in order to sequentially obtain finished product work pieces by sequentially passing through each manufacturing process as a production line. This is to provide a production line monitoring system and a production line capable of controlling additional input, stoppage of production, and production suspension of the work. A third object of the present invention is to predict the occurrence rate of a defective category of product works when sequentially obtaining finished product works by sequentially passing each manufacturing process as a manufacturing line. It is to provide the production line monitoring system and the production line. A fourth object of the present invention is to set the final yield as predictable when sequentially obtaining finished product workpieces by sequentially passing through various manufacturing processes as a manufacturing line. Based on the result of comparison with the final yield, a production line monitoring system and a production line capable of controlling whether or not production of a product work on the production line can be continued thereafter are provided. A fifth object of the present invention is to monitor a manufacturing line which can predict the final grade of a product work when sequentially obtaining finished product works by sequentially passing through various manufacturing processes as a manufacturing line. It is to provide the system and the production line. A sixth object of the present invention is to grade each product work based on an intermediate inspection result when sequentially obtaining finished product works by sequentially passing through each manufacturing process as a manufacturing line. After that, the production line monitoring system and the production line capable of performing production control according to the grade are provided. A seventh object of the present invention is to predict the occurrence rate of a defective category on a semiconductor wafer when sequentially obtaining finished product works by sequentially passing through each manufacturing process as a manufacturing line. To provide a production line with a possible production line monitoring system.

【0008】[0008]

【問題を解決するための手段】上記第1の目的は、中間
製造工程各々で製品ワークに対し中間検査を行う1以上
の中間検査装置と、最終製造工程で製品ワークに対し最
終検査を行う最終検査装置と、上記中間検査装置各々か
らの中間検査データを更新可として記憶する中間検査デ
ータベースと、最終検査装置からの最終検査データを更
新可として記憶する最終検査データベースと、上記中間
検査データベース、最終検査データベース各々からの、
歩留予測に必要とされる最新検査データを更新可として
記憶する歩留予測データベースと、上記中間検査装置、
最終検査装置、中間検査データベース、最終検査データ
ベースおよび歩留予測データベース各々を収容した上、
歩留予測データベースに記憶されている最新検査データ
を歩留予測データとして、該歩留予測データより解析さ
れた、中間検査データ、最終検査データ間での最新相関
関係を示す関数式に、中間検査装置各々より現に得られ
ている中間検査結果を代入することによって、最終歩留
を予測するデータ解析ステーションと、該データ解析ス
テーションに収容された状態で、データ解析に係る各種
データを表示する表示装置と、を少なくとも含むべく構
成することで達成され、また、このようにしてなる製造
ライン監視システムを製造ラインに付加せしめることで
達成される。
[Means for Solving the Problem] The first purpose is to provide one or more intermediate inspection devices for performing an intermediate inspection on a product work in each intermediate manufacturing process, and a final inspection for performing a final inspection on a product work in a final manufacturing process. An inspection device, an intermediate inspection database that stores the intermediate inspection data from each of the intermediate inspection devices as updatable, a final inspection database that stores the final inspection data from the final inspection device as updatable, the intermediate inspection database, and the final inspection database. From each inspection database,
A yield prediction database that stores the latest inspection data required for yield prediction as updatable, and the intermediate inspection device,
After accommodating each of the final inspection device, intermediate inspection database, final inspection database and yield prediction database,
The latest inspection data stored in the yield prediction database is used as the yield prediction data, and the intermediate inspection data, which is analyzed from the yield prediction data, is added to the functional formula showing the latest correlation between the final inspection data and the intermediate inspection. A data analysis station that predicts the final yield by substituting the intermediate inspection results that are currently obtained from each device, and a display device that displays various data related to data analysis in a state accommodated in the data analysis station And at least the above, and is achieved by adding the production line monitoring system thus configured to the production line.

【0009】上記第2の目的は、中間製造工程各々で製
品ワークに対し中間検査を行う1以上の中間検査装置
と、最終製造工程で製品ワークに対し最終検査を行う最
終検査装置と、上記中間検査装置各々からの中間検査デ
ータを更新可として記憶する中間検査データベースと、
最終検査装置からの最終検査データを更新可として記憶
する最終検査データベースと、上記中間検査データベー
ス、最終検査データベース各々からの、歩留予測に必要
とされる最新検査データを更新可として記憶する歩留予
測データベースと、上記中間検査装置、最終検査装置、
中間検査データベース、最終検査データベースおよび歩
留予測データベース各々を収容した上、歩留予測データ
ベースに記憶されている最新検査データを歩留予測デー
タとして、該歩留予測データより解析された、中間検査
データ、最終検査データ間での最新相関関係を示す関数
式に、中間検査装置各々より現に得られている中間検査
結果を代入することによって、最終歩留および良品製品
ワーク取得数を予測するデータ解析ステーションと、該
データ解析ステーションに収容された状態で、データ解
析に係る各種データを表示する表示装置と、上記データ
解析ステーションからの最終歩留および良品製品ワーク
取得数と設定目標良品製品ワーク取得数にもとづき、未
完成状態の製品ワークの製造ラインへの追加投入/投入
停止制御、未完成状態の製品ワークの製造工程での製造
保留制御を行う生産管理ステーションと、を少なくとも
含むべく構成することで達成され、また、このようにし
てなる製造ライン監視システムを製造ラインに付加せし
めることで達成される。
The second purpose is to provide one or more intermediate inspection devices for performing an intermediate inspection on a product work in each intermediate manufacturing process, a final inspection device for performing a final inspection on a product work in a final manufacturing process, and the above intermediate. An intermediate inspection database that stores the intermediate inspection data from each inspection device as updatable,
A final inspection database that stores final inspection data from the final inspection device as updatable, and a yield that stores the latest inspection data required for yield prediction from each of the intermediate inspection database and final inspection database as updatable. Prediction database, above intermediate inspection device, final inspection device,
The intermediate inspection data, which contains the intermediate inspection database, the final inspection database, and the yield prediction database, and is analyzed from the yield prediction data, using the latest inspection data stored in the yield prediction database as the yield prediction data. , A data analysis station that predicts the final yield and the number of non-defective product workpieces obtained by substituting the intermediate inspection results currently obtained from each intermediate inspection device into the functional expression showing the latest correlation between the final inspection data. A display device for displaying various data relating to data analysis in a state of being housed in the data analysis station, and the final yield and the number of non-defective product work acquisitions and the set target non-defective product work acquisition number from the data analysis station. Originally, additional input / stop control of unfinished product work to the production line, unfinished This is achieved by configuring at least a production management station that controls production suspension in the production process of the product work in the ready state, and is also achieved by adding the production line monitoring system as described above to the production line. To be done.

【0010】上記第3の目的は、中間製造工程各々で製
品ワークに対し中間検査を行う1以上の中間検査装置
と、最終製造工程で製品ワークに対し最終検査を行う最
終検査装置と、上記中間検査装置各々からの中間検査デ
ータを更新可として記憶する中間検査データベースと、
最終検査装置からの最終検査データを更新可として記憶
する最終検査データベースと、上記中間検査データベー
ス、最終検査データベース各々からの、製品ワークの不
良カテゴリ発生率の予測に必要とされる最新検査データ
を更新可として記憶する不良カテゴリ発生率予測データ
ベースと、上記中間検査装置、最終検査装置、中間検査
データベース、最終検査データベースおよび不良カテゴ
リ発生率予測データベース各々を収容した上、不良カテ
ゴリ発生率予測データベースに記憶されている最新検査
データを不良カテゴリ発生率予測データとして、該不良
カテゴリ発生率予測データより解析された、中間検査不
良製品ワーク数、不良カテゴリ間での最新相関関係を示
す関数式に、中間検査装置各々より現に得られている中
間検査不良製品ワーク数を代入することによって、製品
ワークの不良カテゴリの発生率を予測するデータ解析ス
テーションと、該データ解析ステーションに収容された
状態で、データ解析に係る各種データを表示する表示装
置と、を少なくとも含むべく構成することで達成され、
また、このようにしてなる製造ライン監視システムを製
造ラインに付加せしめることで達成される。
The third object is to provide one or more intermediate inspection devices for performing an intermediate inspection on a product work in each intermediate manufacturing process, a final inspection device for performing a final inspection on a product work in a final manufacturing process, and the above intermediate. An intermediate inspection database that stores the intermediate inspection data from each inspection device as updatable,
The final inspection database that stores the final inspection data from the final inspection device as updatable, and the latest inspection data required for predicting the defective category occurrence rate of product work from each of the above intermediate inspection database and final inspection database are updated. The failure category occurrence rate prediction database stored as OK, the intermediate inspection apparatus, the final inspection apparatus, the intermediate inspection database, the final inspection database, and the failure category occurrence rate prediction database are stored in the failure category occurrence rate database. The latest inspection data is used as the defect category occurrence rate prediction data, and the intermediate inspection apparatus is added to the function formula showing the latest correlation between the number of intermediate inspection defective product works and the defect categories analyzed from the defect category occurrence rate prediction data. The intermediate inspection defective products that are actually obtained from each At least a data analysis station that predicts the occurrence rate of defective categories of product works by substituting the number of jobs, and a display device that displays various data related to data analysis in a state accommodated in the data analysis station. Achieved by configuring to include,
Further, it is achieved by adding the production line monitoring system thus configured to the production line.

【0011】上記第4の目的は、中間製造工程各々で製
品ワークに対し中間検査を行う1以上の中間検査装置
と、最終製造工程で製品ワークに対し最終検査を行う最
終検査装置と、上記中間検査装置各々からの中間検査デ
ータを更新可として記憶する中間検査データベースと、
最終検査装置からの最終検査データを更新可として記憶
する最終検査データベースと、上記中間検査データベー
ス、最終検査データベース各々からの、歩留予測に必要
とされる最新検査データを更新可として記憶する歩留予
測データベースと、上記中間検査装置、最終検査装置、
中間検査データベース、最終検査データベースおよび歩
留予測データベース各々を収容した上、歩留予測データ
ベースに記憶されている最新検査データを歩留予測デー
タとして、該歩留予測データより解析された、中間検査
データ、最終検査データ間での最新相関関係を示す関数
式に、中間検査装置各々より現に得られている中間検査
結果を代入することによって、最終歩留を予測するデー
タ解析ステーションと、該データ解析ステーションに収
容された状態で、データ解析に係る各種データを表示す
る表示装置と、上記データ解析ステーションからの最終
歩留の設定目標最終歩留との比較結果にもとづき、未完
成状態の製品ワークの製造ライン上での製造を以降、続
行するか否かの制御を行う生産管理ステーションと、を
少なくとも含むべく構成することで達成され、また、こ
のようにしてなる製造ライン監視システムを製造ライン
に付加せしめることで達成される。
The fourth object is to provide at least one intermediate inspection device for performing an intermediate inspection on a product work in each intermediate manufacturing process, a final inspection device for performing a final inspection on a product work in the final manufacturing process, and the above intermediate. An intermediate inspection database that stores the intermediate inspection data from each inspection device as updatable,
A final inspection database that stores final inspection data from the final inspection device as updatable, and a yield that stores the latest inspection data required for yield prediction from each of the intermediate inspection database and final inspection database as updatable. Prediction database, above intermediate inspection device, final inspection device,
The intermediate inspection data, which contains the intermediate inspection database, the final inspection database, and the yield prediction database, and is analyzed from the yield prediction data, using the latest inspection data stored in the yield prediction database as the yield prediction data. , A data analysis station that predicts the final yield by substituting the intermediate inspection results currently obtained from each of the intermediate inspection devices into a functional expression indicating the latest correlation between the final inspection data, and the data analysis station. Manufacturing of unfinished product workpieces based on the result of comparison between the display device that displays various data related to data analysis and the final yield setting target final yield from the above data analysis station At least a production control station for controlling whether or not to continue manufacturing on the line. It is accomplished by configuring also achieved by allowed to adding a manufacturing line monitoring system comprising in this way the production line.

【0012】上記第5の目的は、中間製造工程各々で製
品ワークに対し中間検査を行う1以上の中間検査装置
と、最終製造工程で製品ワークに対し最終検査を行う最
終検査装置と、上記中間検査装置各々からの中間検査デ
ータを更新可として記憶する中間検査データベースと、
最終検査装置からの最終検査データを更新可として記憶
する最終検査データベースと、上記中間検査データベー
ス、最終検査データベース各々からの、グレード予測に
必要とされる最新検査データを更新可として記憶するグ
レード予測データベースと、上記中間検査装置、最終検
査装置、中間検査データベース、最終検査データベース
およびグレード予測データベース各々を収容した上、グ
レード予測データベースに記憶されている最新検査デー
タをグレード予測データとして、該グレード予測データ
より解析された、中間検査データ、最終検査データ間で
の最新相関関係を示す関数式に、中間検査装置各々より
現に得られている中間検査結果を代入することによっ
て、最終グレードを予測するデータ解析ステーション
と、該データ解析ステーションに収容された状態で、デ
ータ解析に係る各種データを表示する表示装置と、を少
なくとも含むべく構成することで達成され、また、この
ようにしてなる製造ライン監視システムを製造ラインに
付加せしめることで達成される。
The fifth object is to provide at least one intermediate inspection device for performing an intermediate inspection of a product work in each intermediate manufacturing process, a final inspection device for performing a final inspection of a product work in a final manufacturing process, and the intermediate product. An intermediate inspection database that stores the intermediate inspection data from each inspection device as updatable,
A final inspection database that stores the final inspection data from the final inspection device as updatable, and a grade prediction database that stores the latest inspection data required for grade prediction from each of the above intermediate inspection database and final inspection database as updatable And accommodating each of the above-mentioned intermediate inspection device, final inspection device, intermediate inspection database, final inspection database and grade prediction database, the latest inspection data stored in the grade prediction database is used as grade prediction data, A data analysis station that predicts the final grade by substituting the intermediate inspection results currently obtained from each intermediate inspection device into the functional formula showing the latest correlation between the analyzed intermediate inspection data and final inspection data. And the data analysis It is achieved by including at least a display device that displays various data related to data analysis in a state of being accommodated in the application, and adding the production line monitoring system thus configured to the production line. Is achieved in.

【0013】上記第6の目的は、中間製造工程で製品ワ
ークに対し中間検査を行う中間検査装置と、該中間検査
装置から現に得られている中間検査データを解析するこ
とによって、中間検査に係る製品ワークについての良否
程度をグレードとして判定するデータ解析ステーション
と、該データ解析ステーションからの製品ワーク対応の
グレードに応じて、以降、製品ワーク各々について生産
管理を行う生産管理ステーションと、を少なくとも含む
べく構成することで達成され、また、このようにしてな
る製造ライン監視システムを製造ラインに付加せしめる
ことで達成される。
The sixth object relates to the intermediate inspection by analyzing the intermediate inspection device for performing the intermediate inspection on the product work in the intermediate manufacturing process and the intermediate inspection data actually obtained from the intermediate inspection device. It should include at least a data analysis station that determines the quality level of a product work as a grade, and a production management station that performs production management for each product work thereafter according to the grade corresponding to the product work from the data analysis station. This is achieved by constructing the system, and also by adding the production line monitoring system thus configured to the production line.

【0014】上記第7の目的は、中間製造工程各々で半
導体ウエハ上のチップ各々に対し中間検査を行う1以上
の中間検査装置と、最終製造工程で半導体ウエハ上のチ
ップ各々に対し最終検査を行う最終検査装置と、上記中
間検査装置からの中間検査データをチップ識別データと
ともに更新可として記憶する中間検査データベースと、
最終検査装置からの最終検査データをチップ識別データ
とともに更新可として記憶する最終検査データベース
と、上記中間検査データベース、最終検査データベース
各々からの、半導体ウエハ上での不良カテゴリ発生率の
予測に必要とされる最新検査データを更新可として記憶
する不良カテゴリ発生率予測データベースと、上記中間
検査装置、最終検査装置、中間検査データベース、最終
検査データベースおよび不良カテゴリ発生率予測データ
ベース各々を収容した上、不良カテゴリ発生率予測デー
タベースに記憶されている最新検査データを不良カテゴ
リ発生率予測データとして、該不良カテゴリ発生率予測
データより解析された、中間検査不良チップ数、不良カ
テゴリ間での最新相関関係を示す関数式に、中間検査装
置各々より現に得られている中間検査不良チップ数を代
入することによって、半導体ウエハ上での不良カテゴリ
の発生率を予測するデータ解析ステーションと、該デー
タ解析ステーションに収容された状態で、データ解析に
係る各種データを表示する表示装置と、を少なくとも含
むべく構成することで達成され、また、このようにして
なる製造ライン監視システムを製造ラインに付加せしめ
ることで達成される。
The seventh object is to provide at least one intermediate inspection device for performing an intermediate inspection for each chip on a semiconductor wafer in each intermediate manufacturing process and a final inspection for each chip on a semiconductor wafer in a final manufacturing process. A final inspection device to perform, an intermediate inspection database that stores the intermediate inspection data from the intermediate inspection device together with the chip identification data as updatable,
It is necessary for predicting the defect category occurrence rate on the semiconductor wafer from the final inspection database that stores the final inspection data from the final inspection device together with the chip identification data as updatable, and the intermediate inspection database and the final inspection database. In addition to accommodating each of the above-mentioned intermediate inspection device, final inspection device, intermediate inspection database, final inspection database, and defect category incidence prediction database, the defect category incidence database that stores the latest inspection data that can be updated The latest inspection data stored in the rate prediction database is used as the defect category occurrence rate prediction data, and the functional expression showing the latest correlation between the number of intermediate inspection defective chips and the defect category analyzed from the defect category occurrence rate prediction data. In addition, the The data analysis station that predicts the incidence of defective categories on a semiconductor wafer by substituting the number of defective chips for intermediate inspection, and various data related to data analysis displayed in the data analysis station It is achieved by including at least the display device described above, and by adding the production line monitoring system thus formed to the production line.

【0015】[0015]

【作用】中間製造工程各々で製品ワークに対し中間検査
を行う1以上の中間検査装置各々からの中間検査データ
を更新可として記憶する中間検査データベースと、最終
製造工程で製品ワークに対し最終検査を行う最終検査装
置からの最終検査データを更新可として記憶する最終検
査データベースと、上記中間検査データベース、最終検
査データベース各々からの、歩留予測に必要とされる最
新検査データを更新可として記憶する歩留予測データベ
ースとを設けた上、データ解析ステーションにおいて、
歩留予測データベースに記憶されている最新検査データ
を歩留予測データとして、該歩留予測データより解析さ
れた、中間検査データ、最終検査データ間での最新相関
関係を示す関数式に、中間検査装置各々より現に得られ
ている中間検査結果を代入するようにすれば、製品ワー
クの最終歩留を予測し得るものである。
[Function] An intermediate inspection database that stores the intermediate inspection data from each of one or more intermediate inspection devices that perform an intermediate inspection on a product work in each intermediate manufacturing process as updatable, and a final inspection for the product work in the final manufacturing process. A final inspection database that stores the final inspection data from the final inspection device that can be updated, and a step that stores the latest inspection data required for yield prediction from each of the intermediate inspection database and the final inspection database that can be updated. In addition to the foreign exchange prediction database, at the data analysis station,
The latest inspection data stored in the yield prediction database is used as the yield prediction data, and the intermediate inspection data, which is analyzed from the yield prediction data, is added to the functional formula showing the latest correlation between the final inspection data and the intermediate inspection. By substituting the intermediate inspection result actually obtained from each device, the final yield of the product work can be predicted.

【0016】[0016]

【実施例】以下、本発明を図1から図19により説明す
る。 [実施例その1]先ず歩留予測に係る製造ライン監視シ
ステムについて説明すれば、図1はその基本的なシステ
ム構成を示したものである。本例では適用対象として半
導体装置製造ラインが想定されており、これによる場
合、中心構成要素としてのデータ解析ステーション1に
は、中間検査データベース5、最終検査データベース
7、歩留予測データベース6、ディスプレイ4、中間検
査装置2および最終検査装置3が収容されるべく構成さ
れたものとなっている。このうち、中間検査装置2はク
リーンルーム8内にあって、製造ラインを構成している
複数の製造工程9のうち、特定の中間製造工程で半導体
ウエハに対し中間検査を行うべく機能しており、中間検
査の際には、検査者によって検査工程名や測定品種名、
ロット番号、検査日時等が入力された上、検査対象とし
ての半導体ウエハが収容されているカセットが中間検査
装置2にセットされた状態で、その半導体ウエハに対し
て中間検査が行われるものとなっている。また、その
際、中間検査装置2の近傍に設置のウエハ番号認識装置
12によって、その半導体ウエハのウエハ番号が認識さ
れることで、中間検査データ(中間検査結果)との対応
がとれるものとなっている。中間検査装置2にはまた、
半導体ウエハ上の中間検査不良位置の座標や中間検査不
良の大きさを検出する機能や、中間検査不良数を計測す
る機能が併せて具備されており、これら検出、計測に係
る情報を含む中間検査データは外部入力データとともに
通信回線10を介しデータ解析ステーション1に一旦転
送された上、中間検査データベース5に更新可として記
憶されているものである。中間検査データベース5内で
は、それら外部入力データおよび中間検査データは品種
毎に検査製造工程、ロット番号および検査日時が品種単
位データとして、また、そのロットに属する半導体ウエ
ハのウエハ番号、中間検査不良数および中間検査不良位
置がウエハ単位データとして、それぞれ階層化された状
態で一括管理されたものとなっている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to FIGS. [First Embodiment] First, a manufacturing line monitoring system relating to yield prediction will be described. FIG. 1 shows a basic system configuration thereof. In this example, a semiconductor device manufacturing line is assumed to be applied, and in this case, the data analysis station 1 as a central component has an intermediate inspection database 5, a final inspection database 7, a yield prediction database 6, and a display 4. The intermediate inspection device 2 and the final inspection device 3 are configured to be housed. Of these, the intermediate inspection apparatus 2 is in the clean room 8 and functions to perform an intermediate inspection on a semiconductor wafer in a specific intermediate manufacturing step among a plurality of manufacturing steps 9 constituting a manufacturing line. At the time of the intermediate inspection, the inspector decides the inspection process name, measurement product name,
After the lot number, the inspection date and time, etc. are input, and the cassette containing the semiconductor wafer to be inspected is set in the intermediate inspection apparatus 2, the intermediate inspection is performed on the semiconductor wafer. ing. At that time, the wafer number recognition device 12 installed near the intermediate inspection device 2 recognizes the wafer number of the semiconductor wafer, so that the intermediate inspection data (intermediate inspection result) can be obtained. ing. In the intermediate inspection device 2,
It has a function to detect the coordinates of the intermediate inspection defect position on the semiconductor wafer and the size of the intermediate inspection defect, and a function to measure the number of intermediate inspection defects, and the intermediate inspection including information related to these detections and measurements. The data is temporarily transferred to the data analysis station 1 via the communication line 10 together with the externally input data, and then stored in the intermediate inspection database 5 as updatable. In the intermediate inspection database 5, the externally input data and the intermediate inspection data are inspection / manufacturing processes, lot numbers and inspection dates and times as product unit data for each product type, and the wafer number of the semiconductor wafer belonging to the lot and the number of intermediate inspection defects. The intermediate inspection failure position is collectively managed as a wafer unit data in a hierarchical state.

【0017】一方、最終検査装置3も同様にクリーンル
ーム8内にあって、製造ラインを構成している複数の製
造工程9のうち、最終製造工程で製造完了状態にある半
導体ウエハ上のチップ各々に対し最終検査を行うべく機
能しており、最終検査の際には、検査者によって検査工
程名や測定品種名、ロット番号、検査日時等が入力され
た上、検査対象としての半導体ウエハが収容されている
カセットが最終検査装置3にセットされた状態で、その
半導体ウエハ上のチップ各々に対して中間検査が行われ
るものとなっている。また、その際、最終検査装置3の
近傍に設置のウエハ番号認識装置13によって、その半
導体ウエハのウエハ番号が認識されることで、最終検査
データ(最終検査結果)との対応がとれるものとなって
いる。中間検査装置2の場合と同様、最終検査装置3か
らの最終検査データは外部入力データとともに通信回線
11を介しデータ解析ステーション1に一旦転送された
上、最終検査データベース5に更新可として記憶されて
いるものである。さて、最終検査データベース7内で
は、中間検査データベース5と同様、それら外部入力デ
ータおよび最終検査データは品種、ロット番号および検
査日時がP検ロット単位データとして、また、そのロッ
トに属する半導体ウエハのウエハ番号およびウエハ内の
全チップの最終検査データがP検ウエハ単位データとし
て、それぞれ階層化された状態で一括管理されたものと
なっている。因みに、ここにいう「P検」とはプローブ
検査の意である。
On the other hand, the final inspection apparatus 3 is also in the clean room 8 and is provided for each of the chips on the semiconductor wafer in the final manufacturing process among the plurality of manufacturing processes 9 constituting the manufacturing line. For the final inspection, the inspector inputs the inspection process name, measurement type name, lot number, inspection date and time, and the semiconductor wafer to be inspected is stored. The intermediate inspection is performed on each of the chips on the semiconductor wafer with the cassette set in the final inspection device 3. At that time, the wafer number recognition device 13 installed near the final inspection device 3 recognizes the wafer number of the semiconductor wafer, so that the final inspection data (final inspection result) can be obtained. ing. As in the case of the intermediate inspection device 2, the final inspection data from the final inspection device 3 is once transferred to the data analysis station 1 via the communication line 11 together with the external input data, and then stored in the final inspection database 5 as updatable. There is something. Now, in the final inspection database 7, like the intermediate inspection database 5, the external input data and final inspection data are the product type, lot number, and inspection date and time as P inspection lot unit data, and the wafers of the semiconductor wafers belonging to the lot. The number and the final inspection data of all the chips in the wafer are collectively managed in a hierarchical state as P inspection wafer unit data. Incidentally, the "P test" here means a probe test.

【0018】ここで、上記品種単位データおよびP検ウ
エハ単位データについてより詳細に説明すれば、図2
(A),(B)はそれぞれ品種単位データ14、P検ウ
エハ単位データ15としてのデータ構成を示したもので
ある。図示のように、品種単位データ14は中間検査デ
ータベー5内で、品種A、品種B、… …といった具合
に大きく品種単位に分類された上、品種毎に検査された
ロットがロット番号データとして階層化された状態で記
憶されたものとなっている。更にロット各々は、P検ウ
エハ単位データ15に示すように、そのロットに属する
半導体ウエハ単位のデータが階層化された状態で記憶さ
れたものとなっている。したがって、ある半導体ウエハ
単位のデータを検索するには、データ解析ステーション
1から品種、ロット番号およびウエハ番号を指定するこ
とによって、その半導体ウエハ単位のデータを中間検査
データベース5よりデータ解析ステーション1上に読み
出し得るものである。最終検査データベース7内でのデ
ータ構成も基本的には中間検査データベース5と同様と
され、最終検査データベース7内ではP検ロット単位デ
ータ15が品種単位データ14に、また、P検ウエハ単
位データがウエハ単位データにそれぞれ対応したものと
なっている。したがって、データ解析ステーション1か
ら品種、ロット番号およびウエハ番号を指定された場合
には、所望の半導体ウエハ単位のデータを最終検査デー
タベース7よりデータ解析ステーション1上に読み出し
得るものである。
The product type unit data and the P inspection wafer unit data will be described in more detail with reference to FIG.
(A) and (B) show the data structure as the product type unit data 14 and the P inspection wafer unit data 15, respectively. As shown in the drawing, the product type unit data 14 is largely classified into product types such as product type A, product type B, ... In the intermediate inspection database 5, and lots inspected for each product type are used as lot number data. It is stored in a hierarchical state. Further, as shown in the P inspection wafer unit data 15, data for each semiconductor wafer belonging to the lot is stored in a hierarchical state in each lot. Therefore, in order to retrieve the data of a certain semiconductor wafer unit, the data, the lot number and the wafer number are designated from the data analysis station 1, and the data of the semiconductor wafer unit is transferred from the intermediate inspection database 5 to the data analysis station 1. It can be read. The data structure in the final inspection database 7 is basically the same as that of the intermediate inspection database 5. In the final inspection database 7, the P inspection lot unit data 15 is the product type unit data 14, and the P inspection wafer unit data is It corresponds to each wafer unit data. Therefore, when the product type, the lot number and the wafer number are designated by the data analysis station 1, the data of a desired semiconductor wafer unit can be read from the final inspection database 7 onto the data analysis station 1.

【0019】さて、中間検査データベース5および最終
検査データベース7に関連して、歩留予測のために設け
られている歩留予測データベース6について説明すれ
ば、これには、品種および工程毎の中間検査データベー
ス5内品種単位データと、最終検査データベース7内P
検ロット単位データとが対応された状態で記憶された
上、歩留予測のためのリファレンスデータとして、中間
検査不良数や歩留予測用関数式、相関係数、中間検査不
良数、不良カテゴリ関数式等が階層化された状態で管理
されるものとなっている。図3(A),(B)は歩留予
測データベース6内でのデータ構成を示したものであ
る。図示のように、ウエハ単位データ15としての品種
Aおよびロット番号BBについてのウエハ単位データテ
ーブル16と、それら品種Aおよびロット番号BBにつ
いてのP検ウエハ単位データテーブル17とが例として
挙げられており、これらデータテーブルはデータ解析ス
テーション1により品種Aおよびロット番号BBをキー
として、それぞれ中間検査データベース5、最終検査デ
ータベース7から検索された上、歩留予測データベース
6内に記憶され得るものである。データ解析ステーショ
ン1によりウエハ単位データテーブル16とP検ウエハ
単位データテーブル17を照合した上、同一ウエハ番号
のウエハ同士の検査工程と歩留データの相関を調べるこ
とによって、関数式および相関係数が算出されているわ
けであるが、その際、相関係数が0.6以上として算出
されたならば、統計的にも相関が高いと云える。つま
り、その工程での中間検査不良数が製品の歩留を大きく
左右するものであることが判る。したがって、その工程
では、中間検査結果の不良数にもとづく予測のための関
数式の相関係数が高いことから、最終歩留の予測精度も
その分向上され得るものである。ここで、遅ればせなが
ら、中間検査データ、最終検査データ各々の中間検査デ
ータベース、最終検査データベースへの一例での登録処
理方法について図4により説明する。中間検査データの
登録処理は最終検査データのそれと全く同様にして行わ
れることから、中間検査データの登録処理のみについて
説明すれば以下のようである。即ち、中間検査では、中
間検査装置2により半導体ウエハ、あるいは半導体ウエ
ハ上のチップ各々に対し中間検査が行われているが、そ
の中間検査が終了すれば、その半導体ウエハについての
中間検査データは通信回線10を介しデータ解析ステー
ション1に送信された上、データ解析ステーション1に
よる制御下に中間検査データベース5に所定に登録され
るものとなっている。中間検査データベース5の記憶容
量は有限とされることから、その後は、中間検査データ
ベース5内に登録されている中間検査データのうち、最
も検査日の古い中間検査データを削除する必要があるか
否かが判断され、削除する必要がある場合はその中間検
査データが削除された後、データファイルが更新される
ことで、登録処理は終了されるものとなっている。ま
た、もしも削除する必要がない場合には、そのままデー
タファイルが更新された上、登録処理は終了されるもの
となっている。
Now, in connection with the intermediate inspection database 5 and the final inspection database 7, the yield prediction database 6 provided for yield prediction will be described. Product unit data in database 5 and P in final inspection database 7
The inspection lot unit data is stored in correspondence with each other, and as reference data for yield prediction, the number of intermediate inspection defects, the function formula for yield prediction, the correlation coefficient, the number of intermediate inspection defects, and the defect category function. Expressions and the like are managed in a hierarchical manner. FIGS. 3A and 3B show the data structure in the yield prediction database 6. As illustrated, the wafer unit data table 16 for the product type A and the lot number BB as the wafer unit data 15 and the P inspection wafer unit data table 17 for the product type A and the lot number BB are given as examples. These data tables can be retrieved from the intermediate inspection database 5 and the final inspection database 7 by the data analysis station 1 using the product type A and the lot number BB as keys, and stored in the yield prediction database 6. By comparing the wafer unit data table 16 and the P inspection wafer unit data table 17 by the data analysis station 1, and checking the correlation between the inspection process and the yield data of the wafers having the same wafer number, the functional expression and the correlation coefficient are obtained. Although it is calculated, if the correlation coefficient is calculated to be 0.6 or more at that time, it can be said that the correlation is statistically high. That is, it can be seen that the number of intermediate inspection defects in the process greatly affects the yield of products. Therefore, in the process, since the correlation coefficient of the functional formula for prediction based on the number of defects in the intermediate inspection result is high, the prediction accuracy of the final yield can be improved accordingly. Here, with reference to FIG. 4, an example of the registration processing method of the intermediate inspection data and the final inspection data in the intermediate inspection database and the final inspection database will be described with a delay. Since the registration processing of the intermediate inspection data is performed in exactly the same manner as that of the final inspection data, only the registration processing of the intermediate inspection data will be described below. That is, in the intermediate inspection, the intermediate inspection apparatus 2 performs the intermediate inspection on the semiconductor wafer or on each of the chips on the semiconductor wafer. The data is transmitted to the data analysis station 1 via the line 10 and is registered in the intermediate inspection database 5 under the control of the data analysis station 1 in a predetermined manner. Since the storage capacity of the intermediate inspection database 5 is limited, whether or not it is necessary to delete the intermediate inspection data having the oldest inspection date among the intermediate inspection data registered in the intermediate inspection database 5 thereafter. If it is necessary to delete the intermediate inspection data, the intermediate inspection data is deleted, and then the data file is updated, whereby the registration process is ended. If it is not necessary to delete it, the data file is updated as it is and the registration process is ended.

【0020】次に、歩留予測のためのデータ解析方法に
ついて、中間検査として異物検査が、最終検査としてプ
ローブ検査が行われている場合を想定して説明すれば、
歩留予測を行うには、データ解析ステーション1による
制御下に、その予測に必要とされる異物検査データ、プ
ローブ検査データが中間検査データベース5、最終検査
データベース7にそれぞれ予め一定量分登録されている
ことが必要である。具体的にその検査データ量として
は、例えば最近1,2ヶ月分の検査データが登録されて
いることが必要である。歩留予測に必要とされる検査デ
ータが登録されている状態で、データ解析ステーション
1では、中間検査データベース5、最終検査データベー
ス7各々から、同一品種および同一ロット番号同士のデ
ータの照合を行い、これを歩留予測データとして歩留予
測データベース6に登録した上で、データ解析ステーシ
ョン1で初めて歩留予測処理が行われているものであ
る。図5はその歩留予測処理のフローを示したものであ
る。これによる場合、先ずデータ解析ステーション1よ
り歩留予測対象としての品種名(本例では半導体ウエハ
を想定)が入力され、これに引き続いては歩留予測用関
数式を作成するためのロット数が入力される。例えばそ
のロット数として、4ロットが入力されたとすれば、そ
の品種についての最新4ロット分の異物検査データとプ
ローブ検査データとを照合の上、歩留予測データとして
使用するものである。更に、異物検査が行われている製
造工程名が入力されるが、その製造工程名として例えば
製造工程Bが入力されたとすれば、歩留予測データベー
ス6内では所定のデータが照合されるものとなってい
る。即ち、ウエハ単位データテーブル16における検査
工程B対応の異物数とP検ウエハ単位データテーブル1
7における歩留データ4ロット分のデータとが照合され
るものである。データ解析ステーション1ではそれら4
ロット分の検査工程Bにおける異物数を横軸に、歩留を
縦軸にとった歩留予測用の相関図を作成した上、ディス
プレイ4上に表示するが、その際に、歩留予測データよ
り、異物数と歩留に関しての関数式および相関係数が併
せて算出された上、ディスプレイ4上に表示されるもの
となっている。図6はその際でのディスプレイ4上の表
示画面18を示すが、表示画面18上には関数式20や
相関係数32、相関図(関数式線21はその相関図の一
部を構成)を始めとして、補助的にタイトル19や、品
種名22、ロット番号23、他検査工程表示一覧24が
併せて表示されたものとなっている。
Next, a data analysis method for yield prediction will be described assuming that a foreign matter inspection is performed as an intermediate inspection and a probe inspection is performed as a final inspection.
Under the control of the data analysis station 1, foreign matter inspection data and probe inspection data required for the prediction are registered in advance in the intermediate inspection database 5 and the final inspection database 7 in fixed amounts in order to perform the yield prediction. Need to be present. Specifically, as the amount of inspection data, for example, it is necessary that the inspection data for the last one or two months have been registered. With the inspection data required for yield prediction registered, the data analysis station 1 collates the data of the same product type and the same lot number from each of the intermediate inspection database 5 and the final inspection database 7, This is registered in the yield prediction database 6 as yield prediction data, and then the data analysis station 1 is first performing the yield prediction process. FIG. 5 shows a flow of the yield prediction process. In this case, first, the product type name (assuming a semiconductor wafer in this example) as the yield prediction target is input from the data analysis station 1, and subsequently, the number of lots for creating the yield prediction functional expression is changed. Is entered. For example, if 4 lots are input as the lot number, the foreign substance inspection data and probe inspection data for the latest 4 lots of the product type are collated and used as yield prediction data. Further, the name of the manufacturing process in which the foreign matter inspection is performed is input. If, for example, the manufacturing process B is input as the manufacturing process name, it is assumed that predetermined data is collated in the yield prediction database 6. Has become. That is, the number of foreign matters corresponding to the inspection process B in the wafer unit data table 16 and the P inspection wafer unit data table 1
The yield data in 7 is compared with the data for 4 lots. 4 in the data analysis station 1
A correlation diagram for yield prediction in which the number of foreign substances in the inspection process B for the lot is plotted on the horizontal axis and the yield is plotted on the vertical axis is displayed on the display 4 at that time. As a result, the functional expression and the correlation coefficient relating to the number of foreign matters and the yield are calculated together and then displayed on the display 4. FIG. 6 shows the display screen 18 on the display 4 at that time. On the display screen 18, the function formula 20, the correlation coefficient 32, and the correlation diagram (the function formula line 21 constitutes a part of the correlation diagram). In addition to the above, the title 19, the product type name 22, the lot number 23, and the other inspection process display list 24 are additionally displayed.

【0021】さて、関数式20等の作成・表示後は、予
測対象としての半導体ウエハについての異物検査が中間
検査として異物検査装置2により実際に行われるが、そ
の際での異物検査結果を関数式線21の横軸に代入する
ようにすれば、歩留は容易にその関数式線21より予測
され得るものである。図6を参照しつつ、例えば検査工
程Bについて歩留予測方法を説明すれば、横軸を異物
数、縦軸をプローブ検査歩留として、同一品種について
の数ロット分のデータをプロットすることで、異物数と
検査歩留との関係を示す関数式線21が定められるが、
その後、歩留予測対象についての実際の異物検査結果を
異物数として関数式線21の横軸に代入するようにすれ
ば、その値を変数とする関数式20より予測歩留がデー
タ解析ステーション1により算出された上、図7に予測
歩留表示画面レイアウトとして示すように、表示画面1
8上に表示され得るものである。ここで、中間検査結果
としての異物数を関数式(y=f(x))20に代入す
ることで予測歩留を算出する際での一具体例として、例
えば関数式がy=a+bx(a,b:定数、x:変数)
という一次式であって、中間検査結果としての異物数
(変数x)が10個だったとすれば、この場合での予測
歩留yは(a+10b)×100%として算出され得る
ものである。因みに、図6に示すディスプレイ4上の表
示画面18には、品種名22やロット番号23および他
検査工程一覧24が併せて表示されていることから、そ
の表示を例えばマウスにより選択的に更新することで、
他の表示画面への即時切り替えが可能となっている。例
えば品種名22をマウスで指定すれば、他の品種に関し
ての歩留予測用の相関図も即座に表示可とされているも
のである。また、データ解析ステーション1では、歩留
予測対象としてのロットが最終検査工程に搬送された
上、最終検査装置3によってプローブ検査が行われ、そ
のロットについての実際の歩留と不良カテゴリ分布デー
タが得られた場合には、最終検査データベース7の中で
最も古い検査日時の最終検査データは消去された上、そ
の新たな最終検査データが最終検査データベース7に登
録されるものとなっている。この登録更新に伴い、デー
タ解析ステーション1では、そのロットについての中間
検査データと最終検査検査データとを突き合せ新たな歩
留予測データを生成した上、歩留予測データベース6に
登録する一方では、歩留予測データベース6内の最も古
い歩留予測データを消去するものとなっている。したが
って、プロセス改善等により歩留が向上された場合で
も、歩留予測データもそれに伴い更新されることから、
高精度な予測歩留を常時維持し得るものである。
After the functional equation 20 is created and displayed, the foreign matter inspection apparatus 2 actually performs the foreign matter inspection on the semiconductor wafer to be predicted as an intermediate inspection. The foreign matter inspection result at that time is used as a function. The yield can be easily predicted from the function formula line 21 by substituting it on the horizontal axis of the formula line 21. Referring to FIG. 6, for example, the yield prediction method for the inspection process B will be described. By plotting data for several lots of the same product type, the horizontal axis represents the number of foreign substances and the vertical axis represents the probe inspection yield. , A function formula line 21 indicating the relationship between the number of foreign matters and the inspection yield is defined.
After that, if the actual foreign matter inspection result for the yield prediction target is substituted on the horizontal axis of the function equation line 21 as the number of foreign matters, the predicted yield is calculated from the function equation 20 using the value as a variable. Calculated by the display screen 1 shown in FIG. 7 as a predicted yield display screen layout.
8 can be displayed on the screen. Here, as a specific example of calculating the predicted yield by substituting the number of foreign substances as the result of the intermediate inspection into the functional expression (y = f (x)) 20, for example, the functional expression is y = a + bx (a , B: constant, x: variable)
If the number of foreign matters (variable x) as the result of the intermediate inspection is 10, the predicted yield y in this case can be calculated as (a + 10b) × 100%. Incidentally, since the product name 22, lot number 23 and other inspection process list 24 are also displayed on the display screen 18 on the display 4 shown in FIG. 6, the display is selectively updated by, for example, a mouse. By that,
It is possible to switch to another display screen immediately. For example, if the product type name 22 is designated by a mouse, the correlation diagram for yield prediction for other product types can be displayed immediately. In the data analysis station 1, the lot as the yield prediction target is transported to the final inspection process, and the final inspection device 3 performs the probe inspection to obtain the actual yield and the defect category distribution data for the lot. When obtained, the final inspection data of the oldest inspection date and time in the final inspection database 7 is deleted, and the new final inspection data is registered in the final inspection database 7. With this registration update, the data analysis station 1 matches the intermediate inspection data and the final inspection inspection data for the lot to generate new yield prediction data, and also registers it in the yield prediction database 6, while The oldest yield prediction data in the yield prediction database 6 is deleted. Therefore, even if the yield is improved due to process improvement, etc., the yield prediction data is also updated accordingly,
It is possible to always maintain a highly accurate predicted yield.

【0022】[実施例その2]ところで、予測された歩
留を生産管理に積極的に利用することが考えられる。図
8はその際での製造ライン監視システムのシステム構成
を示したものである。先ず実施例その1で述べた解析を
行い、製品の予測歩留および予測取得数を算出した上、
これらをデータ解析ステーション1から通信回線26を
介し生産管理ステーション25に転送しようというもの
である。生産管理ステーション25では、それら情報に
もとづき半導体ウエハの追加投入や、製造保留などの生
産指示を行おうというものである。
[Example 2] By the way, it is conceivable to positively utilize the predicted yield for production control. FIG. 8 shows the system configuration of the manufacturing line monitoring system at that time. First, the analysis described in Example 1 is performed to calculate the predicted yield and the predicted number of products to be obtained.
These are to be transferred from the data analysis station 1 to the production control station 25 via the communication line 26. At the production control station 25, production instructions such as additional input of semiconductor wafers and production suspension are performed based on the information.

【0023】具体的な生産管理として、納期遅延低減に
ついて説明すれば、図9は製品を投入してから出荷する
までの工程の流れを、従来方式と本発明による製造ライ
ン監視システムとについて対比して示したものである。
例えば顧客よりある製品についてN個の注文があった場
合を想定すれば、従来にあっては、生産管理部門では過
去における同一製品についての歩留実績から判断して、
おおよそ予測取得数としてN個得られるであろう量が製
造ラインに投入されていたものである。したがって、製
造途中で何等かのトラブルが発生しプローブ検査の結
果、良品製品がN−K個しか得られなかった場合には、
そのK個分の不足分を補うべく新たに製品が製造ライン
に追加投入されていたことから、不足分が良品製品とし
て得られる頃には既に納期遅延となることが判る。しか
しながら、本発明による製造ライン監視システムによる
場合には、製品が製造ラインに投入された後、製造工程
の途中で異物検査が行われることによって、実施例その
1で述べた解析によりその製品についての予測歩留およ
び予測取得数が得られることから、生産管理ステーショ
ン25ではそれら情報と注文数N個とを考慮の上、生産
管理上での必要な指示を行い得るというものである。即
ち、異物検査の結果として予測取得数がN−K個であっ
た場合には、その時点で即、生産管理ステーション25
からはK個分の不足分を補うべく製品を新たに製造ライ
ンに追加投入する旨を生産管理部門に指示し得ることか
ら、不足分の完成を待っても納期内に注文数分の製品を
出荷し得るものである。
As a concrete production control, reduction of delivery delay will be described. FIG. 9 compares the flow of processes from the introduction of a product to the shipment of the conventional system and the production line monitoring system according to the present invention. Is shown.
For example, assuming that a customer orders N products for a certain product, in the conventional case, the production management department makes a judgment based on the past record of the same product,
The quantity that would have been obtained approximately N as the estimated number of acquisitions had been put into the production line. Therefore, if some trouble occurs during manufacturing and only N-K good products are obtained as a result of probe inspection,
Since products were newly added to the manufacturing line to make up for the deficiency of K pieces, it can be understood that the delivery date is already delayed by the time the deficiency is obtained as a good product. However, in the case of the manufacturing line monitoring system according to the present invention, after the product is put into the manufacturing line, the foreign matter inspection is performed in the middle of the manufacturing process, so that the product is analyzed by the analysis described in the first embodiment. Since the predicted yield and the predicted acquisition number are obtained, the production management station 25 can give necessary instructions for production management in consideration of the information and the number N of orders. That is, when the number of predicted acquisitions is NK as a result of the foreign matter inspection, the production control station 25
Can instruct the production control department to add new products to the manufacturing line to make up for the shortage of K pieces, so even if the shortage is completed, as many products as the number of orders will be delivered within the delivery date. It can be shipped.

【0024】[実施例その3]以上は納期遅延低減につ
いてであったが、余剰良品製品の低減についても対処可
となっている。図10は余剰良品製品の低減が考慮され
た、製品を投入してから出荷するまでの工程の流れを、
従来方式と本発明による製造ライン監視システムとにつ
いて対比して示したものである。例えば顧客よりある製
品ついてN個の注文があった場合を想定すれば、従来に
あっては納期厳守の関係上、実施例その2で述べたよう
な突発トラブルによる不足発生防止のため、過去におけ
る同一製品についての歩留実績から判断して、良品製品
が注文数より多めに得られるべく製品が製造ラインに投
入されていたものである。したがって、プローブ検査の
結果、良品製品がN+K個得られた場合には、K個の余
剰製品は廃棄処分され仕損費となっていたものである。
しかしながら、本発明による製造ライン監視システムに
よる場合には、製品が製造ラインに投入された後、製造
工程の途中で異物検査が行われることによって、実施例
その1で述べた解析によりその製品についての予測歩留
および予測取得数が得られることから、生産管理ステー
ション25ではそれら情報と注文数N個とを考慮の上、
生産管理上での必要な指示を行い得るというものであ
る。即ち、異物検査の結果として予測取得数がN+K個
であったとすれば、その時点で余剰製品となる可能性が
あるK個分の製品については、その製造を保留する旨を
生産管理ステーション25から生産管理部門に指示し得
るというものである。製造保留以外の製品についてはそ
のまま製造を続行するようにすれば、注文数N個に対し
て余剰良品製品を最小限に抑制し得ることから、仕損費
の低減化が図れるものである。その際、異物検査が行わ
れる製造工程は共通工程とされ、その製造工程で製造保
留された製品はそのまま引続き他製品に流用され得るこ
とから、材料費の低減などの効果も併せて得られるもの
である。
[Embodiment 3] Although the reduction of the delivery delay has been described above, the reduction of the surplus non-defective products can also be dealt with. FIG. 10 shows the process flow from the product insertion to the shipment, which takes into consideration the reduction of surplus non-defective products.
It is shown in comparison with the conventional system and the production line monitoring system according to the present invention. For example, assuming a case where a customer orders N products for a certain product, in the past, in order to prevent shortage due to a sudden trouble as described in Example 2 in the past, due to the strict adherence to delivery time, Judging from the yield record for the same product, the product was put on the manufacturing line so that a good product was obtained in an amount larger than the number of orders. Therefore, when N + K non-defective products are obtained as a result of the probe inspection, the K surplus products are discarded and become scrap costs.
However, in the case of the manufacturing line monitoring system according to the present invention, after the product is put into the manufacturing line, the foreign matter inspection is performed in the middle of the manufacturing process, so that the product is analyzed by the analysis described in the first embodiment. Since the predicted yield and the predicted acquisition number are obtained, the production management station 25 considers the information and the ordered number N,
It is possible to give necessary instructions for production control. That is, if it is assumed that the number of predicted acquisitions is N + K as a result of the foreign matter inspection, the production management station 25 informs the production management station 25 to suspend the production of K products that may become surplus products at that time. It is possible to instruct the production control department. By continuing the production of products other than the production suspension, the surplus non-defective products can be suppressed to the minimum with respect to the ordered number N, so that the scrap cost can be reduced. At that time, the manufacturing process in which the foreign substance inspection is performed is a common process, and the product whose production is suspended in the manufacturing process can be continuously diverted to another product, so that the effect of reducing the material cost can also be obtained. Is.

【0025】[実施例その4]また、異物数管理につい
て説明すれば、図11はその際での管理処理フローを示
したものである。これによる場合、データ解析ステーシ
ョン1に対し異物数管理対象としての品種および異物検
査工程名、更にはその品種に関して、目標として得たい
プロ−ブ検査歩留が入力されれば、データ解析ステーシ
ョン1では、これらデータにもとづき実施例その1で示
した手順と同様に、歩留予測データベース6が検索され
た上、その品種のその検査工程と歩留データの相関図を
作成し、関数式および相関係数が算出されるものとなっ
ている。その後、その関数式に目標として得たい歩留を
代入すれば、その歩留を達成するために許容される最大
異物数が算出されるが、図12は異物数管理に係る相関
図、関数式および相関係数が表示されたディスプレイ表
示画面を示したものである。その最大異物数を異物数管
理上限線28として相関図には目標歩留27が設定され
るわけである。さて、目標歩留27が設定された状態
で、異物数管理対象としての製品に対しては、実際に検
査工程で異物検査装置2により異物検査が行われ、その
異物検査結果はデータ解析ステーション1に送信される
が、データ解析ステーション1ではその検査結果を解析
した上、検出された異物数が異物数管理上限線28を越
えたか否かが判定されるものとなっている。その判定結
果が異物数が異物数管理上限線28以内であれば、その
工程時点では目標歩留27は達成可能とされ、以降での
工程続行が指示されるが、異物数が異物数管理上限線2
8を越えている場合には、以降での工程続行によっても
目標歩留27達成は不可能と判断された上、廃棄処分等
が指示されるものである。このように、異物数管理を行
うようにすれば、目標歩留を達成し得ない製品について
は、その時点で製造処理を中止し得ることから、それ以
降での無駄な製造処理を行わなくても済まされるもので
ある。なお、目標歩留27は目標歩留設定29をマウス
で選択することで任意に設定され得る。
[Embodiment 4] Further, the foreign matter number management will be described. FIG. 11 shows a management processing flow at that time. In this case, if the type and the foreign substance inspection process name as the foreign substance number management target and the probe inspection yield to be obtained as a target are input to the data analysis station 1, the data analysis station 1 Based on these data, the yield prediction database 6 is searched in the same manner as the procedure shown in Example 1, and a correlation diagram of the inspection process and the yield data of the product type is created, and the functional expression and the phase relationship are obtained. The number is to be calculated. After that, by substituting the yield desired to be obtained as a target into the functional expression, the maximum number of foreign particles allowed to achieve the yield is calculated. 9 is a display screen showing a correlation coefficient and a correlation coefficient. The target yield 27 is set in the correlation diagram with the maximum number of foreign substances as the foreign substance number management upper limit line 28. Now, with the target yield 27 set, foreign matter inspection is actually performed by the foreign matter inspection device 2 in the inspection process for the product subject to foreign matter number management, and the foreign matter inspection result is the data analysis station 1 The data analysis station 1 analyzes the inspection result and determines whether the detected number of foreign substances exceeds the foreign substance number management upper limit line 28. If the result of the determination is that the foreign matter number is within the foreign matter number management upper limit line 28, the target yield 27 is achievable at the time of the process, and the subsequent process is instructed, but the foreign matter number is the foreign matter number management upper limit. Line 2
If it exceeds 8, it is judged that the target yield 27 cannot be achieved even if the process is continued thereafter, and further, disposal is instructed. In this way, if the number of foreign substances is managed, the manufacturing process can be stopped at that time for the product that cannot achieve the target yield, so that no unnecessary manufacturing process is performed thereafter. It is also done. The target yield 27 can be set arbitrarily by selecting the target yield setting 29 with the mouse.

【0026】[実施例その5]更に、不良カテゴリ解析
について説明すれば、図13はその際での解析処理フロ
ーを示したものである。データ解析ステーション1に対
し解析対象としての品種およびロット番号が入力されれ
ば、データ解析ステーション1では歩留予測データベー
ス6を検索した上、図3(A),(B)に示したよう
に、その品種、そのロットのウエハ単位データテーブル
16およびP検ウエハ単位データテーブル17がディス
プレイ4上に表示されるものとなっている。その後、ウ
エハ単位データテーブル16の各検査工程を横軸に、P
検ウエハ単位データテーブル17の各不良カテゴリを縦
軸にとりそれぞれの相関図が作成されるが、因みに図1
4に一例として検査工程Cにおける異物数とプロ−ブ検
査における不良カテゴリAの不良数の相関図を示す。次
いで、各相関図の関数式および相関係数を算出された
上、併せて表示されるものとなっている。このようにし
て、他の不良カテゴリ一覧30をマウスで選択すること
によって、例えば検査工程Bと不良カテゴリC、あるい
は検査工程Bと不良カテゴリR、といった具合に、それ
ぞれの組合せに係る相関が知れることから、もしも相関
が大きい組合せがある場合には、その不良カテゴリの原
因がその工程にある可能性が高いということが判るもの
である。以上の結果から、ある不良カテゴリを低減する
ためには特定工程に対し何等かの対策を施す必要がある
ことが明らかにされるものである。
[Fifth Embodiment] Further, the defect category analysis will be described. FIG. 13 shows an analysis processing flow in that case. When the type and lot number to be analyzed are input to the data analysis station 1, the data analysis station 1 searches the yield prediction database 6 and, as shown in FIGS. 3 (A) and 3 (B), The wafer unit data table 16 and the P inspection wafer unit data table 17 of the product type and the lot are displayed on the display 4. After that, each inspection process of the wafer unit data table 16 is represented by P on the horizontal axis.
Correlation charts are created by plotting each defect category in the inspection wafer unit data table 17 on the vertical axis.
4 shows, as an example, a correlation diagram between the number of foreign particles in the inspection process C and the number of defects in the defect category A in the probe inspection. Next, the function formulas and correlation coefficients of each correlation diagram are calculated and then displayed together. In this manner, by selecting the other defect category list 30 with the mouse, the correlation relating to each combination is known, for example, the inspection process B and the defect category C, or the inspection process B and the defect category R. From this, it is understood that if there is a combination having a large correlation, it is highly likely that the process is the cause of the defective category. From the above results, it is clarified that some measures need to be taken for the specific process in order to reduce a certain defect category.

【0027】[実施例その6]ここで、複数の中間検査
装置を含む製造ライン監視システムについて説明すれ
ば、図15は複数の中間検査装置を含む製造ライン監視
システムのシステム構成を示したものである。図示のよ
うに、クリーンルーム8内には2台の中間検査装置2が
設置されているが、ある製品について中間検査を行い、
その結果から歩留を予測する場合には、先ず一台目の中
間検査装置2によりその製品に対し中間検査が行われる
ものとなっている。その結果から図6に示す歩留予測用
相関図を用い予測歩留が算出されるが、次いで同一製品
に対し他の中間検査装置2により中間検査が行われた
上、他の検査項目についても同様にして予測歩留が算出
されるものとなっている。したがって、複数の中間検査
装置2各々に係る予測歩留値をデータ解析ステーション
1で解析すれば、一台だけの中間検査装置から予測され
る歩留よりもより高精度な予測歩留が得られるものであ
る。このように、複数の中間検査装置2として検査種類
が相異なるもの組合せ(例えば異物検査と外観検査の組
合せ、異物検査と寸法検査の組合せ)を配置すること
で、予測歩留上での精度がより向上され得るものであ
る。
[Sixth Embodiment] Here, a manufacturing line monitoring system including a plurality of intermediate inspection devices will be described. FIG. 15 shows a system configuration of a manufacturing line monitoring system including a plurality of intermediate inspection devices. is there. As shown in the figure, two intermediate inspection devices 2 are installed in the clean room 8, but an intermediate inspection is performed on a certain product.
When the yield is predicted from the result, first, the intermediate inspection device 2 of the first unit performs an intermediate inspection on the product. From the result, the predicted yield is calculated by using the yield prediction correlation diagram shown in FIG. 6. Next, an intermediate inspection is performed on the same product by another intermediate inspection device 2, and other inspection items are also determined. Similarly, the predicted yield is calculated. Therefore, when the predicted yield value of each of the plurality of intermediate inspection devices 2 is analyzed by the data analysis station 1, the predicted yield more highly accurate than the yield predicted from only one intermediate inspection device can be obtained. It is a thing. In this way, by arranging a combination of different inspection types as the plurality of intermediate inspection devices 2 (for example, a combination of a foreign substance inspection and a visual inspection, a combination of a foreign substance inspection and a dimensional inspection), the accuracy in the predicted yield is improved. It can be further improved.

【0028】[実施例その7]更にまた、異物内容解析
について説明すれば、異物検査装置は異物検査を行う際
に、検出された異物をその大きさに応じ小さい順から
S、M、Lの3種類に分類する機能を有しているが、図
16はある品種、ロットにおけるウエハ単位の異物の大
きさ別分布を示したものである。異物数がトータル数で
急増した場合でも何等かの異常が発生したと推定し得る
が、異物をその大きさに応じ3種類に分類した上、解析
することで、例えばSサイズの異物だけが急増していれ
ば、細かい塵挨が増加したのであろうと推定したり、L
サイズの異物が急増していれば、非常に重大なトラブル
が発生している可能性が高い、といった具合により具体
的に異物増加原因を推定し得、有効な対策が行えるとい
うものである。また、データ解析ステーション1により
最終検査データベース7を検索した上、Sサイズの異物
と歩留との相関、あるいはLサイズの異物と不良カテゴ
リDの相関を調べるなど、異物サイズ別の相関を調べる
ことも可能となっている。
[Embodiment 7] Further, the foreign substance content analysis will be described. When the foreign substance inspection apparatus performs the foreign substance inspection, the detected foreign substances are classified into S, M, and L in ascending order according to their size. Although it has a function of classifying into three types, FIG. 16 shows the distribution of foreign matters by size of wafers in a certain product type and lot. Even if the total number of foreign particles suddenly increases, it can be estimated that some kind of abnormality has occurred, but by classifying the foreign particles into three types according to their size, and analyzing them, for example, only S-size foreign particles will increase rapidly. If so, it is estimated that the amount of fine dust may have increased, or L
It is possible to estimate the cause of the increase in foreign matter specifically by taking into account that if the size of foreign matter increases rapidly, it is highly possible that a very serious trouble has occurred, and effective countermeasures can be taken. In addition, the final analysis database 7 is searched by the data analysis station 1, and the correlation between foreign particle sizes is also checked, such as the correlation between S-sized foreign particles and yield, or the correlation between L-sized foreign particles and defective category D. Is also possible.

【0029】[実施例その8]異物内容解析の他の例に
ついて説明すれば、異物検査装置では、異物検査を行う
際に、個々の異物についてその大きさの情報と、半導体
ウエハ上の発生位置情報を(X、Y)の2次元座標を用
い取り込むことが可能となっている。図17にある品
種、ロットにおける異物データを示す。同一半導体ウエ
ハ上の異物について、異物番号が1から順に記され、そ
れぞれその大きさとX座標、Y座標のデータが記されて
いるが、データ解析ステーション1により全異物につい
ての発生位置座標が管理されていることから、最終検査
データベース7を検索した上、同一品種、同一ロットの
最終検査データと対応させれば、異物が発生している座
標のチップがプローブ検査で不良となっているか否かが
調べられ、また、異物発生座標のチップが何れの不良カ
テゴリとなっているかが併せて調べられるものである。
[Embodiment 8] Another example of the foreign matter content analysis will be described. In the foreign matter inspection apparatus, when performing the foreign matter inspection, information on the size of each foreign matter and the generation position on the semiconductor wafer are given. It is possible to take in information using two-dimensional coordinates of (X, Y). FIG. 17 shows foreign substance data for the types and lots. For foreign substances on the same semiconductor wafer, the foreign substance numbers are sequentially written from 1 and the data of the size, the X coordinate, and the Y coordinate are written respectively, but the data analysis station 1 manages the generation position coordinates for all the foreign substances. Therefore, if the final inspection database 7 is searched and the final inspection data of the same product type and the same lot are made to correspond to each other, it is determined whether or not the chip at the coordinates where the foreign matter is generated is defective in the probe inspection. Further, it is also checked which defect category the chip having the foreign substance occurrence coordinates belongs to.

【0030】[実施例その9]ここで、製品のグレード
分けについて説明すれば、図18は異物数にもとづく製
品のグレード分け用管理図を示したものである。図示の
ように、例えば横軸に設定されているAランク管理基準
31、Bランク管理基準35およびCランク管理基準3
6と、中間検査により製品より実際に検出された異物数
とにもとづき、例えば異物数がA個未満である場合はA
ランク製品として、A個以上で、かつB個未満である場
合にはBランク製品として、B個以上で、かつC個未満
である場合はCランク製品として、中間検査結果から製
品のグレード分けを行おうというものである。グレード
分けされた製品はそのグレードに応じ特急品、サンプル
品等のように、製造工程途中で振り分けられるようにす
れば、製造ライン内で製品のグレード調整が可能となる
ものである。グレードが低く歩留を期待し得ない製品に
ついては、それをサンプル品として有効に活用するな
ど、無駄を低減し得るものである。
[Embodiment 9] Here, the grade classification of products will be described. FIG. 18 shows a control chart for grade classification of products based on the number of foreign matters. As illustrated, for example, the A rank management standard 31, the B rank management standard 35, and the C rank management standard 3 set on the horizontal axis.
6 and the number of foreign matter actually detected from the product by the intermediate inspection, for example, if the number of foreign matter is less than A, A
Graded products from the intermediate inspection results as rank B products when there are more than A pieces and less than B pieces as rank products, and as C rank products when there are more than B pieces and less than C pieces. It is about going. If graded products are classified according to their grade, such as express products and sample products, the grades of the products can be adjusted within the manufacturing line if they are sorted during the manufacturing process. For products with low grade and low yield, it can be effectively used as a sample product to reduce waste.

【0031】[実施例その10]以上の実施例では、主
に製品として半導体ウエハが想定されているが、勿論他
の製品に対しても適用し得るものとなっている。その例
として光ディスクデバイスを挙げれば、光ディスクの1
種としてのCD−ROM(Read Only Memory)では、予
め顧客からそのCD−ROMに書き込むべき情報データ
を入手した上、その情報が記録された1枚の金属製原盤
(スタンパ)が作成されるものとなっている。そのスタ
ンパを用いプラスチック射出成形により注文数だけ製品
が複製されているわけであるが、複製製品各々に対して
は実際に読み出し検査が行われ、そのエラー数が検査さ
れるまでは、それが良品か否かは知れないというもので
ある。また、各タイトル毎にスタンパも異なることか
ら、不足品の迅速な補充は困難となっているのが実情で
ある。そこで、従来にあっては、納期内完納のために注
文数より多めに生産され、余剰製品は廃棄処分され仕損
費の発生は不可避となっていたものである。しかしなが
ら、本発明による製造ライン監視システムによれば、先
ず注文数だけ複製するようにするが、その製造工程途中
でその見直しを行うことが可能となる。即ち、中間検査
として製品の外観検査を行い、その結果と最終歩留の相
関の関数式から予測歩留を算出するが、その結果として
不足が発生しそうな場合には追加投入指示を出すように
すれば、仕損費を最小限に抑えつつ納期内に注文数分の
製品を出荷し得るものである。
[Embodiment 10] In the above embodiments, the semiconductor wafer is mainly assumed as a product, but of course, it can be applied to other products. As an example of the optical disk device, one of the optical disks is
In a CD-ROM (Read Only Memory) as a seed, information data to be written in the CD-ROM is obtained in advance from a customer, and one metal master (stamper) on which the information is recorded is created. Has become. The products are duplicated by the number of orders by plastic injection molding using the stamper.However, each duplicated product is actually read and tested, and until the number of errors is checked, it is a good product. Whether or not it is unknown. In addition, since the stamper is different for each title, it is difficult to quickly supplement the missing item. Therefore, in the past, in order to complete the delivery within the delivery date, more than the number of orders was produced, and the surplus product was discarded, resulting in unavoidable damage costs. However, according to the manufacturing line monitoring system of the present invention, although the number of orders is first duplicated, it is possible to review it during the manufacturing process. That is, the appearance inspection of the product is performed as an intermediate inspection, and the predicted yield is calculated from the functional formula of the correlation between the result and the final yield, but if a shortage is likely to occur as a result, an additional injection instruction should be issued. By doing so, it is possible to ship the products for the number of orders within the delivery date while minimizing the damage cost.

【0032】[実施例その11]最後に、製品の配分に
ついて説明すれば、DRAMやSRAM等のメモリと称
されている半導体製品は、全く同様なプロセスで製造さ
れても、最終検査で動作速度などの電気特性にバラツキ
が発生するようになっている。具体的には動作速度が50
ns、80ns、100nsのようにばらつくわけであるが、その
際、動作速度が速い製品は高グレ−ド品として扱われ、
高価格であっても需要が大きいことから、より多くの高
グレ−ド品を製造することが望まれる。そこで、プロ−
ブ検査として、動作速度などの電気特性を測定する一
方、その後、半導体ウエハからチップを切断して製品と
した状態での最終検査で電気特性を測定するようにし
て、それらの値の相関を解析した上、相関図を作成する
ことが考えられる。図19にその相関図を示すが、その
相関図をもとに現在製造中の製品ロットに関してプロ−
ブ検査を中間検査として行い、動作速度を測定するよう
にすれば、その結果を相関式に代入することによって、
最終検査での動作速度を予測し得るものである。その予
測結果からそのロットのグレ−ド配分を行い、高グレ−
ド品の多いロットは優先的に製造されるようにすればよ
いものである。
[Embodiment 11] Lastly, the product distribution will be described. Even if semiconductor products called memories such as DRAM and SRAM are manufactured by exactly the same process, the operation speed is determined by the final inspection. There are variations in electrical characteristics such as. Specifically, the operating speed is 50
There are variations such as ns, 80ns and 100ns, but at that time, products with high operating speed are treated as high grade products,
Since the demand is high even at a high price, it is desired to manufacture more high grade products. Therefore, professional
For electrical inspection, while measuring electrical characteristics such as operating speed, after that, the electrical characteristics are measured in the final inspection in the state where the chips are cut from the semiconductor wafer into products, and the correlation of those values is analyzed. In addition, it is possible to create a correlation diagram. The correlation diagram is shown in FIG. 19. Based on the correlation diagram, a pro-
If the test is performed as an intermediate test and the operation speed is measured, by substituting the result into the correlation equation,
The operation speed in the final inspection can be predicted. Based on the result of the prediction, the lot is graded and the high grade is
Lots with a large number of products should be preferentially manufactured.

【0033】このように、事前にロットのグレ−ドを予
測することで顧客要求グレ−ドを満たすロットを優先的
に製造ラインに投入し得、高グレ−ド要求には高グレ−
ドロット、低グレ−ド要求には低グレ−ドロットを投入
することで、適切な投入が可能とされるものである。ま
た、相関係数が十分に大きい場合には、中間検査で全数
動作速度を検査しなくとも、一部抜取り検査することで
その結果からグレ−ドの予測を行い得ることから、中間
検査時間の大幅な短縮により納期短縮が図れるものとな
っている。
Thus, by predicting the grade of the lot in advance, the lot satisfying the customer's demand grade can be preferentially introduced into the production line, and the high grade demand can be satisfied by the high grade.
In order to meet the requirements for drottes and low grades, by introducing low grade lots, it is possible to properly introduce them. Further, if the correlation coefficient is sufficiently large, the grade can be predicted from the result by performing a partial sampling inspection without inspecting all the operation speeds in the intermediate inspection. Due to the drastic reduction, the delivery time can be shortened.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上、説明したように、請求項1,8に
よる場合は、製品ワーク各々が製造ラインとしての各種
製造工程各々を順次介されることによって、完成状態の
製品ワークを順次得るに際して、全製品ワークに占める
良品製品ワークの割合としての最終歩留を予測し得る製
造ライン監視システムと製造ラインが、請求項2,9に
よる場合には、製品ワーク各々が製造ラインとしての各
種製造工程各々を順次介されることによって、完成状態
の製品ワークを順次得るに際して、設定目標良品製品ワ
ーク数が得られるべく、製品ワークの製造ラインへ追加
投入や投入停止、製造保留を制御し得る製造ライン監視
システムと製造ラインが、請求項3,10によれば、製
品ワーク各々が製造ラインとしての各種製造工程各々を
順次介されることによって、完成状態の製品ワークを順
次得るに際して、製品ワークの不良カテゴリの発生率を
予測し得る製造ライン監視システムと製造ラインが、請
求項4,11による場合は、製品ワーク各々が製造ライ
ンとしての各種製造工程各々を順次介されることによっ
て、完成状態の製品ワークを順次得るに際して、最終歩
留を予測可として、これと設定目標最終歩留との比較結
果にもとづき、製造ライン上での製品ワークの製造を以
降、続行し得るか否かを制御し得る製造ライン監視シス
テムと製造ラインが、請求項5,12による場合には、
製品ワーク各々が製造ラインとしての各種製造工程各々
を順次介されることによって、完成状態の製品ワークを
順次得るに際して、製品ワークの最終グレードを予測し
得る製造ライン監視システムと製造ラインが、請求項
6,13によれば、製品ワーク各々が製造ラインとして
の各種製造工程各々を順次介されることによって、完成
状態の製品ワークを順次得るに際して、中間検査結果に
もとづき製品ワーク各々についてグレード分けを行い、
以降、グレードに応じた生産管理を行い得る製造ライン
監視システムと製造ラインが、請求項7,14によれば
また、製品ワーク各々が製造ラインとしての各種製造工
程各々を順次介されることによって、完成状態の製品ワ
ークを順次得るに際して、半導体ウエハ上での不良カテ
ゴリの発生率を予測し得る製造ライン監視システムと製
造ラインがそれぞれ得られるものとなっている。
As described above, according to the first and the eighth aspects, when the product workpieces are sequentially passed through the various manufacturing steps as the production line, the finished product workpieces are sequentially obtained. In the case where the manufacturing line monitoring system and the manufacturing line capable of predicting the final yield as a ratio of non-defective product work to all product works are according to claims 2 and 9, each product work is a manufacturing line and each manufacturing process is performed. Production line monitoring system that can control additional input, stoppage, and production suspension of product work in order to obtain the set target number of good product work when sequentially obtaining finished product work. According to claims 3 and 10, each of the product workpieces sequentially goes through each of the various manufacturing steps as a manufacturing line. Therefore, when the finished product works are sequentially obtained, the manufacturing line monitoring system and the manufacturing line capable of predicting the occurrence rate of the defective category of the product works are the manufacturing lines according to claims 4 and 11. When sequentially obtaining finished product workpieces by sequentially passing through various manufacturing processes, the final yield can be predicted, and product workpieces on the manufacturing line can be based on the result of comparison between this and the set target final yield. When the manufacturing line monitoring system and manufacturing line capable of controlling whether or not the manufacturing of
The manufacturing line monitoring system and the manufacturing line capable of predicting the final grade of the product work when sequentially obtaining the finished product work by sequentially passing through each of the various manufacturing processes as a manufacturing line. , 13 according to each of the product work, sequentially through each manufacturing process as a production line, when sequentially obtaining the finished product work, grade each product work based on the intermediate inspection result,
Thereafter, the manufacturing line monitoring system and the manufacturing line capable of performing the production management according to the grade are completed according to claims 7 and 14, and the product workpieces are sequentially passed through various manufacturing steps as the manufacturing line. When sequentially obtaining product works in a state, a production line monitoring system and a production line capable of predicting the incidence of defective categories on a semiconductor wafer are obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は、歩留予測に係る製造ライン監視システ
ムの基本的なシステム構成を示す図
FIG. 1 is a diagram showing a basic system configuration of a manufacturing line monitoring system related to yield prediction.

【図2】図2(A),(B)は、それぞれ中間検査デー
タベース内品種単位データ、最終検査データベース内P
検ウエハ単位データとしてのデータ構成を示す図
2A and 2B are product type data in the intermediate inspection database and P in the final inspection database, respectively.
The figure which shows the data structure as inspection wafer unit data

【図3】図3(A),(B)は、歩留予測データベース
内でのデータ構成を示す図
3 (A) and 3 (B) are views showing a data structure in a yield prediction database.

【図4】図4は、中間検査データ、最終検査データ各々
の中間検査データベース、最終検査データベースへの登
録処理フローを示す図
FIG. 4 is a diagram showing a registration process flow of intermediate inspection data and final inspection data in an intermediate inspection database and a final inspection database.

【図5】図5は、歩留予測処理のフローを示す図FIG. 5 is a diagram showing a flow of yield prediction processing.

【図6】図6は、歩留予測のための相関図、関数式およ
び相関係数が表示されたディスプレイ表示画面を示す図
FIG. 6 is a diagram showing a display screen on which a correlation diagram for yield prediction, a function formula, and a correlation coefficient are displayed.

【図7】図7は、予測歩留表示画面レイアウトを示す図FIG. 7 is a diagram showing a predicted yield display screen layout.

【図8】図8は、予測歩留を生産管理に利用可とする製
造ライン監視システムのシステム構成を示す図
FIG. 8 is a diagram showing a system configuration of a manufacturing line monitoring system in which a predicted yield can be used for production management.

【図9】図9は、納期遅延の低減が考慮された、製品を
投入してから出荷するまでの工程の流れを、従来方式と
本発明による製造ライン監視システムとについて対比し
て示す図
FIG. 9 is a diagram showing a process flow from the time when a product is input to the time when the product is shipped, in consideration of reduction of delivery delay, in comparison between the conventional system and the production line monitoring system according to the present invention.

【図10】図10は、余剰良品製品の低減が考慮され
た、製品を投入してから出荷するまでの工程の流れを、
従来方式と本発明による製造ライン監視システムとにつ
いて対比して示す図
FIG. 10 is a flow chart of a process from the input of a product to the shipment in consideration of reduction of surplus non-defective products.
The figure which shows in comparison the conventional system and the manufacturing line monitoring system by this invention.

【図11】図11は、異物数管理についての管理処理フ
ローを示す図
FIG. 11 is a diagram showing a management processing flow for foreign matter number management.

【図12】図12は、異物数管理のための相関図、関数
式および相関係数が表示されたディスプレイ表示画面を
示す図
FIG. 12 is a view showing a display screen on which a correlation diagram for managing the number of foreign matters, a functional formula, and a correlation coefficient are displayed.

【図13】図13は、不良カテゴリ解析についての解析
処理フローを示す図
FIG. 13 is a diagram showing an analysis processing flow for defect category analysis.

【図14】図14は、不良カテゴリ解析のための、異物
検査データとプローブ検査における不良カテゴリの相関
図、関数式および相関係数が表示されたディスプレイ表
示画面を示す図
FIG. 14 is a diagram showing a display screen showing a foreign substance inspection data and a correlation diagram of defect categories in probe inspection, a function formula, and a correlation coefficient for defect category analysis.

【図15】図15は、複数の中間検査装置を含む製造ラ
イン監視システムのシステム構成を示す図
FIG. 15 is a diagram showing a system configuration of a manufacturing line monitoring system including a plurality of intermediate inspection devices.

【図16】図16は、異物内容解析のための、ある品
種、ロットにおけるウエハ単位の異物の大きさ別分布を
示す図
FIG. 16 is a diagram showing the distribution of particle size by wafer size in a certain type and lot for particle content analysis.

【図17】図17は、異物内容解析の他の例のための、
ある品種、ロットにおける異物のその大きさと発生位置
を示す図
FIG. 17 is a diagram for another example of foreign matter content analysis;
Diagram showing the size and location of foreign matter in a product type and lot

【図18】図18は、異物数から製品のグレード分けを
行うための相関図を示す図
FIG. 18 is a diagram showing a correlation diagram for classifying products based on the number of foreign matters.

【図19】図19は、製品配分ための相関図を示す図FIG. 19 is a diagram showing a correlation diagram for product distribution.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…データ解析ステーション、2…中間検査装置、3…
最終検査装置、4…ディスプレイ、5…中間検査データ
ベース、6…歩留予測データベース、7…最終検査デー
タベース、8…クリーンルーム、9…製造工程、10…
通信回線、11…通信回線、12…ウエハ番号認識装
置、13…ウエハ番号認識装置
1 ... Data analysis station, 2 ... Intermediate inspection device, 3 ...
Final inspection device, 4 ... Display, 5 ... Intermediate inspection database, 6 ... Yield prediction database, 7 ... Final inspection database, 8 ... Clean room, 9 ... Manufacturing process, 10 ...
Communication line, 11 ... Communication line, 12 ... Wafer number recognition device, 13 ... Wafer number recognition device

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 未完成状態の製品ワーク各々が製造ライ
ンとしての各種製造工程各々を順次介されることによっ
て、最終製造工程で完成状態の製品ワークを順次得るに
際し、1以上の中間製造工程各々での製品ワークに対す
る中間検査結果と、最終製造工程での最終検査結果とに
もとづき、全製品ワークに占める良品製品ワークの割合
としての最終歩留を予測するための製造ライン監視シス
テムであって、中間製造工程各々で製品ワークに対し中
間検査を行う1以上の中間検査装置と、最終製造工程で
製品ワークに対し最終検査を行う最終検査装置と、上記
中間検査装置各々からの中間検査データを更新可として
記憶する中間検査データベースと、最終検査装置からの
最終検査データを更新可として記憶する最終検査データ
ベースと、上記中間検査データベース、最終検査データ
ベース各々からの、歩留予測に必要とされる最新検査デ
ータを更新可として記憶する歩留予測データベースと、
上記中間検査装置、最終検査装置、中間検査データベー
ス、最終検査データベースおよび歩留予測データベース
各々を収容した上、歩留予測データベースに記憶されて
いる最新検査データを歩留予測データとして、該歩留予
測データより解析された、中間検査データ、最終検査デ
ータ間での最新相関関係を示す関数式に、中間検査装置
各々より現に得られている中間検査結果を代入すること
によって、最終歩留を予測するデータ解析ステーション
と、該データ解析ステーションに収容された状態で、デ
ータ解析に係る各種データを表示する表示装置と、を少
なくとも含む製造ライン監視システム。
1. When each unfinished product work is sequentially processed through various manufacturing steps as a production line, one or more intermediate manufacturing steps are performed in order to sequentially obtain finished product work in the final manufacturing process. A production line monitoring system for predicting the final yield as a ratio of non-defective product work to the total product work based on the intermediate inspection result for the product work and the final inspection result in the final manufacturing process. One or more intermediate inspection devices that perform intermediate inspection on product workpieces in each manufacturing process, final inspection device that performs final inspection on product workpieces in the final manufacturing process, and intermediate inspection data from each of the above intermediate inspection devices can be updated. An intermediate inspection database that stores the final inspection data from the final inspection device as updatable, and an intermediate inspection database that stores the intermediate inspection database Yield prediction database that stores the latest inspection data required for yield prediction from each of the inspection database and the final inspection database as updatable,
In addition to accommodating the above-mentioned intermediate inspection device, final inspection device, intermediate inspection database, final inspection database, and yield prediction database, the latest inspection data stored in the yield prediction database is used as yield prediction data, and the yield prediction is performed. The final yield is predicted by substituting the intermediate inspection result currently obtained from each intermediate inspection device into the functional expression showing the latest correlation between the intermediate inspection data and the final inspection data analyzed from the data. A manufacturing line monitoring system including at least a data analysis station and a display device for displaying various data relating to data analysis while being housed in the data analysis station.
【請求項2】 未完成状態の製品ワーク各々が製造ライ
ンとしての各種製造工程各々を順次介されることによっ
て、最終製造工程で完成状態の製品ワークを順次得るに
際し、1以上の中間製造工程各々での製品ワークに対す
る中間検査結果と、最終製造工程での最終検査結果とに
もとづき、全製品ワークに占める良品製品ワークの割合
としての最終歩留を予測するための製造ライン監視シス
テムであって、中間製造工程各々で製品ワークに対し中
間検査を行う1以上の中間検査装置と、最終製造工程で
製品ワークに対し最終検査を行う最終検査装置と、上記
中間検査装置各々からの中間検査データを更新可として
記憶する中間検査データベースと、最終検査装置からの
最終検査データを更新可として記憶する最終検査データ
ベースと、上記中間検査データベース、最終検査データ
ベース各々からの、歩留予測に必要とされる最新検査デ
ータを更新可として記憶する歩留予測データベースと、
上記中間検査装置、最終検査装置、中間検査データベー
ス、最終検査データベースおよび歩留予測データベース
各々を収容した上、歩留予測データベースに記憶されて
いる最新検査データを歩留予測データとして、該歩留予
測データより解析された、中間検査データ、最終検査デ
ータ間での最新相関関係を示す関数式に、中間検査装置
各々より現に得られている中間検査結果を代入すること
によって、最終歩留および良品製品ワーク取得数を予測
するデータ解析ステーションと、該データ解析ステーシ
ョンに収容された状態で、データ解析に係る各種データ
を表示する表示装置と、上記データ解析ステーションか
らの最終歩留および良品製品ワーク取得数と設定目標良
品製品ワーク取得数にもとづき、未完成状態の製品ワー
クの製造ラインへの追加投入/投入停止制御、未完成状
態の製品ワークの製造工程での製造保留制御を行う生産
管理ステーションと、を少なくとも含む製造ライン監視
システム。
2. The unfinished product workpieces are sequentially passed through various manufacturing steps as a manufacturing line so that the finished product workpieces can be sequentially obtained in the final manufacturing step by one or more intermediate manufacturing steps. A production line monitoring system for predicting the final yield as a ratio of non-defective product work to the total product work based on the intermediate inspection result for the product work and the final inspection result in the final manufacturing process. One or more intermediate inspection devices that perform intermediate inspection on product workpieces in each manufacturing process, final inspection device that performs final inspection on product workpieces in the final manufacturing process, and intermediate inspection data from each of the above intermediate inspection devices can be updated. An intermediate inspection database that stores the final inspection data from the final inspection device as updatable, and an intermediate inspection database that stores the intermediate inspection database Yield prediction database that stores the latest inspection data required for yield prediction from each of the inspection database and the final inspection database as updatable,
In addition to accommodating the above-mentioned intermediate inspection device, final inspection device, intermediate inspection database, final inspection database, and yield prediction database, the latest inspection data stored in the yield prediction database is used as yield prediction data, and the yield prediction is performed. By substituting the intermediate inspection results currently obtained from each intermediate inspection device into the functional formula showing the latest correlation between the intermediate inspection data and the final inspection data analyzed from the data, the final yield and the non-defective product A data analysis station that predicts the number of workpieces to be acquired, a display device that displays various data related to the data analysis in the state of being housed in the data analysis station, and the final yield and the number of non-defective product workpieces acquired from the data analysis station. Based on the number of acquisitions of non-defective product work, set to the production line of unfinished product work Add-on / turned stop control, at least including the manufacturing line monitoring system production and management station, a to manufacture hold control in the production process of the product work unfinished state.
【請求項3】 未完成状態の製品ワーク各々が製造ライ
ンとしての各種製造工程各々を順次介されることによっ
て、最終製造工程で完成状態の製品ワークを順次得るに
際し、1以上の中間製造工程各々での製品ワークに対す
る中間検査結果と、最終製造工程での最終検査結果とに
もとづき、製品ワークの不良カテゴリの発生率を予測す
るための製造ライン監視システムであって、中間製造工
程各々で製品ワークに対し中間検査を行う1以上の中間
検査装置と、最終製造工程で製品ワークに対し最終検査
を行う最終検査装置と、上記中間検査装置各々からの中
間検査データを更新可として記憶する中間検査データベ
ースと、最終検査装置からの最終検査データを更新可と
して記憶する最終検査データベースと、上記中間検査デ
ータベース、最終検査データベース各々からの、製品ワ
ークの不良カテゴリ発生率の予測に必要とされる最新検
査データを更新可として記憶する不良カテゴリ発生率予
測データベースと、上記中間検査装置、最終検査装置、
中間検査データベース、最終検査データベースおよび不
良カテゴリ発生率予測データベース各々を収容した上、
不良カテゴリ発生率予測データベースに記憶されている
最新検査データを不良カテゴリ発生率予測データとし
て、該不良カテゴリ発生率予測データより解析された、
中間検査結果、不良カテゴリ間での最新相関関係を示す
関数式に、中間検査装置各々より現に得られている中間
検査結果を代入することによって、製品ワークの不良カ
テゴリの発生率を予測するデータ解析ステーションと、
該データ解析ステーションに収容された状態で、データ
解析に係る各種データを表示する表示装置と、を少なく
とも含む製造ライン監視システム。
3. The unfinished product workpieces are sequentially passed through various manufacturing steps as a manufacturing line, so that when the finished product workpieces are sequentially obtained in the final manufacturing step, one or more intermediate manufacturing steps are performed. It is a manufacturing line monitoring system that predicts the occurrence rate of defective category of product work based on the intermediate inspection result for the product work and the final inspection result in the final manufacturing process. On the other hand, one or more intermediate inspection devices that perform intermediate inspections, a final inspection device that performs final inspections on product workpieces in the final manufacturing process, and an intermediate inspection database that stores intermediate inspection data from each of the intermediate inspection devices as updatable. , The final inspection database that stores the final inspection data from the final inspection device as updatable, the intermediate inspection database, and the final inspection database. From each inspection database, a defect category occurrence rate prediction database that stores the latest inspection data required for prediction of the defect category occurrence rate of product work as updatable, the intermediate inspection device, the final inspection device,
In addition to accommodating each of the intermediate inspection database, final inspection database, and defect category incidence prediction database,
The latest inspection data stored in the defect category incidence prediction database is used as the defect category incidence prediction data, and analyzed from the defect category incidence prediction data,
Data analysis to predict the occurrence rate of defective categories in product work by substituting the intermediate inspection results currently obtained from each intermediate inspection device into the function formula showing the latest correlation between intermediate inspection results and defective categories. Station,
A manufacturing line monitoring system including at least a display device for displaying various data relating to data analysis while being accommodated in the data analysis station.
【請求項4】 未完成状態の製品ワーク各々が製造ライ
ンとしての各種製造工程各々を順次介されることによっ
て、最終製造工程で完成状態の製品ワークを順次得るに
際し、1以上の中間製造工程各々での製品ワークに対す
る中間検査結果と、最終製造工程での最終検査結果とに
もとづき、全製品ワークに占める良品製品ワークの割合
としての最終歩留を予測するための製造ライン監視シス
テムであって、中間製造工程各々で製品ワークに対し中
間検査を行う1以上の中間検査装置と、最終製造工程で
製品ワークに対し最終検査を行う最終検査装置と、上記
中間検査装置各々からの中間検査データを更新可として
記憶する中間検査データベースと、最終検査装置からの
最終検査データを更新可として記憶する最終検査データ
ベースと、上記中間検査データベース、最終検査データ
ベース各々からの、歩留予測に必要とされる最新検査デ
ータを更新可として記憶する歩留予測データベースと、
上記中間検査装置、最終検査装置、中間検査データベー
ス、最終検査データベースおよび歩留予測データベース
各々を収容した上、歩留予測データベースに記憶されて
いる最新検査データを歩留予測データとして、該歩留予
測データより解析された、中間検査データ、最終検査デ
ータ間での最新相関関係を示す関数式に、中間検査装置
各々より現に得られている中間検査結果を代入すること
によって、最終歩留を予測するデータ解析ステーション
と、該データ解析ステーションに収容された状態で、デ
ータ解析に係る各種データを表示する表示装置と、上記
データ解析ステーションからの最終歩留の設定目標最終
歩留との比較結果にもとづき、未完成状態の製品ワーク
の製造ライン上での製造を以降、続行するか否かの制御
を行う生産管理ステーションと、を少なくとも含む製造
ライン監視システム。
4. The unfinished product workpieces are sequentially passed through various manufacturing steps as a manufacturing line so that the finished product workpieces are sequentially obtained in the final manufacturing step by one or more intermediate manufacturing steps. A production line monitoring system for predicting the final yield as a ratio of non-defective product work to the total product work based on the intermediate inspection result for the product work and the final inspection result in the final manufacturing process. One or more intermediate inspection devices that perform intermediate inspection on product workpieces in each manufacturing process, final inspection device that performs final inspection on product workpieces in the final manufacturing process, and intermediate inspection data from each of the above intermediate inspection devices can be updated. An intermediate inspection database that stores the final inspection data from the final inspection device as updatable, and an intermediate inspection database that stores the intermediate inspection database Yield prediction database that stores the latest inspection data required for yield prediction from each of the inspection database and the final inspection database as updatable,
In addition to accommodating the above-mentioned intermediate inspection device, final inspection device, intermediate inspection database, final inspection database, and yield prediction database, the latest inspection data stored in the yield prediction database is used as yield prediction data, and the yield prediction is performed. The final yield is predicted by substituting the intermediate inspection result currently obtained from each intermediate inspection device into the functional expression showing the latest correlation between the intermediate inspection data and the final inspection data analyzed from the data. Based on a comparison result between the data analysis station, a display device for displaying various data related to the data analysis in a state of being housed in the data analysis station, and a final target setting target final yield from the data analysis station. , A production management system that controls whether or not to continue manufacturing unfinished product workpieces on the manufacturing line. Including at least a production line monitoring system and Shon, a.
【請求項5】 未完成状態の製品ワーク各々が製造ライ
ンとしての各種製造工程各々を順次介されることによっ
て、最終製造工程で完成状態の製品ワークを順次得るに
際し、1以上の中間製造工程各々での製品ワークに対す
る中間検査結果と、最終製造工程での最終検査結果とに
もとづき、製品ワークの最終グレードを予測するための
製造ライン監視システムであって、中間製造工程各々で
製品ワークに対し中間検査を行う1以上の中間検査装置
と、最終製造工程で製品ワークに対し最終検査を行う最
終検査装置と、上記中間検査装置各々からの中間検査デ
ータを更新可として記憶する中間検査データベースと、
最終検査装置からの最終検査データを更新可として記憶
する最終検査データベースと、上記中間検査データベー
ス、最終検査データベース各々からの、グレード予測に
必要とされる最新検査データを更新可として記憶するグ
レード予測データベースと、上記中間検査装置、最終検
査装置、中間検査データベース、最終検査データベース
およびグレード予測データベース各々を収容した上、グ
レード予測データベースに記憶されている最新検査デー
タをグレード予測データとして、該グレード予測データ
より解析された、中間検査データ、最終検査データ間で
の最新相関関係を示す関数式に、中間検査装置各々より
現に得られている中間検査結果を代入することによっ
て、最終グレードを予測するデータ解析ステーション
と、該データ解析ステーションに収容された状態で、デ
ータ解析に係る各種データを表示する表示装置と、を少
なくとも含む製造ライン監視システム。
5. The unfinished product workpieces are sequentially passed through various manufacturing steps as a manufacturing line so that the finished product workpieces are sequentially obtained in the final manufacturing step by one or more intermediate manufacturing steps. It is a manufacturing line monitoring system for predicting the final grade of product work based on the intermediate inspection result for the product work and the final inspection result in the final manufacturing process. And one or more intermediate inspection devices, a final inspection device that performs a final inspection on a product work in the final manufacturing process, an intermediate inspection database that stores the intermediate inspection data from each of the intermediate inspection devices as updatable,
A final inspection database that stores the final inspection data from the final inspection device as updatable, and a grade prediction database that stores the latest inspection data required for grade prediction from each of the above intermediate inspection database and final inspection database as updatable And accommodating each of the above-mentioned intermediate inspection device, final inspection device, intermediate inspection database, final inspection database and grade prediction database, the latest inspection data stored in the grade prediction database is used as grade prediction data, A data analysis station that predicts the final grade by substituting the intermediate inspection results currently obtained from each intermediate inspection device into the functional formula showing the latest correlation between the analyzed intermediate inspection data and final inspection data. And the data analysis While it is accommodated in Deployment, including at least a production line monitoring system and display device, the for displaying various data relating to the data analysis.
【請求項6】 未完成状態の製品ワーク各々が製造ライ
ンとしての各種製造工程各々を順次介されることによっ
て、最終製造工程で完成状態の製品ワークを順次得るに
際し、中間製造工程での製品ワークに対する中間検査結
果の良否程度にもとづき、製品ワーク各々についてグレ
ード分けを行い、以降、グレードに応じた生産管理が行
われる製造ライン監視システムであって、中間製造工程
で製品ワークに対し中間検査を行う中間検査装置と、該
中間検査装置から現に得られている中間検査データを解
析することによって、中間検査に係る製品ワークについ
ての良否程度をグレードとして判定するデータ解析ステ
ーションと、該データ解析ステーションからの製品ワー
ク対応のグレードに応じて、以降、製品ワーク各々につ
いて生産管理を行う生産管理ステーションと、を少なく
とも含む製造ライン監視システム。
6. The unfinished product workpieces are sequentially passed through various manufacturing processes as a manufacturing line, so that when the finished product workpieces are sequentially obtained in the final manufacturing process, the product workpieces in the intermediate manufacturing process are processed. It is a manufacturing line monitoring system that grades each product work based on the quality of the intermediate inspection result, and then performs production control according to the grade. An inspection device, a data analysis station that determines the quality level of a product work related to the intermediate inspection as a grade by analyzing the intermediate inspection data currently obtained from the intermediate inspection device, and a product from the data analysis station From now on, production control will be performed for each product work according to the grade corresponding to the work A production line monitoring system including at least a production control station.
【請求項7】 未完成状態の半導体ウエハ各々が製造ラ
インとしての各種製造工程各々を順次介されることによ
って、最終製造工程で完成状態の半導体ウエハを順次得
るに際し、中間製造工程での半導体ウエハ上のチップ各
々に対する中間検査結果と、最終製造工程での半導体ウ
エハ上のチップ各々に対する最終検査結果とにもとづ
き、半導体ウエハ上の不良カテゴリの発生率を予測する
ための製造ライン監視システムであって、中間製造工程
各々で半導体ウエハ上のチップ各々に対し中間検査を行
う1以上の中間検査装置と、最終製造工程で半導体ウエ
ハ上のチップ各々に対し最終検査を行う最終検査装置
と、上記中間検査装置からの中間検査データをチップ識
別データとともに更新可として記憶する中間検査データ
ベースと、最終検査装置からの最終検査データをチップ
識別データとともに更新可として記憶する最終検査デー
タベースと、上記中間検査データベース、最終検査デー
タベース各々からの、半導体ウエハ上での不良カテゴリ
発生率の予測に必要とされる最新検査データを更新可と
して記憶する不良カテゴリ発生率予測データベースと、
上記中間検査装置、最終検査装置、中間検査データベー
ス、最終検査データベースおよび不良カテゴリ発生率予
測データベース各々を収容した上、不良カテゴリ発生率
予測データベースに記憶されている最新検査データを不
良カテゴリ発生率予測データとして、該不良カテゴリ発
生率予測データより解析された、中間検査不良チップ
数、不良カテゴリ間での最新相関関係を示す関数式に、
中間検査装置各々より現に得られている中間検査不良チ
ップ数を代入することによって、半導体ウエハ上での不
良カテゴリの発生率を予測するデータ解析ステーション
と、該データ解析ステーションに収容された状態で、デ
ータ解析に係る各種データを表示する表示装置と、を少
なくとも含む製造ライン監視システム。
7. An unfinished semiconductor wafer is sequentially passed through various manufacturing steps as a manufacturing line so that the semiconductor wafers in an intermediate manufacturing step can be obtained when sequentially obtaining the completed semiconductor wafers in the final manufacturing step. A manufacturing line monitoring system for predicting a failure category occurrence rate on a semiconductor wafer based on an intermediate inspection result for each chip and a final inspection result for each chip on a semiconductor wafer in a final manufacturing process, One or more intermediate inspection devices that perform an intermediate inspection on each chip on a semiconductor wafer in each intermediate manufacturing process, a final inspection device that performs a final inspection on each chip on a semiconductor wafer in a final manufacturing process, and the above intermediate inspection device Intermediate inspection database that stores the intermediate inspection data from the device along with the chip identification data as updatable, and the final inspection device The final inspection database that stores the final inspection data from the device together with the chip identification data as updatable, and the latest inspections required for predicting the defect category occurrence rate on the semiconductor wafer from the intermediate inspection database and the final inspection database. A defect category incidence prediction database that stores data as updatable,
In addition to accommodating each of the above-mentioned intermediate inspection device, final inspection device, intermediate inspection database, final inspection database, and defect category incidence prediction database, the latest inspection data stored in the defect category incidence prediction database is used as defect category incidence prediction data. As a function formula showing the latest correlation between the number of defective chips in the intermediate inspection and the defective categories analyzed from the defective category occurrence rate prediction data,
By substituting the number of defective chips actually obtained from each of the intermediate inspection devices, a data analysis station that predicts the occurrence rate of defective categories on a semiconductor wafer, and a state housed in the data analysis station, A manufacturing line monitoring system including at least a display device that displays various data relating to data analysis.
【請求項8】 未完成状態の製品ワーク各々が各種製造
工程各々を順次介されることによって、最終製造工程で
完成状態の製品ワークを順次得るに際し、1以上の中間
製造工程各々での製品ワークに対する中間検査結果と、
最終製造工程での最終検査結果とにもとづき、全製品ワ
ークに占める良品製品ワークの割合としての最終歩留を
予測するための機能が具備された製造ラインであって、
各種製造工程よりなる製造ラインに対し、中間製造工程
各々で製品ワークに対し中間検査を行う1以上の中間検
査装置と、最終製造工程で製品ワークに対し最終検査を
行う最終検査装置と、上記中間検査装置各々からの中間
検査データを更新可として記憶する中間検査データベー
スと、最終検査装置からの最終検査データを更新可とし
て記憶する最終検査データベースと、上記中間検査デー
タベース、最終検査データベース各々からの、歩留予測
に必要とされる最新検査データを更新可として記憶する
歩留予測データベースと、上記中間検査装置、最終検査
装置、中間検査データベース、最終検査データベースお
よび歩留予測データベース各々を収容した上、歩留予測
データベースに記憶されている最新検査データを歩留予
測データとして、該歩留予測データより解析された、中
間検査データ、最終検査データ間での最新相関関係を示
す関数式に、中間検査装置各々より現に得られている中
間検査結果を代入することによって、最終歩留を予測す
るデータ解析ステーションと、該データ解析ステーショ
ンに収容された状態で、データ解析に係る各種データを
表示する表示装置と、を少なくとも含む製造ライン監視
システムが付加されてなる製造ライン。
8. The product work in each of one or more intermediate manufacturing processes is sequentially obtained in the final manufacturing process by sequentially passing each manufacturing process of each unfinished product work. Intermediate inspection results,
Based on the final inspection result in the final manufacturing process, a manufacturing line equipped with a function for predicting the final yield as a ratio of non-defective product work to all product work,
For a manufacturing line consisting of various manufacturing processes, one or more intermediate inspection devices that perform intermediate inspections on product workpieces in each intermediate manufacturing process, final inspection devices that perform final inspections on product workpieces in the final manufacturing process, and the above intermediate An intermediate inspection database that stores the intermediate inspection data from each inspection device as updatable, a final inspection database that stores the final inspection data from the final inspection device as updatable, the intermediate inspection database, from each of the final inspection databases, Yield prediction database that stores the latest inspection data required for yield prediction as updatable, and after accommodating each of the above-mentioned intermediate inspection device, final inspection device, intermediate inspection database, final inspection database and yield prediction database, The latest inspection data stored in the yield prediction database is used as yield prediction data. By substituting the intermediate inspection result currently obtained from each intermediate inspection device into the functional expression showing the latest correlation between the intermediate inspection data and the final inspection data analyzed from the yield prediction data, the final yield A production line including at least a data analysis station for predicting the above and a display device for displaying various data relating to the data analysis in a state accommodated in the data analysis station.
【請求項9】 未完成状態の製品ワーク各々が各種製造
工程各々を順次介されることによって、最終製造工程で
完成状態の製品ワークを順次得るに際し、1以上の中間
製造工程各々での製品ワークに対する中間検査結果と、
最終製造工程での最終検査結果とにもとづき、全製品ワ
ークに占める良品製品ワークの割合としての最終歩留を
予測するための機能が具備された製造ラインであって、
各種製造工程よりなる製造ラインに対し、中間製造工程
各々で製品ワークに対し中間検査を行う1以上の中間検
査装置と、最終製造工程で製品ワークに対し最終検査を
行う最終検査装置と、上記中間検査装置各々からの中間
検査データを更新可として記憶する中間検査データベー
スと、最終検査装置からの最終検査データを更新可とし
て記憶する最終検査データベースと、上記中間検査デー
タベース、最終検査データベース各々からの、歩留予測
に必要とされる最新検査データを更新可として記憶する
歩留予測データベースと、上記中間検査装置、最終検査
装置、中間検査データベース、最終検査データベースお
よび歩留予測データベース各々を収容した上、歩留予測
データベースに記憶されている最新検査データを歩留予
測データとして、該歩留予測データより解析された、中
間検査データ、最終検査データ間での最新相関関係を示
す関数式に、中間検査装置各々より現に得られている中
間検査結果を代入することによって、最終歩留および良
品製品ワーク取得数を予測するデータ解析ステーション
と、該データ解析ステーションに収容された状態で、デ
ータ解析に係る各種データを表示する表示装置と、上記
データ解析ステーションからの最終歩留および良品製品
ワーク取得数と設定目標良品製品ワーク取得数にもとづ
き、未完成状態の製品ワークの製造ラインへの追加投入
/投入停止制御、未完成状態の製品ワークの製造工程で
の製造保留制御を行う生産管理ステーションと、を少な
くとも含む製造ライン監視システムが付加されてなる製
造ライン。
9. The product work in each of one or more intermediate manufacturing processes is sequentially obtained in the final manufacturing process by sequentially passing each unfinished product work through each manufacturing process. Intermediate inspection results,
Based on the final inspection result in the final manufacturing process, a manufacturing line equipped with a function for predicting the final yield as a ratio of non-defective product work to all product work,
For a manufacturing line consisting of various manufacturing processes, one or more intermediate inspection devices that perform intermediate inspections on product workpieces in each intermediate manufacturing process, final inspection devices that perform final inspections on product workpieces in the final manufacturing process, and the above intermediate An intermediate inspection database that stores the intermediate inspection data from each inspection device as updatable, a final inspection database that stores the final inspection data from the final inspection device as updatable, the intermediate inspection database, from each of the final inspection databases, Yield prediction database that stores the latest inspection data required for yield prediction as updatable, and after accommodating each of the above-mentioned intermediate inspection device, final inspection device, intermediate inspection database, final inspection database and yield prediction database, The latest inspection data stored in the yield prediction database is used as yield prediction data. By substituting the intermediate inspection result currently obtained from each intermediate inspection device into the functional expression showing the latest correlation between the intermediate inspection data and the final inspection data analyzed from the yield prediction data, the final yield And a non-defective product, a data analysis station that predicts the number of workpieces to be acquired, a display device that displays various data relating to the data analysis in a state of being housed in the data analysis station, a final yield from the data analysis station, and a non-defective product Number of workpieces acquired and setting target Good product production management that controls the input / stop of addition of unfinished product workpieces to the manufacturing line and the production suspension control in the manufacturing process of unfinished product workpieces based on the number of workpieces acquired A production line including a production line monitoring system including at least a station.
【請求項10】 未完成状態の製品ワーク各々が各種製
造工程各々を順次介されることによって、最終製造工程
で完成状態の製品ワークを順次得るに際し、1以上の中
間製造工程各々での製品ワークに対する中間検査結果
と、最終製造工程での最終検査結果とにもとづき、製品
ワークの不良カテゴリの発生率を予測するための機能が
具備された製造ラインであって、各種製造工程よりなる
製造ラインに対し、中間製造工程各々で製品ワークに対
し中間検査を行う1以上の中間検査装置と、最終製造工
程で製品ワークに対し最終検査を行う最終検査装置と、
上記中間検査装置各々からの中間検査データを更新可と
して記憶する中間検査データベースと、最終検査装置か
らの最終検査データを更新可として記憶する最終検査デ
ータベースと、上記中間検査データベース、最終検査デ
ータベース各々からの、製品ワークの不良カテゴリ発生
率の予測に必要とされる最新検査データを更新可として
記憶する不良カテゴリ発生率予測データベースと、上記
中間検査装置、最終検査装置、中間検査データベース、
最終検査データベースおよび不良カテゴリ発生率予測デ
ータベース各々を収容した上、不良カテゴリ発生率予測
データベースに記憶されている最新検査データを不良カ
テゴリ発生率予測データとして、該不良カテゴリ発生率
予測データより解析された、中間検査不良数、不良カテ
ゴリ間での最新相関関係を示す関数式に、中間検査装置
各々より現に得られている中間検査不良数を代入するこ
とによって、製品ワークの不良カテゴリの発生率を予測
するデータ解析ステーションと、該データ解析ステーシ
ョンに収容された状態で、データ解析に係る各種データ
を表示する表示装置と、を少なくとも含む製造ライン監
視システムが付加されてなる製造ライン。
10. The product work in each of one or more intermediate manufacturing processes is sequentially obtained in the final manufacturing process by sequentially passing each manufacturing process of each unfinished product work. Based on the intermediate inspection result and the final inspection result in the final manufacturing process, it is a manufacturing line equipped with a function to predict the occurrence rate of the defective category of product work. , One or more intermediate inspection devices that perform an intermediate inspection on the product work in each intermediate manufacturing process, and a final inspection device that performs a final inspection on the product work in the final manufacturing process,
From the intermediate inspection database that stores the intermediate inspection data from each of the intermediate inspection devices as updatable, the final inspection database that stores the final inspection data from the final inspection device as updatable, from the intermediate inspection database and the final inspection database respectively , A defect category incidence prediction database that stores the latest inspection data required to predict the defect category incidence of product work as updatable, and the intermediate inspection device, final inspection device, intermediate inspection database,
In addition to accommodating each of the final inspection database and the defect category incidence prediction database, the latest inspection data stored in the defect category incidence prediction database was analyzed as the defect category incidence prediction data as the defect category incidence prediction data. , The number of intermediate inspection defects and the latest correlation between defect categories are substituted into the function formula that shows the latest intermediate inspection defect numbers obtained from each intermediate inspection device to predict the incidence of defective categories in product work. A manufacturing line monitoring system that includes at least a data analysis station and a display device that displays various data related to the data analysis while being housed in the data analysis station.
【請求項11】 未完成状態の製品ワーク各々が各種製
造工程各々を順次介されることによって、最終製造工程
で完成状態の製品ワークを順次得るに際し、1以上の中
間製造工程各々での製品ワークに対する中間検査結果
と、最終製造工程での最終検査結果とにもとづき、全製
品ワークに占める良品製品ワークの割合としての最終歩
留を予測するための機能が具備された製造ラインであっ
て、各種製造工程よりなる製造ラインに対し、中間製造
工程各々で製品ワークに対し中間検査を行う1以上の中
間検査装置と、最終製造工程で製品ワークに対し最終検
査を行う最終検査装置と、上記中間検査装置各々からの
中間検査データを更新可として記憶する中間検査データ
ベースと、最終検査装置からの最終検査データを更新可
として記憶する最終検査データベースと、上記中間検査
データベース、最終検査データベース各々からの、歩留
予測に必要とされる最新検査データを更新可として記憶
する歩留予測データベースと、上記中間検査装置、最終
検査装置、中間検査データベース、最終検査データベー
スおよび歩留予測データベース各々を収容した上、歩留
予測データベースに記憶されている最新検査データを歩
留予測データとして、該歩留予測データより解析され
た、中間検査データ、最終検査データ間での最新相関関
係を示す関数式に、中間検査装置各々より現に得られて
いる中間検査結果を代入することによって、最終歩留を
予測するデータ解析ステーションと、該データ解析ステ
ーションに収容された状態で、データ解析に係る各種デ
ータを表示する表示装置と、上記データ解析ステーショ
ンからの最終歩留の設定目標最終歩留との比較結果にも
とづき、未完成状態の製品ワークの製造ライン上での製
造を以降、続行するか否かの制御を行う生産管理ステー
ションと、を少なくとも含む製造ライン監視システムが
付加されてなる製造ライン。
11. The product work in each of one or more intermediate manufacturing processes is sequentially obtained in the final manufacturing process by sequentially passing each manufacturing process of each unfinished product work. It is a manufacturing line equipped with a function to predict the final yield as the ratio of non-defective product work to the total product work based on the intermediate inspection result and the final inspection result in the final manufacturing process. For a production line consisting of processes, one or more intermediate inspection devices that perform intermediate inspections on product workpieces in each intermediate manufacturing process, final inspection devices that perform final inspections on product workpieces in the final manufacturing process, and the intermediate inspection device described above. Intermediate inspection database that stores the intermediate inspection data from each as updatable and the final inspection data that stores the final inspection data from the final inspection device as updatable. Inspection database, a yield prediction database that stores the latest inspection data required for yield prediction from each of the intermediate inspection database and final inspection database as updatable, and the intermediate inspection device, final inspection device, and intermediate inspection The database, the final inspection database, and the yield prediction database are each accommodated, and the latest inspection data stored in the yield prediction database is used as the yield prediction data. A data analysis station that predicts the final yield by substituting the intermediate inspection results currently obtained from each intermediate inspection device into a functional expression indicating the latest correlation between inspection data, and the data analysis station Display device that displays various data related to data analysis, and the data solution Setting the final yield from the station Based on the result of comparison with the target final yield, the production management station that controls whether or not to continue manufacturing the unfinished product workpiece on the production line. A manufacturing line including at least a manufacturing line monitoring system.
【請求項12】 未完成状態の製品ワーク各々が各種製
造工程各々を順次介されることによって、最終製造工程
で完成状態の製品ワークを順次得るに際し、1以上の中
間製造工程各々での製品ワークに対する中間検査結果
と、最終製造工程での最終検査結果とにもとづき、製品
ワークの最終グレードを予測するための機能が具備され
た製造ラインであって、各種製造工程よりなる製造ライ
ンに対し、中間製造工程各々で製品ワークに対し中間検
査を行う1以上の中間検査装置と、最終製造工程で製品
ワークに対し最終検査を行う最終検査装置と、上記中間
検査装置各々からの中間検査データを更新可として記憶
する中間検査データベースと、最終検査装置からの最終
検査データを更新可として記憶する最終検査データベー
スと、上記中間検査データベース、最終検査データベー
ス各々からの、グレード予測に必要とされる最新検査デ
ータを更新可として記憶するグレード予測データベース
と、上記中間検査装置、最終検査装置、中間検査データ
ベース、最終検査データベースおよびグレード予測デー
タベース各々を収容した上、グレード予測データベース
に記憶されている最新検査データをグレード予測データ
として、該グレード予測データより解析された、中間検
査データ、最終検査データ間での最新相関関係を示す関
数式に、中間検査装置各々より現に得られている中間検
査結果を代入することによって、最終グレードを予測す
るデータ解析ステーションと、該データ解析ステーショ
ンに収容された状態で、データ解析に係る各種データを
表示する表示装置と、を少なくとも含む製造ライン監視
システムが付加されてなる製造ライン。
12. The unfinished product workpieces are sequentially passed through various manufacturing processes, so that when the finished product workpieces are sequentially obtained in the final manufacturing process, the product workpieces in each of one or more intermediate manufacturing processes are processed. It is a manufacturing line equipped with a function to predict the final grade of a product work based on the intermediate inspection result and the final inspection result in the final manufacturing process. It is possible to update one or more intermediate inspection devices that perform intermediate inspections on product workpieces in each process, final inspection devices that perform final inspections on product workpieces in the final manufacturing process, and intermediate inspection data from each of the above-mentioned intermediate inspection devices. The intermediate inspection database that is stored, the final inspection database that stores the final inspection data from the final inspection device as updatable, and the intermediate inspection data described above. Database, final inspection database, grade prediction database that stores the latest inspection data required for grade prediction as updatable, the above intermediate inspection device, final inspection device, intermediate inspection database, final inspection database and grade prediction database In addition to accommodating each, the latest inspection data stored in the grade prediction database as the grade prediction data, the functional formula showing the latest correlation between the intermediate inspection data and the final inspection data analyzed from the grade prediction data. , A data analysis station that predicts the final grade by substituting the intermediate inspection results currently obtained from each of the intermediate inspection devices, and various data related to data analysis is displayed in a state accommodated in the data analysis station. And at least a display device Production line forming line monitoring system is being added.
【請求項13】 未完成状態の製品ワーク各々が各種製
造工程各々を順次介されることによって、最終製造工程
で完成状態の製品ワークを順次得るに際し、中間製造工
程での製品ワークに対する中間検査結果の良否程度にも
とづき、製品ワーク各々についてグレード分けを行い、
以降、グレードに応じた生産管理が行われる製造ライン
であって、各種製造工程よりなる製造ラインに対し、中
間製造工程で製品ワークに対し中間検査を行う中間検査
装置と、該中間検査装置から現に得られている中間検査
データを解析することによって、中間検査に係る製品ワ
ークについての良否程度をグレードとして判定するデー
タ解析ステーションと、該データ解析ステーションから
の製品ワーク対応のグレードに応じて、以降、製品ワー
ク各々について生産管理を行う生産管理ステーション
と、を少なくとも含む製造ライン監視システムが付加さ
れてなる製造ライン。
13. An intermediate inspection result for a product work in an intermediate manufacturing process when sequentially obtaining a product work in a completed state in a final manufacturing process by sequentially passing each unfinished product work through each manufacturing process. Grade each product work based on the quality level,
After that, a production line in which production control is performed according to the grade, and for a production line including various production processes, an intermediate inspection device that performs an intermediate inspection of a product work in the intermediate production process, and the intermediate inspection device By analyzing the obtained intermediate inspection data, the data analysis station that determines the quality level of the product work related to the intermediate inspection as a grade, and the grade corresponding to the product work from the data analysis station, A production line including a production line monitoring system including at least a production control station for controlling production of each product work.
【請求項14】 未完成状態の半導体ウエハ各々が各種
製造工程各々を順次介されることによって、最終製造工
程で完成状態の半導体ウエハを順次得るに際し、中間製
造工程での半導体ウエハ上のチップ各々に対する中間検
査結果と、最終製造工程での半導体ウエハ上のチップ各
々に対する最終検査結果とにもとづき、半導体ウエハ上
の不良カテゴリの発生率を予測するための機能が具備さ
れた製造ラインであって、各種製造工程よりなる製造ラ
インに対し、中間製造工程各々で半導体ウエハ上のチッ
プ各々に対し中間検査を行う1以上の中間検査装置と、
最終製造工程で半導体ウエハ上のチップ各々に対し最終
検査を行う最終検査装置と、上記中間検査装置からの中
間検査データをチップ識別データとともに更新可として
記憶する中間検査データベースと、最終検査装置からの
最終検査データをチップ識別データとともに更新可とし
て記憶する最終検査データベースと、上記中間検査デー
タベース、最終検査データベース各々からの、半導体ウ
エハ上での不良カテゴリ発生率の予測に必要とされる最
新検査データを更新可として記憶する不良カテゴリ発生
率予測データベースと、上記中間検査装置、最終検査装
置、中間検査データベース、最終検査データベースおよ
び不良カテゴリ発生率予測データベース各々を収容した
上、不良カテゴリ発生率予測データベースに記憶されて
いる最新検査データを不良カテゴリ発生率予測データと
して、該不良カテゴリ発生率予測データより解析され
た、中間検査不良チップ数、不良カテゴリ間での最新相
関関係を示す関数式に、中間検査装置各々より現に得ら
れている中間検査不良チップ数を代入することによっ
て、半導体ウエハ上での不良カテゴリの発生率を予測す
るデータ解析ステーションと、該データ解析ステーショ
ンに収容された状態で、データ解析に係る各種データを
表示する表示装置と、を少なくとも含む製造ライン監視
システムが付加されてなる製造ライン。
14. The semiconductor wafer in an unfinished state is sequentially subjected to various manufacturing steps to sequentially obtain semiconductor wafers in a finished state in a final manufacturing step, with respect to each chip on the semiconductor wafer in an intermediate manufacturing step. A manufacturing line equipped with a function for predicting a failure category occurrence rate on a semiconductor wafer based on an intermediate inspection result and a final inspection result for each chip on a semiconductor wafer in a final manufacturing process. One or more intermediate inspection devices that perform an intermediate inspection on each chip on a semiconductor wafer in each intermediate manufacturing process for a manufacturing line consisting of manufacturing processes;
A final inspection device that performs a final inspection on each chip on the semiconductor wafer in the final manufacturing process, an intermediate inspection database that stores the intermediate inspection data from the intermediate inspection device together with the chip identification data as updatable, and a final inspection device. The final inspection database that stores the final inspection data together with the chip identification data as updatable, and the latest inspection data required for predicting the defect category occurrence rate on the semiconductor wafer from each of the intermediate inspection database and the final inspection database. The defect category occurrence rate prediction database that is stored as updatable, the intermediate inspection apparatus, the final inspection apparatus, the intermediate inspection database, the final inspection database, and the defect category occurrence rate prediction database are stored in the defect category occurrence rate prediction database. Latest inspection day As defective category occurrence rate prediction data, the number of intermediate inspection defective chips analyzed from the defective category occurrence rate prediction data, a function formula showing the latest correlation between defective categories, is actually obtained from each intermediate inspection device. A data analysis station that predicts the occurrence rate of failure categories on a semiconductor wafer by substituting the number of defective chips for intermediate inspection, and various data related to data analysis is displayed in a state of being housed in the data analysis station. A production line including a production line monitoring system including at least a display device.
JP1623993A 1993-02-03 1993-02-03 Monitoring system for manufacturing line, and manufacturing line Pending JPH06232018A (en)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000065638A1 (en) * 1999-04-27 2000-11-02 Hitachi, Ltd. Method for predicting yield on semiconductor product and apparatus therefor
JP2007018505A (en) * 2005-06-10 2007-01-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd Production management method
JP2007524859A (en) * 2003-01-31 2007-08-30 イールドブースト テック インコーポレイテッド System and method for monitoring, predicting and optimizing product yield in a liquid crystal display manufacturing process
JP2008077263A (en) * 2006-09-20 2008-04-03 Omron Corp Unit and method for estimating selection rate, program and recording medium

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