JPH06210468A - レーザマーキング装置および方法 - Google Patents

レーザマーキング装置および方法

Info

Publication number
JPH06210468A
JPH06210468A JP5312875A JP31287593A JPH06210468A JP H06210468 A JPH06210468 A JP H06210468A JP 5312875 A JP5312875 A JP 5312875A JP 31287593 A JP31287593 A JP 31287593A JP H06210468 A JPH06210468 A JP H06210468A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mirror
laser
work
moving
mask
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP5312875A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3224657B2 (ja
Inventor
Teiichiro Chiba
貞一郎 千葉
Kouji Yoshida
孝司 与四田
Kazuhiro Hayasaka
和寛 早坂
Masashi Ichihara
将志 市原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Komatsu Ltd
Original Assignee
Komatsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Komatsu Ltd filed Critical Komatsu Ltd
Priority to JP31287593A priority Critical patent/JP3224657B2/ja
Publication of JPH06210468A publication Critical patent/JPH06210468A/ja
Priority to KR1019960702623A priority patent/KR960705652A/ko
Priority to SG1996001801A priority patent/SG45237A1/en
Priority to US08/648,031 priority patent/US5801868A/en
Priority to EP95900305A priority patent/EP0729806A1/en
Priority to PCT/JP1994/001928 priority patent/WO1995013899A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3224657B2 publication Critical patent/JP3224657B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Duplication Or Marking (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ワークを逐次停止させることなく、連続的に
搬送させた状態でもレーザマーキングし、もって生産効
率を向上させる。 【構成】 レーザ発振器と、レーザ発振器からのレーザ
光を偏向しラスタ走査する第1偏向器と、第1偏向器か
らラスタ走査されるレーザ光を選択透過させる所定のパ
ターンが表示可能なマスクと、マスクの透過ラスタ走査
光を更に偏向してワーク表面に前記パターンをマーキン
グ照射する第2偏向器とを備えている。第2偏向器はマ
スクの透過レーザ光を反射するミラーと、該反射ミラー
からの反射レーザを受光しワークにマーキング照射する
移動レンズとを有し、移動レンズはワーク搬送速度に同
期移動する移動機構に搭載した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザマーキング装置
および方法に係り、移動している複数のマーキング対象
物に連続的にマーキングするための装置および方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】工場生産ラインで製造される金属、樹
脂、セラミック、ペーパ、布等のワーク上に、任意な文
字、記号、図形、模様等でなるパターンをマーキングす
る場合、従来から一般的にインクジェット方式が採用さ
れている。これは特開昭57−14981号公報に開示
されているものが知られており、搬送装置によってワー
クとインクジェットのノズルの相対位置を変えることに
よって記録する方式とされ、搬送装置とインクジェット
との連動が不可欠となっている。
【0003】しかるに、最近の半導体製品等のワーク小
型化に伴い、記録するマークも小さくかつ精密性が要求
されてきている。このため、インクジェット方式に代
り、レーザマーキング装置が着目されている。そしてこ
のようなレーザマーキング装置として好適なものに、レ
ーザ発振器からのレーザ光を偏向器によってマスク面へ
ラスタ走査させ、マスクを透過したレーザ光でワークの
表面にマーキングさせるものがある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記レーザ
マーキング装置は、マスクを透過したレーザ光をワーク
搬送ラインに向けて偏向するが、照射領域が固定されて
いるため、この照射領域に達したワークを一旦静止さ
せ、この静止ワーク表面に照射してマーキングする方式
となっている。このため、搬送ラインはワークへのマー
キング作業毎に停止する必要があり、生産性を妨げてい
る。
【0005】本発明は、上記従来の問題点に着目し、ワ
ークへのレーザマーキングに際し、マーキング対象のワ
ークを逐次停止させることなく、連続的に搬送させた状
態のままレーザマーキングを施すようにし、もって生産
効率を向上させることができるようにしたレーザマーキ
ング装置および方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係るレーザマーキング装置は、レーザ発振
器と、このレーザ発振器からのレーザ光を偏向しラスタ
走査する第1偏向器と、当該第1偏向器からラスタ走査
されるレーザ光を選択透過させる所定のパターンが表示
可能なマスクと、該マスクを透過したラスタ走査光を更
に偏向してワーク表面に前記パターンをマーキング照射
する第2偏向器とを備えたレーザマーキング装置におい
て、前記第2偏向器は前記マスクを透過したレーザ光を
反射するミラーと、当該ミラーからの反射レーザを受光
しワークにマーキング照射する移動レンズとを有し、移
動レンズはワーク搬送速度に同期移動する移動機構に搭
載したものである。この場合において、前記反射ミラー
はマスクを透過したレーザ光を直接反射する第1ミラー
と、この第1ミラーからの反射光を前記移動レンズに反
射させる第2ミラーとにより構成し、前記第1ミラーは
第2ミラーあるいは移動レンズに対して反射方向を切替
え可能とすることができる。また、前記反射ミラーを、
マスクを透過したレーザ光を直接反射するとともに平面
移動可能な移動ミラーと、この移動ミラーからの反射光
を前記移動レンズに反射させるとともに平面回転可能な
回転ミラーと、前記移動ミラーの位置移動により反射光
を受け前記回転ミラーに反射可能とされた固定ミラーと
により構成し、前記移動ミラーの位置移動により回転ミ
ラーあるいは固定ミラーに対して反射方向を切替え可能
としてもよい。また、前記反射ミラーは、移動台上に固
設された5つのミラー、即ち、マスクを透過したレーザ
光を直接反射する第1ミラー及びこの第1ミラーからの
反射光を前記移動レンズに反射させる第2ミラー、並び
に、前記第1ミラー同様にマスクを透過したレーザ光を
直接反射する第3ミラー、この第3ミラーからの反射光
を受光して反射する第4ミラー及びこの第4ミラーから
の反射光を前記移動レンズに反射させる第5ミラーから
なり、該移動台の移動位置により、マスクを透過したレ
ーザ光が第1ミラー又は第3ミラーへ入射することが切
替え可能としてもよい。更に、前記移動レンズを搭載す
る移動機構は直交2軸平面移動機構により形成され、そ
の1軸方向をワーク搬送方向に一致させるとともに、当
該軸方向の駆動手段をワーク搬送速度と同期駆動可能と
することができる。
【0007】また、本発明に係るレーザマーキング方法
は、レーザ発振器からのレーザ光を第1偏向器によりラ
スタ走査し、これを所定のパターンが表示可能なマスク
に照射してレーザ光を選択透過させた後、該マスクを透
過したラスタ走査光を更に第2偏向器により偏向してワ
ーク表面に前記パターンに応じたマーキング照射するレ
ーザマーキング方法において、前記第2偏向器における
ワーク照射レンズをワーク搬送方向に同期移動させつつ
ワークにレーザ光を照射してマーキングするように構成
した。前記第2偏向器は、マスクからワーク照射レンズ
までのレーザ光を少なくとも90度回転させてもよい。
例えば、前記第2偏向器はマスク透過光を前記ワーク照
射レンズに向けて偏向する可動ミラーを有するととも
に、この可動ミラーからの反射光を受ける固定ミラーを
設けてなり、可動ミラーの操作により反射光を固定ミラ
ー若しくはワーク照射レンズに切替え出射して前記パタ
ーンを回転可能とすればよい。
【0008】
【作用】上記構成によれば、第1偏向器によって得られ
たマスク情報を第2偏向器でより柔軟な平面位置決めが
でき、2次元平面内をワーク搬送する装置側を変更する
ことなく、搬送装置側に同期させてマスク情報レーザ光
を移動させることができる。これによってレーザマーキ
ング装置に自由度を多く持たせることができ、搬送装置
への負担が軽減されるので、より汎用性が高くなるとと
もに、マーキング作業に伴うワーク生産タクトタイムの
低下を防止することができる。
【0009】
【実施例】以下に本発明に係るレーザマーキング装置お
よび方法の具体的実施例を図面を参照して詳細に説明す
る。
【0010】図1は、実施例に係るレーザマーキング装
置の構成図である。このレーザマーキング装置は、レー
ザ光源となるYAGレーザ発振器1を有し、該YAGレ
ーザ発振器1からのレーザ光を光学レンズ2で集光させ
た後、XY方向に偏向してラスタ走査させる第1偏向器
3(3X、3Y)を備えている。該第1偏向器3の中間
部にはY方向偏向器3Yにより偏向されたレーザ光をX
方向偏向器3Xの反射面内の1点に集光させる光学系4
が配置されている。
【0011】第1偏向器3は、回転軸が互いに直交し、
かつ、離間して備えられたX方向偏向器なるポリゴンミ
ラー3Xと、Y方向偏向器なる回動操作ミラー3Yとか
らなる。本実施例のポリゴンミラー3Xは36面体であ
り、その回転は数段階の定速回転モードとしてあり、ワ
ーク毎に最適モードが選択される。つまり、ポリゴンミ
ラー3Xの一面は後述する液晶マスク上でのX方向の1
行に相当し、該ポリゴンミラー3Xの1回転でX方向の
36行分に相当する。他方、回動操作ミラー3Yは、レ
ーザ光の受光点が前記ポリゴンミラー3Xの回転によっ
て一面から次の面へ変わる間に、一微小角だけ回転した
のち停止するようになっている。本実施例では、回動操
作ミラー3Yは43段の等微小角で作動する。最後の4
3段目からは一挙に初め1段目の位置に戻るという逆回
転をする(中立位置を22段目とする方法もあるが、ラ
スタ走査開始位置に合わせて、本実施例では1段目を中
立位置としてある)。つまり、回動操作ミラー3Yの一
微小角は液晶マスクでのY方向への改行に相当し、該回
動操作ミラー3Yは、前記ポリゴンミラー3Xの一面へ
の光照射が終了する毎に一微小角だけ回転し、前記ポリ
ゴンミラー3Xの一面への光照射が終了するまではその
位置で停止している。
【0012】また、このような第1偏向器3にてラスタ
走査されるレーザ光を受光し、これを電気的に透過又は
散乱させるパターンを任意に表示できる液晶マスク6が
設けられており、これによって所望のマークパターンを
形成し得るようにしている。液晶マスク6は、いわゆる
透過分散形液晶マスクと呼ばれるものであり、例えば
「液晶と樹脂とからなる液晶樹脂複合体(特開平2年第
96714号参照)」がこれに相当する。この液晶マス
クは、無数の平行電極線が液晶表裏に、かつ、該表裏間
で互いに交差するように設けられており、電圧無印加部
の液晶はレーザ光散乱状態であるが、電圧印加部の液晶
はレーザ光透過状態となる液晶マスクである。そこでか
かる電気的特性を利用し、該電極に選択的に電圧を印加
し、所望のパターンを瞬時に画像化可能としている。こ
の液晶マスク6は、従来の液晶マスクと異なり、偏光板
が不要である。この結果、該液晶マスクを透過したレー
ザ光の強度は従来の液晶マスクと比較して2倍以上とな
る。本実施例ではこの液晶マスク6を縦横24ドットで
なるドットマトリクスで各分割パターンを表示してい
る。尚、この液晶マスクは、例えば72ドット×36ド
ットのほか、各種準備することができる。
【0013】上記液晶マスク6の出側には形成パターン
に対応して透過したレーザ光をマーキング対象のワーク
8の表面に向けて偏向するための第2偏向器9が設けら
れている。この第2偏向器9は液晶マスク6を透過した
レーザ光を直接反射する第1偏向ミラー10と、この第
1偏向ミラー10からの反射光を後述するレンズ群に向
けて反射させる第2偏向ミラー11とを有している。こ
の場合、前記第1偏向ミラー10は、前記レンズ群に対
して直接的に、又は第2偏向ミラー11を介して間接的
に反射方向を切替えることができるように構成され、こ
のため第1偏向ミラー10はミラー駆動モータ12によ
り回動可能とされている。そして、第2偏向ミラー11
は偏向方向をレンズ群側に向けた固定ミラーとして設置
されている。
【0014】このような第1偏向ミラー10から直接、
又は第2偏向ミラー11を介して偏向されたレーザ光を
受光するレンズ群が設けられているが、これはマーキン
グ対象のワーク8が搬送されるベルトコンベア等の搬送
装置14の上部に配置されている。このレンズ群からな
る光学系は搬送装置14の搬送面に沿って平面移動可能
に構成されたXYテーブル15に搭載されて平面移動可
能となっている。すなわち、この移動レンズ群は前記テ
ーブル面より上方に配置されてテーブル15と一体的に
移動する対物レンズ16と、この対物レンズ16と光軸
が一致するように配置されて前記テーブル15の貫通部
内に固定され、テーブル15の下面を通過するワーク8
にパターンマーキングをなすマーキングレンズ17とか
ら構成されている。前記対物レンズ16は、第1偏向ミ
ラー10又は第2偏向ミラー11からのレーザ光を受光
し結像画像の歪みを補正するためのものである。
【0015】したがって、移動レンズ16、17は直交
2軸平面移動機構とされたXYテーブル15とともに平
面移動可能とされているが、テーブル15の移動をなす
ため、該テーブル15には前記ワーク8の搬送方向に一
致するように駆動するY方向モータ18、およびこれに
直交する方向に駆動するX方向モータ19が設けられて
いる。これらのモータ18、19による合成駆動方向に
テーブル15が平面移動可能となる。
【0016】一方、前記ワーク搬送装置14における上
流側には搬送装置14上のワーク8の有無を検出するワ
ーク位置検知器20が設けられている。そして、上述し
た全ての駆動ユニットを統括制御する制御装置21が設
けられている。この制御装置21は、マーキングパター
ン信号を生成して液晶マスク6にパターンに対応するレ
ーザ光透過画像を形成させ、このような液晶マスク6面
にレーザ光をラスタ走査させるように第1偏向器3を駆
動する。そして、前記パターンのワーク8の表面へのマ
ーキング方向を設定するために第2偏向器9における第
1偏向ミラー10の偏向方向を決定させ、これに基づい
てミラー駆動モータ12を駆動する。また、ワーク搬送
装置14のワーク検知器20からの信号を入力し、XY
テーブル15上のワーク8がマーキング箇所に到達した
時点で搬送方向に沿って同期移動させるようにY方向モ
ータ18を起動し、ワーク8を搬送させた状態のままレ
ーザマーキングを行わせるのである。
【0017】このような制御装置21による制御フロー
を図2に示す。最初にワーク8上のマーキングパター
ン、範囲、および方向を設定する(ステップ101)。
マーキング方向に関しては、図3〜図4に示すように、
まず図3において、第1偏向ミラー10をミラー駆動モ
ータ12で傾斜させて偏向方向を下方移動レンズ16、
17に向けると、レーザ光Pはワーク8と垂直方向に偏
向される。その結果、ワーク8の表面に図示のパターン
がマーキングされる。次に、図4に示すように、ミラー
駆動モータ12で第1偏向ミラー10を垂直方向に立て
ると、レーザ光Pはワーク8と平行方向でかつ固定され
ている第2偏向ミラー11に入射するように偏向され
る。このとき、第2偏向ミラー11は下側に向けられて
おり、レーザ光Pはワーク8と垂直方向に偏向される。
その結果、図3に示したパターンに対して相対的に90
度回転した方向のパターンがワーク8の表面にマーキン
グされる。すなわち、第1又は第2偏向ミラー10、1
1の直下に搬送装置14によってワーク8を移動させる
ことにより、マーキングパターンの方向をミラー駆動モ
ータ12を制御するだけで任意に選択することができる
のである。
【0018】次いで、ワーク8の搬送速度を設定する
(ステップ102)。レーザマーキング装置によるマー
キング可能範囲が制限されるので、その範囲内で1つの
パターンをマーキングする必要がある。そのため、ワー
ク8を搬送する速度はマーキング範囲の大きさおよび方
向から決定される。
【0019】このような準備作業の後、搬送装置14の
駆動用モータを起動し(ステップ103)、レーザマー
キング装置のマーキング範囲内にワーク8が搬送されて
くるタイミングを知るために、搬送装置14に付帯した
ワーク位置検知器20で常時ワーク8の有無を検出して
いる(ステップ104)。もし、ワーク8が検知された
場合に次のステップに進む。
【0020】ワーク8が搬送装置14にて搬送され、ワ
ーク位置検知器20によってこれが検出されると、制御
装置21の内部タイマを起動し、ワーク位置検知器20
でワーク8の送り方向と垂直位置の検出を行う(ステッ
プ105)。そして、移動レンズ16、17をXYテー
ブル15の操作によってマーキング開始点に移動させる
(ステップ106)。マーキング開始点はワーク8の送
り方向がマーキング装置のマーキング可能範囲内の搬送
上流側へのストロークエンド、およびワーク送り方向と
直交する方向がステップ105で検知器20が検出した
位置である。
【0021】このように移動レンズ16、17をマーキ
ング開始位置に移動させた後、ワーク8が当該位置に搬
送されてくるまでの間は、待機状態となる(ステップ1
07)。この時間はワーク位置検知器20とマーキング
可能範囲までの距離、および搬送速度によって一律に決
定される。ワーク8がマーキング開始点に達した時か
ら、マーキングが開始される(ステップ108)。この
状態を図5に示している。ワーク8の搬送速度を一定に
保持しながら、マーキング位置を相対的に同期させて移
動させれば、ワーク8の表面に固定したパターンが刻印
される。このマーキング位置を同期させるのは、XYテ
ーブル15のY方向モータ18の役割で、図6に示して
いるように、レンズ16、17の移動とワーク8の搬送
速度を等しく保っている。この同期移動によって固定パ
ターンがマーキングされ、1つのワーク8に対するマー
キング作業を終了する(図7)。
【0022】1つのワーク8へのマーキング終了後は次
々に送られてくるワーク8に備えて搬送上流側にレンズ
16、17を移動させ(ステップ109)、ステップ1
04に戻って同様の作業を繰返す。これによりワーク8
の搬送を停止させることなく、連続したレーザマーキン
グを施すことができるのである。
【0023】このような実施例によれば、第2偏向器9
の作用により、搬送状態にあるワーク8の表面上に任意
のパターンをレーザマーキングすることができ、特に平
面の並進任意位置および回転2方向を選択して刻印する
ことが可能となる。特に、搬送装置14は送り方向に最
低1自由度を有するだけでよいため、搬送装置14を連
続的に稼働させながらマーキングができるので、搬送装
置14への負担がなくなって汎用性が増すとともに、ワ
ーク製造タクトタイムを短くして生産効率を向上させる
ことができる。
【0024】次に、図8に第2偏向器9の反射ミラーの
他の実施例を示す。上記実施例では刻印パターンを90
度平面回転させるのに第1偏向ミラー10と、第2偏向
ミラー11とを用いたが、図8に示すように、本実施例
は、回転ミラー25と、移動ミラー26と、固定ミラー
27とを用いている。先ず、レーザ光路を2つに分けて
説明する。第1光路は、液晶マスク6を透過したレーザ
光Pが移動ミラー26で反射し、この反射光が回転ミラ
ー25で反射し、この反射光が前記移動レンズ16、1
7へ照射される路である。第2光路は、前記第1光路に
おける回転ミラー25が回転し、かつ、移動レンズ26
が移動することにより、液晶マスク6を透過したレーザ
光Pが移動ミラー26で反射し、この反射光が固定ミラ
ー27で反射し、この反射光が回転ミラー25で反射
し、この反射光が前記移動レンズ16、17へ照射され
る光路である。第2光路は、第1光路中に固定ミラー2
7を介在させた構成であるが、このため、第1光路と第
2光路とにおける前記移動レンズ16、17へ照射光は
互いに90度回転したものとなる。
【0025】図8において、回転ミラー25は、入射方
向が移動ミラー26又は固定ミラー27となるように、
少なくとも90度平面回転可能となっている。尚、この
平面回転に係わらず、両入射光は共に前記移動レンズ1
6、17へ照射される(図の紙面と直交する方向)。固
定ミラー27は、反射先が回転ミラー25となるよう
に、固定されている。移動ミラー26は、反射先が回転
ミラー25又は固定ミラー27となるように、回転ミラ
ー25と固定ミラー27とを結ぶ線の平行線上を移動可
能となっている。
【0026】具体例を図9〜図12を参照し説明する。
図9及び図10は、第1光路を示す図であって、図10
は図9の側面図である。図11及び図12は、第2光路
を示す図であって、図12は図11の側面図である。回
転ミラー25の回転、移動ミラー26の移動及び固定ミ
ラー27の固定は、次の構成によって達成されている。
これらミラー25、26、27は基台24上に装着され
ている。回転ミラー25の外周は基台24の孔内に慴動
自在に嵌合されると共に、モータ28の歯車32に噛み
合う歯車32を備えている。従って、モータ28が正逆
回転すると、回転ミラー25も回動する。この回転ミラ
ー25は少なくとも90度回動するようになっている。
移動ミラー26は、回転ミラー25の回転中心と固定ミ
ラー27の反射面中心とを結ぶ線に平行して基台24に
固設されたレール29上を慴動自在なるように、設けら
れている。移動ミラー26のケース外周にはピン31が
設けられ、このピン31は、回転ミラー25のケース外
周に設けられた長孔内にガタ付かない程度で嵌合されて
いる。従って、移動ミラー26は、回転ミラー25がモ
ータ28により回動すると、ピン31が長孔の壁面から
推力を得て、回転ミラー25の回動に連動してレール2
9上を図示左右に移動する。さらに、移動ミラー26の
ケースには、2つの穴34、34がレール29に沿って
最適移動距離に相当する距離だけ離間して設けられてい
る。他方、基台24にも1つのピン36が固設されてお
り、移動ミラー26の両ストロークエンドにおいて、ピ
ン36が穴34に飛び込み、移動ミラー26を固定する
構成となっている。ピン36は、図示しないが、先端に
球がバネによって外側へ付勢されており、移動ミラー2
6のストロークエンドにおいて、球が穴34、34に飛
び込むようになっており、移動ミラーの位置決めロック
となっている。尚、回転ミラー25は、その回転中心部
にミラー251を備えている。このため、回転ミラー2
5が回動(本実施例では回転でなく回動である)して
も、移動レンズ26又は固定レンズ27からの入射光は
共に移動レンズ16、17へ照射される。すなわち、図
9及び図10に示される第1光路は、モータ28の回転
によって、回転ミラー25が90度回転し、これに連動
して移動ミーラ26が移動し、図11及び図12に示さ
れる配置となって第2光路を得るようになっている。
尚、本具体例ではただ1つのモータ28を用い、確実か
つ経済的に回転ミラー25と移動ミラー26とを連動さ
せた構成であるが、2つのモータをそれぞれに用いた
り、各ミラーにあっても、他の種類や形状を各種準備で
きることは言うまでもない。
【0027】次にさらに、第2偏向器9の反射ミラーの
その他の実施例なる具体例を、図13〜図16を参照し
て説明する。図13及び図14は、上記第1光路に相当
する図であって、図14は図13の側面図である。図1
5及び図16は、上記第2光路に相当する図であって、
図16は図15の側面図である。反射ミラーは、移動台
37上の5つの固設ミラー、即ち、マスクを透過したレ
ーザ光を直接反射する第1ミラー38及びこの第1ミラ
ーからの反射光を移動レンズ16、17へ照射する第2
ミラー39、並びに、第1ミラー38同様、マスクを透
過したレーザ光を直接反射する第3ミラー40、この第
3ミラー40からの反射光を受光して反射する第4ミラ
ー41及びこの第4ミラー41からの反射光を移動レン
ズ16、17へ照射する第5ミラー42からなり、該移
動台37の移動位置により、マスク6を透過したレーザ
光Pが第1ミラー38又は第3ミラー40へ入射するこ
とが切替え可能とされている。尚、図示上、第2ミラー
39及び第5ミラー42は、外観上、前記実施例の回転
ミラー25と同一形状をしているが、前記実施例の歯車
等を取り除いた回転ミラー25を転用しただけであっ
て、前記実施例のように、回転することはなく、上述の
ように、移動台37に固設されている。
【0028】移動台37は、基台45上に固設された平
行な2本のレール43上を慴動自在なるように、設けら
れている。尚、基台45の中央部には長孔451が設け
られており、第2ミラー39又は第5ミラー42から移
動レンズ16、17へレーザ光を照射可能としてある。
移動台37上には、上述の通り、第1〜第5ミラー38
〜42が固設されている。図示しないが、移動台37
は、直動空圧シリンダで基台45にピン結合されてお
り、これにより、図示左右に所定ストロークだけ移動可
能となっている。ストロークは位置決めロック44、4
4によって決定される。すなわち、図13では図示左側
の位置決めロック44により、移動台37は固定されて
いる。すなわち、第1ミラー38と第2ミラーとは、図
13及び図14に示すレーザ光路からも分かるように、
前記第1光路と実質同様の構成となっている。次にモー
タが回り、移動台37が図示右方向に移動し、図示右側
の位置決めロック44により固定されると、図15及び
図16に示される配置となる。すなわち、第3ミラー4
0と、第4ミラー41と、第5ミラー42とは、図15
及び図16に示すレーザ光路からも分かるように、前記
第2光路と実質同様の構成となっている。尚、本具体例
では移動台37の駆動源は直動空圧シリンダとしたが、
油圧シリンダ、ソレノイド、モータ、その他各種準備で
きる。また、上記において、第1光路から第2光路へ、
またその逆の光路変更では、ミラーが互いに1枚増減す
るため、ワーク面での結像が互いにに左右勝手違いとな
る。従って、上記光路変更では、予め液晶マスク6上の
画像を左右勝手違いに表示変更していることを補足説明
しておく。
【0029】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
特に第2偏向器はマスクを透過したレーザ光を反射する
ミラーと、このミラーからの反射レーザを受光しワーク
にマーキング照射する移動レンズとを有し、移動レンズ
はワーク搬送速度に同期移動する移動機構に搭載したも
のである。この場合において、前記反射ミラーはマスク
を透過したレーザ光を直接反射する第1ミラーと、この
第1ミラーからの反射光を移動レンズに反射させる第2
ミラーとからなり、第1ミラーは第2ミラー又は移動レ
ンズに対して反射方向を切替え可能とした構成、反射ミ
ラーは、移動ミラーと、この移動ミラーからの反射光を
移動レンズに反射させる回転ミラーと、移動ミラーの位
置移動により反射光を受け前記回転ミラーに反射可能と
された固定ミラーとからなり、移動ミラーの位置移動に
より回転ミラー又は固定ミラーに対して反射方向を切替
え可能とした構成、又は、反射ミラーは、移動台上に固
設された5つのミラー、即ち、マスクを透過したレーザ
光を直接反射する第1ミラー及びこの第1ミラーからの
反射光を前記移動レンズに反射させる第2ミラー、並び
に、前記第1ミラー同様にマスクを透過したレーザ光を
直接反射する第3ミラー、この第3ミラーからの反射光
を受光して反射する第4ミラー及びこの第4ミラーから
の反射光を前記移動レンズに反射させる第5ミラーから
なり、該移動台の移動位置により、マスクを透過したレ
ーザ光を第1ミラー又は第3ミラーに切替え可能とした
構成により、刻印画像を90度方向転換できる。
【0030】かかる構成において、さらにまた、移動レ
ンズを搭載する移動機構は、直交2軸平面移動機構によ
り形成され、その1軸方向をワーク搬送方向に一致させ
ると共に、当該軸方向の駆動手段をワーク搬送速度と同
期駆動可能とするように構成し、第2偏向器におけるワ
ーク照射レンズをワーク搬送方向に同期移動させつつワ
ークにレーザ光を照射してマーキングさせるようにした
ので、ワークへのレーザマーキングを行うに際し、マー
キング対象のワークを逐次停止させることなく、連続的
に搬送させた状態でもレーザマーキングを施すように
し、もって生産効率を向上させることができるという優
れた効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例に係るレーザマーキング装置の構成図で
ある。
【図2】同装置の操作フローチャートである。
【図3】第2偏向器の第1偏向ミラーを直接移動レンズ
に偏向させた状態の説明図である。
【図4】第2偏向器の第1偏向ミラーを第2偏向ミラー
を介して移動レンズに偏向させた状態の説明図である。
【図5】マーキング開始状態の説明図である。
【図6】移動レンズを搬送装置と同期させた状態の説明
図である。
【図7】マーキング終了状態の説明図である。
【図8】第2偏向器の反射ミラーの変形例を示す平面図
である。
【図9】第2偏向器の反射ミラーの平面図である。
【図10】図9の側面図である。
【図11】第2偏向器の反射ミラーの平面図である。
【図12】図11の側面図である。
【図13】第2偏向器の反射ミラーの平面図である。
【図14】図13の側面図である。
【図15】第2偏向器の反射ミラーの平面図である。
【図16】図15の側面図である。
【符号の説明】
1 YAGレーザ発振器 2 光学レンズ 3 第1偏向器 3X ポリゴンミラー 3Y 回動操作ミラー 4 集光光学系 6 液晶マスク 8 ワーク 9 第2偏向器 10 第1偏向ミラー 11 第2偏向ミラー 12 ミラー駆動モータ 14 ワーク搬送装置 15 XYテーブル 16 対物レンズ 17 マーキングレンズ 18 Y方向モータ 19 X方向モータ 20 ワーク位置検知器 21 制御装置 25 回転ミラー 26 移動ミラー 27 固定ミラー 37 移動台 38 第1ミラー 39 第2ミラー 40 第3ミラー 41 第4ミラー 42 第5ミラー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 市原 将志 神奈川県平塚市万田1200 株式会社小松製 作所研究所内

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザ発振器と、このレーザ発振器から
    のレーザ光を偏向しラスタ走査する第1偏向器と、当該
    第1偏向器からラスタ走査されるレーザ光を選択透過さ
    せる所定のパターンが表示可能なマスクと、該マスクを
    透過したラスタ走査光を更に偏向してワーク表面に前記
    パターンをマーキング照射する第2偏向器とを備えたレ
    ーザマーキング装置において、前記第2偏向器は、前記
    マスクを透過したレーザ光を反射するミラーと、当該ミ
    ラーからの反射レーザ光を受光しワーク表面にマーキン
    グ照射する移動レンズとを有し、移動レンズは、ワーク
    搬送速度に同期移動する移動機構に搭載したことを特徴
    とするレーザマーキング装置。
  2. 【請求項2】 前記反射ミラーは、マスクを透過したレ
    ーザ光を直接反射する第1ミラーと、この第1ミラーか
    らの反射光を前記移動レンズに反射させる第2ミラーと
    により構成し、前記第1ミラーは、第2ミラー又は移動
    レンズに対して反射方向を切替え可能とされていること
    を特徴とする請求項1記載のレーザマーキング装置。
  3. 【請求項3】 前記反射ミラーは、マスクを透過したレ
    ーザ光を直接反射するとともに平面移動可能な移動ミラ
    ーと、この移動ミラーからの反射光を前記移動レンズに
    反射させるとともに平面回転可能な回転ミラーと、前記
    移動ミラーの位置移動により反射光を受け前記回転ミラ
    ーに反射可能とされた固定ミラーとにより構成し、前記
    移動ミラーの位置移動により回転ミラー又は固定ミラー
    に対して反射方向を切替え可能とされていることを特徴
    とする請求項1記載のレーザマーキング装置。
  4. 【請求項4】 前記反射ミラーは、移動台上に固設され
    た5つのミラー、即ち、マスクを透過したレーザ光を直
    接反射する第1ミラー及びこの第1ミラーからの反射光
    を前記移動レンズへ反射させる第2ミラー、並びに、前
    記第1ミラー同様にマスクを透過したレーザ光を直接反
    射する第3ミラー、この第3ミラーからの反射光を受光
    して反射する第4ミラー及びこの第4ミラーからの反射
    光を前記移動レンズへ反射させる第5ミラーからなり、
    該移動台の移動位置により、マスクを透過したレーザ光
    が第1ミラー又は第3ミラーへ入射することが切替え可
    能とされていることを特徴とする請求項1記載のレーザ
    マーキング装置。
  5. 【請求項5】 前記移動レンズを搭載する移動機構は、
    直交2軸平面移動機構により形成され、その1軸方向を
    ワーク搬送方向に一致させるとともに、当該軸方向の駆
    動手段をワーク搬送速度と同期駆動可能としてなること
    を特徴とする請求項1記載のレーザマーキング装置。
  6. 【請求項6】 レーザ発振器からのレーザ光を第1偏向
    器によりラスタ走査し、これを所定のパターンが表示可
    能なマスクに照射してレーザ光を選択透過させた後、該
    マスクを透過したラスタ走査光を更に第2偏向器により
    偏向してワーク表面に前記パターンに応じてマーキング
    照射するレーザマーキング方法において、前記第2偏向
    器におけるワーク照射レンズをワーク搬送方向に同期移
    動させつつワークにレーザ光を照射してマーキングする
    ことを特徴とするレーザマーキング方法。
  7. 【請求項7】 前記第2偏向器は、マスクからワーク照
    射レンズまでのレーザ光を少なくとも90度回転させる
    ことを特徴とする請求項6記載のレーザマーキング方
    法。
  8. 【請求項8】 前記第2偏向器はマスク透過光を前記ワ
    ーク照射レンズに向けて偏向する可動ミラーを有すると
    ともに、この可動ミラーからの反射光を受ける固定ミラ
    ーを設けてなり、可動ミラーの操作により反射光を固定
    ミラー又はワーク照射レンズに切替え出射して前記パタ
    ーンを回転可能としたことを特徴とする請求項6記載の
    レーザマーキング方法。
JP31287593A 1992-11-25 1993-11-19 レーザマーキング装置および方法 Expired - Fee Related JP3224657B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31287593A JP3224657B2 (ja) 1992-11-25 1993-11-19 レーザマーキング装置および方法
KR1019960702623A KR960705652A (ko) 1993-11-19 1994-11-15 레이저마아킹장치 및 방법(laser marking method and apparatus therefor)
SG1996001801A SG45237A1 (en) 1993-11-19 1994-11-15 Apparatus for and method of laser marking
US08/648,031 US5801868A (en) 1993-11-19 1994-11-15 Apparatus for and method of laser making
EP95900305A EP0729806A1 (en) 1993-11-19 1994-11-15 Laser marking method and apparatus therefor
PCT/JP1994/001928 WO1995013899A1 (fr) 1993-11-19 1994-11-15 Procede et appareil de marquage au laser

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33675392 1992-11-25
JP4-336753 1992-11-25
JP31287593A JP3224657B2 (ja) 1992-11-25 1993-11-19 レーザマーキング装置および方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06210468A true JPH06210468A (ja) 1994-08-02
JP3224657B2 JP3224657B2 (ja) 2001-11-05

Family

ID=26567352

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP31287593A Expired - Fee Related JP3224657B2 (ja) 1992-11-25 1993-11-19 レーザマーキング装置および方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3224657B2 (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002018581A (ja) * 2000-07-07 2002-01-22 Dainippon Printing Co Ltd レーザマーキング装置及びレーザマーク媒体
DE4222137B4 (de) * 1992-07-06 2006-05-04 Robert Bosch Gmbh Kraftstoff-Einspritzdüse für Diesel-Brennkraftmaschinen
WO2011016158A1 (ja) * 2009-08-03 2011-02-10 東レエンジニアリング株式会社 マーキング装置及び方法
JP2014028400A (ja) * 2007-01-26 2014-02-13 Electro Scientific Industries Inc 連続移動するシート材をレーザ加工する方法及びシステム
KR20140132720A (ko) * 2012-03-06 2014-11-18 토레이 엔지니어링 컴퍼니, 리미티드 마킹 장치 및 방법
CN107415483A (zh) * 2017-08-31 2017-12-01 广东大族粤铭智能装备股份有限公司 一种基于双头异步技术的大幅面激光飞行加工系统
CN114073237A (zh) * 2020-08-21 2022-02-22 广西壮族自治区水产科学研究院 一种贝类激光打标的工厂化装置

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4222137B4 (de) * 1992-07-06 2006-05-04 Robert Bosch Gmbh Kraftstoff-Einspritzdüse für Diesel-Brennkraftmaschinen
JP2002018581A (ja) * 2000-07-07 2002-01-22 Dainippon Printing Co Ltd レーザマーキング装置及びレーザマーク媒体
JP2014028400A (ja) * 2007-01-26 2014-02-13 Electro Scientific Industries Inc 連続移動するシート材をレーザ加工する方法及びシステム
US10118252B2 (en) 2007-01-26 2018-11-06 Electro Scientific Industries, Inc. Methods and systems for laser processing continuously moving sheet material
WO2011016158A1 (ja) * 2009-08-03 2011-02-10 東レエンジニアリング株式会社 マーキング装置及び方法
CN102470483A (zh) * 2009-08-03 2012-05-23 东丽工程株式会社 标记装置及其方法
KR20140132720A (ko) * 2012-03-06 2014-11-18 토레이 엔지니어링 컴퍼니, 리미티드 마킹 장치 및 방법
CN107415483A (zh) * 2017-08-31 2017-12-01 广东大族粤铭智能装备股份有限公司 一种基于双头异步技术的大幅面激光飞行加工系统
CN114073237A (zh) * 2020-08-21 2022-02-22 广西壮族自治区水产科学研究院 一种贝类激光打标的工厂化装置
CN114073237B (zh) * 2020-08-21 2022-11-22 广西壮族自治区水产科学研究院 一种贝类激光打标的工厂化装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP3224657B2 (ja) 2001-11-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO1994012310A1 (en) Laser marking apparatus and method
CN101878088B (zh) 激光加工装置
US5821497A (en) Laser marking system and laser marking method
CN100391679C (zh) 激光加工方法及加工装置
US6087625A (en) Laser machining apparatus
US8680430B2 (en) Controlling dynamic and thermal loads on laser beam positioning system to achieve high-throughput laser processing of workpiece features
US20090255911A1 (en) Laser scribing platform and hybrid writing strategy
US8263901B2 (en) Method for laser micromachining
WO1995013899A1 (fr) Procede et appareil de marquage au laser
JP2526717B2 (ja) レ―ザ加工装置
JP2015160235A (ja) マーキング装置およびパターン生成装置
KR20060105577A (ko) 레이저가공기
EP2030079A1 (en) Method and tool for patterning thin films on moving substrates
JPH06210468A (ja) レーザマーキング装置および方法
JPH0795538B2 (ja) レ−ザ−アニ−ル装置
JPS60106686A (ja) レ−ザ・マ−キング装置
JP2001201864A (ja) パネルにレーザー光線を照射するための装置
JP2729451B2 (ja) レーザマーキング方法および装置
JPH08141769A (ja) レーザ加工装置
US20070121682A1 (en) Laser beam machine
JP2001079680A (ja) レーザ加工装置及びレーザ加工方法
JPH09285881A (ja) マーキング方法および装置
JP3242411B2 (ja) マスク走査型レーザマーカ及びその走査方法
US20010054700A1 (en) Laser imaging apparatus
JP2000263268A (ja) レーザ加工装置及びその装置を用いて加工する方法

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees