JPH06204124A - 軟ｘ線像露光法 - Google Patents
軟ｘ線像露光法Info
- Publication number
- JPH06204124A JPH06204124A JP5016766A JP1676693A JPH06204124A JP H06204124 A JPH06204124 A JP H06204124A JP 5016766 A JP5016766 A JP 5016766A JP 1676693 A JP1676693 A JP 1676693A JP H06204124 A JPH06204124 A JP H06204124A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- soft
- ray
- rays
- interference fringes
- sensitive substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70408—Interferometric lithography; Holographic lithography; Self-imaging lithography, e.g. utilizing the Talbot effect
Abstract
(57)【要約】
【目的】 格子状パタ―ンを有する像を、その格子状パ
タ―ンが比較的小さな最小ピッチを有しているものとし
て、基板上に、容易に、露光・記録させる。 【構成】 （ａ）軟Ｘ線源からの軟Ｘ線から、スプリッ
タを用いて、２つの軟Ｘ線を得、次で、それら２つの軟
Ｘ線から、２つの平行波形成用光学系をそれぞれ用い
て、２つの平行波軟Ｘ線を得、または、（ｂ）軟Ｘ線源
からの軟Ｘ線から、平行波形成用光学系を用いて平行波
軟Ｘ線を得、次で、その平行波軟Ｘ線から、スプリッタ
を用いて、２つの平行波軟Ｘ線を得、上記（ａ）または
（ｂ）で得られる上記２つの平行波軟Ｘ線にもとずき、
それらの干渉縞を感Ｘ線性基板上で得、それによって、
その感Ｘ線性基板を、上記干渉縞によって露光させ、よ
って、上記干渉縞を、上記感Ｘ線性基板上に、格子状パ
タ―ンを有する像として記録させる。
タ―ンが比較的小さな最小ピッチを有しているものとし
て、基板上に、容易に、露光・記録させる。 【構成】 （ａ）軟Ｘ線源からの軟Ｘ線から、スプリッ
タを用いて、２つの軟Ｘ線を得、次で、それら２つの軟
Ｘ線から、２つの平行波形成用光学系をそれぞれ用い
て、２つの平行波軟Ｘ線を得、または、（ｂ）軟Ｘ線源
からの軟Ｘ線から、平行波形成用光学系を用いて平行波
軟Ｘ線を得、次で、その平行波軟Ｘ線から、スプリッタ
を用いて、２つの平行波軟Ｘ線を得、上記（ａ）または
（ｂ）で得られる上記２つの平行波軟Ｘ線にもとずき、
それらの干渉縞を感Ｘ線性基板上で得、それによって、
その感Ｘ線性基板を、上記干渉縞によって露光させ、よ
って、上記干渉縞を、上記感Ｘ線性基板上に、格子状パ
タ―ンを有する像として記録させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、格子状パタ―ンを有す
る軟Ｘ線像を感Ｘ線性基板上に記録させるための軟Ｘ線
像露光法に関し、半導体集積回路装置をエッチング用な
どの格子状パタ―ンを有するマスクを用いて製造する場
合の、その格子状パタ―ンを有するマスクを形成する場
合に適用し得るものである。
る軟Ｘ線像を感Ｘ線性基板上に記録させるための軟Ｘ線
像露光法に関し、半導体集積回路装置をエッチング用な
どの格子状パタ―ンを有するマスクを用いて製造する場
合の、その格子状パタ―ンを有するマスクを形成する場
合に適用し得るものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、図４を伴って次に述べるレーザ光
像露光法が提案されている。
像露光法が提案されている。
【０００３】すなわち、（ａ）レーザ光源１からのレー
ザ光２をレーザ光スプリッタ３に供給されることによっ
て、レーザ光スプリッタ３から、レーザ光２にもとずく
２つのレーザ光４及び５を得、（ｂ）それらレーザ光４
及び５を平行波形成用光学系６及び７にそれぞれ供給さ
せることによって、それら平行波形成用光学系６及び７
から、レーザ光４及び５にもとずく平行波でなるレーザ
光８及び９を得、（ｃ）それらレーザ光８及び９にもと
ずき、それらの干渉縞１０を、表面上に感レーザ光層１
１を有することによって感レーザ光性を有する感レーザ
光性基板１２上で得、それによってその感レーザ光性基
板１２を、レーザ光８及び９の干渉縞１０によって露光
させ、（ｄ）よって、その干渉縞１０を、感レーザ光性
基板１２上に、格子状パタ―ンを有するレーザ光像とし
て記録させる。
ザ光２をレーザ光スプリッタ３に供給されることによっ
て、レーザ光スプリッタ３から、レーザ光２にもとずく
２つのレーザ光４及び５を得、（ｂ）それらレーザ光４
及び５を平行波形成用光学系６及び７にそれぞれ供給さ
せることによって、それら平行波形成用光学系６及び７
から、レーザ光４及び５にもとずく平行波でなるレーザ
光８及び９を得、（ｃ）それらレーザ光８及び９にもと
ずき、それらの干渉縞１０を、表面上に感レーザ光層１
１を有することによって感レーザ光性を有する感レーザ
光性基板１２上で得、それによってその感レーザ光性基
板１２を、レーザ光８及び９の干渉縞１０によって露光
させ、（ｄ）よって、その干渉縞１０を、感レーザ光性
基板１２上に、格子状パタ―ンを有するレーザ光像とし
て記録させる。
【０００４】この場合、平行波形成用光学系６及び７と
して、平面反射鏡２１、凸レンズ２２、ピンホ―ル２
３、放物面反射鏡２４が、レーザ光スプリッタ３側から
感レーザ光性基板１２側に向って、それらの順に配列さ
れている構成を有するものを用いる。
して、平面反射鏡２１、凸レンズ２２、ピンホ―ル２
３、放物面反射鏡２４が、レーザ光スプリッタ３側から
感レーザ光性基板１２側に向って、それらの順に配列さ
れている構成を有するものを用いる。
【０００５】以上が、従来提案されているレーザ光像露
光法である。
光法である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このような従来提案さ
れているレーザ光像露光法の場合、レーザ光源１から得
られるレーザ光２にもとずき得られた平行波でなる２つ
のレーザ光８及び９による干渉縞１０を、感レーザ光性
基板１２上に、格子状パタ―ンを有するレーザ光像とし
て記録させるようにしているため、レーザ光像を、その
格子状パタ―ンがレーザ光源１から得られるレーザ光２
の波長に応じた比較的大きな最小ピッチ（０．２μｍ程
度）を有しているものとしてしか、感レーザ光性基板１
２上に記録させることができない。従って、格子状パタ
―ンを有する像を、その格子状パタ―ンが比較的大きな
最小ピッチを有しているものとしてしか、基板上に記録
することができない、という欠点を有していた。
れているレーザ光像露光法の場合、レーザ光源１から得
られるレーザ光２にもとずき得られた平行波でなる２つ
のレーザ光８及び９による干渉縞１０を、感レーザ光性
基板１２上に、格子状パタ―ンを有するレーザ光像とし
て記録させるようにしているため、レーザ光像を、その
格子状パタ―ンがレーザ光源１から得られるレーザ光２
の波長に応じた比較的大きな最小ピッチ（０．２μｍ程
度）を有しているものとしてしか、感レーザ光性基板１
２上に記録させることができない。従って、格子状パタ
―ンを有する像を、その格子状パタ―ンが比較的大きな
最小ピッチを有しているものとしてしか、基板上に記録
することができない、という欠点を有していた。
【０００７】よって、本発明は、上述した欠点のない、
新規な軟Ｘ線像露光法を提案せんとするものである。
新規な軟Ｘ線像露光法を提案せんとするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本願第１番目の発明によ
る軟Ｘ線像露光法は、（ａ）軟Ｘ線源からの第１の軟Ｘ
線を軟Ｘ線スプリッタに供給させることによって、上記
軟Ｘ線スプリッタから、上記第１の軟Ｘ線にもとずく第
２及び第３の軟Ｘ線を得、（ｂ）上記第２及び第３の軟
Ｘ線を第１及び第２の平行波形成用光学系にそれぞれ供
給させることによって、上記第１及び第２の平行波形成
用光学系から、上記第２及び第３の軟Ｘ線にもとずく平
行波でなる第４及び第５の軟Ｘ線をそれぞれ得、（ｃ）
上記第４及び第５の軟Ｘ線にもとずき、それらの干渉縞
を、感Ｘ線性基板上で得、それによって、上記感Ｘ線性
基板を、上記干渉縞によって露光させ、（ｄ）よって、
上記干渉縞を、上記感Ｘ線性基板上に、格子状パタ―ン
を有する軟Ｘ線像として記録させる。
る軟Ｘ線像露光法は、（ａ）軟Ｘ線源からの第１の軟Ｘ
線を軟Ｘ線スプリッタに供給させることによって、上記
軟Ｘ線スプリッタから、上記第１の軟Ｘ線にもとずく第
２及び第３の軟Ｘ線を得、（ｂ）上記第２及び第３の軟
Ｘ線を第１及び第２の平行波形成用光学系にそれぞれ供
給させることによって、上記第１及び第２の平行波形成
用光学系から、上記第２及び第３の軟Ｘ線にもとずく平
行波でなる第４及び第５の軟Ｘ線をそれぞれ得、（ｃ）
上記第４及び第５の軟Ｘ線にもとずき、それらの干渉縞
を、感Ｘ線性基板上で得、それによって、上記感Ｘ線性
基板を、上記干渉縞によって露光させ、（ｄ）よって、
上記干渉縞を、上記感Ｘ線性基板上に、格子状パタ―ン
を有する軟Ｘ線像として記録させる。
【０００９】本願第２番目の発明による軟Ｘ線像露光法
は、（ａ）軟Ｘ線源からの第１の軟Ｘ線を平行波形成用
光学系に供給させることによって、上記平行波形成用光
学系から、上記第１の軟Ｘ線にもとずく平行波でなる第
２の軟Ｘ線を得、（ｂ）上記第２の軟Ｘ線を、軟Ｘ線ス
プリッタに供給させることによって、上記軟Ｘ線スプリ
ッタから、上記第２の軟Ｘ線にもとずく平行波でなる第
３及び第４の軟Ｘ線を得、（ｃ）上記第３及び第４の軟
Ｘ線にもとずき、それらの干渉縞を、感Ｘ線性基板上で
得、それによって、上記感Ｘ線性基板を、上記干渉縞に
よって露光させ、（ｄ）よって、上記干渉縞を、上記感
Ｘ線性基板上に、格子状パタ―ンを有する軟Ｘ線像とし
て記録させる。
は、（ａ）軟Ｘ線源からの第１の軟Ｘ線を平行波形成用
光学系に供給させることによって、上記平行波形成用光
学系から、上記第１の軟Ｘ線にもとずく平行波でなる第
２の軟Ｘ線を得、（ｂ）上記第２の軟Ｘ線を、軟Ｘ線ス
プリッタに供給させることによって、上記軟Ｘ線スプリ
ッタから、上記第２の軟Ｘ線にもとずく平行波でなる第
３及び第４の軟Ｘ線を得、（ｃ）上記第３及び第４の軟
Ｘ線にもとずき、それらの干渉縞を、感Ｘ線性基板上で
得、それによって、上記感Ｘ線性基板を、上記干渉縞に
よって露光させ、（ｄ）よって、上記干渉縞を、上記感
Ｘ線性基板上に、格子状パタ―ンを有する軟Ｘ線像とし
て記録させる。
【００１０】
【作用・効果】本願第１番目の発明及び本願第２番目の
発明による軟Ｘ線像露光法の場合、軟Ｘ線源から得られ
る第１の軟Ｘ線にもとずき得られた平行波でなる２つの
軟Ｘ線（本願第１番目の発明の場合第４及び第５の軟Ｘ
線、本願第２番目の発明の場合第３及び第４の軟Ｘ線）
による干渉縞を、感Ｘ線性基板上に、格子状パタ―ンを
有する軟Ｘ線像として、記録させるようにしているの
で、その軟Ｘ線像を、その格子状パタ―ンが軟Ｘ線源か
ら得られる第１の軟Ｘ線の波長に応じた、図４で前述し
た従来のレーザ光像露光法の場合のレーザ光像の格子状
パタ―ンの最小ピッチに比し小さな最小ピッチを有して
いるものとして記録させることができる。従って、格子
状パタ―ンを有する像を、格子状パタ―ンが、図４で前
述した従来のレーザ光像露光法による場合に比し小さな
最小ピッチを有するものとして、基板上に容易に得るこ
とができる。
発明による軟Ｘ線像露光法の場合、軟Ｘ線源から得られ
る第１の軟Ｘ線にもとずき得られた平行波でなる２つの
軟Ｘ線（本願第１番目の発明の場合第４及び第５の軟Ｘ
線、本願第２番目の発明の場合第３及び第４の軟Ｘ線）
による干渉縞を、感Ｘ線性基板上に、格子状パタ―ンを
有する軟Ｘ線像として、記録させるようにしているの
で、その軟Ｘ線像を、その格子状パタ―ンが軟Ｘ線源か
ら得られる第１の軟Ｘ線の波長に応じた、図４で前述し
た従来のレーザ光像露光法の場合のレーザ光像の格子状
パタ―ンの最小ピッチに比し小さな最小ピッチを有して
いるものとして記録させることができる。従って、格子
状パタ―ンを有する像を、格子状パタ―ンが、図４で前
述した従来のレーザ光像露光法による場合に比し小さな
最小ピッチを有するものとして、基板上に容易に得るこ
とができる。
【００１１】
【実施例１】次に、図１を伴って、本発明による軟Ｘ線
像露光法の第１の実施例を述べよう。
像露光法の第１の実施例を述べよう。
【００１２】図１に示す本発明による軟Ｘ線像露光法
は、（ａ）軟Ｘ線源３１からの第１の軟Ｘ線３２を軟Ｘ
線スプリッタ３３に供給させることによって、その軟Ｘ
線スプリッタ３３から、第１の軟Ｘ線３２にもとずく第
２及び第３の軟Ｘ線３４及び３５を得、（ｂ）次で、そ
れら第２及び第３の軟Ｘ線３４及び３４を第１及び第２
の平行波形成用光学系３６及び３７にそれぞれ供給させ
ることによって、第１及び第２の平行波形成用光学系３
６及び３７から、第２及び第３の軟Ｘ線３４及び３５に
もとずく波面の揃った平行波でなる第４及び第５の軟Ｘ
線３８及び３９をそれぞれ得、（ｃ）次で、それら第４
及び第５の軟Ｘ線３８及び３９にもとずき、それらの干
渉縞４０を、第４及び第５の軟Ｘ線３８及び３９に対し
て軟Ｘ線平面反射鏡４２及び４３をそれぞれ用いて、表
面上に感Ｘ線層２５を有することによって感Ｘ線性を有
する感Ｘ線性基板４４上で得、それによって、感Ｘ線性
基板４４を、干渉縞４０によって露光させ、（ｄ）よっ
て、干渉縞４０を、感Ｘ線性基板４４上に、格子状パタ
―ンを有する軟Ｘ線像として記録させる。
は、（ａ）軟Ｘ線源３１からの第１の軟Ｘ線３２を軟Ｘ
線スプリッタ３３に供給させることによって、その軟Ｘ
線スプリッタ３３から、第１の軟Ｘ線３２にもとずく第
２及び第３の軟Ｘ線３４及び３５を得、（ｂ）次で、そ
れら第２及び第３の軟Ｘ線３４及び３４を第１及び第２
の平行波形成用光学系３６及び３７にそれぞれ供給させ
ることによって、第１及び第２の平行波形成用光学系３
６及び３７から、第２及び第３の軟Ｘ線３４及び３５に
もとずく波面の揃った平行波でなる第４及び第５の軟Ｘ
線３８及び３９をそれぞれ得、（ｃ）次で、それら第４
及び第５の軟Ｘ線３８及び３９にもとずき、それらの干
渉縞４０を、第４及び第５の軟Ｘ線３８及び３９に対し
て軟Ｘ線平面反射鏡４２及び４３をそれぞれ用いて、表
面上に感Ｘ線層２５を有することによって感Ｘ線性を有
する感Ｘ線性基板４４上で得、それによって、感Ｘ線性
基板４４を、干渉縞４０によって露光させ、（ｄ）よっ
て、干渉縞４０を、感Ｘ線性基板４４上に、格子状パタ
―ンを有する軟Ｘ線像として記録させる。
【００１３】この場合、第１及び第２の平行波形成用光
学系３６及び３７として、ピンホ―ル５１、軟Ｘ線曲面
反射鏡５２及び５３が、軟Ｘ線源３１側から感Ｘ線性基
板４４側に向って、それらの順に配列されている構成を
有するものを用いる。
学系３６及び３７として、ピンホ―ル５１、軟Ｘ線曲面
反射鏡５２及び５３が、軟Ｘ線源３１側から感Ｘ線性基
板４４側に向って、それらの順に配列されている構成を
有するものを用いる。
【００１４】以上が、本発明による軟Ｘ線像露光法の第
１の実施例である。
１の実施例である。
【００１５】このような本発明による軟Ｘ線像露光法の
第１の実施例の場合、軟Ｘ線源３１から得られる第１の
軟Ｘ線３２にもとずき得られた平行波でなる２つの第４
及び第５の軟Ｘ線３８及び３９による干渉縞４０を、感
Ｘ線性基板４４上に格子状パタ―ンを有する軟Ｘ線像と
して記録させるようにしているので、その軟Ｘ線像を、
その格子状パタ―ンが軟Ｘ線源３１から得られる第１の
軟Ｘ線３２の波長に応じた、図４で前述した従来のレー
ザ光像露光法の場合のレーザ光像の格子状パタ―ンの最
小ピッチに比し小さな最小ピッチを有しているものとし
て、記録させることができる。従って、格子状パタ―ン
を有する像を、格子状パタ―ンが、図４で前述した従来
のレーザ光像露光法による場合に比し小さな最小ピッチ
を有するものとして、基板上に容易に得ることができ
る。
第１の実施例の場合、軟Ｘ線源３１から得られる第１の
軟Ｘ線３２にもとずき得られた平行波でなる２つの第４
及び第５の軟Ｘ線３８及び３９による干渉縞４０を、感
Ｘ線性基板４４上に格子状パタ―ンを有する軟Ｘ線像と
して記録させるようにしているので、その軟Ｘ線像を、
その格子状パタ―ンが軟Ｘ線源３１から得られる第１の
軟Ｘ線３２の波長に応じた、図４で前述した従来のレー
ザ光像露光法の場合のレーザ光像の格子状パタ―ンの最
小ピッチに比し小さな最小ピッチを有しているものとし
て、記録させることができる。従って、格子状パタ―ン
を有する像を、格子状パタ―ンが、図４で前述した従来
のレーザ光像露光法による場合に比し小さな最小ピッチ
を有するものとして、基板上に容易に得ることができ
る。
【００１６】
【実施例２】次に、図２を伴って、本発明による軟Ｘ線
像露光法の第２の実施例を述べよう。
像露光法の第２の実施例を述べよう。
【００１７】図２において、図１との対応部分に同一符
号を付し、詳細説明を省略する。
号を付し、詳細説明を省略する。
【００１８】図２に示す本発明による軟Ｘ線像露光法
は、平行波形成用光学系３６及び３７として、ピンホ―
ル５１、軟Ｘ線曲面反射鏡５２及び５３が、軟Ｘ線源３
１側から感Ｘ線性基板４４側に向って、それらの順に配
列されている構成を有するものを用いるのに代え、ピン
ホ―ル５１、フレネルゾ―ンプレ―ト５４、ピンホ―ル
５５、軟Ｘ線曲面反射鏡５６が、軟Ｘ線源３１側から感
Ｘ線性基板４４側に向って、それらの順に配列されてい
る構成を有するものを用いることを除いて、図１に示す
本発明による軟Ｘ線像露光法の第１の実施例の場合と同
様である。
は、平行波形成用光学系３６及び３７として、ピンホ―
ル５１、軟Ｘ線曲面反射鏡５２及び５３が、軟Ｘ線源３
１側から感Ｘ線性基板４４側に向って、それらの順に配
列されている構成を有するものを用いるのに代え、ピン
ホ―ル５１、フレネルゾ―ンプレ―ト５４、ピンホ―ル
５５、軟Ｘ線曲面反射鏡５６が、軟Ｘ線源３１側から感
Ｘ線性基板４４側に向って、それらの順に配列されてい
る構成を有するものを用いることを除いて、図１に示す
本発明による軟Ｘ線像露光法の第１の実施例の場合と同
様である。
【００１９】図２に示す本発明による軟Ｘ線像露光法の
第２の実施例によれば、上述した事項を除いて、図１に
示す本発明による軟Ｘ線像露光法の第１の実施例の場合
と同様であるので、詳細説明は省略するが、図１に示す
本発明による第１の実施例の場合と同様の作用効果が得
られることは明らかである。
第２の実施例によれば、上述した事項を除いて、図１に
示す本発明による軟Ｘ線像露光法の第１の実施例の場合
と同様であるので、詳細説明は省略するが、図１に示す
本発明による第１の実施例の場合と同様の作用効果が得
られることは明らかである。
【００２０】
【実施例３】次に、図３を伴って、本発明による軟Ｘ線
像露光法の第３の実施例を述べよう。
像露光法の第３の実施例を述べよう。
【００２１】図３に示す本発明による軟Ｘ線像露光法の
第３の実施例は、（ａ）図１に示す本発明による軟Ｘ線
像露光法の第１の実施例の場合と同様の軟Ｘ線源３１か
らの第１の軟Ｘ線３２を平行波形成用光学系６０に供給
させることによって、その平行波形成用光学系６０か
ら、第１の軟Ｘ線３２にもとずく波面の揃った平行波で
なる第２の軟Ｘ線６２を得、（ｂ）次で、その第２の軟
Ｘ線６２を、軟Ｘ線スプリッタ６１に供給させることに
よって、その軟Ｘ線スプリッタ６１から、第２の軟Ｘ線
６２にもとずく波面の揃った平行波でなる第３及び第４
の軟Ｘ線６３及び６４を得、（ｃ）次で、それら第３及
び第４の軟Ｘ線６３及び６４にもとずき、それらの図１
に示す本発明による軟Ｘ線像露光法の第１の実施例の場
合と同様の干渉縞４０を、第３及び第４の軟Ｘ線６３及
び６４に対して、軟Ｘ線平面反射鏡６６及び６７をそれ
ぞれ用いて、同様の感Ｘ線層４５を有する感Ｘ線性基板
４４上で得、（ｄ）それによって、感Ｘ線性基板４４
を、干渉縞４０によって露光させ、（ｅ）よって、図１
に示す本発明による軟Ｘ線像露光法の第１の実施例の場
合と同様に、干渉縞４０を、感Ｘ線性基板４４上に、格
子状パタ―ンを有する軟Ｘ線像として記録させる。
第３の実施例は、（ａ）図１に示す本発明による軟Ｘ線
像露光法の第１の実施例の場合と同様の軟Ｘ線源３１か
らの第１の軟Ｘ線３２を平行波形成用光学系６０に供給
させることによって、その平行波形成用光学系６０か
ら、第１の軟Ｘ線３２にもとずく波面の揃った平行波で
なる第２の軟Ｘ線６２を得、（ｂ）次で、その第２の軟
Ｘ線６２を、軟Ｘ線スプリッタ６１に供給させることに
よって、その軟Ｘ線スプリッタ６１から、第２の軟Ｘ線
６２にもとずく波面の揃った平行波でなる第３及び第４
の軟Ｘ線６３及び６４を得、（ｃ）次で、それら第３及
び第４の軟Ｘ線６３及び６４にもとずき、それらの図１
に示す本発明による軟Ｘ線像露光法の第１の実施例の場
合と同様の干渉縞４０を、第３及び第４の軟Ｘ線６３及
び６４に対して、軟Ｘ線平面反射鏡６６及び６７をそれ
ぞれ用いて、同様の感Ｘ線層４５を有する感Ｘ線性基板
４４上で得、（ｄ）それによって、感Ｘ線性基板４４
を、干渉縞４０によって露光させ、（ｅ）よって、図１
に示す本発明による軟Ｘ線像露光法の第１の実施例の場
合と同様に、干渉縞４０を、感Ｘ線性基板４４上に、格
子状パタ―ンを有する軟Ｘ線像として記録させる。
【００２２】この場合、平行波形成用光学系６０とし
て、ピンホ―ル７１、フレネルゾ―ンプレ―ト７２、ピ
ンホ―ル７３、軟Ｘ線曲面反射鏡７４が、軟Ｘ線源３１
側から軟Ｘ線スプリッタ６１側に向って、それらの順に
配列されている構成を有するものを用いる。
て、ピンホ―ル７１、フレネルゾ―ンプレ―ト７２、ピ
ンホ―ル７３、軟Ｘ線曲面反射鏡７４が、軟Ｘ線源３１
側から軟Ｘ線スプリッタ６１側に向って、それらの順に
配列されている構成を有するものを用いる。
【００２３】以上が、本発明による軟Ｘ線像露光法の第
３の実施例である。
３の実施例である。
【００２４】このような本発明による軟Ｘ線像露光法の
第３の実施例の場合も、図１に示す本発明による軟Ｘ線
像露光法の第１の実施例の場合に準じて、軟Ｘ線源３１
から得られる第１の軟Ｘ線３２にもとずき得られた平行
波でなる２つの第３及び第４の軟Ｘ線６３及び６４によ
る干渉縞４０を、感Ｘ線性基板４４上に格子状パタ―ン
を有する軟Ｘ線像として記録させるようにしているの
で、詳細説明は省略するが、図１に示す本発明による軟
Ｘ線像露光法の第１の実施例の場合と同様の作用効果が
得られることは明らかである。
第３の実施例の場合も、図１に示す本発明による軟Ｘ線
像露光法の第１の実施例の場合に準じて、軟Ｘ線源３１
から得られる第１の軟Ｘ線３２にもとずき得られた平行
波でなる２つの第３及び第４の軟Ｘ線６３及び６４によ
る干渉縞４０を、感Ｘ線性基板４４上に格子状パタ―ン
を有する軟Ｘ線像として記録させるようにしているの
で、詳細説明は省略するが、図１に示す本発明による軟
Ｘ線像露光法の第１の実施例の場合と同様の作用効果が
得られることは明らかである。
【００２５】なお、上述においては本発明のわずかな実
施例を示したに留まり、本発明の精神を脱することなし
に、種々の変型、変更をなし得るであろう。
施例を示したに留まり、本発明の精神を脱することなし
に、種々の変型、変更をなし得るであろう。
【図１】本発明による軟Ｘ線像露光法の第１の実施例の
説明に供する略線図である。
説明に供する略線図である。
【図２】本発明による軟Ｘ線像露光法の第２の実施例の
説明に供する略線図である。
説明に供する略線図である。
【図３】本発明による軟Ｘ線像露光法の第３の実施例の
説明に供する略線図である。
説明に供する略線図である。
【図４】従来の軟Ｘ線像露光法の説明に供する略線図で
ある。
ある。
１ レーザ光源 ２ レーザ光 ３ レーザ光スプリッタ ４、５ レーザ光 ６、７ 平行波形成用光学系 ８、９ レーザ光 １０ 干渉縞 ３１ 軟Ｘ線源 ３２ 軟Ｘ線 ３３ 軟Ｘ線スプリッタ ３４、３５ 軟Ｘ線 ３６、３７ 平行波形成用光学系 ３８、３９ 軟Ｘ線 ４０ 干渉縞 ４２、４３ 軟Ｘ線平面反射鏡 ４４ 感Ｘ線性基板 ４５ 感Ｘ線層 ６０ 平行波形成用光学系 ６１ 軟Ｘ線スプリッタ ６２、６３、６４ 軟Ｘ線 ６６、６７ 軟Ｘ線平面反射鏡
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 芳賀 恒之 東京都千代田区内幸町１丁目１番６号 日 本電信電話株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 軟Ｘ線源からの第１の軟Ｘ線を軟Ｘ線ス
プリッタに供給させることによって、上記軟Ｘ線スプリ
ッタから、上記第１の軟Ｘ線にもとずく第２及び第３の
軟Ｘ線を得、 上記第２及び第３の軟Ｘ線を第１及び第２の平行波形成
用光学系にそれぞれ供給させることによって、上記第１
及び第２の平行波形成用光学系から、上記第２及び第３
の軟Ｘ線にもとずく平行波でなる第４及び第５の軟Ｘ線
をそれぞれ得、 上記第４及び第５の軟Ｘ線にもとずき、それらの干渉縞
を、感Ｘ線性基板上で得、それによって、上記感Ｘ線性
基板を、上記干渉縞によって露光させ、 よって、上記干渉縞を、上記感Ｘ線性基板上に、格子状
パタ―ンを有する軟Ｘ線像として記録させることを特徴
とする軟Ｘ線像露光法。 - 【請求項２】 軟Ｘ線源からの第１の軟Ｘ線を平行波形
成用光学系に供給させることによって、上記平行波形成
用光学系から、上記第１の軟Ｘ線にもとずく平行波でな
る第２の軟Ｘ線を得、 上記第２の軟Ｘ線を、軟Ｘ線スプリッタに供給させるこ
とによって、上記軟Ｘ線スプリッタから、上記第２の軟
Ｘ線にもとずく平行波でなる第３及び第４の軟Ｘ線を
得、 上記第３及び第４の軟Ｘ線にもとずき、それらの干渉縞
を、感Ｘ線性基板上で得、それによって、上記感Ｘ線性
基板を、上記干渉縞によって露光させ、 よって、上記干渉縞を、上記感Ｘ線性基板上に、格子状
パタ―ンを有する軟Ｘ線像として記録させることを特徴
とする軟Ｘ線像露光法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5016766A JPH06204124A (ja) | 1993-01-06 | 1993-01-06 | 軟ｘ線像露光法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5016766A JPH06204124A (ja) | 1993-01-06 | 1993-01-06 | 軟ｘ線像露光法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06204124A true JPH06204124A (ja) | 1994-07-22 |
Family
ID=11925346
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5016766A Pending JPH06204124A (ja) | 1993-01-06 | 1993-01-06 | 軟ｘ線像露光法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06204124A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011508443A (ja) * | 2007-12-28 | 2011-03-10 | エーエスエムエル ホールディング エヌ．ブイ． | 超高解像度パターニング用スキャンｅｕｖ干渉イメージング |
-
1993
- 1993-01-06 JP JP5016766A patent/JPH06204124A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011508443A (ja) * | 2007-12-28 | 2011-03-10 | エーエスエムエル ホールディング エヌ．ブイ． | 超高解像度パターニング用スキャンｅｕｖ干渉イメージング |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4496222A (en) | Apparatus and method for photolithography with phase conjugate optics | |
| US4231657A (en) | Light-reflection type pattern forming system | |
| US5504596A (en) | Exposure method and apparatus using holographic techniques | |
| US5859439A (en) | Apparatus for aligning semiconductor wafer using mixed light with different wavelengths | |
| US4968108A (en) | Method for constructing and reconstructing hologram | |
| JPS58224370A (ja) | 所望の形状及び開口数の光源を形成する装置 | |
| JPH02185722A (ja) | 光ヘッド装置及びその組立方法 | |
| US4720158A (en) | Method of and apparatus for making a hologram | |
| US3689129A (en) | High resolution, redundant coherent wave imaging apparatus employing pinhole array | |
| US4626062A (en) | Light beam scanning apparatus | |
| JPH06204124A (ja) | 軟ｘ線像露光法 | |
| US4857719A (en) | Flat type optical head for focusing a light beam onto an optical memory | |
| US4632499A (en) | Light beam scanning apparatus | |
| KR100212905B1 (ko) | 내부전반사 홀로그램에 의한 고화질 영상 마스크 | |
| JPH03183115A (ja) | 半導体製造装置 | |
| US6894815B1 (en) | Reference beam absorbers-blockers | |
| JP4573339B2 (ja) | 多面付けホログラム原版及びその作製方法 | |
| JP3171013B2 (ja) | 回折格子からなる物品の作製方法および作製装置 | |
| JPS59219930A (ja) | 半導体集積回路の製造方法 | |
| US4621891A (en) | Light beam scanning apparatus | |
| US5337169A (en) | Method for patterning an optical device for optical IC, and an optical device for optical IC fabricated by this method | |
| JP3324141B2 (ja) | ホログラム製造方法 | |
| US4199616A (en) | Ionographic recording of X-ray images | |
| JPS58144880A (ja) | ホログラム作成方法 | |
| JPS63306486A (ja) | ホログラム作成方法 |