JPH07270957A - Silver halide photographic sensitive material - Google Patents

Silver halide photographic sensitive material

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Publication number
JPH07270957A
JPH07270957A JP8530994A JP8530994A JPH07270957A JP H07270957 A JPH07270957 A JP H07270957A JP 8530994 A JP8530994 A JP 8530994A JP 8530994 A JP8530994 A JP 8530994A JP H07270957 A JPH07270957 A JP H07270957A
Authority
JP
Japan
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group
silver halide
atom
formula
general formula
Prior art date
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Pending
Application number
JP8530994A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuki Yamazaki
一樹 山崎
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication of JPH07270957A publication Critical patent/JPH07270957A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain a silver halide photographic sensitive material capable of obtaining highly sensitive photographic performance having high contrast of gamma value of >10 by using a stable developer and improved in black spots by incorporating a hydrazine derivative and a specified onium compound and a specified compound in a silver halide emulsion layer. CONSTITUTION:At least one of the silver halide emulsion layers and hydrophilic colloidal layers contains a hydrazine derivative and an onium compound represented by formula I and a compound represented by formula II, and in the formula I, each of R1-R3 is an alkyl, cycloalkyl, or the like; (m) is an integer of 1-4; L is an (m)-valent organic group combining its carbon atom with P atom; and (n) is 1, 2, or 3; X is an (n)-valent anion, and in the formula II, R1 is a halogen or cyano, or the like; R2 is H, an alkyl, or the like; and R3 is H, a halogen, alkyl, or aryl.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀写真感光
材料に関し、特に写真製版用に用いられる超硬調ハロゲ
ン化銀写真感光材料に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material, and more particularly to an ultrahigh-contrast silver halide photographic light-sensitive material used for photolithography.

【0002】[0002]

【従来の技術】グラフィックアーツの分野においては網
点画像による連続階調の画像の再生あるいは線画像の再
生を良好ならしめるために、超硬調(特にγが10以
上)の写真性を示す画像形成システムが必要である。良
好な保存安定性を有する処理液で現像し、超硬調な写真
特性が得られる画像形成システムが要望され、その1つ
として米国特許第4,166,742号、同第4,16
8,977号、同第4,221,857号、同第4,2
24,401号、同第4,243,739号、同第4,
272,606号、同第4,311,781号にみられ
るように特定のアシルヒドラジン化合物を添加した表面
潜像型ハロゲン化銀写真感光材料を、亜硫酸保恒剤を
0.15モル/リットル以上含むpH11.0〜12.
3の現像液で処理して、γが10を越える超硬調のネガ
画像を形成するシステムが提案された。この新しい画像
形成システムには、従来の超硬調画像形成システムでは
塩化銀含有率の高い塩臭化銀しか使用できなかったのに
対して、沃臭化銀や沃塩臭化銀でも使用できるという特
徴がある。また従来のリス現像液が極微量の亜硫酸保恒
剤しか含有できなかったのに対して、多量の亜硫酸保恒
剤を含有できるため、比較的保存安定性が良いという点
も特徴である。
2. Description of the Related Art In the field of graphic arts, an image forming system exhibiting super-high gradation (especially γ of 10 or more) is provided in order to improve reproduction of continuous tone images or line images by halftone dot images. is necessary. There is a demand for an image forming system which can be developed with a processing solution having good storage stability to obtain ultra-high contrast photographic characteristics, and one of them is US Pat. Nos. 4,166,742 and 4,16.
No. 8,977, No. 4,221,857, No. 4,2
No. 24,401, No. 4,243,739, No. 4,
No. 272,606 and No. 4,311,781, a surface latent image type silver halide photographic light-sensitive material to which a specific acylhydrazine compound is added is added with a sulfite preservative in an amount of 0.15 mol / liter or more. Including pH 11.0-12.
A system for forming a super-high contrast negative image having a γ value of more than 10 by treating with a developing solution of No. 3 has been proposed. This new image forming system can be used with silver iodobromide and silver iodochlorobromide, whereas the conventional ultrahigh contrast image forming system can only use silver chlorobromide with a high silver chloride content. There are features. Another feature of the conventional lith developer is that it can contain a large amount of sulfite preservative, whereas it can contain a very small amount of sulfite preservative.

【0003】しかし、pHが11以上の現像液は空気酸
化され易く不安定で、長期の保存や使用に耐えないた
め、ヒドラジン化合物を含むハロゲン化銀写真感光材料
をより低いpHの現像液で現像し、硬調な画像を作成す
る工夫が試みられている。例えば、特開平1−1799
39号、および同1−179940号には、ハロゲン化
銀乳剤粒子に対する吸着基を有する造核現像促進剤と、
同じく吸着基を有する造核剤とを含む感材を用いて、p
H11.0以下の現像液で現像する処理方法が記載され
ている。
However, since a developer having a pH of 11 or more is easily oxidized by air and is unstable and cannot withstand long-term storage or use, a silver halide photographic light-sensitive material containing a hydrazine compound is developed with a developer having a lower pH. However, attempts have been made to create a high contrast image. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 1-1799
No. 39 and No. 1-179940, a nucleation development accelerator having an adsorption group for silver halide emulsion grains;
Similarly, using a light-sensitive material containing a nucleating agent having an adsorption group, p
A processing method of developing with a developing solution of H11.0 or less is described.

【0004】また、ヒドラジン誘導体を用いた造核硬調
感材は、現像液のpHの変化に伴う写真性の変化幅が大
きい。現像液のpHは、現像液の空気酸化、および水の
蒸発による濃厚化による上昇、または空気中の二酸化炭
素の吸収による低下などにより大きく変動する。従っ
て、写真性能の現像液pH依存性を小さくする工夫が試
みられている。また、ヒドラジン誘導体を用いた造核硬
調硬調ネガ画像システムにおいて、改良の望まれている
点の1つが黒ポツ(black spots)という好ましくない現
像を引き起こすことであり、写真製版工程上の問題とな
っている。黒ポツとは、本来、未露光で非画像となるべ
き部分に発生する微少な現像銀でできた黒いスポットで
ある。黒ポツは、一般に保恒剤として現像液に使用され
ている亜硫酸イオンの減少やpH値の上昇により多発
し、写真製版用感材としての商品価値を著しく低下させ
てしまう。このため、黒ポツの改良のための多大な努力
がなされているが、黒ポツの改良はしばしば感度および
ガンマ(γ)の低下を伴い、高感硬調化(例えばγで1
0以上)を維持して黒ポツを改良するシステムが強く望
まれている。また、ヒドラジン化合物とオニウム化合物
の組み合わせで高活性化することが知られており、良好
な写真性能を得ることができるが、高活性化にともない
黒ポツが悪化してしまうという欠点を有していた。
Further, the nucleation-hardening light-sensitive material using a hydrazine derivative has a large range of change in photographic property with a change in pH of the developing solution. The pH of the developer greatly changes due to air oxidation of the developer and increase due to concentration by evaporation of water, or decrease due to absorption of carbon dioxide in the air. Therefore, attempts have been made to reduce the dependence of photographic performance on the pH of the developer. Further, in a nucleation-hard-tone / high-tone negative image system using a hydrazine derivative, one of the points to be improved is that it causes undesired development called black spots, which is a problem in the photolithography process. ing. The black spot is a black spot made of minute developed silver that originally occurs in a portion that should be non-imaged when it is not exposed. Black spots frequently occur due to a decrease in sulfite ion, which is generally used as a preservative in a developing solution, and an increase in pH value, and the commercial value as a photosensitive material for photoengraving is remarkably reduced. For this reason, great efforts have been made to improve the black spots, but the improvement of the black spots is often accompanied by a decrease in sensitivity and gamma (γ), resulting in a high-sensitivity high-contrast (for example, 1 for γ).
There is a strong demand for a system that maintains 0 or more) and improves black spots. Further, it is known that a combination of a hydrazine compound and an onium compound provides high activation, and good photographic performance can be obtained, but it has a drawback that black spots are deteriorated with high activation. It was

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、第1
に安定な現像液を用いてガンマが10を越える極めて硬
調かつ高感な写真性を得ることができ、かつ黒ポツの良
好なハロゲン化銀写真感光材料を提供することである。
本発明の第2の目的は、pH11以下の現像液で硬調化
し、さらに現像液疲労に対する写真性能の変動小さいハ
ロゲン化銀写真感光材料を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION The first object of the present invention is to:
An object of the present invention is to provide a silver halide photographic light-sensitive material capable of obtaining extremely high-contrast and high-sensitivity photographic properties with a gamma of more than 10 by using a stable developer.
A second object of the present invention is to provide a silver halide photographic light-sensitive material which has a high contrast with a developing solution having a pH of 11 or less and has little fluctuation in photographic performance due to fatigue of the developing solution.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明上記目的は、支持
体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を有するハ
ロゲン化銀写真感光材料において、該ハロゲン化銀乳剤
層もしくは他の親水性コロイド層の少なくとも一層中に
ヒドラジン誘導体の少なくとも一種と、下記一般式
(I)、(II)、(III) あるいは(IV)で表されるオニ
ウム塩化合物を少なくとも一種を含有し、かつ該乳剤層
あるいは他の親水性コロイド層中に下記一般式(V)あ
るいは(VI)で表される化合物を含有することを特徴と
するハロゲン化銀写真感光材料により達成された。
The above object of the present invention is to provide a silver halide photographic light-sensitive material having at least one silver halide emulsion layer on a support, said silver halide emulsion layer or another hydrophilic colloid layer. Containing at least one hydrazine derivative and at least one onium salt compound represented by the following general formula (I), (II), (III) or (IV) in at least one layer of And a compound represented by the following general formula (V) or (VI) in the hydrophilic colloid layer.

【0007】[0007]

【化5】 [Chemical 5]

【0008】式中、R1 、R2 、R3 は、アルキル基、
シクロアルキル基、アリール基、アルケニル基、シクロ
アルケニル基、ヘテロ環残基を表わし、これらは更に置
換基を有していてもよい。mは1ないし4の整数を表わ
し、LはP原子とその炭素原子で結合するm価の有機基
を表わし、nは1ないし3の整数を表わし、Xはn価の
陰イオンを表わし、XはLと連結してもよい。
In the formula, R 1 , R 2 and R 3 are alkyl groups,
It represents a cycloalkyl group, an aryl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group or a heterocyclic residue, which may further have a substituent. m represents an integer of 1 to 4, L represents an m-valent organic group bonded to the P atom by its carbon atom, n represents an integer of 1 to 3, X represents an n-valent anion, and X represents May be linked to L.

【0009】[0009]

【化6】 [Chemical 6]

【0010】式中、Aはヘテロ環を完成させるための有
機基を表す。B、Cはそれぞれ2価の基を表す。R1
2 は各々アルキル基またはアリール基を表し、R3
4は水素原子または置換基を表す。R5 はアルキル基
を表す。Xはアニオン基を表すが、分子内塩の場合はX
は必要ない。一般式(V)
In the formula, A represents an organic group for completing the heterocycle. B and C each represent a divalent group. R 1 ,
R 2 represents an alkyl group or an aryl group, and R 3 ,
R 4 represents a hydrogen atom or a substituent. R 5 represents an alkyl group. X represents an anion group, but in the case of an inner salt, X
Is not necessary. General formula (V)

【0011】[0011]

【化7】 [Chemical 7]

【0012】式中、R1 はハロゲン原子、−CN、−C
OOR、−CONH2 、−CONHR、−CONR2
−SO2 R、−SO2 NH2 、−SO2 NHRまたは−
SO2 NR2 を表す。R2 は水素原子、アルキル基、ア
リール基、−OR、−SRまたは−SeRを表し、R3
は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアリール
基を表す。またRはアルキル基またはアリール基を表
し、一般式(V)の化合物が複数のRを含むときはそれ
ぞれ同じであっても異なっていても良く、さらに−CO
NR2 および−SO2 NR2 においては2つのRが結合
して環状構造を作っても良い。一般式(VI)
In the formula, R 1 is a halogen atom, --CN, --C
OOR, -CONH 2, -CONHR, -CONR 2,
-SO 2 R, -SO 2 NH 2 , -SO 2 NHR or -
It represents SO 2 NR 2 . R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, —OR, —SR or —SeR, and R 3
Represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or an aryl group. R represents an alkyl group or an aryl group, and when the compound of the general formula (V) contains a plurality of Rs, they may be the same or different, and further -CO
In NR 2 and —SO 2 NR 2 , two Rs may combine to form a cyclic structure. General formula (VI)

【0013】[0013]

【化8】 [Chemical 8]

【0014】式中、R4 、R6 は一般式(V)のR1
同定義であり、同じであっても異なっていても良く、R
5 、R7 は一般式(V)のR3 と同定義であり、同じで
あっても異なっていても良い。X1 、X2 は酸素原子、
硫黄原子またはセレン原子を表し、同じであっても異な
っていても良く、n、mは0または1を表す。Lは2価
の有機酸を表す。
In the formula, R 4 and R 6 have the same definition as R 1 in the general formula (V) and may be the same or different.
5 , R 7 have the same definition as R 3 in the general formula (V), and may be the same or different. X 1 and X 2 are oxygen atoms,
It represents a sulfur atom or a selenium atom and may be the same or different, and n and m represent 0 or 1. L represents a divalent organic acid.

【0015】一般式(I)について詳細に説明する。The general formula (I) will be described in detail.

【0016】[0016]

【化9】 [Chemical 9]

【0017】式中R1 、R2 、R3 はアルキル基、シク
ロアルキル基、アリール基、アルケニル基、シクロアル
ケニル基、ヘテロ環残基を表わし、これらはさらに置換
基を有していてもよい。mは整数を表わし、LはP原子
とその炭素原子で結合するm価の有機基を表わし、nは
1ないし3の整数を表わし、Xはn価の陰イオンを表わ
し、XはLと連結していてもよい。
In the formula, R 1 , R 2 and R 3 represent an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group and a heterocyclic residue, which may further have a substituent. . m represents an integer, L represents an m-valent organic group which is bonded to a P atom and its carbon atom, n represents an integer of 1 to 3, X represents an n-valent anion, and X is linked to L. You may have.

【0018】R1 、R2 、R3 で表わされる基の例とし
ては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、 sec−ブチル基、tert−
ブチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ドデシ
ル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基などの直鎖又は
分枝状のアルキル基;置換、無置換のベンジル基などの
アラルキル基;シクロプロピル基、シクロペンチール
基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基、フェニ
ル基、ナフチル基、フエナントリル基などのアリール
基;アリル基、ビニル基、5−ヘキセニル基、などのア
ルケニル基;シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基
などのシクロアルケニル基;ピリジル基、キノリル基、
フリル基、イミダゾリル基、チアゾリル基、チアジアゾ
リル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、
モルホリル基、ピリミジル基、ピロリジル基などのヘテ
ロ環残基が挙げられる。これらの基上に置換した置換基
の例としては、R1 、R2 、R3 で表わされる基の他
に、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など
のハロゲン原子、ニトロ基、1、2、3級アミノ基、ア
ルキル又はアリールエーテル基、アルキル又はアリール
チオエーテル基、カルボンアミド基、カルバモイル基、
スルホンアミド基、スルファモイル基、ヒドロキシル
基、スルホキシ基、スルホニル基、カルボキシル基、ス
ルホン酸基、シアノ基又はカルボニル基、が挙げられ
る。Lで表わされる基の例としてはR1 、R2 、R3
同義の基のほかにトリメチレン基、テトラメチレン基、
ヘキサメチレン基、ペンタメチレン基、オクタメチレン
基、ドデカメチレン基などのポリメチレン基、フェニレ
ン基、ビフェニレン基、ナフチレン基などの2価芳香族
基、トリメチレンメチル基、テトラメチレンメチル基な
どの多価脂肪族基、フェニレン−1,3,5−トルイル
基、フェニレン−1,2,4,5−テトライル基などの
多価芳香族基などが挙げられる。Xで表わされる陰イオ
ンの例としては、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオ
ンなどのハロゲンイオン、アセテートイオン、オキサレ
ートイオン、フマレートイオン、ベンゾエートイオンな
どのカルボキシレートイオン、p−トルエンスルホネー
ト、メタンスルホネート、ブタンスルホネート、ベンゼ
ンスルホネートなどのスルホネートイオン、硫酸イオ
ン、過塩素酸イオン、炭酸イオン、硝酸イオンが挙げら
れる。
Examples of the groups represented by R 1 , R 2 and R 3 include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group and tert-group.
A linear or branched alkyl group such as a butyl group, an octyl group, a 2-ethylhexyl group, a dodecyl group, a hexadecyl group, and an octadecyl group; an aralkyl group such as a substituted or unsubstituted benzyl group; a cyclopropyl group, a cyclopentyl group Group, cycloalkyl group such as cyclohexyl group, aryl group such as phenyl group, naphthyl group, phenanthryl group; alkenyl group such as allyl group, vinyl group, 5-hexenyl group; cycloalkenyl such as cyclopentenyl group, cyclohexenyl group Group; pyridyl group, quinolyl group,
Furyl group, imidazolyl group, thiazolyl group, thiadiazolyl group, benzotriazolyl group, benzothiazolyl group,
Heterocyclic residues such as a morpholyl group, a pyrimidyl group and a pyrrolidyl group are mentioned. Examples of the substituents substituted on these groups include, in addition to the groups represented by R 1 , R 2 and R 3 , halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, nitro group, 1 2, a tertiary amino group, an alkyl or aryl ether group, an alkyl or aryl thioether group, a carbonamido group, a carbamoyl group,
Examples thereof include sulfonamide group, sulfamoyl group, hydroxyl group, sulfoxy group, sulfonyl group, carboxyl group, sulfonic acid group, cyano group and carbonyl group. Examples of the group represented by L include a group having the same meaning as R 1 , R 2 and R 3 , as well as a trimethylene group, a tetramethylene group,
Polymethylene group such as hexamethylene group, pentamethylene group, octamethylene group and dodecamethylene group, divalent aromatic group such as phenylene group, biphenylene group and naphthylene group, polyvalent fat such as trimethylenemethyl group and tetramethylenemethyl group Examples thereof include polyvalent aromatic groups such as group groups, phenylene-1,3,5-toluyl group, and phenylene-1,2,4,5-tetrayl group. Examples of the anion represented by X include halogen ions such as chlorine ion, bromine ion and iodine ion, acetate ion, oxalate ion, fumarate ion, carboxylate ion such as benzoate ion, p-toluene sulfonate and methane sulfonate. Examples thereof include sulfonate ion such as butane sulfonate and benzene sulfonate, sulfate ion, perchlorate ion, carbonate ion and nitrate ion.

【0019】一般式(I)において、R1 、R2 、R3
は好ましくは炭素数20以下の基であり、炭素数15以
下のアリール基が特に好ましい。mは1または2が好ま
しく、mが1を表わす時、Lは好ましくは炭素数20以
下の基であり、総炭素数15以下のアルキル基またはア
リール基が特に好ましい。mが2を表わす時、Lで表わ
される2価の有機基は好ましくはアルキレン基、アリー
レン基またはこれらの基を結合して形成される2価の
基、さらにはこれらの基と−CO−基、−O−基、−N
4 −基(ただしR4 は水素原子またはR1 、R2 、R
3 と同義の基を表わし、分子内に複数のR4 が存在する
時、これらは同じであっても異なっていても良く、さら
には互いに結合していても良い)、−S−基、−SO−
基、−SO2 −基を組みあわせて形成される2価の基で
ある。mが2を表わす時、Lはその炭素原子でP原子と
結合する総炭素数20以下の2価基であることが特に好
ましい。mが2以上の整数を表わす時、分子内にR1
2 、R3 はそれぞれ複数存在するが、その複数の
1 、R2 、R3 はそれぞれ同じであっても異なってい
ても良い。nは1または2が好ましく、mは1または2
が好ましい。XはR1 、R2 、R3 、またはLと結合し
て分子内塩を形成しても良い。
In the general formula (I), R 1 , R 2 , R 3
Is preferably a group having 20 or less carbon atoms, and an aryl group having 15 or less carbon atoms is particularly preferable. m is preferably 1 or 2, and when m is 1, L is preferably a group having 20 or less carbon atoms, and particularly preferably an alkyl group or aryl group having 15 or less total carbon atoms. When m represents 2, the divalent organic group represented by L is preferably an alkylene group, an arylene group or a divalent group formed by combining these groups, and further, these groups and a -CO- group. , -O- group, -N
R 4 — group (provided that R 4 is a hydrogen atom or R 1 , R 2 , R
3 represents a group having the same meaning as 3, and when a plurality of R 4's are present in the molecule, they may be the same or different and may be bonded to each other), —S— group, — SO-
It is a divalent group formed by combining a group and a —SO 2 — group. When m represents 2, L is particularly preferably a divalent group having a total carbon number of 20 or less, which is bonded to a P atom at that carbon atom. When m represents an integer of 2 or more, R 1 in the molecule,
R 2, R 3 are each plurality of, the plurality of R 1, R 2, R 3 may be different even in the same, respectively. n is preferably 1 or 2 and m is 1 or 2
Is preferred. X may combine with R 1 , R 2 , R 3 or L to form an inner salt.

【0020】本発明の一般式(I)で表わされる化合物
の多くのものは公知であり、試薬として市販のものであ
る。一般的合成法としては、ホスフィン酸類をハロゲン
化アルキル類、スルホン酸エステルなどのアルキル化剤
と反応させる方法:あるいはホスホニウム塩類の対陰イ
オンを常法により交換する方法がある。
Many of the compounds represented by formula (I) of the present invention are known and commercially available as reagents. As a general synthetic method, there is a method of reacting a phosphinic acid with an alkylating agent such as an alkyl halide or a sulfonate: or a method of exchanging a counter anion of a phosphonium salt by a conventional method.

【0021】一般式(I)で表わされる化合物の具体例
を以下に示す。但し、本発明は以下の化合物に限定され
るものではない。
Specific examples of the compound represented by formula (I) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0022】[0022]

【化10】 [Chemical 10]

【0023】[0023]

【化11】 [Chemical 11]

【0024】[0024]

【化12】 [Chemical 12]

【0025】[0025]

【化13】 [Chemical 13]

【0026】[0026]

【化14】 [Chemical 14]

【0027】[0027]

【化15】 [Chemical 15]

【0028】[0028]

【化16】 [Chemical 16]

【0029】[0029]

【化17】 [Chemical 17]

【0030】[0030]

【化18】 [Chemical 18]

【0031】次に、一般式(II)、一般式(III) 、一般
式(IV)について更に詳細に説明する。
Next, the general formulas (II), (III) and (IV) will be described in more detail.

【0032】[0032]

【化19】 [Chemical 19]

【0033】式中、Aはヘテロ環を完成させるための有
機基を表し、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原
子、硫黄原子を含んでもよく、更にベンゼン環が縮環し
ても構わない。好ましい例として、Aは5から6員環を
挙げることができ、更に好ましい例としてピリジン環、
キノリン環、イソキノリン環を挙げることができる。ま
た、Aは置換されてもよく、好ましい置換基としては、
ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子)、置換あ
るいは無置換のアルキル基(例えばメチル基、ヒドロキ
シエチル基など)、置換あるいは無置換のアラルキル基
(例えばベンジル基、p−メトキシフェネチル基な
ど)、置換あるいは無置換のアリール基(例えば、フェ
ニル基、トリル基、p−クロロフェニル基、フリル基、
チエニル基、ナフチル基など)、置換あるいは無置換の
アシル基(例えば、ベンゾイル基、p−ブロモベンゾイ
ル基、アセチル基など)、スルホ基、カルボキシ基、ヒ
ドロキシ基、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エト
キシ基など)、アリールオキシ基、アミド基、スルファ
モイル基、カルバモイル基、ウレイド基、無置換あるい
はアルキル置換アミノ基、シアノ基、ニトロ基、アルキ
ルチオ基、アリールチオ基を表す。特に、好ましい置換
基の例として、アリール基、スルホ基、カルボキシ基、
ヒドロキシ基を挙げることができる。B、Cで表される
2価基は、アルキレン、アリーレン、アルケニレン、−
SO2 −、−SO−、−O−、−S−、−N(R6)−を
単独または組み合わせて構成されるものが好ましい。た
だし、R6 はアルキル基、アリール基、水素原子を表
す。特に好ましい例として、B、Cはアルキレン、アリ
ーレン、−O−、−S−を単独または組み合わせて構成
されるものを挙げることができる。R1 、R2 は炭素数
1〜20のアルキル基が好ましく、各々同じでも異なっ
ていてもよい。アルキル基に置換基が置換していてもよ
く、置換基としては、ハロゲン原子(例えば、塩素原
子、臭素原子)、置換あるいは無置換のアリール基(例
えば、フェニル基、トリル基、p−クロロフェニル基、
フリル基、チエニル基、ナフチル基など)、置換あるい
は無置換のアシル基(例えば、ベンゾイル基、p−ブロ
モベンゾイル基、アセチル基など)、スルホ基、カルボ
キシ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基(例えば、メトキ
シ基、エトキシ基など)、アリールオキシ基、アミド
基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド基、
無置換あるいはアルキル置換アミノ基、シアノ基、ニト
ロ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表す。特に、
好ましい例として、R1 、R2 は各々炭素数1〜10の
アルキル基を表す。好ましい置換基の例として、アリー
ル基、スルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基を挙げる
ことができる。
In the formula, A represents an organic group for completing the heterocycle, which may contain a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, and the benzene ring may be condensed. . As a preferred example, A may be a 5- to 6-membered ring, and a more preferred example is a pyridine ring,
Examples thereof include a quinoline ring and an isoquinoline ring. In addition, A may be substituted, and as a preferable substituent,
Halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom), substituted or unsubstituted alkyl group (eg, methyl group, hydroxyethyl group, etc.), substituted or unsubstituted aralkyl group (eg, benzyl group, p-methoxyphenethyl group, etc.), A substituted or unsubstituted aryl group (eg, phenyl group, tolyl group, p-chlorophenyl group, furyl group,
Thienyl group, naphthyl group, etc.), substituted or unsubstituted acyl group (eg, benzoyl group, p-bromobenzoyl group, acetyl group, etc.), sulfo group, carboxy group, hydroxy group, alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group) Group), an aryloxy group, an amide group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, a ureido group, an unsubstituted or alkyl-substituted amino group, a cyano group, a nitro group, an alkylthio group, and an arylthio group. Particularly preferred examples of the substituent include an aryl group, a sulfo group, a carboxy group,
A hydroxy group may be mentioned. The divalent group represented by B and C includes alkylene, arylene, alkenylene, and
SO 2 -, - SO -, - O -, - S -, - N (R 6) - those constituted singly or in combination are preferred. However, R 6 represents an alkyl group, an aryl group, or a hydrogen atom. As a particularly preferred example, B and C include alkylene, arylene, -O-, and -S-, which may be constituted alone or in combination. R 1 and R 2 are preferably alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms and may be the same or different. The alkyl group may be substituted with a substituent, and examples of the substituent include a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom), a substituted or unsubstituted aryl group (eg, phenyl group, tolyl group, p-chlorophenyl group). ,
Furyl group, thienyl group, naphthyl group, etc.), substituted or unsubstituted acyl group (eg, benzoyl group, p-bromobenzoyl group, acetyl group, etc.), sulfo group, carboxy group, hydroxy group, alkoxy group (eg, methoxy group) Group, ethoxy group, etc.), aryloxy group, amide group, sulfamoyl group, carbamoyl group, ureido group,
It represents an unsubstituted or alkyl-substituted amino group, a cyano group, a nitro group, an alkylthio group, and an arylthio group. In particular,
As a preferred example, R 1 and R 2 each represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of preferred substituents include an aryl group, a sulfo group, a carboxy group, and a hydroxy group.

【0034】R3 、R4 は水素原子または置換基を表
し、置換基の例としては、上記にR1、R2 のアルキル
基の置換基として挙げた置換基から選ばれる。好ましい
例として、R3 、R4 は炭素数0〜10であり、具体的
には、アリール置換アルキル基、置換あるいは無置換の
アリール基を挙げることができる。R5 は炭素数1〜2
0のアルキル基が好ましく、直鎖でも分岐していても、
さらには環状のアルキル基でもよい。アルキル基に置換
基が置換していてもよく、置換基の例としては、上記に
1 、R2 のアルキル基の置換基として挙げた置換基か
ら選ばれる。Xはアニオン基を表すが、分子内塩の場合
はXは必要ない。Xの例として、塩素イオン、臭素イオ
ン、ヨウ素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トル
エンスルホン酸イオン、オギザラートを表す。
R 3 and R 4 represent a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent are selected from the substituents mentioned above as the substituents of the alkyl group of R 1 and R 2 . As preferred examples, R 3 and R 4 have 0 to 10 carbon atoms, and specific examples thereof include an aryl-substituted alkyl group and a substituted or unsubstituted aryl group. R 5 has 1 to 2 carbon atoms
An alkyl group of 0 is preferable, and whether it is linear or branched,
Further, it may be a cyclic alkyl group. The alkyl group may be substituted with a substituent, and examples of the substituent are selected from the substituents mentioned above as the substituents of the alkyl group of R 1 and R 2 . X represents an anion group, but X is not necessary in the case of an inner salt. Examples of X are chlorine ion, bromine ion, iodine ion, nitrate ion, sulfate ion, p-toluenesulfonate ion, and oxalate.

【0035】本発明の一般式(II)、(III) 、(IV)で
表わされる化合物の合成は一般に良く知られた方法によ
り容易に合成することができるが、以下の文献を参考に
することができる。(参照、Quart.Rev.,16,163(196
2).)
The compounds represented by the general formulas (II), (III) and (IV) of the present invention can be easily synthesized by well-known methods. Refer to the following documents. You can (See Quart. Rev., 16, 163 (196
2).)

【0036】一般式(II)、一般式(III) 、一般式(I
V)で表わされる化合物の具体例を以下に示す。但し、
本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
General formula (II), general formula (III), general formula (I
Specific examples of the compound represented by V) are shown below. However,
The present invention is not limited to the following compounds.

【0037】[0037]

【化20】 [Chemical 20]

【0038】[0038]

【化21】 [Chemical 21]

【0039】[0039]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0040】[0040]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0041】[0041]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0042】[0042]

【化25】 [Chemical 25]

【0043】[0043]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0044】[0044]

【化27】 [Chemical 27]

【0045】本発明の一般式(I)、一般式(II)、一
般式(III) 、一般式(IV)の化合物の添加量としては、
特に制限はないが、ハロゲン化銀1モル当たり1×10
-5ないし2×10-2モル含有されるのが好ましく、特に
2×10-5ないし1×10-2モルの範囲が好ましい添加
量である。
The amount of the compounds of the general formula (I), general formula (II), general formula (III) and general formula (IV) of the present invention added is
There is no particular limitation, but 1 × 10 1 per mol of silver halide
-5 to 2 × 10 -2 mol is preferable, and a particularly preferable range is 2 × 10 -5 to 1 × 10 -2 mol.

【0046】また、本発明の一般式(I)、一般式(I
I)、一般式(III) 、一般式(IV)の化合物を、写真感
光材料中に含有させるときは、水溶性の場合は水溶液と
して、水不溶性の場合はアルコール類(たとえばメタノ
ール、エタノール)、エステル類(たとえば酢酸エチ
ル)、ケトン類(たとえばアセトン)などの水に混和し
うる有機溶媒の溶液として、ハロゲン化銀乳剤溶液又
は、親水性コロイド溶液に添加すればよい。また、既に
良く知られている乳化分散法によって、ジブチルフタレ
ート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリア
セテートあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢
酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶
解し、機械的に乳化分散物を作成して用いることもでき
る。あるいは固体分散法として知られている方法によっ
て、微細な分散物にして用いることもできる。
The general formula (I) and the general formula (I
I), the compounds of the general formula (III) and the general formula (IV) are contained in the photographic light-sensitive material as an aqueous solution in the case of being water-soluble, and alcohols (eg methanol, ethanol) in the case of being insoluble in water, It may be added to a silver halide emulsion solution or a hydrophilic colloid solution as a solution of a water-miscible organic solvent such as esters (eg ethyl acetate) and ketones (eg acetone). Further, by a well-known emulsification dispersion method, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, oil such as glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone are dissolved and mechanically emulsified and dispersed. It is also possible to create and use things. Alternatively, it can be used as a fine dispersion by a method known as a solid dispersion method.

【0047】本発明に用いられる一般式(V)、(VI)
の化合物について詳しく説明する。一般式(V)、(V
I)において、R1 、R4 、R6 はそれぞれハロゲン原
子、−CN、−CONHR、−CONR2 、−SO2
が好ましい。R2 は総炭素数6以上の基が好ましく、ア
ルキル基(例えば、C7 15−、C9 19−等)、−S
R(例えばC6 13S−、C8 17S−、C6 5 S−
等)、アリール基(例えばC6 5 −等)が特に好まし
い。R3 、R5 、R7 は水素原子、ハロゲン原子、炭素
数8以下のアルキル基(例えばCH3 −、i−C3 7
−等)、炭素数6以上10以下のアリール基(例えばC
6 5 −等)が好ましく、水素原子またはメチル基が特
に好ましい。X1 、X2 は硫黄原子が好ましい。Lはア
ルキレン、フェニレン、−O−、−NH−、−NR−、
−CO−、−SO2 −を組み合わせて形成できる2価基
が好ましく、その両端は炭素原子であることが好まし
い。特に好ましくはLは総炭素数2以上10以下の2価
基である。以上でRはそれぞれアルキル基またはアリー
ル基を表す。
General formulas (V) and (VI) used in the present invention
The compound will be described in detail. General formula (V), (V
In I), R 1 , R 4 , and R 6 are each a halogen atom, —CN, —CONHR, —CONR 2 , or —SO 2 R.
Is preferred. R 2 is preferably a group having a total carbon number of 6 or more, an alkyl group (for example, C 7 H 15 —, C 9 H 19 —, etc.), —S.
R (e.g. C 6 H 13 S-, C 8 H 17 S-, C 6 H 5 S-
Etc.) and aryl groups (eg C 6 H 5 — etc.) are particularly preferred. R 3 , R 5 , and R 7 are hydrogen atoms, halogen atoms, and alkyl groups having 8 or less carbon atoms (for example, CH 3 —, i-C 3 H 7
-Etc.), An aryl group having 6 to 10 carbon atoms (for example, C
6 H 5 — and the like) are preferable, and a hydrogen atom or a methyl group is particularly preferable. X 1 and X 2 are preferably sulfur atoms. L is alkylene, phenylene, -O-, -NH-, -NR-,
A divalent group that can be formed by combining —CO— and —SO 2 — is preferable, and both ends thereof are preferably carbon atoms. Particularly preferably, L is a divalent group having a total carbon number of 2 or more and 10 or less. In the above, each R represents an alkyl group or an aryl group.

【0048】一般式(V)および(VI)においてR1
2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 、Lはそれぞれ置
換されていても良く、代表的な置換基としてはアルキル
基、アリール基、ハロゲン原子、−OR、−SR、−S
2 R、−NHR、−NR2、−COOHまたはその
塩、−COOR、−CONH2 、−CONHR、−CO
NR2 、−NHCOR、−OCOR、−SO3 Hまたは
その塩、−SO2 OR、−SO2 NH2 、−SO2 NH
R、−SO2 NR2 、−NHSO2 R、−NO2、−C
N等が挙げられ、これらの基はさらに置換されていても
良い。以下に一般式(V)および(VI)の具体例を挙げ
るが、本発明はこれに限定されるものではない。
In the general formulas (V) and (VI), R 1 ,
R < 2 >, R < 3 >, R < 4 >, R < 5 >, R < 6 >, R < 7 > and L may each be substituted, and typical examples of the substituent include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, -OR, -SR, -S
O 2 R, -NHR, -NR 2 , -COOH or salts thereof, -COOR, -CONH 2, -CONHR, -CO
NR 2, -NHCOR, -OCOR, -SO 3 H or a salt thereof, -SO 2 OR, -SO 2 NH 2, -SO 2 NH
R, -SO 2 NR 2, -NHSO 2 R, -NO 2, -C
N, etc. may be mentioned, and these groups may be further substituted. Specific examples of formulas (V) and (VI) are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0049】[0049]

【化28】 [Chemical 28]

【0050】[0050]

【化29】 [Chemical 29]

【0051】[0051]

【化30】 [Chemical 30]

【0052】本発明における一般式(V)および(VI)
の化合物の添加量としては、銀1モルあたり1×10-4
ないし2.5×10-2モルの範囲で添加されるのが好ま
しく、さらに好ましくは2×10-4ないし5×10-3
範囲である。
General formulas (V) and (VI) in the present invention
The addition amount of the compound is 1 × 10 −4 per mol of silver
To 2.5 × 10 −2 mol, preferably 2 × 10 −4 to 5 × 10 −3 .

【0053】本発明に用いられるヒドラジン誘導体は下
記一般式(VII)により表される化合物が好ましい。
The hydrazine derivative used in the present invention is preferably a compound represented by the following general formula (VII).

【0054】[0054]

【化31】 [Chemical 31]

【0055】式中、R1 は脂肪族基または芳香基族を表
わし、R2 は水素原子、アルキル基、アリール基、不飽
和ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミ
ノ基またはヒドラジノ基を表わし、G1 は−CO−基、
−SO2 −基、−SO−基、
In the formula, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group, and R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an unsaturated heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a hydrazino group. And G 1 is a —CO— group,
-SO 2 - group, -SO- group,

【0056】[0056]

【化32】 [Chemical 32]

【0057】−CO−CO−基、チオカルボニル基、又
はイミノメチレン基を表わし、A1 、A2 はともに水素
原子、あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無
置換のアルキルスルホニル基、又は置換もしくは無置換
のアリールスルホニル基、又は置換もしくは無置換のア
シル基を表わす。R3 はR2 に定義した基と同じ範囲内
より選ばれ、R2 と異なってもよい。
Represents a --CO--CO-- group, a thiocarbonyl group, or an iminomethylene group, wherein both A 1 and A 2 are hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, or a substituted Alternatively, it represents an unsubstituted arylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted acyl group. R 3 is selected from the same range as the groups defined in R 2, may be different from R 2.

【0058】一般式(VII)において、R1 で表わされる
脂肪族基は好ましくは炭素数1〜30のものであって、
特に炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル
基である。ここで分岐アルキル基はその中に1つまたは
それ以上のヘテロ原子を含んだ飽和のヘテロ環を形成す
るように環化されていてもよい。また、このアルキル基
は置換基を有していてもよい。一般式(VII)において、
1 で表わされる芳香族基は単環または2環のアリール
基または不飽和ヘテロ環基である。ここで、不飽和ヘテ
ロ環基は単環または2環のアリール基と縮環してヘテロ
アリール基を形成してもよい。例えばベンゼン環、ナフ
タレン環、ピリジン環、ピリミジン環、イミダゾール
環、ピラゾール環、キノリン環、イソキノリン環、ベン
ズイミダゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環
等があるが、なかでもベンゼン環を含むものが好まし
い。R1 として特に好ましいものはアリール基である。
1 の脂肪族基または芳香族基は置換されていてもよ
く、代表的な置換基としては例えばアルキル基、、アル
ケニル基、アルキニル基、、アリール基、複素環を含む
基、ピリジニウム基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ア
リーロキシ基、アシルオキシ基、アルキルまたはアリー
ルスルホニルオキシ基、アミノ基、カルボンアミド基、
スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、セミ
カルバジド基、チオセミカルバジド基、ウレタン基、ヒ
ドラジド構造を持つ基、4級アンモニウム構造を持つ
基、アルキルまたはアリールチオ基、アルキルまたはア
リールスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィ
ニル基、カルボキシル基、スルホ基、アシル基、アルコ
キシまたはアリーロキシカルボニル基、カルバモイル
基、スルファモイル基、ハロゲン原子、シアノ基、リン
酸アミド基、ジアシルアミノ基、イミド基、アシルウレ
ア構造を持つ基、セレン原子またはテルル原子を含む
基、3級スルホニウム構造または4級スルホニウム構造
を持つ基などが挙げられ、好ましい置換基としては直
鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素数1
〜20のもの)、アラルキル基(好ましくはアルキル部
分の炭素数が1〜3の単環または2環のもの)、アルコ
キシ基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミ
ノ基(好ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換さ
れたアミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2
〜30を持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭
素数1〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭
素数1〜30を持つもの)、リン酸アミド基(好ましく
は炭素数1〜30のもの)などである。
In the general formula (VII), the aliphatic group represented by R 1 preferably has 1 to 30 carbon atoms,
Particularly, it is a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. The branched alkyl groups herein may be cyclized to form a saturated heterocycle containing one or more heteroatoms therein. Moreover, this alkyl group may have a substituent. In the general formula (VII),
The aromatic group represented by R 1 is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group. Here, the unsaturated heterocyclic group may be condensed with a monocyclic or bicyclic aryl group to form a heteroaryl group. Examples thereof include a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, a benzimidazole ring, a thiazole ring, and a benzothiazole ring. Among them, those containing a benzene ring are preferable. Particularly preferred as R 1 is an aryl group.
The aliphatic group or aromatic group of R 1 may be substituted, and typical examples of the substituent include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group-containing group, a pyridinium group and a hydroxy group. Group, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, alkyl or arylsulfonyloxy group, amino group, carbonamido group,
Sulfonamide group, ureido group, thioureido group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, urethane group, group having hydrazide structure, group having quaternary ammonium structure, alkyl or arylthio group, alkyl or arylsulfonyl group, alkyl or arylsulfinyl group , Carboxyl group, sulfo group, acyl group, alkoxy or aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, halogen atom, cyano group, phosphoramide group, diacylamino group, imide group, group having acylurea structure, selenium atom or Examples thereof include a group containing a tellurium atom, a group having a tertiary sulfonium structure or a group having a quaternary sulfonium structure, and a preferable substituent is a linear, branched or cyclic alkyl group (preferably having a carbon number of 1).
~ 20), an aralkyl group (preferably a monocyclic or bicyclic alkyl moiety having 1 to 3 carbon atoms), an alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms), a substituted amino group (preferably Amino group substituted with alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, acylamino group (preferably having 2 carbon atoms)
To 30), sulfonamide group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), ureido group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), phosphoric acid amide group (preferably having 1 to 30 carbon atoms) Stuff).

【0059】一般式(VII)において、R2 で表わされる
アルキル基としては、好ましくは炭素数1〜4のアルキ
ル基であり、アリール基としては単環または2環のアリ
ール基が好ましく、例えばベンゼン環を含むものであ
る。不飽和ヘテロ環基としては少なくとも1つの窒素、
酸素、および硫黄原子を含む5〜6員環の化合物で、例
えばイミダゾリル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、
テトラゾリル基、ピリジル基、ピリジニウム基、キノリ
ニウム基、キノリニル基などがある。ピリジル基または
ピリジニウム基が特に好ましい。アルコキシ基としては
炭素数1〜8のアルコキシ基のものが好ましく、アリー
ルオキシ基としては単環のものが好ましく、アミノ基と
しては無置換アミノ基、及び炭素数1〜10のアルキル
アミノ基、アリールアミノ基が好ましい。R2 は置換さ
れていても良く、好ましい置換基としてはR1 の置換基
として例示したものがあてはまる。R2 で表わされる基
のうち好ましいものは、G1 が−CO−基の場合には、
水素原子、アルキル基(例えば、メチル基、トリフルオ
ロメチル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−メタンス
ルホンアミドプロピル基、フェニルスルホニルメチル基
など)、アラルキル基(例えば、o−ヒドロキシベンジ
ル基など)、アリール基(例えば、フェニル基、3,5
−ジクロロフェニル基、o−メタンスルホンアミドフェ
ニル基、4−メタンスルホニルフェニル基、2−ヒドロ
キシメチルフェニル基など)などであり、特に水素原
子、トリフロロメチル基が好ましい。また、G1 が−S
2 −基の場合には、R2 はアルキル基(例えば、メチ
ル基など)、アラルキル基(例えば、o−ヒドロキシベ
ンジル基など)、アリール基(例えば、フェニル基な
ど)または置換アミノ基(例えば、ジメチルアミノ基な
ど)などが好ましい。G1 が−COCO−基の場合には
アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基が好ましい。
一般式(VII)のGとしては−CO−基、−COCO−基
が好ましく、−CO−基が最も好ましい。又、R2 はG
1 −R2 の部分を残余分子から分裂させ、−G1 −R2
部分の原子を含む環式構造を生成させる環化反応を生起
するようなものであってもよく、その例としては、例え
ば特開昭63−29751号などに記載のものが挙げら
れる。
In the general formula (VII), the alkyl group represented by R 2 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the aryl group is preferably a monocyclic or bicyclic aryl group, for example benzene. It contains a ring. At least one nitrogen as the unsaturated heterocyclic group,
A 5- or 6-membered ring compound containing oxygen and a sulfur atom, for example, an imidazolyl group, a pyrazolyl group, a triazolyl group,
Examples include a tetrazolyl group, a pyridyl group, a pyridinium group, a quinolinium group, and a quinolinyl group. A pyridyl group or a pyridinium group is particularly preferable. The alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, the aryloxy group is preferably a monocyclic group, the amino group is an unsubstituted amino group, and an alkylamino group having 1 to 10 carbon atoms, aryl Amino groups are preferred. R 2 may be substituted, and as the preferable substituent, those exemplified as the substituent of R 1 are applicable. Preferred among the groups represented by R 2 is when G 1 is a —CO— group,
Hydrogen atom, alkyl group (eg, methyl group, trifluoromethyl group, 3-hydroxypropyl group, 3-methanesulfonamidopropyl group, phenylsulfonylmethyl group, etc.), aralkyl group (eg, o-hydroxybenzyl group, etc.), Aryl groups (eg phenyl groups, 3,5
-Dichlorophenyl group, o-methanesulfonamidophenyl group, 4-methanesulfonylphenyl group, 2-hydroxymethylphenyl group and the like), and a hydrogen atom and trifluoromethyl group are particularly preferable. Also, G 1 is -S
In the case of an O 2 — group, R 2 is an alkyl group (eg, methyl group), an aralkyl group (eg, o-hydroxybenzyl group), an aryl group (eg, phenyl group) or a substituted amino group (eg, , Dimethylamino group, etc.) are preferred. When G 1 is a —COCO— group, an alkoxy group, an aryloxy group and an amino group are preferable.
As G in the general formula (VII), a -CO- group and a -COCO- group are preferable, and a -CO- group is most preferable. Also, R 2 is G
The part of 1- R 2 is split from the residual molecule, and -G 1 -R 2
It may be one that causes a cyclization reaction to form a cyclic structure containing a partial atom, and examples thereof include those described in JP-A-63-29751.

【0060】A1 、A2 は水素原子、炭素数20以下の
アルキルまたはアリールスルホニル基(好ましくはフェ
ニルスルホニル基、又はハメットの置換基定数の和が−
0.5以上となるように置換されたフェニルスルホニル
基)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイ
ル基、又はハメットの置換基定数の和が−0.5以上と
なるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は
分岐状、又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(置
換基としては、例えばハロゲン原子、エーテル基、スル
ホンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ
基、スルホン酸基が挙げられる))である。A1 、A2
としては水素原子が最も好ましい。
A 1 and A 2 are a hydrogen atom, an alkyl or aryl sulfonyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a phenyl sulfonyl group, or the sum of Hammett's substituent constants is-).
Phenylsulfonyl group substituted to be 0.5 or more), acyl group having 20 or less carbon atoms (preferably benzoyl group, or substituted so that the sum of Hammett's substituent constants is -0.5 or more) A benzoyl group, or a linear, branched, or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic acyl group (as a substituent, for example, a halogen atom, an ether group, a sulfonamide group, a carbonamide group, a hydroxyl group, a carboxy group, a sulfonic acid group Can be mentioned)). A 1 , A 2
Is most preferably a hydrogen atom.

【0061】一般式(VII)のR1 、R2 の置換基はさら
に置換されていても良く、好ましい例としてはR1 の置
換基として例示したものが挙げられる。さらにその置換
基、その置換基の置換基、置換基の置換基の置換基・・
・、というように多重に置換されていても良く、好まし
い例はやはりR1 の置換基として例示したものがあては
まる。
The substituents of R 1 and R 2 in the general formula (VII) may be further substituted, and preferred examples thereof include those exemplified as the substituent of R 1 . Furthermore, the substituent, the substituent of the substituent, the substituent of the substituent of the substituent ...
., May be multiply substituted, and preferred examples are also those exemplified as the substituent of R 1 .

【0062】一般式(VII)のR1 またはR2 はその中に
カプラー等の不動性写真用添加剤において常用されてい
るバラスト基またはポリマーが組み込まれているもので
もよい。バラスト基は8以上の炭素数を有する、写真性
に対して比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、
アラルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキルフ
ェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基などの
中から選ぶことができる。またポリマーとしては、例え
ば特開平1−100530号に記載のものが挙げられ
る。
R 1 or R 2 in the general formula (VII) may have a ballast group or polymer commonly used in a non-moving photographic additive such as a coupler incorporated therein. The ballast group is a group having a carbon number of 8 or more, which is relatively inert to photographic properties, such as an alkyl group,
It can be selected from aralkyl group, alkoxy group, phenyl group, alkylphenyl group, phenoxy group, alkylphenoxy group and the like. Examples of the polymer include those described in JP-A No. 1-100530.

【0063】一般式(VII)のR1 またはR2 はその中に
ハロゲン化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込
まれているものでもよい。かかる吸着基としては、アル
キルチオ基、アリールチオ基、チオ尿素基、複素環チオ
アミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基などの
米国特許第4,385,108号、同4,459,34
7号、特開昭59−195233号、同59−2002
31号、同59−201045号、同59−20104
6号、同59−201047号、同59−201048
号、同59−201049号、特開昭61−17073
3号、同61−270744号、同62−948号、同
63−234244号、同63−234245号、同6
3−234246号に記載された基があげられる。
R 1 or R 2 in the general formula (VII) may be one in which a group for enhancing adsorption to the surface of the silver halide grain is incorporated. Examples of the adsorptive group include alkylthio groups, arylthio groups, thiourea groups, heterocyclic thioamide groups, mercaptoheterocyclic groups, and triazole groups, which are disclosed in U.S. Pat. Nos. 4,385,108 and 4,459,34.
7, JP-A-59-195233 and JP-A-59-2002.
No. 31, No. 59-201045, No. 59-20104
No. 6, No. 59-201047, No. 59-201048.
No. 59-201049, JP-A-61-17073.
No. 3, No. 61-270744, No. 62-948, No. 63-234244, No. 63-234245, No. 6
The groups described in 3-234246 are mentioned.

【0064】本発明において特に好ましいヒドラジン誘
導体は、R1 がスルホンアミド基、アシルアミノ基また
はウレイド基を介してバラスト基、ハロゲン化銀粒子表
面に対する吸着を促進する基、4級アンモニウム構造を
持つ基、またはアルキルチオ基を有するフェニル基であ
り、Gが−CO−基であり、R2 が水素原子、置換アル
キル基または置換アリール基(置換基としては電子吸引
性基または2位へのヒドロキシメチル基が好ましい)で
あるヒドラジン誘導体である。なお、上記のR1 および
2 の各選択肢のあらゆる組合せが可能であり、好まし
い。
Particularly preferred hydrazine derivative in the present invention is that R 1 is a ballast group via a sulfonamide group, an acylamino group or a ureido group, a group which promotes adsorption to the surface of silver halide grains, a group having a quaternary ammonium structure, Or a phenyl group having an alkylthio group, G is a -CO- group, R 2 is a hydrogen atom, a substituted alkyl group or a substituted aryl group (as a substituent, an electron-withdrawing group or a hydroxymethyl group at the 2-position is used. Preferred) hydrazine derivative. Note that any combination of the above R 1 and R 2 options is possible and preferred.

【0065】一般式(VII)で示される化合物の具体例を
以下に示す。ただし、本発明は以下の化合物に限定され
るものではない。
Specific examples of the compound represented by the general formula (VII) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0066】[0066]

【化33】 [Chemical 33]

【0067】[0067]

【化34】 [Chemical 34]

【0068】[0068]

【化35】 [Chemical 35]

【0069】[0069]

【化36】 [Chemical 36]

【0070】[0070]

【化37】 [Chemical 37]

【0071】[0071]

【化38】 [Chemical 38]

【0072】[0072]

【化39】 [Chemical Formula 39]

【0073】[0073]

【化40】 [Chemical 40]

【0074】[0074]

【化41】 [Chemical 41]

【0075】[0075]

【化42】 [Chemical 42]

【0076】[0076]

【化43】 [Chemical 43]

【0077】本発明に用いられるヒドラジン誘導体とし
ては、上記のものの他に、RESEARCHDISCLOSURE Item2
3516(1983年11月号、P.346)およびそ
こに引用された文献の他、米国特許第4,080,20
7号、同4,269,929号、同4,276,364
号、同4,278,748号、同4,385,108
号、同4,459,347号、同4,478,928
号、同4,560,638号、同4,686,167
号、同4,912,016号 同4,988,604
号、同4,994,365号、同5,041,355
号、同5,104,769号、英国特許第2,011,
391B号、欧州特許第217,310号、同301,
799号、同356,898号、特開昭60−1797
34号、同61−170733号、同61−27074
4号、同62−178246号、同62−270948
号、同63−29751号、同63−32538号、同
63−104047号、同63−121838号、同6
3−129337号、同63−223744号、同63
−234244号、同63−234245号、同63−
234246号、同63−294552号、同63−3
06438号、同64−10233号、特開平1−90
439号、同1−100530号、同1−105941
号、同1−105943号、同1−276128号、同
1−280747号、同1−283548号、同1−2
83549号、同1−285940号、同2−2541
号、同2−77057号、同2−139538号、同2
−196234号、同2−196235号、同2−19
8440号、同2−198441、同2−198442
号、同2−220042号、同2−221953号、同
2−221954号、同2−285342号、同2−2
85343号、同2−289843号、同2−3027
50号、同2−304550号、同3−37642号、
同3−54549号、同3−125134号、同3−1
84039号、同3−240036号、同3−2400
37号、同3−259240号、同3−280038
号、同3−282536号、同4−51143号、同4
−56842号、同4−84134号、同2−2302
33号、同4−96053号、同4−216544号、
同5−45761号、同5−45762号、同5−45
763号、同5−45764号、同5−45765号、
特願平5−94925に記載されたものを用いることが
できる。
As the hydrazine derivative used in the present invention, in addition to the above, RESEARCH DISCLOSURE Item 2
3516 (November 1983, p. 346) and references cited therein, as well as U.S. Pat. No. 4,080,20.
No. 7, No. 4,269,929, No. 4,276,364
Nos. 4,278,748, 4,385,108
Issue No. 4,459,347 Issue No. 4,478,928
Nos. 4,560,638 and 4,686,167
No. 4,912,016 No. 4,988,604
Issue No. 4,994,365 Issue 5,041,355
No. 5,104,769, British Patent No. 2,011,
391B, European Patent Nos. 217,310 and 301,
799, 356, 898, JP-A-60-1797.
34, 61-170733, 61-27074.
No. 4, No. 62-178246, No. 62-270948.
No. 63, No. 63-29751, No. 63-32538, No. 63-104047, No. 63-121838, No. 6
3-129337, 63-223744, 63
-234244, 63-234245, 63-
234246, 63-294552, 63-3
06438, 64-10233 and JP-A-1-90.
No. 439, No. 1-100530, No. 1-105941
No. 1, No. 1-105943, No. 1-276128, No. 1-280747, No. 1-283548, No. 1-2.
83549, 1-285940, 2-2541.
No. 2, No. 2-77057, No. 2-139538, No. 2
-196234, 2-196235, 2-19
No. 8440, 2-198441, 2-198442.
No. 2-220042, No. 2-221953, No. 2-221954, No. 2-285342, No. 2-2.
85343, 2-289843, 2-3027.
No. 50, No. 2-304550, No. 3-37642,
No. 3-54549, No. 3-125134, No. 3-1
No. 84039, No. 3-240036, No. 3-2400.
No. 37, No. 3-259240, No. 3-280038.
No. 3, No. 3-228536, No. 4-51143, No. 4
-56842, 4-84134, 2-2302
No. 33, No. 4-96053, No. 4-216544,
No. 5-45761, No. 5-45762, No. 5-45
No. 763, No. 5-45764, No. 5-45765,
The thing described in Japanese Patent Application No. 5-94925 can be used.

【0078】本発明におけるヒドラジン誘導体の添加量
としてはハロゲン化銀1モルあたり1×10-6モルない
し5×10-2モル含有されるのが好ましく、特に1×1
-5モルないし2×10-2モルの範囲が好ましい添加量
である。
The addition amount of the hydrazine derivative in the present invention is preferably 1 × 10 -6 mol to 5 × 10 -2 mol per mol of silver halide, particularly 1 × 1.
The preferable addition amount is in the range of 0 -5 mol to 2 × 10 -2 mol.

【0079】本発明のヒドラジン誘導体は、適当な水混
和性有機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタ
ノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン
類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなど
に溶解して用いることができる。また、既に良く知られ
ている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリ
クレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあ
るいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルや
シクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械
的に乳化分散物を作製して用いることができる。あるい
は固体分散法として知られている方法によって、ヒドラ
ジン誘導体の粉末を水の中にボ−ルミル、コロイドミ
ル、あるいは超音波によって分散して用いることもでき
る。
The hydrazine derivative of the present invention is a suitable water-miscible organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve. It can be used by dissolving it in Further, by a well-known emulsification dispersion method, it is dissolved by using an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and mechanically emulsified and dispersed. An object can be produced and used. Alternatively, the hydrazine derivative powder may be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves by a method known as a solid dispersion method.

【0080】本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用い
るハロゲン化銀乳剤はハロゲン化銀として特に制限はな
く、塩化銀、塩臭化銀、臭化銀、沃塩臭化銀、沃臭化銀
を用いることができるが、塩化銀含有率50モル%以上
を含有する塩臭化銀、沃塩臭化銀が好ましい。沃化銀含
有率は3モル%以下、より好ましくは0.5モル%以下
が好ましい。ハロゲン化銀粒子の形状は、立方体、十四
面体、八面体、不定型、板状いずれでも良いが、立方体
が好ましい。ハロゲン化銀の平均粒径は0.1μm〜
0.7μmが好ましいが、より好ましくは0.2〜0.
5μmであり、{(粒径の標準偏差)/(平均粒径)}
×100で表される変動係数が15%以下、より好まし
くは10%以下の粒径分布の狭いものが好ましい。ハロ
ゲン化銀粒子は内部と表層が均一な層からなっていて
も、異なる層からなっていても良い。本発明に用いられ
る写真乳剤は、P.Glafkides 著 Chimie et Physique Ph
otographique (Paul Montel 社刊、1967年)、G.F.
Dufin著 Photographic Emulsion Chemistry(The Forca
l Press刊、1966年)、V.L.Zelikman et al著 Maki
ng nd Coating Photographic Emulsion(The Focal Pre
ss 刊、1964年)などに記載された方法を用いて調
製することができる。
The silver halide emulsion used in the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention is not particularly limited as silver halide, and silver chloride, silver chlorobromide, silver bromide, silver iodochlorobromide, silver iodobromide. However, silver chlorobromide and silver iodochlorobromide having a silver chloride content of 50 mol% or more are preferable. The silver iodide content is preferably 3 mol% or less, more preferably 0.5 mol% or less. The shape of the silver halide grains may be any of cubic, tetradecahedral, octahedral, amorphous and plate-like, but cubic is preferred. The average grain size of silver halide is 0.1 μm
0.7 μm is preferable, but 0.2 to 0.
5 μm, {(standard deviation of particle size) / (average particle size)}
The coefficient of variation represented by × 100 is preferably 15% or less, more preferably 10% or less and having a narrow particle size distribution. The silver halide grains may have a uniform inner layer and a surface layer, or may have different layers. The photographic emulsion used in the present invention is a Chimie et Physique Ph by P. Glafkides.
otographique (Paul Montel, 1967), GF
Photographic Emulsion Chemistry (The Forca by Dufin
Press, 1966), by VL Zelikman et al Maki
ng nd Coating Photographic Emulsion (The Focal Pre
ss, 1964) and the like.

【0081】可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させ
る方法としては、片側混合法、同時混合法、それらの組
み合わせなどのいずれを用いても良い。粒子を銀イオン
過剰の下において形成させる方法(いわゆる逆混合法)
を用いることもできる。同時混合法の一つの形式として
ハロゲン化銀の生成される液相中のpAgを一定に保つ
方法、すなわち、いわゆるコントロールド・ダブルジェ
ット法を用いることもできる。またアンモニア、チオエ
ーテル、四置換チオ尿素等のいわゆるハロゲン化銀溶剤
を使用して粒子形成させることが好ましい。より好まし
くは四置換チオ尿素化合物であり、特開昭53−824
08号、同55−77737号に記載されている。好ま
しいチオ尿素化合物はテトラメチルチオ尿素、1,3−
ジメチル−2−イミダゾリジンチオンである。コントロ
ールド・ダブルジェット法およびハロゲン化銀溶剤を使
用した粒子形成方法では、結晶型が規則的で粒子サイズ
分布の狭いハロゲン化銀乳剤を作るのが容易であり、本
発明に用いられるハロゲン化銀乳剤を作るのに有用な手
段である。また、粒子サイズを均一にするためには、英
国特許第1,535,016号、特公昭48−3689
0、同52−16364号に記載されているように、硝
酸銀やハロゲン化アルカリの添加速度を粒子成長速度に
応じて変化させる方法や、英国特許第4,242,44
5号、特開昭55−158124号に記載されているよ
うに水溶液の濃度を変化させる方法を用いて、臨界飽和
度を越えない範囲において早く成長させることが好まし
い。
As the method for reacting the soluble silver salt and the soluble halogen salt, any of a one-sided mixing method, a simultaneous mixing method and a combination thereof may be used. Method of forming grains in the presence of excess silver ion (so-called reverse mixing method)
Can also be used. As one form of the simultaneous mixing method, a method of keeping pAg constant in the liquid phase in which silver halide is produced, that is, a so-called controlled double jet method can be used. Further, it is preferable to form grains using a so-called silver halide solvent such as ammonia, thioether, or tetra-substituted thiourea. More preferably, it is a tetra-substituted thiourea compound and is disclosed in JP-A-53-824.
08, 55-77737. Preferred thiourea compounds are tetramethylthiourea, 1,3-
Dimethyl-2-imidazolidinethione. In the controlled double jet method and the grain forming method using a silver halide solvent, it is easy to prepare a silver halide emulsion having a regular crystal form and a narrow grain size distribution. It is a useful tool for making emulsions. Further, in order to make the particle size uniform, British Patent No. 1,535,016 and Japanese Examined Patent Publication No. 48-3689.
0, No. 52-16364, a method of changing the addition rate of silver nitrate or an alkali halide according to the grain growth rate, and British Patent No. 4,242,44.
As described in JP-A-55-158124 and JP-A-55-158124, it is preferable to use the method of changing the concentration of the aqueous solution to grow it quickly within a range not exceeding the critical saturation.

【0082】本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用い
られるハロゲン化銀粒子には高コントラストおよび低カ
ブリを達成するために、ロジウム、レニウム、ルテニウ
ム、オスミニウム、イリジウムから選ばれる少なくとも
一種の金属を含有することが好ましい。この含有率は銀
1モルに対して1×10-9モル〜1×10-5モルの範囲
が好ましく、さらには1×10-8〜5×10-6モルの範
囲が好ましい。これらの金属は2種以上併用しても良
い。これらの金属はハロゲン化銀粒子中に均一に含有さ
せることもできるし、特開昭63−29603号、特開
平2−306236号、同3−167545号、同4−
76534号、特願平4−68305号、同4−258
187号等に記載されているように粒子内に分布をもた
せて含有させることもできる。
The silver halide grains used in the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention contain at least one metal selected from rhodium, rhenium, ruthenium, osmium and iridium in order to achieve high contrast and low fog. Preferably. This content is preferably in the range of 1 × 10 −9 mol to 1 × 10 −5 mol, and more preferably in the range of 1 × 10 −8 to 5 × 10 −6 mol, per mol of silver. Two or more of these metals may be used in combination. These metals can be uniformly contained in the silver halide grains, and they are disclosed in JP-A-63-29603, JP-A-2-306236, JP-A-3-167545 and JP-A-4-167453.
No. 76534, Japanese Patent Application Nos. 4-68305 and 4-258.
No. 187, etc., it may be contained in the particles with a distribution.

【0083】本発明に用いられるロジウム化合物として
は、水溶性ロジウム化合物を用いることができる。たと
えば、ハロゲン化ロジウム(III) 化合物、またはロジウ
ム錯塩で配位子としてハロゲン、アミン類、オキザラト
等を持つもの、たとえば、ヘキサクロロロジウム(III)
錯塩、ヘキサブロモロジウム(III) 錯塩、ヘキサアンミ
ンロジウム(III) 錯塩、トリザラトロジウム(III) 錯塩
等が挙げられる。これらのロジウム化合物は、水あるい
は適当な溶媒に溶解して用いられるが、ロジウム化合物
の溶液を安定化させるために一般によく行われる方法、
すなわち、ハロゲン化水素水溶液(たとえば塩酸、臭
酸、フッ酸等)、あるいはハロゲン化アルカリ(たとえ
ばKCl、NaCl、KBr、NaBr等)を添加する
方法を用いることができる。水溶性ロジウムを用いる代
わりにハロゲン化銀調製時に、あらかじめロジウムをド
ープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させ
ることも可能である。
As the rhodium compound used in the present invention, a water-soluble rhodium compound can be used. For example, a rhodium (III) halide compound, or a rhodium complex salt having halogen, amines, oxalate, etc. as a ligand, for example, hexachlororhodium (III)
Examples thereof include complex salts, hexabromorhodium (III) complex salts, hexaamminerhodium (III) complex salts, and trisalatrodium (III) complex salts. These rhodium compounds are used by being dissolved in water or a suitable solvent, and a method that is generally performed to stabilize the solution of the rhodium compound,
That is, a method of adding an aqueous solution of hydrogen halide (for example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydrofluoric acid, etc.) or an alkali halide (for example, KCl, NaCl, KBr, NaBr, etc.) can be used. Instead of using water-soluble rhodium, it is also possible to add and dissolve another silver halide grain which has been previously doped with rhodium when preparing the silver halide.

【0084】これらの化合物の添加は、ハロゲン化銀乳
剤粒子の製造時及び乳剤を塗布する前の各段階において
適宜行うことができるが、特に乳剤形成時に添加し、ハ
ロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましい。
The addition of these compounds can be appropriately carried out at each stage before the production of the silver halide emulsion grains and before the coating of the emulsion, but it is added especially at the time of forming the emulsion and incorporated into the silver halide grains. It is preferable.

【0085】本発明に用いられるレニウム、ルテニウ
ム、オスミニウムは特開昭63−2042号、特開平1
−285941号、同2−20852号、同2−208
55号等に記載された水溶性錯塩の形で添加される。特
に好ましいものとして、以下の式で示される六配位錯体
が挙げられる。 [ML6]-n ここでMはRu、Re、またはOsを表し、nは0、
1、2、3または4を表す。この場合、対イオンは重要
性を持たず、アンモニウムもしくはアルカリ金属イオン
が用いられる。また好ましい配位子としてはハロゲン化
物配位子、シアン化物配位子、シアン酸化物配位子、ニ
トロシル配位子、チオニトロシル配位子等が挙げられ
る。以下に本発明に用いられる具体的錯体の例を示す
が、本発明はこれに限定されるものではない。
The rhenium, ruthenium and osmium used in the present invention are disclosed in JP-A-63-2042 and JP-A-1.
-2859451, 2-20852, 2-208
It is added in the form of a water-soluble complex salt described in No. 55, etc. Particularly preferred are hexacoordinated complexes represented by the following formulas. [ML 6 ] -n Here, M represents Ru, Re, or Os, n is 0,
Represents 1, 2, 3 or 4. In this case, the counterion has no significance and ammonium or alkali metal ions are used. Examples of preferable ligands include halide ligands, cyanide ligands, cyan oxide ligands, nitrosyl ligands and thionitrosyl ligands. Examples of specific complexes used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0086】 [ReCl6]-3 [ReBr6]-3 [ReCl5(NO)]-2 [Re(NS)Br5]-2 [Re(NO)(CN)5]-2 [Re(O)2(CN)4]-3 [RuCl6]-3 [RuCl4(H2O)2]-1 [RuCl5(NO)]-2 [RuBr5(NS)]-2 [Ru(CN)6]-4 [Ru(CO)3Cl3]-2 [Ru(CO)Cl5]-2 [Ru(CO)Br5]-2 [OsCl6]-3 [OsCl5(NO)]-2 [Os(NO)(CN)5]-2 [Os(NS)Br5]-2 [Os(CN)6]-4 [Os(O)2(CN)4]-4 [ReCl 6 ] -3 [ReBr 6 ] -3 [ReCl 5 (NO)] -2 [Re (NS) Br 5 ] -2 [Re (NO) (CN) 5 ] -2 [Re (O ) 2 (CN) 4 ] -3 [RuCl 6 ] -3 [RuCl 4 (H 2 O) 2 ] -1 [RuCl 5 (NO)] -2 [RuBr 5 (NS)] -2 [Ru (CN) 6 ] -4 [Ru (CO) 3 Cl 3 ] -2 [Ru (CO) Cl 5 ] -2 [Ru (CO) Br 5 ] -2 [OsCl 6 ] -3 [OsCl 5 (NO)] -2 [Os (NO) (CN) 5 ] -2 [Os (NS) Br 5 ] -2 [Os (CN) 6 ] -4 [Os (O) 2 (CN) 4 ] -4

【0087】これらの化合物の添加は、ハロゲン化銀乳
剤粒子の製造時及び乳剤を塗布する前の各段階において
適宜行うことができるが、特に乳剤形成時に添加し、ハ
ロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましい。これ
らの化合物をハロゲン化銀の粒子形成中に添加してハロ
ゲン化銀粒子中に組み込むには、金属錯体の粉末もしく
はNaCl、KClと一緒に溶解した水溶液を、粒子形
成中の水溶性塩または水溶性ハライド溶液中に添加して
おく方法、あるいは銀塩とハライド溶液が同時に混合さ
れるとき第3の溶液として添加し、3液同時混合の方法
でハロゲン化銀粒子を調製する方法、あるいは粒子形成
中に必要量の金属錯体の水溶液を反応容器に投入する方
法などがある。特に粉末もしくはNaCl、KClと一
緒に溶解した水溶液を、水溶性ハライド溶液に添加する
方法が好ましい。粒子表面に添加するには、粒子形成直
後または物理熟成時途中もしくは終了時または化学熟成
時に必要量の金属錯体の水溶液を反応容器に投入するこ
ともできる。
The addition of these compounds can be appropriately carried out at each stage before the production of the silver halide emulsion grains and before the coating of the emulsion, but it is added especially at the time of forming the emulsion and incorporated into the silver halide grains. It is preferable. To incorporate these compounds into the silver halide grains by adding them during the formation of silver halide grains, a powder of a metal complex or an aqueous solution dissolved together with NaCl or KCl is used to form a water-soluble salt or a water-soluble salt during grain formation. Method in which a silver halide grain is prepared by adding it into a water-soluble halide solution, or by adding as a third solution when a silver salt and a halide solution are mixed at the same time, and a three-liquid simultaneous mixing method, or grain formation There is a method in which a necessary amount of an aqueous solution of a metal complex is charged into a reaction vessel. Particularly preferred is a method of adding powder or an aqueous solution dissolved together with NaCl and KCl to the water-soluble halide solution. To add to the surface of the particles, a necessary amount of an aqueous solution of the metal complex may be added to the reaction vessel immediately after the particles are formed, during or during physical ripening, or at the time of chemical ripening.

【0088】本発明で用いられるイリジウム化合物とし
ては種々のものを使用できるが、例えばヘキサクロロイ
リジウム、ヘキサアンミンイリジウム、トリオキザラト
イリジウム、ヘキサシアノイリジウム等が挙げられる。
これらのイリジウム化合物は、水あるいは適当な溶媒に
溶解して用いられるが、イリジウム化合物の溶液を安定
化させるために一般によく行われる方法、すなわち、ハ
ロゲン化水素水溶液(たとえば塩酸、臭酸、フッ酸
等)、あるいはハロゲン化アルカリ(たとえばKCl、
NaCl、KBr、NaBr等)を添加する方法を用い
ることができる。水溶性イリジウムを用いる代わりにハ
ロゲン化銀調製時に、あらかじめイリジウムをドープし
てある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させること
も可能である。
As the iridium compound used in the present invention, various compounds can be used, and examples thereof include hexachloroiridium, hexaammineiridium, trioxalatoiridium, hexacyanoiridium and the like.
These iridium compounds are used by dissolving them in water or a suitable solvent, and they are generally used for stabilizing the solution of the iridium compound, that is, an aqueous solution of hydrogen halide (for example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydrofluoric acid). Etc.) or an alkali halide (eg KCl,
NaCl, KBr, NaBr, etc.) can be used. Instead of using water-soluble iridium, it is also possible to add and dissolve another silver halide grain which has been previously doped with iridium when preparing the silver halide.

【0089】本発明におけるハロゲン化銀粒子には、他
の重金属塩をドープしても良い。特にK4 [Fe(C
N)6 のごときFe塩のドープが有利に行われる。さら
に本発明に用いられるハロゲン化銀粒子に、コバルト、
ニッケル、パラジウム、白金、金、タリウム、銅、鉛等
の金属原子を含有してもよい。上記金属はハロゲン化銀
1モルあたり1×10-9〜1×10-4モルが好ましい。
また、上記金属を含有せしめるには単塩、複塩、または
錯塩の形の金属塩にして粒子調製時に添加することがで
きる。
The silver halide grains in the present invention may be doped with another heavy metal salt. Especially K 4 [Fe (C
Doping with Fe salts such as N) 6 is advantageous. Further, in the silver halide grain used in the present invention, cobalt,
It may contain a metal atom such as nickel, palladium, platinum, gold, thallium, copper or lead. The metal is preferably 1 × 10 −9 to 1 × 10 −4 mol per mol of silver halide.
Further, in order to contain the above metal, a metal salt in the form of a single salt, a double salt or a complex salt can be added and added at the time of preparation of particles.

【0090】本発明のハロゲン化銀乳剤は化学増感する
ことが好ましく、硫黄増感、セレン増感、テルル増感、
還元増感、貴金属増感等の知られている方法を用いるこ
とができ、単独、または組み合わせで用いられる。組み
合わせて使用する場合には、例えば、硫黄増感法と金増
感法、硫黄増感法とセレン増感法と金増感法、硫黄増感
法とテルル増感法と金増感法等が好ましい。
The silver halide emulsion of the present invention is preferably chemically sensitized, and sulfur sensitization, selenium sensitization, tellurium sensitization,
Known methods such as reduction sensitization and noble metal sensitization can be used, and they can be used alone or in combination. When used in combination, for example, sulfur sensitization and gold sensitization, sulfur sensitization and selenium sensitization and gold sensitization, sulfur sensitization and tellurium sensitization and gold sensitization, etc. Is preferred.

【0091】本発明に用いられる硫黄増感は、通常、硫
黄増感剤を添加して、40℃以上の高温で乳剤を一定時
間攪拌することにより行われる。硫黄増感剤としては公
知の化合物を使用することができ、例えば、ゼラチン中
に含まれる硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合物、例え
ば、チオ硫酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ローダニ
ン類等を用いることができる。好ましい硫黄化合物は、
チオ硫酸塩、チオ尿素化合物である。硫黄増感剤の添加
量は、化学熟成時のpH、温度、ハロゲン化銀粒子の大
きさなどの種々の条件の下で変化するが、ハロゲン化銀
1モルあたり10-7〜10-2モルであり、より好ましく
は10-5〜10-3モルである。
The sulfur sensitization used in the present invention is usually carried out by adding a sulfur sensitizer and stirring the emulsion at a high temperature of 40 ° C. or higher for a certain period of time. As the sulfur sensitizer, known compounds can be used. For example, in addition to the sulfur compound contained in gelatin, various sulfur compounds, for example, thiosulfates, thioureas, thiazoles, rhodanins, etc. Can be used. Preferred sulfur compounds are
Thiosulfate and thiourea compounds. The amount of the sulfur sensitizer added varies depending on various conditions such as pH, temperature and size of silver halide grains during chemical ripening, but it is 10 -7 to 10 -2 mol per mol of silver halide. And more preferably 10 −5 to 10 −3 mol.

【0092】本発明で用いられるセレン増感剤として
は、公知のセレン化合物を用いることができる。すなわ
ち通常、不安定型および/または非安定型セレン化合物
を添加して、高温、好ましくは40゜C以上で乳剤を一
定時間攪拌することにより行われる。不安定型セレン化
合物としては特公昭44−15748号、特公昭43−
13489号、特願平2−130976号、同2−22
9300号、同3−121798号等に記載の化合物を
用いることができる。特に特願平3−121798号中
の一般式(VIII)および(IX)で示される化合物を用いる
ことが好ましい。
As the selenium sensitizer used in the present invention, known selenium compounds can be used. That is, it is usually carried out by adding an unstable and / or unstable selenium compound and stirring the emulsion at a high temperature, preferably 40 ° C. or higher, for a certain period of time. Unstable selenium compounds are disclosed in Japanese Examined Patent Publications Nos. 44-15748 and 43-43
13489, Japanese Patent Application Nos. 2130976 and 2-22
The compounds described in No. 9300, No. 3-121798 and the like can be used. In particular, it is preferable to use the compounds represented by formulas (VIII) and (IX) in Japanese Patent Application No. 3-121798.

【0093】本発明に用いられるテルル増感剤は、ハロ
ゲン化銀粒子表面または内部に、増感核になると推定さ
れるテルル化銀を生成せしめる化合物である。ハロゲン
化銀乳剤中のテルル化銀生成速度については特願平4−
146739号に記載の方法で試験することができる。
具体的には、米国特許第1,623,499号、同第
3,320,069号、同第3,772,031号、英
国特許第235,211号、同第1,121,496号
同第1,295,462号、同第1,396,696
号、カナダ特許第800,958号、特願平2−333
819号、同3−53693号、同3−131598
号、同4−129787号、J. Chem. Soc. Chem. Comm
un.,635(1980)、同1102(1979),同645(1979) 、J. Che
m. Soc. Perkin. Trans.,1,2191(1980)、S.Patai 編、T
he Chemistry of Organic Serenium and Tellurium Com
pounds,Vol1(1986) 、同Vol2(1987)に記載の化合物を用
いることができる。特に特願平4−146739号中の
一般式(II)、(III) 、(IV)で示される化合物が好まし
い。
The tellurium sensitizer used in the present invention is a compound capable of producing silver telluride, which is presumed to serve as a sensitizing nucleus, on the surface or inside of silver halide grains. Regarding the rate of silver telluride formation in a silver halide emulsion, Japanese Patent Application No. 4-
It can be tested by the method described in 146739.
Specifically, US Pat. Nos. 1,623,499, 3,320,069, 3,772,031, British Patents 235,211 and 1,121,496. No. 1,295,462, No. 1,396,696
No., Canadian Patent No. 800,958, Japanese Patent Application No. 2-333.
No. 819, No. 3-53693, No. 3-131598.
No. 4-129787, J. Chem. Soc. Chem. Comm.
un., 635 (1980), ibid. 1102 (1979), ibid.645 (1979), J. Che
m.Soc. Perkin.Trans., 1,2191 (1980), edited by S.Patai, T
he Chemistry of Organic Serenium and Tellurium Com
The compounds described in pounds, Vol1 (1986) and Vol2 (1987) can be used. In particular, the compounds represented by formulas (II), (III) and (IV) in Japanese Patent Application No. 4-146739 are preferable.

【0094】本発明で用いられるセレンおよびテルル増
感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成
条件等によって変わるが、一般にハロゲン化銀1モルあ
たり、10-8〜10-2モル、好ましくは10-7〜10-3
モル程度を用いる。本発明における化学増感の条件とし
ては特に制限はないが、pHとしては5〜8、pAgと
しては6〜11、好ましくは7〜10であり、温度とし
ては40〜95℃、好ましくは45〜85℃である。
The amounts of the selenium and tellurium sensitizers used in the present invention vary depending on the silver halide grains used, the chemical ripening conditions, etc., but generally 10 -8 to 10 -2 mol per mol of silver halide. , Preferably 10 −7 to 10 −3
Use molar amounts. The conditions of the chemical sensitization in the present invention are not particularly limited, but the pH is 5 to 8, the pAg is 6 to 11, preferably 7 to 10, and the temperature is 40 to 95 ° C, preferably 45 to. It is 85 ° C.

【0095】本発明に用いられる貴金属増感剤として
は、金、白金、パラジウム等が挙げられるが、特に金増
感が好ましい。本発明に用いられる金増感剤としては具
体的には、塩化金酸、カリウムクロロオーレート、カリ
ウムオーリチオシアネート、硫化金などが挙げられ、ハ
ロゲン化銀1モルあたり10-7〜10-2モル程度を用い
ることができる。
Examples of the noble metal sensitizer used in the present invention include gold, platinum and palladium, with gold sensitization being particularly preferred. Specific examples of the gold sensitizer used in the present invention include chloroauric acid, potassium chloroaurate, potassium aurithiocyanate, and gold sulfide, and 10 -7 to 10 -2 mol per mol of silver halide. A degree can be used.

【0096】本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロ
ゲン化銀粒子の形成または物理熟成の過程においてカド
ミウム塩、亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩などを共存させ
てもよい。本発明においては、還元増感を用いることが
できる。還元増感剤としては第一スズ塩、アミン類、ホ
ルムアミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いる
ことができる。本発明のハロゲン化銀乳剤は、欧州特許
(EP)−293,917号に示される方法により、チ
オスルホン酸化合物を添加しても良い。本発明に用いら
れる感光材料中のハロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよ
いし、二種以上(例えば、平均粒子サイズの異なるも
の、ハロゲン組成の異なるもの、晶癖の異なるもの、化
学増感の条件の異なるもの)併用してもよい。
In the silver halide emulsion used in the present invention, a cadmium salt, a sulfite salt, a lead salt, a thallium salt or the like may coexist in the process of formation of silver halide grains or physical ripening. Reduction sensitization can be used in the present invention. As the reduction sensitizer, stannous salt, amines, formamidinesulfinic acid, silane compound and the like can be used. A thiosulfonic acid compound may be added to the silver halide emulsion of the present invention by the method shown in European Patent (EP) -293,917. The silver halide emulsion in the light-sensitive material used in the present invention may be one kind or two or more kinds (for example, those having different average grain sizes, different halogen compositions, different crystal habits, chemically sensitized ones). Different conditions) may be used together.

【0097】本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は目
的とする分光感度の付与を目的として種々の分光増感色
素を使用することができる。用いられる色素には、シア
ニン色素、メロシアニン色素、複合シアニン色素、複合
メロシアニン色素、ホロポーラーシアニン色素、ヘミシ
アニン色素、スチリル色素およびヘミオキソノール色素
が包含される。特に有用な色素は、シアニン色素、メロ
シアニン色素、および複合メロシアニン色素に属する色
素である。本発明に使用される有用な増感色素は例えば
RESEARCH DISCLOSURE Item 17643 IV −A項
(1978年12月p.23)、同 Item 1831X項
(1978年8月p.437)に記載もしくは引用され
た文献に記載されている。特に各種スキャナー光源の分
光特性に適した分光感度を有する増感色素を有利に選択
することができる。例えば、A)アルゴンレーザー光源
に対しては、特開昭60−162247号、特開平2−
48653号、米国特許2,161,331号、西独特
許936,071号、特願平3−189532号記載の
シンプルメロシアニン類、B)ヘリウム−ネオンレーザ
ー光源に対しては、特開昭50−62425号、同54
−18726号、同59−102229号に示された三
核シアニン色素類、C)LED光源及び赤色半導体レー
ザーに対しては特公昭48−42172号、同51−9
609号、同55−39818号へ特開昭62−284
343号、特開平2−105135号に記載されたチア
カルボシアニン類、D)赤外半導体レーザー光源に対し
ては特開昭59−191032号、特開昭60−808
41号に記載されたトリカルボシアニン類、特開昭59
−192242号、特開平3−67242号の一般式(I
IIa)、一般式(IIIb)に記載された4−キノリン核を
含有するジカルボシアニン類などが有利に選択される。
これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それらの組
合せを用いてもよく、増感色素の組合せは特に、強色増
感の目的でしばしば用いられる。増感色素とともに、そ
れ自身分光増感作用をもたない色素あるいは可視光を実
質的に吸収しない物質であって、強色増感を示す物質を
乳剤中に含んでもよい。有用な増感色素、強色増感を示
す色素の組合せ及び強色増感を示す物質はリサーチ・デ
ィスクロージャー(Research Disclosure) 176巻1
7643(1978年12月発行)第23頁IVのJ項に
記載されている。本発明の増感色素の含有量はハロゲン
化銀乳剤の粒子径、ハロゲン組成、化学増感の方法と程
度、該化合物を含有させる層とハロゲン化銀乳剤の関
係、カブリ防止化合物の種類などに応じて最適の量を選
択することが望ましく、その選択のための試験の方法は
当業者のよく知るところである。通常は好ましくはハロ
ゲン化銀1モル当り10-7モルないし1×10-2モル、
特に10-6ないし5×10-3モルの範囲で用いられる。
In the silver halide emulsion used in the present invention, various spectral sensitizing dyes can be used for the purpose of imparting desired spectral sensitivity. The dyes used include cyanine dyes, merocyanine dyes, complex cyanine dyes, complex merocyanine dyes, holopolar cyanine dyes, hemicyanine dyes, styryl dyes and hemioxonol dyes. Particularly useful dyes are those belonging to the cyanine dyes, merocyanine dyes, and complex merocyanine dyes. Useful sensitizing dyes used in the present invention are, for example,
RESEARCH DISCLOSURE Item 17643 IV-A item (Dec. 1978, p. 23) and Item 1831X item (Aug. 1978, p. 437) or cited therein. In particular, a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of various scanner light sources can be advantageously selected. For example, as for A) an argon laser light source, JP-A-60-162247 and JP-A-2-
No. 48653, US Pat. No. 2,161,331, West German Patent No. 936,071, and Japanese Patent Application No. 3-189532, the simple merocyanines, B) helium-neon laser light source are disclosed in JP-A-50-62425. Issue 54
For the trinuclear cyanine dyes shown in Nos. 18726 and 59-102229, C) LED light source and red semiconductor laser, Japanese Patent Publication Nos. 48-42172 and 51-9.
No. 609, 55-39818, JP-A-62-284
343, thiacarbocyanines described in JP-A-2-105135, and D) infrared semiconductor laser light source, JP-A-59-191032 and JP-A-60-808.
No. 41, tricarbocyanines, JP-A-59
-192242 and the general formula (I
IIa), dicarbocyanines containing a 4-quinoline nucleus described in the general formula (IIIb), etc. are advantageously selected.
These sensitizing dyes may be used alone or in combination, and the combination of sensitizing dyes is often used especially for the purpose of supersensitization. Along with the sensitizing dye, a dye having no spectral sensitizing effect itself or a substance that does not substantially absorb visible light and exhibits supersensitization may be included in the emulsion. Useful sensitizing dyes, combinations of dyes exhibiting supersensitization and substances exhibiting supersensitization are described in Research Disclosure 176 Vol.
7643 (issued in December 1978), page 23, IV, paragraph J. The content of the sensitizing dye of the present invention depends on the grain size of the silver halide emulsion, the halogen composition, the method and degree of chemical sensitization, the relationship between the layer containing the compound and the silver halide emulsion, the type of antifoggant compound, and the like. It is desirable to select the optimum amount accordingly, and the test method for the selection is well known to those skilled in the art. Usually, preferably 10 -7 to 1 × 10 -2 mol per mol of silver halide,
In particular, it is used in the range of 10 −6 to 5 × 10 −3 mol.

【0098】写真乳剤の結合剤あるいは保護コロイドと
しては、ゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外
の親水性コロイドも用いることができる。例えばゼラチ
ン誘導体、ゼラチンと他の高分子とのグラフトポリマ
ー、アルブミン、カゼイン等の蛋白質、ヒドロキシエチ
ルセルロース、カルボキシメチルセルロース、セルロー
ス硫酸エステルのごときセルロース誘導体、アルギン酸
ソーダ、澱粉誘導体等の糖誘導体、ポリビニルアルコ−
ル、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリル
アミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルブチラー
ル等の単一あるいは共重合体のごとき多種の合成親水性
高分子物質を用いることができる。ゼラチンとしては石
灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラチンを用いてもよ
く、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵素分解物も用いる
ことができる。
As the binder or protective colloid for the photographic emulsion, it is advantageous to use gelatin, but other hydrophilic colloids can also be used. For example, gelatin derivatives, graft polymers of gelatin and other polymers, proteins such as albumin and casein, cellulose derivatives such as hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, cellulose sulfate, sugar derivatives such as sodium alginate and starch derivatives, polyvinyl alcohol-
A wide variety of synthetic hydrophilic polymeric substances such as single or copolymers of polyacrylic acid, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyacrylamide, polyvinyl imidazole, polyvinyl butyral and the like can be used. As the gelatin, acid-treated gelatin may be used in addition to lime-treated gelatin, and gelatin hydrolyzate and gelatin enzyme-decomposed product may also be used.

【0099】本発明の感光材料には、感光材料の製造工
程、保存中あるいは写真処理中のカブリを防止しあるい
は写真性能を安定化させる目的で、種々の化合物を含有
させることができる。すなわちアゾール類たとえばベン
ゾチアゾリウム塩、ニトロインダゾール類、クロロベン
ズイミダゾール類、ブロモベンズイミダゾール類、メル
カプトチアゾール類、メルカプトベンゾチアゾール類、
メルカプトチアジアゾール類、アミノトリアゾール類、
ベンゾチアゾール類、ニトロベンゾトリアゾール類、な
ど;メルカプトピリミジン類;メルカプトトリアジン
類;たとえばオキサゾリンチオンのようなチオケト化合
物;アザインデン類、たとえばトリアザインデン類、テ
トラアザインデン類(特に4−ヒドロキシ置換(1,
3,3a,7)テトラザインデン類)、ペンタアザイン
デン類など;ハイドロキノンおよびその誘導体;ジスル
フィド類、たとえばチオクト酸;ベンゼンチオスルフォ
ン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼンスルフォン酸ア
ミド等のようなカブリ防止剤または安定剤として知られ
た多くの化合物を加えることができる。これらのものの
中で、好ましいのはベンゾトリアゾール類(例えば、5
−メチル−ベンゾトリアゾール)及びニトロインダゾー
ル類(例えば5−ニトロインダゾール)である。また、
これらの化合物を処理液に含有させてもよい。
The light-sensitive material of the present invention may contain various compounds for the purpose of preventing fog during the production process of the light-sensitive material, storage during storage or photographic processing or stabilizing photographic performance. That is, azoles such as benzothiazolium salts, nitroindazoles, chlorobenzimidazoles, bromobenzimidazoles, mercaptothiazoles, mercaptobenzothiazoles,
Mercaptothiadiazoles, aminotriazoles,
Benzothiazoles, nitrobenzotriazoles, etc .; mercaptopyrimidines; mercaptotriazines; thioketo compounds such as oxazolinethione; azaindenes, such as triazaindenes, tetraazaindenes (especially 4-hydroxy-substituted (1,
3,3a, 7) Tetrazaindenes), pentaazaindenes, etc .; Hydroquinone and its derivatives; Disulfides, such as thioctic acid; Antifoggants such as benzenethiosulfonic acid, benzenesulfinic acid, benzenesulfonic acid amide, etc. Alternatively, many compounds known as stabilizers can be added. Among these, preferred are benzotriazoles (eg, 5
-Methyl-benzotriazole) and nitroindazoles (eg 5-nitroindazole). Also,
These compounds may be contained in the treatment liquid.

【0100】本発明の感光材料に用いられる各種添加剤
等に関しては、特に制限は無く、例えば下記に示す該当
箇所に記載された物を好ましく用いることが出来る。 項 目 該 当 箇 所 1)造核促進剤 特願平4−237366号に記載の一般式(I)、 (II)、(III) 、(IV)、(V)、(VI)の化合物。 特開平2−103536号公報第9頁右上欄13行 目から同第16頁左上欄10行目の一般式(II−m) ないし(II−p)および化合物II−1ないしII−22 、特開平1−179939号公報に記載の化合物。 2)界面活性剤 特開平2−12236号公報第9頁右上欄7行目から 帯電防止剤 同右下欄7行目及び特開平2−18542号公報第2 頁左下欄13行目から同第4頁右下欄18行目。 3)カブリ防止剤 特開平2−103536号公報第17頁右下欄19行 安定剤 目から同第18頁右上欄4行目及び同右下欄1行目か ら5行目。さらに特開平1−237538号公報に記 載のチオスルフィン酸化合物。 4)ポリマーラテックス 特開平2−103536号公報第18頁左下欄12 行目から同20行目。 5)酸基を有する化合物 特開平2−103536号公報第8頁右下欄5行目か ら同第19頁左上欄1行目及び同2−55349号公 報第8頁右下欄13行目から同第11頁左上欄8行目 。 6)マット剤、滑り剤、 特開平2−103536号第19頁左上欄15行目 可塑剤 から同第19頁右上欄15行目。 7)硬膜剤 特開平2−103536号公報第18頁右上欄5行目 から同17行目。 8)染料 特開平2−103536号公報第17頁右下欄1行目 から同18行目、同2−39042号公報第4頁右上 欄1行目から第6頁右上欄5行目。さらに特開平2− 294638号公報および特願平3−185773号 に記載の固体染料。 9)バインダー 特開平2−18542号公報第3頁右下欄1行目から 20行目。 10)黒ポツ防止剤 米国特許第4,956,257号および特開平1−1 18832号公報に記載の化合物。 11)レドックス化合物 特開平2−301743号公報の一般式(I)で表さ れる化合物(特に化合物例1ないし50)、同3−1 74143号公報第3頁ないし第20頁に記載の一般 式(R−1)、(R−2)、(R−3)、化合物例1 ないし75、さらに特願平3−69466号、同3− 15648号に記載の化合物。 12)モノメチン化合物 特開平2−287532号公報記載の一般式(II)の 化合物(特に化合物例II−1ないしII−26)。 13)ヒドロロキシベン 特開平3−39948号公報第11頁左上欄から第1 ゼン類 2頁左下欄の記載、およびEP452,772A号公 報に記載の化合物。
There are no particular restrictions on the various additives and the like used in the light-sensitive material of the present invention, and for example, those described in the following relevant parts can be preferably used. Item This section 1) Nucleation accelerator A compound represented by the general formula (I), (II), (III), (IV), (V) or (VI) described in Japanese Patent Application No. 4-237366. JP-A-2-103536, page 9, upper right column, line 13 to page 16, upper left column, line 10 from general formulas (II-m) to (II-p) and compounds II-1 to II-22, The compounds described in Kaihei 1-179939. 2) Surfactant JP-A-2-12236, page 9, right upper column, line 7 to antistatic agent, right lower column, line 7 and JP-A-2-18542, page 2, left lower column, line 13 to 4 Lower right column, line 18 3) Antifoggant JP-A-2-103536, page 17, lower right column, line 19 Stabilizer, page 18 to upper right column, line 4 and lower right column, line 1 to line 5 Furthermore, the thiosulfinic acid compounds described in JP-A-1-237538. 4) Polymer latex JP-A-2-103536, page 18, lower left column, lines 12 to 20. 5) Compounds having an acid group JP-A-2-103536, page 8, lower right column, line 5 to page 19, upper left column, line 1 and JP-A 2-55349, page 8, lower right column, line 13 From page 11, page 11, upper left column, line 8. 6) Matting agent, slipping agent, JP-A-2-103536, page 19, upper left column, line 15 Plasticizer to page 19, upper right column, line 15 7) Hardener JP-A-2-103536, page 18, upper right column, line 5 to line 17 8) Dyes, JP-A-2-103536, page 17, lower right column, line 1 to line 18, and JP-A-2-39042, page 4, upper right column, column 1 line to page 6, upper right column, line 5. Further, the solid dyes described in JP-A-2-294638 and Japanese Patent Application No. 3-185773. 9) Binder JP-A-2-18542, page 3, lower right column, lines 1 to 20. 10) Black spot preventing agent Compounds described in U.S. Pat. No. 4,956,257 and JP-A No. 1-118832. 11) Redox compounds Compounds represented by formula (I) in JP-A-2-301743 (particularly compound examples 1 to 50), and general formulas described in pages 3 to 20 of JP-A 3-1 74143. (R-1), (R-2), (R-3), compound examples 1 to 75, and compounds described in Japanese Patent Application Nos. 3-69466 and 3-15648. 12) Monomethine compounds Compounds of general formula (II) described in JP-A-2-287532 (particularly compound examples II-1 to II-26). 13) Hydroxybenes Compounds described in JP-A-3-39948, page 11, upper left column to page 1, zens, page 2, lower left column, and EP 452,772A.

【0101】本発明のハロゲン化銀写真感光材料を現像
処理する現像液には、従来のヒドラジン造核伝染現像効
果を利用した感光材料を処理する際に用いているpH1
1.0以上の現像液を用いる必要はなく、pH9.6以
上11.0以下の安定な現像液を好ましく用いることが
出来る。
The developer for developing the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention has a pH of 1 which is used when processing a conventional light-sensitive material utilizing the hydrazine nucleation infectious development effect.
It is not necessary to use a developing solution of 1.0 or more, and a stable developing solution having a pH of 9.6 or more and 11.0 or less can be preferably used.

【0102】[0102]

【実施例】以下に実施例により本発明を詳しく説明す
る。 実施例1 <ハロゲン化銀感光材料の調製> 乳剤調製 以下の方法で乳剤を調製した。 [乳剤A]硝酸銀水溶液と、臭化カリウムと塩化ナトリ
ウムと銀1モルあたり3.5 ×10-7モルに相当するK3IrCl
6 と2.0 ×10-7モルに相当するK2Rh(H2O)Cl5を含むハロ
ゲン塩水溶液を、塩化ナトリウムと、1,3−ジメチル
−2−イミダゾリジンチオンを含有するゼラチン水溶液
に、攪拌しながらダブルジェット法により添加し、平均
粒子サイズ0.25μm、塩化銀含有率70モル%の塩臭化銀
粒子を調製した。
EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to examples. Example 1 <Preparation of silver halide light-sensitive material> Emulsion preparation An emulsion was prepared by the following method. [Emulsion A] Aqueous silver nitrate solution, potassium bromide, sodium chloride, and K 3 IrCl corresponding to 3.5 × 10 -7 mol per mol of silver
6 and 2.0 × 10 -7 mols of an aqueous solution of a halogen salt containing K 2 Rh (H 2 O) Cl 5 equivalent to a mixture of sodium chloride and an aqueous gelatin solution containing 1,3-dimethyl-2-imidazolidinethione was stirred. While being added by the double jet method, silver chlorobromide grains having an average grain size of 0.25 μm and a silver chloride content of 70 mol% were prepared.

【0103】その後、常法に従ってフロキュレーション
法により水洗し、銀1モルあたりゼラチン40gを加
え、さらに銀1モルあたりベンゼンチオスルホン酸ナト
リウム7mgとベンゼンスルフィン酸2mgを加えた
後、pH6.0、pAg7.5に調整し、銀1モル当た
り2mgのチオ硫酸ナトリウムおよび4mgの塩化金酸
を加えて60゜Cで最適感度になるように化学増感し
た。その後、安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル
−1,3,3a,7−テトラザインデン150mgを加
え、さらに防腐剤としてプロキセル100mgを加え
た。得られた粒子は平均粒子サイズ0.25μm、塩化
銀含有率70モル%の塩臭化銀立方体粒子であった。
(変動係数10%)
After that, the product was washed with flocculation according to a conventional method, 40 g of gelatin was added per 1 mol of silver, 7 mg of sodium benzenethiosulfonate and 2 mg of benzenesulfinic acid were added per 1 mol of silver, and the pH was adjusted to 6.0. The pAg was adjusted to 7.5, and 2 mg of sodium thiosulfate and 4 mg of chloroauric acid were added per 1 mol of silver, and chemical sensitization was performed at 60 ° C. to obtain optimum sensitivity. Thereafter, 150 mg of 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene was added as a stabilizer, and 100 mg of proxel was added as a preservative. The obtained grains were silver chlorobromide cubic grains having an average grain size of 0.25 μm and a silver chloride content of 70 mol%.
(Variation coefficient 10%)

【0104】<塗布試料の作成>塩化ビニリデンを含む
防湿層下塗りを有するポリエチレンテレフタレートフィ
ルム支持体上に、支持体側から順次、UL層、EM層、
PC層、OC層の層構成になるよう塗布し、試料を作成
した。以下に各層の調製法および塗布量を示す。 (UL)UL層として、ゼラチンを0.5g/m2 、ポ
リエチルアクリレートの分散物を150mg/m2 塗布
した。
<Preparation of Coating Sample> On a polyethylene terephthalate film support having a moisture-proof layer undercoat containing vinylidene chloride, a UL layer, an EM layer, and a support layer were sequentially formed from the support side.
A sample was prepared by coating so as to have a PC layer and an OC layer. The preparation method and coating amount of each layer are shown below. As the (UL) UL layer, 0.5 g / m 2 of gelatin and 150 mg / m 2 of a dispersion of polyethyl acrylate were applied.

【0105】(EM)上記乳剤に、増感色素として下記
化合物S−1を銀1モルあたり5×10-4モル、S−2
を5×10-4モル加え、さらに銀1モルあたり3×10
-4モルの下記(a)で示されるメルカプト化合物、4×
10-4モルの(b)で示されるメルカプト化合物、4×
10-4モルの(c)で示されるトリアジン化合物、2×
10-3モルの5−クロル−8−ヒドロキシキノリンを加
え、ヒドラジン造核剤として下記化合物H−1を4×1
-4モル添加し、さらに本発明のオニウム塩化合物およ
び本発明のテトラアザインデン化合物を表1に示すよう
に添加した。さらに、ハイドロキノン100mg、N−
オレイル−N−メチルタウリンナトリウム塩を30mg
/m2 と(d)で示される化合物を20mg/m2 塗布
されるように添加し、(e)で示される水溶性ラテック
スを200mg/m2 、ポリエチルアクリレートの分散
物を200mg/m2 、メチルアクリレートと2−アク
リルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム
塩と2−アセトアセトキシエチルメタクリレートのラテ
ックス共重合体(重量比88:5:7)を200mg/
2、平均粒径0.02μmのコロイダルシリカを20
0mg/m2 、さらに硬膜剤として1,3−ジビニルス
ルホニル−2−プロパノールを200mg/m2 を加え
た。溶液のpHは酢酸を用いて5.6に調製した。それ
らを塗布銀量3.6g/m2 になるように塗布した。
(EM) The following compound S-1 as a sensitizing dye was added to the above emulsion in an amount of 5 × 10 -4 mol per mol of silver and S-2.
5 × 10 −4 mol, and further 3 × 10 per mol of silver
-4 mol of mercapto compound represented by the following (a), 4x
10 −4 mol of the mercapto compound represented by (b), 4 ×
10 −4 mol of the triazine compound represented by (c), 2 ×
10 −3 mol of 5-chloro-8-hydroxyquinoline was added, and 4 × 1 of the following compound H-1 was used as a hydrazine nucleating agent.
0 -4 mol was added, and the onium salt compound of the present invention and the tetraazaindene compound of the present invention were added as shown in Table 1. Furthermore, hydroquinone 100 mg, N-
30 mg of oleyl-N-methyltaurine sodium salt
/ M 2 and the compound represented by (d) are added so as to be coated by 20 mg / m 2 , the water-soluble latex represented by (e) is 200 mg / m 2 , and the dispersion of polyethyl acrylate is 200 mg / m 2. , 200 mg / l of a latex copolymer of methyl acrylate, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid sodium salt, and 2-acetoacetoxyethyl methacrylate (weight ratio 88: 5: 7).
20 m 2 of colloidal silica with an average particle size of 0.02 μm
0 mg / m 2 , and 200 mg / m 2 of 1,3-divinylsulfonyl-2-propanol was added as a hardening agent. The pH of the solution was adjusted to 5.6 with acetic acid. They were coated so that the coated silver amount was 3.6 g / m 2 .

【0106】(PC)ゼラチン0.5g/m2 、ポリエ
チルアクリレートの分散物250mg/m2、エチルス
ルホン酸ナトリウムを5mg/m2 、1,5−ジヒドロ
キシ−2−ベンズアルドキシムを10mg/m2 塗布し
た。 (OC)ゼラチン0.5g/m2 、平均粒子サイズ約
3.5μmの不定形なSiO2 マット剤40mg/
2 、平均粒径0.02μmのコロイダルシリカ100
mg/m2 、メタノールシリカ100mg/m2 、ポリ
アクリルアミド100mg/m2 とシリコーンオイル2
0mg/m2 および塗布助剤として下記構造式(f)で
示されるフッ素界面活性剤5mg/m2 とドデシルベン
ゼンスルホン酸ナトリウム100mg/m2 を塗布し
た。
(PC) Gelatin 0.5 g / m 2 , polyethyl acrylate dispersion 250 mg / m 2 , sodium ethylsulfonate 5 mg / m 2 , 1,5-dihydroxy-2-benzaldoxime 10 mg / m 2. 2 applied. (OC) Gelatin 0.5 g / m 2 , amorphous SiO 2 matting agent having an average particle size of about 3.5 μm 40 mg /
m 2 and colloidal silica 100 having an average particle size of 0.02 μm
mg / m 2 , methanol silica 100 mg / m 2 , polyacrylamide 100 mg / m 2 and silicone oil 2
0 mg / m 2 and 5 mg / m 2 of a fluorosurfactant represented by the following structural formula (f) as a coating aid and 100 mg / m 2 of sodium dodecylbenzenesulfonate were coated.

【0107】[0107]

【化44】 [Chemical 44]

【0108】これらの塗布試料は下記組成のバック層お
よびバック保護層を有する。 [バック層処方] ゼラチン 3g/m2 ラテックス ポリエチルアクリレート 2g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 40mg/m2 化合物[a] 110mg/m2
These coated samples have a back layer and a back protective layer having the following compositions. [Back layer formulation] Gelatin 3 g / m 2 latex Polyethyl acrylate 2 g / m 2 Surfactant sodium p-dodecylbenzenesulfonate 40 mg / m 2 Compound [a] 110 mg / m 2

【0109】[0109]

【化45】 [Chemical formula 45]

【0110】 SnO2 /Sb(重量比90/10、平均粒径0.20μm) 200mg/m2 染料 染料[a]、染料[b]、染料[c]の混合物 染料[a] 70mg/m2 染料[b] 70mg/m2 染料[c] 90mg/m2 SnO 2 / Sb (weight ratio 90/10, average particle size 0.20 μm) 200 mg / m 2 dye Mixture of dye [a], dye [b], dye [c] Dye [a] 70 mg / m 2 dye [B] 70 mg / m 2 dye [c] 90 mg / m 2

【0111】[0111]

【化46】 [Chemical formula 46]

【0112】 [バック保護層] ゼラチン 0.8mg/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4.5μm) 30mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 15mg/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 15mg/m2 酢酸ナトリウム 40mg/m2 [Back protective layer] Gelatin 0.8 mg / m 2 polymethylmethacrylate fine particles (average particle size 4.5 μm) 30 mg / m 2 Dihexyl-α-sulfosuccinate sodium salt 15 mg / m 2 p-dodecylbenzenesulfonic acid Sodium 15 mg / m 2 Sodium acetate 40 mg / m 2

【0113】[0113]

【表1】 [Table 1]

【0114】<露光、現像処理> (1)写真性能の評価 上記の試料を488nmにピークを持つ干渉フィルター
を介し、ステップウェッジを通して発光時間10-5se
cのキセノンフラッシュ光で露光し、富士フイルム株式
会社製FG−680AG自動現像機を用いて、現像(3
5℃ 30秒)、定着、水洗、乾燥処理を行った。現像
液、定着液としては下記組成の現像液および定着液を用
いた。
<Exposure and development> (1) Evaluation of photographic performance The above sample was passed through an interference filter having a peak at 488 nm and passed through a step wedge to emit light for 10 -5 se.
It is exposed with a xenon flash light of c, and developed (3) using an FG-680AG automatic developing machine manufactured by FUJIFILM Corporation.
5 ° C. for 30 seconds), fixing, washing with water, and drying. As the developing solution and the fixing solution, the developing solution and the fixing solution having the following compositions were used.

【0115】現像液処方 現像液1 水酸化カリウム 35.0 g ジエチレントリアミン−五酢酸 2.0 g メタ重硫酸カリウム 40.0 g 炭酸カリウム 12.0 g 臭化カリウム 3.0 g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.06g 2,3,5,6,7,8−ヘキサヒドロ−2−チオキソ −4−(1H)−キナゾリノン 0.04g 2−メルカプトベンツイミダゾール −5−スルホン酸ナトリウム 0.15g ハイドロキノン 25.0 g 4−ヒドロキシメチル−4−メチル−1−フェニル −3−ピラゾリドン 0.45g エリソルビン酸ナトリウム 3.0 g 水酸化カリウムを加え、水を加えて1リットルとし、 pHを10.5に合わせる。 1リットルDeveloper Formulation Developer 1 Potassium hydroxide 35.0 g Diethylenetriamine-pentaacetic acid 2.0 g Potassium metabisulfate 40.0 g Potassium carbonate 12.0 g Potassium bromide 3.0 g 5-Methylbenzotriazole 0.06 g 2,3,5,6,7,8-hexahydro-2-thioxo-4- (1H) -quinazolinone 0.04 g 2-mercaptobenzimidazole-5-sodium sulfonate 0.15 g hydroquinone 25.0 g 4-Hydroxymethyl-4-methyl-1-phenyl-3-pyrazolidone 0.45 g Sodium erythorbate 3.0 g Potassium hydroxide is added, water is added to 1 liter and the pH is adjusted to 10.5. 1 liter

【0116】定着液処方 濃縮液 チオ硫酸アンモニウム 359.1 g エチレンジアミン四酢酸 2Na 2水塩 2.26g チオ硫酸ナトリウム 5水塩 32.8 g 亜硫酸ナトリウム 75.0 g NaOH(純分で) 37.2 g 氷酢酸 87.3 g 酒石酸 8.76g グルコン酸ナトリウム 6.6 g 硫酸アルミニウム 25.3 g 硫酸または水酸化ナトリウムを加えてpHを5.05に
調整し、水を加えて1リットルとする濃縮液1リットル
に水2リットルを加えて使用する。
Fixing solution formulation Concentrating solution Ammonium thiosulfate 359.1 g Ethylenediaminetetraacetic acid 2Na dihydrate 2.26 g Sodium thiosulfate pentahydrate 32.8 g Sodium sulfite 75.0 g NaOH (pure content) 37.2 g Glacial acetic acid 87.3 g Tartaric acid 8.76 g Sodium gluconate 6.6 g Aluminum sulfate 25.3 g Add sulfuric acid or sodium hydroxide to adjust the pH to 5.05, and add water to make 1 liter concentrate. Use 1 liter with 2 liters of water.

【0117】感度は濃度1.5を与える露光量の逆数の
相対値で示し、値が大きいほど高感になるようにとっ
た。画像のコントラストを表す指標(γ)としては、特
性曲線のfog+濃度0.3の点からfog+濃度3.
0の点を直線で結び、この直線の傾きをγ値として表し
た。すなわち、γ=(3.0−0.3)/[log(濃
度3.0を与える露光量)−log(濃度0.3を与え
る露光量)]であり、γ値は大きいほど硬調な写真特性
であることを示している。 (2)黒ポツの評価 黒ポツは素現部分を顕微鏡観察により5段階に評価した
もので「5」が黒ポツの発生がなく最も良好なレベルを
表し、「1」が黒ポツの発生が著しく、も悪い品質を表
す。「3」は黒ポツの発生が実用的に許容できる限度レ
ベルである。
The sensitivity is indicated by the relative value of the reciprocal of the exposure amount that gives a density of 1.5, and the higher the value, the higher the sensitivity. As an index (γ) representing the contrast of the image, fog + density of 3.
The point of 0 was connected by a straight line, and the slope of this straight line was expressed as a γ value. That is, γ = (3.0-0.3) / [log (exposure amount that gives a density of 3.0) -log (exposure amount that gives a density of 0.3)], and the higher the γ value, the harder the image. It shows that it is a characteristic. (2) Evaluation of black spots The black spots were evaluated by microscopic observation of the actual spots. “5” indicates the best level without black spots, and “1” indicates the occurrence of black spots. Remarkably and also represents poor quality. “3” is the limit level at which the generation of black spots is practically acceptable.

【0118】(3)PDM 、PDS (実技濃度) ここで実技濃度とは、上記試料にマグナスキャンM65
6(クロスフィールド社製)を用いて500lpiのテ
ストパターンを出力し、テストパターンの50%網点が
試料上に50%に仕上がる露光量(電流値)でのベタ濃
度を実技濃度PDM とした。またSG−757(大日本
スクリーン株式会社製)を用いて490lpiのテスト
パターンを出力し、テストパターンの50%網点が試料
上に50%に仕上がる露光量(電流値)でのベタ濃度を
実技濃度PDS とした。
(3) PDM, PDS (actual concentration) Here, the actual concentration means Magnascan M65 for the above sample.
6 (manufactured by Crossfield) was used to output a 500 lpi test pattern, and the solid density at the exposure amount (current value) at which 50% halftone dots of the test pattern were 50% on the sample was defined as the practical density PD M. . In addition, SG-757 (manufactured by Dainippon Screen Co., Ltd.) was used to output a 490 lpi test pattern, and the solid density at the exposure amount (current value) at which 50% halftone dots of the test pattern were 50% finished on the sample was practically used. The concentration was PD S.

【0119】(4)処理安定性の評価 下記処方の現像液2から4を用いた以外は(1)の写真
性評価と同様にして処理し、評価した。
(4) Evaluation of processing stability Processing was carried out and evaluated in the same manner as in (1) Evaluation of photographic property except that the developing solutions 2 to 4 having the following formulations were used.

【0120】現像液2 水酸化カリウム 35.0 g ジエチレントリアミン−五酢酸 2.0 g メタ重硫酸カリウム 40.0 g 炭酸カリウム 40.0 g 臭化カリウム 3.0 g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.08g 2,3,5,6,7,8−ヘキサヒドロ−2−チオキソ −4−(1H)−キナゾリノン 0.04g 2−メルカプトベンツイミダゾール −5−スルホン酸ナトリウム 0.15g ハイドロキノン 25.0 g 4−ヒドロキシメチル−4−メチル−1−フェニル −3−ピラゾリドン 0.45g エリソルビン酸ナトリウム 3.0 g ジエチレングリコール 20.0 g 水酸化カリウムを加え、水を加えて1リットルとし、 pHを10.45に合わせる。 1リットル 現像液3 現像液1を用い、黒化率80%の各試料を1日あたり5
0m2 処理し、1m2あたり300mlの現像液2を補
充しながら5日ランニングし、現像液3を作った。 現像液4 現像液1を用い、黒化率20%の各試料を1日あたり5
2 処理し、1m2 あたり300mlの現像液2を補充
しながら28日ランニングし、現像液4を作った。
Developer 2 Potassium hydroxide 35.0 g Diethylenetriamine-pentaacetic acid 2.0 g Potassium metabisulfate 40.0 g Potassium carbonate 40.0 g Potassium bromide 3.0 g 5-Methylbenzotriazole 0.08 g 2,3,5,6,7,8-Hexahydro-2-thioxo-4- (1H) -quinazolinone 0.04 g 2-mercaptobenzimidazole-5-sodium sulfonate 0.15 g hydroquinone 25.0 g 4-hydroxy Methyl-4-methyl-1-phenyl-3-pyrazolidone 0.45 g Sodium erythorbate 3.0 g Diethylene glycol 20.0 g Potassium hydroxide is added, water is added to 1 liter and the pH is adjusted to 10.45. 1 liter Developer 3 Developer 1 with 5% of each sample with a blackening rate of 80%
0 m 2 treatment was performed, and running for 5 days while replenishing 300 ml of developer 2 per 1 m 2 , a developer 3 was prepared. Developing solution 4 Using developing solution 1, each sample with a blackening rate of 20% is 5
m 2 treatment and running for 28 days while replenishing 300 ml of developer 2 per 1 m 2 to prepare developer 4.

【0121】結果を表1および表2に示す。本発明の試
料が硬調で黒ポツの発生が少なく、かつランニング後の
写真性能の変化が小さく、黒ポツの悪化が小さいことが
理解される。
The results are shown in Tables 1 and 2. It is understood that the sample of the present invention has high contrast, little black spots are generated, the change in photographic performance after running is small, and deterioration of black spots is small.

【0122】[0122]

【表2】 [Table 2]

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀
乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、該
ハロゲン化銀乳剤層もしくは他の親水性コロイド層の少
なくとも一層中にヒドラジン誘導体の少なくとも一種
と、下記一般式(I)、(II)、(III) あるいは(IV)
で表されるオニウム塩化合物を少なくとも一種を含有
し、かつ該乳剤層あるいは他の親水性コロイド層中に下
記一般式(V)あるいは(VI)で表される化合物を含有
することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 【化1】 式中、R1 、R2 、R3 は、アルキル基、シクロアルキ
ル基、アリール基、アルケニル基、シクロアルケニル
基、ヘテロ環残基を表わし、これらは更に置換基を有し
ていてもよい。mは1ないし4の整数を表わし、LはP
原子とその炭素原子で結合するm価の有機基を表わし、
nは1ないし3の整数を表わし、Xはn価の陰イオンを
表わし、XはLと連結してもよい。 【化2】 式中、Aはヘテロ環を完成させるための有機基を表す。
B、Cはそれぞれ2価の基を表す。R1 、R2 は各々ア
ルキル基またはアリール基を表し、R3 、R4は水素原
子または置換基を表す。R5 はアルキル基を表す。Xは
アニオン基を表すが、分子内塩の場合はXは必要ない。
一般式(V) 【化3】 式中、R1 はハロゲン原子、−CN、−COOR、−C
ONH2 、−CONHR、−CONR2 、−SO2 R、
−SO2 NH2 、−SO2 NHRまたは−SO2 NR2
を表す。R2 は水素原子、アルキル基、アリール基、−
OR、−SRまたは−SeRを表し、R3 は水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基またはアリール基を表す。ま
たRはアルキル基またはアリール基を表し、一般式
(V)の化合物が複数のRを含むときはそれぞれ同じで
あっても異なっていても良く、さらに−CONR2 およ
び−SO2 NR2 においては2つのRが結合して環状構
造を作っても良い。一般式(VI) 【化4】 式中、R4 、R6 は一般式(V)のR1 と同定義であ
り、同じであっても異なっていても良く、R5 、R7
一般式(V)のR3 と同定義であり、同じであっても異
なっていても良い。X1 、X2 は酸素原子、硫黄原子ま
たはセレン原子を表し、同じであっても異なっていても
良く、n、mは0または1を表す。Lは2価の有機酸を
表す。
1. A silver halide photographic light-sensitive material having at least one silver halide emulsion layer on a support, wherein at least one hydrazine derivative is present in at least one of said silver halide emulsion layer or other hydrophilic colloid layer. And the following general formula (I), (II), (III) or (IV)
Characterized by containing at least one onium salt compound represented by the formula (1), and containing the compound represented by the following general formula (V) or (VI) in the emulsion layer or another hydrophilic colloid layer. Silver halide photographic light-sensitive material. [Chemical 1] In the formula, R 1 , R 2 , and R 3 represent an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group, or a heterocyclic residue, which may further have a substituent. m is an integer of 1 to 4, L is P
Represents an m-valent organic group that is bonded to an atom and its carbon atom,
n represents an integer of 1 to 3, X represents an n-valent anion, and X may be linked to L. [Chemical 2] In the formula, A represents an organic group for completing the heterocycle.
B and C each represent a divalent group. R 1 and R 2 each represent an alkyl group or an aryl group, and R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom or a substituent. R 5 represents an alkyl group. X represents an anion group, but X is not necessary in the case of an inner salt.
General formula (V) In the formula, R 1 is a halogen atom, —CN, —COOR, —C
ONH 2, -CONHR, -CONR 2, -SO 2 R,
-SO 2 NH 2, -SO 2 NHR or -SO 2 NR 2
Represents R 2 is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group,
Represents OR, -SR or -SeR, R 3 is a hydrogen atom,
Represents a halogen atom, an alkyl group or an aryl group. R represents an alkyl group or an aryl group, and when the compound of the general formula (V) contains a plurality of Rs, they may be the same or different, and in —CONR 2 and —SO 2 NR 2 , Two Rs may combine to form a ring structure. General formula (VI) In the formula, R 4 and R 6 have the same definition as R 1 in the general formula (V), and may be the same or different, and R 5 and R 7 are the same as R 3 in the general formula (V). It is a definition and may be the same or different. X 1 and X 2 represent an oxygen atom, a sulfur atom or a selenium atom, and may be the same or different, and n and m represent 0 or 1. L represents a divalent organic acid.
【請求項2】該ハロゲン化銀乳剤粒子が塩化銀含有率5
0モル%以上であることを特徴とする請求項1に記載の
ハロゲン化銀写真感光材料。
2. The silver halide emulsion grains have a silver chloride content of 5
The silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1, wherein the content is 0 mol% or more.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6319660B1 (en) 1998-12-28 2001-11-20 Eastman Kodak Company Color photographic element containing speed improving compound
US6455242B1 (en) 1998-12-28 2002-09-24 Eastman Kodak Company Color photographic element containing speed improving compound

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