JPH06204134A - Elevation rotary table apparatus equipped with bias electrode - Google Patents

Elevation rotary table apparatus equipped with bias electrode

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JPH06204134A
JPH06204134A JP36145292A JP36145292A JPH06204134A JP H06204134 A JPH06204134 A JP H06204134A JP 36145292 A JP36145292 A JP 36145292A JP 36145292 A JP36145292 A JP 36145292A JP H06204134 A JPH06204134 A JP H06204134A
Authority
JP
Japan
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rotary shaft
bias electrode
cooling water
bias
pipe
Prior art date
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Application number
JP36145292A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Setsuo Ueda
節雄 上田
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Nippei Toyama Corp
Original Assignee
Nippei Toyama Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH06204134A publication Critical patent/JPH06204134A/en
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Abstract

PURPOSE:To enable using ordinary water wherein consideration to insulating properties is unnecessary as cooling water for a rotary shaft, eliminate possibility of bias voltage leak, and simplify electric insulation structure to the rotary shaft. CONSTITUTION:In an elevatable turn table apparatus equipped with a metal table 2 retaining a body 1 to be treated, a metal rotary shaft 3 rotating the table 2, an elevating means moving the table 2 up and down, and a bias electrode 5 applying a bias voltage to the table 2, the metal rotary shaft 3 has a double pipe structure constituted of an inner pipe 31 and an outer pipe 32, and the bias electrode 5 is installed inside the inner pipe 31 so as to be insulated from the inner pipe 31. A bias voltage is applied to the table 2 via the bias electrode 5. While the table 2 is rotated by the rotary shaft 3, cooling water composed of ordinary water is supplied to the space between the inner pipe 31 and the outer pipe 32, thereby cooling the rotary shaft 3.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、バイアス電極付昇降回
転テーブル装置に関し、例えばプラズマ放電、ア−ク放
電等を利用した真空成膜装置等に用いられるものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lifting / lowering rotary table device with a bias electrode, which is used in, for example, a vacuum film forming device utilizing plasma discharge, arc discharge or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えばプラズマ装置、ア−ク放電等を利
用した真空成膜装置においては、ロードロック室におい
て高温に加熱した被処理体を成膜室に搬送してテーブル
上に支持し、このテーブルを回転させるとともにこれに
バイアス電圧を印加しながら、蒸発源からの蒸発物質を
被処理体の表面に被着させて成膜を行っている。ここ
で、バイアス電圧をテーブルに印加するのは、被処理体
に被着する膜の密着性及び硬度を高めるためである。
2. Description of the Related Art For example, in a vacuum film forming apparatus using a plasma device, arc discharge, etc., an object to be processed which has been heated to a high temperature in a load lock chamber is conveyed to the film forming chamber and supported on a table. While rotating the table and applying a bias voltage to the table, the evaporation material from the evaporation source is deposited on the surface of the object to be processed to form a film. The bias voltage is applied to the table in order to enhance the adhesion and hardness of the film deposited on the object to be processed.

【0003】図5は、真空成膜装置に使用される従来の
バイアス電極付昇降回転テーブル装置を示し、被処理体
1が支持される金属製のテーブル2には金属製の回転軸
3が設けられ、この回転軸3の基部のプーリ36には、
駆動モータ37のタイミングベルト38が連結されてい
る。回転軸3の下部には、ベアリング55を介して金属
製の保持体56が設けられ、この保持体56は、テフロ
ン又はセラミック等からなる電気絶縁材57を介して金
属製の保持枠6に固定されている。
FIG. 5 shows a conventional lifting / lowering rotary table device with a bias electrode used in a vacuum film forming apparatus, in which a metal rotary shaft 3 is provided on a metal table 2 on which a workpiece 1 is supported. The pulley 36 at the base of the rotary shaft 3 is
The timing belt 38 of the drive motor 37 is connected. A metal holder 56 is provided below the rotary shaft 3 via a bearing 55, and the holder 56 is fixed to the metal holding frame 6 via an electric insulating material 57 made of Teflon or ceramic. Has been done.

【0004】保持体56には、冷却水の入口41A及び
出口42Aと、バイアス電圧印加用の端子58が設けら
れている。この端子58はベアリング55を介して回転
軸3に電気的に接続され、回転軸3を通じてテーブル2
にバイアス電圧が印加されるようになっている。成膜室
10の底壁11はアース電位とされている。回転軸3と
成膜室10の底壁11とを電気的に絶縁するために、底
壁11にはセラミック等からなる電気絶縁材65が設け
られ、この電気絶縁材65に軸受66、67が固定さ
れ、この軸受66、67により回転軸3が回転可能に保
持されている。
The holder 56 is provided with an inlet 41A and an outlet 42A of cooling water and a terminal 58 for applying a bias voltage. The terminal 58 is electrically connected to the rotary shaft 3 through the bearing 55, and the table 2 is electrically connected to the rotary shaft 3 through the rotary shaft 3.
A bias voltage is applied to. The bottom wall 11 of the film forming chamber 10 is at earth potential. In order to electrically insulate the rotary shaft 3 and the bottom wall 11 of the film forming chamber 10, an electric insulating material 65 made of ceramic or the like is provided on the bottom wall 11, and bearings 66, 67 are provided on the electric insulating material 65. It is fixed, and the rotating shaft 3 is rotatably held by the bearings 66 and 67.

【0005】保持枠6は、成膜室10の底壁11に固定
されたロッド63にスライド可能に保持され、この保持
枠6の下端にはエアシリンダ64のシリンダロッドが連
結され、このエアシリンダ64は固定枠68に固定さ
れ、この固定枠68は成膜室10に固定されている。こ
のエアシリンダ64は、成膜室10に対してテーブル2
を昇降させるものであり、被処理体1が搬送される間は
テーブル2が下方の待機位置に下降しており、被処理体
1がテーブル2の上方に位置されると、エアシリンダ6
4により回転軸3が上昇し、テーブル2が被処理体1を
突き上げるようにして被処理体1を受け取る。保持枠6
には駆動モータ37が固定され、回転軸3と一体的に昇
降するようになっている。
The holding frame 6 is slidably held by a rod 63 fixed to the bottom wall 11 of the film forming chamber 10, and a cylinder rod of an air cylinder 64 is connected to the lower end of the holding frame 6 to form a cylinder. 64 is fixed to a fixed frame 68, and this fixed frame 68 is fixed to the film forming chamber 10. This air cylinder 64 is installed on the table
The table 2 is lowered to a standby position below while the object 1 to be processed is conveyed. When the object 1 to be processed is positioned above the table 2, the air cylinder 6
4, the rotary shaft 3 rises, and the table 2 pushes up the object 1 to receive the object 1 to be processed. Holding frame 6
A drive motor 37 is fixed to the drive shaft 37 and moves up and down integrally with the rotary shaft 3.

【0006】回転軸3にバイアス電圧を印加すると回転
軸3が高温になるため、回転軸3を冷却するために、回
転軸3の内部には、図6にも示すように、空間を2分す
る仕切り板33Aが設けられ、回転軸3の下部の入口4
1Aから供給された冷却水は回転軸3の一方の空間34
Aを上昇して、仕切り板33Aの上部を乗り越えて他方
の空間35Aを下降し、回転軸3の下部の出口42Aか
ら外部に流出するようになっている。この冷却水は、電
圧が印加される回転軸3に直接触れるため、絶縁性の高
い純水が用いられている。
When a bias voltage is applied to the rotary shaft 3, the rotary shaft 3 becomes hot. Therefore, in order to cool the rotary shaft 3, the space inside the rotary shaft 3 is divided into two as shown in FIG. A partition plate 33A is provided for
The cooling water supplied from 1A is one space 34 of the rotary shaft 3.
A is moved upward, over the upper portion of the partition plate 33A, lowered in the other space 35A, and discharged from the outlet 42A in the lower portion of the rotary shaft 3 to the outside. Since this cooling water directly contacts the rotating shaft 3 to which a voltage is applied, pure water having a high insulating property is used.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図5の
従来の装置では、回転軸3の冷却水として絶縁性の高い
純水を使用するため、常時純水の管理が必要とされ、煩
雑となる問題があった。また、冷却水の配管として十分
な絶縁性を維持するためには金属製のものを用いること
が困難であり、配管設備の負担が大きい問題があった。
さらに、冷却水の絶縁性が低下するとバイアス電圧が漏
電するおそれがあるという危険性があった。また、回転
軸3を成膜室10から電気的に絶縁するために必要とさ
れる構造が煩雑であり、製作上の難点があった。
However, in the conventional apparatus shown in FIG. 5, since pure water having a high insulating property is used as the cooling water for the rotary shaft 3, it is necessary to constantly manage the pure water, which is complicated. There was a problem. In addition, it is difficult to use a metal pipe as the cooling water pipe in order to maintain a sufficient insulating property, and there is a problem that the burden on the piping facility is large.
Further, there is a risk that the bias voltage may leak if the insulating property of the cooling water decreases. Further, the structure required to electrically insulate the rotary shaft 3 from the film forming chamber 10 is complicated, and there is a manufacturing difficulty.

【0008】本発明は、以上のような事情に基づいてな
されたものであって、その目的は、冷却水として絶縁性
の配慮が不要な普通水を用いることを可能とし、バイア
ス電圧の漏電のおそれがなく、回転軸との電気的な絶縁
構造を簡単にすることができるバイアス電極付昇降回転
テーブル装置を提供することにある。
The present invention has been made based on the above circumstances, and an object thereof is to make it possible to use ordinary water as cooling water which does not require consideration of insulation properties, and to prevent leakage of bias voltage. It is an object of the present invention to provide a lifting / lowering rotary table device with a bias electrode, which has no fear and can simplify an electrically insulating structure from a rotary shaft.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明のバイアス電極付
昇降回転テーブル装置は、被処理体を支持するテーブル
と、このテーブルを回転させる回転軸と、前記テーブル
を昇降させる昇降手段と、前記テーブルにバイアス電圧
を印加するバイアス電極とを備えたバイアス電極付昇降
回転テーブル装置において、前記回転軸を内管と外管か
らなる2重管構造とし、この内管の内部に前記バイアス
電極を当該内管とは絶縁して設け、当該内管と外管との
間の空間に冷却水を供給することを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION A lifting / lowering rotary table device with a bias electrode according to the present invention is a table for supporting an object to be processed, a rotary shaft for rotating the table, a lifting means for lifting / lowering the table, and the table. In a lifting / lowering rotary table device with a bias electrode having a bias electrode for applying a bias voltage to the inside, the rotating shaft has a double tube structure including an inner tube and an outer tube, and the bias electrode is provided inside the inner tube. The pipe is insulated from the pipe, and cooling water is supplied to the space between the inner pipe and the outer pipe.

【0010】[0010]

【作用】回転軸を内管と外管からなる2重管構造とし、
内管にバイアス電極を絶縁して設け、内管と外管との間
の空間を利用して冷却水を供給するので、冷却水が直接
バイアス電極に接触することがない。また、回転軸にも
バイアス電圧が印加されることがない。
[Operation] The rotating shaft has a double pipe structure consisting of an inner pipe and an outer pipe,
Since the bias electrode is insulated from the inner pipe and the cooling water is supplied by utilizing the space between the inner pipe and the outer pipe, the cooling water does not come into direct contact with the bias electrode. Further, no bias voltage is applied to the rotating shaft.

【0011】[0011]

【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。図
1は、本発明の実施例に係るバイアス電極付昇降回転テ
ーブル装置を示し、真空成膜装置に使用されるものであ
る。被処理体1を支持する金属製のテーブル2の下部に
このテーブル2を回転させる回転軸3が上下に伸びるよ
う設けられている。この回転軸3は、図2及び図3にも
示すように、金属製の内管31と外管32からなる2重
管構造であり、内管31と外管32との間に冷却水の空
間が形成されている。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described below. FIG. 1 shows a lifting rotary table device with a bias electrode according to an embodiment of the present invention, which is used in a vacuum film forming apparatus. A rotary shaft 3 for rotating the table 2 is provided below the metal table 2 that supports the object 1 to be processed so as to extend vertically. As shown in FIGS. 2 and 3, the rotating shaft 3 has a double pipe structure including an inner pipe 31 and an outer pipe 32 made of metal, and cooling water is provided between the inner pipe 31 and the outer pipe 32. A space is formed.

【0012】この空間は仕切り板33により2分され、
回転軸3の一方の空間34に対向する下部には冷却水の
入口41が設けられ、回転軸3の他方の空間35に対向
する下部には冷却水の出口42が設けられている。仕切
り板33の上方には隙間による連通路が形成され、回転
軸3の一方の空間34が冷却水の上昇路とされ、他方の
空間35が冷却水の下降路とされる。
This space is divided into two by a partition plate 33,
A cooling water inlet 41 is provided in a lower portion of the rotating shaft 3 facing the space 34, and a cooling water outlet 42 is provided in a lower portion of the rotating shaft 3 facing the other space 35. A communication path is formed by a gap above the partition plate 33, and one space 34 of the rotating shaft 3 serves as an ascending path for the cooling water and the other space 35 serves as a descending path for the cooling water.

【0013】回転軸3の内管31の内部には、上下に伸
びる例えばSUSからなるバイアス電極5を当該内管3
1とは絶縁した状態で設けられている。即ち、バイアス
電極5の上端部はテーブル2に接続されるとともに、絶
縁ガイシ51を介して回転軸3に固定され、バイアス電
極5の下端部は絶縁ブッシュ52を介して回転軸3の下
部に固定されている。さらに、バイアス電極5の下端は
絶縁ブッシュ52を貫通して伸び、ベアリング53を介
して回転可能に導電板54に連結されている。この導電
板54は保持枠6に保持され、バイアス電圧は、この導
電板54及びベアリング53を介してバイアス電極5に
印加されるようになっている。成膜室10の底壁11が
アース電位とされている。
Inside the inner tube 31 of the rotary shaft 3, a bias electrode 5 made of, for example, SUS and extending vertically is provided.
1 is provided in an insulated state. That is, the upper end of the bias electrode 5 is connected to the table 2 and fixed to the rotating shaft 3 via the insulating insulator 51, and the lower end of the bias electrode 5 is fixed to the lower part of the rotating shaft 3 via the insulating bush 52. Has been done. Further, the lower end of the bias electrode 5 extends through the insulating bush 52 and is rotatably connected to the conductive plate 54 via a bearing 53. The conductive plate 54 is held by the holding frame 6, and the bias voltage is applied to the bias electrode 5 via the conductive plate 54 and the bearing 53. The bottom wall 11 of the film forming chamber 10 is at earth potential.

【0014】バイアス電極5の下端部の絶縁ブッシュ5
2には、図示しない通気口が設けられ、この通気口は回
転軸3の内管31の内部に連通し、バイアス電極5の雰
囲気が大気と連通するようになっている。回転軸3と成
膜室10の底壁11とはメタル軸受61により連結さ
れ、回転軸3と保持枠6とは玉軸受62により連結さ
れ、回転軸3が成膜室10及び保持枠6に対して回転可
能とされている。回転軸3の基部にはプーリ36が設け
られ、このプーリ36には、駆動モータ37のタイミン
グベルト38が連結されている。駆動モータ37は保持
枠6に固定されている。
Insulating bush 5 at the lower end of the bias electrode 5
A vent hole (not shown) is provided at 2, and the vent hole communicates with the inside of the inner tube 31 of the rotary shaft 3 so that the atmosphere of the bias electrode 5 communicates with the atmosphere. The rotating shaft 3 and the bottom wall 11 of the film forming chamber 10 are connected by a metal bearing 61, the rotating shaft 3 and the holding frame 6 are connected by a ball bearing 62, and the rotating shaft 3 is connected to the film forming chamber 10 and the holding frame 6. It is supposed to be rotatable. A pulley 36 is provided at the base of the rotary shaft 3, and a timing belt 38 of a drive motor 37 is connected to the pulley 36. The drive motor 37 is fixed to the holding frame 6.

【0015】保持枠6は、成膜室10の底壁11に固定
されたロッド63にスライド可能に保持され、この保持
枠6にはエアシリンダ64のシリンダロッドが連結さ
れ、エアシリンダ64は固定枠68に固定され、この固
定枠68は成膜室10に固定されている。このエアシリ
ンダ64は、成膜室10に対してテーブル2を昇降させ
るものであり、昇降手段を構成している。回転軸3の昇
降時及び回転時の気密シールのために、オ−リング39
が用いられている。また、冷却水の通過部もオ−リング
39により気密シールされている。
The holding frame 6 is slidably held by a rod 63 fixed to the bottom wall 11 of the film forming chamber 10. A cylinder rod of an air cylinder 64 is connected to the holding frame 6, and the air cylinder 64 is fixed. It is fixed to a frame 68, and this fixed frame 68 is fixed to the film forming chamber 10. The air cylinder 64 raises and lowers the table 2 with respect to the film forming chamber 10 and constitutes an elevating means. An o-ring 39 is provided for air-tight sealing when the rotary shaft 3 is lifted and lowered.
Is used. Further, the cooling water passage portion is also hermetically sealed by the O-ring 39.

【0016】次に、真空成膜装置の全体について説明す
る。図4は、真空成膜装置の概略を示し、12はロード
ロック室、10は成膜室であり、被処理体1をロードロ
ック室12から成膜室10へ搬送するための搬送台車1
3が設けられている。搬送台車13は複数のローラ14
によってロードロック室12から成膜室10へと、また
成膜室10からロードロック室12へと往復移動され
る。ロードロック室12には昇降回転テーブル装置15
が設けられ、被処理体1が昇降回転テーブル装置15に
保持されて加熱される。成膜室10の上部及び側部には
蒸発源ユニット16が設けられ、これよりの蒸発源物質
が被処理体1の成膜に用いられる。
Next, the entire vacuum film forming apparatus will be described. FIG. 4 shows an outline of the vacuum film forming apparatus. Reference numeral 12 is a load lock chamber, 10 is a film forming chamber, and a transfer carriage 1 for transferring the object 1 to be processed from the load lock chamber 12 to the film forming chamber 10.
3 is provided. The carriage 13 has a plurality of rollers 14.
Thus, the load lock chamber 12 is reciprocated from the film formation chamber 10 to the load lock chamber 12 and vice versa. The load lock chamber 12 has a lifting / lowering rotary table device 15
Is provided, and the object to be processed 1 is held and heated by the elevating and rotating table device 15. An evaporation source unit 16 is provided on the upper and side portions of the film forming chamber 10, and an evaporation source substance from this is used for forming a film on the object 1.

【0017】次に、この実施例に係るバイアス電極付昇
降回転テーブル装置の作用について説明する。
Next, the operation of the lifting rotary table device with the bias electrode according to this embodiment will be described.

【0018】ロードロック室12で加熱処理を受けた被
処理体1は、搬送台車13により搬送されて成膜室10
の所定位置に静止する。当該所定位置の下方に待機して
いたテーブル2がエアシリンダ64により上昇されて、
テーブル2が被処理体1を上方に突き上げるようにして
搬送台車13から被処理体1を受け取る。エアシリンダ
64によりさらにテーブル2が上昇して所定の処理位置
で停止する。駆動モータ37により回転軸3が回転さ
れ、テーブル2上の被処理体1が回転する。一方、バイ
アス電圧がバイアス電極5に印加されるとテーブル2に
も供給される。他方、普通水からなる冷却水が回転軸3
の内管31と外管32との間の一方の空間34の下方の
入口41から供給されると、冷却水が上昇して、仕切り
板33の上端を乗り越えて他方の空間35を下降し、出
口42から流出する。この冷却水により、回転軸3が冷
却される。このように被処理体1が回転され、テーブル
2にバイアス電圧が印加され、回転軸3が冷却水により
冷却された状態で、蒸発源ユニット16から蒸発源物質
が被処理体1の表面に被着して成膜が行われる。
The object 1 to be processed, which has been subjected to the heat treatment in the load lock chamber 12, is transferred by the transfer carriage 13 and is transferred to the film forming chamber 10.
Stand still in place. The table 2 waiting below the predetermined position is lifted by the air cylinder 64,
The table 1 pushes up the object 1 to be processed, and receives the object 1 to be processed from the carriage 13. The table 2 is further raised by the air cylinder 64 and stopped at a predetermined processing position. The rotation shaft 3 is rotated by the drive motor 37, and the object 1 to be processed on the table 2 is rotated. On the other hand, when the bias voltage is applied to the bias electrode 5, it is also supplied to the table 2. On the other hand, the cooling water consisting of ordinary water is the rotating shaft 3.
When it is supplied from the inlet 41 below the one space 34 between the inner pipe 31 and the outer pipe 32, the cooling water rises, gets over the upper end of the partition plate 33, and descends the other space 35, It flows out from the outlet 42. The rotating shaft 3 is cooled by this cooling water. In this way, the object 1 is rotated, the bias voltage is applied to the table 2, and the rotary shaft 3 is cooled by the cooling water, so that the evaporation source substance is applied to the surface of the object 1 from the evaporation source unit 16. The film is deposited and film formation is performed.

【0019】以上のように、この実施例によれば、回転
軸3を内管31と外管32の2重管構造とし、この内管
31にバイアス電極5を絶縁して設け、回転軸3の内管
31と外管32との間の空間を利用して冷却水を供給す
るので、冷却水が直接バイアス電極5に接触することが
ない。従って、冷却水には絶縁性が要求されず、普通水
を用いることが可能となる。このため、従来必要とされ
た純水の管理がまったく不要となり、冷却水の配管とし
て金属製チューブを用いることが可能となる。また、冷
却水の絶縁不良に起因する漏電のおそれも回避すること
ができる。さらに、回転軸3を成膜室10から電気的に
絶縁する必要がなく、構造的にも製作が容易となる。ま
た、バイアス電極5の雰囲気が通気口を介して大気に連
通していて、通気口を介して空気の出入りが自由とされ
ているので、バイアス電極5の放熱も十分なものとな
り、冷却効果もさらに高くなる。
As described above, according to this embodiment, the rotary shaft 3 has a double tube structure of the inner pipe 31 and the outer pipe 32, and the bias electrode 5 is provided on the inner pipe 31 in an insulated manner. Since the cooling water is supplied using the space between the inner pipe 31 and the outer pipe 32, the cooling water does not come into direct contact with the bias electrode 5. Therefore, the cooling water is not required to have insulating properties, and ordinary water can be used. Therefore, the management of pure water, which has been conventionally required, is completely unnecessary, and a metal tube can be used as the cooling water pipe. Further, it is possible to avoid the risk of electric leakage due to poor insulation of cooling water. Further, it is not necessary to electrically insulate the rotary shaft 3 from the film forming chamber 10, and the manufacturing is structurally easy. Further, since the atmosphere of the bias electrode 5 communicates with the atmosphere through the ventilation hole and the air can freely flow in and out through the ventilation hole, the heat dissipation of the bias electrode 5 is sufficient and the cooling effect is also obtained. It gets even higher.

【0020】実際に、この実施例のバイアス電極付昇降
回転テーブル装置を用いて、550℃に加熱した被処理
体1をテーブル2で支持し、バイアス電極5を介してテ
ーブル2に−2kVのバイアス電圧を印加して成膜処理
を行ったところ、良好な成膜を行うことができた。
Actually, by using the lifting / lowering rotary table device with the bias electrode of this embodiment, the object to be processed 1 heated to 550 ° C. is supported on the table 2, and the bias of −2 kV is applied to the table 2 via the bias electrode 5. When a film was formed by applying a voltage, a good film could be formed.

【0021】[0021]

【発明の効果】本発明によれば、回転軸を内管と外管の
2重管構造とし、この内管にバイアス電極を絶縁して設
け、回転軸の内管と外管との間の空間を利用して冷却水
を供給するので、冷却水が直接バイアス電極に接触する
ことがない。従って、冷却水には絶縁性が要求されず、
普通水を用いることが可能となる。このため、従来必要
とされた純水の管理がまったく不要となり、冷却水の配
管として金属製チューブを用いることが可能となる。ま
た、冷却水の絶縁不良に起因する漏電のおそれも回避す
ることができる。さらに、回転軸を電気的に絶縁する必
要がなく、構造的にも製作が容易となる。
According to the present invention, the rotating shaft has a double-tube structure of an inner tube and an outer tube, and a bias electrode is insulated from the inner tube so that a space between the inner tube and the outer tube of the rotating shaft is provided. Since the cooling water is supplied using the space, the cooling water does not directly contact the bias electrode. Therefore, the cooling water is not required to have insulation properties,
It becomes possible to use ordinary water. Therefore, the management of pure water, which has been conventionally required, is completely unnecessary, and a metal tube can be used as the cooling water pipe. Further, it is possible to avoid the risk of electric leakage due to poor insulation of cooling water. Further, it is not necessary to electrically insulate the rotating shaft, and the manufacturing is structurally easy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例に係るバイアス電極付昇降回転
テーブル装置の断面図である。
FIG. 1 is a sectional view of a lifting / lowering rotary table device with a bias electrode according to an embodiment of the present invention.

【図2】回転軸の横断平面図である。FIG. 2 is a cross-sectional plan view of a rotating shaft.

【図3】回転軸の部分破断斜視図である。FIG. 3 is a partially cutaway perspective view of a rotating shaft.

【図4】真空成膜装置の概略断面図である。FIG. 4 is a schematic sectional view of a vacuum film forming apparatus.

【図5】従来のバイアス電極付昇降回転テーブル装置の
断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view of a conventional lifting rotary table device with a bias electrode.

【図6】従来の回転軸の横断平面図である。FIG. 6 is a cross-sectional plan view of a conventional rotary shaft.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 被処理体 10 成膜室 11 成膜室の底壁 12 ロードロック室 16 蒸発源ユニット 2 テーブル 3 回転軸 31 内管 32 外管 33、33A 仕切り板 34、34A 一方の空間 35、35A 他方の空間 41、41A 冷却水の入口 42、42A 冷却水の出口 5 バイアス電極 6 保持枠 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Object to be processed 10 Film forming chamber 11 Bottom wall of film forming chamber 12 Load lock chamber 16 Evaporation source unit 2 Table 3 Rotating shaft 31 Inner tube 32 Outer tube 33, 33A Partition plate 34, 34A One space 35, 35A Another Space 41, 41A Cooling water inlet 42, 42A Cooling water outlet 5 Bias electrode 6 Holding frame

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被処理体を支持するテーブルと、このテ
ーブルを回転させる回転軸と、前記テーブルを昇降させ
る昇降手段と、前記テーブルにバイアス電圧を印加する
バイアス電極とを備えたバイアス電極付昇降回転テーブ
ル装置において、前記回転軸を内管と外管からなる2重
管構造とし、この内管の内部に前記バイアス電極を当該
内管とは絶縁して設け、当該内管と外管との間の空間に
冷却水を供給することを特徴とするバイアス電極付昇降
回転テーブル装置。
1. A lifting and lowering device with a bias electrode, comprising a table for supporting an object to be processed, a rotary shaft for rotating the table, a lifting and lowering means for lifting and lowering the table, and a bias electrode for applying a bias voltage to the table. In the rotary table device, the rotating shaft has a double-tube structure including an inner tube and an outer tube, and the bias electrode is provided inside the inner tube so as to be insulated from the inner tube. An elevating and lowering table device with a bias electrode, characterized in that cooling water is supplied to the space between them.
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