JPH06176321A - Polishing device and polishing method for magnetic head - Google Patents

Polishing device and polishing method for magnetic head

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JPH06176321A
JPH06176321A JP4324348A JP32434892A JPH06176321A JP H06176321 A JPH06176321 A JP H06176321A JP 4324348 A JP4324348 A JP 4324348A JP 32434892 A JP32434892 A JP 32434892A JP H06176321 A JPH06176321 A JP H06176321A
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magnetic head
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政泰 藤沢
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千博 磯野
Minoru Yamasaka
稔 山坂
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Abstract

PURPOSE:To enable the polishing of the floating surface of a magnetic head to an arbitrary projecting shape in the state of adhering the magnetic head to a supporting spring and to decrease the working level difference between a head substrate and a magnetic film. CONSTITUTION:The magnetic head 7 which is mounted with an X table 1, a Y table 2, a Z table 3, an theta motor 4 and a phi motor 5 and is adhered to the supporting spring 6 mounted to the theta motor 4 is oscillated in an orbit of an arbitrary function. The magnetic head 7 is pressed and oscillated to a diamond disk 9 for polishing mounted to an air spindle 8 and is brought into sliding contact therewith, by which the floating surface shape of the magnetic head is generated and polished.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、浮上型の磁気ヘッドの
浮上面を任意の凸形状に研磨するための研磨装置と、そ
の研磨装置を使用した研磨方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polishing apparatus for polishing an air bearing surface of a floating magnetic head into an arbitrary convex shape, and a polishing method using the polishing apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、磁気ヘッドの浮上面の高精度加工
は、例えば、トリガー、88−1、第51頁に記載され
ているのように、軟質金属製の研磨定盤上へ遊離砥粒を
含んだ研磨液を滴下しながら、ホルダに保持された磁気
ヘッドを押圧摺動させることにより、微小切屑を生成す
る研磨法によって実施していた。そして、このようにし
て研磨した磁気ヘッドは、上記ホルダから取り外され、
磁気ディスク装置の支持バネに接着して磁気ディスク装
置における浮上型の磁気ヘッドとして機能するように構
成されていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, high-precision machining of an air bearing surface of a magnetic head has been described, for example, in Trigger, 88-1, page 51, in which loose abrasive grains are put on a polishing plate made of soft metal. It was carried out by a polishing method of generating fine chips by pressing and sliding a magnetic head held by a holder while dropping a polishing liquid containing the. Then, the magnetic head thus polished is removed from the holder,
It is configured to be bonded to a support spring of the magnetic disk device to function as a floating magnetic head in the magnetic disk device.

【0003】図10は従来から使用されている浮上型の
磁気ヘッドの斜視図である。磁気ヘッド7は略直方体形
状に形成され、磁気ディスクに対向する面の両側に磁気
ディスク側が凸になるように幅狭に形成された曲面状の
浮上面15を有し、当該浮上面15のディスク回転方向
下流側にそれぞれギャップGが設けられている。ここ
で、磁気ヘッド7の浮上面15の形状、特にクラウンハ
イト16とヘッド浮上量との関係、また、浮上面15の
クラウンハイト16と磁気ディスク装置の耐久性、すな
わち磁気ディスク装置が壊れるまでの最小時間MTBF
(Minimum Time Before Failure )との関係について考
えると、図11および図12に示すようになる。図11
はクラウンハイトと浮上量との関係を示し、図12はク
ラウンハイトとMTBFとの関係を示す。
FIG. 10 is a perspective view of a conventional flying type magnetic head. The magnetic head 7 is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape, and has curved air bearing surfaces 15 formed on both sides of the surface facing the magnetic disk with a narrow width so that the magnetic disk side is convex. A gap G is provided on each downstream side in the rotation direction. Here, the shape of the air bearing surface 15 of the magnetic head 7, particularly the relationship between the crown height 16 and the flying height of the head, the crown height 16 of the air bearing surface 15 and the durability of the magnetic disk device, that is, until the magnetic disk device is broken. Minimum time MTBF
Considering the relationship with (Minimum Time Before Failure), it becomes as shown in FIGS. 11 and 12. Figure 11
Shows the relationship between crown height and flying height, and FIG. 12 shows the relationship between crown height and MTBF.

【0004】磁気ヘッド7の浮上量を低減させるには、
クラウンハイト16の大きさを小さくする必要があるこ
とが図11から分かり、また、磁気ディスク装置のMT
BFを大きくするには、クラウンハイト16を大きくす
る必要があることが図12から分かる。例えば、ヘッド
浮上量を0.1μm以下、MTBFを4万時間以上にす
るには、図からも分かるようにクラウンハイト16を
0.1±0.05μmの範囲に創成する必要がある。
To reduce the flying height of the magnetic head 7,
It can be seen from FIG. 11 that the size of the crown height 16 needs to be reduced, and the MT of the magnetic disk device is reduced.
It can be seen from FIG. 12 that the crown height 16 needs to be increased in order to increase the BF. For example, in order to set the head flying height to 0.1 μm or less and the MTBF to 40,000 hours or more, it is necessary to create the crown height 16 in the range of 0.1 ± 0.05 μm as can be seen from the figure.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のよう
に磁気ヘッド7を支持バネに接着すると、磁気ヘッド7
に接着歪が生じ、その結果、磁気ヘッド7は研磨直後と
異なる形状になることがある。この接着歪の大きさは、
ばらつきが非常に大きく、そのため支持バネに接着した
磁気ヘッド浮上面15の形状も大きくばらつく結果とな
っている。
By the way, when the magnetic head 7 is bonded to the support spring as described above, the magnetic head 7 is
Adhesion distortion may occur on the magnetic head 7, and as a result, the magnetic head 7 may have a shape different from that immediately after polishing. The magnitude of this adhesive strain is
The variation is very large, and as a result, the shape of the air bearing surface 15 of the magnetic head bonded to the support spring also varies greatly.

【0006】また、磁気ディスク装置を小型化するため
に、磁気ヘッド7の厚みを小さくする必要があるが、厚
みを小さくすると小さくした分接着歪のばらつきはさら
に大きくなり、従来の製造法では、磁気ヘッド7の製造
が不可能になる。
Further, in order to miniaturize the magnetic disk device, it is necessary to reduce the thickness of the magnetic head 7. However, if the thickness is reduced, the variation in the bonding strain becomes larger due to the reduction in thickness. In the conventional manufacturing method, It becomes impossible to manufacture the magnetic head 7.

【0007】すなわち、上述のように浮上面を研磨した
後に、磁気ヘッド7を支持バネに接着する磁気ディスク
装置の製造法では、このように高精度に磁気ヘッド7の
浮上面15の形状をコントロールすることは不可能であ
った。
That is, in the method of manufacturing a magnetic disk device in which the air bearing surface is polished as described above and then the magnetic head 7 is adhered to the support spring, the shape of the air bearing surface 15 of the magnetic head 7 is controlled with high accuracy as described above. It was impossible to do.

【0008】また、従来のような遊離砥粒研磨では、後
述するが転動砥粒の作用により、磁気ヘッド7を構成す
る異種材料間に図13において符号21で示すような加
工段差が生じ、図14に示すようにこの加工段差21の
大きさだけ磁気ヘッド7の浮上量(符号21+符号2
2)を実質上短縮することができず、これによって記録
波長を短縮できないという問題があった。例えば、ビッ
カース硬さが200kgf/mmの磁性膜と同硬さが1
300kgf/mm以上の基板で作られた磁気ヘッド7
では、磁性膜部に最大0.03μm程度の段差21が発
生していたのである。なお、図13および図14におい
て、符号18は磁性膜を、符号19は保護膜を、符号2
0は基板を、符号23は磁気ディスクをそれぞれ示す。
また、図13(a)は磁気ヘッド7の斜視図、図13
(b)は図13(a)におけるB面の断面拡大図であ
る。
In the conventional free-abrasive-grain polishing, as will be described later, due to the action of rolling abrasive grains, a processing step as indicated by reference numeral 21 in FIG. 13 occurs between different materials forming the magnetic head 7, As shown in FIG. 14, the flying height of the magnetic head 7 (reference numeral 21 + reference numeral 2) is increased by the size of the processing step 21.
There is a problem in that the recording wavelength cannot be shortened due to the fact that 2) cannot be shortened substantially. For example, the same hardness as a magnetic film having a Vickers hardness of 200 kgf / mm is 1
Magnetic head 7 made of a substrate of 300 kgf / mm or more
Then, the step 21 of about 0.03 μm at maximum was generated in the magnetic film portion. 13 and 14, reference numeral 18 is a magnetic film, reference numeral 19 is a protective film, and reference numeral 2
Reference numeral 0 indicates a substrate, and reference numeral 23 indicates a magnetic disk.
13A is a perspective view of the magnetic head 7, and FIG.
FIG. 13B is an enlarged cross-sectional view of plane B in FIG.

【0009】図15はヘッド浮上量に対する磁気ディス
ク23の記録ビットの限界長との関係を示す図であり、
浮上量の0.01μmの増加に対し上記ビット長が0.
05μm増加することを示している。従って、例えば
0.03μmの磁気ヘッド浮上面の加工段差21が存在
すれば、この段差がない場合に比べてビット長は0.1
5μm長くなり、その分だけ記録密度が低下する。
FIG. 15 is a diagram showing the relationship between the flying height of the head and the limit length of the recording bit of the magnetic disk 23.
When the flying height is increased by 0.01 μm, the bit length becomes 0.
It shows an increase of 05 μm. Therefore, if there is a processing step 21 on the air bearing surface of the magnetic head of 0.03 μm, for example, the bit length is 0.1 as compared with the case without this step.
It becomes longer by 5 μm, and the recording density is reduced accordingly.

【0010】本発明はこのような従来技術の実情に鑑み
てなされたもので、その第1の目的は、支持バネに磁気
ヘッドを接着した状態で磁気ヘッド浮上面を研磨し、所
定の形状に浮上面を創成できる研磨装置および研磨方法
を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances of the prior art. A first object of the present invention is to polish the air bearing surface of a magnetic head in a state in which the magnetic head is bonded to a support spring to obtain a predetermined shape. An object of the present invention is to provide a polishing apparatus and a polishing method capable of creating an air bearing surface.

【0011】また、第2の目的は、磁気ヘッドにおける
浮上面の加工段差を低減して浮上間隔を実質的に短縮す
ることのできる磁気ヘッド研磨装置および研磨方法を提
供することにある。
A second object of the present invention is to provide a magnetic head polishing apparatus and a polishing method capable of reducing the working step of the air bearing surface of the magnetic head and substantially shortening the flying distance.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、所定方向に平行移動可能な第1の移動テ
ーブル(Xテーブル)と、第1の移動テーブルの移動方
向と平行な面内で当該移動方向に対して垂直な方向に移
動可能な第2の移動テーブル(Yテーブル)と、第1お
よび第2の移動テーブルの移動方向に対して垂直な方向
に移動可能な第3の移動テーブル(Zテーブル)と、第
1の移動テーブルの移動方向を法線として回動する回動
軸を有する第1の回動駆動手段(θモータ)と、第2の
移動テーブルの移動方向を法線として回動する回動軸を
有する第2の回動駆動手段(φモータ)と、第1もしく
は第2の回動駆動手段の回動軸に取り付けられ、先端側
に磁気ヘッドを搭載した支持ばねと、磁気ヘッドの浮上
面を研磨するための研磨材を表面に備えた研磨用ディス
クと、この研磨用ディスクを回転させる回転駆動手段
と、上記磁気ヘッドと当該研磨用ディスクに押し当てな
がら揺動させる研磨制御機構とを備えた構成になってい
る。
In order to achieve the above object, the present invention provides a first moving table (X table) which can move in parallel in a predetermined direction, and a first moving table which is parallel to the moving direction of the first moving table. A second moving table (Y table) movable in a direction perpendicular to the moving direction in the plane, and a third movable table movable in a direction perpendicular to the moving directions of the first and second moving tables. Moving table (Z table), first rotating drive means (θ motor) having a rotating shaft that rotates about the moving direction of the first moving table as a normal, and moving direction of the second moving table. A second rotation drive means (φ motor) having a rotation axis that rotates about the normal line, and a magnetic head mounted on the rotation axis of the first or second rotation drive means and mounted on the tip side. Support spring and a magnetic head for polishing the air bearing surface A polishing disk having a polishing material on its surface, a rotation driving means for rotating the polishing disk, and a polishing control mechanism for rocking the magnetic head and the polishing disk while pressing the magnetic head are provided. There is.

【0013】また、研磨に際しては、当該研磨制御機構
の制御に応じて第1、第2及び第3のテーブルをそれぞ
れ平行に移動させ、第1及び第2の回動駆動手段によっ
て磁気ヘッドを揺動させながら回転する研磨用ディスク
に摺接させ、磁気ヘッドの浮上面を所定の曲面形状に研
磨する。
During polishing, the first, second, and third tables are moved in parallel under the control of the polishing control mechanism, and the magnetic head is oscillated by the first and second rotation drive means. The air bearing surface of the magnetic head is polished into a predetermined curved shape by sliding it against a rotating polishing disk while moving it.

【0014】[0014]

【作用】このように構成された研磨装置を使用すること
により、第1ないし第3の移動テーブル、第1及び第2
の回動駆動手段によって磁気ヘッドを5軸制御で動かす
ことができるようになる。これにより、磁気ヘッドの浮
上面は、支持ばねで支持された取付状態と同じ状態でs
in,cos,logなどの任意関数の線型結合で表さ
れる軌跡を描くことが可能になり、これによって磁気ヘ
ッドは非対称の凸面形状であっても任意に浮上面の形状
を形成できる。
By using the polishing apparatus configured as described above, the first to third moving tables, the first and second moving tables
The magnetic head can be moved by the 5-axis control by the rotation driving means. As a result, the air bearing surface of the magnetic head is in the same state as the attached state supported by the support spring.
It is possible to draw a locus represented by a linear combination of arbitrary functions such as in, cos, and log, which allows the magnetic head to arbitrarily form the air bearing surface even if it has an asymmetrical convex shape.

【0015】[0015]

【実施例】以下、図面を参照し、本発明の一実施例につ
いて説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0016】図1は実施例に係る研磨装置の斜視図であ
る。同図において、研磨装置は、第1の移動テーブルと
してのXテーブル1と、第2の移動テーブルとしてのY
テーブル2と、第3の移動テーブルとしてのZテーブル
3と、X軸を法線として回動する第1の回動駆動手段と
してのθモータ4と、Y軸を法線方向として回動する第
2の回動駆動手段としてのφモータ5と、支持バネ6を
介してθモータ4の回動軸によって回動可能に取り付け
られた磁気ヘッド7と、研磨用ディスクとしての後で詳
述するダイヤモンドディスク9と、ダイヤモンドディス
ク9を回転駆動する回転駆動手段としてのエアスピンド
ル8と、これらの各部を支承する石定盤11とからな
り、石定盤11はさらにベース40に対してダンパ10
を介して支持されている。
FIG. 1 is a perspective view of a polishing apparatus according to an embodiment. In the figure, the polishing apparatus includes an X table 1 as a first moving table and a Y table as a second moving table.
A table 2, a Z table 3 as a third moving table, a θ motor 4 as a first rotation driving unit that rotates about an X axis as a normal line, and a θ motor 4 that rotates about a Y axis as a normal direction. 2, a φ motor 5 as a rotation driving means, a magnetic head 7 rotatably attached by a rotation shaft of a θ motor 4 via a support spring 6, and a diamond as a polishing disk described later in detail. It comprises a disk 9, an air spindle 8 as a rotary driving means for rotationally driving the diamond disk 9, and a stone surface plate 11 for supporting each of these parts. The stone surface plate 11 further includes a damper 10 for the base 40.
Is supported through.

【0017】Xテーブル1は所定の、言い換えれば、あ
らかじめ設定したX軸方向に移動可能に支持され、図示
しない研磨制御機構によって同方向に移動し、停止する
ようになっている。Yテーブル2は、Xテーブル1と平
行な面内においてX軸方向と直角なY軸方向に移動可能
に支持され、Zテーブル3はX−Y平面に垂直なZ軸に
移動可能に支持され、Yテーブル2およびZテーブル3
ともXテーブル1と同様に図示しない駆動手段によって
移動、停止が行えるようになっている。また、Yテーブ
ル2はXテーブル1上に搭載され、Zテーブル3はYテ
ーブル2上に搭載され、φモータ5はZテーブル上に搭
載され、θモータ4はφモータ5の駆動軸によって回動
駆動されるベース5aに搭載されている。
The X table 1 is supported so as to be movable in a predetermined direction, in other words, in a preset X-axis direction, and is moved in the same direction by a polishing control mechanism (not shown) and then stopped. The Y table 2 is movably supported in a Y axis direction perpendicular to the X axis direction in a plane parallel to the X table 1, and the Z table 3 is movably supported in a Z axis perpendicular to the XY plane. Y table 2 and Z table 3
Both of them can be moved and stopped by a driving means (not shown) like the X table 1. The Y table 2 is mounted on the X table 1, the Z table 3 is mounted on the Y table 2, the φ motor 5 is mounted on the Z table, and the θ motor 4 is rotated by the drive shaft of the φ motor 5. It is mounted on a driven base 5a.

【0018】磁気ヘッド7はθモータ4の回動軸に固設
されたベース4aに取り付けられた支持バネ6の先端に
前述の浮上面15がダイヤモンドディスク9に対向する
ように支持されている。
The magnetic head 7 is supported by the tip of a support spring 6 attached to a base 4a fixed to the rotating shaft of the θ motor 4 so that the air bearing surface 15 faces the diamond disk 9.

【0019】この構成によって、これらX,Y,Zテー
ブル1,2,3、および、θ、φモータ4,5を研磨制
御機構を介して制御運転すると、θモータ4に取り付け
てある支持バネ6に接着された磁気ヘッド7を任意関数
の軌道で揺動させることができる。そして、エアスピン
ドル8に取り付けた後述の研磨用ダイヤモンドディスク
9に、磁気ヘッド7を押し当てて揺動させることによ
り、磁気ヘッド7の浮上面15の形状を創成研磨するも
のことができる。なお、ダンパ10は防振のため設けら
れており、これによって石定盤11の上で外部振動の影
響なく加工ができるように意図されている。また、研磨
制御機構に関しては特に説明しないが、各テーブル1,
2,3を平行に移動させ、各モータ4,5を回動させ
て、後述のように5軸を制御して任意の曲面の研磨がで
きるような機構であればどのような機構であってもよ
い。
With this configuration, when the X, Y, Z tables 1, 2, 3 and the θ, φ motors 4, 5 are controlled and operated via the polishing control mechanism, the support spring 6 attached to the θ motor 4 is operated. The magnetic head 7 adhered to can be swung in a trajectory of an arbitrary function. The shape of the air bearing surface 15 of the magnetic head 7 can be creatively polished by pressing the magnetic head 7 against the diamond disk 9 for polishing, which will be described later, attached to the air spindle 8 and swinging the magnetic head 7. It should be noted that the damper 10 is provided for vibration isolation, and it is intended that the damper 10 can be processed on the stone surface plate 11 without being affected by external vibration. Further, although the polishing control mechanism is not particularly described, each table 1,
Any mechanism can be used as long as it can move 2 and 3 in parallel and rotate the motors 4 and 5 to control the 5 axes as described later to polish an arbitrary curved surface. Good.

【0020】このような構成で、前記5軸を制御したと
き、支持バネのねじり剛性を加味すると、磁気ヘッド浮
上面15は次式の任意凸形状に研磨される。すなわち、 (dθ/dt)・(dφ/dt) =4S・fx ・fy ・{(∂2 Z/∂X2 )+P/Gx }・{(∂2 Z/∂Y2 )+P/Gy } (数1) ただし、Z(X,Y) :磁気ヘッド浮上面
創成形状 θ,φ :X,Y軸を法線方向とする
揺動角 fx , y :X,Y方向の揺動周波数 P :研磨荷重 dθ/dt,dφ/dt :θ、φの角速度 Gx ,Gy :X,Y方向の支持バネねじ
り剛性 S :磁気ヘッド浮上面の面積 となる。つまり、θ,φ,dθ/dt,dφ/dtは
θ,φモータ4,5で制御でき、fx ,fy はX,Yテ
ーブル1,2で制御でき、PはZテーブル3で制御でき
るので、この実施例における装置で磁気ヘッド7の浮上
面15を任意凸形状に創成研磨できる。
With such a structure, when the five axes are controlled and the torsional rigidity of the support spring is taken into consideration, the air bearing surface 15 of the magnetic head is polished into an arbitrary convex shape of the following formula. That, (dθ / dt) · ( dφ / dt) = 4S · f x · f y · {(∂ 2 Z / ∂X 2) + P / G x} · {(∂ 2 Z / ∂Y 2) + P / Gy } (Equation 1) where Z (X, Y): Magnetic head air bearing surface forming condition θ, φ: Swing angles fx , fy : X, Y directions normal to the X, Y axes Oscillation frequency P: Polishing load dθ / dt, dφ / dt: Angular velocity of θ, φ G x , G y : Support spring torsional rigidity in the X and Y directions S: Area of the air bearing surface of the magnetic head. That is, θ, φ, dθ / dt, dφ / dt can be controlled by θ, φ motors 4, 5, f x , f y can be controlled by X, Y tables 1 and 2, and P can be controlled by Z table 3. Therefore, the air bearing surface 15 of the magnetic head 7 can be generated and polished into an arbitrary convex shape by the apparatus in this embodiment.

【0021】この実施例において、X軸を法線とする揺
動角をθ=θ0 sinωt、fy =0.3Hz、Y軸ス
トローク15mm、研磨荷重P=0.08N、ディスク
回転数1000rpmで磁気ヘッド7を研磨した結果を
図3に示す。この図から分かるように磁気ヘッドクラウ
ンハイトと最大揺動角度θ0 との関係は、実験値と(数
1)の理論値が非常によく一致している。すなわち、本
実施例装置によれば、支持バネ6に接着された状態の磁
気ヘッド7の浮上面15を任意形状に創成研磨でき、そ
の結果磁気ヘッド7の浮上量と磁気ディスク装置の耐久
性において、前述の所定の性能を満足する磁気ヘッド
7、すなわち、磁気ヘッド浮上面クラウンハイトの大き
さが0.1±0.05μmのものを製作することができ
る。また、磁気ディスク装置の小型化に伴い、磁気ヘッ
ド7の厚みを小さくする必要があるが、本発明によれ
ば、厚みが薄いためにおこる磁気ヘッド形状のばらつき
がなくなるため、小型磁気ディスク装置に搭載できる磁
気ヘッド7の製作が可能になる。現在、2.5インチデ
ィスクを搭載する厚み3/4インチの磁気ディスク装置
において、磁気ヘッド7の厚みは0.42mmであるた
め、磁気ディスク23の限界搭載量は4枚である。しか
し、本発明によれば、厚さ0.3mm以下の磁気ヘッド
7を製作することができるため、磁気ディスク23の限
界搭載量を5枚に増やすことができる。
In this embodiment, the swing angle with the X-axis as the normal is θ = θ 0 sin ωt, f y = 0.3 Hz, Y-axis stroke 15 mm, polishing load P = 0.08 N, and disk rotation speed 1000 rpm. The result of polishing the magnetic head 7 is shown in FIG. As can be seen from this figure, the relationship between the magnetic head crown height and the maximum swing angle θ 0 is very well in agreement with the experimental value and the theoretical value of (Equation 1). That is, according to the apparatus of this embodiment, the air bearing surface 15 of the magnetic head 7 bonded to the support spring 6 can be generated and polished into an arbitrary shape, and as a result, the flying height of the magnetic head 7 and the durability of the magnetic disk device can be improved. It is possible to manufacture the magnetic head 7 satisfying the above-mentioned predetermined performance, that is, the magnetic head having an air bearing surface crown height of 0.1 ± 0.05 μm. Further, with the miniaturization of the magnetic disk device, it is necessary to reduce the thickness of the magnetic head 7. However, according to the present invention, the variation in the shape of the magnetic head caused by the thin thickness is eliminated, so that the small magnetic disk device is realized. The magnetic head 7 that can be mounted can be manufactured. At present, in a magnetic disk device having a thickness of 3/4 inch in which a 2.5 inch disk is mounted, since the thickness of the magnetic head 7 is 0.42 mm, the limit mounting amount of the magnetic disk 23 is four. However, according to the present invention, since the magnetic head 7 having a thickness of 0.3 mm or less can be manufactured, the limit mounting amount of the magnetic disks 23 can be increased to five.

【0022】また、本装置においてはdθ/dt、dφ
/dtは、それぞれθ、φについて可変とすることがで
きるため、磁気ヘッド浮上面15の曲率半径の大きさ
を、磁気ヘッド浮上面15上の位置で変えることができ
る。例えば、図4の斜視図からも分かるように磁気ヘッ
ド7の素子側に近い位置の曲率半径を大きくし(図中C
B )、磁気ヘッド浮上前端側の曲率半径を小さくする
(図中CS )こともできる。つまり、従来のような、ク
ラウンハイト16の頂上の位置がヘッド浮上面15の中
心にあるような磁気ヘッド7よりも、さらに浮上量が小
さい磁気ヘッド7を製作することが可能となる。
Further, in this apparatus, dθ / dt, dφ
Since / dt can be varied with respect to θ and φ, respectively, the size of the radius of curvature of the magnetic head air bearing surface 15 can be changed depending on the position on the magnetic head air bearing surface 15. For example, as can be seen from the perspective view of FIG. 4, the radius of curvature at a position close to the element side of the magnetic head 7 is increased (C in the figure).
B), reducing the radius of curvature of the magnetic head floating front end (in the figure C S) can be also. That is, it is possible to manufacture the magnetic head 7 having a smaller flying height than the conventional magnetic head 7 in which the top of the crown height 16 is located at the center of the head air bearing surface 15.

【0023】ダイヤモンドディスク9は図2に示すよう
に、定盤12の上面に接着材(以下、ボンド材と称す)
14を介してダイヤモンド砥粒13を接着し、砥粒13
の高低差Hが、0.05μm/3mm以内に収まるよう
に形成したものである。このように構成されたダイヤモ
ンドディスク9を使用することにより、前述の図13
(b)で示した加工段差21を小さくすることができ
た。以下、これについて詳しく説明する。
As shown in FIG. 2, the diamond disk 9 has an adhesive material (hereinafter referred to as a bond material) on the upper surface of the surface plate 12.
The diamond abrasive grains 13 are bonded via 14 to form the abrasive grains 13
It is formed so that the height difference H of is within 0.05 μm / 3 mm. By using the diamond disk 9 configured in this way, the above-mentioned FIG.
The processing step 21 shown in (b) can be reduced. Hereinafter, this will be described in detail.

【0024】磁気ヘッド7のような複合材、すなわち硬
度の異なる異種材料で構成されたものの研磨において
は、同じ研磨圧のとき、それぞれの構成材料で研磨能率
が異なる。一方、研磨圧と研磨能率とはほぼ比例するも
のである。ところで、研磨が定常状態になると、研磨能
率はそれぞれの材料で等しくなければならないので、こ
れに適合するように、異種材料間で研磨圧に差が生ず
る。この研磨圧の差により、研磨定盤に支持されている
砥粒の変位に差が生じ、これが前記複合材の研磨面に加
工段差21を生ずる原因となる。そこで、砥粒の変位を
小さくすれば、加工段差21を小さくすることができる
と考えられる。
In polishing a composite material such as the magnetic head 7, that is, a material composed of different materials having different hardnesses, the polishing efficiencies differ depending on the constituent materials under the same polishing pressure. On the other hand, the polishing pressure and the polishing efficiency are almost proportional to each other. By the way, when the polishing is in a steady state, the polishing efficiency must be the same for each material, so that there is a difference in polishing pressure between different materials so as to conform to this. This difference in polishing pressure causes a difference in the displacement of the abrasive grains supported by the polishing platen, which causes a processing step 21 on the polishing surface of the composite material. Therefore, it is considered that the processing step 21 can be reduced by reducing the displacement of the abrasive grains.

【0025】そこで、砥粒による前記複合材の研磨現象
を観察してみると、従来のような遊離砥粒研磨、すなわ
ち砥粒が定盤上を転動する場合、つまり転動砥粒の場合
には、この砥粒に加わる力(研磨圧)の差により、砥粒
が研磨定盤へ食い込む量、すなわち定盤の塑性変形量に
差が生じ、砥粒が研磨定盤へ食い込む量や砥粒間の変位
差も大きい。これに対して、図2のダイヤモンドディス
ク9のように砥粒13が研磨定盤12に埋め込まれてい
る場合、すなわち固定砥粒研磨の場合には、砥粒近傍
の、研磨定盤12の弾性変形量に差が生ずるだけなの
で、砥粒13間の変位差はきわめて小さい。したがっ
て、固定砥粒で研磨することにより、前記加工段差21
を小さくすることができる。
Then, observing the polishing phenomenon of the composite material by the abrasive grains, the conventional free abrasive polishing, that is, when the abrasive grains roll on the surface plate, that is, when the abrasive grains are rolling abrasive grains The difference in the force (polishing pressure) applied to the abrasive grains causes a difference in the amount of abrasive grains biting into the polishing platen, that is, the amount of plastic deformation of the platen. The difference in displacement between grains is also large. On the other hand, when the abrasive grains 13 are embedded in the polishing platen 12 like the diamond disk 9 in FIG. 2, that is, in the case of fixed abrasive grain polishing, the elasticity of the polishing platen 12 near the abrasive grains is large. Since there is only a difference in the amount of deformation, the difference in displacement between the abrasive grains 13 is extremely small. Therefore, by polishing with the fixed abrasive, the processing step 21
Can be made smaller.

【0026】引き続き磁気ヘッドを研磨する場合につい
て、図5および図6を参照して詳細に説明する。図5は
実施例に係る固定砥粒による研磨の動作原理を示す模式
図、図6は従来の遊離砥粒研磨における転動砥粒による
研磨の動作原理を示す模式図である。
The case of subsequently polishing the magnetic head will be described in detail with reference to FIGS. 5 and 6. FIG. 5 is a schematic diagram showing the operating principle of polishing with fixed abrasives according to the embodiment, and FIG. 6 is a schematic diagram showing the operating principle of polishing with rolling abrasives in conventional free abrasive polishing.

【0027】固定(埋め込み)砥粒について言えば、図
5に示すように、定盤25に弾性的に支持されているの
で、磁気ヘッド7を構成するヘッド基板20と磁性膜1
8との間に生じる研磨圧の差に起因する固定砥粒の変位
差、すなわち加工段差δ1 は、 δ1 ={3(1−ν2 )/4E}√(π・HvL・ΔP) (数2) ΔP=(HV1〜HV2)・π・dmax ・Rmax (数3) で表される。ただし、例えば、研磨定盤25に錫を用い
た場合 E :定盤のヤング率(=6000kgf/m
2 ) V :定盤のポアソン比(=0.33) HvL :定盤の硬度(=15kgf/mm2 ) Hv :ヘッド基板の硬度(=1300kgf/mm
2 ) Hv :磁性膜の硬度(=200kgf/mm2 ) dmax :最大砥粒径(=2μm) Rmax :被研磨面の最大面粗さ(=0.01μm) とする。
As for fixed (embedded) abrasive grains, as shown in FIG. 5, since they are elastically supported by the surface plate 25, the head substrate 20 and the magnetic film 1 constituting the magnetic head 7 are composed.
The difference in the displacement of the fixed abrasive grains caused by the difference in the polishing pressure with respect to 8, that is, the processing step δ 1, is δ 1 = {3 (1-ν 2 ) / 4E} √ (π · H vL · ΔP) (Equation 2) ΔP = (H V1 to H V2 ) · π · d max · R max (Equation 3) However, for example, when tin is used for the polishing platen E: Young's modulus of the platen (= 6000 kgf / m
m 2 ) V: surface plate Poisson's ratio (= 0.33) H vL : surface plate hardness (= 15 kgf / mm 2 ) H v : head substrate hardness (= 1300 kgf / mm)
2 ) H v : hardness of magnetic film (= 200 kgf / mm 2 ) d max : maximum abrasive grain size (= 2 μm) R max : maximum surface roughness (= 0.01 μm) of the surface to be polished.

【0028】これらの数値を(数2)、(数3)に代入
すれば、δ1 =0.01μmとなる。
By substituting these numerical values into (Equation 2) and (Equation 3), δ 1 = 0.01 μm.

【0029】一方、転動砥粒についていえば、これは図
6に示すように、研磨定盤25と磁気ヘッド7との間を
転動していくものであるので、研磨定盤25への食い込
み量(すなわち、研磨定盤25の塑性変形量)の差、す
なわち加工段差δ2 は、 δ2 =Rmax {√(Hv1)−√(Hv2)}/√(HvL) (数4) である。この(数4)に前記数値を代入すれば、δ2
0.06μmとなり前記δ1 =0.01μmに比較して
非常に大きくなることがわかる。したがって、固定砥粒
で研磨することにより、加工段差を小さくすることがで
きる。
On the other hand, as for the rolling abrasive grains, as shown in FIG. 6, the rolling abrasive grains roll between the polishing platen 25 and the magnetic head 7. The difference in the amount of bite (that is, the amount of plastic deformation of the polishing platen 25), that is, the processing step δ 2, is δ 2 = R max {√ (H v1 ) −√ (H v2 )} / √ (H vL ) (number 4) Substituting the above numerical value into this (Equation 4), δ 2 =
It can be seen that it becomes 0.06 μm, which is much larger than the above δ 1 = 0.01 μm. Therefore, it is possible to reduce the processing step by polishing with the fixed abrasive.

【0030】そこで、固定砥粒で研磨するために、本実
施例では、アルミニウム(A1050P)定盤12上
に、平均砥粒径0.1μmのダイヤモンド砥粒13をボ
ンド材14で結合させたダイヤモンドディスク9を製作
し、実験した。ダイヤモンド砥粒13の刃先に0.1μ
m/3mm以上のばらつきがあると、研磨された磁気ヘ
ッド浮上面15の最大面粗さRmaxが0.01μm以
上になるので、本実施例では、鋳鉄(FC20など)製
の定盤27を用い、図7に示すように上記ダイヤモンド
ディスク9表面を研磨することにより、前述のようなダ
イヤモンド砥粒13の刃先を0.05μm/3mm以内
に揃えたもの(図2)を用いた。なお、ダイヤモンドを
構成する炭素原子は鋳鉄中に拡散し易いため、鋳鉄定盤
27でダイヤモンドディスク9を研磨すると、ダイヤモ
ンド砥粒13の刃先を揃えることができる。
Therefore, in order to polish with fixed abrasive grains, in the present embodiment, a diamond in which diamond abrasive grains 13 having an average abrasive grain diameter of 0.1 μm are bonded by a bonding material 14 on an aluminum (A1050P) surface plate 12 is used. The disk 9 was manufactured and tested. 0.1μ on the cutting edge of diamond abrasive grain 13
If there is a variation of m / 3 mm or more, the maximum surface roughness Rmax of the polished magnetic head air bearing surface 15 becomes 0.01 μm or more. Therefore, in this embodiment, the surface plate 27 made of cast iron (FC20 or the like) is used. As shown in FIG. 7, by polishing the surface of the diamond disk 9 as described above, the diamond abrasive grains 13 having the cutting edges of 0.05 μm / 3 mm or less (FIG. 2) were used. Since carbon atoms forming diamond are easily diffused in cast iron, when the diamond disk 9 is polished by the cast iron surface plate 27, the cutting edges of the diamond abrasive grains 13 can be aligned.

【0031】上記ダイヤモンドディスク9を前述の研磨
装置に搭載し、エアスピンドル8によってダイヤモンド
ディスク9を回転数1000rpmで回転させ、Y軸揺
動周期fy =0.3Hz、Y軸ストローク15mm、研
磨圧力=0.08Nで研磨したところ、加工段差は0.
007μmとなり、従来の遊離砥粒研磨で研磨したもの
に比べ、加工段差21を非常に小さくすることができ
た。
The diamond disk 9 is mounted on the above-mentioned polishing apparatus, and the diamond disk 9 is rotated by the air spindle 8 at a rotation speed of 1000 rpm. The Y-axis swing cycle f y = 0.3 Hz, the Y-axis stroke 15 mm, and the polishing pressure. When polished with 0.08 N, the processing step is 0.
It was 007 μm, and the processing step 21 was able to be made extremely small as compared with the case of polishing by conventional free abrasive grain polishing.

【0032】従来、加工段差は0.03μm,ヘッド浮
上量は0.2μmであり、実質浮上量は0.23μmで
あった。本実施例によれば、加工段差を0.007μ
m、ヘッド浮上量を0.05μm、つまり、実質浮上量
を0.057μmにすることができる。これにより、従
来の記録ビット長1.0μmを0.025μmにするこ
とができ、磁気ディスク23の面記録密度を4倍にする
ことができる。現在、面記録密度の限界値は250Mb
/inであるが、これを少なくとも1G/inにするこ
とが可能となる。さらに、本発明によれば、2.5イン
チディスク装置のディスク搭載量を4枚から5枚に増や
すことができるので、現在この種のディスク装置の容量
は0.5GB/1台であるが、これを、 0.5GB/1台×1Gb/in÷250Mb/in ×(5/4) =2.5GB/1台 (数5) にすることができる。
Conventionally, the processing step was 0.03 μm, the head flying height was 0.2 μm, and the actual flying height was 0.23 μm. According to this embodiment, the processing step is 0.007 μm.
m, the head flying height is 0.05 μm, that is, the actual flying height can be 0.057 μm. As a result, the conventional recording bit length of 1.0 μm can be increased to 0.025 μm, and the areal recording density of the magnetic disk 23 can be quadrupled. Currently, the limit value of areal recording density is 250 Mb
Although it is / in, it becomes possible to make this at least 1 G / in. Further, according to the present invention, since the disk mounting amount of the 2.5-inch disk device can be increased from four to five, the capacity of this type of disk device is currently 0.5 GB / 1 unit. This can be set to 0.5 GB / 1 unit × 1 Gb / in ÷ 250 Mb / in × (5/4) = 2.5 GB / 1 unit (Equation 5).

【0033】さらに、上記のようなダイヤモンドディス
ク9を使用して研磨を行う方法について、以下詳述す
る。
Further, a method of polishing by using the diamond disk 9 as described above will be described in detail below.

【0034】このようなダイヤモンドディスク9を使用
する場合には、当該ダイヤモンドディスク9に図8に示
すような粗研磨部28、仕上げ研磨部29、クリーニン
グ部30、電気特性測定部31を設ける。本実施例で
は、粗研磨部28は平均粒径0.25μmのダイヤモン
ド砥粒13をボンド材14で結合したものである。仕上
げ研磨部29は平均粒径0.1μmのダイヤモンド砥粒
13をボンド材14で結合し、この表面を前述の鋳鉄定
盤27で研磨し、砥粒13の刃先の高さを0.05μm
以内におさめてある。クリーニング部30は発泡ウレタ
ンで構成し、電気特性測定部31には磁性媒体を塗布し
てある。これにより、電気特性測定部31で磁気ヘッド
7を浮上させ、電気信号を測定するようになっている。
When such a diamond disk 9 is used, the diamond disk 9 is provided with a rough polishing section 28, a final polishing section 29, a cleaning section 30, and an electrical characteristic measuring section 31, as shown in FIG. In this embodiment, the rough polishing portion 28 is formed by bonding the diamond abrasive grains 13 having an average grain size of 0.25 μm with the bonding material 14. The finish polishing section 29 combines the diamond abrasive grains 13 having an average particle diameter of 0.1 μm with the bonding material 14, and polishes the surface of the diamond abrasive grains 13 with the above-mentioned cast iron surface plate 27 so that the height of the cutting edge of the abrasive grains 13 is 0.05 μm.
It is kept within. The cleaning unit 30 is made of urethane foam, and the electric characteristic measuring unit 31 is coated with a magnetic medium. As a result, the magnetic head 7 is levitated by the electric characteristic measuring unit 31 and the electric signal is measured.

【0035】まず、粗研磨部28ではダイヤモンドディ
スク9を1000rpmで回転させ、磁気ヘッド7を押
圧揺動させることにより、高能率で磁気ヘッド浮上面1
5を粗研磨する。次に、磁気ヘッド7を仕上げ研磨部2
9に移動させ、ここでダイヤモンドディスク9を100
0rpmで回転させ、磁気ヘッド7を押圧揺動させるこ
とにより、前述の加工原理により、浮上面クラウニング
を所定の大きさに、又、加工段差21を従来のものより
小さくすることができる。
First, in the rough polishing section 28, the diamond disk 9 is rotated at 1000 rpm, and the magnetic head 7 is pressed and oscillated.
5 is roughly polished. Next, the magnetic head 7 is finished and the polishing unit 2
9 and move the diamond disk 9 to 100
By rotating at 0 rpm and oscillating the magnetic head 7, the air bearing surface crowning can be made to have a predetermined size and the processing step 21 can be made smaller than the conventional one by the above-mentioned processing principle.

【0036】次に、磁気ヘッド7をクリーニング部30
に移動させ、ここでダイヤモンドディスク9を1000
rpmで回転させ、磁気ヘッド7を押圧揺動させる。こ
の過程において、浮上面15上に付着した異物を取り除
くことができる。図9に、仕上げ研磨部29で研磨した
直後とクリーニング後の付着異物径をそれぞれ示す。こ
のように、クリーニング部30を設けてクリーニングす
ることによりヘッド浮上面15が確実にクリーニングさ
れていることがわかる。
Next, the magnetic head 7 is cleaned by the cleaning unit 30.
The diamond disk 9 to 1000
The magnetic head 7 is pressed and oscillated by rotating it at rpm. In this process, it is possible to remove foreign matter attached to the air bearing surface 15. FIG. 9 shows the diameters of adhering foreign matters immediately after polishing by the finish polishing section 29 and after cleaning. As described above, it is understood that the head air bearing surface 15 is reliably cleaned by providing the cleaning unit 30 for cleaning.

【0037】クリーニングが終了すると、クリーニング
後の磁気ヘッドを7最内周の電気特性測定部31に移動
させ、ここでダイヤモンドディスク9を3000〜50
00rpmで回転させて磁気ヘッド7を浮上させる。本
実施例では、前述の図1からも分かるように磁気ヘッド
7は支持バネ6に接着されているので、ヘッド素子の端
子32から電気信号Sを読み出すことができる。この電
気信号Sを利用し、磁気ヘッド7の浮上特性を測定する
ことができる。なお、粗研磨部28、仕上げ研磨部29
は本実施例のように構成するだけではなく、例えば、粗
研磨部28の砥粒はダイヤモンドで、仕上げ研磨部29
はダイヤモンドより軟らかいアルミナ、炭化ケイ素、酸
化ケイ素などの軟質砥粒でもよい。
When the cleaning is completed, the magnetic head after cleaning is moved to the electric characteristic measuring section 31 at the innermost periphery of the magnetic disk 7, where the diamond disk 9 is set to 3000 to 50.
The magnetic head 7 is levitated by rotating it at 00 rpm. In this embodiment, as can be seen from FIG. 1 described above, the magnetic head 7 is bonded to the support spring 6, so that the electric signal S can be read from the terminal 32 of the head element. The flying characteristic of the magnetic head 7 can be measured using this electric signal S. The rough polishing section 28 and the finish polishing section 29
Is not only configured as in this embodiment, but, for example, the abrasive grains of the rough polishing portion 28 are diamond, and the finish polishing portion 29 is
May be soft abrasive grains such as alumina, silicon carbide, and silicon oxide, which are softer than diamond.

【0038】このように、ダイヤモンドディスク9内に
研磨部28,29、クリーニング部30、電気特性測定
部31を設けることにより、研磨、クリーニング、浮上
特性測定の3工程を磁気ヘッド7を装置から取りはずす
ことなく、連続的に行なうことができる。
As described above, by providing the polishing parts 28 and 29, the cleaning part 30, and the electrical characteristic measuring part 31 in the diamond disk 9, the magnetic head 7 is removed from the apparatus in the three steps of polishing, cleaning and floating characteristic measurement. Without the need for continuous operation.

【0039】[0039]

【発明の効果】これまでの説明で明らかなように、上述
のように構成されたこの発明によれば、支持ばねで支持
した実際の取付状態と同様の状態で5軸制御によって磁
気ヘッドの浮上面の研磨が可能になるため、当該浮上面
を任意の凸形状に創成研磨できる。
As is apparent from the above description, according to the present invention configured as described above, the magnetic head is levitated by the 5-axis control in a state similar to the actual mounting state supported by the support spring. Since the surface can be polished, the air bearing surface can be generated and polished into an arbitrary convex shape.

【0040】また、ダイヤモンド砥粒を固定して砥粒の
刃先を所定の高さの範囲内に納めることによって磁気ヘ
ッドにおける浮上面の加工段差を低減することが可能に
なり、浮上間隔を実質的に狭くすることができる。
Further, by fixing the diamond abrasive grains and placing the cutting edge of the abrasive grains within the range of a predetermined height, it becomes possible to reduce the processing step of the air bearing surface in the magnetic head, and to substantially reduce the flying distance. Can be narrowed to

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例に係る研磨装置の全体的な構成
を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an overall configuration of a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施例に係るダイヤモンドディスクの
構成を示す断面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing a structure of a diamond disk according to an embodiment of the present invention.

【図3】実施例に係る研磨装置で磁気ヘッドを研磨した
結果を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a result of polishing a magnetic head with a polishing apparatus according to an example.

【図4】実施例に係る研磨装置で加工できる磁気ヘッド
浮上面形状の一例を示す斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view showing an example of a magnetic head air bearing surface shape that can be processed by the polishing apparatus according to the embodiment.

【図5】固定(埋め込み)砥粒による研磨の動作原理を
示す説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing an operating principle of polishing with fixed (embedded) abrasive grains.

【図6】転動砥粒による研磨の動作原理を示す説明図で
ある。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing an operating principle of polishing by rolling abrasive grains.

【図7】鋳鉄定盤によるダイヤモンド砥粒の研磨状態を
示す説明図である。
FIG. 7 is an explanatory view showing a polishing state of diamond abrasive grains by a cast iron surface plate.

【図8】研磨部、クリ−ニング部、電気特性測定部を持
つディスクとこれを用いた磁気ヘッドの研磨方法を示す
説明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram showing a disk having a polishing section, a cleaning section, and an electrical characteristic measuring section, and a method of polishing a magnetic head using the disk.

【図9】本発明の実施例に係るダイヤモンドディスクを
使用したときのクリーニング効果を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a cleaning effect when the diamond disk according to the example of the present invention is used.

【図10】磁気ヘッドの外観を示す斜視図である。FIG. 10 is a perspective view showing the appearance of a magnetic head.

【図11】クラウンハイトと浮上量との関係を示す図で
ある。
FIG. 11 is a diagram showing a relationship between crown height and flying height.

【図12】クラウンハイトとMTBFとの関係を示す図
である。
FIG. 12 is a diagram showing a relationship between crown height and MTBF.

【図13】磁気ヘッドの加工段差の様子を示す図であ
る。
FIG. 13 is a diagram showing a state of a processed step of the magnetic head.

【図14】磁気ヘッドの浮上状態を示す説明図である。FIG. 14 is an explanatory diagram showing a flying state of a magnetic head.

【図15】磁気ヘッドの浮上量と記録ビット長の関係を
示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing the relationship between the flying height of a magnetic head and the recording bit length.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 Xテ−ブル 2 Yテ−ブル 3 Zテ−ブル 4 θモ−タ 5 φモ−タ 6 支持バネ 7 磁気ヘッド 8 エアスピンドル 9 ダイヤモンドディスク 10 ダンパ 11 石定盤 12 定盤 13 ダイヤモンド砥粒 14 ボンド材 15 浮上面 16 クラウンハイト 18 磁性膜 19 保護膜 20 基板 21 加工段差 22 浮上量 23 磁気ディスク 24 固定砥粒 25 研磨定盤 26 転動砥粒 27 鋳鉄定盤 28 粗研磨部 29 仕上げ研磨部 30 クリ−ニング部 31 電気特性測定部 32 端子 1 X Table 2 Y Table 3 Z Table 4 θ Motor 5 φ Motor 6 Support Spring 7 Magnetic Head 8 Air Spindle 9 Diamond Disk 10 Damper 11 Stone Surface Plate 12 Surface Plate 13 Diamond Abrasive Grains 14 bond material 15 air bearing surface 16 crown height 18 magnetic film 19 protective film 20 substrate 21 processing step 22 flying height 23 magnetic disk 24 fixed abrasive 25 polishing surface plate 26 rolling abrasive particle 27 cast iron surface plate 28 rough polishing portion 29 finish polishing Part 30 cleaning part 31 electrical characteristic measuring part 32 terminal

フロントページの続き (72)発明者 山坂 稔 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所小田原工場内Front page continued (72) Inventor Minoru Yamasaka 2880 Kozu, Odawara City, Kanagawa Stock Company Hitachi Ltd. Odawara Plant

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 磁気ヘッド浮上面を曲面状に研磨する磁
気ヘッド研磨装置において、 あらかじめ設定した方向に平行移動可能な第1の移動テ
ーブルと、 第1の移動テーブルの移動方向と平行な面内で当該移動
方向に対して垂直な方向に移動可能な第2の移動テーブ
ルと、 第1および第2の移動テーブルの移動方向に対して垂直
な方向に移動可能な第3の移動テーブルと、 第1の移動テーブルの移動方向を法線として回動する回
動軸を有する第1の回動駆動手段と、 第2の移動テーブルの移動方向を法線として回動する回
動軸を有する第2の回動駆動手段と、 第1もしくは第2の回動駆動手段の回動軸に取り付けら
れ、先端側に磁気ヘッドを搭載した支持ばねと、 磁気ヘッドの浮上面を研磨するための研磨材を表面に備
えた研磨用ディスクと、 この研磨用ディスクを回転させる回転駆動手段と、 前記磁気ヘッドを前記研磨用ディスクに押し当てながら
揺動させる研磨制御機構と、を備えていることを特徴と
する磁気ヘッド研磨装置。
1. A magnetic head polishing apparatus for polishing an air bearing surface of a magnetic head into a curved surface, comprising: a first moving table that can move in parallel in a preset direction; and a plane parallel to the moving direction of the first moving table. A second moving table movable in a direction perpendicular to the moving direction, a third moving table movable in a direction perpendicular to the moving directions of the first and second moving tables, A first rotation drive unit having a rotation axis that rotates about the moving direction of the first moving table as a normal line, and a second rotation drive unit that rotates about the moving direction of the second moving table as a normal line. Rotation drive means, a support spring mounted on the rotation shaft of the first or second rotation drive means and having a magnetic head mounted on the tip side, and an abrasive for polishing the air bearing surface of the magnetic head. Polishing disc on the surface A rotation driving means for rotating the abrasive disc, magnetic head polishing apparatus characterized by comprising a polishing control mechanism for swinging while pressing the magnetic head to said abrasive disc.
【請求項2】 前記研磨用ディスクが、定盤に接着材に
よってダイヤモンド砥粒を接着し、接着されたダイヤモ
ンド砥粒を炭素原子が拡散しやすい材料からなる他の定
盤で研磨することにより形成されたダイヤモンドディス
クからなることを特徴とする請求項1記載の磁気ヘッド
研磨装置。
2. The polishing disk is formed by adhering diamond abrasive grains to a surface plate with an adhesive and polishing the adhered diamond abrasive particles with another surface plate made of a material in which carbon atoms easily diffuse. 2. The magnetic head polishing apparatus according to claim 1, wherein the magnetic head polishing apparatus comprises a diamond disk.
【請求項3】 前記ダイヤモンド砥粒の刃先の高低差が
0.05μm以内に形成されてなる請求項2記載の磁気
ヘッド研磨装置。
3. The magnetic head polishing apparatus according to claim 2, wherein the height difference of the cutting edges of the diamond abrasive grains is formed within 0.05 μm.
【請求項4】 前記研磨用ディスクの表面に粗研磨部、
仕上げ研磨部、クリーニング部、磁気ヘッド電気特性測
定部が同心円状に形成されていることを特徴とする請求
項1記載の磁気ヘッド研磨装置。
4. A rough polishing part is provided on the surface of the polishing disk,
2. The magnetic head polishing apparatus according to claim 1, wherein the finish polishing section, the cleaning section, and the magnetic head electrical characteristic measuring section are formed in a concentric shape.
【請求項5】 請求項1記載の磁気ヘッド研磨装置を使
用し、第1、第2及び第3のテーブルをそれぞれ平行に
移動させ、第1及び第2の回動駆動手段によって磁気ヘ
ッドを揺動させながら回転する研磨用ディスクに摺接さ
せて磁気ヘッドの浮上面を所定の曲面形状に研磨する磁
気ヘッドの研磨方法。
5. The magnetic head polishing apparatus according to claim 1, wherein the first, second and third tables are respectively moved in parallel, and the magnetic head is shaken by the first and second rotation drive means. A method of polishing a magnetic head, which is brought into sliding contact with a polishing disk that rotates while moving to polish the air bearing surface of the magnetic head into a predetermined curved surface shape.
【請求項6】 所定の曲面形状が、浮上面の位置によっ
て異なる曲率を有するように設定された請求項5記載の
磁気ヘッドの研磨方法。
6. The method of polishing a magnetic head according to claim 5, wherein the predetermined curved surface shape is set to have a different curvature depending on the position of the air bearing surface.
【請求項7】 請求項4記載の磁気ヘッド研磨装置を使
用し、磁気ヘッドの研磨、磁気ヘッドのクリーニング、
および磁気ヘッドの電気特性の測定を一工程で行うこと
を特徴とする磁気ヘッドの研磨方法。
7. A magnetic head polishing apparatus according to claim 4, wherein the magnetic head is polished, the magnetic head is cleaned,
And a method of polishing a magnetic head, characterized in that the electrical characteristics of the magnetic head are measured in one step.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US5872686A (en) * 1997-09-30 1999-02-16 International Business Machines Corporation Magnetic storage system having an improved slider having rounded corners to minimize disk damage
US6069769A (en) * 1997-09-30 2000-05-30 International Business Machines Corporation Air bearing slider having rounded corners
US6852013B2 (en) 2001-05-25 2005-02-08 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method of burnishing a burnishable rear pad slider in a disk drive
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