JPH06208145A - Method for generating short optical pulse - Google Patents

Method for generating short optical pulse

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JPH06208145A
JPH06208145A JP400193A JP400193A JPH06208145A JP H06208145 A JPH06208145 A JP H06208145A JP 400193 A JP400193 A JP 400193A JP 400193 A JP400193 A JP 400193A JP H06208145 A JPH06208145 A JP H06208145A
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JP
Japan
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pulse
optical
light
short
generating
Prior art date
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Application number
JP400193A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenji Kono
健治 河野
Masaki Kamitoku
正樹 神徳
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
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Publication of JPH06208145A publication Critical patent/JPH06208145A/en
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Abstract

PURPOSE:To provide a method for generating short optical pulse having the excellent characteristic in thee point of pulse width, density of pulse line to be generated and chirping. CONSTITUTION:In the case where voltage is not applied between electrodes 1, 7, when the incident light at a constant intensity is made to enter from a port (1) of a wave-guide, the light is made to go out from a port (2). In the case where a predetermined voltage is applied between the electrodes 1, 7, when the incident light at a constant intensity is made to enter form the port (1), both of refractive index change (DELTAn.GAMMA) and the quenching ratio of thee wave-guide are changed simultaneously. Consequently, value of the voltage to be applied is previously set at a value more than the predetermined value to generate the refractive index change and the absorption, and this absorption is utilized to sharply shape the optical pule. The optical pulse, which is thereby obtained, is taken off from a port (3).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、パルス幅の短いいわゆ
る短光パルスを発生する方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of generating a so-called short light pulse having a short pulse width.

【0002】[0002]

【従来の技術】短光パルス発生技術は、高速の光伝送方
式を実現する上で不可欠であり、重要な技術である。
2. Description of the Related Art A short light pulse generation technique is indispensable and important for realizing a high-speed optical transmission system.

【0003】図6は従来の短光パルス発生の方法の一例
を説明するためのパルス発生装置の構成を示す模式的斜
視図である。図6において、1は金電極、2はInGa
Asキャップ層、3はp−InPクラッド、4はInG
aAs(7.6nm)/InAlAs(5nm)MQW
コアであり、そのエキシトンピークは1.47μmに設
定されている。5はn−InPクラッド、6はn−In
P基板、7はn側電極である。
FIG. 6 is a schematic perspective view showing the structure of a pulse generator for explaining an example of a conventional method of generating a short optical pulse. In FIG. 6, 1 is a gold electrode, 2 is InGa
As cap layer, 3 p-InP clad, 4 InG
aAs (7.6 nm) / InAlAs (5 nm) MQW
It is the core, and its exciton peak is set to 1.47 μm. 5 is n-InP clad, 6 is n-In
A P substrate and 7 are n-side electrodes.

【0004】図6に示した短光パルス発生装置は、一定
強度の光を半導体強度変調器に入射し、その一部を半導
体強度変調器を用いて切り出すことにより、短光パルス
を発生するものである。この例では、半導体光変調器と
して多重量子井戸(MQW)光変調器が用いられてい
る。
The short optical pulse generator shown in FIG. 6 generates short optical pulses by injecting light of a constant intensity into a semiconductor intensity modulator and cutting out a part of the light with the semiconductor intensity modulator. Is. In this example, a multiple quantum well (MQW) optical modulator is used as the semiconductor optical modulator.

【0005】次に、その動作原理を図7および8を参照
しつつ詳しく説明する。まず、図7は半導体光変調器の
印加電圧に対する光透過特性を示すグラフである。電圧
を印加するとともに、エキシトンの吸収波長は長波長側
にシフトするため、光は吸収され、透過光の強度は減衰
する(エキシトンによる吸収についての参考文献:河野
他、IEEE Journal of Quantum
Electronics,vol.QE−28,p
p.224−230,1992)。従って、半導体光変
調器に一定強度の光を入射させておき、図8の(a)に
示すような電気パルスを半導体光変調器に印加すると、
図8の(b)に示すような光パルスを切り出すことがで
きる。なお、電圧を印加して光パルスを切り出すのであ
るから電気パルスとしては正弦波を使用してもよい。
Next, the operating principle will be described in detail with reference to FIGS. 7 and 8. First, FIG. 7 is a graph showing the light transmission characteristics with respect to the applied voltage of the semiconductor optical modulator. When a voltage is applied, the absorption wavelength of excitons shifts to the long wavelength side, so that light is absorbed and the intensity of transmitted light is attenuated (reference on absorption by excitons: Kono et al., IEEE Journal of Quantum).
Electronics, vol. QE-28, p
p. 224-230, 1992). Therefore, when light having a constant intensity is incident on the semiconductor optical modulator and an electric pulse as shown in FIG. 8A is applied to the semiconductor optical modulator,
An optical pulse as shown in FIG. 8B can be cut out. Since a light pulse is cut out by applying a voltage, a sine wave may be used as the electric pulse.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、図7からわ
かるように、パルス幅の短い光を発生するには印加電圧
に対する急峻な吸収特性が要求される。印加電圧に対し
て急峻な吸収特性を得るためには、半導体光変調器のノ
ンドープ層(図6においてはMQWコア4)内における
電界強度Eを高くする必要がある。印加電圧をVとする
と、この内部電界強度Eは次式で与えられる。
By the way, as can be seen from FIG. 7, in order to generate light with a short pulse width, a sharp absorption characteristic with respect to the applied voltage is required. In order to obtain a sharp absorption characteristic with respect to the applied voltage, it is necessary to increase the electric field strength E in the non-doped layer (MQW core 4 in FIG. 6) of the semiconductor optical modulator. When the applied voltage is V, the internal electric field strength E is given by the following equation.

【0007】[0007]

【数1】 E=V/d (1) ここで、dはノンドープ層の厚みである。式(1)から
わかるように、内部電界強度Eを高くするにはノンドー
プ層の厚みdを薄くする必要がある。ところが、電気的
なキャパシタンスCはノンドープ層の厚みdに反比例す
るため、ノンドープ層の厚みdを薄くすると、電気的キ
ャパシタンスCが増加する。電気的キャパシタンスがC
の場合の3dB光変調帯域Δfは、よく知られているよ
うに、
## EQU00001 ## E = V / d (1) where d is the thickness of the non-doped layer. As can be seen from the formula (1), it is necessary to reduce the thickness d of the non-doped layer in order to increase the internal electric field strength E. However, since the electric capacitance C is inversely proportional to the thickness d of the non-doped layer, the electric capacitance C increases when the thickness d of the non-doped layer is reduced. Electrical capacitance is C
As is well known, the 3 dB optical modulation band Δf in the case of

【0008】[0008]

【数2】 Δf=1/(2πRC) (2) となる。ここで、Rは終端抵抗である。## EQU2 ## Δf = 1 / (2πRC) (2) Here, R is a terminal resistance.

【0009】式(2)からわかるように、電気的キャパ
シタンスCが大きくなると、光変調帯域Δfは小さくな
る。
As can be seen from equation (2), the optical modulation band Δf becomes smaller as the electrical capacitance C becomes larger.

【0010】従って、従来の短光パルス発生方法では、
パルス幅を短くすることを目的として、ノンドープ層の
厚みdを薄くすると、電気的応答特性が悪くなり、最終
的にパルス幅を極めて短くすることは困難であるととも
に、短い幅のパルスを密に発生することは難しいという
問題があった。さらにこの方法では、強度変調器を用い
て光を吸収するため、チャーピングすなわち吸収の結果
生じる光の波長変動が避けられず、ファイバ中に伝送さ
れる間に光のパルス幅の広がりを生じてしまうという問
題もあった。
Therefore, in the conventional short optical pulse generation method,
When the thickness d of the non-doped layer is reduced for the purpose of shortening the pulse width, electrical response characteristics deteriorate, and it is difficult to make the pulse width extremely short in the end. There was a problem that it was difficult to occur. Furthermore, in this method, since the light is absorbed by using the intensity modulator, the wavelength fluctuation of the light resulting from the chirping or the absorption is unavoidable, and the pulse width of the light is widened while being transmitted into the fiber. There was also the problem of being lost.

【0011】そこで、本発明の目的は、上記技術的課題
を解消し、パルス幅、発生するパルス列の密度、チャー
ピングの点で優れた短光パルス発生方法を提供すること
にある。
Therefore, an object of the present invention is to solve the above technical problems and to provide a short optical pulse generating method which is excellent in terms of pulse width, density of a generated pulse train and chirping.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、請求項1記載の発明は、パルス幅の短い光パ
ルスを発生する短光パルス発生方法において、半導体光
導波路内の屈折率変化および吸収係数変化を生じさせる
電気パルスを前記半導体光導波路に印加することを特徴
とする。
In order to achieve such an object, the invention according to claim 1 is a method of generating a short optical pulse for generating an optical pulse having a short pulse width, and a refractive index in a semiconductor optical waveguide. An electric pulse which causes a change and an absorption coefficient change is applied to the semiconductor optical waveguide.

【0013】請求項2記載の発明は、請求項1記載の短
光パルス発生方法において、少なくとも2本の光導波路
を有する導波路形光スイッチのうち、一方の光導波路に
入射され、これを伝搬してきた光の一部と、該伝搬光の
一部を除いた残りの伝搬光との光路を異ならしめるステ
ップを含むことを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the short optical pulse generating method according to the first aspect, one of the waveguide type optical switches having at least two optical waveguides is made incident and propagated. It is characterized by including a step of making the optical paths of a part of the transmitted light and the remaining propagating light excluding a part of the propagating light different.

【0014】請求項3記載の発明は、請求項1記載の短
光パルス発生方法において、前記半導体光導波路に入射
される光の一部をマッハツェンダ形光変調器の出射側光
導波路から出射させるステップを含むことを特徴とす
る。
According to a third aspect of the present invention, in the short optical pulse generating method according to the first aspect, a step of causing a part of the light incident on the semiconductor optical waveguide to be emitted from the emission side optical waveguide of the Mach-Zehnder type optical modulator. It is characterized by including.

【0015】[0015]

【作用】本発明によれば、屈折率変化と吸収係数変化の
両方を用いて、短光パルスを発生するため、従来の実施
例のような薄いノンドープ層は必要ではなくなる。その
結果、短光パルスの発生装置を高速で動作させることが
できるとともに、パルスの幅を短くしてパルス列を密に
することができる。さらに、屈折率変化と吸収との割り
振りを行えば、チャーピングの量を調整した短光パルス
を発生することが可能となる。
According to the present invention, a short light pulse is generated by using both the change in the refractive index and the change in the absorption coefficient, so that the thin non-doped layer as in the conventional embodiment is not necessary. As a result, the device for generating short light pulses can be operated at high speed, and the pulse width can be shortened to make the pulse train dense. Further, by allocating the change in the refractive index and the absorption, it becomes possible to generate a short optical pulse in which the amount of chirping is adjusted.

【0016】[0016]

【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。
Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings.

【0017】(実施例1)図1は、本発明の短光パルス
発生方法の第1の実施例を説明するための短光パルス発
生装置の一例の構成を示す模式的斜視図である。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a schematic perspective view showing the structure of an example of a short light pulse generator for explaining the first embodiment of the short light pulse generation method of the present invention.

【0018】本実施例を説明するにあたって用いられる
図1の短光パルス発生装置の構成のうち、図6に示した
短光パルス発生装置の構成要素と共通する構成要素につ
いては同一符号を付し、その説明を省略する。
In the configuration of the short optical pulse generator shown in FIG. 1 used to describe this embodiment, the same components as those of the short optical pulse generator shown in FIG. 6 are designated by the same reference numerals. , The description is omitted.

【0019】図1の短光パルス発生装置には、光スイッ
チとしてMQWを具備する導波路形方向性結合形光スイ
ッチが用いられている。図1において8はInGaAl
As(90nm)/InAlAs(5nm)MQWコア
であり、そのエキシトンピークは1.44μmに設定さ
れている。9はi−InPサイドクラッドである。
In the short optical pulse generator shown in FIG. 1, a waveguide type directional coupling type optical switch having an MQW is used as an optical switch. In FIG. 1, 8 is InGaAl
It is an As (90 nm) / InAlAs (5 nm) MQW core, and its exciton peak is set to 1.44 μm. 9 is an i-InP side cladding.

【0020】次に、図1の短光パルス発生装置を用いて
本実施例を説明する。まず、一定強度の入射光を導波路
のポートから入射させると、電極1,7間に電圧を印
加させない場合には、光はポートに出射されるが、電
極1に図2の(a)に示す波形の電圧を印加すると、光
路が変わってボートに図2の(b)に示す波形の光パ
ルスが出射される。
Next, this embodiment will be described using the short optical pulse generator shown in FIG. First, when a certain intensity of incident light is made incident from the port of the waveguide, when no voltage is applied between the electrodes 1 and 7, the light is emitted to the port. When the voltage having the waveform shown is applied, the optical path is changed and the optical pulse having the waveform shown in FIG. 2B is emitted to the boat.

【0021】図3は、印加電圧に対する導波路の屈折率
変化および吸収係数変化(消光比)を示すグラフであ
る。図3においてΔnは屈折率変化、ΓはMQWコア内
への閉じ込め係数である。図3から、図1における電極
1,7間に電圧を印加すると、導波路の屈折率変化(Δ
n・Γ)と消光比の両方が変化することがわかる。従っ
て、印加電圧の値を所定値以上に予め設定して屈折率変
化と吸収が生じるようにし、その吸収を利用して光パル
スの形状をシャープに整形する。つまり、本発明は吸収
のみでなく、屈折率変化をも利用するため、ノンドープ
層の厚みを従来法のように薄くする必要はない。
FIG. 3 is a graph showing changes in the refractive index and absorption coefficient (extinction ratio) of the waveguide with respect to the applied voltage. In FIG. 3, Δn is the change in refractive index, and Γ is the confinement coefficient within the MQW core. From FIG. 3, when a voltage is applied between the electrodes 1 and 7 in FIG. 1, a change in the refractive index of the waveguide (Δ
It can be seen that both n · Γ) and the extinction ratio change. Therefore, the value of the applied voltage is preset to a predetermined value or more so that a change in the refractive index and absorption occur, and the absorption is used to sharply shape the shape of the optical pulse. That is, since the present invention utilizes not only absorption but also the change in refractive index, it is not necessary to reduce the thickness of the non-doped layer as in the conventional method.

【0022】本発明では、短光パルスの発生に導波路の
屈折率変化と吸収係数変化の両方を用いるため、図7に
示した吸収のみを使用する従来の短光パルス発生方法と
は異なり、ノンドープ層の厚みdを小さくする必要はな
い。このため、電気的キャパシタンスCを大きくするこ
とがないから、上記式(2)からわかるように、光スイ
ッチとしての応答が速くなる。その結果、パルス幅を短
くでき、かつ発生するパルス列を密にすることも可能と
なる。また、図1において、電極が形成されている光導
波路と対向する光導波路にも電極を付け、プッシュ・プ
ル動作を行うことにより、チャーピングは一層小さくな
るという利点もある。さらには、屈折率変化と吸収との
割り振りにより、必要に応じ、チャーピングの量を調整
した短光パルスを発生することが可能となるなどの利点
がある。
In the present invention, since both the change in the refractive index of the waveguide and the change in the absorption coefficient are used to generate a short optical pulse, unlike the conventional short optical pulse generating method using only absorption shown in FIG. It is not necessary to reduce the thickness d of the non-doped layer. Therefore, since the electric capacitance C is not increased, the response as the optical switch becomes faster as can be seen from the above formula (2). As a result, the pulse width can be shortened and the generated pulse train can be made dense. Further, in FIG. 1, there is also an advantage that the chirping is further reduced by attaching an electrode to the optical waveguide opposite to the optical waveguide on which the electrode is formed and performing the push-pull operation. Further, by allocating the change in the refractive index and the absorption, it is possible to generate a short optical pulse with the amount of chirping adjusted if necessary.

【0023】(実施例2)図4は、本発明の短光パルス
発生方法の第2の実施例を説明するための短光パルス発
生装置の一例の構成を示す模式的斜視図である。本実施
例では、マッハツェンダとしてMQWを具備するマッハ
ツェンダ光変調器が用いられている。図4において10
は電気的分離溝である。
(Embodiment 2) FIG. 4 is a schematic perspective view showing the structure of an example of a short light pulse generator for explaining a second embodiment of the short light pulse generating method of the present invention. In this embodiment, a Mach-Zehnder optical modulator having an MQW as a Mach-Zehnder is used. 10 in FIG.
Is an electrical isolation groove.

【0024】本実施例2の動作原理は以下の通りであ
る。一定強度の入射光をマッハツェンダ光変調器に入射
させておく。この光変調器に図5の(a)に示すような
電気パルスを信号源から光変調器の電極1に印加する。
すると、−Vの電圧が印加されている場合には、マッハ
ツェンダ光変調器の両アームを伝搬してきた光の位相は
互いにπずれているために、合波すると消し合いoff
状態となる。ところが、図5の(a)のように電気パル
スはある瞬間に0Vとなるから、その瞬間だけ両アーム
を伝搬してきた光の位相は同位相となって出射される。
この同位相の光は図5の(b)のようなパルス幅の短い
光パルスとして得られる。実施例1の場合と同様に印加
電圧を所定値以上に設定して吸収係数変化、屈折率変化
が生じるようにしておけば、実施例1と同様にパルス幅
の短い短光パルスを発生できる。
The operating principle of the second embodiment is as follows. Incident light of constant intensity is made incident on the Mach-Zehnder optical modulator. An electric pulse as shown in FIG. 5A is applied to this optical modulator from a signal source to the electrode 1 of the optical modulator.
Then, when the voltage of −V is applied, the phases of the lights propagating through both arms of the Mach-Zehnder optical modulator are deviated from each other by π, so that when they are combined, they cancel each other off.
It becomes a state. However, as shown in FIG. 5A, the electric pulse becomes 0 V at a certain moment, so that the light propagating through both arms at the moment is emitted in the same phase.
This in-phase light is obtained as an optical pulse having a short pulse width as shown in FIG. As in the case of the first embodiment, if the applied voltage is set to be equal to or higher than a predetermined value so that the absorption coefficient and the refractive index change, a short optical pulse having a short pulse width can be generated as in the first embodiment.

【0025】なお、実施例1では、光スイッチとして、
MQWを具備する方向性結合器形光スイッチを用いた方
法について説明したが、本発明の動作原理は光スイッチ
の構造に依存しないし、またMQWの代わりにバルクの
半導体光スイッチを用いてもよいことは言うまでもな
い。また、本実施例2においてマッハツェンダとして、
MQWを具備するマッハツェンダを用いた方法について
説明したが、本発明の動作原理はマッハツェンダの構造
に依存しないし、またMQWの代わりにバルクの半導体
マッハツェンダを用いてもよいことは言うまでもない。
In the first embodiment, as an optical switch,
Although the method using the directional coupler type optical switch having the MQW has been described, the operating principle of the present invention does not depend on the structure of the optical switch, and a bulk semiconductor optical switch may be used instead of the MQW. Needless to say. In addition, as Mach-Zehnder in the second embodiment,
Although the method using the Mach-Zehnder having the MQW has been described, the operating principle of the present invention does not depend on the structure of the Mach-Zehnder, and it goes without saying that a bulk semiconductor Mach-Zehnder may be used instead of the MQW.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、屈折率
変化と吸収係数変化の両方を用いて、短光パルスを発生
するため、従来のような薄いノンドープ層は必要ない。
その結果、短光パルスの発生装置が高速で動作でき、パ
ルスの幅を短くしてパルス列を密にすることができる。
さらに、屈折率変化と吸収との割り振りを行えば、チャ
ーピングの量を調整した短光パルスを発生することが可
能となるなどの利点もある。
As described above, according to the present invention, a short light pulse is generated by using both the change in the refractive index and the change in the absorption coefficient, so that a thin non-doped layer as in the prior art is not necessary.
As a result, the short light pulse generator can operate at high speed, and the pulse width can be shortened to make the pulse train dense.
Further, by allocating the change in the refractive index and the absorption, it is possible to generate a short optical pulse in which the amount of chirping is adjusted.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は、本発明の短光パルス発生方法の第1の
実施例を説明するためのパルス発生装置の構成例を示す
模式的斜視図である。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing a configuration example of a pulse generation device for explaining a first embodiment of a short optical pulse generation method of the present invention.

【図2】図2の(a)は本発明の短光パルス発生方法の
第1の実施例においてパルス発生装置の導波路に印加さ
れる電気パルスを示す波形図であり、同(b)は発生し
た光パルスを示す波形図である。
FIG. 2 (a) is a waveform diagram showing an electric pulse applied to the waveguide of the pulse generator in the first embodiment of the short optical pulse generating method of the present invention, and FIG. It is a wave form diagram which shows the generated optical pulse.

【図3】図3は、印加電圧に対する導波路の屈折率変化
および消光比を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a change in a refractive index of a waveguide and an extinction ratio with respect to an applied voltage.

【図4】図4は、本発明の短光パルス発生方法の第2の
実施例を説明するためのパルス発生装置の構成例を示す
模式的斜視図である。
FIG. 4 is a schematic perspective view showing a configuration example of a pulse generation device for explaining a second embodiment of the short optical pulse generation method of the present invention.

【図5】図5の(a)は本発明の短光パルス発生方法の
第2の実施例においてパルス発生装置の導波路に印加さ
れる電気パルスを示す波形図であり、同(b)は発生し
た光パルスを示す波形図である。
5A is a waveform diagram showing an electric pulse applied to the waveguide of the pulse generator in the second embodiment of the short optical pulse generation method of the present invention, and FIG. It is a wave form diagram which shows the generated optical pulse.

【図6】図6は従来の短光パルス発生の方法の一例を説
明するためのパルス発生装置の構成を示す模式的斜視図
である。
FIG. 6 is a schematic perspective view showing the configuration of a pulse generator for explaining an example of a conventional method of generating a short optical pulse.

【図7】図7は、図6に示したパルス発生装置における
半導体光変調器の印加電圧に対する光透過特性を示す図
である。
7 is a diagram showing a light transmission characteristic with respect to an applied voltage of a semiconductor optical modulator in the pulse generation device shown in FIG.

【図8】図8の(a)は従来の短光パルス発生方法にお
いてパルス発生装置の導波路に印加される電気パルスを
示す波形図であり、同(b)は発生した光パルスを示す
波形図である。
FIG. 8A is a waveform diagram showing an electric pulse applied to the waveguide of the pulse generator in the conventional short optical pulse generation method, and FIG. 8B is a waveform diagram showing the generated optical pulse. It is a figure.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 金電極 2 InGaAsキャップ 3 p−InPクラッド 4 InGaAs/InAlAsMQWコア 5 n−InPクラッド 6 n−InP基板 7 n側電極 8 InGaAlAs/InAlAsMQWコア 9 i−InPサイドクラッド 10 分離溝 1 Gold electrode 2 InGaAs cap 3 p-InP clad 4 InGaAs / InAlAsMQW core 5 n-InP clad 6 n-InP substrate 7 n-side electrode 8 InGaAlAs / InAlAsMQW core 9 i-InP side-clad 10 Separation groove

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 パルス幅の短い光パルスを発生する短光
パルス発生方法において、半導体光導波路内の屈折率変
化および吸収係数変化を生じさせる電気パルスを前記半
導体光導波路に印加することを特徴とする短光パルス発
生方法。
1. A method for generating a short light pulse for generating a light pulse having a short pulse width, wherein an electric pulse for causing a change in a refractive index and a change in an absorption coefficient in the semiconductor optical waveguide is applied to the semiconductor optical waveguide. A method for generating short light pulses.
【請求項2】 請求項1記載の短光パルス発生方法にお
いて、少なくとも2本の光導波路を有する導波路形光ス
イッチのうち、一方の光導波路に入射され、これを伝搬
してきた光の一部と、該伝搬光の一部を除いた残りの伝
搬光との光路を異ならしめるステップを含むことを特徴
とする短光パルス発生方法。
2. The short optical pulse generating method according to claim 1, wherein a part of the light which is incident on one of the optical waveguides of the waveguide type optical switch having at least two optical waveguides and propagates through the optical waveguide. And a step of making the optical paths of the remaining propagating light except a part of the propagating light different from each other.
【請求項3】 請求項1記載の短光パルス発生方法にお
いて、前記半導体光導波路に入射される光の一部をマッ
ハツェンダ形光変調器の出射側光導波路から出射させる
ステップを含むことを特徴とする短光パルス発生方法。
3. The method for generating a short optical pulse according to claim 1, further comprising a step of causing a part of light incident on the semiconductor optical waveguide to be emitted from an emission-side optical waveguide of a Mach-Zehnder type optical modulator. A method for generating short light pulses.
JP400193A 1993-01-13 1993-01-13 Method for generating short optical pulse Pending JPH06208145A (en)

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JP400193A JPH06208145A (en) 1993-01-13 1993-01-13 Method for generating short optical pulse

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