JPH06230496A - Silver halide photographic sensitive material and image forming method using the same - Google Patents

Silver halide photographic sensitive material and image forming method using the same

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JPH06230496A
JPH06230496A JP35474892A JP35474892A JPH06230496A JP H06230496 A JPH06230496 A JP H06230496A JP 35474892 A JP35474892 A JP 35474892A JP 35474892 A JP35474892 A JP 35474892A JP H06230496 A JPH06230496 A JP H06230496A
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silver halide
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hydrogen atom
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Kazuki Yamazaki
一樹 山崎
Nobuaki Inoue
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  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain extremely high contrast photographic characteristics even at the time of using a stable low pH developer by using a specific silver halide emulsion. CONSTITUTION:The silver halide emulsion comprises chemically sensitized silver halide grains having a >=50mole% silver chloride content, which contain 1X10<-8> to 5X10<-6> mole rhodium compound per mole of silver and 1X10<-8> to 1X10<-6> mole iridium compound per mole of silver. Further at least one of the emulsion layers or other hydrophilic-colloidal layers contains at least one hydrazine derivative and the silver halide emulsion is spectrally sensitized with at least one dyestuff selected from among compounds represented by the formula, etc. In the formula, each of V31 and V33 is a hydrogen atom or an electron- attracting group; each of V32 and V34 is an electron-attracting group; each of R31-R34 is an alkyl or alkenyl group having <=10 carbon atoms, wherein at least one of R31-R34 is a group contg. a sulfo or carboxyl group; X31 is a counter ion necessary for neutralizing charge; n31 is 0 or 1, wherein n31 is 0 when the compound is an inner salt.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀写真感光
材料に関し、特に写真製版用に用いられる超硬調ハロゲ
ン化銀写真感光材料に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material, and more particularly to an ultrahigh-contrast silver halide photographic light-sensitive material used for photolithography.

【0002】[0002]

【従来の技術】グラフィックアーツの分野においては網
点画像による連続階調の画像の再生あるいは線画像の再
生を良好ならしめるために、超硬調(特にγが10以
上)の写真特性を示す画像形成システムが必要である。
良好な保存安定性を有する処理液で現像し、超硬調な写
真特性が得られる画像形成システムが要望され、その一
つとして米国特許4,166,742号、同4,16
8,977号、同4,221,857号、同4,22
4,401号、同4,243,739号、同4,27
2,606号、同4,311,781号にみられるよう
に、特定のアシルヒドラジン化合物を添加した表面潜像
型ハロゲン化銀写真感光材料を、亜硫酸保恒剤を0.1
5モル/リットル以上含むpH11.0〜12.3の現
像液で処理して、γが10を越える超硬調のネガ画像を
形成するシステムが提案された。この新しい画像形成シ
ステムには、従来の超硬調画像形成では塩化銀含有率の
高い塩臭化銀しか使用できなかったのに対して、沃臭化
銀や塩沃臭化銀でも使用できるという特徴がある。ま
た、従来のリス現像液が極く微量の亜硫酸保恒剤しか含
有できなかったのに対して、多量の亜硫酸保恒剤を含有
できるので、比較的保存安定性がよいという点も特徴で
ある。しかし、pHが11以上の現像液は、空気酸化さ
れ易く不安定で、長時間の保存や使用に耐えない。ヒド
ラジン化合物を含むハロゲン化銀感光材料を、より低い
pHの現像液で現像し、硬調な画像を作成する工夫が試
みられている。特開平1−179939、および特開平
1−179940には、ハロゲン化銀乳剤粒子に対する
吸着基を有する造核現像促進剤と、同じく吸着基を有す
る造核剤とを含む感材を用いて、pH11.0以下の現
像液で現像する処理方法が記載されている。
2. Description of the Related Art In the field of graphic arts, an image forming system showing photographic characteristics of ultra-high contrast (especially γ of 10 or more) in order to favorably reproduce a continuous tone image or a line image by a halftone image. is necessary.
There is a demand for an image forming system which can be developed with a processing solution having good storage stability to obtain ultra-high contrast photographic characteristics. One of them is US Pat. Nos. 4,166,742 and 4,16.
8,977, 4,221,857, 4,22
4,401, 4,243,739, 4,27
Nos. 2,606 and 4,311,781, a surface latent image type silver halide photographic light-sensitive material containing a specific acylhydrazine compound is added to a sulphite preservative.
A system has been proposed which forms a super-high contrast negative image in which γ exceeds 10 by processing with a developer having a pH of 11.0 to 12.3 containing 5 mol / liter or more. This new image forming system can only use silver chlorobromide, which has a high content of silver chloride in conventional ultrahigh contrast image formation, whereas silver iodobromide and silver chloroiodobromide can also be used. There is. Another feature is that the conventional lith developer can contain a very small amount of sulfite preservative, whereas it can contain a large amount of sulfite preservative, so that it has relatively good storage stability. . However, a developer having a pH of 11 or more is easily oxidized by air and is unstable, and cannot be stored or used for a long time. Attempts have been made to develop a high-contrast image by developing a silver halide light-sensitive material containing a hydrazine compound with a developer having a lower pH. In JP-A-1-179939 and JP-A-1-179940, a photosensitive material containing a nucleation development accelerator having an adsorptive group for silver halide emulsion grains and a nucleating agent also having an adsorptive group was used to obtain a pH of 11 A processing method of developing with a developing solution of 0.0 or less is described.

【0003】米国特許第4,998.604号、同4,
994,365号、同4,975,354号には、エチ
レンオキシドの繰り返し単位を有するヒドラジン化合
物、およびピリジニウム基を有するヒドラジン化合物が
開示されている。しかしながら、実施例の記載からみる
と、これらの発明では、硬調性が充分でなく、実用的な
現像処理条件で硬調性と必要なDmaxを得ることは困難で
ある。また、ヒドラジン誘導体を用いた造核硬調感材
は、現像液のpHの変化に伴う写真性の変化幅が大き
い。現像液のpHは、現像液の空気酸化、および水の蒸
発による濃厚化による上昇、または空気中の二酸化炭素
の吸収による低下などにより、大きく変動する。従っ
て、写真性能の現像液pH依存性を小さくする工夫が試
みられている。ヒドラジン類を用いた系で、化学増感さ
れた塩臭化銀を用いた例は、特開昭53−20921
号、同60−83028号、同60−140399号、
同63−46437号、同63−103230号、特開
平3−294844号、同3−294845号、同4−
174424号、特願平3−188230号等に開示さ
れている。一方、ヒドラジン類とロジウム、イリジウム
等の重金属錯体を含んだハロゲン化銀乳剤を併用した例
は、特開昭60−83028号、同61−47942
号、同61−47943号、同61−29837号、同
62−201233号、同62−235947号、同6
3−103232号等に開示されている。
US Pat. Nos. 4,998,604, 4,
994, 365 and 4,975,354 disclose a hydrazine compound having a repeating unit of ethylene oxide and a hydrazine compound having a pyridinium group. However, from the description of the examples, these inventions do not have sufficient contrast, and it is difficult to obtain the contrast and required Dmax under practical development processing conditions. Further, the nucleating hard contrast material using a hydrazine derivative has a wide range of change in photographic property with a change in pH of the developer. The pH of the developer greatly changes due to air oxidation of the developer and increase due to concentration by evaporation of water, or decrease due to absorption of carbon dioxide in the air. Therefore, attempts have been made to reduce the dependence of photographic performance on the pH of the developer. An example using chemically sensitized silver chlorobromide in a system using hydrazines is disclosed in JP-A-53-20921.
No. 60-83028, No. 60-140399,
63-46437, 63-103230, JP-A-3-294844, 3-294845 and 4-.
No. 174424 and Japanese Patent Application No. 3-188230. On the other hand, examples of combined use of silver halide emulsions containing hydrazines and heavy metal complexes such as rhodium and iridium are disclosed in JP-A-60-83028 and 61-47942.
No. 61, No. 61-47943, No. 61-29837, No. 62-201233, No. 62-235947, No. 6
No. 3-103232 and the like.

【0004】ヒドラジン類を用いた系で、アニオン荷電
を有するシアニン色素を含有する例は5,5’−ジクロ
ロ−9−エチル−3,3’−ビス(3−スルフォプロピ
ル)オキサカルボシアニンのアルカリ塩をはじめとし
て、多数開示されており、例としては、特開昭61−2
9837号、同62−235947号、同62−280
733号、同62−280734号、特開平2−40
号、同2−124560号、同2−262653号、同
3−63641号等に記載されている。
An example of a system using hydrazines containing a cyanine dye having an anion charge is 5,5'-dichloro-9-ethyl-3,3'-bis (3-sulfopropyl) oxacarbocyanine. Many are disclosed, including alkali salts, and examples thereof include JP-A-61-2.
9837, 62-235947, 62-280.
No. 733, No. 62-280734, and JP-A No. 2-40.
No. 2-124560, No. 2-262655, and No. 3-63641.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】[Problems to be Solved by the Invention]

【0006】本発明の目的は第一に、安定な現像液を用
いてガンマが10を越える極めて硬調な写真性を得るこ
とができるハロゲン化銀写真感光材料を提供することで
ある。本発明の第二の目的は、pH11以下の現像液で
硬調化し、大量に処理しても性能変動が小さいハロゲン
化銀写真感光材料を提供することである。本発明の第三
の目的は、空気酸化の進んだ現像液で処理しても黒ポツ
(非画像部に生じる微小な黒いスポット)の発生が少な
いハロゲン化銀写真感光材料を提供することである。
The first object of the present invention is to provide a silver halide photographic light-sensitive material capable of obtaining extremely hard photographic properties with a gamma of more than 10 using a stable developing solution. A second object of the present invention is to provide a silver halide photographic light-sensitive material which is made to have a high contrast with a developing solution having a pH of 11 or less and whose performance does not fluctuate even when processed in a large amount. A third object of the present invention is to provide a silver halide photographic light-sensitive material in which black spots (fine black spots generated in non-image areas) are less likely to occur even when treated with a developer having advanced air oxidation. .

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記の課題は、支持体上
に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲ
ン化銀写真感光材料において、該ハロゲン化銀乳剤が銀
1モルあたり1×10-8から5×10-6モルのロジウム
化合物および銀1モルあたり1×10-6から1×10-8
モルのイリジウム化合物を含有する塩化銀含有率50モ
ル%以上の化学増感されたハロゲン化銀粒子からなり、
かつ該乳剤層もしくは他の親水性コロイド層の少なくと
も一層中に少なくとも一種のヒドラジン誘導体を含有
し、かつ該ハロゲン化銀乳剤が下記一般式(1)、
(2)、(3)から選ばれる少なくとも一種の色素によ
り分光増感されていることを特徴とするハロゲン化銀写
真感光材料。一般式(1)
The above-mentioned problems are solved in a silver halide photographic light-sensitive material having at least one silver halide emulsion layer on a support, wherein the silver halide emulsion is 1 × 10 per mol of silver. 8 to 5 × 10 -6 mol of rhodium compound and 1 × 10 -6 to 1 × 10 -8 per mol of silver
Consisting of chemically sensitized silver halide grains having a silver chloride content of 50 mol% or more, containing mols of iridium compound,
And at least one hydrazine derivative is contained in at least one layer of the emulsion layer or other hydrophilic colloid layer, and the silver halide emulsion has the following general formula (1):
A silver halide photographic light-sensitive material, which is spectrally sensitized with at least one dye selected from (2) and (3). General formula (1)

【0008】[0008]

【化7】 [Chemical 7]

【0009】式中、W1 およびW4 は水素原子を表す。
3 およびW6 は水素原子、メチル基またはメトキシ基
を表す。W2 は、総炭素数6以下の分岐していても良い
アルキル基、総炭素数5以下のアルコキシ基、臭素原
子、沃素原子または総炭素数9以下のアリール基を表す
他、W1 またはW3 と連結してベンゼン環を形成しても
良く、W3 がメチル基またはまたはメトキシ基を表す場
合には塩素原子をも表す。W5 は総炭素数6以下の分岐
していても良いアルキル基、総炭素数5以下のアルコキ
シ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、総炭素数9以下の
アリール基、総炭素数9以下のアリールオキシ基、総炭
素数8以下のアリールチオ基、総炭素数4以下のアルキ
ルチオ基、総炭素数4以下のアシルアミノ基を表す他、
4 またはW6 と連結してベンゼン環を形成しても良い
ことを表す。R1 およびR2 は同一であっても異なって
いても良く、総炭素数10以下の置換されていても良い
アルキル基またはアルケニル基を表し、R1 またはR2
のうちの少なくとも一方はスルホ基またはカルボキシ基
を有する基である。R3 は置換されていても良い低級ア
ルキル基を表す。X1 は、電荷を中和するに必要な対イ
オンを表す。n1は、0または1を表し、分子内塩の場
合は0である。一般式(2)
In the formula, W 1 and W 4 represent a hydrogen atom.
W 3 and W 6 represent a hydrogen atom, a methyl group or a methoxy group. W 2 represents an optionally branched alkyl group having a total carbon number of 6 or less, an alkoxy group having a total carbon number of 5 or less, a bromine atom, an iodine atom, or an aryl group having a total carbon number of 9 or less, and W 1 or W 3 may form a benzene ring in conjunction with the case where W 3 represents a methyl group or a or a methoxy group also represent a chlorine atom. W 5 is an optionally branched alkyl group having a total carbon number of 6 or less, an alkoxy group having a total carbon number of 5 or less, a halogen atom, a hydroxy group, an aryl group having a total carbon number of 9 or less, and an aryloxy having a total carbon number of 9 or less. Group, an arylthio group having a total carbon number of 8 or less, an alkylthio group having a total carbon number of 4 or less, an acylamino group having a total carbon number of 4 or less,
It means that a benzene ring may be formed by linking with W 4 or W 6 . R 1 and R 2 may be the same or different and each represents an optionally substituted alkyl group or alkenyl group having 10 or less carbon atoms, R 1 or R 2
At least one of the groups is a group having a sulfo group or a carboxy group. R 3 represents an optionally substituted lower alkyl group. X 1 represents a counter ion necessary for neutralizing the electric charge. n1 represents 0 or 1, and is 0 in the case of an inner salt. General formula (2)

【0010】[0010]

【化8】 [Chemical 8]

【0011】式中、V1 は水素原子を表す。V2 は、水
素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、分岐していても
良い低級アルキル基、低級アルコキシ基、総炭素数9以
下のアリール基、総炭素数9以下のアリールオキシ基、
総炭素数8以下のアリールチオ基、低級アルキルチオ
基、総炭素数4以下のアシルアミノ基を表す他、V1
たはV3 と連結してベンゼン環を形成しても良いことを
表す。V3 は水素原子、メチル基またはメトキシ基を表
す。V4 は電子吸引基を表し、V5 は水素原子、フッ素
原子、塩素原子または臭素原子を表す。R21、R22およ
びR23は同一でも異なっていても良く、総炭素数10以
下の置換されていても良いアルキル基またはアルケニル
基を表し、R21、R22またはR23のうち少なくとも一つ
はスルホ基またはカルボキシ基を有する基である。X21
は、電荷を中和するに必要な対イオンを表す。n21は、
0または1を表し、分子内塩の場合は0である。一般式
(3)
In the formula, V 1 represents a hydrogen atom. V 2 is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, an optionally branched lower alkyl group, a lower alkoxy group, an aryl group having a total carbon number of 9 or less, an aryloxy group having a total carbon number of 9 or less,
It represents an arylthio group having a total carbon number of 8 or less, a lower alkylthio group, an acylamino group having a total carbon number of 4 or less, and also represents that a benzene ring may be formed by linking with V 1 or V 3 . V 3 represents a hydrogen atom, a methyl group or a methoxy group. V 4 represents an electron-withdrawing group, and V 5 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom. R 21 , R 22 and R 23, which may be the same or different, each represents an optionally substituted alkyl group or alkenyl group having 10 or less carbon atoms, and at least one of R 21 , R 22 and R 23 Is a group having a sulfo group or a carboxy group. X 21
Represents a counter ion necessary for neutralizing the charge. n 21 is
Represents 0 or 1, and is 0 in the case of an inner salt. General formula (3)

【0012】[0012]

【化9】 [Chemical 9]

【0013】式中、V31、V33は水素原子または電子吸
引性基を表わし、V32、V34は電子吸引性基を表わす。
31、R32、R33およびR34は同一でも異なっていても
よく総炭素数10以下の置換されてもよいアルキル基ま
たはアルケニル基を表わし、R31、R32、R33またはR
34のうち少なくとも一つはスルホ基またはカルボキシ基
を有する基である。X31は電荷を中和するに必要な対イ
オンを表わす。n31は0または1を表わし、分子内塩の
場合は0である。本発明のハロゲン化銀写真感光材料に
用いるハロゲン化銀乳剤はハロゲン化銀として、塩化銀
含有率50モル%以上を含有する塩臭化銀、沃塩臭化銀
がである。沃化銀含有率は3モル%以下、より好ましく
は0.5モル%以下である。ハロゲン化銀粒子の形状
は、立方体、十四面体、八面体、不定型、板状いずれで
も良いが、立方体が好ましい。ハロゲン化銀の平均粒径
は0.1μm〜0.7μmが好ましいが、より好ましく
は0.2μm〜0.5μmである。粒径分布に関して
は、{(粒径の標準偏差)/(平均粒径)}×100で
表される変動係数が15%以下、より好ましくは10%
以下の粒径分布の狭いものが好ましい。ハロゲン化銀粒
子は内部と表層が均一な層からなっていても、異なる層
からなっていても良い。
In the formula, V 31 and V 33 represent a hydrogen atom or an electron-withdrawing group, and V 32 and V 34 represent an electron-withdrawing group.
R 31 , R 32 , R 33 and R 34 may be the same or different and each represents an optionally substituted alkyl group or alkenyl group having 10 or less carbon atoms, and R 31 , R 32 , R 33 or R 34
At least one of 34 is a group having a sulfo group or a carboxy group. X 31 represents a counter ion necessary for neutralizing the electric charge. n 31 represents 0 or 1, and is 0 in the case of an intramolecular salt. The silver halide emulsion used in the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention contains, as the silver halide, silver chlorobromide and silver iodochlorobromide having a silver chloride content of 50 mol% or more. The silver iodide content is 3 mol% or less, more preferably 0.5 mol% or less. The shape of the silver halide grains may be any of cubic, tetradecahedral, octahedral, amorphous and plate-like, but cubic is preferred. The average grain size of silver halide is preferably 0.1 μm to 0.7 μm, more preferably 0.2 μm to 0.5 μm. Regarding the particle size distribution, the coefficient of variation represented by {(standard deviation of particle size) / (average particle size)} × 100 is 15% or less, more preferably 10%
The following ones having a narrow particle size distribution are preferable. The silver halide grains may have a uniform inner layer and a surface layer, or may have different layers.

【0014】本発明に用いられる写真乳剤は、P.Glafki
des著 Chimie et Physique Photographique (Paul Mo
ntel社刊、1967年)、G.F.Dufin著 Photographic E
mulsion Chemistry(The Forcal Press刊、1966
年)、V.L.Zelikman et al著Making nd Coating Photog
raphic Emulsion(The Focal Press刊、1964年)な
どに記載された方法を用いて調製することができる。
The photographic emulsion used in the present invention is P. Glafki.
by Chimie et Physique Photographique (Paul Mo
ntel, 1967), by GF Dufin Photographic E
mulsion Chemistry (The Forcal Press, 1966
), VL Zelikman et al Making nd Coating Photog
It can be prepared using the method described in raphic Emulsion (The Focal Press, 1964) and the like.

【0015】可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させ
る方法としては、片側混合法、同時混合法、それらの組
み合わせなどのいずれを用いても良い。粒子を銀イオン
過剰の下において形成させる方法(いわゆる逆混合法)
を用いることもできる。同時混合法の一つの形式として
ハロゲン化銀の生成される液相中のpAgを一定に保つ
方法、すなわち、いわゆるコントロールド・ダブルジェ
ット法を用いることもできる。またアンモニア、チオエ
ーテル、四置換チオ尿素等のいわゆるハロゲン化銀溶剤
を使用して粒子形成させることが好ましい。より好まし
くは四置換チオ尿素化合物であり、特開昭53−824
08号、同55−77737号に記載されている。好ま
しいチオ尿素化合物はテトラメチルチオ尿素、1,3−
ジメチル−2−イミダゾリジンチオンである。コントロ
ールド・ダブルジェット法およびハロゲン化銀溶剤を使
用した粒子形成方法では、結晶型が規則的で粒子サイズ
分布の狭いハロゲン化銀乳剤を作るのが容易であり、本
発明に用いられるハロゲン化銀乳剤を作るのに有用な手
段である。また、粒子サイズを均一にするためには、英
国特許第1,535,016号、特公昭48−3689
0、同52−16364号に記載されているように、硝
酸銀やハロゲン化アルカリの添加速度を粒子成長速度に
応じて変化させる方法や、英国特許第4,242,44
5号、特開昭55−158124号に記載されているよ
うに水溶液の濃度を変化させる方法を用いて、臨界飽和
度を越えない範囲において早く成長させることが好まし
い。
As the method for reacting the soluble silver salt and the soluble halogen salt, any of a one-sided mixing method, a simultaneous mixing method and a combination thereof may be used. Method of forming grains in the presence of excess silver ion (so-called reverse mixing method)
Can also be used. As one form of the simultaneous mixing method, a method of keeping pAg constant in the liquid phase in which silver halide is produced, that is, a so-called controlled double jet method can be used. Further, it is preferable to form grains using a so-called silver halide solvent such as ammonia, thioether, or tetra-substituted thiourea. More preferably, it is a tetra-substituted thiourea compound and is disclosed in JP-A-53-824.
08, 55-77737. Preferred thiourea compounds are tetramethylthiourea, 1,3-
Dimethyl-2-imidazolidinethione. In the controlled double jet method and the grain forming method using a silver halide solvent, it is easy to prepare a silver halide emulsion having a regular crystal form and a narrow grain size distribution. It is a useful tool for making emulsions. Further, in order to make the particle size uniform, British Patent No. 1,535,016 and Japanese Examined Patent Publication No. 48-3689.
0, No. 52-16364, a method of changing the addition rate of silver nitrate or an alkali halide according to the grain growth rate, and British Patent No. 4,242,44.
As described in JP-A-55-158124 and JP-A-55-158124, it is preferable to use the method of changing the concentration of the aqueous solution to grow it quickly within a range not exceeding the critical saturation.

【0016】本発明のハロゲン化銀写真感光材料は高コ
ントラスト及び低カブリを達成するために、ロジウム化
合物を含有する。本発明に用いられるロジウム化合物と
して、水溶性ロジウム化合物を用いることができる。た
とえば、ハロゲン化ロジウム(III )化合物、またはロ
ジウム錯塩で配位子としてハロゲン、アミン類、オキザ
ラト等を持つもの、たとえば、ヘキサクロロロジウム
(III )錯塩、ヘキサブロモロジウム(III )錯塩、ヘ
キサアンミンロジウム(III )錯塩、トリザラトロジウ
ム(III )錯塩等が挙げられる。これらのロジウム化合
物は、水あるいは適当な溶媒に溶解して用いられるが、
ロジウム化合物の溶液を安定化させるために一般によく
行われる方法、すなわち、ハロゲン化水素水溶液(たと
えば塩酸、臭酸、フッ酸等)、あるいはハロゲン化アル
カリ(たとえばKCl、NaCl、KBr、NaBr
等)を添加する方法を用いることができる。水溶性ロジ
ウムを用いる代わりにハロゲン化銀調製時に、あらかじ
めロジウムをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添
加して溶解させることも可能である。
The silver halide photographic light-sensitive material of the present invention contains a rhodium compound in order to achieve high contrast and low fog. As the rhodium compound used in the present invention, a water-soluble rhodium compound can be used. For example, a rhodium (III) halide compound or a rhodium complex salt having a halogen, an amine, oxalate, etc. as a ligand, such as a hexachlororhodium (III) complex salt, a hexabromorhodium (III) complex salt, a hexaamminerhodium ( III) complex salts, trizalatrodium (III) complex salts and the like. These rhodium compounds are used by dissolving them in water or a suitable solvent,
A commonly used method for stabilizing a solution of a rhodium compound is an aqueous hydrogen halide solution (eg hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydrofluoric acid, etc.) or an alkali halide (eg KCl, NaCl, KBr, NaBr).
Etc.) can be used. Instead of using water-soluble rhodium, it is also possible to add and dissolve another silver halide grain which has been previously doped with rhodium when preparing the silver halide.

【0017】本発明に係わるロジウム化合物の全添加量
は、最終的に形成されるハロゲン化銀1モルあたり1×
10-8〜5×10-6モルが適当であり、好ましくは5×
10-8〜1×10-6モルである。これらの化合物の添加
は、ハロゲン化銀乳剤粒子の製造時及び乳剤を塗布する
前の各段階において適宜行うことができるが、特に乳剤
形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれるこ
とが好ましい。
The total addition amount of the rhodium compound according to the present invention is 1 × per mol of finally formed silver halide.
10 -8 to 5 × 10 -6 mol is suitable, preferably 5 ×
It is 10 −8 to 1 × 10 −6 mol. The addition of these compounds can be appropriately carried out during the production of silver halide emulsion grains and before each step of coating the emulsion, but it is particularly preferable to add these compounds at the time of emulsion formation and to incorporate them into the silver halide grains. .

【0018】本発明のハロゲン化銀写真感光材料は高感
度および高コントラストを達成するために、イリジウム
化合物を含有する。本発明で用いられるイリジウム化合
物としては種々のものを使用できるが、例えばヘキサク
ロロイリジウム、ヘキサアンミンイリジウム、トリオキ
ザラトイリジウム、ヘキサシアノイリジウム等が挙げら
れる。これらのイリジウム化合物は、水あるいは適当な
溶媒に溶解して用いられるが、イリジウム化合物の溶液
を安定化させるために一般によく行われる方法、すなわ
ち、ハロゲン化水素水溶液(たとえば塩酸、臭酸、フッ
酸等)、あるいはハロゲン化アルカリ(たとえばKC
l、NaCl、KBr、NaBr等)を添加する方法を
用いることができる。水溶性イリジウムを用いる代わり
にハロゲン化銀調製時に、あらかじめイリジウムをドー
プしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる
ことも可能である。
The silver halide photographic light-sensitive material of the present invention contains an iridium compound in order to achieve high sensitivity and high contrast. As the iridium compound used in the present invention, various compounds can be used, and examples thereof include hexachloroiridium, hexaammineiridium, trioxalatoiridium, hexacyanoiridium and the like. These iridium compounds are used by dissolving them in water or a suitable solvent, and they are generally used to stabilize the solution of the iridium compound, that is, an aqueous solution of hydrogen halide (for example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydrofluoric acid). Etc.) or an alkali halide (eg KC
1, NaCl, KBr, NaBr, etc.) can be used. Instead of using water-soluble iridium, it is also possible to add and dissolve another silver halide grain which is previously doped with iridium when preparing the silver halide.

【0019】本発明に係わるイリジウム化合物の全添加
量は、最終的に形成されるハロゲン化銀1モルあたり1
×10-8〜5×10ー6モルが適当であり、好ましくは5
×10-8〜1×10-6モルである。これらの化合物の添
加は、ハロゲン化銀乳剤粒子の製造時及び乳剤を塗布す
る前の各段階において適宜行うことができるが、特に乳
剤形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれる
ことが好ましい。
The total addition amount of the iridium compound according to the present invention is 1 per mol of the finally formed silver halide.
X10 -8 to 5 X 10 -6 mol is suitable, and preferably 5
It is x10 -8 to 1 x 10 -6 mol. The addition of these compounds can be appropriately carried out during the production of silver halide emulsion grains and before each step of coating the emulsion, but it is particularly preferable to add these compounds at the time of emulsion formation and to incorporate them into the silver halide grains. .

【0020】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子に、
鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、パラジウム、白
金、金、タリウム、銅、鉛、オスミウム等の金属原子を
含有してもよい。上記金属はハロゲン化銀1モルあたり
1×10-9〜1×10-4モルが好ましい。また、上記金
属を含有せしめるには単塩、複塩、または錯塩の形の金
属塩にして粒子調製時に添加することができる。
The silver halide grains used in the present invention include
It may contain metal atoms such as iron, cobalt, nickel, ruthenium, palladium, platinum, gold, thallium, copper, lead and osmium. The metal is preferably 1 × 10 −9 to 1 × 10 −4 mol per mol of silver halide. Further, in order to contain the above metal, a metal salt in the form of a single salt, a double salt or a complex salt can be added and added at the time of preparation of particles.

【0021】本発明のハロゲン化銀乳剤は化学増感され
ることが好ましい。化学増感の方法としては、硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法、貴金属増感法などの
知られている方法を用いることができ、単独または組み
合わせて用いられる。組み合わせて使用する場合には、
例えば、硫黄増感法と金増感法、硫黄増感法とセレン増
感法と金増感法、硫黄増感法とテルル増感法と金増感法
などが好ましい。
The silver halide emulsion of the present invention is preferably chemically sensitized. As the chemical sensitization method, known methods such as a sulfur sensitization method, a selenium sensitization method, a tellurium sensitization method and a noble metal sensitization method can be used, and they are used alone or in combination. When used in combination,
For example, a sulfur sensitizing method and a gold sensitizing method, a sulfur sensitizing method, a selenium sensitizing method and a gold sensitizing method, a sulfur sensitizing method, a tellurium sensitizing method and a gold sensitizing method are preferable.

【0022】本発明に用いられる硫黄増感は、通常、硫
黄増感剤を添加して、40℃以上の高温で乳剤を一定時
間攪拌することにより行われる。硫黄増感剤としては公
知の化合物を使用することができ、例えば、ゼラチン中
に含まれる硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合物、たと
えばチオ硫酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ローダニ
ン類等を用いることができる。好ましい硫黄化合物は、
チオ硫酸塩、チオ尿素化合物である。硫黄増感剤の添加
量は、化学熟成時のpH、温度、ハロゲン化銀粒子の大
きさなどの種々の条件の下で変化するが、ハロゲン化銀
1モル当り10-7〜10-2モルであり、より好ましくは
10-5〜10-3モルである。
The sulfur sensitization used in the present invention is usually carried out by adding a sulfur sensitizer and stirring the emulsion at a high temperature of 40 ° C. or higher for a certain period of time. As the sulfur sensitizer, known compounds can be used. For example, in addition to the sulfur compound contained in gelatin, various sulfur compounds such as thiosulfates, thioureas, thiazoles, and rhodanines are used. be able to. Preferred sulfur compounds are
Thiosulfate and thiourea compounds. The amount of the sulfur sensitizer added varies depending on various conditions such as pH, temperature and size of silver halide grains during chemical ripening, but it is 10 -7 to 10 -2 mol per mol of silver halide. And more preferably 10 −5 to 10 −3 mol.

【0023】本発明に用いられるセレン増感剤として
は、公知のセレン化合物を用いることができる。すなわ
ち、通常、不安定型および/または非不安定型セレン化
合物を添加して40℃以上の高温で乳剤を一定時間攪拌
することにより行われる。不安定型セレン化合物として
は特公昭44−15748号、同43−13489号、
特願平2−13097号、同2−229300号、同3
−121798号等に記載の化合物を用いることができ
る。特に特願平3−121798号中の一般式(VIII)
および(IX)で示される化合物を用いることが好ましい。
As the selenium sensitizer used in the present invention, known selenium compounds can be used. That is, it is usually carried out by adding an unstable and / or non-unstable selenium compound and stirring the emulsion at a high temperature of 40 ° C. or higher for a certain time. As unstable selenium compounds, JP-B-44-15748 and 43-13489,
Japanese Patent Application Nos. 2-13097, 2-229300, and 3
The compounds described in No. 121798 and the like can be used. Especially, the general formula (VIII) in Japanese Patent Application No. 3-121798.
It is preferable to use the compounds represented by and (IX).

【0024】本発明に用いられるテルル増感剤は、ハロ
ゲン化銀粒子表面または内部に、増感核になると推定さ
れるテルル化銀を生成せしめる化合物である。ハロゲン
化銀乳剤中のテルル化銀生成速度については特願平4−
146739号に記載の方法で試験することができる。
具体的には、米国特許第1,623,499号、同第
3,320,069号、同第3,772,031号、英
国特許第235,211号、同第1,121,496
号、同第1,295,462号、同第1,396,69
6号、カナダ特許第800,958号、特願平2−33
3819号、同3−53693号、同3−131598
号、同4−129787号、ジャーナル・オブ・ケミカ
ル・ソサイアティー・ケミカル・コミュニケーション
(J. Chem. Soc. Chem. Commun.) 635(1980),
ibid 1102(1979),ibid 645(197
9)、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアティー・
パーキン・トランザクション(J. Chem. Soc. Perkin. T
rans.)1,2191(1980)、S.パタイ(S. Patai)
編、ザ・ケミストリー・オブ・オーガニック・セレニウ
ム・アンド・テルリウム・カンパウンズ(The Chemistry
of Organic Serenium and Tellunium Compounds),Vol
1(1986)、同Vol 2(1987)に記載の化合物
を用いることができる。特に特願平4−146739号
中の一般式(II)(III)(IV) で示される化合物が好まし
い。
The tellurium sensitizer used in the present invention is a compound capable of producing silver telluride, which is presumed to be a sensitizing nucleus, on the surface or inside of the silver halide grain. Regarding the rate of silver telluride formation in a silver halide emulsion, Japanese Patent Application No. 4-
It can be tested by the method described in 146739.
Specifically, U.S. Pat. Nos. 1,623,499, 3,320,069, 3,772,031, British Patents 235,211 and 1,121,496.
No. 1, No. 1,295,462, No. 1,396,69
6, Canadian Patent No. 800,958, Japanese Patent Application No. 2-33
No. 3819, No. 3-53693, No. 3-131598.
No. 4-129787, Journal of Chemical Society Chemical Communication
(J. Chem. Soc. Chem. Commun.) 635 (1980),
ibid 1102 (1979), ibid 645 (197)
9), Journal of Chemical Society
Perkin Transaction (J. Chem. Soc. Perkin. T
rans.) 1,191 (1980), S. Patai
Hen, The Chemistry of Organic Selenium and Tellurium Companies (The Chemistry
of Organic Serenium and Tellunium Compounds), Vol
1 (1986) and the same Vol 2 (1987) can be used. Particularly preferred are the compounds represented by the general formulas (II) (III) (IV) in Japanese Patent Application No. 4-146739.

【0025】本発明で用いられるセレンおよびテルル増
感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成
条件等によって変わるが、一般にハロゲン化銀1モル当
たり10-8〜10-2モル、好ましくは10-7〜10-3
ル程度を用いる。本発明における化学増感の条件として
は特に制限はないが、pHとしては5〜8、pAgとし
ては6〜11、好ましくは7〜10であり、温度として
は40〜95℃、好ましくは45〜85℃である。本発
明に用いられる貴金属増感剤としては、金、白金、パラ
ジウム、イリジウム等が挙げられるが、特に金増感が好
ましい。本発明に用いられる金増感剤としては具体的に
は、塩化金酸、カリウムクロレート、カリウムオーリチ
オシアネート、硫化金などが挙げられ、ハロゲン化銀1
モル当たり10-7〜10-2モル程度を用いることができ
る。本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀
粒子の形成または物理熟成の過程においてカドミウム
塩、亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩などを共存させてもよ
い。本発明においては、還元増感を用いることができ
る。還元増感剤としては第一スズ塩、アミン類、ホルム
アミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いること
ができる。本発明のハロゲン化銀乳剤は、欧州公開特許
(EP)−293,917に示される方法により、チオ
スルホン酸化合物を添加してもよい。本発明に用いられ
る感光材料中のハロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよい
し、二種以上(例えば、平均粒子サイズの異なるもの、
ハロゲン組成の異なるもの、晶癖の異なるもの、化学増
感の条件の異なるもの)併用してもよい。
The amounts of the selenium and tellurium sensitizers used in the present invention vary depending on the silver halide grains used, the chemical ripening conditions and the like, but generally 10 -8 to 10 -2 mol per mol of silver halide, Preferably, about 10 -7 to 10 -3 mol is used. The conditions of the chemical sensitization in the present invention are not particularly limited, but the pH is 5 to 8, the pAg is 6 to 11, preferably 7 to 10, and the temperature is 40 to 95 ° C, preferably 45 to. It is 85 ° C. Examples of the noble metal sensitizer used in the present invention include gold, platinum, palladium and iridium, with gold sensitization being particularly preferred. Specific examples of the gold sensitizer used in the present invention include chloroauric acid, potassium chlorate, potassium aurithiocyanate, and gold sulfide.
About 10 −7 to 10 −2 mol can be used per mol. In the silver halide emulsion used in the present invention, a cadmium salt, a sulfite salt, a lead salt, a thallium salt and the like may coexist in the process of forming silver halide grains or physically ripening. Reduction sensitization can be used in the present invention. As the reduction sensitizer, stannous salt, amines, formamidinesulfinic acid, silane compound and the like can be used. To the silver halide emulsion of the present invention, a thiosulfonic acid compound may be added according to the method disclosed in European Patent Publication (EP) -293,917. The silver halide emulsion in the light-sensitive material used in the present invention may be of one kind or two or more kinds (for example, those having different average grain sizes,
Different halogen compositions, different crystal habits, different chemical sensitization conditions) may be used together.

【0026】本発明に用いられる増感色素は、下記一般
式(1)、(2)、(3)で表される化合物が好まし
い。一般式(1)
The sensitizing dye used in the present invention is preferably a compound represented by the following general formulas (1), (2) and (3). General formula (1)

【0027】[0027]

【化10】 [Chemical 10]

【0028】式中、W1 及びW4 は水素原子を表す。W
3 及びW5 は水素原子、メチル基またはメトキシ基を表
す。W2 は、総炭素数6以下の分岐していてもよいアル
キル基(例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、イソ
ブチル基、ヘキシル基、メトキシエチル基が、挙げられ
る。)、総炭素数5以下のアルコキシ基(例えばメトキ
シ基、エトキシ基、ペンチルオキシ基、エトキシメトキ
シ基、ヒドロキシエトキシ基等が挙げられる。)、臭素
原子、沃素原子または総炭素数9以下のアリール基(例
えば、フェニル基、トリル基、アニシル基、クロロフェ
ニル基、カルボキシフェニル基等)を表す他、W1 また
はW3 と連結してベンゼン環を形成してもよく、W3
メチル基またはメトキシ基を表す場合には塩素原子をも
表す。W5 は総炭素数6以下の分岐していてもよいアル
キル基(例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、イソ
ブチル基、ヘキシル基、メトキシエチル基が、挙げられ
る。)、総炭素数5以下のアルコキシ基(例えばメトキ
シ基、エトキシ基、ペンチルオキシ基、エトキシメトキ
シ基、ヒドロキシエトキシ基等が挙げられる。)、ヒド
ロキシ基、ハロゲン原子、総炭素数9以下のアリール基
(例えば、フェニル基、トリル基、アニシル基、クロロ
フェニル基、カルボキシフェニル基等)、総炭素数9以
下のアリールオキシ基(例えば、トリルオキシ基、アニ
シルオキシ基、フェノキシ基、クロロフェノキシ基)、
総炭素数8以下のアリールチオ基(例えば、トリルチオ
基、クロロフェニルチオ基、フェニルチオ基)、総炭素
数4以下のアルキルチオ基(例えばメチルチオ基、エチ
ルチオ基、ヒドロキシエチルチオ基等)、総炭素数4以
下のアシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、プロピ
オニルアミノ基、メタンスルホニルアミノ基等)を表す
ほか、W4 またはW6 と連結してベンゼン環を形成して
もよいことを表す。
In the formula, W 1 and W 4 represent a hydrogen atom. W
3 and W 5 represent a hydrogen atom, a methyl group or a methoxy group. W 2 is an optionally branched alkyl group having a total carbon number of 6 or less (for example, a methyl group, an ethyl group, a butyl group, an isobutyl group, a hexyl group, and a methoxyethyl group), and a total carbon number of 5 The following alkoxy group (for example, a methoxy group, an ethoxy group, a pentyloxy group, an ethoxymethoxy group, a hydroxyethoxy group and the like), a bromine atom, an iodine atom or an aryl group having a total carbon number of 9 or less (for example, a phenyl group, Tolyl group, anisyl group, chlorophenyl group, carboxyphenyl group, etc.) and may form a benzene ring by linking with W 1 or W 3. When W 3 represents a methyl group or a methoxy group, it is chlorine. Also represents an atom. W 5 is an optionally branched alkyl group having a total carbon number of 6 or less (for example, a methyl group, an ethyl group, a butyl group, an isobutyl group, a hexyl group, and a methoxyethyl group) and a total carbon number of 5 or less. Alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, pentyloxy group, ethoxymethoxy group, hydroxyethoxy group, etc.), hydroxy group, halogen atom, aryl group having a total carbon number of 9 or less (eg, phenyl group, tolyl group). Group, anisyl group, chlorophenyl group, carboxyphenyl group, etc.), aryloxy group having a total carbon number of 9 or less (for example, tolyloxy group, anisyloxy group, phenoxy group, chlorophenoxy group),
Arylthio groups having a total carbon number of 8 or less (eg, tolylthio group, chlorophenylthio group, phenylthio group), alkylthio groups having a total carbon number of 4 or less (eg, methylthio group, ethylthio group, hydroxyethylthio group, etc.), total carbon numbers of 4 or less Represents an acylamino group (for example, an acetylamino group, a propionylamino group, a methanesulfonylamino group, etc.) and also represents that it may be linked to W 4 or W 6 to form a benzene ring.

【0029】R1 及びR2 は同一でも異なっていてもよ
く、総炭素数10以下の置換されていてもよいアルキル
基又はアルケニル基を表し、R1 またはR2 のうちの少
なくとも一方はスルホ基またはカルボキシ基を有する基
である。アルキル基及びアルケニル基のより好ましい置
換基としては、例えば、スルホ基、カルボキシ基、ハロ
ゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数6以下のアルコキシ
基、炭素数8以下の置換されていてもよいアリール基
(例えば、フェニル基、トリル基、スルホフェニル基、
カルボキシフェニル基等)、複素環基(例えば、フリル
基、チエニル基等)、炭素数8以下の置換されていても
よいアリールオキシ基(例えば、クロロフェノキシ基、
フェノキシ基、スルホフェノキシ基、ヒドロキシフェノ
キシ基)、炭素数8以下のアシル基(例えば、ベンゼン
スルホニル基、メタンスルホニル基、アセチル基、プロ
ピオニル基等)、炭素数6以下のアルコキシカルボニル
基(例えば、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニ
ル基等)、シアノ基、炭素数6以下のアルキルチオ基
(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等)、炭素数8
以下の置換されていてもよいアリールチオ基(例えば、
フェニルチオ基、トリルチオ基等)、炭素数8以下の置
換されていてもよいカルバモイル基(例えば、カルバモ
イル基、N−エチルカルバモイル基等)、炭素数8以下
のアシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ基、メタン
スルホニルアミノ基等)等が挙げられる。置換基は、一
個以上有していてもよい。R1 及びR2 が表す基の具体
例としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
アリル基、ペンチル基、ヘキシル基、メトキシエチル
基、エトキシエチル基、フェネチル基、トリルエチル
基、スルホフェネチル基、2,2,2−トリフルオロエ
チル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、
カルバモイルエチル基、ヒドロキシエチル基、2−(2
−ヒドロキシエトキシ)エチル基、カルボキシメチル
基、カルボキシエチル基、エトキシカルボニルメチル
基、スルホエチル基、2−クロロ−3−スルホプロピル
基、3−スルホプロピル基、2−ヒドロキシ−3−スル
ホプロピル基、3−スルホブチル基、4−スルホブチル
基、2−(2,3−ジヒドロキシプロピルオキシ)エチ
ル基または2−〔2−(3−スルホプロピルオキシ)エ
トキシ〕エチル基等が挙げられる。
R 1 and R 2 may be the same or different and each represents an optionally substituted alkyl group or alkenyl group having 10 or less carbon atoms, and at least one of R 1 and R 2 is a sulfo group. Alternatively, it is a group having a carboxy group. More preferable substituents of the alkyl group and the alkenyl group include, for example, a sulfo group, a carboxy group, a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group having 6 or less carbon atoms, and an optionally substituted aryl group having 8 or less carbon atoms (for example, , Phenyl group, tolyl group, sulfophenyl group,
Carboxyphenyl group, etc.), heterocyclic group (eg, furyl group, thienyl group, etc.), optionally substituted aryloxy group having 8 or less carbon atoms (eg, chlorophenoxy group,
Phenoxy group, sulfophenoxy group, hydroxyphenoxy group), acyl group having 8 or less carbon atoms (eg, benzenesulfonyl group, methanesulfonyl group, acetyl group, propionyl group, etc.), alkoxycarbonyl group having 6 or less carbon atoms (eg, ethoxy) Carbonyl group, butoxycarbonyl group, etc.), cyano group, alkylthio group having 6 or less carbon atoms (eg, methylthio group, ethylthio group, etc.), carbon number 8
The following optionally substituted arylthio groups (eg,
A phenylthio group, a tolylthio group, etc.), an optionally substituted carbamoyl group having 8 or less carbon atoms (eg, carbamoyl group, N-ethylcarbamoyl group, etc.), an acylamino group having 8 or less carbon atoms (eg, acetylamino group, methane) Sulfonylamino group) and the like. It may have one or more substituents. Specific examples of the group represented by R 1 and R 2 include, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group,
Allyl group, pentyl group, hexyl group, methoxyethyl group, ethoxyethyl group, phenethyl group, tolylethyl group, sulfophenethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group ,
Carbamoylethyl group, hydroxyethyl group, 2- (2
-Hydroxyethoxy) ethyl group, carboxymethyl group, carboxyethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, sulfoethyl group, 2-chloro-3-sulfopropyl group, 3-sulfopropyl group, 2-hydroxy-3-sulfopropyl group, 3 -Sulfobutyl group, 4-sulfobutyl group, 2- (2,3-dihydroxypropyloxy) ethyl group, 2- [2- (3-sulfopropyloxy) ethoxy] ethyl group and the like can be mentioned.

【0030】R3 は置換されていてもよい低級アルキル
基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキ
シエチル基、ベンジル基、フェネチル基等。)を表す。
1 は、電荷を中和するに必要な対イオンを表す。n1
は、0または1を表し、分子内塩の場合は0である。一
般式(2)
R 3 represents an optionally substituted lower alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, methoxyethyl group, benzyl group, phenethyl group, etc.).
X 1 represents a counter ion necessary for neutralizing the electric charge. n 1
Represents 0 or 1, and is 0 in the case of an inner salt. General formula (2)

【0031】[0031]

【化11】 [Chemical 11]

【0032】式中、V1 は水素原子を表す。V2 は、水
素原子、分岐していてもよい低級アルキル基(総炭素数
6以下がより好ましく、例えば、メチル基、エチル基、
ブチル基、イソブチル基、ヘキシル基、メトキシエチル
基が、挙げられる。)、低級アルコキシ基(総炭素数5
以下がより好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ
基、ペンチルオキシ基、エトキシメトキシ基、ヒドロキ
シエトキシ基等が挙げられる。)、ヒドロキシ基、ハロ
ゲン原子、総炭素数9以下のアリール基(例えば、フェ
ニル基、トリル基、アニシル基、クロロフェニル基、カ
ルボキシフェニル基等)、総炭素数9以下のアリールオ
キシ基(例えば、トリルオキシ基、アニシルオキシ基、
フェノキシ基、クロロフェノキシ基)、総炭素数8以下
のアリールチオ基(例えば、トリルチオ基、クロロフェ
ニルチオ基、フェニルチオ基)、総炭素数4以下のアル
キルチオ基(例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ヒド
ロキシエチルチオ基等)、総炭素数4以下のアシルアミ
ノ基(例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ
基、メタンスルホニルアミノ基等)を表すほか、V1
たはV3 と連結してベンゼン環を形成してもよいことを
表す。V3 は水素原子、メチル基またはメトキシ基を表
す。V4 は電子吸引性基を表す。好ましい電子吸引性基
としてはハロゲン原子、低級パーフルオロアルキル基
(総炭素数5以下がより好ましく、例えば、トリフルオ
ロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2,
2,3,3−テトラフルオロプロピル基等が挙げられ
る)、アシル基(総炭素数8以下が好ましく、例えば、
アセチル基、プロピオニル基、ヘンゾイル基、メシチル
基及びベンゼンスルホンニル基等が挙げられる)、アル
キルスルファモイル基(総炭素数5以下がより好まし
く、例えば、メチルスルファモイル基、エチルスルファ
モイル基等が挙げられる)、カルボキシ基、アルキルカ
ルボニル基(総炭素数5以下がより好ましく、例えば、
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキ
シカルボニル基等が挙げられる)及びシアノ基等が挙げ
られる。V5 は水素原子または塩素原子を表す。
In the formula, V 1 represents a hydrogen atom. V 2 is a hydrogen atom, an optionally branched lower alkyl group (more preferably a total carbon number of 6 or less, for example, a methyl group, an ethyl group,
Examples thereof include a butyl group, an isobutyl group, a hexyl group and a methoxyethyl group. ), Lower alkoxy groups (total carbon number 5)
The following are more preferable, and examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, a pentyloxy group, an ethoxymethoxy group, and a hydroxyethoxy group. ), A hydroxy group, a halogen atom, an aryl group having a total carbon number of 9 or less (for example, phenyl group, tolyl group, anisyl group, chlorophenyl group, carboxyphenyl group, etc.), an aryloxy group having a total carbon number of 9 or less (for example, tolyloxy. Group, anisyloxy group,
Phenoxy group, chlorophenoxy group), arylthio group having a total carbon number of 8 or less (for example, tolylthio group, chlorophenylthio group, phenylthio group), alkylthio group having a total carbon number of 4 or less (for example, methylthio group, ethylthio group, hydroxyethylthio group) Etc.) represents an acylamino group having a total carbon number of 4 or less (for example, acetylamino group, propionylamino group, methanesulfonylamino group, etc.) and may form a benzene ring by linking with V 1 or V 3. Represent V 3 represents a hydrogen atom, a methyl group or a methoxy group. V 4 represents an electron-withdrawing group. As a preferable electron-withdrawing group, a halogen atom, a lower perfluoroalkyl group (more preferably a total carbon number of 5 or less, for example, trifluoromethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 2,
2,3,3-tetrafluoropropyl group and the like), acyl group (total carbon number is preferably 8 or less, for example,
Acetyl group, propionyl group, henzoyl group, mesityl group, benzenesulfonyl group and the like), alkylsulfamoyl group (total carbon number of 5 or less is more preferable, for example, methylsulfamoyl group, ethylsulfamoyl group Etc.), a carboxy group, an alkylcarbonyl group (more preferably a total carbon number of 5 or less, for example,
Methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group and the like) and cyano group and the like. V 5 represents a hydrogen atom or a chlorine atom.

【0033】R21、R22及びR23は同一でも異なってい
てもよく、R1 またはR2 と同意義を表し、R21、R22
またはR23のうちの少なくとも一つはスルホ基またはカ
ルボキシ基を有する基である。X21は、電荷を中和する
に必要な対イオンを表す。n21は、0または1を表し、
分子内塩の場合は0である。次に一般式(3)の増感色
素について説明する。一般式(3)
R 21 , R 22 and R 23, which may be the same or different, have the same meaning as R 1 or R 2, and R 21 , R 22
Alternatively, at least one of R 23 is a group having a sulfo group or a carboxy group. X 21 represents a counter ion necessary for neutralizing the charge. n 21 represents 0 or 1,
It is 0 in the case of an inner salt. Next, the sensitizing dye of the general formula (3) will be described. General formula (3)

【0034】[0034]

【化12】 [Chemical 12]

【0035】式中、V31、V33は水素原子またはV4
同意義を表わし、V32、V34はV4と同意義を表わす。
31、R32、R33およびR34は同一でも異なっていても
よくR1 またはR2 と同意義を表わし、R31、R32、R
33またはR34のうち少なくとも一つはスルホ基またはカ
ルボキシ基を有する基である。X31は電荷を中和するに
必要な対イオンを表わす。n31は0または1を表わし、
分子内塩の場合は0である。
In the formula, V 31 and V 33 have the same meaning as hydrogen atom or V 4, and V 32 and V 34 have the same meaning as V 4 .
R 31 , R 32 , R 33 and R 34, which may be the same or different, have the same meaning as R 1 or R 2, and R 31 , R 32 , R
At least one of 33 and R 34 is a group having a sulfo group or a carboxy group. X 31 represents a counter ion necessary for neutralizing the electric charge. n 31 represents 0 or 1,
It is 0 in the case of an inner salt.

【0036】本発明に用いる一般式(1)、(2)、
(3)で表される分光増感色素を本発明のハロゲン化銀
乳剤中に含有せしめるには、それらを直接乳剤中に分散
してもよいし、或いは水、メタノール、エタノール、プ
ロパノール、アセトン、メチルセルソルブ、2,2,
3,3,−テトラフルオロプロパノール、2,2,2−
トリフルオロエタノール、3−メトキシ−1−プロパノ
ール、3−メトキシ−1−ブタノール、1−メトキシ−
2−プロパノール、N,N−ジメチルホルムアミド等の
溶媒の単独もしくは混合溶媒に溶解して乳剤に添加して
もよい。また、米国特許3,469,987号明細書等
に記載のごとき、色素を揮発性の有機溶剤に溶解し、該
溶液を水または親水性コロイド中に分散し、この分散物
を乳剤中へ添加する方法、特公昭46−24,185号
等に記載のごとき、水不溶性色素を溶解することなしに
水溶性溶剤中に分散させ、この分散物を乳剤中へ添加す
る方法、特公昭44−23,389号、特公昭44−2
7,555号、特公昭57−22,091号等に記載さ
れているごとき、色素を酸に溶解し、該溶液を乳剤中へ
添加したり、酸または塩基を共存させて水溶液とし乳剤
中へ添加する方法、米国特許3,822,135号、米
国特許4,006,025号明細書等に記載のごとき、
界面活性剤を共存させて水溶液あるいはコロイド分散物
としたものを乳剤中へ添加する方法、特開昭53−10
2,733号、特開昭58−105,141号に記載の
ごとき、親水性コロイド中に色素を直接分散させ、その
分散物を乳剤中へ添加する方法、特開昭51−74,6
24号に記載のごとき、レッドシフトさせる化合物を用
いて色素を溶解し、該溶液を乳剤中へ添加する方法等を
用いる事も出来る。また、溶解に超音波を使用すること
も出来る。
General formulas (1), (2), used in the present invention,
In order to incorporate the spectral sensitizing dye represented by (3) into the silver halide emulsion of the present invention, they may be dispersed directly in the emulsion, or water, methanol, ethanol, propanol, acetone, Methyl cellosolve, 2,2
3,3, -Tetrafluoropropanol, 2,2,2-
Trifluoroethanol, 3-methoxy-1-propanol, 3-methoxy-1-butanol, 1-methoxy-
It may be added to the emulsion by dissolving it in a solvent such as 2-propanol or N, N-dimethylformamide alone or in a mixed solvent. Further, as described in US Pat. No. 3,469,987, etc., a dye is dissolved in a volatile organic solvent, the solution is dispersed in water or a hydrophilic colloid, and this dispersion is added to an emulsion. As described in JP-B-46-24,185 and the like, a method in which a water-insoluble dye is dispersed in a water-soluble solvent without being dissolved and the dispersion is added to an emulsion, JP-B-44-23. , 389, Japanese Patent Publication No. 44-2
No. 7,555, Japanese Patent Publication No. 57-22,091, etc., a dye is dissolved in an acid and the solution is added to the emulsion, or an aqueous solution is prepared by coexisting an acid or a base into the emulsion. The method of addition, as described in US Pat. No. 3,822,135, US Pat. No. 4,006,025, etc.,
A method of adding an aqueous solution or colloidal dispersion in the presence of a surfactant to an emulsion, JP-A-53-10.
No. 2,733 and JP-A-58-105,141, a method of directly dispersing a dye in a hydrophilic colloid and adding the dispersion to an emulsion, JP-A-51-74,6.
As described in No. 24, it is also possible to use a method in which a dye is dissolved using a compound that causes red shift and the solution is added to an emulsion. Also, ultrasonic waves can be used for dissolution.

【0037】本発明に用いる増感色素を本発明のハロゲ
ン化銀乳剤中に添加する時期は、これまで有用である事
が認められている乳剤調製の如何なる工程中であっても
よい。例えば、米国特許2,735,766号、米国特
許3,628,960号、米国特許4,183,756
号、米国特許4,225,666号、特開昭58−18
4,142号、特開昭60−196,749号等の明細
書に開示されているように、ハロゲン化銀の粒子形成工
程または/及び脱塩前の時期、脱塩工程中及び/または
脱塩後から化学熟成の開始前迄の時期、特開昭58−1
13,920号等の明細書に開示されているように、化
学熟成の直前または工程中の時期、化学熟成後塗布迄の
時期の乳剤が塗布される前なら如何なる時期、工程に於
いて添加されても良い。また、米国特許4,225,6
66号、特開昭58−7,629号等の明細書に開示さ
れているように、同一化合物を単独で、または異種構造
の化合物と組み合わせて、例えば、粒子形成工程中と化
学熟成工程中または化学熟成完了後とに分けたり、化学
熟成の前または工程中と完了後とに分けるなどして分割
して添加しても良く、分割して添加する化合物及び化合
物の組み合わせの種類をも変えて添加されても良い。本
発明に使用される増感色素は特公昭48−38,406
号、同43−4,936号、同48−28,293号、
同48−25,652号、同43−22,884号、同
54−34,609号、同54−34,610号、同5
7−22,368号、同57−10,418号、特開昭
50−23,220号等の明細書に記載されており、こ
れらの特許明細書、仏国特許1,108,788号、同
2,174,418号公報等の明細書の記載に基づき合
成できる。本発明をハロゲン化銀乳剤に適用する場合、
感光波長を広げる目的等で例えば特開昭62−15,4
39号、同62−287,250号、同53−71,8
29号各公報、米国特許3,667,960号公報等に
記載の青感域、青緑感域使用の増感色素と併用しても何
等差し支えない。ハロゲン化銀写真感光材料に適用する
場合に、スペクトル的に特定波長域の感度のみを高める
必要がある場合には、それに適合した増感色素の凝集体
が形成されることが好ましく、前記一般式[1],
[2]で示された増感色素のうちでも、特にいわゆるJ
凝集体を形成し易いものが好ましい。また、例えば特公
昭49−46,932号公報、特開昭58−28,73
8号公報、米国特許3,776,738号公報等の明細
書に記載された水溶性臭化物、水溶性添加物(例えば、
ビスピリジニウム塩化合物、含メルカプトヘテロ環スル
ホン化物、アルカリ金属塩等)を併用することはJ凝集
体を強化し好ましい。これらの化合物はハロゲン化銀1
モルあたり10-5〜1モル程度用いられる。本発明に用
いられる増感色素の例を示すが本発明はこれに限定され
るものではない。
The sensitizing dye used in the present invention may be added to the silver halide emulsion of the present invention in any step in the preparation of emulsions which has been found to be useful so far. For example, US Pat. No. 2,735,766, US Pat. No. 3,628,960, US Pat. No. 4,183,756.
No. 4,225,666, JP-A-58-18.
No. 4,142, JP-A-60-196749, and the like, as disclosed in the specification of the silver halide grain formation step or / and before desalting, during the desalting step and / or desalting step. From the time after salting to before the start of chemical aging, JP-A-58-1
As disclosed in the specification of No. 13,920, etc., it may be added at any time or step immediately before or during the chemical ripening, at any time before the emulsion is coated until after the chemical ripening and before the coating. May be. US Pat. No. 4,225,6
66, JP-A-58-7,629 and the like, the same compound alone or in combination with a compound having a different structure, for example, during the grain forming step and the chemical ripening step. Alternatively, it may be added in divided portions such as after completion of chemical aging or before or after chemical aging or after completion of the step, and the type of compound or combination of compounds added in division may be changed. May be added. The sensitizing dye used in the present invention is, for example, JP-B-48-38,406.
No. 43, No. 43,936, No. 48-28,293,
48-25, 652, 43-22, 884, 54-34, 609, 54-34, 610, 5
7-22,368, 57-10,418, JP-A-50-23,220, and the like, and these patent specifications, French Patent 1,108,788, It can be synthesized based on the description in the specification such as Japanese Patent No. 2,174,418. When the present invention is applied to a silver halide emulsion,
For the purpose of broadening the photosensitive wavelength, for example, JP-A-62-15,4
No. 39, No. 62-287, 250, No. 53-71, 8
There is no problem even if it is used together with the sensitizing dyes for use in the blue-sensitive region and the blue-green sensitive region described in JP-A No. 29, U.S. Pat. No. 3,667,960 and the like. When applied to a silver halide photographic light-sensitive material, if it is necessary to spectrally enhance only the sensitivity in a specific wavelength range, it is preferable that an aggregate of sensitizing dyes suitable for it be formed, [1],
Among the sensitizing dyes shown in [2], the so-called J
Those that easily form aggregates are preferable. Further, for example, Japanese Examined Patent Publication No. 49-46, 932 and Japanese Unexamined Patent Publication No. 58-28, 73.
No. 8, US Pat. No. 3,776,738, and other water-soluble bromides and water-soluble additives (for example,
It is preferable to use a bispyridinium salt compound, a mercapto-heterocyclic sulfonated compound, an alkali metal salt, etc.) in combination because it strengthens the J aggregate. These compounds are silver halide 1
About 10 −5 to 1 mol is used per mol. Examples of the sensitizing dye used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0038】[0038]

【化13】 [Chemical 13]

【0039】[0039]

【化14】 [Chemical 14]

【0040】[0040]

【化15】 [Chemical 15]

【0041】[0041]

【化16】 [Chemical 16]

【0042】[0042]

【化17】 [Chemical 17]

【0043】[0043]

【化18】 [Chemical 18]

【0044】[0044]

【化19】 [Chemical 19]

【0045】[0045]

【化20】 [Chemical 20]

【0046】[0046]

【化21】 [Chemical 21]

【0047】[0047]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0048】[0048]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0049】[0049]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0050】[0050]

【化25】 [Chemical 25]

【0051】本発明に用いる一般式(1)、(2)、
(3)で表される分光増感色素の添加量としては、ハロ
ゲン化銀粒子の形状、サイズにより異なるが、ハロゲン
化銀1モルあたり、4×10-6〜8×10-3モルで用い
ることができる。例えば、ハロゲン化銀粒子サイズが
0.2〜1.3μmの場合には、ハロゲン化銀粒子の表
面積1m2 あたり、2×10-7〜3.5×10-6モルの
添加量が好ましく、6.5×10-7〜2.0×10-6
ルの添加量がより好ましい。
General formulas (1), (2), used in the present invention,
The addition amount of the spectral sensitizing dye represented by (3) varies depending on the shape and size of silver halide grains, but is 4 × 10 −6 to 8 × 10 −3 mol per mol of silver halide. be able to. For example, when the silver halide grain size is 0.2 to 1.3 μm, the addition amount of 2 × 10 −7 to 3.5 × 10 −6 mol is preferable per 1 m 2 of the surface area of the silver halide grain, The addition amount of 6.5 × 10 −7 to 2.0 × 10 −6 mol is more preferable.

【0052】本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、
一般式〔3〕〜(6)によって表される化合物が好まし
い。
The hydrazine derivative used in the present invention is
The compounds represented by the general formulas [3] to (6) are preferable.

【0053】まず一般式(4)のヒドラジン誘導体につ
いて説明する。一般式(4)
First, the hydrazine derivative represented by the general formula (4) will be described. General formula (4)

【0054】[0054]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0055】式中、R1 は脂肪族基または芳香族基を表
し、さらにその置換基の一部として−O−(CH2 CH
2 O)n −、−O−(CH2 CH(CH3 )O)n −ま
たは−O−(CH2 CH(OH)CH2 O)n −(ただ
しnは3以上の整数)の部分構造を含有するか、あるい
は置換基の一部として4級アンモニウムカチオンを含有
する基である。G1 は−CO−基、−COCO−基、−
CS−基、−C(=NG2 2 )−基、−SO−基、−
SO2 −基または−P(O)(G2 2 )−基を表す。
2 は単なる結合手、−O−基、−S−基または−N
(R2 )−基を表し、R2 は脂肪族基、芳香族基または
水素原子を表し、分子内に複数のR2 が存在する場合そ
れらは同じであっても異なっても良い。A1 、A2 の一
方は水素原子であり、他方は水素原子またはアシル基、
アルキルまたはアリールスルホニル基を表す。
In the formula, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group, and -O- (CH 2 CH 2) is used as a part of the substituent.
2 O) n -, - O- (CH 2 CH (CH 3) O) n - or -O- (CH 2 CH (OH) CH 2 O) n - moiety of (where n is an integer of 3 or more) Or a group containing a quaternary ammonium cation as a part of the substituent. G 1 is a -CO- group, a -COCO- group,-
CS- group, -C (= NG 2 R 2 ) - group, -SO- group, -
It represents a SO 2 — group or a —P (O) (G 2 R 2 ) — group.
G 2 is a simple bond, -O- group, -S- group or -N
(R 2 )-group, R 2 represents an aliphatic group, an aromatic group or a hydrogen atom, and when a plurality of R 2's are present in the molecule, they may be the same or different. One of A 1 and A 2 is a hydrogen atom, the other is a hydrogen atom or an acyl group,
Represents an alkyl or aryl sulfonyl group.

【0056】一般式(4)についてさらに詳細に説明す
る。一般式(4)において、R1 で表される脂肪族基は
好ましくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数
1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。
このアルキル基は置換基を有している。一般式(4)に
おいて、R1 で表される芳香族基は単環または2環のア
リール基または不飽和ヘテロ環基である。ここで不飽和
ヘテロ環基はアリール基と縮合してヘテロアリール基を
形成してもよい。例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピ
リジン環、キノリン環、イソキノリン環等がある。なか
でもベンゼン環を含むものが好ましい。R1 として特に
好ましいものはアリール基である。
The general formula (4) will be described in more detail. In the general formula (4), the aliphatic group represented by R 1 is preferably an aliphatic group having 1 to 30 carbon atoms, and particularly a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
This alkyl group has a substituent. In the general formula (4), the aromatic group represented by R 1 is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group. Here, the unsaturated heterocyclic group may be condensed with an aryl group to form a heteroaryl group. Examples thereof include a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, a quinoline ring and an isoquinoline ring. Of these, those containing a benzene ring are preferable. Particularly preferred as R 1 is an aryl group.

【0057】R1 の脂肪族基または芳香族基は置換され
ており、代表的な置換基としては、例えばアルキル基、
アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキ
シ基、アリール基、置換アミノ基、ウレイド基、ウレタ
ン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カルバモ
イル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル
基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シ
アノ基、スルホ基、アリールオキシカルボニル基、アシ
ル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、カル
ボンアミド基、スルホンアミド基、カルボキシル基、リ
ン酸アミド基などが挙げられ、好ましい置換基としては
直鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素数
1〜20のもの)、アラルキル基(好ましくは炭素数7
〜30のもの)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜
30のもの)、置換アミノ基(好ましく炭素数1〜30
のアルキル基で置換されたアミノ基)、アシルアミノ基
(好ましくは炭素数2〜40を持つもの)、スルホンア
ミド基(好ましくは炭素数1〜40を持つもの)、ウレ
イド基(好ましくは炭素数1〜40を持つもの、リン酸
アミド基(好ましくは炭素数1〜40のもの)などであ
る。
The aliphatic group or aromatic group of R 1 is substituted, and a typical substituent is, for example, an alkyl group,
Aralkyl group, alkenyl group, alkynyl group, alkoxy group, aryl group, substituted amino group, ureido group, urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group, sulfinyl group, hydroxy group, Examples thereof include a halogen atom, a cyano group, a sulfo group, an aryloxycarbonyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an acyloxy group, a carbonamide group, a sulfonamide group, a carboxyl group, and a phosphoric acid amide group. Chain, branched or cyclic alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms), aralkyl group (preferably having 7 carbon atoms)
To 30), an alkoxy group (preferably having a carbon number of 1 to 1)
30), substituted amino group (preferably having 1 to 30 carbon atoms)
An amino group substituted with an alkyl group), an acylamino group (preferably having 2 to 40 carbon atoms), a sulfonamide group (preferably having 1 to 40 carbon atoms), a ureido group (preferably having 1 carbon atom). And a phosphoric acid amide group (preferably having 1 to 40 carbon atoms).

【0058】R1 の脂肪族基、芳香族基またはそれらの
置換基は−O−(CH2 CH2 O)n −、−O−(CH
2 CH(CH3 )O)n −または−O−(CH2 CH
(OH)CH2 O)n −を含有しているか、あるいは4
級アンモニウムカチオンを含有している。nは3以上の
整数であり、3以上15以下の整数が好ましい。R1
好ましくは以下の一般式〔H1〕、一般式〔H2〕、一
般式〔H3〕または一般式〔H4〕表される。
The aliphatic group, aromatic group or their substituents for R 1 is --O-(CH 2 CH 2 O) n- , --O-(CH
2 CH (CH 3) O) n - or -O- (CH 2 CH
Contains (OH) CH 2 O) n − or 4
It contains a quaternary ammonium cation. n is an integer of 3 or more, preferably an integer of 3 or more and 15 or less. R 1 is preferably represented by the following general formula [H1], general formula [H2], general formula [H3] or general formula [H4].

【0059】[0059]

【化27】 [Chemical 27]

【0060】式中、L1 、L2 は−CONR7 −基、−
NR7 CONR8 −基、−SO2 NR7 −基または−N
7 SO3 NR8 −基を表し、それぞれ同じであっても
異なっていても良い。R7 およびR8 は水素原子または
炭素数1〜6のアルキル基、炭素数6〜10のアリール
基を表し、水素原子が好ましい。mは0または1であ
る。R3 、R4 、R5 は2価の脂肪族基または芳香族基
であり、好ましくはアルキレン基、アリーレン基または
それらと−O−基、−CO−基、−S−基、−SO−
基、−SO2 −基、−NR9 −基(R9 は一般式
(2)、(3)、(4)のR7 と同義)を組みあわせる
ことによってつくられる2価の基である。より好ましく
はR3 は炭素数1〜10のアルキレン基あるいはそれら
と−S−基、−SO−基、−SO2 −基を組みあわせて
つくられる2価の基であり、R4、R5 は炭素数6〜2
0のアリーレン基である。特にR5 はフェニレン基が好
ましい。R3 、R4 およびR5 は置換されていても良
く、好ましい置換基としてはR1の置換基として列挙し
たものがあてはまる。
In the formula, L 1 and L 2 are --CONR 7 --groups,
NR 7 CONR 8 — group, —SO 2 NR 7 — group or —N
And R 7 SO 3 NR 8 — groups, which may be the same or different. R 7 and R 8 represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and a hydrogen atom is preferable. m is 0 or 1. R 3 , R 4 and R 5 are divalent aliphatic groups or aromatic groups, preferably alkylene groups, arylene groups or their groups and —O— groups, —CO— groups, —S— groups, —SO—.
Group, -SO 2 - group, -NR 9 - group (R 9 of the general formula (2), (3), R 7 as defined in (4)) is a divalent group produced by combining a. More preferably, R 3 is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms or a divalent group formed by combining them with an —S— group, —SO— group or —SO 2 — group, and R 4 , R 5 Has 6 to 2 carbon atoms
It is an arylene group of 0. Particularly, R 5 is preferably a phenylene group. R 3 , R 4 and R 5 may be substituted, and preferable substituents include those listed as the substituents for R 1 .

【0061】一般式〔H1〕、〔H2〕においてZ1
含窒素芳香環を形成するために必要な原子群を表す。Z
1 と窒素原子で形成される含窒素複素芳香環の好ましい
例としてはピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、
ピラジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピロール
環、オキサゾール環、チアゾール環、およびこれらのベ
ンゾ縮合環の他、プテリジン環、ナフチリジン環などを
挙げることができる。一般式〔H2〕、〔H3〕、〔H
4〕においてX- は対アニオンまたは分子内塩を形成す
る場合は、対アニオン部分を表す。一般式〔H2〕、
〔H3〕、〔H4〕においてR6 は脂肪族基または芳香
族基を表す。好ましくはR6 は炭素数1〜20のアルキ
ル基、炭素数6〜20のアリール基である。一般式〔H
3〕における3つのR6 はそれぞれ同じであっても異な
っても良く、また互いに結合して環を形成しても良い。
1 およびR6 は置換されていても良く、好ましい置換
基としてはR1 の置換基として列挙したものがあてはま
る。一般式〔H4〕においてL3 は−CH2 CH2 O−
基、−CH2 CH(CH3)O−基、または−CH2
H(OH)CH2 O−基を表し、nは一般式〔H1〕と
同義である。
In formulas [H1] and [H2], Z 1 represents an atomic group necessary for forming a nitrogen-containing aromatic ring. Z
Preferred examples of the nitrogen-containing heteroaromatic ring formed by 1 and a nitrogen atom include a pyridine ring, a pyrimidine ring, a pyridazine ring,
Examples thereof include a pyrazine ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, a pyrrole ring, an oxazole ring, a thiazole ring, and a benzo-condensed ring thereof, as well as a pteridine ring and a naphthyridine ring. General formula [H2], [H3], [H
In 4], X represents a counter anion moiety when forming a counter anion or an inner salt. General formula [H2],
In [H3] and [H4], R 6 represents an aliphatic group or an aromatic group. R 6 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. General formula [H
The three R 6 in 3] may be the same or different, and may combine with each other to form a ring.
Z 1 and R 6 may be substituted, and preferable substituents include those listed as the substituents for R 1 . In the general formula [H4], L 3 is —CH 2 CH 2 O—.
Group, -CH 2 CH (CH 3) O- group, or -CH 2 C,
Represents H (OH) CH 2 O- groups, n represents the same meaning as in formula [H1].

【0062】一般式(4)におけるG1 としては−CO
−基、−SO2 −基が好ましく、−CO−基が最も好ま
しい。A1 、A2 としては水素原子が好ましい。
As G 1 in the general formula (4), --CO
- group, -SO 2 - groups are preferred, -CO- group is most preferred. A hydrogen atom is preferable as A 1 and A 2 .

【0063】一般式(4)においてR2 で表されるアル
キル基としては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基
であり、アリール基としては単環または2環のアリール
基が好ましい(例えばベンゼン環を含むもの)。G1
−CO−基の場合、R2 で表される基のうち好ましいも
のは、水素原子、アルキル基(例えば、メチル基、メト
キシメチル基、フェノキシメチル基、トリフルオロメチ
ル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−メタンスルホン
アミドプロピル基、フェニルスルホニルメチル基な
ど)、アラルキル基(例えば、o−ヒドロキシベンジル
基など)、アリール基(例えば、フェニル基、3,5−
ジクロロフェニル基、o−メタンスルホンアミドフェニ
ル基、4−メタンスルホニルフェニル基、2−ヒドロキ
シメチルフェニル基など)などであり、特に水素原子が
好ましい。R2 は置換されていても良く、置換基として
は、R1 に関して列挙した置換基が適用できる。又、R
2 はG1 −R2 の部分を残余分子から分裂させ、−G1
−R2 部分の原子を含む環式構造を生成させる環化反応
を生起するようなものであってもよく、その例としては
例えば特開昭63−29751号などに記載のものが挙
げられる。
The alkyl group represented by R 2 in the general formula (4) is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the aryl group is preferably a monocyclic or bicyclic aryl group (for example, benzene). Including rings). When G 1 is a —CO— group, preferred among the groups represented by R 2 are a hydrogen atom, an alkyl group (eg, methyl group, methoxymethyl group, phenoxymethyl group, trifluoromethyl group, 3-hydroxy group). Propyl group, 3-methanesulfonamidopropyl group, phenylsulfonylmethyl group, etc.), aralkyl group (eg, o-hydroxybenzyl group, etc.), aryl group (eg, phenyl group, 3,5-
Dichlorophenyl group, o-methanesulfonamidophenyl group, 4-methanesulfonylphenyl group, 2-hydroxymethylphenyl group, etc., and a hydrogen atom is particularly preferable. R 2 may be substituted, and as the substituent, the substituents listed for R 1 can be applied. Also, R
2 disrupts the portion of the G 1 -R 2 from the remainder molecule, -G 1
It may be one that causes a cyclization reaction to form a cyclic structure containing an atom of the —R 2 portion, and examples thereof include those described in JP-A-63-29751.

【0064】一般式(4)のR1 またはR2 はその中に
カプラー等の不動性写真用添加剤において常用されてい
るバラスト基またはポリマーが組み込まれているもので
もよい。バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に
対して比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、ア
ルコキシ基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノ
キシ基、アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことが
できる。またポリマーとして例えば特開平1−1005
30号に記載のものが挙げられる。
R 1 or R 2 in the general formula (4) may have a ballast group or polymer commonly used in a non-moving photographic additive such as a coupler incorporated therein. The ballast group is a group having a carbon number of 8 or more and relatively inert to photographic properties, and is selected from, for example, an alkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a phenoxy group and an alkylphenoxy group. You can Further, as a polymer, for example, JP-A-1-1005
Those described in No. 30 are mentioned.

【0065】一般式(4)のR1 またはR2 はその中に
ハロゲン化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込
まれているものでもよい。かかる吸着基としては、チオ
尿素基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、ト
リアゾール基などの米国特許第4,385,108号、
同4,459,347号、特開昭59−195,233
号、同59−200,231号、同59−201,04
5号、同59−201,046号、同59−201,0
47号、同59−201,048号、同59−201,
049号、同61−170,733号、同61−27
0,744号、同62−948号、同63−234,2
44号、同63−234,245号、同63−234,
246号に記載された基が挙げられる。本発明の一般式
(4)の化合物は例えば特開昭61−213,847
号、同62−260,153号、米国特許第4,68
4,604号、特願昭63−803号、米国特許第3,
379,529号、同3,620,746号、同4,3
77,634号、同4,332,878号、特開昭49
−129,536号、同56−153,336号、同5
6−153,342号、米国特許4988604号、同
4994365号などに記載されている方法を利用する
ことにより合成できる。以下に本発明に用いられる化合
物の列記するが本発明はこれに限定されるものではな
い。
R 1 or R 2 in the general formula (4) may be one in which a group which enhances adsorption to the surface of the silver halide grain is incorporated. Examples of the adsorptive group include U.S. Pat. No. 4,385,108 such as thiourea group, heterocyclic thioamide group, mercaptoheterocyclic group, and triazole group.
4,459,347, JP-A-59-195,233.
No. 59-200, 231, 59-201, 04
No. 5, No. 59-201, 046, No. 59-201, 0
No. 47, No. 59-201, No. 048, No. 59-201,
049, 61-170, 733, 61-27.
0,744, 62-948, 63-234,2.
44, 63-234, 245, 63-234,
The groups described in No. 246 are mentioned. The compound of the general formula (4) of the present invention is disclosed in, for example, JP-A 61-213,847.
62-260,153, U.S. Pat. No. 4,684.
4,604, Japanese Patent Application No. 63-803, US Pat.
379,529, 3,620,746, 4,3
77,634, 4,332,878, JP-A-49.
-129,536, 56-153,336, 5
6-153,342, U.S. Pat. Nos. 4,988,604 and 4,994,365, and the like. The compounds used in the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto.

【0066】[0066]

【化28】 [Chemical 28]

【0067】[0067]

【化29】 [Chemical 29]

【0068】一般式(5)General formula (5)

【0069】[0069]

【化30】 [Chemical 30]

【0070】R1 は脂肪族基、芳香族基または、複素環
基を表わし、置換されていてもよい。G1 は−CO−
基、−SO2 −基、−SO−基、−COCO−基、チオ
カルボニル基、イミノメチレン基または−P(O)(R
3 )−基を表わし、R2 はGで置換された炭素原子が少
なくとも1つの電子吸引基で置換された置換アルキル基
を表わす。R3 は水素原子、脂肪族記、芳香族基、アル
コキシ基、アリールオキシ基またはアミノ基を表わす。
R 1 represents an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group, which may be substituted. G 1 is -CO-
Group, -SO 2 - group, -SO- group, -COCO- group, a thiocarbonyl group, an iminomethylene group or -P (O) (R
3 )-group, and R 2 represents a substituted alkyl group in which a carbon atom substituted with G is substituted with at least one electron withdrawing group. R 3 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, an alkoxy group, an aryloxy group or an amino group.

【0071】次に一般式(5)で表わされる化合物につ
いてさらに詳細に説明する。一般式(5)において、R
1 で表わされる脂肪族基は直鎖、分岐または環状のアル
キル基、アルケニル基またはアルキニル基である。R1
で表わされる芳香族基としては、単環又は2環のアリー
ル基であり、例えばフェニル基、ナフチル基があげられ
る。R1 のヘテロ環としては、N、O、又はS原子のう
ち少なくともひとつを含む3〜10員の飽和もしくは不
飽和のヘテロ環であり、これらは単環であってもよい
し、さらに他の芳香族もしくはヘテロ環と縮合環を形成
してもよい。ヘテロ環として好ましくは、5ないし6員
の芳香族ヘテロ環基であり、例えば、ピリジン基、イミ
ダゾリル基、キノリニル基、ベンズイミダゾリル基、ピ
リミジル基、ピラゾリル基、イソキノリニル基、チアゾ
リン基、ベンズチアゾリル基を含むものが好ましい。R
1 として好ましいのは、芳香族基、含窒素複素環および
一般式(b)で表わされる基である。一般式(b)
Next, the compound represented by the general formula (5) will be described in more detail. In the general formula (5), R
The aliphatic group represented by 1 is a linear, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group or alkynyl group. R 1
The aromatic group represented by is a monocyclic or bicyclic aryl group, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group. The hetero ring of R 1 is a 3- to 10-membered saturated or unsaturated hetero ring containing at least one of N, O, or S atoms, which may be a single ring, or other A condensed ring may be formed with an aromatic or hetero ring. The heterocycle is preferably a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic group, and includes, for example, a pyridine group, an imidazolyl group, a quinolinyl group, a benzimidazolyl group, a pyrimidyl group, a pyrazolyl group, an isoquinolinyl group, a thiazoline group, a benzthiazolyl group. Those are preferable. R
Preferred as 1 are aromatic groups, nitrogen-containing heterocycles and groups represented by general formula (b). General formula (b)

【0072】[0072]

【化31】 [Chemical 31]

【0073】(式中、Xb は芳香族基または含窒素複素
環基を表わし、Rb 1 〜Rb 4 は各々水素原子、ハロゲ
ン原子、またはアルキル基を表わし、Xb およびRb 1
〜Rb 4 は可能な場合には置換基を有していてもよい。
rおよびsは0または1を表わす。)R1 としてより好
ましくは芳香族基であり、特にアリール基が好ましい。
1 は置換基で置換されていてもよい。置換基の例とし
ては、例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アルコキシ基、アリール基、置換ア
ミノ基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カルバ
モイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニ
ル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、
シアノ基、スルホ基やカルボキシル基、アルキルおよび
アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、スル
ホンアミド基、ニトロ基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基などの他、以下の一般式(c)で表わされる基が挙
げられる。一般式(c)
(In the formula, X b represents an aromatic group or a nitrogen-containing heterocyclic group, R b 1 to R b 4 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group, and X b and R b 1
R b 4 may have a substituent if possible.
r and s represent 0 or 1. ) R 1 is more preferably an aromatic group, and particularly preferably an aryl group.
R 1 may be substituted with a substituent. Examples of the substituent include, for example, alkyl group, aralkyl group, alkenyl group, alkynyl group, alkoxy group, aryl group, substituted amino group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group, sulfinyl group. Group, hydroxy group, halogen atom,
In addition to cyano group, sulfo group, carboxyl group, alkyl and aryloxycarbonyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, acyloxy group, carbonamido group, sulfonamide group, nitro group, alkylthio group, arylthio group, the following general formula The group represented by (c) may be mentioned. General formula (c)

【0074】[0074]

【化32】 [Chemical 32]

【0075】式(c)中、Ycは−CO−、−SO
2 −、−P(O)(RC3)−(式中、RC3はアルコキシ
基、または、アリールオキシ基を表わす。)または−O
P(O)(RC3)−を表わし、Lは単結合、−O−、−
S−または−NRC4−(式中、R C4は水素原子、アルキ
ル基、アリール基を表わす。)を表わす。RC1およびR
C2は水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表
わし、同じであっても異なっても良く、また互いに結合
して環形成しても良い。またR1 は一般式(c)を1つ
または複数個含むことができる。
In the formula (c), Yc is --CO-- or --SO.
2-, -P (O) (RC3)-(Wherein RC3Is alkoxy
Represents a group or an aryloxy group. ) Or -O
P (O) (RC3)-, L is a single bond, -O-,-
S- or -NRC4-(In the formula, R C4Is a hydrogen atom, Archi
Represents an aryl group or an aryl group. ) Is represented. RC1And R
C2Represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group.
I can be the same or different, and bond to each other
To form a ring. Also R1Is one general formula (c)
Alternatively, a plurality of them can be included.

【0076】一般式(c)において、RC1で表わされる
脂肪族基は直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケ
ニル基またはアルキニル基である。RC1で表わされる芳
香族基としては、単環又は2環のアリール基であり、例
えばフェニル基、ナフチル基があげられる。RC1のヘテ
ロ環としては、N、O、又はS原子のうち少なくともひ
とつを含む3〜10員の飽和もしくは不飽和のヘテロ環
であり、これらは単環であってもよいし、さらに他の芳
香族もしくはヘテロ環と縮合環を形成してもよい。ヘテ
ロ環として好ましくは、5ないし6員の芳香族ヘテロ環
基であり、例えば、ピリジン基、イミダゾリル基、キノ
リニル基、ベンズイミダゾリル基、ピリミジル基、ピラ
ゾリル基、イソキノリニル基、チアゾリル基、ベンズチ
アゾリル基を含むものが好ましい。RC1は置換基で置換
されていてもよい。置換基としては、例えば以下のもの
があげられる。これらの基は更に置換されていてもよ
い。例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、
アルキニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ
基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド
基、ウレタン基、アリールオキシ基、スルファモイル
基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、スルホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハ
ロゲン原子、シアノ基、スルホ基やカルボキシル基、ア
ルキルおよびアリールオキシカルボニル基、アシル基、
アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボンア
ミド基、スルホンアミド基、ニトロ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基などである。これらの基は可能なと
きは互いに連結して環を形成してもよい。
In the general formula (c), the aliphatic group represented by R C1 is a linear, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group or alkynyl group. The aromatic group represented by R C1 is a monocyclic or bicyclic aryl group, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group. The heterocycle of R C1 is a 3- to 10-membered saturated or unsaturated heterocycle containing at least one of N, O, or S atoms, which may be a single ring, or other A condensed ring may be formed with an aromatic or hetero ring. The heterocycle is preferably a 5- to 6-membered aromatic heterocyclic group, and includes, for example, a pyridine group, an imidazolyl group, a quinolinyl group, a benzimidazolyl group, a pyrimidyl group, a pyrazolyl group, an isoquinolinyl group, a thiazolyl group, a benzthiazolyl group. Those are preferable. R C1 may be substituted with a substituent. Examples of the substituent include the followings. These groups may be further substituted. For example, alkyl group, aralkyl group, alkenyl group,
Alkynyl group, alkoxy group, aryl group, substituted amino group, acylamino group, sulfonylamino group, ureido group, urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group, sulfinyl group, hydroxy group , Halogen atoms, cyano groups, sulfo groups and carboxyl groups, alkyl and aryloxycarbonyl groups, acyl groups,
Examples thereof include an alkoxycarbonyl group, an acyloxy group, a carbonamido group, a sulfonamide group, a nitro group, an alkylthio group and an arylthio group. When possible, these groups may be linked to each other to form a ring.

【0077】一般式(c)におけるRC2で表わされる脂
肪族基は、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケ
ニル基またはアルキニル基である。RC2で表わされる芳
香族基としては、単環又は2環のアリール基であり、例
えばフェニル基が挙げられる。RC2は置換基で置換され
ていてもよい。置換基としては例えば一般式(c)にお
けるRC1と置換基として列挙したものが挙げられる。ま
た、RC1とRC2は可能な場合には互いに連結して環を形
成してもよい。RC2としては水素原子がより好ましい。
The aliphatic group represented by R C2 in the general formula (c) is a linear, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group or alkynyl group. The aromatic group represented by R C2 is a monocyclic or bicyclic aryl group, and examples thereof include a phenyl group. R C2 may be substituted with a substituent. Examples of the substituent include those listed as R C1 in the general formula (c) and the substituent. If possible, R C1 and R C2 may be linked to each other to form a ring. A hydrogen atom is more preferable as R C2 .

【0078】一般式(c)におけるYC としては−CO
−、−SO2 −が特に好ましく、Lは単結合および−N
C4−が好ましい。一般式(c)におけるRC4で表わさ
れる脂肪族基は、直鎖、分岐または環状のアルキル基、
アルケニル基またはアルキニル基である。RC4で表わさ
れる芳香族基としては、単環又は2環のアリール基であ
り、例えばフェニル基が挙げられる。RC4は置換基で置
換されていてもよい。置換基としては例えば一般式
(c)におけるRC1の置換基として列挙したものが挙げ
られる。RC4としては水素原子がより好ましい。
Y C in the general formula (c) is -CO.
-, - SO 2 - is particularly preferred, L is a single bond and -N
R C4 − is preferred. The aliphatic group represented by R C4 in the general formula (c) is a linear, branched or cyclic alkyl group,
It is an alkenyl group or an alkynyl group. The aromatic group represented by R C4 is a monocyclic or bicyclic aryl group, and examples thereof include a phenyl group. R C4 may be substituted with a substituent. Examples of the substituent include those enumerated as the substituents of R C1 in the general formula (c). A hydrogen atom is more preferable as R C4 .

【0079】一般式(5)のGとしては−CO−基が最
も好ましい。一般式(5)のR2 は、Gで置換された炭
素原子が少なくとも1つの電子吸引基で置換された置換
アルキル基を表わし、好ましくは2つの電子吸引基で、
特に好ましくは3つの電子吸引基で置換された置換アル
キル基を表わす。
Most preferably, G in the general formula (5) is a --CO-- group. R 2 in the general formula (5) represents a substituted alkyl group in which a carbon atom substituted with G is substituted with at least one electron withdrawing group, and preferably two electron withdrawing groups,
Particularly preferred is a substituted alkyl group substituted with three electron withdrawing groups.

【0080】R2 のGで置換された炭素原子を置換する
電子吸引基は好ましくはδp 値が0.2以上、δm 値が
0.3以上のもので例えば、ハロゲン、シアノ、ニト
ロ、ニトロソ、ポリハロアルキル、ポリハロアリール、
アルキルもしくはアリールカルボニル基、ホルミル基、
アルキルもしくはアリールオキシカルボニル基、アルキ
ルカルボニルオキシ基、カルバモイル基、アルキルもし
くはアリールスルフィニル基、アルキルもしくはアリー
ルスルホニル基、アルキルもしくはアリールスルホニル
オキシ基、スルファモイル基、ホスフィノ基、ホスフィ
ンオキシド基、ホスホン酸エステル基、ホスホン酸アミ
ド基、アリールアゾ基、アミジノ基、アンモニオ基、ス
ルホニオ基、電子欠乏性複素環基を表わす。一般式
(5)のR2 は特に好ましくはトリフルオロメチル基を
表わす。
The electron withdrawing group for substituting the carbon atom substituted by G of R 2 preferably has a δ p value of 0.2 or more and a δ m value of 0.3 or more, and examples thereof include halogen, cyano, nitro, and Nitroso, polyhaloalkyl, polyhaloaryl,
An alkyl or aryl carbonyl group, a formyl group,
Alkyl or aryloxycarbonyl group, alkylcarbonyloxy group, carbamoyl group, alkyl or arylsulfinyl group, alkyl or arylsulfonyl group, alkyl or arylsulfonyloxy group, sulfamoyl group, phosphino group, phosphine oxide group, phosphonate group, phosphon It represents an acid amide group, an arylazo group, an amidino group, an ammonio group, a sulfonio group, and an electron-deficient heterocyclic group. R 2 in the general formula (5) particularly preferably represents a trifluoromethyl group.

【0081】一般式(5)のR1 、R2 はその中にカプ
ラー等の不動性写真用添加剤において常用されているバ
ラスト基またはポリマーが組み込まれているものでもよ
い。バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対し
て比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコ
キシ基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ
基、アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができ
る。またポリマーとして例えば特開平1−100530
号に記載のものが挙げられる。
R 1 and R 2 in the general formula (5) may be those in which a ballast group or a polymer commonly used in a non-moving photographic additive such as a coupler is incorporated. The ballast group is a group having a carbon number of 8 or more and relatively inert to photographic properties, and is selected from, for example, an alkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a phenoxy group and an alkylphenoxy group. You can Further, as a polymer, for example, JP-A-1-100530
The items described in No.

【0082】一般式(5)のR1 、R2 はその中にハロ
ゲン化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれ
ているものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素
基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリア
ゾール基などの米国特許第4,385,108号、同
4,459,347号、特開昭59−195,233
号、同59−200,231号、同59−201,04
5号、同59−201,046号、同59−201,0
47号、同59−201,048号、同59−201,
049号、同61−170,733号、同61−27
0,744号、同62−948号、同63−234,2
44号、同63−234,245号、同63−234,
246号に記載された基が挙げられる。以下に本発明に
用いられる化合物を列記するが本発明はこれに限定され
るものではない。
R 1 and R 2 in the general formula (5) may be those in which a group for enhancing adsorption to the surface of the silver halide grain is incorporated. Examples of the adsorptive group include thiourea group, heterocyclic thioamide group, mercaptoheterocyclic group, and triazole group, which are disclosed in U.S. Pat. Nos. 4,385,108, 4,459,347, and JP-A-59-195,233.
No. 59-200, 231, 59-201, 04
No. 5, No. 59-201, 046, No. 59-201, 0
No. 47, No. 59-201, No. 048, No. 59-201,
049, 61-170, 733, 61-27.
0,744, 62-948, 63-234,2.
44, 63-234, 245, 63-234,
The groups described in No. 246 are mentioned. The compounds used in the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto.

【0083】[0083]

【化33】 [Chemical 33]

【0084】[0084]

【化34】 [Chemical 34]

【0085】[0085]

【化35】 [Chemical 35]

【0086】[0086]

【化36】 [Chemical 36]

【0087】[0087]

【化37】 [Chemical 37]

【0088】[0088]

【化38】 [Chemical 38]

【0089】[0089]

【化39】 [Chemical Formula 39]

【0090】[0090]

【化40】 [Chemical 40]

【0091】[0091]

【化41】 [Chemical 41]

【0092】本発明のヒドラジン誘導体は対応するヒド
ラジンを、ジシクロヘキシルカルボジイミドなどの縮合
剤存在下に、対応するカルボン酸と反応させたり、スル
ホニルクロリド、アシルクロリドなどの酸ハライドある
いは酸無水物、活性エステルなどと反応させることによ
って合成した。またさらにEWGがR3 SO2 −のとき
は、対応するハロアセチルヒドラジド誘導体とR3 SO
2 Hを塩基の存在下に反応させる方法も利用した。以下
に具体例を示す。
The hydrazine derivative of the present invention is obtained by reacting a corresponding hydrazine with a corresponding carboxylic acid in the presence of a condensing agent such as dicyclohexylcarbodiimide, or by reacting an acid halide such as a sulfonyl chloride or an acyl chloride or an acid anhydride or an active ester. It was synthesized by reacting with. Furthermore, when EWG is R 3 SO 2 —, the corresponding haloacetylhydrazide derivative and R 3 SO 2
A method of reacting 2 H in the presence of a base was also used. A specific example is shown below.

【0093】合成例:例示化合物4−16の合成 窒素雰囲気下、原料化合物A(63.2g)とテトラヒ
ドロフラン(200ml)の混合溶液にトリエチルアミン
(15.3ml)を加え、その混合溶液を5℃に冷却し、
トリフルオロ酢酸無水物(16.9ml)を添加し、室温
で一夜攪拌した。反応液を0.1NHCl水溶液に注ぎ
酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗った。そ
れを、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、酢酸エチルを留
去しシリカゲルクロマトグラフィーにて単離精製し、目
的物(52.1g)を得た。化合物の構造は nmrスペク
トル、irスペクトルにより確認した。原料化合物Aの構
造を以下に示す。
Synthesis Example: Synthesis of Exemplified Compound 4-16 Under a nitrogen atmosphere, triethylamine (15.3 ml) was added to a mixed solution of the starting compound A (63.2 g) and tetrahydrofuran (200 ml), and the mixed solution was heated to 5 ° C. Cool down
Trifluoroacetic anhydride (16.9 ml) was added and stirred overnight at room temperature. The reaction solution was poured into 0.1N HCl aqueous solution and extracted with ethyl acetate, and the organic layer was washed with saturated saline. It was dried over anhydrous magnesium sulfate, ethyl acetate was distilled off, and the product was isolated and purified by silica gel chromatography to obtain the desired product (52.1 g). The structure of the compound was confirmed by nmr spectrum and ir spectrum. The structure of the raw material compound A is shown below.

【0094】[0094]

【化42】 [Chemical 42]

【0095】次に一般式(6)の化合物について詳細に
説明する。
Next, the compound of the general formula (6) will be described in detail.

【0096】[0096]

【化43】 [Chemical 43]

【0097】一般式(6)において、Ra で表される脂
肪族基は直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケニ
ル基またはアルキニル基である。Ra で表される芳香族
基としては、単環又は2環のアリール基であり、例えば
フェニル基、ナフチル基があげられる。Ra のヘテロ環
としては、N、O、又はS原子のうち少なくともひとつ
を含む3〜10の負の飽和もしくは不飽和のヘテロ環で
あり、これらは単環であってもよいし、さらに他の芳香
環もしくはヘテロ環と縮合環を形成してもよい。ヘテロ
環として好ましくは、5ないし6員の芳香族ヘテロ環基
であり、例えば、ピリジン基、イミダゾリル基、キノリ
ニル基、ベンズイミダゾリル基、ピリミジル基、ピラゾ
リル基、イソキノリニル基、チアゾリル基、ベンズチア
ゾリル基などが好ましい。
In the general formula (6), the aliphatic group represented by R a is a linear, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group or alkynyl group. The aromatic group represented by Ra is a monocyclic or bicyclic aryl group, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group. The hetero ring of R a is a negative saturated or unsaturated hetero ring of 3 to 10 containing at least one of N, O, or S atoms, which may be a single ring or other A condensed ring may be formed with the aromatic ring or the hetero ring of. The heterocycle is preferably a 5- to 6-membered aromatic heterocyclic group, and examples thereof include a pyridine group, an imidazolyl group, a quinolinyl group, a benzimidazolyl group, a pyrimidyl group, a pyrazolyl group, an isoquinolinyl group, a thiazolyl group, and a benzthiazolyl group. preferable.

【0098】R2 は置換基で置換されていてもよい。置
換基としては、例えば以下のものがあげられる。これら
の基はさらに置換されていてもよい。例えばアルキル
基、アラルキル基、アルコキシ基、アリール基、置換ア
ミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイ
ド基、ウレタン基、アリールオキシ基、スルファモイル
基、カルバモイル基、アリール基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ヒドロ
キシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基やカルボキ
シル基などである。これらの基は可能なときは互いに連
結して環を形成してもよい。Ra として好ましいのは、
芳香族基、更に好ましくはアリール基である。Rb で表
される基のうち好ましいものは、G1 がカルボニル基の
場合には、水素原子、アルキル基(例えばメチル基、ト
リフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−
メタンスルホンアミドプロピル基など)、アラルキル基
(例えばo−ヒドロキシベンジル基など)、アリール基
(例えばフェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、o
−メタンスルホンアミドフェニル基、4−メタンスルホ
ニルフェニル基など)などであり、特に水素原子が好ま
しい。またG1 がスルホニル基の場合には、Rb はアル
キル基(例えばメチル基など)、アラルキル基(例えば
o−ヒドロキシフェニルメチル基など)、アリール基
(例えばフェニル基など)または置換アミノ基(例えば
ジメチルアミノ基など)などが好ましい。
R 2 may be substituted with a substituent. Examples of the substituent include the followings. These groups may be further substituted. For example, alkyl group, aralkyl group, alkoxy group, aryl group, substituted amino group, acylamino group, sulfonylamino group, ureido group, urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, aryl group, alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group. Group, sulfinyl group, hydroxy group, halogen atom, cyano group, sulfo group and carboxyl group. When possible, these groups may be linked to each other to form a ring. Preferred as R a is
An aromatic group, more preferably an aryl group. Among the groups represented by R b , when G 1 is a carbonyl group, preferred is a hydrogen atom, an alkyl group (for example, methyl group, trifluoromethyl group, 3-hydroxypropyl group, 3-
Methanesulfonamidopropyl group etc.), aralkyl group (eg o-hydroxybenzyl group etc.), aryl group (eg phenyl group, 3,5-dichlorophenyl group, o
-Methanesulfonamidephenyl group, 4-methanesulfonylphenyl group, etc.), and a hydrogen atom is particularly preferable. When G 1 is a sulfonyl group, R b is an alkyl group (eg, methyl group), an aralkyl group (eg, o-hydroxyphenylmethyl group), an aryl group (eg, phenyl group) or a substituted amino group (eg, Dimethylamino group) and the like are preferable.

【0099】G1 がスルホキシ基の場合、好ましいRb
はシアノベンジル基、メチルチオベンジル基などであ
り、G1 がホスホリル基の場合には、Rb としてはメト
キシ基、エトキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、フェ
ニル基が好ましく特にフェノキシ基が好適である。G1
がN−置換または無置換イミノメチレン基の場合、好ま
しいRb はメチル基、エチル基、置換または無置換のフ
ェニル基である。Rb の置換基としては、Ra に関して
列挙した無置換基が適用できる他、例えばアシル基、ア
シルオキシ基、アルキルもしくはアリールオキシカルボ
ニル基、アルケニル基、アルキニル基やニトロ基なども
適用できる。これらの置換基は更にこれらの置換基で置
換されていてもよい。また可能な場合は、これらの基が
互いに連結した環を形成してもよい。Ra もしくはRb
に置換できるハロゲン化銀への吸着促進基はX1 −(L
1 q −で表すことができる。ここでX1 はハロゲン化
銀への吸着促進基であり、L1 は二価の連結基である。
qは0または1である。X1 で表されるハロゲン化銀へ
の吸着促進基の好ましい例としては、チオアミド基、メ
ルカプト基、ジスルフイド結合を有する基または5ない
し6員の含窒素ヘテロ環基があげられる。X1 であらわ
されるチオアミド吸着促進基は、−CS−アミノ−で表
される二価の基であり、環構造の一部であってもよい
し、また非環式チオアミド基であってもよい。有用なチ
オアミド吸着促進基は、例えば米国特許4,030,9
25号、同4,031,127号、同4,080,20
7号、同4,245,037号、同4,255,511
号、同4,266,013号、及び同4,276,36
4号、ならびに「リサーチ・ディスクロージャー」(Re
search Disclosure)誌第151巻 No.15162(19
76年11月)、及び同第176巻 No.17626(1
978年12月)に開示されているものから選ぶことが
できる。
When G 1 is a sulfoxy group, preferred R b
Is a cyanobenzyl group, a methylthiobenzyl group or the like, and when G 1 is a phosphoryl group, R b is preferably a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group, a phenoxy group or a phenyl group, and particularly preferably a phenoxy group. G 1
When is an N-substituted or unsubstituted iminomethylene group, preferred R b is a methyl group, an ethyl group, or a substituted or unsubstituted phenyl group. As the substituent of R b , the non-substituted groups listed for R a can be applied, and for example, an acyl group, an acyloxy group, an alkyl or aryloxycarbonyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or a nitro group can be applied. These substituents may be further substituted with these substituents. If possible, these groups may form a ring in which these groups are connected to each other. R a or R b
Adsorption-promoting groups on silver halide which can be substituted with X 1- (L
1 ) It can be represented by q −. Here, X 1 is an adsorption promoting group to silver halide, and L 1 is a divalent linking group.
q is 0 or 1. Preferred examples of the adsorption accelerating group represented by X 1 on silver halide include a thioamide group, a mercapto group, a group having a disulphide bond or a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group. The thioamide adsorption-promoting group represented by X 1 is a divalent group represented by —CS-amino-, which may be a part of the ring structure or an acyclic thioamide group. . Useful thioamide adsorption promoting groups are described, for example, in US Pat. No. 4,030,9.
No. 25, No. 4,031, 127, No. 4,080, 20
No. 7, No. 4,245,037, No. 4,255,511
Nos. 4,266,013 and 4,276,36
No. 4 and "Research Disclosure" (Re
search Disclosure) Vol. 151 No. 15162 (19)
1976), and Vol. 176, No. 17626 (1)
(December 978).

【0100】非環式チオアミド基の具体例としては、例
えばチオウレイド基、チオウレタン基、ジチオカルバミ
ン酸エステル基など、また環状のチオアミド基の具体例
としては、例えば4−チアゾリン−2−チオン、4−イ
ミダゾリン−2−チオン、2−チオヒダントイン、ロー
ダニン、チオバルビツール酸、テトラゾリン−5−チオ
ン、1,2,4−トリアゾリン−3−チオン、1,3,
4−チアジアゾリン−2−チオン、1,3,4−オキサ
ジアゾリン−2−チオン、ベンズイミダゾリン−2−チ
オン、ベンズオキサゾリン−2−チオン及びベンゾチア
ゾリン−2−チオンなどが挙げられ、これらは更に置換
されていてもよい。X1 のメルカプト基は脂肪族メルカ
プト基、芳香族メルカプト基やヘテロ環メルカプト基
(−SH基が結合した炭素原子の隣りが窒素原子の場合
は、これと互変異性体の関係にある環状チオアミド基と
同義であり、この基の具体例は上に列挙したものと同じ
である)が挙げられる。
Specific examples of the acyclic thioamide group include, for example, thioureido group, thiourethane group, dithiocarbamic acid ester group and the like, and specific examples of the cyclic thioamide group include, for example, 4-thiazoline-2-thione and 4-thiazoline-2-thione group. Imidazoline-2-thione, 2-thiohydantoin, rhodanine, thiobarbituric acid, tetrazoline-5-thione, 1,2,4-triazoline-3-thione, 1,3.
4-thiadiazoline-2-thione, 1,3,4-oxadiazoline-2-thione, benzimidazoline-2-thione, benzoxazoline-2-thione, benzothiazoline-2-thione and the like can be mentioned. It may be substituted. The mercapto group of X 1 is an aliphatic mercapto group, an aromatic mercapto group, or a heterocyclic mercapto group (when the carbon atom to which the —SH group is bonded is a nitrogen atom next to it, a cyclic thioamide having a tautomeric relationship therewith Synonymous with the group, and specific examples of this group are the same as those listed above).

【0101】X1 で表される5員ないし6員の含窒素ヘ
テロ環基としては、窒素、酸素、硫黄及び炭素の組合せ
からなる5員ないし6員の含窒素ヘテロ環があげられ
る。これらのうち、好ましいものとしては、ベンゾトリ
アゾール、トリアゾール、テトラゾール、インダゾー
ル、ベンズイミダゾール、イミダゾール、ベンゾチアゾ
ール、チアゾール、ベンゾオキサゾール、オキサゾー
ル、チアジアゾール、オキサジアゾール、トリアジンな
どがあげられる。これらはさら適当な置換基で置換され
ていてもよい。置換基としては、Ra の置換基として述
べたものがあげられる。X1 で表されるもののうち、好
ましいものは現状のチオアミド基(すなわちメルカプト
置換含窒素ヘテロ環で、例えば2−メルカプトチアジア
ゾール基、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール
基、5−メルカプトテトラゾール基、2−メルカプト−
1,3,4−オキサジアゾール基、2−メルカプトベン
ズオキサゾール基など)、又は含窒素ヘテロ環基(例え
ば、ベンゾトリアゾール基、ベンズイミダゾール基、イ
ンダゾール基など)の場合である。
The 5-membered to 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group represented by X 1 includes 5-membered to 6-membered nitrogen-containing heterocycle consisting of a combination of nitrogen, oxygen, sulfur and carbon. Among these, preferred are benzotriazole, triazole, tetrazole, indazole, benzimidazole, imidazole, benzothiazole, thiazole, benzoxazole, oxazole, thiadiazole, oxadiazole, triazine and the like. These may be further substituted with appropriate substituents. As the substituent, those mentioned as the substituent of R a can be mentioned. Among those represented by X 1 , preferred ones are the present thioamide groups (that is, mercapto-substituted nitrogen-containing heterocycles, such as 2-mercaptothiadiazole group, 3-mercapto-1,2,4-triazole group, 5-mercaptotetrazole. Group, 2-mercapto-
1,3,4-oxadiazole group, 2-mercaptobenzoxazole group, etc.) or a nitrogen-containing heterocyclic group (eg, benzotriazole group, benzimidazole group, indazole group, etc.).

【0102】又、X1 −(L1 q 基は2個以上置換さ
れていてもよく、同じでも異ってもよい。L1 で表され
る二価の連結基としては、C、N、S、Oのうち少なく
とも1種を含む原子又は原子団である。具体的には、例
えばアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、
アリーレン基、−O−、−S−、−NH−、−N=、−
CO−、−SO2 −(これらの基は置換基をもっていて
もよい)、等の単独またはこれらの組合せからなるもの
である。これらはさらに適当な置換基で置換されていて
もよい。置換基としてはRa の置換基として述べたもの
が挙げられる。
Two or more X 1- (L 1 ) q groups may be substituted and may be the same or different. The divalent linking group represented by L 1 is an atom or atomic group containing at least one of C, N, S and O. Specifically, for example, an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group,
Arylene group, -O-, -S-, -NH-, -N =,-
CO—, —SO 2 — (these groups may have a substituent), etc., or a combination thereof. These may be further substituted with appropriate substituents. As the substituent, those mentioned as the substituent of R a can be mentioned.

【0103】A1 、A2 は水素原子、炭素数20以下の
アルキルスルホニル基およびアリールスルホニル基(好
ましくはフェニルスルホニル基又はハメットの置換基定
数の和が−0.5以上となるように置換されたフェニル
スルホニル基)、炭素数20以下のアシル基(好ましく
はベンゾイル基、又はハメットの置換基定数の和が−
0.5以上となるように置換されたベンゾイル基、ある
いは直鎖または分岐状又は環状の無置換及び置換脂肪族
アシル基(置換基としては例えばハロゲン原子、エーテ
ル基、スルホンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、
カルボキシ基、スルホン酸基が挙げられる。)であり、
1 、A2 で表されるスルフィン酸残基は具体的には米
国特許第4,478,928号に記載されているものを
表す。A1 、A2 としては水素原子が最も好ましい。一
般式(6)のG1 としてはカルボニル基が最も好まし
い。一般式(6)で表されるもののうち、好ましいもの
は一般式(6−a)で表すことができる。一般式(6−
a)
A 1 and A 2 are substituted with a hydrogen atom, an alkylsulfonyl group having 20 or less carbon atoms and an arylsulfonyl group (preferably a phenylsulfonyl group or Hammett's substituent constant sum of -0.5 or more). Phenylsulfonyl group), an acyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a benzoyl group, or the sum of Hammett's substituent constants is −).
A benzoyl group substituted to have a concentration of 0.5 or more, or a linear, branched, or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic acyl group (eg, a substituent is a halogen atom, an ether group, a sulfonamide group, or a carbonamido group). , Hydroxyl group,
Examples thereof include a carboxy group and a sulfonic acid group. ), And
The sulfinic acid residues represented by A 1 and A 2 are specifically those described in US Pat. No. 4,478,928. A hydrogen atom is most preferable as A 1 and A 2 . A carbonyl group is most preferable as G 1 in the general formula (6). Among those represented by the general formula (6), preferred ones can be represented by the general formula (6-a). General formula (6-
a)

【0104】[0104]

【化44】 [Chemical 44]

【0105】式中、R 'a は一般式(6)のRa から水
素原子1個を除いたものである。こで、R 'a 、Rb
たはL1 のうち少なくとも1個はpKa6以上の陰イオ
ンに解離し得る基あるいはアミノ基を有する。pKa6
以上の陰イオンに解離し得る基のうち、好ましいものは
pKa8〜13の陰イオンに解離しうる置換基で、中性
あるいは弱酸性の媒質中ではほとんど解離せず現像液の
ようなアルカリ性水溶液(好ましくはpH10.5〜1
2.3)中で十分に解離するものであればよく、特定の
ものである必要はない。
[0105] In the formula, R 'a are those from R a in formula (6) by removing one hydrogen atom. Here, at least one of R ′ a , R b and L 1 has a group capable of dissociating into an anion having a pKa of 6 or more or an amino group. pKa6
Among the groups capable of dissociating into the above anions, the preferable ones are substituents capable of dissociating into anions of pKa8 to 13, which hardly dissociate in a neutral or weakly acidic medium (alkaline aqueous solution such as a developer). Preferably pH 10.5-1
It does not have to be a specific one as long as it can be sufficiently dissociated in 2.3).

【0106】例えば、水酸基、−SO2 NH−で表され
る基、ヒドロキシイミノ基、活性メチレン基、又は活性
メチン基(例えば−CH2 COO−、−CH2 CO−、
−CH(CN)−COO−など)などが挙げられる。
又、アミノ基は1級、2級、または3級のいずれでもよ
く、好ましくは共役酸のpKaが6.0以上のものが好
ましい。A1 、A2 、G1 、Rb 、L1 、X1 およびq
は一般式(6)で説明したものと同義である。一般式
(6)で表したもののうち、特に好ましいものは一般式
(6−b)で表されるものである。一般式(6−b)
For example, a hydroxyl group, a group represented by --SO 2 NH--, a hydroxyimino group, an active methylene group, or an active methine group (eg --CH 2 COO--, --CH 2 CO--,
-CH (CN) -COO- and the like).
The amino group may be primary, secondary, or tertiary, and the conjugate acid preferably has a pKa of 6.0 or more. A 1 , A 2 , G 1 , R b , L 1 , X 1 and q
Has the same meaning as described in the general formula (6). Among those represented by the general formula (6), particularly preferable ones are those represented by the general formula (6-b). General formula (6-b)

【0107】[0107]

【化45】 [Chemical formula 45]

【0108】式中、L2 は一般式(6)および一般式
(6−a)のL1 と同義であり、Y1は一般式(6)の
1 の置換基として挙げたものと同義であり、qは0又
は1、1は0、1、又は2を表し、1が2のときはYは
同じでも異ってもよい。A1 、A2 、G1 、Rb
1 、X1 は一般式(6)及び(6−a)で説明したも
のと同義である。さらに、好ましくはX1 −(L2 q
−SO2 NHはヒドラジノ基に対しp位に置換したもの
である。一般式(6)の化合物は、特開昭56−678
43、同60−179734、特願昭60−7818
2、特願昭60−111936、特願昭61−1150
36、などに記載の方法に準じて合成することができ
る。一般式(6)で示される化合物の具体例を以下に記
す。但し、本発明は以下の化合物に限定されるものでは
ない。
In the formula, L 2 has the same meaning as L 1 of formula (6) and formula (6-a), and Y 1 has the same meaning as the substituent of R 1 of formula (6). And q represents 0 or 1, 1 represents 0, 1, or 2, and when 1 is 2, Y may be the same or different. A 1 , A 2 , G 1 , R b ,
L 1 and X 1 have the same meanings as described in the general formulas (6) and (6-a). Furthermore, preferably X 1- (L 2 ) q
—SO 2 NH is a hydrazino group substituted at the p-position. The compound of the general formula (6) is disclosed in JP-A-56-678.
43, ibid. 60-179734, Japanese Patent Application No. 60-7818.
2. Japanese Patent Application No. 60-111936, Japanese Patent Application No. 61-1150
36, etc. according to the method described in. Specific examples of the compound represented by the general formula (6) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0109】[0109]

【化46】 [Chemical formula 46]

【0110】[0110]

【化47】 [Chemical 47]

【0111】本発明におけるヒドラジン化合物の添加量
としてはハロゲン化銀1モル当たり1×10-6モルない
し5×10-2モル含有されるのが好ましく、特に1×1
-5モルないし2×10-2モルの範囲が好ましい。本発
明のヒドラジン化合物は、適当な水混和性有機溶媒、例
えば、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパ
ノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセトン、
メチルエチルケトン)、ジメチルホルミルアミド、ジメ
チルスルホキシド、メチルセロソルブに溶解して用いる
ことができる。またすでに良く知られている乳化分散法
によって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフ
ェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフ
タレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサン等
の補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製
して用いることもできる。あるいは固体分散法として知
られている方法によって、ヒドラジン化合物の粉末を水
の中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波によ
って分散して用いることもできる。
The addition amount of the hydrazine compound in the present invention is preferably 1 × 10 -6 mol to 5 × 10 -2 mol per mol of silver halide, particularly 1 × 1.
0 -5 mol to 2 × 10 -2 mol per mol of silver is preferred. The hydrazine compound of the present invention is a suitable water-miscible organic solvent, for example, alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone,
Methyl ethyl ketone), dimethylformylamide, dimethylsulfoxide, and methyl cellosolve can be used by dissolving them. Also, by well-known emulsification and dispersion method, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, oil such as glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexane are dissolved to mechanically emulsify the dispersion. Can also be prepared and used. Alternatively, the hydrazine compound powder may be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves by a method known as a solid dispersion method, and then used.

【0112】本発明に用いられるアミン誘導体、オニウ
ム塩、ジスルフィド誘導体、又はヒドロキシメチル誘導
体は放出促進剤として機能する。アミン誘導体として
は、例えば特開昭60−140,340号、同62−5
0,829号、同62−222,241号、同62−2
50,439号、同62−280,733号、同63−
124,045号、同63−133,145号、同63
−286,840号等に記載の化合物を挙げることがで
きる。アミン誘導体としてより好ましくは、特開昭63
−124,045号、同63−133,145号、同6
3−286,840号等に記載されているハロゲン化銀
に吸着する基を有する化合物、又は特開昭62−22
2,241号等に記載されている炭素数の和が20個以
上の化合物である。オニウム塩としては、アンモニウム
塩またはホスホニウム塩が好ましい。好ましいアンモニ
ウム塩の例としては、特開昭62−250,439号、
同62−280,733号等に記載されている化合物を
挙げることができる。また、好ましいホスホニウム塩の
例としては特開昭61−167,939号、同62−2
80,733号等に記載されている化合物を挙げること
ができる。ジスルフィド誘導体としては、例えば特開昭
61−198,147号記載の化合物を挙げることがで
きる。ヒドロキシメチル誘導体としては、例えば米国特
許第4,693,956号、同4,777,118号、
EP231,850号、特開昭62−50,829号等
記載の化合物を挙げることができ、より好ましくはジア
リールメタノール誘導体である。
The amine derivative, onium salt, disulfide derivative, or hydroxymethyl derivative used in the present invention functions as a release accelerator. Examples of amine derivatives include those disclosed in JP-A-60-140,340 and JP-A-65-25.
0,829, 62-222,241, 62-2
50,439, 62-280,733, 63-
124, 045, 63-133, 145, 63
Examples thereof include compounds described in No. 286,840. More preferably, the amine derivative is preferably JP-A-63-63.
-124,045, 63-133,145, 6
Compounds having a group capable of adsorbing to silver halide, such as those described in JP-A-3-286840, or JP-A-62-22.
It is a compound having 20 or more carbon atoms as described in No. 2,241. The onium salt is preferably an ammonium salt or a phosphonium salt. Examples of preferable ammonium salts include JP-A-62-250439.
The compounds described in JP-A-62-280,733 and the like can be mentioned. Further, examples of preferable phosphonium salts include JP-A-61-167,939 and JP-A-62-162.
The compound described in No. 80,733 etc. can be mentioned. Examples of the disulfide derivative include the compounds described in JP-A No. 61-198,147. Examples of the hydroxymethyl derivative include, for example, U.S. Patent Nos. 4,693,956 and 4,777,118,
Examples thereof include compounds described in EP231,850 and JP-A-62-50,829, more preferably diarylmethanol derivatives.

【0113】次に放出促進剤の具体例を示す。但し本発
明は以下の化合物に限定されるものではない。
Next, specific examples of the release accelerator will be shown. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0114】[0114]

【化48】 [Chemical 48]

【0115】[0115]

【化49】 [Chemical 49]

【0116】[0116]

【化50】 [Chemical 50]

【0117】[0117]

【化51】 [Chemical 51]

【0118】[0118]

【化52】 [Chemical 52]

【0119】[0119]

【化53】 [Chemical 53]

【0120】[0120]

【化54】 [Chemical 54]

【0121】[0121]

【化55】 [Chemical 55]

【0122】[0122]

【化56】 [Chemical 56]

【0123】[0123]

【化57】 [Chemical 57]

【0124】[0124]

【化58】 [Chemical 58]

【0125】これらの化合物はその種類によって最適添
加量が異なるがレドックス化合物1モル当り1.0×1
-2モル〜1.0×102 モル、好ましくは、1.0×
10-1モル〜1.0×10モルの範囲で用いるのが望ま
しい。これらの化合物は適当な溶媒(H2 O)メタノー
ルやエタノールなどのアルコール類、アセトン、ジメチ
ルホルムアミド、メチルセルソルブなど)に溶解して塗
布液に添加される。これらの化合物を複数の種類を併用
してもよい。
The optimum addition amount of these compounds varies depending on the kind thereof, but is 1.0 × 1 per mol of the redox compound.
0 −2 mol to 1.0 × 10 2 mol, preferably 1.0 ×
It is desirable to use it in the range of 10 −1 mol to 1.0 × 10 mol. These compounds are dissolved in a suitable solvent (H 2 O) alcohols such as methanol and ethanol, acetone, dimethylformamide, methylcellosolve, etc.) and added to the coating solution. Plural kinds of these compounds may be used in combination.

【0126】写真乳剤の結合剤あるいは保護コロイドと
しては、ゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外
の親水性コロイドも用いることができる。たとえばゼラ
チン誘導体、ゼラチンと他の高分子とのグラフトポリマ
ー、アルブミン、カゼイン等の蛋白質、ヒドロキシエチ
ルセルロース、カルボキシメチルセルロース、セルロー
ス硫酸エステル類のごときセルロース誘導体、アルギン
酸ソーダ、澱粉誘導体などの糖誘導体、ポリビニルアル
コール、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルブチ
ラール等の単一あるいは共重合体のごとき多種の合成親
水性高分子物質を用いることができる。
As the binder or protective colloid for the photographic emulsion, it is advantageous to use gelatin, but other hydrophilic colloids can also be used. For example, gelatin derivatives, graft polymers of gelatin and other polymers, proteins such as albumin and casein, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, cellulose derivatives such as cellulose sulfates, sodium alginate, sugar derivatives such as starch derivatives, polyvinyl alcohol, Various synthetic hydrophilic polymer substances such as single or copolymers of polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyacrylamide, polyvinyl imidazole, polyvinyl butyral and the like can be used.

【0127】本発明のハロゲン化銀感光材料を用いて超
硬調で高感度の写真特性を得るには、従来の伝染現像液
や米国特許2,419,975号に記載されたpH13
に近い高アルカリ現像液を用いる必要はなく、安定な現
像液を用いることができる。すなわち、本発明のハロゲ
ン化銀感光材料は、保恒剤としての亜硫酸イオンを0.
15モル/リットル以上含み、pH9.6〜11.0の
現像液によって充分に超硬調のネガ画像を得ることがで
きる。本発明に使用する現像液に用いる現像主薬には特
別な制限はないが、良好な網点品質を得やすい点で、ジ
ヒドロキシベンゼン類を含むことが好ましく、ジヒドロ
キシベンゼン類と1−フェニル−3−ピラゾリドン類の
組合せまたはジヒドロキシベンゼン類とp−アミノフェ
ノール類の組合せを用いる場合もある。本発明に用いる
ジヒドロキシベンゼン現像主薬としてはハイドロキノ
ン、クロロハイドロキノン、ブロムハイドロキノン、イ
ソプロピルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、
2,3−ジクロロハイドロキノン、2,5−ジクロロハ
イドロキノン、2,3−ジブロムハイドロキノン、2,
5−ジメチルハイドロキノンなどがあるが特にハイドロ
キノンが好ましい。
In order to obtain ultrahigh contrast and high sensitivity photographic characteristics using the silver halide light-sensitive material of the present invention, a conventional infectious developer or pH 13 described in US Pat. No. 2,419,975 is used.
It is not necessary to use a highly alkaline developing solution close to the above, and a stable developing solution can be used. That is, the silver halide light-sensitive material of the present invention has a sulfite ion as a preservative of 0.
A developer containing 15 mol / liter or more and having a pH of 9.6 to 11.0 can sufficiently obtain a super-high contrast negative image. There is no particular limitation on the developing agent used in the developer used in the present invention, but it is preferable to contain dihydroxybenzenes from the viewpoint of easily obtaining good halftone dot quality, and dihydroxybenzenes and 1-phenyl-3- A combination of pyrazolidones or a combination of dihydroxybenzenes and p-aminophenols may be used. As the dihydroxybenzene developing agent used in the present invention, hydroquinone, chlorohydroquinone, bromohydroquinone, isopropylhydroquinone, methylhydroquinone,
2,3-dichlorohydroquinone, 2,5-dichlorohydroquinone, 2,3-dibromohydroquinone, 2,
There are 5-dimethylhydroquinone and the like, but hydroquinone is particularly preferable.

【0128】本発明に用いる1−フェニル−3−ピラゾ
リドン又はその誘導体の現像主薬としては1−フェニル
−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4,4−ジメチル
−4−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メチル−4−
ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−
4,4−ジヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン、1−
フェニル−5−メチル−3−ピラゾリドン、1−p−ア
ミノフェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、
1−p−トリル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン
などがある。本発明に用いるp−アミノフェノール系現
像主薬としてはN−メチル−p−アミノフェノール、p
−アミノフェノール、N−(β−ヒドロキシエチル)−
p−アミノフェノール、N−(4−ヒドロキシフェニ
ル)グリシン、2−メチル−p−アミノフェノール、p
−ベンジルアミノフェノール等があるが、なかでもN−
メチル−p−アミノフェノールが好ましい。現像主薬は
通常0.05モル/リットル〜0.8モル/リットルの
量で用いられるのが好ましい。またジヒドロキシベンゼ
ン類と1−フェニル−3−ピラゾリドン類又はp−アミ
ノ−フェノール類との組合せを用いる場合には前者を
0.05モル/リットル〜0.5モル/リットル、後者
を0.06モル/リットル以下の量で用いるのが好まし
い。
The developing agent for 1-phenyl-3-pyrazolidone or a derivative thereof used in the present invention includes 1-phenyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4,4-dimethyl-4-pyrazolidone and 1-phenyl-4-. Methyl-4-
Hydroxymethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-
4,4-dihydroxymethyl-3-pyrazolidone, 1-
Phenyl-5-methyl-3-pyrazolidone, 1-p-aminophenyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone,
1-p-tolyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone and the like. As the p-aminophenol-based developing agent used in the present invention, N-methyl-p-aminophenol, p
-Aminophenol, N- (β-hydroxyethyl)-
p-aminophenol, N- (4-hydroxyphenyl) glycine, 2-methyl-p-aminophenol, p
-Benzylaminophenol, etc., but among them N-
Methyl-p-aminophenol is preferred. The developing agent is usually preferably used in an amount of 0.05 mol / liter to 0.8 mol / liter. When a combination of dihydroxybenzenes and 1-phenyl-3-pyrazolidones or p-amino-phenols is used, the former is 0.05 mol / liter to 0.5 mol / liter and the latter is 0.06 mol. It is preferably used in an amount of 1 / liter or less.

【0129】本発明に用いる亜硫酸塩の保恒剤としては
亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、
亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫
酸カリウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなど
がある。亜硫酸塩は0.15モル/リットル以上、特に
0.3モル/リットル以上が好ましい。また上限は2.
5モル/リットルまでとするのが好ましい。pHの設定
のために用いるアルカリ剤には水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、第三リン
酸ナトリウム、第三リン酸カリウムの如きpH調節剤や
緩衝剤を含む。現像液のpHは9.6〜11.0の間に
設定される。
As the preservative of sulfite used in the present invention, sodium sulfite, potassium sulfite, lithium sulfite,
Examples include ammonium sulfite, sodium bisulfite, potassium metabisulfite, and formaldehyde sodium bisulfite. The sulfite is preferably 0.15 mol / liter or more, and particularly preferably 0.3 mol / liter or more. The upper limit is 2.
It is preferably up to 5 mol / liter. The alkaline agent used for setting the pH includes a pH adjusting agent and a buffering agent such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium triphosphate and potassium triphosphate. The pH of the developer is set between 9.6 and 11.0.

【0130】上記成分以外に用いられる添加剤としては
ホウ酸、ホウ砂などの化合物、臭化ナトリウム、臭化カ
リウム、沃化カリウムの如き現像抑制剤:エチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トルエチレングリコー
ル、ジメチルホルムアミド、メチルセロソルブ、ヘキシ
レングリコール、エタノール、メタノールの如き有機溶
剤:1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール、5−
ニトロインダゾール等のインダゾール系化合物、5−メ
チルベンツトリアゾール等のベンツトリアゾール系化合
物などのカブリ防止剤又は黒ポツ(black pepper) 防止
剤:を含んでもよく、更に必要に応じて色調剤、界面活
性剤、消泡剤、硬水軟化剤、硬膜剤、特開昭56−10
6244号記載のアミノ化合物などを含んでもよい。本
発明の現像液には銀汚れ防止剤として特開昭56−2
4,347号に記載の化合物を用いることができる。現
像液中に添加する溶解助剤として特願昭60−109,
743号に記載の化合物を用いることができる。さらに
現像液に用いるpH緩衝剤として特開昭60−93,4
33号に記載の化合物あるいは特願昭61−28708
号に記載の化合物を用いることができる。
As additives used in addition to the above components, compounds such as boric acid and borax, development inhibitors such as sodium bromide, potassium bromide and potassium iodide: ethylene glycol, diethylene glycol, toluethylene glycol, dimethylformamide , Organic solvents such as methyl cellosolve, hexylene glycol, ethanol, methanol: 1-phenyl-5-mercaptotetrazole, 5-
An indazole compound such as nitroindazole, an antifoggant such as 5-methylbenztriazole or a benztriazole compound such as a benztriazole compound or a black pepper inhibitor: may be contained, and if necessary, a toning agent and a surfactant. , Antifoaming agent, water softener, hardener, JP-A-56-10
The amino compound described in No. 6244 may be included. In the developer of the present invention, a silver stain preventing agent is disclosed in JP-A-56-2.
The compounds described in 4,347 can be used. As a dissolution aid to be added to the developing solution, Japanese Patent Application No. 60-109,
The compound described in No. 743 can be used. Further, as a pH buffer agent used in a developing solution, JP-A-60-93,4
33 or the Japanese Patent Application No. 61-28708
The compounds described in No. 1 can be used.

【0131】定着剤としては一般に用いられる組成のも
のを用いることができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、
チオシアン酸塩のほか、定着剤としての効果の知られて
いる有機硫黄化合物を用いることができる。定着液には
硬膜剤として水溶性アルミニウム(例えば硫酸アルミニ
ウム、明バンなど)を含んでもよい。ここで水溶性アル
ミニウム塩の量としては通常0.4〜2.0g−Al/
リットルである。さらに三価の鉄化合物を酸化剤として
エチレンジアミン4酢酸との錯体として用いることもで
きる。現像処理温度は通常18℃から50℃の間で選ば
れるがより好ましくは25℃から43℃である。
As the fixing agent, those having a generally used composition can be used. Thiosulfate as a fixing agent,
In addition to thiocyanate, an organic sulfur compound known to be effective as a fixing agent can be used. The fixing solution may contain water-soluble aluminum (for example, aluminum sulfate, light vane, etc.) as a hardening agent. Here, the amount of the water-soluble aluminum salt is usually 0.4 to 2.0 g-Al /
It is a liter. Furthermore, a trivalent iron compound can be used as a complex with ethylenediaminetetraacetic acid as an oxidizing agent. The developing treatment temperature is usually selected from 18 ° C to 50 ° C, more preferably 25 ° C to 43 ° C.

【0132】本発明の感光材料に用いられる各種添加剤
に関しては、特に制限は無く、例えば下記箇所に記載さ
れたものを好ましく用いることが出来る。 項 目 該 当 箇 所 1)造核促進剤 特願平4−237366号に記載の一般式(I)、 (II)、(III) 、(IV)、(V) 、(VI)の化合物。 特開平2−103536号公報第9頁右上欄13行 目から同第16頁左上欄10行目の一般式(II−m )ないし(II−p)及び化合物例II−1ないしII− 22、特開平1−179939号公報に記載の化合 物。 2)分光増感色素 特開平2−12236号公報第8頁左下欄13行目 から同右下欄4行目、同2−103536号公報第 16頁右下欄3行目から同第17頁左下欄20行目 、さらに特開平1−112235号、同2−124 560号、同3−7928号、特願平3−1895 32号及び同3−411064号に記載の分光増感 色素。 3)界面活性剤 特開平2−12236号公報第9頁右上欄7行目か ら同右下欄7行目、及び特開平2−18542号公 報第2頁左下欄13行目から同第4頁右下欄18行 目。 4)カブリ防止剤 特開平2−103536号公報第17頁右下欄19 行目から同第18頁右上欄4行目及び同右下欄1行 目から5行目、さらに特開平1−237538号公 報に記載のチオスルフィン酸化合物。 5)ポリマーラテックス 特開平2−103536号公報第18頁左下欄12 行目から同20行目。 6)酸基を有する化合物 特開平2−103536号公報第18頁右下欄6行 目から同第19頁左上欄1行目。 7)マット剤、滑り剤、 特開平2−103536号公報第19頁左上欄15 可塑剤 行目から同第19頁右上欄15行目。 8)硬膜剤 特開平2−103536号公報第18頁右上欄5行 目から同第17行目。 9)染料 特開平2−103536号公報第17頁右下欄1行 目から同18行目の染料、同2−294638号公 報及び特願平3−185773号に記載の固体染料 。 10)バインダー 特開平2−18542号公報第3頁右下欄1行目か ら20行目。 11)黒ポツ防止剤 米国特許第4956257号及び特開平1−118 832号公報に記載の化合物。 12)レドックス化合物 特開平2−301743号公報の一般式(I)で表 される化合物(特に化合物例1ないし50)、同3 −174143号公報第3頁ないし第20頁に記載 の一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)、化 合物例1ないし75、さらに特願平3−69466 号、同3−15648号に記載の化合物。 13)モノメチン化合物 特開平2−287532号公報の一般式(II)の化 合物(特に化合物例II−1ないしII−26)。 14)ジヒドロキシベンゼ 特開平3−39948号公報第11頁左上欄から第 ン類 12頁左下欄の記載、及びEP452772A号公 報に記載の化合物
There are no particular restrictions on various additives used in the light-sensitive material of the present invention, and for example, those described in the following sections can be preferably used. Item 1) Nucleation accelerator A compound represented by the general formula (I), (II), (III), (IV), (V) or (VI) described in Japanese Patent Application No. 4-237366. JP-A-2-103536, page 9, upper right column, line 13 to page 16, upper left column, line 10 General formulas (II-m) to (II-p) and compound examples II-1 to II-22, The compound described in JP-A-1-179939. 2) Spectral sensitizing dyes JP-A-2-12236, page 8, lower left column, line 13 to same, lower right column, line 4; JP-A-2-103536, page 16, lower right column, line 3 to page 17, lower left Spectral sensitizing dyes described in column 20, line 20 and JP-A-1-112235, JP-A-2-124560, JP-A-3-7928, and Japanese Patent Application Nos. 3-189532 and 3-411064. 3) Surfactant JP-A-2-12236, page 9, upper right column, line 7 to lower right column, line 7 and JP-A-2-18542, page 2, left lower column, line 13 to 4 Lower right column, line 18 4) Antifoggant JP-A-2-103536, page 17, lower right column, line 19 to page 18, upper right column, line 4 and lower right column, lines 1 to 5; further JP-A 1-237538 Thiosulfinic acid compounds described in the public notice. 5) Polymer latex JP-A-2-103536, page 18, lower left column, lines 12 to 20. 6) Compounds having an acid group JP-A-2-103536, page 18, lower right column, line 6 to page 19, upper left column, line 1 7) Matting agent, slipping agent, JP-A-2-103536, page 19, upper left column 15, plasticizer line to page 19, upper right column, line 15 8) Hardeners, JP-A-2-103536, page 18, upper right column, line 5 to line 17 thereof. 9) Dyes: Dyes in the lower right column, lines 1 to 18 of JP-A-2-103536, solid dyes described in JP-A-2-294638 and JP-A-3-185773. 10) Binder JP-A-2-18542, page 3, lower right column, lines 1 to 20. 11) Anti-black spot agent Compounds described in U.S. Pat. No. 4,956,257 and JP-A-1-118832. 12) Redox compound A compound represented by the general formula (I) in JP-A No. 2-301743 (particularly compound examples 1 to 50), a general formula (page 3 to page 20 in JP-A No. 3-174143). R-1), (R-2), (R-3), compound examples 1 to 75, and compounds described in Japanese Patent Application Nos. 3-69466 and 3-15648. 13) Monomethine compound Compounds of the general formula (II) described in JP-A-2-287532 (compound examples II-1 to II-26). 14) Dihydroxybenze Compounds described in JP-A-3-39948, page 11, upper left column to genus, page 12, lower left column, and EP452772A.

【0133】以下、本発明を実施例によって具体的に説
明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

【0134】[0134]

【実施例】【Example】

実施例1 以下の方法で乳剤を調製した。 乳剤A:0.13Mの硝酸銀水溶液と、銀1モルあたり
1.5×10-7モルに相当するK2Rh(H2O)Cl5
および2×10-7モルに相当するK3IrCl6を含み、
0.04Mの臭化カリウムと0.09Mの塩化ナトリウ
ムを含むハロゲン塩水溶液を、塩化ナトリウムと、1,
3−ジメチル−2−イミダゾリジンチオンを含有するゼ
ラチン水溶液に、攪拌しながら38℃で12分間ダブル
ジェット法により添加し、平均粒子サイズ0.14μ
m、塩化銀含有率70モル%の塩臭化銀粒子を得ること
により核形成を行った。続いて同様に0.87Mの硝酸
銀水溶液と0.26Mの臭化カリウムと、0.65Mの
塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶液をダブルジェッ
ト法により20分間かけて添加した。同様の方法で表1
に示した乳剤A〜Dを調製した。
Example 1 An emulsion was prepared by the following method. Emulsion A: 0.13 M silver nitrate aqueous solution and K 2 Rh (H 2 O) Cl 5 corresponding to 1.5 × 10 −7 mol per mol of silver
And K 3 IrCl 6 corresponding to 2 × 10 −7 mol,
An aqueous solution of halogen salt containing 0.04M potassium bromide and 0.09M sodium chloride was added to
To the aqueous gelatin solution containing 3-dimethyl-2-imidazolidinethione was added by the double jet method at 38 ° C. for 12 minutes while stirring, and the average particle size was 0.14 μm.
The nucleation was carried out by obtaining silver chlorobromide grains having a m content of 70 mol% and a silver chloride content of 70 mol%. Subsequently, similarly, a 0.87 M silver nitrate aqueous solution, 0.26 M potassium bromide, and a halogen salt aqueous solution containing 0.65 M sodium chloride were added over 20 minutes by the double jet method. Table 1 in the same way
Emulsions A to D shown in Table 1 were prepared.

【0135】その後それぞれの乳剤に1×10-3モルの
KI溶液を加えてコンバージョンを行い常法に従ってフ
ロキュレーション法により水洗し、銀1モルあたりゼラ
チン40gを加え、pH6.5、pAg7.5に調製
し、温度を60℃として本発明の増感色素および下記の
比較化合物を表2に示すように添加した。さらに銀1モ
ルあたりベンゼンチオスルホン酸ナトリウム7mgとベン
ゼンスルフィン酸2mg、塩化金酸8mg、チオシアン酸カ
リウム200mgおよびチオ硫酸ナトリウム5mgを加え、
60℃で45分間加熱し化学増感を施した後、安定剤と
して4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−
テトラザインデン150mgを加え、さらに防腐剤として
プロキセル100mgを加えた。得られた粒子はそれぞれ
平均粒子サイズ0.25μm、塩化銀含有率69.9モ
ル%の沃塩臭化銀立方体粒子であった。(変動係数10
%)
Then, 1 × 10 −3 mol of KI solution was added to each emulsion for conversion, and the emulsion was washed with water by a flocculation method according to a conventional method, and 40 g of gelatin was added per mol of silver, pH 6.5 and pAg 7.5. The sensitizing dye of the present invention and the following comparative compound were added as shown in Table 2. Further, 7 mg of sodium benzenethiosulfonate, 2 mg of benzenesulfinic acid, 8 mg of chloroauric acid, 200 mg of potassium thiocyanate and 5 mg of sodium thiosulfate were added per mol of silver.
After heating at 60 ° C. for 45 minutes for chemical sensitization, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7- was used as a stabilizer.
150 mg of tetrazaindene was added, and further 100 mg of proxel was added as a preservative. The obtained grains were cubic grains of silver iodochlorobromide having an average grain size of 0.25 μm and a silver chloride content of 69.9 mol%. (Variation coefficient 10
%)

【0136】乳剤E 0.13Mの硝酸銀水溶液と、銀1モルあたり1.5×
10-7モルに相当するK2Rh(H2O)Cl5および2
×10-7モルに相当するK3IrCl6を含み、0.09
Mの臭化カリウムと0.04Mの塩化ナトリウムを含む
ハロゲン塩水溶液を、塩化ナトリウムと、1,3−ジメ
チル−2−イミダゾリジンチオンを含有するゼラチン水
溶液に、攪拌しながら38℃で12分間ダブルジェット
法により添加し、平均粒子サイズ0.14μm、塩化銀
含有率30モル%の塩臭化銀粒子を得ることにより核形
成を行った。続いて同様に0.87Mの硝酸銀水溶液と
0.61Mの臭化カリウムと、0.30Mの塩化ナトリ
ウムを含むハロゲン塩水溶液をダブルジェット法により
20分間かけて添加した。
Emulsion E A 0.13 M silver nitrate aqueous solution and 1.5 × per mol of silver
K 2 Rh (H 2 O) Cl 5 and 2 corresponding to 10 -7 mol
0.09 containing K 3 IrCl 6 corresponding to × 10 -7 mol
An aqueous solution of a halogen salt containing M potassium bromide and 0.04 M sodium chloride is added to an aqueous gelatin solution containing sodium chloride and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinethione with stirring at 38 ° C. for 12 minutes by the double jet method. Nucleation was performed to obtain silver chlorobromide grains having an average grain size of 0.14 μm and a silver chloride content of 30 mol%. Subsequently, similarly, a 0.87 M silver nitrate aqueous solution, a 0.61 M potassium bromide, and a 0.30 M sodium chloride-containing halogen salt aqueous solution were added over 20 minutes by the double jet method.

【0137】その後1×10-3モルのKI溶液を加えて
コンバージョンを行い常法に従ってフロキュレーション
法により水洗し、銀1モルあたりゼラチン40gを加
え、pH6.5、pAg7.5に調製し、温度を60℃
として本発明の増感色素および下記の比較化合物を表2
に示すように添加した。さらに銀1モルあたりベンゼン
チオスルホン酸ナトリウム7mgとベンゼンスルフィン酸
2mg、塩化金酸8mg、チオシアン酸カリウム200mgお
よびチオ硫酸ナトリウム5mgを加え、60℃で45分間
加熱し化学増感を施した後、安定剤として4−ヒドロキ
シ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン
150mgを加え、さらに防腐剤としてプロキセル100
mgを加えた。得られた粒子は平均粒子サイズ0.25μ
m、塩化銀含有率29.9モル%の沃塩臭化銀立方体粒
子であった。(変動係数10%)
Thereafter, 1 × 10 −3 mol of KI solution was added for conversion, and the product was washed with water by a flocculation method according to a conventional method, and 40 g of gelatin was added per mol of silver to prepare pH 6.5 and pAg 7.5. 60 ℃
The sensitizing dyes of the present invention and the following comparative compounds are shown in Table 2 below.
Was added as shown in. Further, 7 mg of sodium benzenethiosulfonate, 2 mg of benzenesulfinic acid, 8 mg of chloroauric acid, 200 mg of potassium thiocyanate and 5 mg of sodium thiosulfate were added per 1 mol of silver, and the mixture was heated at 60 ° C for 45 minutes for chemical sensitization and then stabilized. 4-Hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene (150 mg) was added as a preservative, and Proxel 100 was added as a preservative.
mg was added. The obtained particles have an average particle size of 0.25μ.
m, and silver iodochlorobromide cubic grains having a silver chloride content of 29.9 mol%. (Variation coefficient 10%)

【0138】[0138]

【化59】 [Chemical 59]

【0139】塗布試料の作成 上記乳剤に、銀1モルあたり3×10-4モルの下記
(a)で示されるメルカプト化合物、4×10-4モルの
(b)で示されるメルカプト化合物、4×10-4モルの
(c)で示されるトリアジン化合物、2×10-3モルの
5−クロル−8−ヒドロキシキノリン、3×10-4モル
の(d)の化合物、表2で示されるヒドラジン誘導体を
銀1モルあたり5×10-3モル添加した。さらに、N−
オレイル−N−メチルタウリンナトリウム塩を30mg/
m2塗布されるように添加し、(e)で示される水溶性ラ
テックスを200mg/m2、下記構造式で示される造核促
進剤およびポリエチルアクリレートの分散物を200mg
/m2、メチルアクリレートと2−アクリルアミド−2−
メチルプロパンスルホン酸ナトリウム塩と2−アセトア
セトキシエチルメタクリレートのラテックス共重合体
(重量比88:5:7)を200mg/m2、さらに硬膜剤
として1,3−ジビニルスルホニル−2−プロパノール
を200mg/m2を加えた。溶液のpHは6.0に調製し
た。それらを下塗りを施したポリエチレンテレフタレー
トフィルム上に塗布銀量3.0g/m2になるように塗布
した。
Preparation of Coating Sample In the above emulsion, 3 × 10 −4 mol of the mercapto compound represented by the following (a) per mol of silver, 4 × 10 −4 mol of the mercapto compound represented by the (b), 4 × 10 −4 mol of the triazine compound represented by (c), 2 × 10 −3 mol of 5-chloro-8-hydroxyquinoline, 3 × 10 −4 mol of the compound of (d), the hydrazine derivative shown in Table 2 Was added in an amount of 5 × 10 −3 mol per mol of silver. Furthermore, N-
Oleyl-N-methyltaurine sodium salt 30 mg /
m 2 is added so as to be applied, and 200 mg / m 2 of the water-soluble latex represented by (e), and 200 mg of a dispersion of the nucleation accelerator represented by the following structural formula and polyethyl acrylate are added.
/ M 2 , methyl acrylate and 2-acrylamido-2-
200 mg / m 2 of latex copolymer of methyl propane sulfonic acid sodium salt and 2-acetoacetoxyethyl methacrylate (weight ratio 88: 5: 7), and 200 mg of 1,3-divinylsulfonyl-2-propanol as a hardening agent. / M 2 was added. The pH of the solution was adjusted to 6.0. These were coated on an undercoated polyethylene terephthalate film so that the coating silver amount was 3.0 g / m 2 .

【0140】[0140]

【化60】 [Chemical 60]

【0141】[0141]

【化61】 [Chemical formula 61]

【0142】[0142]

【化62】 [Chemical formula 62]

【0143】これらの乳剤層の上に保護層としてゼラチ
ン1.0g/m2、平均粒子サイズ約3.5μmの不定形
なSiO2 マット剤40mg/m2、メタノールシリカ0.
1g/m2、ポリアクリルアミド100mg/m2、ハイドロ
キノン200mg/m2とシリコーンオイル20mg/m2およ
び塗布助剤として下記構造式(e)で示されるフッ素界
面活性剤5mg/m2とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム100mg/m2を塗布し、表2に示すような試料を作
成した。またバック層およびバック保護層は次に示す処
方にて塗布した。
On these emulsion layers, as a protective layer, 1.0 g / m 2 of gelatin, 40 mg / m 2 of amorphous SiO 2 matting agent having an average particle size of about 3.5 μm, and methanol silica of 0.1.
1 g / m 2 , polyacrylamide 100 mg / m 2 , hydroquinone 200 mg / m 2 , silicone oil 20 mg / m 2, and a fluorosurfactant 5 mg / m 2 represented by the following structural formula (e) as a coating aid and dodecylbenzenesulfone. Sodium acid 100 mg / m 2 was applied to prepare samples as shown in Table 2. The back layer and the back protective layer were applied by the following formulation.

【0144】[0144]

【化63】 [Chemical formula 63]

【0145】 [バック層処方] ゼラチン 3g/m2 ラテックス ポリエチルアクリレート 2g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 40mg/m2 [Back layer formulation] Gelatin 3 g / m 2 latex Polyethyl acrylate 2 g / m 2 Surfactant sodium p-dodecylbenzenesulfonate 40 mg / m 2

【0146】[0146]

【化64】 [Chemical 64]

【0147】 SnO2/Sb(重量比90/10、平均粒径0.20μm)200mg/m2 染料 染料[a]、染料[b]、染料[c]の混合物 染料[a] 50mg/m2 染料[b] 100mg/m2 染料[c] 50mg/m2 SnO 2 / Sb (weight ratio 90/10, average particle size 0.20 μm) 200 mg / m 2 dye Mixture of dye [a], dye [b], dye [c] dye [a] 50 mg / m 2 Dye [b] 100 mg / m 2 Dye [c] 50 mg / m 2

【0148】[0148]

【化65】 [Chemical 65]

【0149】 [バック保護層] ゼラチン 0.8mg/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4.5μm) 30mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 15mg/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 15mg/m2 酢酸ナトリウム 40mg/m2 [Back protective layer] Gelatin 0.8 mg / m 2 polymethylmethacrylate fine particles (average particle size 4.5 μm) 30 mg / m 2 Dihexyl-α-sulfosuccinate sodium salt 15 mg / m 2 p-dodecylbenzenesulfonic acid Sodium 15 mg / m 2 Sodium acetate 40 mg / m 2

【0150】[0150]

【表1】 [Table 1]

【0151】こうして得られた試料をステップウェッジ
を通してタングステン光で露光し、現像液として下記処
方の現像液、定着液としてGR−D1(富士写真フイル
ム株式会社製)を使用し、FG−680A自動現像機
(富士写真フイルム株式会社製)を用いて38℃30”
処理を行った。評価結果は表2に示した。ここで感度は
38℃30秒現像における濃度1.5を与える露光量の
逆数の相対値で示した。γは下記式で表される
The sample thus obtained was exposed to tungsten light through a step wedge, and a developing solution having the following formulation was used as a developing solution and GR-D1 (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was used as a fixing solution, and FG-680A automatic development was performed. Machine (made by Fuji Photo Film Co., Ltd.)
Processed. The evaluation results are shown in Table 2. Here, the sensitivity is indicated by the relative value of the reciprocal of the exposure amount that gives a density of 1.5 at 38 ° C. for 30 seconds. γ is represented by the following formula

【0152】[0152]

【数1】 [Equation 1]

【0153】で定義する。黒ポツは38℃30”現像し
たときの素現部分を顕微鏡観察により5段階に評価した
もので「5」が最も良く「1」が最も悪い品質を表す。
「5」または「4」は実用可能で「3」は粗悪だが何と
か実用出来、「2」または「1」は実用不可である。
It is defined in. The black spots are obtained by observing the actual portion when developed at 38 ° C. and 30 ″ with a microscope, and “5” is the best and “1” is the worst quality.
"5" or "4" is practical, "3" is poor but can be practically managed, and "2" or "1" is not practical.

【0154】 現像液1 補充液 1,2−ジヒドロキシベンゼン−3,5−ジスルホン酸ソーダ 0.5g ジエチレントリアミン−五酢酸 2.0g 炭酸ナトリウム 5.0g ほう酸 10.0g 亜硫酸カリウム 85.0g 臭化ナトリウム 6.0g ジエチレングリコール 40.0g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.2g ハイドロキノン 30.0g 4−ヒドロキシメチル−4−メチル−1−フェニル −3−ピラゾリドン 1.6g 2,3,5,6,7,8−ヘキサヒドロ−2−チオキソ −4−(1H)−キナゾリノン 0.09g 2−メルカプトベンツイミダゾール −5−スルホン酸ナトリウム 0.3g 水酸化カリウムを加え、水を加えて1リットルとし、 pHを10.7に合わせる。 1リットル スターター 酢酸(90%) 366g 水を加えて 1リットル 上記補充液1リットルに上記スターター10mlを加え
現像液1を作った。
Developer 1 Replenisher 1,2-Dihydroxybenzene-3,5-disulfonate sodium 0.5 g Diethylenetriamine-pentaacetic acid 2.0 g Sodium carbonate 5.0 g Boric acid 10.0 g Potassium sulfite 85.0 g Sodium bromide 6 0.0 g diethylene glycol 40.0 g 5-methylbenzotriazole 0.2 g hydroquinone 30.0 g 4-hydroxymethyl-4-methyl-1-phenyl-3-pyrazolidone 1.6 g 2,3,5,6,7,8-hexahydro 2-Thioxo-4- (1H) -quinazolinone 0.09 g 2-mercaptobenzimidazole-5-sodium sulfonate 0.3 g Potassium hydroxide is added, water is added to 1 liter, and the pH is adjusted to 10.7. . 1 liter Starter acetic acid (90%) 366 g Water was added to 1 liter To 1 liter of the replenisher, 10 ml of the starter was added to prepare Developer 1.

【0155】 現像液2 濃縮液 メタ重亜硫酸ナトリウム 145g 水酸化カリウム(45%) 178g ジエチレントリアミンペンタ酢酸五ナトリウム塩 15g 臭化ナトリウム 12g ハイドロキノン 65g 1−フェニル−4−ヒドロキシメチル−4−メチル −3−ピラゾリドン 2.9g ベンゾトリアゾール 0.4g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.05g 水酸化ナトリウム(50%) 46g ほう酸 6.9g ジエチレングリコール 120g 炭酸カリウム(47%) 120g 水を加えて 1リットル 上記濃縮液1に対して水2の割合で希釈して、pH1
0.5の現像液2を作った。
Developer 2 Concentrate Sodium metabisulfite 145 g Potassium hydroxide (45%) 178 g Diethylenetriamine pentaacetic acid pentasodium salt 15 g Sodium bromide 12 g Hydroquinone 65 g 1-Phenyl-4-hydroxymethyl-4-methyl-3-pyrazolidone 2.9 g Benzotriazole 0.4 g 1-Phenyl-5-mercaptotetrazole 0.05 g Sodium hydroxide (50%) 46 g Boric acid 6.9 g Diethylene glycol 120 g Potassium carbonate (47%) 120 g Water 1 liter Concentrated liquid 1 Diluted with water to the ratio of 2 to pH 1
A developer 2 of 0.5 was made.

【0156】現像液3 現像液1を用いて大全換算で30枚に相当する量の露光
後の各試料(黒化率100%)を無補充でランニング
し、現像液3を作った。 現像液4 現像液1を試料を処理せずに無補充で38℃で1カ月放
置し、現像液4を作った。
Developer 3 A developer 3 was prepared by using the developer 1 and running each sample (blackening rate 100%) after exposure in an amount corresponding to 30 sheets in total conversion without replenishment. Developer 4 Developer 1 was left unreplenished at 38 ° C. for 1 month without treating the sample to prepare Developer 4.

【0157】[0157]

【表2】 [Table 2]

【0158】表2より明らかなように本発明の試料は現
像液組成変動に対しても良好な性能を維持することが理
解される。
As is clear from Table 2, it is understood that the samples of the present invention maintain good performance even with variations in developer composition.

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【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成5年4月19日[Submission date] April 19, 1993

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0052[Correction target item name] 0052

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0052】本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、
一般式(4)〜(6)によって表される化合物が好まし
い。
The hydrazine derivative used in the present invention is
The compounds represented by the general formulas (4) to (6) are preferable.

【手続補正2】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0059[Correction target item name] 0059

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0059】[0059]

【化27】 [Chemical 27]

【手続補正3】[Procedure 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0060[Correction target item name] 0060

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0060】式中、L1 、L2 は−CONR7 −基、−
NR7 CONR8 −基、−SO2 NR7 −基または−N
7 SO3 NR8 −基を表し、それぞれ同じであっても
異なっていても良い。R7 およびR8 は水素原子または
炭素数1〜6のアルキル基、炭素数6〜10のアリール
基を表し、水素原子が好ましい。mは0または1であ
る。R3 、R4 、R5 は2価の脂肪族基または芳香族基
であり、好ましくはアルキレン基、アリーレン基または
それらと−O−基、−CO−基、−S−基、−SO−
基、−SO2 −基、−NR9 −基(R9 は一般式〔H
1〕、〔H2〕、〔H3〕、〔H4〕のR7 と同義)を
組みあわせることによってつくられる2価の基である。
より好ましくはR3 は炭素数1〜10のアルキレン基あ
るいはそれらと−S−基、−SO−基、−SO2 −基を
組みあわせてつくられる2価の基であり、R4、R5
炭素数6〜20のアリーレン基である。特にR5 はフェ
ニレン基が好ましい。R3 、R4 およびR5 は置換され
ていても良く、好ましい置換基としてはR1の置換基と
して列挙したものがあてはまる。
In the formula, L 1 and L 2 are --CONR 7 --groups,
NR 7 CONR 8 — group, —SO 2 NR 7 — group or —N
And R 7 SO 3 NR 8 — groups, which may be the same or different. R 7 and R 8 represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and a hydrogen atom is preferable. m is 0 or 1. R 3 , R 4 and R 5 are divalent aliphatic groups or aromatic groups, preferably alkylene groups, arylene groups or their groups and —O— groups, —CO— groups, —S— groups, —SO—.
Group, —SO 2 — group, —NR 9 — group (R 9 is represented by the general formula [H
1], [H2], [H3], and [H4] (synonymous with R 7 )) is a divalent group formed by combining them.
More preferably, R 3 is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms or a divalent group formed by combining them with an —S— group, —SO— group or —SO 2 — group, and R 4 and R 5 Is an arylene group having 6 to 20 carbon atoms. Particularly, R 5 is preferably a phenylene group. R 3 , R 4 and R 5 may be substituted, and preferable substituents include those listed as the substituents for R 1 .

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0061[Correction target item name] 0061

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0061】一般式〔H1〕、〔H2〕においてZ1
含窒素芳香環を形成するために必要な原子群を表す。Z
1 と窒素原子で形成される含窒素複素芳香環の好ましい
例としてはピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、
ピラジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピロール
環、オキサゾール環、チアゾール環、およびこれらのベ
ンゾ縮合環の他、プテリジン環、ナフチリジン環などを
挙げることができる。一般式〔H1〕、〔H2〕、〔H
3〕においてX- は対アニオンまたは分子内塩を形成す
る場合は、対アニオン部分を表す。一般式〔H2〕、
〔H3〕、〔H4〕においてR6 は脂肪族基または芳香
族基を表す。好ましくはR6 は炭素数1〜20のアルキ
ル基、炭素数6〜20のアリール基である。一般式〔H
3〕における3つのR6 はそれぞれ同じであっても異な
っても良く、また互いに結合して環を形成しても良い。
1 およびR6 は置換されていても良く、好ましい置換
基としてはR1 の置換基として列挙したものがあてはま
る。一般式〔H4〕においてL3 は−CH2 CH2 O−
基、−CH2 CH(CH3)O−基、または−CH2
H(OH)CH2 O−基を表し、nは一般式〔H1〕と
同義である。
In formulas [H1] and [H2], Z 1 represents an atomic group necessary for forming a nitrogen-containing aromatic ring. Z
Preferred examples of the nitrogen-containing heteroaromatic ring formed by 1 and a nitrogen atom include a pyridine ring, a pyrimidine ring, a pyridazine ring,
Examples thereof include a pyrazine ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, a pyrrole ring, an oxazole ring, a thiazole ring, and a benzo-condensed ring thereof, as well as a pteridine ring and a naphthyridine ring. General formula [H1], [H2], [H
In 3], X represents a counter anion or a counter anion when it forms an inner salt. General formula [H2],
In [H3] and [H4], R 6 represents an aliphatic group or an aromatic group. R 6 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. General formula [H
The three R 6 in 3] may be the same or different, and may combine with each other to form a ring.
Z 1 and R 6 may be substituted, and preferable substituents include those listed as the substituents for R 1 . In the general formula [H4], L 3 is —CH 2 CH 2 O—.
Group, -CH 2 CH (CH 3) O- group, or -CH 2 C,
Represents H (OH) CH 2 O- groups, n represents the same meaning as in formula [H1].

【手続補正5】[Procedure Amendment 5]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0096[Correction target item name] 0096

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0096】[0096]

【化43】 [Chemical 43]

【手続補正6】[Procedure correction 6]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0112[Name of item to be corrected] 0112

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0112】本発明に用いられるアミン誘導体、オニウ
ム塩、ジスルフィド誘導体、又はヒドロキシメチル誘導
体は造核促進剤として機能する。アミン誘導体として
は、例えば特開昭60−140,340号、同62−5
0,829号、同62−222,241号、同62−2
50,439号、同62−280,733号、同63−
124,045号、同63−133,145号、同63
−286,840号等に記載の化合物を挙げることがで
きる。アミン誘導体としてより好ましくは、特開昭63
−124,045号、同63−133,145号、同6
3−286,840号等に記載されているハロゲン化銀
に吸着する基を有する化合物、又は特開昭62−22
2,241号等に記載されている炭素数の和が20個以
上の化合物である。オニウム塩としては、アンモニウム
塩またはホスホニウム塩が好ましい。好ましいアンモニ
ウム塩の例としては、特開昭62−250,439号、
同62−280,733号等に記載されている化合物を
挙げることができる。また、好ましいホスホニウム塩の
例としては特開昭61−167,939号、同62−2
80,733号等に記載されている化合物を挙げること
ができる。ジスルフィド誘導体としては、例えば特開昭
61−198,147号記載の化合物を挙げることがで
きる。ヒドロキシメチル誘導体としては、例えば米国特
許第4,693,956号、同4,777,118号、
EP231,850号、特開昭62−50,829号等
記載の化合物を挙げることができ、より好ましくはジア
リールメタノール誘導体である。
The amine derivative, onium salt, disulfide derivative or hydroxymethyl derivative used in the present invention functions as a nucleation accelerator. Examples of amine derivatives include those disclosed in JP-A-60-140,340 and JP-A-65-25.
0,829, 62-222,241, 62-2
50,439, 62-280,733, 63-
124, 045, 63-133, 145, 63
Examples thereof include compounds described in No. 286,840. More preferably, the amine derivative is preferably JP-A-63-63.
-124,045, 63-133,145, 6
Compounds having a group capable of adsorbing to silver halide, such as those described in JP-A-3-286840, or JP-A-62-22.
It is a compound having 20 or more carbon atoms as described in No. 2,241. The onium salt is preferably an ammonium salt or a phosphonium salt. Examples of preferable ammonium salts include JP-A-62-250439.
The compounds described in JP-A-62-280,733 and the like can be mentioned. Further, examples of preferable phosphonium salts include JP-A-61-167,939 and JP-A-62-162.
The compound described in No. 80,733 etc. can be mentioned. Examples of the disulfide derivative include the compounds described in JP-A No. 61-198,147. Examples of the hydroxymethyl derivative include, for example, U.S. Patent Nos. 4,693,956 and 4,777,118,
Examples thereof include compounds described in EP231,850 and JP-A-62-50,829, more preferably diarylmethanol derivatives.

【手続補正7】[Procedure Amendment 7]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0113[Name of item to be corrected] 0113

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0113】次に造核促進剤の具体例を示す。但し本発
明は以下の化合物に限定されるものではない。
Specific examples of the nucleation accelerator are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【手続補正8】[Procedure Amendment 8]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0125[Name of item to be corrected] 0125

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0125】これらの化合物はその種類によって最適添
加量が異なるがヒドラジン化合物1モル当り1.0×1
-2モル〜1.0×102 モル、好ましくは、1.0×
10 -1モル〜1.0×10モルの範囲で用いるのが望ま
しい。これらの化合物は適当な溶媒(H2 O)メタノー
ルやエタノールなどのアルコール類、アセトン、ジメチ
ルホルムアミド、メチルセルソルブなど)に溶解して塗
布液に添加される。これらの化合物を複数の種類を併用
してもよい。
These compounds are optimally added depending on their kind.
1.0 x 1 per 1 mol of hydrazine compound, although the amount added is different
0-2Mol ~ 1.0 x 102Mole, preferably 1.0 x
10 -1Desirable to use in the range of 1.0 to 10 mol
Good These compounds are suitable solvents (H2O) methano
Alcohol such as alcohol and ethanol, acetone, dimethyl
Dissolve in formaldehyde, methyl cellosolve, etc.)
It is added to the cloth liquid. Multiple combinations of these compounds
You may.

【手続補正9】[Procedure Amendment 9]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0143[Correction target item name] 0143

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0143】これらの乳剤層の上に保護層としてゼラチ
ン1.0g/m2、平均粒子サイズ約3.5μmの不定形
なSiO2 マット剤40mg/m2、メタノールシリカ0.
1g/m2、ポリアクリルアミド100mg/m2、ハイドロ
キノン200mg/m2とシリコーンオイル20mg/m2およ
び塗布助剤として下記構造式(f)で示されるフッ素界
面活性剤5mg/m2とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム100mg/m2を塗布し、表2に示すような試料を作
成した。またバック層およびバック保護層は次に示す処
方にて塗布した。
On these emulsion layers, as a protective layer, 1.0 g / m 2 of gelatin, 40 mg / m 2 of amorphous SiO 2 matting agent having an average particle size of about 3.5 μm, and methanol silica of 0.1.
1 g / m 2 , polyacrylamide 100 mg / m 2 , hydroquinone 200 mg / m 2 , silicone oil 20 mg / m 2 and a fluorosurfactant 5 mg / m 2 represented by the following structural formula (f) as a coating aid and dodecylbenzenesulfone. Sodium acid 100 mg / m 2 was applied to prepare samples as shown in Table 2. The back layer and the back protective layer were applied by the following formulation.

【手続補正10】[Procedure Amendment 10]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0151[Correction target item name] 0151

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0151】こうして得られた試料をステップウェッジ
を通してタングステン光で露光し、現像液として下記処
方の現像液、定着液としてGR−F1(富士写真フイル
ム株式会社製)を使用し、FG−680A自動現像機
(富士写真フイルム株式会社製)を用いて38℃30”
処理を行った。評価結果は表2に示した。ここで感度は
38℃30秒現像における濃度1.5を与える露光量の
逆数の相対値で示した。γは下記式で表される
The sample thus obtained was exposed to tungsten light through a step wedge, and a developing solution having the following formulation was used as a developing solution and GR-F1 (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was used as a fixing solution, and FG-680A automatic development was performed. Machine (made by Fuji Photo Film Co., Ltd.)
Processed. The evaluation results are shown in Table 2. Here, the sensitivity is indicated by the relative value of the reciprocal of the exposure amount that gives a density of 1.5 at 38 ° C. for 30 seconds. γ is represented by the following formula

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化
銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、
該ハロゲン化銀乳剤が銀1モルあたり1×10-8から5
×10-6モルのロジウム化合物および銀1モルあたり1
×10-8から1×10-6モルのイリジウム化合物を含有
する塩化銀含有率50モル%以上の化学増感されたハロ
ゲン化銀粒子からなり、かつ該乳剤層もしくは他の親水
性コロイド層の少なくとも一層中に少なくとも一種のヒ
ドラジン誘導体を含有し、かつ該ハロゲン化銀乳剤が下
記一般式(1)、(2)、(3)から選ばれる少なくと
も一種の色素により分光増感されていることを特徴とす
るハロゲン化銀写真感光材料。一般式(1) 【化1】 式中、W1 およびW4 は水素原子を表す。W3 およびW
6 は水素原子、メチル基またはメトキシ基を表す。W2
は、総炭素数6以下の分岐していても良いアルキル基、
総炭素数5以下のアルコキシ基、臭素原子、沃素原子ま
たは総炭素数9以下のアリール基を表す他、W1 または
3 と連結してベンゼン環を形成しても良く、W3 がメ
チル基またはまたはメトキシ基を表す場合には塩素原子
をも表す。W5 は総炭素数6以下の分岐していても良い
アルキル基、総炭素数5以下のアルコキシ基、ハロゲン
原子、ヒドロキシ基、総炭素数9以下のアリール基、総
炭素数9以下のアリールオキシ基、総炭素数8以下のア
リールチオ基、総炭素数4以下のアルキルチオ基、総炭
素数4以下のアシルアミノ基を表す他、W4 またはW6
と連結してベンゼン環を形成しても良いことを表す。R
1 およびR2 は同一であっても異なっていても良く、総
炭素数10以下の置換されていても良いアルキル基また
はアルケニル基を表し、R1 またはR2 のうちの少なく
とも一方はスルホ基またはカルボキシ基を有する基であ
る。R3 は置換されていても良い低級アルキル基を表
す。X1 は、電荷を中和するに必要な対イオンを表す。
n1は、0または1を表し、分子内塩の場合は0であ
る。一般式(2) 【化2】 式中、V1 は水素原子を表す。V2 は、水素原子、ハロ
ゲン原子、ヒドロキシ基、分岐していても良い低級アル
キル基、低級アルコキシ基、総炭素数9以下のアリール
基、総炭素数9以下のアリールオキシ基、総炭素数8以
下のアリールチオ基、低級アルキルチオ基、総炭素数4
以下のアシルアミノ基を表す他、V1またはV3 と連結
してベンゼン環を形成しても良いことを表す。V3 は水
素原子、メチル基またはメトキシ基を表す。V4 は電子
吸引基を表し、V5 は水素原子、フッ素原子、塩素原子
または臭素原子を表す。R21、R22およびR23は同一で
も異なっていても良く、総炭素数10以下の置換されて
いても良いアルキル基またはアルケニル基を表し、
21、R22またはR23のうち少なくとも一つはスルホ基
またはカルボキシ基を有する基である。X21は、電荷を
中和するに必要な対イオンを表す。n21は、0または1
を表し、分子内塩の場合は0である。一般式(3) 【化3】 式中、V31、V33は水素原子または電子吸引性基を表わ
し、V32、V34は電子吸引性基を表わす。R31、R32
33およびR34は同一でも異なっていてもよく総炭素数
10以下の置換されてもよいアルキル基またはアルケニ
ル基を表わし、R31、R32、R33またはR34のうち少な
くとも一つはスルホ基またはカルボキシ基を有する基で
ある。X31は電荷を中和するに必要な対イオンを表わ
す。n31は0または1を表わし、分子内塩の場合は0で
ある。
1. A silver halide photographic light-sensitive material having at least one silver halide emulsion layer on a support,
The silver halide emulsion contains 1 × 10 −8 to 5 per mol of silver.
× 10 -6 mol of rhodium compound and 1 per mol of silver
Of chemically sensitized silver halide grains having a silver chloride content of 50 mol% or more containing from 10 to 8 × 10 -6 mol of an iridium compound, and comprising the emulsion layer or another hydrophilic colloid layer. At least one hydrazine derivative is contained in at least one layer, and the silver halide emulsion is spectrally sensitized with at least one dye selected from the following general formulas (1), (2) and (3). A characteristic silver halide photographic light-sensitive material. General formula (1) In the formula, W 1 and W 4 represent a hydrogen atom. W 3 and W
6 represents a hydrogen atom, a methyl group or a methoxy group. W 2
Is an optionally branched alkyl group having a total carbon number of 6 or less,
It represents an alkoxy group having a total carbon number of 5 or less, a bromine atom, an iodine atom or an aryl group having a total carbon number of 9 or less, and may form a benzene ring by linking with W 1 or W 3, and W 3 is a methyl group. Or or, when representing a methoxy group, also represents a chlorine atom. W 5 is an optionally branched alkyl group having a total carbon number of 6 or less, an alkoxy group having a total carbon number of 5 or less, a halogen atom, a hydroxy group, an aryl group having a total carbon number of 9 or less, and an aryloxy having a total carbon number of 9 or less. Group, an arylthio group having a total carbon number of 8 or less, an alkylthio group having a total carbon number of 4 or less, an acylamino group having a total carbon number of 4 or less, and W 4 or W 6
Represents that it may be linked with to form a benzene ring. R
1 and R 2 may be the same or different and each represents an optionally substituted alkyl group or alkenyl group having 10 or less carbon atoms, and at least one of R 1 and R 2 is a sulfo group or A group having a carboxy group. R 3 represents an optionally substituted lower alkyl group. X 1 represents a counter ion necessary for neutralizing the electric charge.
n1 represents 0 or 1, and is 0 in the case of an inner salt. General formula (2) In the formula, V 1 represents a hydrogen atom. V 2 is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, an optionally branched lower alkyl group, a lower alkoxy group, an aryl group having a total carbon number of 9 or less, an aryloxy group having a total carbon number of 9 or less, a total carbon number of 8 The following arylthio groups, lower alkylthio groups, total carbon number 4
In addition to representing the following acylamino groups, it represents that they may be linked to V 1 or V 3 to form a benzene ring. V 3 represents a hydrogen atom, a methyl group or a methoxy group. V 4 represents an electron-withdrawing group, and V 5 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom. R 21 , R 22 and R 23, which may be the same or different, each represents an optionally substituted alkyl group or alkenyl group having 10 or less carbon atoms,
At least one of R 21 , R 22 and R 23 is a group having a sulfo group or a carboxy group. X 21 represents a counter ion necessary for neutralizing the charge. n 21 is 0 or 1
And is 0 in the case of an inner salt. General formula (3) In the formula, V 31 and V 33 represent a hydrogen atom or an electron-withdrawing group, and V 32 and V 34 represent an electron-withdrawing group. R 31 , R 32 ,
R 33 and R 34 may be the same or different and each represents an alkyl group or an alkenyl group having a total carbon number of 10 or less, and at least one of R 31 , R 32 , R 33 and R 34 is a sulfo group. A group having a group or a carboxy group. X 31 represents a counter ion necessary for neutralizing the electric charge. n 31 represents 0 or 1, and is 0 in the case of an intramolecular salt.
【請求項2】 ヒドラジン誘導体が下記一般式(4)、
(5)、(6)から選ばれることを特徴とする請求項1
に記載のハロゲン化銀写真感光材料。一般式(4) 【化4】 式中、R1 は脂肪族基または芳香族基を表し、さらにそ
の置換基の一部として−O−(CH2 CH2 O)n −ま
たは−O−(CH2 CH(OH)CH2 O)n−(ただ
しn は3以上の整数)の部分構造を含有するかあるいは
置換基の一部として4級アンモニウムカチオンを含有す
る基である。G1 は−CO−基、−COCO−基、−C
S−基、−C(=NG2 2 )−基、−SO−基、−S
2 −基または−P(O)(G2 2 )−基を表す。G
2 は単なる結合手、−O−基、−S−基または−N(R
2 )−基を表し、R2 は脂肪族基、芳香族基、または水
素原子を表し、分子内に複数のR2 が存在する場合それ
らは同じであっても異なっても良い。A1 、A2 の一方
は水素原子であり、他方は水素原子またはアシル基、ア
ルキル基またはアリールスルホニル基を表す。一般式
(5) 【化5】 式中、R1 は脂肪族基、芳香族基または、複素環基を表
し、置換されていても良い。Gは−CO−基、−SO2
−基、−SO−基、−COCO−基、チオカルボニル
基、イミノメチレン基または−P(O)(R3 )−基を
表し、R2 はGで置換された炭素原子が少なくとも1つ
の電子吸引基で置換された置換アルキル基を表す。R3
は水素原子、脂肪族基、芳香族基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基またはアミノ基を表す。一般式(6) 【化6】 式中、A1 、A2 はともに水素原子または一方が水素原
子で他方はスルフィン酸残基またはアシル基を表し、R
a は脂肪族基、芳香族基、またはヘテロ環基を表し、R
b は水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、またはアミノ基を表し、G1
カルボニル基、スルホニル基、スルホキシ基、ホスホリ
ル基またはイミノメチレン基を表す。ここでRa 、Rb
のうち少なくともどちらか一方はハロゲン化銀への吸着
促進基を有する。
2. A hydrazine derivative is represented by the following general formula (4):
2. The method is selected from (5) and (6).
The silver halide photographic light-sensitive material described in. General formula (4) In the formula, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group, further the -O- as part of a substituent group (CH 2 CH 2 O) n - or -O- (CH 2 CH (OH) CH 2 O ) It is a group containing a partial structure of n- (where n is an integer of 3 or more) or containing a quaternary ammonium cation as a part of the substituent. G 1 is -CO- group, -COCO- group, -C
S- groups, -C (= NG 2 R 2 ) - group, -SO- group, -S
O 2 - group or -P (O) (G 2 R 2) - represents a group. G
2 is a mere bond, -O- group, -S- group or -N (R
2 )-group, R 2 represents an aliphatic group, an aromatic group, or a hydrogen atom, and when a plurality of R 2's are present in the molecule, they may be the same or different. One of A 1 and A 2 is a hydrogen atom, and the other is a hydrogen atom or an acyl group, an alkyl group or an arylsulfonyl group. General formula (5) In the formula, R 1 represents an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group, and may be substituted. G is -CO- group, -SO 2
A group, a —SO— group, a —COCO— group, a thiocarbonyl group, an iminomethylene group or a —P (O) (R 3 ) — group, and R 2 is an electron having at least one carbon atom substituted with G. Represents a substituted alkyl group substituted with an attractive group. R 3
Represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, an alkoxy group, an aryloxy group or an amino group. General formula (6) In the formula, A 1 and A 2 are both hydrogen atoms or one is a hydrogen atom and the other is a sulfinic acid residue or an acyl group,
a represents an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group,
b represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group or an amino group, and G 1 represents a carbonyl group, a sulfonyl group, a sulfoxy group, a phosphoryl group or an iminomethylene group. Where R a and R b
At least one of them has an adsorption promoting group for silver halide.
【請求項3】 ハロゲン化銀乳剤層もしくは他の親水性
コロイド層中の少なくとも一層中にアミン誘導体、オニ
ウム塩、ジスルフィド誘導体およびヒドロキシメチル誘
導体から選ばれる化合物を少なくとも一種以上含有する
ことを特徴とする請求項2に記載のハロゲン化銀写真感
光材料。
3. A silver halide emulsion layer or another hydrophilic colloid layer containing at least one compound selected from amine derivatives, onium salts, disulfide derivatives and hydroxymethyl derivatives in at least one layer. The silver halide photographic light-sensitive material according to claim 2.
【請求項4】 請求項1から3のいずれかに記載のハロ
ゲン化銀写真感光材料をpH9.6以上11.0未満の
現像液を用いて現像処理することを特徴とする画像形成
方法。
4. An image forming method, which comprises developing the silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1 with a developer having a pH of 9.6 or more and less than 11.0.
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JPH02300747A (en) * 1989-05-15 1990-12-12 Fuji Photo Film Co Ltd High-contrast negative image forming method

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