JPH06187450A - Pattern recognizing method and device therefor - Google Patents
Pattern recognizing method and device thereforInfo
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- JPH06187450A JPH06187450A JP4340814A JP34081492A JPH06187450A JP H06187450 A JPH06187450 A JP H06187450A JP 4340814 A JP4340814 A JP 4340814A JP 34081492 A JP34081492 A JP 34081492A JP H06187450 A JPH06187450 A JP H06187450A
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- pixels
- matching
- reference pattern
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- Image Analysis (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はカメラを通して入力され
た画像から電子部品等に表示された文字や記号を読み取
り識別する装置に係り、特に画像から切り出された被識
別パターンを基準パターンと比較し同定するパターン認
識方法および認識装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for reading and identifying characters and symbols displayed on electronic parts and the like from an image input through a camera, and particularly comparing an identified pattern cut out from the image with a reference pattern. The present invention relates to a pattern recognition method and a recognition device for identifying.
【０００２】近年、電子部品の製造工程やプリント板の
組立工程等において文字や記号を読み取り識別する装置
が利用されているが、かかる製造工程における文字や記
号の識別は表示された部品の移動速度を遅滞させないよ
う速やかに行う必要がある。In recent years, an apparatus for reading and identifying characters and symbols has been used in the manufacturing process of electronic parts and the assembly process of printed boards. The identification of characters and symbols in such manufacturing process is the moving speed of the displayed parts. Need to be done promptly so as not to delay.
【０００３】しかし、カメラを通して入力された被識別
パターンを数多くの基準パターンと比較し同定するパタ
ーン認識方法は、一般に識別の対象となる文字や記号が
増加するに伴い基準パターンの数が増加し基準パターン
と比較する時間が長くなる。However, in a pattern recognition method for identifying a pattern to be identified inputted through a camera by comparing it with a large number of reference patterns, generally, the number of reference patterns increases as the number of characters or symbols to be identified increases. It takes longer to compare with the pattern.
【０００４】そこで基準パターンとフレームパターンの
照合時間を短縮可能なパターン認識装置の開発が要望さ
れている。Therefore, there is a demand for the development of a pattern recognition device capable of reducing the matching time between the reference pattern and the frame pattern.
【０００５】[0005]
【従来の技術】図３は従来のパターン認識装置を示すブ
ロック図、図４は従来のパターン認識方法を示す模式図
である。2. Description of the Related Art FIG. 3 is a block diagram showing a conventional pattern recognition apparatus, and FIG. 4 is a schematic diagram showing a conventional pattern recognition method.
【０００６】図３において従来のパターン認識装置はカ
メラ１から入力された画像信号をデジタル信号化するＡ
Ｄ変換回路21を有し、デジタル信号化された画像信号は
２値化回路22で画素毎に信号レベルが２値化されフレー
ムメモリ23に記憶される。In FIG. 3, a conventional pattern recognition apparatus converts an image signal input from the camera 1 into a digital signal A
The image signal which has the D conversion circuit 21 and is converted into a digital signal is binarized by the binarization circuit 22 to have the signal level binarized for each pixel and stored in the frame memory 23.
【０００７】フレームメモリ23に記憶された前記画像信
号からパターン切出回路24によって切り出されたフレー
ムパターンと、記憶装置26に予め記憶され比較に際し順
次呼び出された基準パターンはパターン照合回路25にお
いて画素毎に比較される。The frame pattern cut out from the image signal stored in the frame memory 23 by the pattern cutting circuit 24 and the reference pattern stored in the storage device 26 in advance and sequentially called for comparison are stored in the pattern matching circuit 25 for each pixel. Compared to.
【０００８】フレームパターンと基準パターンの画素数
が同じであれば対応する位置にある画素を比較すること
で照合できるが、画像信号からフレームパターンを切り
出す際に被識別パターンの位置が所定の位置からずれて
いる場合は誤判定される。If the frame pattern and the reference pattern have the same number of pixels, comparison can be performed by comparing the pixels at corresponding positions. However, when the frame pattern is cut out from the image signal, the position of the pattern to be identified starts from a predetermined position. If it is deviated, an erroneous determination is made.
【０００９】そこで通常のパターン認識方法では図４に
示す如くパターン切出回路が画像信号からフレームパタ
ーンを切り出す際に、被識別パターンを含み画素31の数
が基準パターン４の画素41より遙かに多いフレームパタ
ーン３を切り出している。Therefore, in the normal pattern recognition method, when the pattern cutout circuit cuts out a frame pattern from an image signal as shown in FIG. 4, the number of pixels 31 including the pattern to be identified is far greater than the number of pixels 41 of the reference pattern 4. Many frame patterns 3 are cut out.
【００１０】しかし、画素31が基準パターン４より多い
フレームパターン３上の被識別パターンと基準パターン
４を照合するには、フレームパターン３上の基準パター
ン４と照合する位置をずらして被識別パターンと重なる
位置を見いだす必要がある。However, in order to match the identified pattern on the frame pattern 3 with more pixels 31 than the reference pattern 4 with the reference pattern 4, the reference pattern 4 on the frame pattern 3 is shifted to be the identified pattern. It is necessary to find the overlapping position.
【００１１】従来のパターン認識装置は図３に示す如く
パターン切出回路24とパターン照合回路25の間に照合位
置走査回路27を設け、フレームパターン３の全画素が基
準パターン４と照合されるように照合する位置を所定の
順序に従ってずらしている。As shown in FIG. 3, the conventional pattern recognition apparatus is provided with a collation position scanning circuit 27 between the pattern cutout circuit 24 and the pattern collation circuit 25 so that all the pixels of the frame pattern 3 are collated with the reference pattern 4. The positions to be matched with are shifted according to a predetermined order.
【００１２】例えば、図４に示す如く先ずフレームパタ
ーン３と基準パターン４の左上隅にある画素31、41を重
ねて照合を行い、基準パターン４の全画素がフレームパ
ターン３の画素と照合されると基準パターン４の位置を
１画素分右に移動させる。For example, as shown in FIG. 4, first, the pixels 31 and 41 at the upper left corner of the frame pattern 3 and the reference pattern 4 are overlapped and compared, and all the pixels of the reference pattern 4 are compared with the pixels of the frame pattern 3. And the position of the reference pattern 4 is moved to the right by one pixel.
【００１３】フレームパターン３の右端の画素31と基準
パターン４との照合が終わると基準パターン４を１画素
下の左端に移動し、基準パターン４の全画素がフレーム
パターン３の画素と照合されると基準パターン４の位置
を１画素分右に移動させる。When the matching of the pixel 31 at the right end of the frame pattern 3 with the reference pattern 4 is completed, the reference pattern 4 is moved one pixel down to the left end, and all the pixels of the reference pattern 4 are matched with the pixels of the frame pattern 3. And the position of the reference pattern 4 is moved to the right by one pixel.
【００１４】基準パターン４と照合する位置を移動させ
ることによりフレームパターン３上の全画素が基準パタ
ーン４と照合され、それぞれの位置で検出された全ての
不一致画素データがパターン照合回路25からパターン判
別回路28に入力される。All the pixels on the frame pattern 3 are collated with the reference pattern 4 by moving the position to be collated with the reference pattern 4, and all the unmatched pixel data detected at the respective positions are subjected to pattern discrimination from the pattern collating circuit 25. Input to the circuit 28.
【００１５】フレームパターン３上の全画素が基準パタ
ーン４と照合された時点でパターン判別回路28は不一致
画素データから、不一致画素が最小になるフレームパタ
ーン３上の位置とそのときの不一致画素数を選び照合結
果出力回路29に入力する。At the time when all the pixels on the frame pattern 3 are collated with the reference pattern 4, the pattern discriminating circuit 28 determines the position on the frame pattern 3 where the non-matching pixel is the minimum and the number of non-matching pixels from the non-matching pixel data. The selected result is input to the matching result output circuit 29.
【００１６】被識別パターンの対象となる全ての文字や
記号について基準パターン４をフレームパターン３上の
全画素と照合し、同一位置において不一致画素数が最小
になる基準パターンをもって被識別パターンに対応する
文字や記号と同定される。The reference pattern 4 is collated with all the pixels on the frame pattern 3 for all characters and symbols to be the pattern to be identified, and the reference pattern having the smallest number of mismatched pixels at the same position corresponds to the pattern to be identified. It is identified as a character or symbol.
【００１７】[0017]
【発明が解決しようとする課題】しかし、被識別パター
ンを含み画素数が基準パターンより多いフレームパター
ンと基準パターンの照合に際して、基準パターンとの照
合位置を１画素ずつ移動させる従来のパターン認識方法
は照合に長い時間を要するという問題があった。However, when the frame pattern including the pattern to be identified and having more pixels than the reference pattern is compared with the reference pattern, the conventional pattern recognition method for moving the reference position of the reference pattern by one pixel is used. There is a problem that it takes a long time to collate.
【００１８】本発明の目的は基準パターンとフレームパ
ターンの照合時間を短縮可能なパターン認識装置を提供
することにある。An object of the present invention is to provide a pattern recognition device capable of shortening the matching time between a reference pattern and a frame pattern.
【００１９】[0019]
【課題を解決するための手段】図１は本発明になるパタ
ーン認識方法を示す模式図である。なお全図を通し同じ
対象物は同一記号で表している。FIG. 1 is a schematic diagram showing a pattern recognition method according to the present invention. Note that the same object is denoted by the same symbol throughout the drawings.
【００２０】上記課題はマトリクス状に配列された画素
からなり被識別パターンを含むフレームパターンと基準
パターンを比較し、不一致画素の最も少ない基準パター
ンをもって被識別パターンと同定するパターン認識方法
において、フレームパターン３と基準パターン４の比較
に際し基準パターン４との照合位置を複数画素間隔で移
動せしめ、基準パターン４との不一致画素が最小になる
領域およびその近傍の画素を含む精密照合領域を設定す
ると共に、精密照合領域の内部においてフレームパター
ン３と基準パターン４の照合位置を１画素ずつ移動せし
め、不一致画素が最小になる領域とその領域の不一致画
素数を検出する本発明になるパターン認識方法によって
達成される。The above-mentioned problem is a pattern recognition method in which a frame pattern including pixels to be identified, which is arranged in a matrix, and a reference pattern are compared with each other, and the reference pattern having the least number of mismatched pixels is identified as the identified pattern. When comparing 3 and the reference pattern 4, the matching position of the reference pattern 4 is moved at intervals of a plurality of pixels, and a region where the number of pixels that do not match the reference pattern 4 is minimized and a precision matching region including pixels in the vicinity thereof are set, and This is achieved by the pattern recognition method according to the present invention, in which the matching positions of the frame pattern 3 and the reference pattern 4 are moved pixel by pixel within the precision matching area, and the area where the number of mismatched pixels is minimized and the number of mismatched pixels in the area are detected. It
【００２１】[0021]
【作用】フレームパターンと基準パターンの比較に際し
図１に示す如く基準パターンとの照合位置を複数画素間
隔で移動し、基準パターンとの不一致画素が最小になる
領域およびその近傍の画素を含む精密照合領域を設定す
ると共に、図１に示す如く精密照合領域の内部において
フレームパターンと基準パターンの照合位置を１画素ず
つ移動せしめ、不一致画素が最小になる領域とその領域
における不一致画素数を検出することによって、フレー
ムパターン上の基準パターンと照合する位置を１画素ず
つ移動せしめる領域が少なくなり、基準パターンとフレ
ームパターンの照合時間を短縮可能なパターン認識装置
を実現することができる。When the frame pattern and the reference pattern are compared, the matching position with the reference pattern is moved at intervals of a plurality of pixels as shown in FIG. While setting the area, the matching position of the frame pattern and the reference pattern is moved pixel by pixel within the precise matching area as shown in FIG. 1 to detect the area where the number of mismatched pixels is minimum and the number of mismatched pixels in that area. As a result, the area in which the position on the frame pattern to be collated with the reference pattern is moved by one pixel is reduced, and a pattern recognition device capable of shortening the collation time between the reference pattern and the frame pattern can be realized.
【００２２】[0022]
【実施例】以下添付図により本発明の実施例について説
明する。なお、図２は本発明になるパターン認識装置を
示すブロック図である。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. 2 is a block diagram showing a pattern recognition device according to the present invention.
【００２３】本発明になるパターン認識装置は図２に示
す如くパターン照合回路25の前に照合に際し走査弁別回
路51により選択され、照合位置を複数画素間隔で移動さ
せる粗走査回路52と照合位置を１画素ずつ移動させる精
密走査回路53を具えている。In the pattern recognition apparatus according to the present invention, as shown in FIG. 2, before the pattern matching circuit 25, the coarse discrimination circuit 52 is selected by the scanning discrimination circuit 51 at the time of matching and moves the matching position at a plurality of pixel intervals and the matching position. It has a precision scanning circuit 53 that moves pixel by pixel.
【００２４】走査弁別回路51が粗走査回路52を選択する
とフレームパターン３と基準パターン４の照合位置が複
数画素間隔で移動し、パターン照合回路25がフレームパ
ターン３と基準パターン４を照合しそれぞれの位置にお
ける不一致画素を検出する。When the scanning discrimination circuit 51 selects the coarse scanning circuit 52, the collation positions of the frame pattern 3 and the reference pattern 4 are moved at intervals of a plurality of pixels, and the pattern collation circuit 25 collates the frame pattern 3 and the reference pattern 4 with each other. Detect unmatched pixels at positions.
【００２５】それぞれの位置において検出された不一致
画素データはパターン照合回路25からパターン判別回路
28に入力され、かかるデータから不一致画素が最小にな
るフレームパターン３上の領域とその近傍の画素を含む
精密照合領域が設定される。The unmatched pixel data detected at each position is transferred from the pattern matching circuit 25 to the pattern determination circuit.
The precision matching area including the area on the frame pattern 3 in which the number of unmatched pixels is minimized and the pixels in the vicinity thereof is set from the data.
【００２６】次いで、走査弁別回路51が精密走査回路53
を選択すると前の粗走査によって設定された精密照合領
域の内部において、フレームパターン３と基準パターン
４の照合位置が１画素ずつ移動しパターン照合回路25が
両方のパターンを照合する。Then, the scanning discrimination circuit 51 is replaced by the precision scanning circuit 53.
When is selected, the collation positions of the frame pattern 3 and the reference pattern 4 are moved pixel by pixel within the precision collation area set by the previous rough scan, and the pattern collation circuit 25 collates both patterns.
【００２７】それぞれの位置で検出された全ての不一致
画素データがパターン照合回路25からパターン判別回路
28に入力されており、不一致画素が最小になるフレーム
パターン３上の位置とそのときの不一致画素数が照合結
果出力回路29に入力される。All the mismatched pixel data detected at the respective positions are transferred from the pattern matching circuit 25 to the pattern determining circuit.
The position on the frame pattern 3 where the non-matching pixel is minimized and the number of non-matching pixels at that time are input to the matching result output circuit 29.
【００２８】ここで本発明になるパターン認識方法を図
１により詳細に説明するとフレームパターンと基準パタ
ーンの照合に際し、図１に示す如く粗く照合する粗パタ
ーン照合工程と図１に示す如く詳細に照合する精密照合
工程を具えている。The pattern recognition method according to the present invention will now be described in detail with reference to FIG. 1. When the frame pattern and the reference pattern are collated, the coarse pattern collation step of roughly collating as shown in FIG. 1 and the detailed collation as shown in FIG. It has a precision matching process.
【００２９】例えば、図１に示す如くフレームパターン
３と基準パターン４の左上隅にある画素31、41を重ねて
照合を行い、基準パターン４の全画素をフレームパター
ン３の画素と照合すると基準パターン４の位置をｎ画素
跳ばし右に移動させる。For example, as shown in FIG. 1, the pixels 31 and 41 in the upper left corner of the frame pattern 3 and the reference pattern 4 are overlapped for comparison, and when all the pixels of the reference pattern 4 are compared with the pixels of the frame pattern 3, the reference pattern is obtained. The position of 4 is skipped by n pixels and moved to the right.
【００３０】基準パターン４がフレームパターン３の右
端近傍に到達すると基準パターン４を下方にｎ画素跳ば
した左端に移動し、基準パターン４の全画素がフレーム
パターン３と照合されると基準パターン４の位置をｎ画
素跳ばして右に移動させる。When the reference pattern 4 reaches the vicinity of the right end of the frame pattern 3, the reference pattern 4 is moved downward by n pixels to the left end, and when all the pixels of the reference pattern 4 are collated with the frame pattern 3, the reference pattern 4 of the reference pattern 4 is moved. The position is skipped by n pixels and moved to the right.
【００３１】前述の如くそれぞれの位置において検出さ
れた不一致画素データはパターン照合回路からパターン
判別回路に入力され、不一致画素データに基づいて基準
パターン４との不一致画素が最小になるフレームパター
ン３上の領域が検知される。As described above, the mismatched pixel data detected at each position is input from the pattern matching circuit to the pattern determination circuit, and the mismatched pixel with the reference pattern 4 is minimized on the frame pattern 3 based on the mismatched pixel data. The area is detected.
【００３２】検知された不一致画素が最小になるフレー
ムパターン３上の領域とその近傍の画素を含む精密照合
領域内において、図１に示す如く前記領域の左上隅にあ
る画素31に基準パターン４の左上隅にある画素41を重ね
てパターンを照合する。In the precise matching area including the area on the frame pattern 3 where the detected non-matching pixels are the minimum and the pixels in the vicinity thereof, as shown in FIG. 1, the reference pattern 4 is assigned to the pixel 31 at the upper left corner of the area. Pixels 41 in the upper left corner are overlapped and the pattern is collated.
【００３３】基準パターン４の全画素がフレームパター
ン３の画素と照合されると基準パターン４の位置を１画
素分右に移動せしめ、同領域の右端の画素31と基準パタ
ーン４との照合が終わると基準パターン４を１画素下の
同領域の左端に移動させる。When all the pixels of the reference pattern 4 are collated with the pixels of the frame pattern 3, the position of the reference pattern 4 is moved right by one pixel, and the collation between the pixel 31 at the right end of the same area and the reference pattern 4 is completed. And the reference pattern 4 is moved to the left end of the same region one pixel below.
【００３４】基準パターン４の全画素がフレームパター
ン３の画素と照合されると基準パターン４の位置を１画
素分右に移動せしめ、基準パターン４と照合する位置を
１画素ずつ移動させることにより同領域内の全画素が基
準パターン４と照合される。When all the pixels of the reference pattern 4 are matched with the pixels of the frame pattern 3, the position of the reference pattern 4 is moved to the right by one pixel, and the position to be matched with the reference pattern 4 is moved by one pixel. All pixels in the area are matched with the reference pattern 4.
【００３５】前述の如くそれぞれの位置において検出さ
れた不一致画素データはパターン照合回路からパターン
判別回路に入力され、不一致画素が最小になるフレーム
パターン３上の位置とそのときの不一致画素数が照合結
果出力回路に入力される。As described above, the mismatch pixel data detected at each position is input from the pattern matching circuit to the pattern determining circuit, and the position on the frame pattern 3 where the mismatch pixel is minimized and the number of mismatch pixels at that time are the matching result. It is input to the output circuit.
【００３６】例えば、フレームパターンのＸＹ方向の大
きさをａ画素分、基準パターンのＸＹ方向の大きさをｂ
画素分とすると、従来のパターン認識装置においてパタ
ーン照合に際し基準パターンの照合位置を移動させる回
数ＮO は（ａ−ｂ)2になる。For example, the size of the frame pattern in the XY directions is a pixels, and the size of the reference pattern in the XY directions is b.
When pixels, the number of times N O moving the interrogation position of the reference pattern upon pattern matching in the conventional pattern recognition apparatus becomes (a-b) 2.
【００３７】本発明のパターン認識装置において粗走査
時に跳ばす画素の数をｎとし、パターンの大きさの差ａ
−ｂ＝ｍとすると、パターンを照合するに際して基準パ
ターンの照合位置を移動させる回数Ｎ＝（ｍ／ｎ＋１)2
＋（２ｎ＋１)2になる。In the pattern recognition apparatus of the present invention, the number of pixels skipped during rough scanning is n, and the difference in pattern size is a.
When −b = m, the number of times the reference pattern matching position is moved when matching patterns N = (m / n + 1) 2
It becomes + (2n + 1) 2 .
【００３８】従来のパターン認識装置における移動回数
ＮO は（ａ−ｂ)2＝ｍ2 であり本発明になるパターン認
識装置との差は、ｍ2 −〔（ｍ／ｎ＋１)2＋（２ｎ＋
１)2〕になってｍ＞ｎ＞０なる関係が成り立てば移動回
数を少なくすることができる。The number N O of movements in the conventional pattern recognition apparatus is (ab) 2 = m 2 , and the difference from the pattern recognition apparatus according to the present invention is m 2 -[(m / n + 1) 2 + (2n +
1) 2 ] and the relationship of m>n> 0 is established, the number of movements can be reduced.
【００３９】このように基準パターンとの比較に際し図
１に示す如く基準パターンとの照合位置を複数画素間隔
で移動し、基準パターンとの不一致画素が最小になる領
域およびその近傍の画素を含む精密照合領域を設定する
と共に、図１に示す如く精密照合領域の内部においてフ
レームパターンと基準パターンの照合位置を１画素ずつ
移動せしめ、不一致画素が最小になる領域とその領域に
おける不一致画素数を検出することによって、フレーム
パターン上の基準パターンと照合する位置を１画素ずつ
移動せしめる領域が少なくなり、基準パターンとフレー
ムパターンの照合時間を短縮可能なパターン認識装置を
実現することができる。In this way, when comparing with the reference pattern, the collation position with the reference pattern is moved at a plurality of pixel intervals as shown in FIG. While setting the matching area, the matching positions of the frame pattern and the reference pattern are moved pixel by pixel within the precise matching area as shown in FIG. 1 to detect the area where the number of mismatched pixels is minimum and the number of mismatched pixels in that area. As a result, the area in which the position to be matched with the reference pattern on the frame pattern is moved pixel by pixel is reduced, and a pattern recognition device capable of shortening the matching time between the reference pattern and the frame pattern can be realized.
【００４０】[0040]
【発明の効果】上述の如く本発明によれば基準パターン
とフレームパターンの照合時間を短縮可能なパターン認
識装置を提供することができる。As described above, according to the present invention, it is possible to provide a pattern recognition apparatus capable of shortening the matching time between the reference pattern and the frame pattern.
【図１】 本発明になるパターン認識方法を示す模式図
である。FIG. 1 is a schematic diagram showing a pattern recognition method according to the present invention.
【図２】 本発明になるパターン認識装置を示すブロッ
ク図である。FIG. 2 is a block diagram showing a pattern recognition device according to the present invention.
【図３】 従来のパターン認識装置を示すブロック図で
ある。FIG. 3 is a block diagram showing a conventional pattern recognition device.
【図４】 従来のパターン認識方法を示す模式図であ
る。FIG. 4 is a schematic diagram showing a conventional pattern recognition method.
３ フレームパターン ４ 基準パターン 25 パターン照合回路 28 パターン判別回路 29 照合結果出力回路 31、41 画素 51 走査弁別回路 52 粗走査回路 53 精密走査回路 3 Frame pattern 4 Reference pattern 25 Pattern collation circuit 28 Pattern discrimination circuit 29 Collation result output circuit 31, 41 Pixel 51 Scan discrimination circuit 52 Coarse scanning circuit 53 Precision scanning circuit
Claims (2)
被識別パターンを含むフレームパターンと基準パターン
を比較し、不一致画素の最も少ない該基準パターンをも
って被識別パターンと同定するパターン認識方法におい
て、 フレームパターン(3) と基準パターン(4) の比較に際し
該基準パターン(4) との照合位置を複数画素間隔で移動
せしめ、該基準パターン(4) との不一致画素が最小にな
る領域およびその近傍の画素を含む精密照合領域を設定
すると共に、 該精密照合領域の内部において該フレームパターン(3)
と該基準パターン(4)の照合位置を１画素ずつ移動せし
め、不一致画素が最小になる領域およびその領域におけ
る不一致画素数の検出を行うことを特徴としたパターン
認識方法。1. A pattern recognition method for comparing a frame pattern including pixels to be identified, which are arranged in a matrix and including a pattern to be identified, with a reference pattern, and identifying the pattern to be identified with the reference pattern having the smallest number of non-matching pixels. When comparing (3) and the reference pattern (4), the collation position of the reference pattern (4) is moved at intervals of a plurality of pixels, and the pixels that do not match the reference pattern (4) are minimized and the pixels in the vicinity thereof. The precision matching area including the frame pattern (3) is set inside the precision matching area.
And the reference pattern (4), the matching position is moved pixel by pixel, and the area where the number of mismatched pixels is minimized and the number of mismatched pixels in the area are detected.
被識別パターンを含むフレームパターンと基準パターン
を比較し、不一致画素の最も少ない該基準パターンをも
って被識別パターンと同定するパターン認識装置におい
て、 パターン照合回路(25)の前にフレームパターン(3) と基
準パターン(4) の比較に際し走査弁別回路(51)により選
択され、照合位置を複数画素間隔で移動させる粗走査回
路(52)と該照合位置を１画素ずつ移動させる精密走査回
路(53)を有し、 該照合位置を複数画素間隔で移動させて該基準パターン
(4) と該フレームパターン(3) の全画素を照合すること
により、該基準パターン(4) との不一致画素が最小にな
る該フレームパターン(3) 上の領域を検知して精密照合
領域を設定し、 該基準パターン(4) との不一致画素が最小になる領域お
よびその近傍の画素を含む該精密照合領域の内部におい
て、該照合位置を１画素ずつ移動せしめパターンの照合
を行うよう構成されてなることを特徴とするパターン認
識装置。2. A pattern recognition apparatus that compares a frame pattern including pixels to be identified, which are arranged in a matrix and includes a pattern to be identified, with a reference pattern, and identifies the pattern to be identified with the reference pattern having the least number of mismatched pixels. Before the circuit (25), a rough scanning circuit (52) is selected by the scanning discrimination circuit (51) when the frame pattern (3) and the reference pattern (4) are compared, and the matching position is moved at multiple pixel intervals and the matching position. Has a precision scanning circuit (53) for moving each pixel by one pixel, and the reference position is moved by moving the matching position at a plurality of pixel intervals.
By collating (4) with all the pixels of the frame pattern (3), an area on the frame pattern (3) where the number of non-matching pixels with the reference pattern (4) is minimized is detected, and the precise matching area is detected. It is configured to perform pattern matching by moving the matching position one pixel at a time within the precision matching area including the area where the number of pixels that do not match the reference pattern (4) is minimum and the pixels in the vicinity thereof. A pattern recognition device characterized by:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4340814A JPH06187450A (en) | 1992-12-22 | 1992-12-22 | Pattern recognizing method and device therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4340814A JPH06187450A (en) | 1992-12-22 | 1992-12-22 | Pattern recognizing method and device therefor |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06187450A true JPH06187450A (en) | 1994-07-08 |
Family
ID=18340542
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4340814A Pending JPH06187450A (en) | 1992-12-22 | 1992-12-22 | Pattern recognizing method and device therefor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06187450A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008217206A (en) * | 2007-03-01 | 2008-09-18 | Fujifilm Corp | Image identification device, image identification method and imaging device |
| WO2022180792A1 (en) * | 2021-02-26 | 2022-09-01 | 株式会社日立ハイテク | Position specification method, position specification program, and inspection device |
-
1992
- 1992-12-22 JP JP4340814A patent/JPH06187450A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008217206A (en) * | 2007-03-01 | 2008-09-18 | Fujifilm Corp | Image identification device, image identification method and imaging device |
| WO2022180792A1 (en) * | 2021-02-26 | 2022-09-01 | 株式会社日立ハイテク | Position specification method, position specification program, and inspection device |
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