JPH06205966A - 接触法のための反応器 - Google Patents

接触法のための反応器

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JPH06205966A
JPH06205966A JP34270093A JP34270093A JPH06205966A JP H06205966 A JPH06205966 A JP H06205966A JP 34270093 A JP34270093 A JP 34270093A JP 34270093 A JP34270093 A JP 34270093A JP H06205966 A JPH06205966 A JP H06205966A
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fluid
reactor
exchange box
catalyst
fluid exchange
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JP34270093A
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English (en)
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Willem Johannes Deelen
ウイレム・ヨハネス・デーレン
Els Augustinus C C Van
アウグスチヌス・コルネリス・カロルス・ウアン・エルス
Hartog Arie Pieter Den
アリー・ピーター・デン・ハルトフ
Godefriedus Antonius M Hermans
ゴデフリドウス・アントニウス・マリー・ヘルマンス
Hugo Hoelscher
ヒユーゴ・ホルシヤー
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Shell Internationale Research Maatschappij BV
Original Assignee
Shell Internationale Research Maatschappij BV
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Publication date
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    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10GCRACKING HYDROCARBON OILS; PRODUCTION OF LIQUID HYDROCARBON MIXTURES, e.g. BY DESTRUCTIVE HYDROGENATION, OLIGOMERISATION, POLYMERISATION; RECOVERY OF HYDROCARBON OILS FROM OIL-SHALE, OIL-SAND, OR GASES; REFINING MIXTURES MAINLY CONSISTING OF HYDROCARBONS; REFORMING OF NAPHTHA; MINERAL WAXES
    • C10G49/00Treatment of hydrocarbon oils, in the presence of hydrogen or hydrogen-generating compounds, not provided for in a single one of groups C10G45/02, C10G45/32, C10G45/44, C10G45/58 or C10G47/00
    • C10G49/002Apparatus for fixed bed hydrotreatment processes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/08Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with moving particles
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    • B01J8/125Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with moving particles moved by gravity in a downward flow with multiple sections one above the other separated by distribution aids, e.g. reaction and regeneration sections
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10GCRACKING HYDROCARBON OILS; PRODUCTION OF LIQUID HYDROCARBON MIXTURES, e.g. BY DESTRUCTIVE HYDROGENATION, OLIGOMERISATION, POLYMERISATION; RECOVERY OF HYDROCARBON OILS FROM OIL-SHALE, OIL-SAND, OR GASES; REFINING MIXTURES MAINLY CONSISTING OF HYDROCARBONS; REFORMING OF NAPHTHA; MINERAL WAXES
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 簡単な再分配装置を備えた接触法のための反
応器の提供 【構成】 上端部に触媒入口(2) と反応体入口(3) とを
設け、下端部には触媒出口(4) と流出物出口(5) とを設
けた容器(1) からなり、該容器が容器の壁部から半径方
向に突出する流体交換箱(9) からなる再分配装置(8) を
内臓、各流体交換箱が頂部カバー(11)を備え、スクリー
ン(16)を設けた垂直側壁部により気体及び/又は液体を
通過させると共に触媒が通過するのを防止、更に下側開
口部(19)を有する端壁部(18)と、隣接流体交換箱の側壁
部により形成され内側端部で閉鎖する触媒通路と、頂部
カバー(26)を設けた流体交換箱の端壁部(18)により形成
された中央チャンバ(25)と、再分配装置の下端部に配置
された流体分配器(28)とを備え、この流体分配器が中央
チャンバ(25)における分配トレー(30)と下側開口部(19)
の下に配置された流体交換箱(9) における分配プレート
とからなる接触法の為の反応器を提供

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、常態で垂直な円筒容器
からなり、その上端部に触媒入口と反応体入口とを設け
ると共にその下端部には触媒出口と流出物出口とを設
け、さらに再分配装置を内蔵してなる接触法のための反
応器に関するものである。この反応器は、炭化水素を触
媒処理するため、特に石油残留物の接触脱流および金属
除去に好適に使用される。一般に、これら方法は高めら
れた圧力および温度にて行われる。
【0002】
【従来の技術】接触法のための反応器は米国特許第4
568 523号に記載されている。接触法のための公
知の反応器において、再分配装置は複数の相互連結され
た下方向に細まる裁頭円錐状表面を有して、その下端部
を離間した垂直出口流路に接続し、これら流路は外周ス
クリーンを設けて流出物を回収帯域に流入させうる周壁
部と、回収帯域の下端部に配置されて垂直出口流路が突
入する分配トレーとを有する。この容器は、分配トレー
の上方で開口する第2流体のための出口をさらに備え
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、簡単
な再分配装置を備えた接触法のための反応器を提供する
ことにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】この目的で本発明による
接触法のための反応器は、常態で垂直な円筒容器からな
り、その上端部に触媒入口と反応体入口とを設けると共
に、その下端部には触媒出口と流出物出口とを設け、前
記容器がこの容器の壁部から半径方向に突出する流体交
換箱からなる再分配装置を内臓し、各流体交換箱が頂部
カバーと、少なくとも1個に触媒粒子が通過するのを防
止すると共に気体および/または液体を通過させる手段
を設けた垂直側壁部と、少なくとも1個の下側開口部を
有する端壁部とを備え、隣接流体交換箱の側壁部により
触媒通路を形成して、この触媒通路をその内側端部にて
閉鎖し、頂部カバーを設けた流体交換箱の端壁部により
中央チャンバを形成し、再分配装置の下端部に流体分配
器を配置し、この流体分配器が中央チャンバにおける分
配トレーと下側開口部の下に配置された流体交換箱にお
ける分配プレートとからなることを特徴とする。
【0005】本発明の接触法のための反応器における再
分配装置の利点は、この再分配装置が熱応力により容易
には影響を受けないことである。他の利点は、容器内部
で容易に組立てうることである。典型的には、容器は第
2流体を箱の少なくとも1個に或いは中央チャンバに供
給するための手段をさらに備える。本発明の反応器は触
媒入口と反応体入口とを備える。たとえば固定床操作に
おけるような或る種の場合、これら入口は1つの同じ入
口手段で構成することができる。同じことが触媒出口お
よび流出物出口についても言える。
【0006】
【実施例】以下、添付図面を参照して本発明を実施例に
より一層詳細に説明する。図1、2および3を参照す
る。本発明による接触法のための反応器は、常態で垂直
な円筒容器1からなっている。この容器1にはその上端
部に触媒入口2と反応体入口3とを設け、下端部には触
媒出口4と流出物出口5とを設ける。容器1は、正常操
作に際し上側触媒床6と下側触媒床7とに配置された触
媒粒子を充填する。下側触媒床は適する手段(図示せ
ず)によって支持される。両触媒床6と7との間には再
分配装置8を配置する。この再分配装置は、容器1の壁
部から半径方向に突出する12個の流体交換箱9からな
っている。
【0007】各流体交換箱9は頂部カバー11と、気体
および/または流体を通過させうるが触媒粒子の通過を
防止する手段を設けたスクリーン16の形態の2個の垂
直側壁部13と、下側開口部19を有する端壁部18と
を備える。隣接する流体交換箱9の垂直側壁部13は触
媒通路21を形成する。流体交換箱の端壁部18は中央
チャンバ25を形成し、この中央チャンバ25には頂部
カバー26を設ける。再分配装置8はその下端部に配置
された流体分配器28をさらに備え、この流体分配器2
8は中央チャンバ25に配置された分配トレー30と流
体交換箱9に配置された分配プレート32とからなって
いる。分配トレー30と分配プレート32とは下側開口
部19の下に配置される。分配トレー30および分配プ
レート32には液体および気体の通路として開口部33
を設ける。明瞭にするため、全ての開口部については参
照符号で示さない。
【0008】容器1は、第2流体を流体交換箱9に供給
する導管35の形態の手段をさらに備える。正常操作に
際し触媒粒子が中央チャンバ25に突入するのを防止す
るため、再分配装置8は触媒通路21を閉鎖するチュー
ブ38をその内側端部にさらに備える。チューブ38に
は下側開口部19の近くに開口部39を設ける。チュー
ブ38および頂部カバー28は再分配装置9に着脱自在
に配置され、チューブ38を頂部カバー26に連結して
チューブ38を頂部カバー39と共に外すことができ
る。明瞭にするため、チューブ38と流体交換箱の端壁
部18との間のクリアランスを図面では誇張して示して
いる。頂部カバー26は触媒粒子、気体および/または
液体の通路として開閉することができる。好ましくは頂
部カバーを気体および/または液体の通過には開口さ
せ、触媒粒子の通過には閉鎖する。
【0009】正常操作に際し容器1には触媒粒子を充填
し、これら粒子を触媒入口2を介して容器に流入させる
ことができる。触媒粒子は2つの触媒床6および7に配
置され、これら床は同様に触媒粒子が充填された触媒通
路21により接続する。下側触媒床7は適する触媒支持
体(図示せず)によって支持され、これは流出物を床か
ら流出させうると共に触媒粒子を保持することができ
る。反応体は反応体入口3を介し上側触媒床6に供給さ
れる。触媒床6にて反応が開始し、生成物が反応体から
生成される。反応体と生成物とは上側触媒床6と再分配
装置8と下側触媒床7とを介し下方向に移動して、下側
触媒床にて反応が持続する。流出物は流出物出口5を介
して容器1から流出する。
【0010】反応体と生成物との混合物が触媒床を下方
向に通過する際、反応体の量が減少すると共に生成物の
量が増加し、さらに混合物が触媒床に突入するほど混合
物における各成分の分布が不均一になる。したがって、
上側触媒床6の最後の部分における反応体と生成物との
混合物は均質混合物でない。この各成分の不均一な分布
は、たとえば熱スポットが生じうるため、接触法のため
の反応器の操作に悪影響を及ぼす。この不均質混合物を
下側触媒床7まで移すことは、既に不均一な分布が一層
不均一になるため、さらに悪影響を及ぼす。再分配装置
8の目的は、上側触媒床6からの流体を均質化すると共
に反応体と生成物との均質化された混合物を下側触媒床
7に移すことにある。さらに、再分配装置8において第
2流体を混合物に供給することもできる。
【0011】反応体と生成物との混合物の主たる部分
は、触媒通路21から流出してスクリーン16を介し流
体交換箱9に流入する。第2流体を導管35を介して流
体交換箱に供給し、ここで流体交換箱内の混合物と混合
させる。第2流体は追加反応体または不活性媒体とする
ことができ、或いは第2流体は冷却液として接触法のた
めの反応器における流体をたとえば反応が発熱性である
際に冷却することができ、或いは熱流体としてたとえば
反応が吸熱性である際に混合物の温度を上昇させること
もできる。混合物の1部は下側開口部19および開口部
39を介して中央チャンバ25中へ流入する。混合物は
流体分配器28を介して再分配装置8から流出し、この
流体分配器28は中央チャンバ25に配置された分配ト
レー30と流体交換箱9に配置された分配プレート32
とで構成される。
【0012】均質化した混合物は下側触媒床7に供給さ
れる。下側触媒床7からの流出物は流出物出口5を介し
容器1から除去される。次いで、本発明の代案実施例を
示す図4を参照する。図1〜3を参照して説明した部材
は同じ参照符号を有し、以下では説明しない。第2流体
を供給する手段は流体分配器40の形態の出口よりな
り、これには中央チャンバ25内に配置された数個のノ
ズル41を設ける。流体は導管44を介して流体分配器
40に供給される。各流体交換箱9は、下側開口部19
の上方かつスクリーン16の下方に配置された分離プレ
ート49により分離された上部46と下部47とを備
え、各流体交換箱9の上部は流体出口50を備える。流
体連通を可能にするため、チューブ38には流体出口5
0の近くに開口部53を設ける。
【0013】正常操作に際し反応体と生成物との混合物
の主たる部分はスクリーン16を介し流体交換箱9の上
部46に流入する。この混合物は流体出口50と開口部
53とを介し中央チャンバ25に流入する。中央チャン
バ25にて、混合物を流体分配器40からの第2流体と
混合する。混合物の1部は下側開口部39と下側開口部
19とを介し中央チャンバ25から流出して流体交換箱
9の下部47に流入する。混合物は流体分配器28を介
し再分配装置8から流出し、この流体分配器28は中央
チャンバ25に配置された分配トレー30と流体交換箱
9に配置された分配プレート32とで構成される。
【0014】本発明によるさらに他の実施例を示す図5
を参照し、第2流体を供給する手段は単一の流体交換箱
9に突入する単一の導管35で構成される。先の図面を
参照して説明した部材は同じ参照符号を有し、以下では
説明しない。正常操作に際し反応体と生成物との混合物
の主たる部分はスクリーン16を介し流体交換箱9の上
部46に流入する。流体交換箱9の1つにおいて、混合
物を導管35により供給された第2流体と混合する。流
体は流体出口50を介し流体交換箱から流出すると共
に、開口部53を介し中央チャンバ25に流入する。流
体は中央チャンバ25にて混合される。混合物の1部
は、下側開口部39と下側開口部19とを介し中央チャ
ンバ25から流体交換箱9の下部47中に流入する。こ
の混合物は流体分配器28を介して再分配装置8から流
出し、この流体分配器28は中央チャンバ25に配置さ
れた分配トレー30と流体交換箱9に配置された分配プ
レート32とで構成される。
【0015】1つの流体交換箱9に供給された第2流体
と全流体交換箱9に流入する混合物との混合を改善する
ため、中央チャンバ25には混合装置60を設ける。流
体交換箱9の上部46における流体出口50は、混合装
置60における開口部53によって開口する。混合装置
60は中央開口部63とチューブ64とを有するトレー
62からなり、中央開口部63に配置された構造パッキ
ング65を設ける。混合はチューブ64内で生ずる。正
常操作に際し流体を混合装置60のチューブ64にて混
合し、このチューブ64には構造パッキング65を設け
る。中央通路25における混合装置は図4に示した実施
例と同じ効果をもって用いることができ、第2流体を流
体分配器40を介して中央チャンバ25に供給する。さ
らに、中央通路25における混合装置を上部と下部とに
分割された流体交換箱と一緒に図2に示した実施例と同
じ効果をもって用いることもでき、この場合は第2流体
を全流体交換箱9に供給する。
【0016】以上、接触法のための反応器は触媒床が静
的である接触固定床法のための反応器として記載した。
この実施例では、流体交換箱9の頂部カバー11と中央
通路25の頂部カバー26とは扁平である。しかしなが
ら、接触固定床法の反応器は移動触媒床反応器としても
操作することができ、この場合は正常操作に際し所定量
の使用済み触媒を触媒出口4を介して下側触媒床7から
除去すると共に、同量の新たな触媒を触媒入口2を介し
て上側触媒床6に供給する。触媒を下側触媒床7から除
去する際、隣接する流体交換箱9の間の触媒通路21に
おける触媒は下方向に移動して下側触媒床7の上部を埋
めると共に、上側触媒床6からの触媒は触媒通路21に
流入する。触媒通路21への触媒流入を容易化させるた
め中央チャンバ25の頂部カバー26は円錐形状を有
し、流体交換箱9の頂部カバー11を継目により連結さ
れた2個の傾斜壁部で構成する。触媒通路21は一定幅
を有することができる。好ましくは、これら触媒通路は
僅か傾斜した幅を有する。
【0017】移動触媒床反応器としての接触法に関する
反応器の操作は、図面を参照して説明した接触法に関す
る反応器の操作とは、触媒を間けつ的もしくは絶えず新
鮮にすると言う点においてのみ異なり、使用済み触媒を
触媒出口4から抜取ると共に新鮮触媒を触媒入口2を介
して供給する。流体交換箱9は容器1の壁部に固定する
ことができ、或いは流体交換箱は背壁部を備えて壁部か
ら懸垂される。流体交換箱の個数は典型的には10〜2
0の偶数である。分配トレー30および分配プレート3
2における開口部33には小パイプを配置することがで
き、これらパイプは分配トレーおよび分配プレートの上
方まで延びて流体分配器28中を下方向に流過する液体
の分散を改善すると共に、パイブは下側開口部39の上
方まで延びて充分な滞留を与える。
【0018】流体は液体とすることができ、或いは液体
と気体との混合物とすることもできる。流体が液体と気
体との混合物である場合は、気体の流れを確保せねばな
らない。中央チャンバ25と流体交換箱9との間の気体
の流動を可能にするため、流体交換箱9には第2の下側
開口部70を設けると共にチューブ38には対応の開口
部71を設ける(図2参照)。第2の下側開口部は、図
4および5の実施例におけると同じ効果にて用いうるこ
とが了解されよう。さらに混合装置を中央チャンバに配
置する場合は、この種の混合装置を第2の下側開口部の
上方に配置すると共に、流体交換箱が分離プレートによ
り分離された上部と下部とを備える場合は、分離プレー
トを第2開口部の上方に配置することも明かであろう。
【0019】次いで図4を参照する。分離プレート49
における液体レベルが流体出口50の上方であれば、流
体出口50中へのガス流動が阻害される。中央チャンバ
25中へのガス流動を可能にするには、流体交換箱9の
上部46に第2流体出口74を設けると共に、チューブ
38に対応の開口部75を設ける。第2流体出口は、図
5の実施例におけると同じ効果で用いうることが了解さ
れよう。第2流体を添加する必要がなければ、一般に容
器には導管35または流体分配器40を設けない。本発
明による接触法のための反応器を移動触媒床に使用する
場合は、好ましくは反応器に分離装置(同日付けで出願
された本出願人に係るヨーロッパ特許出願第92204
029.0に記載)を設けることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明による接触法のための反応器の側面図
【図2】 異なる尺度で描いた図1の接触法のための反
応器における部分縦断面図
【図3】 図2、4および5の接触法のための反応器の
III−III線断面図
【図4】 本発明による他の実施例の部分縦断面図
【図5】 さらに他の本発明による実施例の部分縦断面
【符号の説明】
1 容器 2 触媒入口 3 反応体入口 4 触媒出口 5 流出物出口 8 再分配装置 9 流体交換箱 11 頂部カバー 25 中央チャンバ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ウイレム・ヨハネス・デーレン オランダ国 2596 エイチ・アール、 ハ ーグ、カレル・ウアン・ビラントラーン 30 (72)発明者 アウグスチヌス・コルネリス・カロルス・ ウアン・エルス オランダ国 2596 エイチ・アール、 ハ ーグ、カレル・ウアン・ビラントラーン 30 (72)発明者 アリー・ピーター・デン・ハルトフ オランダ国 2596 エイチ・アール、 ハ ーグ、カレル・ウアン・ビラントラーン 30 (72)発明者 ゴデフリドウス・アントニウス・マリー・ ヘルマンス オランダ国 1031 シー・エム アムステ ルダム、バトホイスウエヒ 3 (72)発明者 ヒユーゴ・ホルシヤー オランダ国 1031 シー・エム アムステ ルダム、バトホイスウエヒ 3

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 常態で垂直な円筒容器からなり、その上
    端部に触媒入口と反応体入口とを設けると共に、その下
    端部には触媒出口と流出物出口とを設け、前記容器がこ
    の容器の壁部から半径方向に突出する流体交換箱からな
    る再分配装置を内臓し、各流体交換箱が頂部カバーと、
    少なくとも1個に触媒粒子が通過するのを防止すると共
    に気体および/または液体を通過させる手段を設けた垂
    直側壁部と、少なくとも1個の下側開口部を有する端壁
    部とを備え、隣接流体交換箱の側壁部により触媒通路を
    形成して、この触媒通路をその内側端部にて閉鎖し、頂
    部カバーを設けた流体交換箱の端壁部により中央チャン
    バを形成し、再分配装置の下端部に流体分配器を配置
    し、この流体分配器が中央チャンバにおける分配トレー
    と下側開口部の下に配置された流体交換箱における分配
    プレートとからなることを特徴とする接触法のための反
    応器。
  2. 【請求項2】 容器が、第2流体を箱の少なくとも1個
    または中央チャンバに供給する手段をさらに含む請求項
    1に記載の接触法のための反応器。
  3. 【請求項3】 第2流体を供給する手段が中央チャンバ
    に配置された出口を設けた供給導管よりなり、流体交換
    箱が下側開口部の上方に配置された分離プレートにより
    分離された上部と下部とを備え、上部が少なくとも1個
    の流体出口を備える請求項2に記載の接触法のための反
    応器。
  4. 【請求項4】 中央チャンバには流体出口と下側開口部
    との間に配置された混合装置を設けてなる請求項3に記
    載の接触法のための反応器。
  5. 【請求項5】 第2流体を供給する手段が1個もしくは
    それ以上の流体交換箱の上部に突入する供給導管よりな
    り、流体交換箱が下側開口部の上方に配置された分離プ
    レートにより上部から分離された下部を備え、さらに上
    部が少なくとも1個の流体出口を備える請求項2に記載
    の接触法のための反応器。
  6. 【請求項6】 中央チャンバには流体出口と下側開口部
    との間に配置された混合装置を設けてなる請求項5に記
    載の接触法のための反応器。
  7. 【請求項7】 第2流体を供給する手段が、全流体交換
    箱の上部に突入する供給導管よりなる請求項2に記載の
    接触法のための反応器。
  8. 【請求項8】 各流体交換箱が下側開口部の上方に配置
    された分離プレートにより上部から分離された下部を備
    え、上部が少なくとも1個の流体出口を備え、さらに中
    央チャンバには流体出口と下側開口部との間に配置され
    た混合装置を設けてなる請求項7に記載の接触法のため
    の反応器。
  9. 【請求項9】 混合装置が中央開口部を有するトレー
    と、中央開口部に配置された構造パッキングを設けたチ
    ューブとからなる請求項4、6または8のいずれか一項
    に記載の接触法のための反応器。
  10. 【請求項10】 中央チャンバの頂部カバーが円錐形状
    を有する請求項1〜9のいずれか一項に記載の接触法の
    ための反応器。
  11. 【請求項11】 流体交換箱の頂部カバーが2個の傾斜
    壁部よりなる請求項1〜10のいずれか一項に記載の接
    触法のための反応器。
JP34270093A 1992-12-18 1993-12-16 接触法のための反応器 Pending JPH06205966A (ja)

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