JPH06203322A - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

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JPH06203322A
JPH06203322A JP36000692A JP36000692A JPH06203322A JP H06203322 A JPH06203322 A JP H06203322A JP 36000692 A JP36000692 A JP 36000692A JP 36000692 A JP36000692 A JP 36000692A JP H06203322 A JPH06203322 A JP H06203322A
Authority
JP
Japan
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film
magnetic
gap
metal
nonmagnetic
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Pending
Application number
JP36000692A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akira Urai
彰 浦井
Hideaki Kojima
秀明 小島
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP36000692A priority Critical patent/JPH06203322A/en
Publication of JPH06203322A publication Critical patent/JPH06203322A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To prevent cracking of gap films and to provide the magnetic head having excellent electromagnetic conversion characteristics and high reliability without being eroded by fusing glass by regulating the thicknesses of a nonmagnetic oxide film and nonmagnetic metallic film constituting the gap films. CONSTITUTION:Since the magnetic head is used as an erasing head, the gap length of the magnetic gap (g) is specified to >=1mum and the gap films 10, 11 are made of the laminated film structure composed of the nonmagnetic oxide film 10 and the nonmagnetic metallic film 11. The film 10 is formed in order to prevent the reaction with the glass 12, 13 and the film 10 and the film 11 are formed in this order on the magnetic metallic film 9 so as to avert contact with the film 10 and the fusing glass 12, 13 in order to prevent the generation of air bubbles. The film 10 and the film 11 are formed at such film thickness at which the ratio k=m/t attains k<=0.35 or k=0.8 in order to avert the generation of rupture and crack in the gap films to be generated at the time of fusing with the glass when the total thickness of the gap films is defined as (t) and the thickness of the film 11 is (m).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えばフライングイレ
ーズヘッドに適用して有用な磁気ヘッドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head useful as a flying erase head.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、磁気コア同士をガラス融着により
接合してなる磁気ヘッドにおいては、磁気ギャップを形
成するためにギャップ膜(ギャップスペーサ)としてS
iO2膜が多く用いられている。ギャップ膜としてSi
2 膜を使用した場合、融着ガラスと反応したり気泡が
発生することから、当該SiO2 膜上にCr等の金属非
磁性膜を配した積層型のギャップ膜構造とすることが行
われている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a magnetic head in which magnetic cores are joined together by glass fusion bonding, S is used as a gap film (gap spacer) for forming a magnetic gap.
An iO 2 film is often used. Si as a gap film
When the O 2 film is used, it reacts with the fused glass and bubbles are generated, so that a laminated gap film structure in which a metal non-magnetic film such as Cr is arranged on the SiO 2 film is performed. ing.

【0003】ところで、SiO2 膜とCr膜を積層した
積層型のギャップ膜構造とした場合、ガラス融着の際に
かかる500℃〜800℃のアニールにおいて、金属膜
とSiO2 膜の2つの物質の熱膨張率が大きく違うた
め、これに起因する歪みがギャップ膜内に生ずる。
By the way, in the case of a laminated type gap film structure in which a SiO 2 film and a Cr film are laminated, two substances of a metal film and a SiO 2 film are annealed at 500 ° C. to 800 ° C. which is required for glass fusion. Since the coefficient of thermal expansion of the is significantly different, strain due to this is generated in the gap film.

【0004】特に、ギャップ膜の総膜厚が1μm以上に
なるビデオテープレコーダ用の消去ヘッドにおいては、
その歪みがより大きくなり、金属非磁性膜にクラックが
発生する不都合が生ずるばかりか、SiO2 膜にもクラ
ックが入ることがある。このため、クラック内に磁気テ
ープとの摺接により発生する磁性粉等が入り込んだり、
メタルインギャップ型の磁気ヘッドではクラック部より
侵入する融着ガラスによって金属磁性膜が侵食される等
して電磁変換特性が劣化する。
Particularly, in an erasing head for a video tape recorder in which the total thickness of the gap film is 1 μm or more,
The strain becomes larger, causing not only the inconvenience of cracking in the metal non-magnetic film but also cracking in the SiO 2 film. Therefore, magnetic powder or the like generated by sliding contact with the magnetic tape may enter the cracks,
In the metal-in-gap type magnetic head, the electromagnetic conversion characteristics are deteriorated because the metal magnetic film is eroded by the fused glass penetrating from the crack portion.

【0005】なお、金属非磁性膜のみによってギャップ
膜を構成することも考えられるが、磁気テープとの摺接
により磁気記録媒体摺動面が摩耗した場合、硬度の違い
によりギャップ部に段差が生じ、スペーシングロスを発
生せしめる。
Although it is possible to form the gap film only with a metal non-magnetic film, when the sliding surface of the magnetic recording medium is worn by sliding contact with the magnetic tape, a difference in hardness causes a step difference in the gap portion. , Causing spacing loss.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、かか
る従来の実情に鑑みて提案されたものであり、ギャップ
膜のクラック発生を防止し、融着ガラスによる侵食の無
い電磁変換特性に優れた信頼性の高い磁気ヘッドを提供
することを目的とする。
Therefore, the present invention has been proposed in view of the above-mentioned conventional circumstances, and it is excellent in electromagnetic conversion characteristics that prevent the occurrence of cracks in the gap film and prevent corrosion by the fused glass. It is an object of the present invention to provide a highly reliable magnetic head.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明は、一対の磁気コア半体が酸化物非磁性膜
と金属非磁性膜を積層してなるギャップ膜を介して突き
合わされ閉磁路を構成してなる磁気ヘッドにおいて、上
記ギャップ膜の総膜厚が1μm以上であり、且つ金属非
磁性膜の厚さmとギャップ膜の総膜厚tとの比k=m/
tが、k≦0.35またはk≧0.8であることを特徴
し、さらに酸化物非磁性膜がSiO2 であることを特徴
とする。
In order to achieve the above-mentioned object, according to the present invention, a pair of magnetic core halves project via a gap film formed by laminating an oxide nonmagnetic film and a metal nonmagnetic film. In a magnetic head having a closed magnetic path, the total thickness of the gap film is 1 μm or more, and the ratio of the thickness m of the metal non-magnetic film to the total thickness t of the gap film k = m /
It is characterized in that t is k ≦ 0.35 or k ≧ 0.8, and the oxide nonmagnetic film is SiO 2 .

【0008】また、本発明は、一対の磁気コア半体が酸
化物非磁性膜と金属非磁性膜を積層してなるギャップ膜
を介して突き合わされ閉磁路を構成してなる磁気ヘッド
において、上記ギャップ膜の総膜厚が1μm以上であ
り、且つ酸化物非磁性膜を構成する酸化物非磁性材料の
線膨張率が6×10-7以上であることを特徴とし、さら
に酸化物非磁性膜がTa2 5 、Al2 3 、Cr2
3 のうちいずれか一種であることを特徴とする。
The present invention is also directed to a magnetic head in which a pair of magnetic core halves are butted against each other via a gap film formed by laminating an oxide nonmagnetic film and a metal nonmagnetic film to form a closed magnetic path. The total thickness of the gap film is 1 μm or more, and the linear expansion coefficient of the oxide nonmagnetic material forming the oxide nonmagnetic film is 6 × 10 −7 or more. Is Ta 2 O 5 , Al 2 O 3 , Cr 2 O
It is characterized by being one of the three .

【0009】[0009]

【作用】本発明においては、酸化物非磁性膜と金属非磁
性膜を積層してなるギャップ膜の厚みを規定しているの
で、ギャップ融着時においてギャップ膜にクラックが発
生しない。したがって、クラック部から侵入する融着ガ
ラスによる金属磁性膜の侵食が防止される。
In the present invention, since the thickness of the gap film formed by laminating the oxide nonmagnetic film and the metal nonmagnetic film is regulated, cracks do not occur in the gap film during the gap fusion. Therefore, the erosion of the metal magnetic film by the fused glass penetrating from the crack portion is prevented.

【0010】また、本発明においては、酸化物非磁性材
料の線膨張係数を規定しているので、融着ガラスを用い
てギャップ融着時等、線膨張率の差に起因する金属非磁
性材料に生ずる熱応力が軽減され、ギャップ膜のクラッ
クの発生が防止される。
Further, in the present invention, since the linear expansion coefficient of the oxide non-magnetic material is specified, the metal non-magnetic material resulting from the difference in the linear expansion coefficient when gap fusion is performed using fused glass, etc. The thermal stress that occurs in the gap film is reduced, and the occurrence of cracks in the gap film is prevented.

【0011】[0011]

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本実施
例は、ビデオテープレコーダ用のフライングイレーズヘ
ッドの例である。本実施例の磁気ヘッドにおいては、図
1及び図2に示すように、一対の磁気コア半体1,2が
突き合わされ、その突合わせ面に消去用の磁気ギャップ
gを構成するようになっている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Specific embodiments to which the present invention is applied will be described in detail below with reference to the drawings. This embodiment is an example of a flying erase head for a video tape recorder. In the magnetic head of this embodiment, as shown in FIGS. 1 and 2, a pair of magnetic core halves 1 and 2 are butted against each other, and an erasing magnetic gap g is formed on the butted surface. There is.

【0012】一方の磁気コア半体2は、例えばMn−Z
n系フェライトまたはNi−Zn系フェライト等の酸化
物磁性材料よりなる補助コア部3からなる。この補助コ
ア部3の突合わせ面には、上記磁気ギャップgのトラッ
ク幅Twを規制するためのトラック幅規制溝4,5が切
り欠かれている。かかるトラック幅規制溝4,5は、磁
気ギャップgの両端縁よりそれぞれ当該磁気ギャップg
に対して所定の傾斜角度を持った傾斜面として切り欠か
れている。このトラック幅規制溝4,5が形成されるこ
とにより、磁気ギャップgのトラック幅Twが決めら
れ、当該トラック幅Twはヘッドチップ厚Cwより小と
なる。
One magnetic core half 2 is, for example, Mn-Z.
The auxiliary core portion 3 is made of an oxide magnetic material such as n-type ferrite or Ni-Zn-type ferrite. Track width regulating grooves 4 and 5 for regulating the track width Tw of the magnetic gap g are cut out on the abutting surface of the auxiliary core portion 3. The track width restricting grooves 4 and 5 are located on both sides of the magnetic gap g from both end edges thereof.
Is cut out as an inclined surface having a predetermined inclination angle. By forming the track width regulation grooves 4 and 5, the track width Tw of the magnetic gap g is determined, and the track width Tw becomes smaller than the head chip thickness Cw.

【0013】他方の磁気コア半体1は、やはりMn−Z
n系フェライト又はNi−Zn系フェライト等の酸化物
磁性材料からなる補助コア部6と、この補助コア部6の
突合わせ面に被着形成される主コア部となる金属磁性薄
膜9とから構成されている。
The other magnetic core half 1 is also Mn-Z.
It is composed of an auxiliary core portion 6 made of an oxide magnetic material such as n-type ferrite or Ni-Zn ferrite, and a metal magnetic thin film 9 serving as a main core portion adhered to the abutting surface of the auxiliary core portion 6. Has been done.

【0014】補助コア部6は、一方の磁気コア半体2の
補助コア部3と同様、突合わせ面に磁気ギャップgのト
ラック幅Twを規制するためのトラック幅規制溝7,8
を有している。このトラック幅規制溝7,8もやはり同
じく、磁気ギャップgの両端縁よりそれぞれ当該磁気ギ
ャップgに対して所定の傾斜角度を持った傾斜面として
切り欠かれている。特に、この補助コア部6の突合わせ
面には、コイルを巻装するための巻線溝14が断面略コ
字状をなす貫通溝として形成されている。
Like the auxiliary core portion 3 of the one magnetic core half body 2, the auxiliary core portion 6 has track width regulating grooves 7 and 8 for regulating the track width Tw of the magnetic gap g on the abutting surface.
have. The track width regulating grooves 7 and 8 are also cut out from both end edges of the magnetic gap g as inclined surfaces having a predetermined inclination angle with respect to the magnetic gap g. In particular, a winding groove 14 for winding a coil is formed on the abutting surface of the auxiliary core portion 6 as a through groove having a substantially U-shaped cross section.

【0015】上記金属磁性薄膜9は、上記補助コア部6
の突合わせ面に沿って磁気記録媒体と摺接する磁気記録
媒体摺動面からバック面に至るまで被着形成されてい
る。なお、巻線溝14部分には金属磁性薄膜9は形成さ
れていない。ここで使用される金属磁性薄膜9には、高
い飽和磁束密度を有し、かつ軟磁気特性に優れた強磁性
材料よりなる膜が使用される。かかる強磁性材料として
は従来から公知のものがいずれも使用でき、結晶質、非
結晶質を問わない。
The metal magnetic thin film 9 has the auxiliary core portion 6
Is formed from the sliding surface of the magnetic recording medium that comes into sliding contact with the magnetic recording medium along the abutting surface of the magnetic recording medium to the back surface. The metal magnetic thin film 9 is not formed in the winding groove 14 portion. The metal magnetic thin film 9 used here is a film made of a ferromagnetic material having a high saturation magnetic flux density and excellent soft magnetic characteristics. As the ferromagnetic material, any conventionally known material can be used, and it does not matter whether it is crystalline or amorphous.

【0016】そして、上記のように構成された一対の磁
気コア半体1,2は、他方の磁気コア半体1の金属磁性
薄膜9上に成膜されたギャップ膜10,11を突合わ
せ、融着ガラス12,13によって接合一体化されるこ
とにより閉磁路を構成するようになっている。融着ガラ
ス12,13は、トラック幅規制溝4,5及び7,8内
にも充填され、磁気記録媒体に対する当たり特性を確保
するようになっている。
The pair of magnetic core halves 1 and 2 configured as described above are butted against the gap films 10 and 11 formed on the metal magnetic thin film 9 of the other magnetic core half 1. A closed magnetic circuit is configured by joining and integrating the fused glasses 12 and 13. The fused glasses 12 and 13 are also filled in the track width regulating grooves 4, 5 and 7, 8 so as to secure the contact characteristics with respect to the magnetic recording medium.

【0017】特に、本実施例では、消去用の磁気ヘッド
として使用されることから、磁気ギャップgのギャップ
長(ギャップ膜10,11の総膜厚t)が1μm以上と
され、しかもギャップ膜10,11が酸化物非磁性膜1
0と金属非磁性膜11の積層膜構造とされている。酸化
物非磁性膜10は、融着ガラス12,13との反応を防
止するとともに気泡の発生を防止するために酸化物非磁
性膜10と融着ガラス12,13との接触を回避するべ
く、金属磁性薄膜9上に酸化物非磁性膜10、金属非磁
性膜11の順に成膜されている。換言すれば、金属非磁
性膜11と融着ガラス12,13が接触して設けられ、
この金属非磁性膜11によって融着ガラス12,13か
ら酸化物非磁性膜10を保護するようになっている。な
お、これら酸化物非磁性膜10と金属非磁性膜11は、
いずれもスパッタリング等の真空薄膜形成技術によって
成膜されている。
In particular, in this embodiment, since it is used as a magnetic head for erasing, the gap length of the magnetic gap g (total film thickness t of the gap films 10 and 11) is set to 1 μm or more, and the gap film 10 is used. , 11 are oxide non-magnetic films 1
0 and a metal non-magnetic film 11 are laminated. The oxide non-magnetic film 10 prevents contact between the oxide non-magnetic film 10 and the fusing glasses 12 and 13 in order to prevent reaction with the fusing glasses 12 and 13 and to prevent generation of bubbles. An oxide nonmagnetic film 10 and a metal nonmagnetic film 11 are sequentially formed on the metal magnetic thin film 9. In other words, the metal non-magnetic film 11 and the fused glasses 12, 13 are provided in contact with each other,
The metal nonmagnetic film 11 protects the oxide nonmagnetic film 10 from the fused glasses 12 and 13. The oxide nonmagnetic film 10 and the metal nonmagnetic film 11 are
Both are formed by a vacuum thin film forming technique such as sputtering.

【0018】そして、この酸化物非磁性膜10と金属非
磁性膜11とは、ギャップ膜の総膜厚をt、金属非磁性
膜11の厚みをmとした場合、ガラス融着時等に生ずる
ギャップ膜の破断クラックの発生を未然に回避するため
に、これらの比k=m/tが、k≦0.35またはk≧
0.8となるようになされている。ギャップ膜の総膜厚
tと金属非磁性膜11の厚みmとの比kが、上記の範囲
であれば金属非磁性膜11または金属非磁性膜11と酸
化物非磁性膜10の両方に亘って破断クラックが発生し
ないことについては、図3に示す実験結果に基づく。
When the total film thickness of the gap film is t and the thickness of the metal non-magnetic film 11 is m, the oxide non-magnetic film 10 and the metal non-magnetic film 11 are produced at the time of glass fusion or the like. In order to prevent the occurrence of fracture cracks in the gap film, these ratios k = m / t are set to k ≦ 0.35 or k ≧ 0.35.
It is designed to be 0.8. If the ratio k between the total thickness t of the gap film and the thickness m of the metal non-magnetic film 11 is in the above range, the metal non-magnetic film 11 or both the metal non-magnetic film 11 and the oxide non-magnetic film 10 are spread. The fact that fracture cracks do not occur is based on the experimental results shown in FIG.

【0019】図3は、ギャップ膜の総膜厚tを1.5μ
mに固定し、酸化物非磁性膜10としてSiO2 よりな
る膜を用いるとともに金属非磁性膜11としてCrより
なる膜を使用して、該金属非磁性膜11の厚みmを変化
させた磁気ヘッドを複数作成し、これらギャップ膜の総
膜厚tと金属非磁性膜11の厚みmとの比k=m/tに
対するギャップ膜中の破断クラックの発生率を示す。破
断クラックの発生率は、作成したヘッド数n0 のうち光
学顕微鏡(×1000)の検査により、ギャップ膜中に
1箇所以上破断クラックが存在するヘッドの数nX の割
合、(nX /n0 )×100%で示す。
In FIG. 3, the total thickness t of the gap film is 1.5 μm.
A magnetic head in which the thickness m of the metal nonmagnetic film 11 is changed by using a film made of SiO 2 as the oxide nonmagnetic film 10 and a film made of Cr as the metal nonmagnetic film 11 while being fixed to m. The following shows the rate of occurrence of fracture cracks in the gap film with respect to the ratio k = m / t of the total film thickness t of these gap films and the thickness m of the metal non-magnetic film 11. The rate of occurrence of fracture cracks is the ratio of the number n X of heads having fracture cracks at one or more locations in the gap film to the ratio n x / n of the number n 0 of created heads, as determined by inspection with an optical microscope (× 1000). 0 ) × 100%

【0020】この結果からわかるように、k≦0.35
またはk≧0.8とすることで、磁気コア半体1,2同
士を接合一体化するガラス融着時のアニールによって酸
化物非磁性膜10と金属非磁性膜11との熱膨張の違い
による膜厚応力歪みに起因するギャップ膜の破断クラッ
クの発生を防止することができる。これにより、破断ク
ラック中に融着ガラス12,13が流れ込むことにより
金属磁性薄膜9が侵食されるようなことが起こらない。
したがって、電磁変換特性の劣化を未然に回避すること
ができる。なお、上記kの上限は、これらギャップ膜が
疑似ギャップとして動作しない範囲でその上限が自ずと
決まる。
As can be seen from these results, k ≦ 0.35
Alternatively, by setting k ≧ 0.8, due to the difference in thermal expansion between the oxide nonmagnetic film 10 and the metal nonmagnetic film 11 due to annealing at the time of glass fusion for joining and integrating the magnetic core halves 1 and 2 with each other. It is possible to prevent the occurrence of fracture cracks in the gap film due to the film thickness stress strain. This prevents the metal magnetic thin film 9 from being eroded by the fused glasses 12 and 13 flowing into the fracture cracks.
Therefore, the deterioration of the electromagnetic conversion characteristics can be avoided in advance. The upper limit of k is naturally determined within a range in which these gap films do not operate as a pseudo gap.

【0021】また、本実施例では、破断クラックの発生
が酸化物非磁性膜10と金属非磁性膜11との熱膨張の
違いによる膜厚応力歪みに起因することから、酸化物非
磁性膜10を構成する酸化物非磁性材料を、金属非磁性
膜11を構成する金属非磁性材料の線膨張率に近いもの
を選択して使用する。具体的には、金属非磁性材料の線
膨張率が6×10-7(/℃)以上のものを使用する。か
かる範囲に相当する材料としては、例えばTaOx
(1.0<x≦2.5)[Ta2 5]、Al2 3、C
2 3 等が挙げられる。一方、金属非磁性膜11に
は、Cr、Ti、Zr、Nb、Ta、Au、Pt等の金
属非磁性材料がいずれも使用できる。なお、表1に代表
的な金属非磁性材料の線膨張率を例示する。
Further, in the present embodiment, since the occurrence of fracture cracks is caused by the film thickness stress strain due to the difference in thermal expansion between the oxide nonmagnetic film 10 and the metal nonmagnetic film 11, the oxide nonmagnetic film 10 is As the oxide nonmagnetic material forming the above, a material having a linear expansion coefficient close to that of the metal nonmagnetic material forming the metal nonmagnetic film 11 is selected and used. Specifically, a metal nonmagnetic material having a linear expansion coefficient of 6 × 10 −7 (/ ° C.) or more is used. As a material corresponding to such a range, for example, TaOx
(1.0 <x ≦ 2.5) [Ta 2 O 5 ], Al 2 O 3 , C
r 2 O 3 and the like can be mentioned. On the other hand, for the metal non-magnetic film 11, any metal non-magnetic material such as Cr, Ti, Zr, Nb, Ta, Au and Pt can be used. Table 1 exemplifies the linear expansion coefficient of typical metal non-magnetic materials.

【0022】[0022]

【表1】 [Table 1]

【0023】このように酸化物非磁性膜10を構成する
酸化物非磁性材料の線膨張率を金属非磁性膜11を構成
する金属非磁性材料の線膨張率に合わせることにより、
両者の線膨張率の差に起因する熱応力を大幅に軽減する
ことができ、金属非磁性膜11に発生する破断クラック
並びに融着ガラス12,13に発生するクラック、フェ
ライトコアに発生するクラック等をいずれも防止するこ
とができる。また、磁気コア半体1,2を構成する磁気
コア材料に負荷される応力も小さくなることにより、磁
歪の大きな磁性材料であっても磁気特性の劣化が小さく
なり、ヘッド効率の向上が期待できる。
By thus matching the linear expansion coefficient of the oxide nonmagnetic material forming the oxide nonmagnetic film 10 with the linear expansion coefficient of the metal nonmagnetic material forming the metal nonmagnetic film 11,
Thermal stress due to the difference in linear expansion coefficient between the two can be significantly reduced, and fracture cracks that occur in the metal non-magnetic film 11, cracks that occur in the fused glasses 12 and 13, cracks that occur in the ferrite core, etc. Both can be prevented. Further, since the stress applied to the magnetic core material forming the magnetic core halves 1 and 2 is reduced, deterioration of magnetic characteristics is reduced even with a magnetic material having large magnetostriction, and head efficiency can be expected to be improved. .

【0024】ここで実際に、以下のようにして磁気ヘッ
ドを作成し、ガラス融着後の磁気ヘッドのギャップ膜に
おけるクラックの発生状態を観察してみた。Mn−Zn
系フェライトからなる補助コア部6の突合わせ面側にF
e−Al−Si(センダスト)をスパッタリングして金
属磁性薄膜9を成膜した後、この上にCrとTa2 5
を順次スパッタリングして酸化物非磁性膜10と金属非
磁性膜11を成膜した。このようにして作成された一方
の磁気コア半体1とMn−Zn系フェライトのみからな
る他方の磁気コア半体2を、融着ガラス12,13によ
ってガラス融着した。なお、金属磁性薄膜9の膜厚を2
μm、酸化物非磁性膜10の膜厚を1.5μm、金属非
磁性膜11の膜厚を1.5μmとした。つまり、k=
0.5である。
Here, actually, a magnetic head was prepared as follows, and the state of crack generation in the gap film of the magnetic head after glass fusion was observed. Mn-Zn
F on the abutting surface side of the auxiliary core portion 6 made of system ferrite
After e-Al-Si (sendust) is sputtered to form a metal magnetic thin film 9, Cr and Ta 2 O 5 are deposited on the metal magnetic thin film 9.
Were sequentially sputtered to form an oxide nonmagnetic film 10 and a metal nonmagnetic film 11. The one magnetic core half body 1 thus prepared and the other magnetic core half body 2 composed only of Mn—Zn-based ferrite were glass-fused with the fused glasses 12 and 13. The thickness of the metal magnetic thin film 9 is set to 2
μm, the thickness of the oxide nonmagnetic film 10 was 1.5 μm, and the thickness of the metal nonmagnetic film 11 was 1.5 μm. That is, k =
It is 0.5.

【0025】また比較例として、線膨張率が4×10-7
(/℃)であるSiO2 を酸化物非磁性膜10として用
いた磁気ヘッドを作成した。この磁気ヘッドでは、Si
2を用いた以外は上記磁気ヘッドと同一とした。
As a comparative example, the coefficient of linear expansion is 4 × 10 -7.
A magnetic head using SiO 2 (/ ° C.) as the oxide nonmagnetic film 10 was prepared. In this magnetic head, Si
The magnetic head was the same as the above magnetic head except that O 2 was used.

【0026】この結果、Ta2 5 を酸化物非磁性膜1
0として用いた磁気ヘッドでは、ヘッド作成上何の不都
合もなく磁気ヘッドが作成され、ギャップ膜にクラック
の発生が見られなかった。これに対して、SiO2 を酸
化物非磁性膜10として用いた磁気ヘッドでは、ギャッ
プ膜の総膜厚tと金属非磁性膜11の膜厚mとの比kが
0.5であり、しかも線膨張率が6×10-7(/℃)以
下であることから、図4に示すように金属非磁性膜11
にクラック15が発生した。
As a result, Ta 2 O 5 was added to the oxide non-magnetic film 1
With the magnetic head used as 0, the magnetic head was produced without any inconvenience in producing the head, and no crack was observed in the gap film. On the other hand, in the magnetic head using SiO 2 as the oxide nonmagnetic film 10, the ratio k between the total film thickness t of the gap film and the film thickness m of the metal nonmagnetic film 11 is 0.5, and Since the coefficient of linear expansion is 6 × 10 −7 (/ ° C.) or less, as shown in FIG.
A crack 15 was generated on the surface.

【0027】上記実験結果からわかるように、酸化物非
磁性膜10に線膨張率が6×10-7(/℃)以上の酸化
物非磁性材料を使用することにより、磁気ギャップgを
構成するギャップ膜のクラックの発生を防止することが
でき、電磁変換特性の劣化を回避できる。
As can be seen from the above experimental results, the magnetic gap g is formed by using an oxide nonmagnetic material having a linear expansion coefficient of 6 × 10 −7 (/ ° C.) or more for the oxide nonmagnetic film 10. Generation of cracks in the gap film can be prevented, and deterioration of electromagnetic conversion characteristics can be avoided.

【0028】以上、本発明を適用した具体的な実施例に
ついて説明したが、本発明は上述の実施例に限定される
ことなく種々の変更が可能である。例えば、前述の実施
例では、一方の磁気コア半体1のみに金属磁性薄膜9が
形成されたメタルインギャップ型の磁気ヘッドに本発明
を適用したが、両方の磁気コア半体1,2に金属磁性薄
膜9が形成された磁気ヘッド、または金属磁性薄膜9を
持たない酸化物磁性材料のみから構成される磁気ヘッド
にも適用でき、その作用効果は同様である。
The specific embodiments to which the present invention is applied have been described above, but the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made. For example, in the above-described embodiment, the present invention is applied to the metal-in-gap type magnetic head in which the magnetic metal thin film 9 is formed only on one of the magnetic core halves 1; The present invention can be applied to a magnetic head formed with the metal magnetic thin film 9 or a magnetic head not including the metal magnetic thin film 9 and made of only an oxide magnetic material, and the same operation and effect are obtained.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の磁気ヘッドにおいては、ギャップ膜を構成する酸化
物非磁性膜と金属非磁性膜の膜厚を規定し、または酸化
物非磁性膜を構成する酸化物非磁性材料の線膨張率を金
属非磁性膜を構成する金属非磁性材料の線膨張率に合わ
せることにより、ガラス融着時のアニールにより発生す
るギャップ膜及び融着ガラス並びに磁気コアのクラック
発生を防止することができ、それに伴う金属磁性薄膜の
融着ガラスによる侵食を未然に回避することができる。
したがって、電磁変換特性の劣化が無く、高ヘッド出力
で且つ信頼性の高い磁気ヘッドを提供することができ
る。
As is apparent from the above description, in the magnetic head of the present invention, the thickness of the oxide nonmagnetic film and the metal nonmagnetic film forming the gap film is regulated, or the oxide nonmagnetic film is formed. By adjusting the linear expansion coefficient of the oxide non-magnetic material forming the film to the linear expansion coefficient of the metal non-magnetic material forming the metal non-magnetic film, a gap film and a fused glass produced by annealing during glass fusion, and Generation of cracks in the magnetic core can be prevented, and erosion of the metal magnetic thin film due to the fusion glass can be prevented.
Therefore, it is possible to provide a magnetic head having a high head output and high reliability without deterioration of electromagnetic conversion characteristics.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明を適用した磁気ヘッドの一例を示す斜視
図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an example of a magnetic head to which the present invention is applied.

【図2】図1の磁気ヘッドの磁気記録媒体摺動面部分を
拡大して示す要部拡大平面図である。
FIG. 2 is an enlarged plan view of an essential part showing an enlarged sliding surface portion of a magnetic recording medium of the magnetic head of FIG.

【図3】ギャップ膜の総膜厚tと金属非磁性膜の膜厚m
との比k=m/tに対するギャップ膜中の破断クラック
発生率を示す特性図である。
FIG. 3 is a total thickness t of the gap film and a thickness m of the metal non-magnetic film.
FIG. 7 is a characteristic diagram showing a fracture crack occurrence rate in a gap film with respect to a ratio k = m / t.

【図4】金属非磁性膜にクラックが発生した様子を示す
磁気ヘッドの磁気記録媒体摺動面部分を拡大して示す要
部拡大平面図である。
FIG. 4 is an enlarged plan view of an essential part showing an enlarged sliding surface portion of a magnetic recording medium of a magnetic head showing a state in which a crack has occurred in a metal non-magnetic film.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2・・・磁気コア半体 3,6・・・補助コア部 4,5,7,8・・・トラック幅規制溝 9・・・金属磁性薄膜 10・・・酸化物非磁性膜 11・・・金属非磁性膜 12,13・・・融着ガラス 14・・・巻線溝 1, 2 ... Magnetic core half body 3, 6 ... Auxiliary core portion 4, 5, 7, 8 ... Track width regulating groove 9 ... Metal magnetic thin film 10 ... Oxide non-magnetic film 11 ... Metal non-magnetic film 12, 13 ... Fused glass 14 ... Winding groove

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一対の磁気コア半体が酸化物非磁性膜と
金属非磁性膜を積層してなるギャップ膜を介して突き合
わされ閉磁路を構成してなる磁気ヘッドにおいて、 上記ギャップ膜の総膜厚が1μm以上であり、且つ金属
非磁性膜の厚さmとギャップ膜の総膜厚tとの比k=m
/tが、k≦0.35またはk≧0.8であることを特
徴とする磁気ヘッド。
1. A magnetic head in which a pair of magnetic core halves are butted against each other through a gap film formed by laminating an oxide non-magnetic film and a metal non-magnetic film to form a closed magnetic path, and the total of the gap films is The film thickness is 1 μm or more, and the ratio of the thickness m of the metal non-magnetic film to the total film thickness t of the gap film k = m
A magnetic head characterized in that / t is k ≦ 0.35 or k ≧ 0.8.
【請求項2】 酸化物非磁性膜がSiO2 であることを
特徴とする請求項1記載の磁気ヘッド。
2. The magnetic head according to claim 1, wherein the oxide nonmagnetic film is SiO 2 .
【請求項3】 一対の磁気コア半体が酸化物非磁性膜と
金属非磁性膜を積層してなるギャップ膜を介して突き合
わされ閉磁路を構成してなる磁気ヘッドにおいて、 上記ギャップ膜の総膜厚が1μm以上であり、且つ酸化
物非磁性膜を構成する酸化物非磁性材料の線膨張率が6
×10-7以上であることを特徴とする磁気ヘッド。
3. A magnetic head in which a pair of magnetic core halves are butted against each other via a gap film formed by laminating an oxide non-magnetic film and a metal non-magnetic film to form a closed magnetic path, wherein The film thickness is 1 μm or more and the linear expansion coefficient of the oxide nonmagnetic material forming the oxide nonmagnetic film is 6
A magnetic head having a size of × 10 -7 or more.
【請求項4】 酸化物非磁性膜がTa2 5 、Al2
3 、Cr2 3 のうちいずれか一種であることを特徴と
する請求項3記載の磁気ヘッド。
4. The oxide non-magnetic film is Ta 2 O 5 , Al 2 O.
4. The magnetic head according to claim 3, wherein the magnetic head is one of Cr 3 and Cr 2 O 3 .
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