JPH06174495A - Optical displacement detecting device - Google Patents

Optical displacement detecting device

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JPH06174495A
JPH06174495A JP34546592A JP34546592A JPH06174495A JP H06174495 A JPH06174495 A JP H06174495A JP 34546592 A JP34546592 A JP 34546592A JP 34546592 A JP34546592 A JP 34546592A JP H06174495 A JPH06174495 A JP H06174495A
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plane
bright
displacement
slit
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Takumi Fukuda
拓己 福田
Masaaki Takagi
正明 高木
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Nidec Copal Corp
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Abstract

PURPOSE:To improve the resolution of a geometrical/optical encoder and expand the interval between a slit pattern and a mask pattern faced to each other. CONSTITUTION:A displacement member 2 having a periodic slit pattern 1 and displaceably mounted along the first plane is used. A coherent light source 4 made of a laser diode is arranged behind the displacement member 2 to generate a primary bright/dark image 3 moved along the first plane. The primary bright/dark image 3 is projected at the preset magnifying power with a lens member 6, and the expanded secondary bright/dark image 5 moved along the preset second plane is formed. A light reception section 8 is fixed and arranged on the second plane, and it receives the light according to a periodic mask pattern in response to the moving secondary bright/dark image 5 and outputs the electric signal 7 indicating the displacement of the displacement member 2.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は回転変位あるいは直線変
位するエンコーダ板に光を照射しその光量変化に基いて
変位を検出する光学式エンコーダもしくは光学式変位検
出装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical encoder or an optical displacement detecting device which irradiates an encoder plate which is rotationally displaced or linearly displaced with light and detects the displacement based on a change in the amount of light.

【0002】[0002]

【従来の技術】光学式エンコーダには波動光学系を用い
たものと幾何光学系を用いたものが知られている。波動
光学系のエンコーダはコヒーレント光の干渉や回折を利
用したものであり、半導体レーザ等のコヒーレント光源
と回折格子が形成されたエンコーダ板と受光素子等から
構成されている。エンコーダ板に形成された回折格子は
コヒーレント光の波長と同程度の格子定数を有しており
高分解能且つ小型寸法の光学式エンコーダを得る事がで
きる。しかしながら、波動光学系を用いてアブソリュー
ト式のエンコーダを実現しようとすると、エンコーダ板
の表面には、各々異なった番地情報を含むスリット列か
らなるトラックが複数隣接して並列する為、小型化を達
成する事ができない。即ち、トラック間隔を微細化する
と光の干渉が生じトラック毎に光を分離する事ができな
い。
2. Description of the Related Art Optical encoders using a wave optical system and a geometrical optical system are known. The encoder of the wave optical system utilizes interference and diffraction of coherent light, and is composed of a coherent light source such as a semiconductor laser, an encoder plate having a diffraction grating formed thereon, a light receiving element and the like. The diffraction grating formed on the encoder plate has a grating constant approximately equal to the wavelength of coherent light, and it is possible to obtain an optical encoder of high resolution and small size. However, when attempting to realize an absolute encoder using a wave optics system, a plurality of tracks consisting of slit rows containing different address information are arranged side by side on the surface of the encoder plate, thus achieving miniaturization. I can't do it. That is, if the track interval is made fine, light interference occurs and it is impossible to separate light for each track.

【0003】これに対して、幾何光学式のエンコーダは
光の直進性を利用したものであり、LED等のインコヒ
ーレント光源と移動スリット及び固定スリットの組み合
わせと受光素子等から構成されている。移動スリットと
固定スリットの組み合わせを用いて入射光を断続的にス
イッチングし光量変化に基いて変位検出を行なうもので
ある。
On the other hand, the geometrical optical encoder uses the straightness of light and is composed of a combination of an incoherent light source such as an LED, a movable slit and a fixed slit, a light receiving element and the like. Incident light is intermittently switched using a combination of a moving slit and a fixed slit, and displacement detection is performed based on a change in the light amount.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、幾何光学系
のエンコーダにおいて分解能を高める為に移動スリット
や固定スリットのピッチを光の波長オーダまで小さくす
ると、回折現象によりスリットを通過した光で形成され
る像がぼやけてしまうという課題がある。即ち、従来の
幾何光学系エンコーダには光の波動性に起因する分解能
の限界が存在する。この像のぼやけを防止する為に移動
スリットと固定スリットとは互いに可能な限り近接配置
する必要がある。しかしながら、移動スリットはエンコ
ーダ板に形成されており、その移動に伴なって面振れが
生ずる。さらに、外部から加わる振動や衝撃によって面
振れは促進される。この為、移動スリットと固定スリッ
トの間隔は所定のクリアランスを考慮して設定しなけれ
ばならず実際には上述した像のぼやけを抑制する事が困
難であり、幾何光学式エンコーダの高分解能化及び小型
化の障害となっていた。
By the way, in the encoder of the geometrical optical system, if the pitch of the moving slit or the fixed slit is reduced to the wavelength order of light in order to improve the resolution, it is formed by the light passing through the slit due to the diffraction phenomenon. There is a problem that the image becomes blurred. That is, the conventional geometrical optical system encoder has a limit of resolution due to the wave nature of light. In order to prevent this image blurring, it is necessary to arrange the moving slit and the fixed slit as close to each other as possible. However, the moving slit is formed in the encoder plate, and surface wobbling occurs with the movement. Further, the surface wobbling is promoted by externally applied vibration or impact. For this reason, the distance between the movable slit and the fixed slit must be set in consideration of a predetermined clearance, and it is actually difficult to suppress the blurring of the image described above. It was an obstacle to miniaturization.

【0005】上述した幾何光学式エンコーダの課題に鑑
み、本発明は移動スリットと固定スリットを近接配置す
る事なく高分解能化の可能な改良された幾何光学式エン
コーダを提供する事を目的とする。又、光の波動的な性
質に起因する分解能の限界に関わらず、像のぼやけが抑
制された幾何光学式エンコーダを提供する事を目的とす
る。
In view of the problems of the geometrical optical encoder described above, it is an object of the present invention to provide an improved geometrical optical encoder capable of achieving high resolution without disposing a moving slit and a fixed slit in close proximity. It is another object of the present invention to provide a geometrical optical encoder in which blurring of an image is suppressed regardless of the limit of resolution due to the wave nature of light.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】図1を参照して本発明の
目的を達成する為に講じられた手段を説明する。図示す
る光学式変位検出装置は、周期的なスリットパタン1を
有し所定の第1平面に沿って変位可能に搭載された変位
部材2と、該スリットパタン1をコヒーレント光で照明
し第1平面に沿って移動する1次明暗像3を生成する為
のコヒーレント光源4と、該1次明暗像3を所定の倍率
で投影し所定の第2平面に沿って移動する拡大された2
次明暗像5を結像する為のレンズ部材6と、第2平面上
に固定配置されており移動する2次明暗像に応じた有効
受光エリアを有し変位部材2の変位を表わす電気信号7
を出力する為の受光部8とから構成されている。スリッ
トパタン1の周期的配列ピッチをPとし、コヒーレント
光の波長をλとし、レンズ部材6の第1平面側開口数を
NAとすると、図示する光学系はP>λ/NAの関係を
満たす様に設定されている。変位部材2は絶対変位量を
表わすビットコード化されたスリットパタン1を有す
る。あるいは、変位部材2は相対変位量を表わす規則的
なスリットパタン1を有するものであっても良い。
Means taken for achieving the object of the present invention will be described with reference to FIG. The illustrated optical displacement detection device includes a displacement member 2 that has a periodic slit pattern 1 and is displaceably mounted along a predetermined first plane, and the slit pattern 1 is illuminated with coherent light to illuminate the first plane. A coherent light source 4 for generating a primary bright-dark image 3 that moves along a line, and a magnified beam 2 that projects the primary bright-dark image 3 at a predetermined magnification and moves along a predetermined second plane.
A lens member 6 for forming the next bright and dark image 5, and an electric signal 7 representing the displacement of the displacing member 2 having an effective light receiving area corresponding to the moving secondary bright and dark image fixedly arranged on the second plane.
And a light receiving portion 8 for outputting Assuming that the periodic array pitch of the slit pattern 1 is P, the wavelength of coherent light is λ, and the numerical aperture on the first plane side of the lens member 6 is NA, the optical system shown in the figure will satisfy the relation of P> λ / NA. Is set to. The displacement member 2 has a bit-coded slit pattern 1 representing the absolute displacement amount. Alternatively, the displacement member 2 may have a regular slit pattern 1 indicating the relative displacement amount.

【0007】図示の例では、変位部材2は透明基板21
に形成された透過部22と非透過部23との周期的配列
からなるスリットパタン1を有するとともに、コヒーレ
ント光源4は透明基板21を背面からコヒーレント光で
照明し1次明暗像3を生成する様に配置されている。
又、受光部8は周期的マスクパタンに従って形成された
透過部81及び非透過部82の配列を有する固定マスク
板83と、その背後に配置された一様な受光領域84を
有する受光素子85とからなる二層構造である。この二
層構造により、2次明暗像に応じた有効受光エリアが規
定される。しかしながら、受光部8はかかる二層構造に
限られるものではない。例えば、周期的マスクパタンに
従って形成された周期的な有効受光エリアを有する受光
素子からなる単層構造を受光部として用いても良い。
又、レンズ部材6は非球面レンズからなり、実質的に収
差の除去された2次明暗像5を結像させる様にしてい
る。
In the illustrated example, the displacement member 2 is a transparent substrate 21.
In addition to having a slit pattern 1 formed of a periodic arrangement of a transmissive portion 22 and a non-transmissive portion 23 formed on the substrate 1, the coherent light source 4 illuminates the transparent substrate 21 with coherent light from the back surface to generate a primary bright-dark image 3. It is located in.
Further, the light receiving portion 8 includes a fixed mask plate 83 having an array of transmissive portions 81 and non-transmissive portions 82 formed according to a periodic mask pattern, and a light receiving element 85 having a uniform light receiving region 84 arranged behind it. It is a two-layer structure consisting of. This two-layer structure defines an effective light receiving area according to the secondary bright and dark image. However, the light receiving unit 8 is not limited to such a two-layer structure. For example, a single layer structure composed of a light receiving element having a periodic effective light receiving area formed according to a periodic mask pattern may be used as the light receiving portion.
Further, the lens member 6 is composed of an aspherical lens and is adapted to form a secondary bright-dark image 5 in which aberration is substantially removed.

【0008】[0008]

【作用】コヒーレント光源4によりスリットパタン1を
照明すると第1平面に沿って移動する1次明暗像3が得
られる。この第1平面はレンズ部材6を基準にして光軸
方向距離Lの位置に設定されている。1次明暗像3はス
リットパタン1の周期に対応したピークピッチを有す
る。この1次明暗像3はレンズ部材6により拡大投影さ
れ第2平面上に2次明暗像5として結像される。第2平
面はレンズ部材6を基準にして光軸方向距離Nの位置に
設定されている。これらの距離L及びNはレンズ公式1
/N+1/L=1/Fに従って計算される。但しFはレ
ンズ部材6の焦点距離である。このレンズ公式から明ら
かな様に、1次明暗像3に対する2次明暗像5の拡大倍
率MはN/Lで与えられる。
When the slit pattern 1 is illuminated by the coherent light source 4, a primary bright-dark image 3 moving along the first plane is obtained. The first plane is set at the position of the distance L in the optical axis direction with reference to the lens member 6. The primary bright-dark image 3 has a peak pitch corresponding to the cycle of the slit pattern 1. This primary bright-dark image 3 is enlarged and projected by the lens member 6 and is formed as a secondary bright-dark image 5 on the second plane. The second plane is set at a position having a distance N in the optical axis direction with reference to the lens member 6. These distances L and N are the lens formula 1
Calculated according to / N + 1 / L = 1 / F. However, F is the focal length of the lens member 6. As is apparent from this lens formula, the magnification M of the secondary bright-dark image 5 with respect to the primary bright-dark image 3 is given by N / L.

【0009】矢印で示す様に1次明暗像3が移動すると
これに応じて2次明暗像5も移動する。但しその移動方
向は反対である。移動する2次明暗像5のピークは固定
マスク板83を介して間欠的に受光素子85により受光
され受光量変化に応じた交流電気信号7が出力される。
スリットパタン1が相対変位量を表わす単純な規則的パ
タンである場合には、交流電気信号7の周波数が変位部
材2の変位速度を表わし、波の数が変位量を表わす。か
かる構成によれば、変位部材2と受光部8を何ら近接さ
せる事なく光の直進性を利用した高分解能エンコーダを
得る事ができる。高分解能化の為に、第1平面側のスリ
ットパタンを微細化しても第2平面側のマスクパタンを
微細化する必要はない。スリットパタンの周期とマスク
パタンの周期との間にも上述した拡大倍率が適用され
る。
When the primary bright-dark image 3 moves as indicated by the arrow, the secondary bright-dark image 5 also moves accordingly. However, the moving directions are opposite. The peak of the moving secondary bright-dark image 5 is intermittently received by the light receiving element 85 via the fixed mask plate 83, and the AC electric signal 7 corresponding to the change in the amount of received light is output.
When the slit pattern 1 is a simple regular pattern representing the relative displacement amount, the frequency of the AC electric signal 7 represents the displacement velocity of the displacement member 2 and the number of waves represents the displacement amount. With this configuration, it is possible to obtain a high-resolution encoder that uses the straightness of light without causing the displacement member 2 and the light-receiving unit 8 to approach each other. For high resolution, it is not necessary to miniaturize the mask pattern on the second plane side even if the slit pattern on the first plane side is miniaturized. The above-mentioned enlargement factor is applied between the cycle of the slit pattern and the cycle of the mask pattern.

【0010】本発明においては、スリットパタン1の周
期的配列ピッチをPとし、コヒーレント光の波長をλと
し、レンズ部材6の第1平面側開口数をNAとすると、
P>λ/NAの関係を満たす様に幾何光学系が設定され
ている。コヒーレント光源4を用い且つ上述した関係を
満たす事により、スリットパタンの周期的配列ピッチP
をコヒーレント光の波長λのオーダまで微細化でき、且
つ極めてコントラストの明瞭な2次明暗像5を得る事が
できる。以下、この点につき詳細な説明を加える。
In the present invention, when the periodic array pitch of the slit pattern 1 is P, the wavelength of coherent light is λ, and the numerical aperture on the first plane side of the lens member 6 is NA,
The geometrical optical system is set so as to satisfy the relation of P> λ / NA. By using the coherent light source 4 and satisfying the above relationship, the periodic array pitch P of the slit patterns is
Can be miniaturized to the order of the wavelength λ of coherent light, and a secondary bright-dark image 5 with extremely clear contrast can be obtained. Hereinafter, a detailed description will be added to this point.

【0011】一般に、無収差レンズにより結像される点
像の波動分布Uは円形開口のフラウンフォーファ(Fr
aunhofer)回折から導かれる(例えばM.Bo
rn,E.Wolf著 草川,横田訳「光学の原理II」
pp600,東海大学出版会,1975年参照)。結果
を表わすと以下の数式1の様になる。
Generally, the wave distribution U of a point image formed by an aplanatic lens has a circular aperture of Fraunforfer (Fr).
aunhofer diffraction (eg M. Bo)
rn, E.I. Wolf Translated by Kusakawa and Yokota "Principles of Optics II"
pp600, Tokai University Press, 1975). The result is expressed by the following formula 1.

【数1】 [Equation 1]

【0012】さらに数式1で求めた波動分布Uに基き光
強度分布Iを求めると以下の数式2の様になる。
Further, when the light intensity distribution I is obtained based on the wave distribution U obtained by the equation 1, the following equation 2 is obtained.

【数2】 上記数式2をグラフに表わすと図2の様になる。即ち、
よく知られている様に、無収差レンズにより結像される
点像の光強度分布は、所謂エアリーの円板で与えられ光
の波動的性質に基き所定の拡がりを有する。即ち、無収
差レンズであっても波動光学上の限界があり、理想的な
点像を得る事はできず必ずある程度の拡がりを有する円
板像となる。
[Equation 2] The above Equation 2 is shown in a graph as shown in FIG. That is,
As is well known, the light intensity distribution of a point image formed by an aplanatic lens has a predetermined spread based on the wave nature of light given by a so-called Airy disc. That is, even an aplanatic lens has a limit in terms of wave optics, an ideal point image cannot be obtained, and a disc image having a certain degree of spread is always obtained.

【0013】今仮に、変位部材のスリットパタンにより
得られる1次明暗像が矩形波で表わされるとすると、光
源がインコヒーレント光の場合、数式2の点像強度分布
を前記矩形波にレンズの拡大倍率をかけた範囲で積分す
る事により、2次明暗像の強度分布が求められる。一方
コヒーレント光を用いてスリットパタンを照明した場合
には、波動の位相を考慮に入れる必要がある為数式1を
矩形波の全画角に渡って積分しなければならない。そこ
で、レンズ開口を微小成分に分け、Fresnel−K
irchhoffの回折公式に基いて具体的なパラメー
タを用いシュミレーションを行なった。用いたパラメー
タは、第1平面側から見たレンズの開口数NAを0.2
5とし、スリットピッチを5.5μmとし、レンズ焦点
距離を3.2mmとし、レンズ拡大倍率を15.2倍と
し、スリットパタン及びマスクパタンの明暗デューティ
ーを1対1とした。又、レンズは無収差として取り扱っ
た。さらに、インコヒーレント光についてはLEDを光
源としその波長λを680nmに設定し、コヒーレント光
の場合には光源としてレーザダイオードを用い波長λを
780nmに設定した。インコヒーレント光のシュミレー
ション結果を図3に示す。又、その電気出力を図4に示
す。一方、コヒーレント光の2次明暗像光強度分布を図
5に示し、同じく電気出力を図6に示す。
Assuming that the primary bright-dark image obtained by the slit pattern of the displacement member is represented by a rectangular wave, when the light source is incoherent light, the point image intensity distribution of Equation 2 is expanded to the rectangular wave by the lens expansion. The intensity distribution of the secondary bright and dark image can be obtained by integrating in the range multiplied by the magnification. On the other hand, when the slit pattern is illuminated by using coherent light, it is necessary to take into account the phase of the wave, and therefore Equation 1 must be integrated over the entire angle of view of the rectangular wave. Therefore, the lens aperture is divided into minute components, and Fresnel-K
The simulation was performed using specific parameters based on the Irchhoff diffraction formula. The parameter used is 0.2 numerical aperture NA of the lens viewed from the first plane side.
5, the slit pitch was 5.5 μm, the lens focal length was 3.2 mm, the lens magnification was 15.2 times, and the light / dark duty of the slit pattern and the mask pattern was 1: 1. Also, the lens was treated as aberration-free. Further, for incoherent light, an LED was used as a light source and the wavelength λ was set to 680 nm, and in the case of coherent light, a laser diode was used as a light source and the wavelength λ was set to 780 nm. The simulation result of incoherent light is shown in FIG. The electric output is shown in FIG. On the other hand, the secondary bright and dark image light intensity distribution of the coherent light is shown in FIG. 5, and the electrical output is shown in FIG.

【0014】前述したZ=k・a・r/Rの関係から、
a=Z・R・λ/2πrが得られる。ある一定値Zでの
光強度Iに注目すると、aはλに比例する。従ってλが
大きくなるとエアリーの円板も大きくなり2次明暗像の
コントラストが悪くなるはずである。しかしながら、実
際には図3と図5、図4と図6を比較すれば明らかな様
に、波長λ=780nmのコヒーレント光の方が、波長λ
=680nmのインコヒーレント光を用いた場合よりも2
次明暗像のコントラストが大幅に改善されている。
From the above-mentioned relationship of Z = k · a · r / R,
a = Z · R · λ / 2πr is obtained. Focusing on the light intensity I at a certain constant value Z, a is proportional to λ. Therefore, when λ becomes large, the Airy disk also becomes large, and the contrast of the secondary bright-dark image should deteriorate. However, in actuality, as is clear by comparing FIGS. 3 and 5 and FIGS. 4 and 6, the coherent light with the wavelength λ = 780 nm has a wavelength λ
= 2 than when using incoherent light of 680 nm
The contrast of the next bright and dark images is greatly improved.

【0015】図7はエンコーダの出力特性を示すグラフ
である。図7の上部に示す様に、受光素子は移動する2
次明暗像の受光量変化に応じて交流電気信号を出力す
る。この電気信号は交流信号成分VP −VB と直流オフ
セット成分VB を含んでいる。図7のグラフは横軸にエ
ンコーダ板の面振れ量をとっており、縦軸に交流信号成
分の大きさをとっている。このグラフにおいて黒点を結
んだカーブはコヒーレント光源(λ=780nm)を用い
た場合を示しており、白点を結んだカーブはインコヒー
レント光源(λ=680nm)を用いた場合を示してい
る。このグラフから明らかな様に、コヒーレント光源を
用いた場合にはインコヒーレント光源に比較し、大きな
交流信号成分を取り出す事ができる。又、相当程度の面
振れがあっても、コヒーレント光源を用いれば安定した
交流信号成分を得る事ができる。
FIG. 7 is a graph showing the output characteristics of the encoder. As shown in the upper part of FIG. 7, the light receiving element moves 2
An AC electric signal is output according to the change in the amount of received light of the next bright and dark image. The electrical signal includes an AC signal component V P -V B and the DC offset component V B. In the graph of FIG. 7, the horizontal axis represents the surface deflection of the encoder plate, and the vertical axis represents the magnitude of the AC signal component. In this graph, the curve connecting the black dots shows the case of using a coherent light source (λ = 780 nm), and the curve connecting the white dots shows the case of using an incoherent light source (λ = 680 nm). As is clear from this graph, when the coherent light source is used, a large AC signal component can be extracted as compared with the incoherent light source. Even if there is a considerable amount of surface wobbling, a stable AC signal component can be obtained by using a coherent light source.

【0016】次に、上述した現象が生じる条件について
説明する。コヒーレント光源の光学的伝達関数OTFは
瞳関数Gと等しい事が知られている。従って、レンズが
無収差で開口が半径Aの円とすると第2平面側でのOT
Fは図8に示す様になり、カットオフ周波数はA/λR
で与えられる。なお、Rは前述した様にバックフォーカ
スである。一方、インコヒーレント光源の場合の光学的
伝達関数は瞳関数の自己相関関数Hになり、以下の数式
3で与えられる。
Next, conditions under which the above-mentioned phenomenon occurs will be described. It is known that the optical transfer function OTF of a coherent light source is equal to the pupil function G. Therefore, if the lens has no aberration and the aperture is a circle with radius A, the OT on the second plane side
F is as shown in FIG. 8, and the cutoff frequency is A / λR
Given in. Note that R is the back focus as described above. On the other hand, the optical transfer function in the case of the incoherent light source is the autocorrelation function H of the pupil function, which is given by the following Expression 3.

【数3】 同じくレンズ開口が半径Aの円であるとすると、数式3
の右辺は図9に示した斜線部面積に等しく、この値を計
算すると図8に示すインコヒーレント光源のOTFが得
られる。そのカットオフ周波数は2A/λRとなる。
[Equation 3] Similarly, if the lens aperture is a circle with radius A, then Equation 3
The right side of is equal to the shaded area shown in FIG. 9, and when this value is calculated, the OTF of the incoherent light source shown in FIG. 8 is obtained. The cutoff frequency is 2A / λR.

【0017】図8に着目すると、空間周波数がA/λR
以下の範囲において、コヒーレント光源のOTFがイン
コヒーレント光源のOTFより高い事がわかる。1次明
暗像が正弦波的に振幅変化する場合には、2次明暗像の
コントラストはこのOTFで与えられる。しかしなが
ら、2次明暗像が一般的な矩形波の場合、以下の数式4
で示す様に2次明暗像のコントラストはOTFの級数和
で表わされる(久保田,浮田,會田編「光学技術ハンド
ブック」p153,朝倉書店,1968年参照)。
Paying attention to FIG. 8, the spatial frequency is A / λR.
It can be seen that the OTF of the coherent light source is higher than the OTF of the incoherent light source in the following range. When the amplitude of the primary bright-dark image changes sinusoidally, the contrast of the secondary bright-dark image is given by this OTF. However, when the secondary light-dark image is a general rectangular wave,
As shown in, the contrast of the second-order bright and dark images is represented by the series sum of OTFs (see Kubota, Ukita, and Aida “Optical Technology Handbook” p153, Asakura Shoten, 1968).

【数4】 コヒーレント光及びインコヒーレント光の双方とも、空
間周波数3A/λR,5A/λR,7A/λR,…,で
OTFの値が0となり、A/λR近傍の空間周波数を上
記数式4に代入してもコントラストTに大きな変化は生
じない。従って、本発明の効果が生じる条件は、2次明
暗像上で空間周波数がA/λR以下の場合に限定され
る。
[Equation 4] For both coherent light and incoherent light, the OTF value becomes 0 at spatial frequencies 3A / λR, 5A / λR, 7A / λR, ... No significant change occurs in the contrast T. Therefore, the condition for producing the effect of the present invention is limited to the case where the spatial frequency on the secondary bright-dark image is A / λR or less.

【0018】この限界空間周波数の値A/λRをスリッ
トピッチに換算する。先ず、2次明暗像のピッチは以下
の数式5で与えられる。
The limit spatial frequency value A / λR is converted into a slit pitch. First, the pitch of the secondary bright and dark image is given by the following mathematical expression 5.

【数5】 正弦条件が成立すると、以下の数式6が成り立つ。[Equation 5] When the sine condition is satisfied, the following Expression 6 is satisfied.

【数6】 従って、上記数式5及び数式6に基き、限界的なスリッ
トピッチPの値は以下の数式7で与えられる。
[Equation 6] Therefore, based on the above Equations 5 and 6, the limit value of the slit pitch P is given by the following Equation 7.

【数7】 波長λ=780nm、開口数NA=0.25を上記数式7
に代入すると、限界スリットピッチの値Pは3.12μ
mとなる。前述したシュミレーションでは、スリットピ
ッチを5.5μmに設定していた。従って、この値は限
界内であり、インコヒーレント光を用いた場合よりも、
コヒーレント光を用いる事により2次明暗像のコントラ
ストを改善できる事が理論的に裏付けられる。
[Equation 7] Wavelength λ = 780 nm, numerical aperture NA = 0.25
, The limit slit pitch value P is 3.12μ.
m. In the above-mentioned simulation, the slit pitch was set to 5.5 μm. Therefore, this value is within the limit, and compared with the case of using incoherent light,
It is theoretically supported that the contrast of the secondary bright-dark image can be improved by using the coherent light.

【0019】[0019]

【実施例】以下図面を参照して本発明の好適な実施例を
詳細に説明する。図10は、本発明にかかる光学式変位
検出装置をインクリメンタル式のロータリエンコーダに
適用した実施例を示す模式的分解斜視図である。なお、
本発明はロータリエンコーダに限られずリニアエンコー
ダにも適用できる事は言うまでもない。図示するロータ
リエンコーダは照明光源としてレーザダイオードからな
るコヒーレント光源4を用いている。その前方にはロー
タリエンコーダ板2が回転可能に配置されている。エン
コーダ板2はガラス板等の透明基板からなり、その下面
側にはスリットパタン1が放射状に形成されている。ス
リットパタン1は所定の周期でロータリエンコーダ板2
の円周方向に沿って配列されている。この規則的なスリ
ットパタン1の半径方向内側には基準スリット1Zも形
成されている。基準スリットはエンコーダ板2の基準位
置を表わす。スリットパタン1及び基準スリット1Zは
フォトリソグラフィ及びエッチングを用いて形成でき微
細加工が可能である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 10 is a schematic exploded perspective view showing an embodiment in which the optical displacement detection device according to the present invention is applied to an incremental rotary encoder. In addition,
It goes without saying that the present invention is applicable not only to rotary encoders but also to linear encoders. The rotary encoder shown in the figure uses a coherent light source 4 composed of a laser diode as an illumination light source. A rotary encoder plate 2 is rotatably arranged in front of it. The encoder plate 2 is made of a transparent substrate such as a glass plate, and the slit pattern 1 is radially formed on the lower surface side thereof. The slit pattern 1 has a rotary encoder plate 2 at a predetermined cycle.
Are arranged along the circumferential direction. A reference slit 1Z is also formed on the inner side of the regular slit pattern 1 in the radial direction. The reference slit represents the reference position of the encoder plate 2. The slit pattern 1 and the reference slit 1Z can be formed by using photolithography and etching, and fine processing is possible.

【0020】エンコーダ板2の前方所定位置には拡大結
像レンズ部材が配置されている。この部材は非球面レン
ズ6からなり、スリットパタン1の拡大像から極力収差
を除く様にしている。非球面レンズ6の前方結像面上に
は固定マスク板83が配置されている。固定マスク板8
3には第1スリット列83A、第2スリット列83B及
び開口83Zが形成されている。スリット列の配列周期
は拡大された2次明暗像の縞間隔に対応している。第1
スリット列83Aと第2スリット列83Bの位相は90
°ずれておりエンコーダ板2の回転方向を検出可能とし
ている。又、開口83Zは基準スリット1Zの拡大像の
みを選択的に透過できる位置に形成されている。固定ス
リット板83の背面には受光素子85が配置されてい
る。受光素子85は一様な受光面を有するフォトダイオ
ードからなる。
An enlarged image forming lens member is arranged at a predetermined position in front of the encoder plate 2. This member is composed of an aspherical lens 6 so as to eliminate aberration as much as possible from the enlarged image of the slit pattern 1. A fixed mask plate 83 is arranged on the front imaging plane of the aspherical lens 6. Fixed mask plate 8
A first slit row 83A, a second slit row 83B, and an opening 83Z are formed in the No. 3. The array period of the slit row corresponds to the stripe interval of the enlarged secondary bright-dark image. First
The phase of the slit row 83A and the second slit row 83B is 90.
The angle is deviated so that the rotation direction of the encoder plate 2 can be detected. The opening 83Z is formed at a position where only the magnified image of the reference slit 1Z can be selectively transmitted. A light receiving element 85 is arranged on the back surface of the fixed slit plate 83. The light receiving element 85 is composed of a photodiode having a uniform light receiving surface.

【0021】図11は、図10に示した受光素子85か
ら得られる出力電圧波形を示すグラフである。なお、こ
の出力電圧波形は前述したシュミレーションと同一の条
件でインクリメンタル式ロータリエンコーダを組み立て
レーザダイオードを光源として用い実際に測定されたも
のである。一方、図12は、同一の条件で単に光源をL
EDからなるインコヒーレント光源に代えた場合の実測
された出力電圧波形を示している。レンズの収差、倍率
誤差、散乱光等の影響により、シュミレーション結果
(図4,図6)と比較すると、双方とも振幅値は低下し
ているが、明らかにレーザダイオードを光源として用い
た方が高い振幅値を達成する事ができる。
FIG. 11 is a graph showing an output voltage waveform obtained from the light receiving element 85 shown in FIG. The output voltage waveform is actually measured by assembling an incremental rotary encoder under the same conditions as the above-mentioned simulation and using a laser diode as a light source. On the other hand, in FIG. 12, the light source is simply L under the same conditions.
The figure shows an actually measured output voltage waveform when an incoherent light source including an ED is used. Compared with the simulation results (Figs. 4 and 6) due to the effects of lens aberrations, magnification errors, scattered light, etc., the amplitude values are lower in both cases, but it is clearly higher when a laser diode is used as the light source. Amplitude values can be achieved.

【0022】図13は本発明の他の実施例を示す模式的
な分解斜視図である。図示するロータリエンコーダはア
ブソリュート式であり、図10に示したインクリメンタ
ル式と異なる。インクリメンタル式のエンコーダは所定
の基準位置に基き放射状スリットの個数を光学的に計数
する。これに対し、アブソリュート式のエンコーダで
は、ロータリディスクの表面に形成されたコード化パタ
ンを光学的に検出し絶対位置を直接読み取るものであ
る。図示する様に、アブソリュート式エンコーダは互い
に同心的に配置した複数のトラック101ないし108
が形成されたロータリディスク100を利用する。これ
らのトラック101ないし108はビットコード化され
たスリットパタンを規定しており、ディスクの絶対角度
位置を表わしている。これらのトラック101ないし1
08は半径方向外側に向って順に高位ビットから低位ビ
ットに対応している。レーザダイオード等からなるコヒ
ーレント光源109がディスク100の下面側に配置し
ており、トラック101ないし108を照明する。拡大
レンズ部材110がディスク100の上面側に配置して
おり、コヒーレント光源109に対面して所定の拡大倍
率によりトラック101ないし108の照明されたスリ
ットパタンを投影する。受光素子アレイ111が固定マ
スク板112を介して配置しており、拡大投影されたパ
タンを受光して、トラック毎に検出信号を出力する。即
ち、マスク板112は所定のピッチで径方向に整列した
複数の窓121ないし128を有しておりトラック毎に
投影された光を分離する。出力された検出信号を処理す
る事によりスリットパタンをデコードしロータリディス
ク100の絶対位置あるいは番地を決定する。
FIG. 13 is a schematic exploded perspective view showing another embodiment of the present invention. The illustrated rotary encoder is an absolute type, which is different from the incremental type shown in FIG. The incremental encoder optically counts the number of radial slits based on a predetermined reference position. On the other hand, the absolute encoder optically detects the coded pattern formed on the surface of the rotary disk to directly read the absolute position. As shown, the absolute encoder includes a plurality of tracks 101 to 108 arranged concentrically with each other.
The rotary disc 100 having the structure is used. These tracks 101 to 108 define bit-coded slit patterns and represent the absolute angular position of the disc. These tracks 101 to 1
08 corresponds to the high-order bit to the low-order bit in order radially outward. A coherent light source 109 composed of a laser diode or the like is arranged on the lower surface side of the disc 100 and illuminates the tracks 101 to 108. A magnifying lens member 110 is arranged on the upper surface side of the disc 100 and faces the coherent light source 109 to project the illuminated slit pattern of the tracks 101 to 108 at a predetermined magnifying power. The light-receiving element array 111 is arranged via the fixed mask plate 112, receives the enlarged and projected pattern, and outputs a detection signal for each track. That is, the mask plate 112 has a plurality of windows 121 to 128 aligned in the radial direction at a predetermined pitch, and separates the projected light for each track. By processing the output detection signal, the slit pattern is decoded to determine the absolute position or address of the rotary disc 100.

【0023】本例では、ディスク表面に8本のトラック
101ないし108が形成されており、これにより28
の分解能をもってディスクの角度位置を8ビットパラレ
ルデータにより記録できる。容易に理解される様に、ト
ラックの本数を増す程絶対角度位置検出の解像度を高く
できる。典型的には、ディスクには12本の同心状トラ
ックが形成されている。かかる場合、トラック配列の径
方向ピッチは極めて小さく設定されておりディスクのサ
イズを大型化しない様にしている。さらに、最下位ビッ
トに対応する最外側トラックは極めて微細な周方向ピッ
チを有するスリットパタンとなっている。なぜならば、
本実施例においては周方向ピッチは、最上位ビットに対
応する最内側トラックの1/212に設定されているから
である。勿論、パタンの形成は必ずしもこの数値に限ら
れるものではない。この様な小型で且つ高解像度のアブ
ソリュート式エンコーダにおいて本発明は最も効果的で
ある。即ち、極端に微細なスリットパタンは挿入された
投影レンズにより拡大されるので、受光素子アレイは拡
大2次明暗像を良好なS/N比で検出する事ができると
ともに、受光素子アレイ自体は実用的な受光エリア寸法
を備えている。換言すると、本発明によれば、極めて微
細なスリットパタンをディスクに形成でき解像度を改善
できるとともにディスクを小型化可能とする。その一方
で、受光素子アレイは実用的に十分な受光エリアを備え
る事ができ、S/N比を確保するとともに隣接するトラ
ック間で光分離を確実なものとする。
In this example, eight tracks 101 to 108 are formed on the surface of the disk, which results in 2 8
The angular position of the disk can be recorded with 8-bit parallel data with a resolution of. As can be easily understood, the resolution of absolute angular position detection can be increased as the number of tracks is increased. Typically, the disc has 12 concentric tracks formed therein. In such a case, the radial pitch of the track arrangement is set to be extremely small so that the size of the disk is not increased. Further, the outermost track corresponding to the least significant bit has a slit pattern having an extremely fine circumferential pitch. because,
This is because the pitch in the circumferential direction in this embodiment is set to 1/2 12 of the innermost track corresponding to the most significant bit. Of course, the pattern formation is not necessarily limited to this numerical value. The present invention is most effective in such a small size and high resolution absolute encoder. That is, since the extremely fine slit pattern is magnified by the inserted projection lens, the light receiving element array can detect the magnified secondary bright-dark image with a good S / N ratio, and the light receiving element array itself is practical. It has a typical light receiving area size. In other words, according to the present invention, an extremely fine slit pattern can be formed on the disc, the resolution can be improved, and the disc can be downsized. On the other hand, the light-receiving element array can have a practically sufficient light-receiving area to secure the S / N ratio and ensure the light separation between the adjacent tracks.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上説明した様に、本発明によれば、ス
リットパタンの形成されたエンコーダ板をコヒーレント
光により照明して1次明暗像を生成するとともに、これ
をレンズで拡大投影し2次明暗像を得ている。この拡大
2次明暗像をマスクパタンに従って受光する事によりエ
ンコーダ板の変位を検出している。この為、スリットパ
タンを従来に比し微細化する事ができ高分解能のエンコ
ーダを得る事ができるという効果がある。又、スリット
パタンとマスクパタンを従来の様に近接配置する必要が
ない為、エンコーダ板に対する面振れの許容範囲が拡が
るとともに外部衝撃や振動に対して強い安定したエンコ
ーダを得る事ができるという効果がある。加えて、コヒ
ーレント光源を用いる事によりスリットピッチを波長オ
ーダまで微細化した場合でも十分な2次明暗像のコント
ラストを確保する事ができるという効果がある。さら
に、スリットの微細化が可能となった為、実用的なレベ
ルでアブソリュート式エンコーダに応用できるという効
果がある。
As described above, according to the present invention, the encoder plate on which the slit pattern is formed is illuminated with coherent light to generate a primary bright-dark image, and this is magnified and projected by a lens to perform secondary projection. You have a bright and dark image. The displacement of the encoder plate is detected by receiving the enlarged secondary bright-dark image according to the mask pattern. Therefore, there is an effect that the slit pattern can be made finer than the conventional one, and a high-resolution encoder can be obtained. Moreover, since it is not necessary to dispose the slit pattern and the mask pattern close to each other as in the conventional case, the allowable range of the surface runout with respect to the encoder plate is widened, and an effect that a stable encoder that is strong against external shock and vibration can be obtained is obtained. is there. In addition, by using the coherent light source, there is an effect that a sufficient contrast of the secondary bright and dark image can be secured even when the slit pitch is miniaturized to the wavelength order. Further, since the slits can be miniaturized, there is an effect that it can be applied to an absolute encoder at a practical level.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明にかかる光学式変位検出装置の基本的構
成を示す模式図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a basic configuration of an optical displacement detection device according to the present invention.

【図2】本発明の作用を説明する為のグラフである。FIG. 2 is a graph for explaining the operation of the present invention.

【図3】インコヒーレント光源を用いた場合の2次明暗
像光強度を示すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing the secondary bright and dark image light intensity when an incoherent light source is used.

【図4】インコヒーレント光源を用いた場合における電
気出力波形を示すグラフである。
FIG. 4 is a graph showing an electric output waveform when an incoherent light source is used.

【図5】コヒーレント光源を用いた場合における2次明
暗像光強度を示すグラフである。
FIG. 5 is a graph showing the intensity of secondary bright and dark image light when a coherent light source is used.

【図6】コヒーレント光源を用いた場合における電気出
力波形を示すグラフである。
FIG. 6 is a graph showing an electric output waveform when a coherent light source is used.

【図7】電気出力の交流振幅と面振れとの関係を示すグ
ラフである。
FIG. 7 is a graph showing a relationship between AC amplitude of electric output and surface wobbling.

【図8】コヒーレント光源及びインコヒーレント光源の
光学的伝達関数と空間周波数との関係を示すグラフであ
る。
FIG. 8 is a graph showing a relationship between an optical transfer function and a spatial frequency of a coherent light source and an incoherent light source.

【図9】瞳関数の演算過程を示すグラフである。FIG. 9 is a graph showing a calculation process of a pupil function.

【図10】本発明をインクリメンタル式のロータリエン
コーダに適用した実施例を示す模式的な分解斜視図であ
る。
FIG. 10 is a schematic exploded perspective view showing an embodiment in which the present invention is applied to an incremental rotary encoder.

【図11】図10の実施例により得られる出力電圧波形
を示すグラフである。
11 is a graph showing an output voltage waveform obtained by the embodiment of FIG.

【図12】比較例の出力電圧波形を示すグラフである。FIG. 12 is a graph showing an output voltage waveform of a comparative example.

【図13】本発明をアブソリュート式のロータリエンコ
ーダに適用した他の実施例を示す模式的な分解斜視図で
ある。
FIG. 13 is a schematic exploded perspective view showing another embodiment in which the present invention is applied to an absolute type rotary encoder.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 スリットパタン 2 変位部材 3 1次明暗像 4 コヒーレント光源 5 2次明暗像 6 レンズ部材 7 電気信号 8 受光部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Slit pattern 2 Displacement member 3 Primary bright-dark image 4 Coherent light source 5 Secondary bright-dark image 6 Lens member 7 Electric signal 8 Light receiving part

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基板に形成された透過部と非透過部
の周期的配列からなるスリットパタンを有し所定の第1
平面に沿って変位可能に搭載された変位部材と、該スリ
ットパタンをコヒーレント光で照明し第1平面に沿って
移動する1次明暗像を生成する為のコヒーレント光源
と、該1次明暗像を所定の倍率で投影し所定の第2平面
に沿って移動する拡大された2次明暗像を結像する為の
レンズ部材と、第2平面上に固定配置されており移動す
る2次明暗像に応じた有効受光エリアを有し該変位部材
の変位を表わす電気信号を出力する為の受光部とからな
る光学式変位検出装置。
1. A first predetermined pattern having a slit pattern formed of a periodic array of transparent portions and non-transparent portions formed on a transparent substrate.
A displacement member mounted so as to be displaceable along a plane, a coherent light source for illuminating the slit pattern with coherent light to generate a primary bright-dark image moving along the first plane, and the primary bright-dark image A lens member for projecting a magnified secondary bright-dark image projected at a predetermined magnification and moving along a predetermined second plane, and a moving secondary bright-dark image fixedly arranged on the second plane. An optical displacement detecting device having a corresponding effective light receiving area and a light receiving portion for outputting an electric signal representing the displacement of the displacement member.
【請求項2】 スリットパタンの周期的配列ピッチをP
とし、コヒーレント光波長をλとし、レンズ部材の第1
平面側開口数をNAとすると、P>λ/NAの関係を満
たす請求項1記載の光学式変位検出装置。
2. The periodic array pitch of slit patterns is P
, The coherent light wavelength is λ, and the first lens member
The optical displacement detection device according to claim 1, wherein a relation of P> λ / NA is satisfied, where NA is a plane-side numerical aperture.
【請求項3】 前記変位部材は、絶対変位量を表わすビ
ットコード化されたスリットパタンを有する請求項1記
載の光学式変位検出装置。
3. The optical displacement detector according to claim 1, wherein the displacement member has a bit-coded slit pattern representing an absolute displacement amount.
【請求項4】 前記変位部材は、相対変位量を表わす規
則的なスリットパタンを有する請求項1記載の光学式変
位検出装置。
4. The optical displacement detection device according to claim 1, wherein the displacement member has a regular slit pattern indicating a relative displacement amount.
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