JPH06170106A - Crystal growth monitoring apparatus - Google Patents

Crystal growth monitoring apparatus

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Publication number
JPH06170106A
JPH06170106A JP32741591A JP32741591A JPH06170106A JP H06170106 A JPH06170106 A JP H06170106A JP 32741591 A JP32741591 A JP 32741591A JP 32741591 A JP32741591 A JP 32741591A JP H06170106 A JPH06170106 A JP H06170106A
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JP
Japan
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crystal
parameter
value
reference value
growth
Prior art date
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Pending
Application number
JP32741591A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuichi Hayakawa
和一 早川
Koji Shimada
孝二 島田
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SYST SOGO KAIHATSU KK
Original Assignee
SYST SOGO KAIHATSU KK
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Filing date
Publication date
Application filed by SYST SOGO KAIHATSU KK filed Critical SYST SOGO KAIHATSU KK
Priority to JP32741591A priority Critical patent/JPH06170106A/en
Publication of JPH06170106A publication Critical patent/JPH06170106A/en
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  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

PURPOSE:To precisely judge the crystal condition based on the direct parameters from image data. CONSTITUTION:A crystal growth monitoring apparatus 10 consists of an input apparatus 12 to obtain image data G by photographying growing crystal, a parameter extracting means 14 to extract parameters Xn from image data G in order to judge the growing condition of the crystal, a detecting value memorizing means 16 to memorize the parameters Xn as detected values Xn(t). It also consists of a standard value memorizing means 18 in which the standard value SXn(t) of the parameters at the time of normal growth of the crystal and growth condition SYn(t) corresponding to the standard value SXn(t) are previously memorized, a judging means 20 to judge the growing condition Yn(t) corresponding to the detected value Xn(t) by comparing the detected value Xn(t) with the standard value SXn(t), and an output apparatus 22 to send out at least the growth condition Yn(t).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、結晶の成長を監視
し、結晶成長の進捗、品質、正常、異常等の状態を判定
する結晶成長監視装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a crystal growth monitoring device for monitoring the growth of crystals and judging the progress of crystal growth, quality, normality, abnormality and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来技術として、砂糖の結晶缶に使われ
る結晶成長監視装置を例にあげて説明する。この種の装
置としては、レオメータという固さ計が一般的である。
レオメータは、攪拌機のような構造であり、結晶缶内の
白下中で羽根を回して見かけ粘度を検出することによ
り、結晶成長の状態を間接的に判定する。
2. Description of the Related Art As a conventional technique, a crystal growth monitoring device used for a sugar crystal can will be described as an example. As a device of this type, a hardness meter called a rheometer is generally used.
The rheometer has a structure like a stirrer, and indirectly determines the state of crystal growth by rotating an impeller in a white space inside a crystal can to detect an apparent viscosity.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、レオメ
ータで得られる見かけ粘度は、結晶状態を正しく反映す
る直接的なものではない。その理由は次のとおりであ
る。
However, the apparent viscosity obtained by the rheometer is not a direct reflection of the crystalline state. The reason is as follows.

【0004】結晶缶内では溶液を真空加熱濃縮して砂糖
の結晶が製造されている。この工程では、種晶を核とし
て析出する結晶を効率良く成長させ、しかも種晶を核と
しないで析出するフォースグレーン(偽晶)の発生を抑
えるという矛盾した要求を満たす必要がある。また、析
出のように内部エネルギの下がる変化は、不安定であっ
て現状を維持する性質がある。そのため、状態変化は急
激に起こる。
In the crystal can, the solution is heated and concentrated under vacuum to produce sugar crystals. In this process, it is necessary to efficiently grow a crystal that precipitates with a seed crystal as a nucleus, and to satisfy the contradictory requirements of suppressing the generation of force grains (pseudocrystals) that precipitate without a seed crystal as a nucleus. Further, a change in the internal energy, such as precipitation, is unstable and has the property of maintaining the current state. Therefore, the state change occurs rapidly.

【0005】このように、微妙な条件で急激な変化を生
じる結晶析出及び結晶成長の不具合を見かけ粘度で精度
良く判定することは極めて困難である。以下、具体例を
あげて説明する。 (イ)フォースグレーンは、発生時には極めて小さいも
のであり、一定の大きさになるまで見かけ粘度に影響を
及ぼさない。したがって、見かけ粘度に変化が出るまで
にフォースグレーンがかなり大きくなり、フォースグレ
ーンの萌芽を抑制するために水又は糖液を供給するタイ
ミングを逸してしまうことがある。 (ロ)見かけ粘度では次の状態を検出することが困難又
は不可能である。 結晶の表面に小さな結晶が付着する。 二個の結晶が互いに付着して、見かけ上一個の結晶に
なる。 多数の微小な結晶が互いに付着して、見かけ上一個の
結晶になる。
As described above, it is extremely difficult to accurately judge a defect in crystal precipitation and crystal growth that causes a sudden change under a delicate condition based on the apparent viscosity. Hereinafter, a specific example will be described. (A) Force grains are extremely small when they occur, and do not affect the apparent viscosity until they reach a certain size. Therefore, the force grain becomes considerably large by the time the apparent viscosity changes, and the timing of supplying water or sugar solution may be missed in order to suppress the germination of the force grain. (B) It is difficult or impossible to detect the following state by the apparent viscosity. Small crystals adhere to the surface of the crystals. The two crystals stick to each other and appear as a single crystal. A large number of minute crystals adhere to each other, and apparently become one crystal.

【0006】そこで、この発明の目的は、画像データか
らの直接的なパラメータによって結晶状態を精度良く判
定できる結晶成長監視装置を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a crystal growth monitor capable of accurately determining a crystal state by a direct parameter from image data.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】この発明にかかる結晶成
長監視装置は、結晶の成長状態を判定するためのパラメ
ータを結晶の画像データから抽出するパラメータ抽出手
段と、抽出された上記パラメータを検出値として記憶す
る検出値記憶手段と、上記結晶が成長した場合の上記パ
ラメータからなる基準値とこの基準値に対応する成長状
態とを予め記憶した基準値記憶手段と、上記検出値と上
記基準値とを比較して上記検出値に対応する成長状態を
判定する判定手段とを備えたものである。また、成長中
の結晶を撮像して画像データを得る入力機器と、上記結
晶の成長状態を判定するためのパラメータを上記画像デ
ータから抽出するパラメータ抽出手段と、抽出された上
記パラメータを検出値として記憶する検出値記憶手段
と、上記結晶が正常に成長した場合の上記パラメータか
らなる基準値とこの基準値に対応する成長状態とを予め
記憶した基準値記憶手段と、上記検出値と上記基準値と
を比較して上記検出値に対応する成長状態を判定する判
定手段と、判定された上記成長状態を少なくとも出力す
る出力機器とを備えたものとしてもよい。
A crystal growth monitoring apparatus according to the present invention comprises a parameter extracting means for extracting a parameter for determining a crystal growth state from image data of a crystal, and a detected value of the extracted parameter. As a detection value storage means, a reference value storage means pre-stored a reference value consisting of the parameter when the crystal grows and a growth state corresponding to this reference value, the detection value and the reference value And a determination unit that determines the growth state corresponding to the detected value. In addition, an input device that captures image data of a growing crystal to obtain image data, a parameter extraction unit that extracts a parameter for determining the growth state of the crystal from the image data, and the extracted parameter as a detection value. Detection value storage means to store, reference value storage means pre-stored a reference value consisting of the parameters when the crystal grew normally and the growth state corresponding to this reference value, the detection value and the reference value It may be provided with a determination means for comparing the above-mentioned and the growth state corresponding to the detected value, and an output device for outputting at least the determined growth state.

【0008】上記パラメータには、上記結晶とその背景
とを合わせた全体の明るさ、上記結晶の背景の明るさ、
上記結晶の大きさ、上記結晶の大きさのバラツキ、上記
結晶の形状、上記結晶の形状の種類毎の比率、上記結晶
の密度などがある。
The above parameters include the overall brightness of the crystal and its background, the brightness of the background of the crystal,
The size of the crystal, the variation in the size of the crystal, the shape of the crystal, the ratio of the shape of the crystal for each type, the density of the crystal, and the like.

【0009】[0009]

【作用】入力機器は成長中の結晶を撮像して画像データ
を得る。この画像データはパラメータ抽出手段で処理さ
れ、結晶の成長状態を判定するためのパラメータが画像
データから抽出される。抽出されたパラメータは、検出
値記憶手段で検出値として記憶される。基準値記憶手段
には、上記結晶が正常に成長した場合の上記パラメータ
からなる基準値とこの基準値に対応する成長状態とが予
め記憶されている。判定手段は、上記検出値と上記基準
値とを比較して上記検出値に対応する成長状態を判定す
る。出力機器は判定された成長状態等を出力する。
The input device images the growing crystal to obtain image data. This image data is processed by the parameter extracting means, and parameters for determining the crystal growth state are extracted from the image data. The extracted parameter is stored as a detected value in the detected value storage means. The reference value storage means stores in advance a reference value composed of the above parameters when the crystal grows normally and a growth state corresponding to this reference value. The determination means compares the detected value with the reference value to determine the growth state corresponding to the detected value. The output device outputs the determined growth state and the like.

【0010】[0010]

【実施例】図1はこの発明に係る結晶成長監視装置の機
能ブロック図である。結晶成長監視装置10は、成長中
の結晶を撮像して画像データGを得る入力機器12と、
上記結晶の成長状態を判定するためのパラメータXnを画
像データGから抽出するパラメータ抽出手段14と、パ
ラメータXnを検出値Xn(t) として記憶する検出値記憶手
段16と、上記結晶が正常に成長した場合の上記パラメ
ータからなる基準値SXn(t)と基準値SXn(t)に対応する成
長状態SYn(t)とを予め記憶した基準値記憶手段18と、
検出値Xn(t) と基準値SXn(t)とを比較して検出値Xn(t)
に対応する成長状態Yn(t) を判定する判定手段20と、
少なくとも成長状態Yn(t) を出力する出力機器22とを
備えている。
1 is a functional block diagram of a crystal growth monitoring apparatus according to the present invention. The crystal growth monitoring device 10 includes an input device 12 that captures image data G by imaging a growing crystal,
Parameter extracting means 14 for extracting the parameter Xn for determining the growth state of the crystal from the image data G, detection value storage means 16 for storing the parameter Xn as the detection value Xn (t), and the crystal growing normally. The reference value storage means 18 in which the reference value SXn (t) consisting of the above parameters and the growth state SYN (t) corresponding to the reference value SXn (t) are stored in advance,
Detection value Xn (t) is compared with detection value Xn (t) and reference value SXn (t)
Determination means 20 for determining the growth state Yn (t) corresponding to
The output device 22 outputs at least the growth state Yn (t).

【0011】上記パラメータXnには、結晶とその背景と
を合わせた全体の明るさX11 、結晶の背景の明るさ
X21 、結晶の大きさX31 、結晶の大きさのバラツキ
X32 、結晶の形状X41 、結晶の形状の種類X421、X422
毎の比率、結晶の密度X51 などがある。パラメータ及び
その抽出方法については後述する。
The parameter Xn is the total brightness X 11 of the crystal and its background, the brightness of the background of the crystal.
X 21 , crystal size X 31 , crystal size variation
X 32 , crystal shape X 41 , crystal shape type X 421 , X 422
There is a ratio for each, crystal density X 51, etc. The parameters and their extraction method will be described later.

【0012】検出値Xn(t) とは、製造工程の時間tにお
けるパラメータ値のことである。基準値SXn(t)とは、結
晶が正常に成長した場合の製造工程の時間tにおけるパ
ラメータ値のことであり、例えば上限値SXn(t)max.及び
下限値SXn(t)min.となっている。基準値SXn(t)は、品種
ごとに実際の製造工程において、許容可能な結晶成長の
軌跡からバラツキを求めて、経験的な知見を勘案して決
められる。成長状態SYn(t)は、基準値SXn(t)の範囲内に
あれば正常、なければ異常等のデータである。なお、時
間tにおけるパラメータ値は、時間tの前後のサンプリ
ング数回分の平均値のことであるが、時間tにおける1
回のサンプリングによる値としてもよい。基準値SXn(t)
は、上限値及び下限値に限定するものではなく、一つの
数値又は三つ以上の数値としてもよい。成長状態SYn(t)
は、正常及び異常に限定するものではなく、一定の状態
にあるか否か、品質のランク分け、品種の分類等のデー
タとしてもよい。基準値SXn(t)は、結晶が異常に成長し
た場合のパラメータ値からなるものとしてもよい。
The detected value Xn (t) is a parameter value at time t in the manufacturing process. The reference value SXn (t) is a parameter value at the time t of the manufacturing process when the crystal grows normally, for example, the upper limit value SXn (t) max. And the lower limit value SXn (t) min. ing. The reference value SXn (t) is determined in consideration of empirical knowledge by obtaining the variation from the allowable crystal growth trajectory in the actual manufacturing process for each product type. The growth state SYN (t) is data such as normal if it is within the range of the reference value SXn (t) and abnormal if not. The parameter value at the time t is an average value of several samplings before and after the time t.
It may be a value obtained by sampling once. Reference value SXn (t)
Is not limited to the upper limit value and the lower limit value, and may be one numerical value or three or more numerical values. Growth state SYN (t)
Is not limited to normal and abnormal, and may be data such as whether or not it is in a certain state, quality ranking, and product type classification. The reference value SXn (t) may be a parameter value when the crystal grows abnormally.

【0013】図2はこの発明に係る結晶成長監視装置の
一実施例を具体的に示した全体構成図である。図1と同
一部分には同一符号を付し説明を省略する。パラメータ
抽出手段14と検出値記憶手段16と基準値記憶手段1
8と判定手段20とは、コンピュータからなる制御部3
0を構成する。制御部30には、キーボード32等の周
辺機器が接続されている。出力機器22はプリンタ3
4、CRT36、工程制御装置38等から構成される。
FIG. 2 is an overall configuration diagram specifically showing one embodiment of the crystal growth monitoring apparatus according to the present invention. The same parts as those in FIG. Parameter extraction means 14, detected value storage means 16 and reference value storage means 1
8 and the determination means 20 are a control unit 3 including a computer.
Configure 0. Peripheral devices such as a keyboard 32 are connected to the control unit 30. The output device 22 is the printer 3
4, CRT 36, process control device 38 and the like.

【0014】入力機器12は、投光部50と受光部52
とから構成される。投光部50は、結晶缶54内に一端
が挿入されたU字状の導光筒56と、導光筒56内に挿
通された光ファイバ58と、導光筒56の他端に設けら
れた光源としてのLED60と、導光筒56の一端に設
けられた投光窓62とから構成されている。受光部52
は、結晶缶54内に一部が挿入された突出筒64と、突
出筒64の先端に設けられ投光窓62と向き合う受光窓
66と、撮像装置としてのCCDカメラ68と、CCD
カメラ68を収容するハウジング70とから構成されて
いる。ハウジング70内には冷却用の空気が常に流れて
いる。
The input device 12 includes a light projecting section 50 and a light receiving section 52.
Composed of and. The light projecting unit 50 is provided at the U-shaped light guide tube 56 having one end inserted in the crystal can 54, an optical fiber 58 inserted in the light guide tube 56, and the other end of the light guide tube 56. The LED 60 as a light source and a light projecting window 62 provided at one end of the light guide tube 56. Light receiving section 52
Is a protruding tube 64 partially inserted into the crystal can 54, a light receiving window 66 provided at the tip of the protruding tube 64 and facing the light projecting window 62, a CCD camera 68 as an image pickup device, and a CCD.
The housing 70 houses the camera 68. Cooling air is constantly flowing in the housing 70.

【0015】投光窓62と受光窓66とは白下72中に
浸される。投光窓62と受光窓66との間は、0.5m
m〜5.0mmであり、砂糖の結晶が通過する。LED
60の光は、光ファイバ58を介して投光窓62からそ
の結晶に照射され、受光窓66に入射する。したがっ
て、CCDカメラ68では、成長中の結晶の画像が得ら
れる。CCDカメラ68のシャッタ速度は、1/100
0秒〜1/4000秒である。CCDカメラ68のCC
D素子は、シリコンを素材とするので、吸収端の110
0nmから紫外領域までの幅広い分光感度特性を有す
る。
The light projecting window 62 and the light receiving window 66 are immersed in the under white 72. 0.5 m between the light projecting window 62 and the light receiving window 66
m-5.0 mm, and sugar crystals pass through. LED
The light of 60 is applied to the crystal from the light projecting window 62 through the optical fiber 58 and enters the light receiving window 66. Therefore, the CCD camera 68 obtains an image of the growing crystal. The shutter speed of the CCD camera 68 is 1/100
It is 0 second to 1/4000 second. CC of CCD camera 68
Since the D element is made of silicon, the absorption edge 110
It has a wide range of spectral sensitivity characteristics from 0 nm to the ultraviolet region.

【0016】図3はこの発明に係る結晶成長監視装置の
一実施例の動作を示すフローチャートである。以下、こ
の図及び図2に基づき結晶成長監視装置10の動作を説
明する。但し、基準値SXn(t)は、上限値SXn(t)max.及び
下限値SXn(t)min.で与えられているものとする。なお、
このフローチャートは、概略を示すものであり、且つ一
例に過ぎない。CCDカメラ68で成長中の結晶を撮像
し、これを画像データGとする(ステップ101)。画
像データGは、パラメータ抽出手段14で処理され、結
晶の成長状態を判定するためのパラメータXnが画像デー
タGから抽出される(ステップ102)。パラメータXn
は、検出値記憶手段16で検出値Xn(t) として記憶され
る(ステップ103)。判定手段20は、検出値Xn(t)
と基準値SXn(t)とを比較する。すなわち、検出値Xn(t)
が基準値SXn(t)の範囲内にあるか否かが調べられる(ス
テップ104)。範囲内であれば、成長状態Yn(t) =
「正常」と判定される(ステップ105)。範囲外であ
れば、成長状態Yn(t) =「異常」と判定される(ステッ
プ106)。こうして得られた成長状態Yn(t) は、出力
機器22へ出力される(ステップ107)。続いて、製
造工程が終了したかどうかを調べる(ステップ10
8)。これは、進捗を示すパラメータ(例えば、後述す
る密度X51)によって「所定量の結晶が製造されたので
終了する」、「製造工程に異常が生じたので終了する」
等と判定されているかどうかのチェックである。「終
了」と判定されていれば終了にする。そうでなければ、
製造工程の時間tにサンプリング時間Δtを加え(ステ
ップ109)ステップ101へ戻る。サンプリング時間
Δtは、例えば1秒〜10秒であり、全工程を一定にし
てもよく粗密にしてもよい。
FIG. 3 is a flow chart showing the operation of one embodiment of the crystal growth monitoring apparatus according to the present invention. The operation of the crystal growth monitoring apparatus 10 will be described below with reference to this figure and FIG. However, the reference value SXn (t) is assumed to be given by the upper limit value SXn (t) max. And the lower limit value SXn (t) min. In addition,
This flow chart is a schematic and is only an example. An image of the growing crystal is picked up by the CCD camera 68 and used as image data G (step 101). The image data G is processed by the parameter extracting means 14, and the parameter Xn for determining the growth state of the crystal is extracted from the image data G (step 102). Parameter Xn
Is stored as the detected value Xn (t) in the detected value storage means 16 (step 103). The determination means 20 uses the detected value Xn (t)
And the reference value SXn (t). That is, the detected value Xn (t)
Is checked whether it is within the range of the reference value SXn (t) (step 104). If it is within the range, the growth state Yn (t) =
It is determined to be "normal" (step 105). If it is out of the range, it is determined that the growth state Yn (t) = "abnormal" (step 106). The growth state Yn (t) thus obtained is output to the output device 22 (step 107). Then, it is checked whether the manufacturing process is completed (step 10
8). This is “finished because a predetermined amount of crystals has been manufactured” and “finished because an abnormality has occurred in the manufacturing process” with a parameter indicating the progress (for example, density X 51 described later).
It is a check as to whether or not it has been judged as equal. If it is determined to be "end", the process ends. Otherwise,
The sampling time Δt is added to the time t of the manufacturing process (step 109) and the process returns to step 101. The sampling time Δt is, for example, 1 second to 10 seconds, and all steps may be constant or may be coarse and fine.

【0017】次に、パラメータ及びその抽出方法につい
て説明する。図4は白下72の画像の一例である。結晶
C1…の背景とは溶液74のことである。つまり、白下7
2は結晶C1…と溶液74とに分けられる。
Next, the parameters and the method of extracting the parameters will be described. FIG. 4 is an example of an image of the lower white 72. crystal
The background of C1 ... is the solution 74. That is, white bottom 7
2 is divided into crystals C1 ... And solution 74.

【0018】結晶とその背景とを合わせた全体の明るさ
X11 は、CCD素子の全画素の輝度を平均することによ
って得られる。明るさX11 はその輝度に応じて0〜25
5のいずれかの数値をとる。結晶C1…は成長するにつれ
てその輪郭が太く黒くなってくるので、明るさX11が減
少する。一方、レオメータ値(見かけ粘度)も白下72
に占める結晶C1…の割合が大きくなる程増加するので、
明るさX11 はレオメータ値と相関関係を示す。
The overall brightness of the crystal and its background
X 11 is obtained by averaging the brightness of all pixels of the CCD element. Brightness X 11 is 0-25 depending on its brightness
Take any one of the five numbers. As the crystal C1 grows thicker and blacker as it grows, the brightness X 11 decreases. On the other hand, the rheometer value (apparent viscosity) is 72 below white.
As the proportion of crystals C1 ...
The brightness X 11 shows a correlation with the rheometer value.

【0019】図5は全体の明るさX11 の時間変化の一例
を示すグラフである。時間tの経過は製造工程の進捗に
対応する。間欠操作(一定量ずつ区切って水又は糖液を
供給すること)のたびに白下72に占める結晶C1…の割
合が変化するけれども、時間tの経過とともに結晶C1…
の成長が進むことがわかる。図6は全体の明るさX11
基準値の時間変化の一例を示すグラフである。検出値X
11(t)が、基準値SX11(t) 内、つまり、上限値SX11(t)ma
x. と下限値SX11(t)min. との間にあれば正常、なけれ
ば異常と判定される。
FIG. 5 is a graph showing an example of a temporal change in the overall brightness X 11 . The lapse of time t corresponds to the progress of the manufacturing process. Although the ratio of the crystals C1 ... in the under-white 72 changes with each intermittent operation (supplying water or sugar solution by dividing into fixed amounts), the crystals C1 ...
You can see that the growth of. FIG. 6 is a graph showing an example of the change over time of the reference value of the overall brightness X 11 . Detection value X
11 (t) is within the reference value SX 11 (t), that is, the upper limit value SX 11 (t) ma
If it is between x. and the lower limit value SX 11 (t) min., it is judged as normal, and if not, it is judged as abnormal.

【0020】結晶の背景の明るさX21 は、溶液74の明
るさであり、次のような画像処理により得られる。CC
D素子の各画素の輝度を適切なしきい値によって白黒に
二値化する。そして、黒部分(結晶C1…の輪郭)を膨張
収縮させて結晶C1…全体を黒部分とし、残った白部分
(溶液74)の各画素の輝度を平均することによって得
られる。溶液74の明るさX21 は、溶液74の濃度が濃
くなる程暗く、溶液74の濃度が薄くなる程明るくな
る。すなわち、明るさX21 は溶液74の濃度に反比例す
る。
The background brightness X 21 of the crystal is the brightness of the solution 74 and is obtained by the following image processing. CC
The brightness of each pixel of the D element is binarized into black and white by an appropriate threshold value. Then, the black portion (outline of the crystal C1 ...) Is expanded / contracted to make the entire crystal C1 ... Black portion, and the brightness of each pixel of the remaining white portion (solution 74) is averaged. The brightness X 21 of the solution 74 becomes darker as the concentration of the solution 74 increases and becomes brighter as the concentration of the solution 74 decreases. That is, the brightness X 21 is inversely proportional to the concentration of the solution 74.

【0021】図7は背景の明るさX21 の時間変化の一例
を示すグラフである。時間tの経過は製造工程の進捗に
対応する。間欠操作のたびに溶液74の濃度が減少する
けれども、時間tの経過とともに溶液74及び白下72
の濃度が増加して結晶C1…の成長が進むことがわかる。
図7は背景の明るさX21 の基準値の時間変化の一例を示
すグラフである。検出値X21(t)が、基準値SX21(t) 内、
つまり、上限値SX21(t)max. と下限値SX21(t)min. との
間にあれば正常、なければ異常と判定される。
FIG. 7 is a graph showing an example of the temporal change of the background brightness X 21 . The lapse of time t corresponds to the progress of the manufacturing process. Although the concentration of the solution 74 decreases with each intermittent operation, the solution 74 and the under white 72
It can be seen that the concentration of is increased and the growth of the crystals C1 ...
FIG. 7 is a graph showing an example of the change over time of the reference value of the background brightness X 21 . The detected value X 21 (t) is within the reference value SX 21 (t),
That is, if it is between the upper limit value SX 21 (t) max. And the lower limit value SX 21 (t) min.

【0022】結晶の大きさX31 は、前述の方法によって
得られた黒部分(結晶C1…)の一定方向の径の長さの全
個数の平均によって得られる。
The crystal size X 31 is obtained by averaging all the numbers of the diameter lengths of the black portions (crystals C1 ...) Obtained by the above-described method in a certain direction.

【0023】図9は結晶の大きさX31 の時間変化の一例
を示すグラフである。時間tの経過は製造工程の進捗に
対応する。時間tの経過とともに結晶C1…が大きくなり
成長が進むことがわかる。図10は結晶の大きさX31
基準値の時間変化の一例を示すグラフである。検出値X
31(t)が、基準値SX31(t) 内、つまり、上限値SX31(t)ma
x. と下限値SX31(t)min. との間にあれば正常、なけれ
ば異常と判定される。また、結晶の大きさX31 を認識で
きることから、図4に示すようなフォースグレーンF1の
発生も直ちに判定できる。結晶の大きさX31 が一定の大
きさになったことを認識して製造工程の終了を判定する
こともできる。結晶の色又は濃度を認識することも可能
であり結晶の変色等を判定できる。
FIG. 9 is a graph showing an example of the change over time of the crystal size X 31 . The lapse of time t corresponds to the progress of the manufacturing process. It can be seen that the crystals C1 ... FIG. 10 is a graph showing an example of the change over time of the reference value of the crystal size X 31 . Detection value X
31 (t) is within the reference value SX 31 (t), that is, the upper limit value SX 31 (t) ma
If it is between x. and the lower limit value SX 31 (t) min., it is judged as normal, and if not, it is judged as abnormal. Since the crystal size X 31 can be recognized, the occurrence of force grain F 1 as shown in FIG. 4 can be immediately determined. The end of the manufacturing process can be determined by recognizing that the crystal size X 31 has become a certain size. It is also possible to recognize the color or concentration of the crystal, and it is possible to judge the color change or the like of the crystal.

【0024】結晶の大きさのバラツキX32 は、結晶の大
きさX31 の標準偏差として得られる。
The crystal size variation X 32 is obtained as the standard deviation of the crystal size X 31 .

【0025】図11は結晶の大きさのバラツキX32 の時
間変化の一例を示すグラフである。時間tの経過は製造
工程の進捗に対応する。時間tの経過に伴う結晶C1…の
大きさのバラツキがわかる。図12は結晶の大きさのバ
ラツキX32 の基準値の時間変化の一例を示すグラフであ
る。検出値X32(t)が、基準値SX32(t) 内、つまり、上限
値SX31(t)max. 以下にあれば正常、なければ異常と判定
される。また、製造工程終了時のバラツキX3 2 の程度に
よって品質の判定ができる。バラツキX32 が小さいもの
ほど高品質とされる。
FIG. 11 is a graph showing an example of time variation of crystal size variation X 32 . The lapse of time t corresponds to the progress of the manufacturing process. The variation in the size of the crystals C1 ... With the passage of time t can be seen. FIG. 12 is a graph showing an example of the change over time in the reference value of the crystal size variation X 32 . If the detected value X 32 (t) is within the reference value SX 32 (t), that is, below the upper limit value SX 31 (t) max., It is determined as normal, and if not, it is determined as abnormal. Further, it is determined in quality due to variations X 3 2 degree of at the end of the manufacturing process. The smaller the variation X 32, the higher the quality.

【0026】図13は結晶の形状X41 とその形状の評点
とを示す説明図である。形状が正常であれば1点、異常
性が増す程高い点数になり、最高は10点である。前述
の方法により結晶C1…を認識し、各形状毎のテンプレー
トを結晶C1…の大きさX31 に合わせて設定してテンプレ
ート・マッチングを行い、各結晶C1…を各形状毎に分類
する。このようにして認識された形状は、図13に示す
ようにそれぞれの形状に応じて評点が与えら、これらの
平均値が形状X41 の値となる。
FIG. 13 is an explanatory view showing the crystal shape X 41 and the rating of the shape. If the shape is normal, the score is 1 point, and the higher the abnormality, the higher the score, and the maximum is 10. The crystals C1 ... Are recognized by the above-described method, the template for each shape is set according to the size X 31 of the crystal C1 ..., and template matching is performed to classify each crystal C1. The shape thus recognized is given a score according to each shape as shown in FIG. 13, and the average value of these is the value of the shape X 41 .

【0027】図14は結晶の形状X41 の時間変化の一例
を示すグラフである。時間tの経過は製造工程の進捗に
対応する。時間tの経過とともに結晶C1…の形状の正常
の度合いがわかる。検出値X41(t)が、基準値SX41(t)
内、つまり、上限値SX41(t)max. と下限値SX31(t)min.
=1との間にあれば正常、なければ異常と判定される。
また、製造工程終了時の形状X41 の程度によって品質の
判定ができる。形状X41が小さいものほど高品質とされ
る。
FIG. 14 is a graph showing an example of the change over time of the crystal shape X 41 . The lapse of time t corresponds to the progress of the manufacturing process. The degree of normality of the shape of the crystals C1 ... The detected value X 41 (t) is the reference value SX 41 (t)
In other words, the upper limit SX 41 (t) max. And the lower limit SX 31 (t) min.
If it is between 1 and 1, it is determined to be normal, and if not, it is determined to be abnormal.
Further, the quality can be judged by the degree of the shape X 41 at the end of the manufacturing process. The smaller the shape X 41, the higher the quality.

【0028】図15乃至図18は結晶の形状の種類毎の
比率X421、X422、X423、X424との時間変化の一例を示す
グラフである。X421、X422、X423、X424は、それぞれ評
点1、2、3、10の形状に対応する。時間tの経過は
製造工程の進捗に対応する。検出値X421(t) 、X422(t)
、X423(t) 、X424(t) が、基準値SX421(t)、SX
422(t)、SX423(t)、SX424(t)内にあれば正常、なければ
異常と判定される。
FIGS. 15 to 18 are graphs showing an example of changes with time of the ratios X 421 , X 422 , X 423 , and X 424 for respective crystal shape types. X 421 , X 422 , X 423 , and X 424 correspond to the shapes with scores 1, 2, 3, and 10, respectively. The lapse of time t corresponds to the progress of the manufacturing process. Detection value X 421 (t), X 422 (t)
, X 423 (t), X 424 (t) are the reference values SX 421 (t), SX
If it is within 422 (t), SX 423 (t), or SX 424 (t), it is determined as normal, and if not, it is determined as abnormal.

【0029】結晶の密度X51 は、図4に示す白下72全
体の面積に占める結晶C1、C2、…の割合である。結晶C1
…の面積は、前述の方法により黒部分(結晶C1…)を求
め、それらの面積を合計して得られる。
The crystal density X 51 is the ratio of the crystals C1, C2, ... To the entire area of the white bottom 72 shown in FIG. Crystal C1
The area of ... Is obtained by obtaining the black portion (crystal C1 ...) By the method described above and summing those areas.

【0030】図19は結晶の密度X51 の時間変化の一例
を示すグラフである。時間tの経過は製造工程の進捗に
対応する。時間tの経過とともに結晶C1…の占める面積
が大きくなり成長が進むことがわかる。密度X51 は最終
的には生産量を示す。図20は結晶の密度X51 の基準値
の時間変化の一例を示すグラフである。検出値X51(t)
が、基準値SX51(t) 内、つまり、上限値SX51(t)max. と
下限値SX51(t)min. との間にあれば正常、なければ異常
と判定される。また、結晶の密度X51 から容易に結晶の
全体量を算出できるので、結晶の密度X51 が所定量にに
達したことで、製造工程の終了を判定できる。
FIG. 19 is a graph showing an example of the change over time in the crystal density X 51 . The lapse of time t corresponds to the progress of the manufacturing process. It can be seen that the area occupied by the crystals C1 ... Increases with the lapse of time t, and the growth proceeds. The density X 51 finally indicates the production volume. FIG. 20 is a graph showing an example of the change over time of the reference value of the crystal density X 51 . Detection value X 51 (t)
Is within the standard value SX 51 (t), that is, between the upper limit value SX 51 (t) max. And the lower limit value SX 51 (t) min. Since it calculates the total amount of readily crystallized from density X 51 of the crystal, by density X 51 of the crystal has reached the a predetermined amount, it can determine the end of the manufacturing process.

【0031】次に、複数のパラメータを抽出して結晶成
長を監視する方法の一例について説明する。
Next, an example of a method of monitoring a crystal growth by extracting a plurality of parameters will be described.

【0032】濃縮工程における重要なパラメータを表1
に示す。結晶缶内に糖液を吸入させ、真空加熱濃縮によ
って過飽和濃度まで濃縮を続ける。この段階では、結晶
が生じないので、明るさX11 、X21 すなわち溶液の濃度
を検出して進捗度を判定する。明るさX11 、X21 に異常
があれば、フォースグレーンの発生、固形不純物の混入
等の異常が判定される。また、フォースグレーンの発
生、固形不純物の混入等の異常は結晶の大きさX31 でも
判定される。
Table 1 shows important parameters in the concentration process.
Shown in. The sugar solution is sucked into the crystal can, and the concentration is continued to a supersaturated concentration by vacuum heating concentration. At this stage, no crystals are formed, so the brightness X 11 , X 21, that is, the concentration of the solution is detected to judge the progress. If there is abnormality in the brightness X 11, X 21, occurrence of the force grain, abnormality such as contamination of solid impurities is determined. Further, abnormalities such as generation of force grains and mixing of solid impurities are also judged by the crystal size X 31 .

【0033】起晶及びその直後における重要なパラメー
タを表2に示す。過飽和濃度の溶液中に種結晶を投入
し、これを核として結晶を成長させる。これを起晶とい
う。この場合は、特に、結晶の大きさX31 、結晶の大き
さのバラツキX32 等により、起晶の発生、正常及び異常
を判定する。起晶直後は、結晶成長により溶液の濃度が
低下するが、次第に濃縮され再び溶液の濃度が高くな
る。また、起晶直後は、結晶核が相互に付着するので、
明るさX11 、X21 、結晶の大きさX31 、結晶の大きさの
バラツキX32 等により判定して水を加える。
Table 2 shows important parameters immediately after the crystallization and immediately thereafter. A seed crystal is put into a solution having a supersaturated concentration, and this is used as a nucleus to grow a crystal. This is called crystal. In this case, the occurrence, normality, and abnormality of crystallites are determined based on the crystal size X 31 , the crystal size variation X 32, and the like. Immediately after the crystallization, the concentration of the solution decreases due to crystal growth, but the concentration gradually increases and the concentration of the solution increases again. In addition, since the crystal nuclei adhere to each other immediately after the crystallization,
Add water as judged by the brightness X 11 , X 21 , crystal size X 31 , variation in crystal size X 32, etc.

【0034】寄せ工程における重要なパラメータを表2
に示す。フォースグレーンの発生しない溶液の濃度には
上限があるので、間欠操作(一定量ずつ区切って水また
は糖液を供給すること)で平均的な過飽和濃度を維持す
る。フォースグレーンが発生すると、フォースグレーン
は正常な結晶よりも小さいので、特に結晶の大きさX31
及び結晶の大きさのバラツキX32 等により直ちに判定さ
れ、フォースグレーンの萌芽をつぶすために水を加える
操作(差水)が行われる。この差水のタイミングは、溶
液の濃度を示す明るさX11 、X21 等のパラメータによっ
ても判定される。
Table 2 shows important parameters in the aligning process.
Shown in. Since there is an upper limit to the concentration of the solution in which force grain does not occur, the average supersaturated concentration is maintained by intermittent operation (supplying water or sugar solution by dividing it into fixed amounts). When force grain occurs because force grain is smaller than the normal crystal, especially crystal size X 31
Immediately determined by variation in crystal size X 32, etc., an operation of adding water (diffusion) is performed in order to crush the sprouting of force grains. The timing of this difference water is also determined by parameters such as brightness X 11 and X 21 indicating the concentration of the solution.

【0035】転換及びその直後における重要なパラメー
タを表2に示す。三回目の差水では多めに水を加えてフ
ォースグレーンを完全に溶解し、改めて濃縮する。これ
を転換という。溶液の濃度、フォースグレーン、固形不
純物等が、明るさX11 、X21 、結晶の大きさX31 、結晶
の大きさのバラツキX32 等によって判定される。
Table 2 shows the important parameters at and immediately after the conversion. In the third difference of water, add a large amount of water to completely dissolve the force grains and concentrate again. This is called conversion. The concentration of the solution, the force grain, the solid impurities, and the like are determined by the brightness X 11 , X 21 , the crystal size X 31 , the crystal size variation X 32, and the like.

【0036】育晶工程および製造工程の終了における重
要なパラメータを表3に示す。転換付近から結晶の密度
X51 が増加するとともに、フォースグレーンの発生しな
い溶液濃度の上限が上昇する。これは、結晶成長にとも
ない結晶表面積が増加してフォースグレーンの萌芽が結
晶表面に取り込まれる等の理由によるものである。した
がって、急速に結晶成長が進み、結晶缶内の容積が増加
して結晶の大きさX31 、結晶の密度X51 等が所定量に達
したところで終了とする。また、この段階では、結晶の
品質を判定するための、結晶の大きさX31 、結晶の大き
さのバラツキX32 、結晶の形状X41 、結晶の形状の種類
X421、X422…毎の比率等のパラメータが重要になる。
Table 3 shows important parameters at the end of the crystal growth process and the manufacturing process. Crystal density from around conversion
As X 51 increases, the upper limit of the solution concentration at which no force grain is generated rises. This is because the crystal surface area increases as the crystal grows and the sprouting of force grains is taken into the crystal surface. Therefore, the crystal growth progresses rapidly, the volume in the crystal can increases, and the crystal size X 31 , the crystal density X 51, etc. reach a predetermined amount, and the process ends. At this stage, the crystal size X 31 , the crystal size variation X 32 , the crystal shape X 41 , and the crystal shape type are used to judge the crystal quality.
Parameters such as the ratio for each X 421 , X 422 ... Are important.

【表1】 [Table 1]

【表2】 [Table 2]

【表3】 [Table 3]

【0037】図4の画像及び図5乃至図20(図13を
除く)のグラフは一台又は複数台の図2に示すCRT3
6によって表示される。
The image of FIG. 4 and the graphs of FIGS. 5 to 20 (excluding FIG. 13) are one or a plurality of CRTs 3 shown in FIG.
Displayed by 6.

【0038】なお、上記実施例では砂糖を例示したが、
この発明に係る結晶成長監視装置は、溶液中で結晶を析
出させて製造される物であれば何にでも用いることがで
き、例えばL−グルタミン酸モノナトリウム等の調味料
やアスピリン、アスコルビン酸等の医薬品にも好適に用
いることができる。
In the above embodiment, sugar is used as an example,
The crystal growth monitoring device according to the present invention can be used for anything produced by precipitating crystals in a solution, for example, seasonings such as L-glutamate monosodium and aspirin, ascorbic acid and the like. It can also be suitably used for medicines.

【0039】[0039]

【発明の効果】この発明に係る結晶成長監視装置によれ
ば、結晶の画像データから抽出したパラメータによって
直接的に結晶の成長状態を判定するので、結晶の数及び
大きさ、フォースグレーンの発生、結晶の形状の異常等
を直ちに且つ正確に検出でき、進捗、品質、異常等の状
態を精度良く判定できる。
According to the crystal growth monitoring apparatus of the present invention, since the crystal growth state is directly determined by the parameters extracted from the crystal image data, the number and size of crystals, the occurrence of force grains, Abnormalities in crystal shape can be detected immediately and accurately, and progress, quality, abnormalities and other states can be accurately determined.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明に係る結晶成長監視装置の機能ブロッ
ク図。
FIG. 1 is a functional block diagram of a crystal growth monitoring device according to the present invention.

【図2】この発明に係る結晶成長監視装置の一実施例を
具体的に示した全体構成図。
FIG. 2 is an overall configuration diagram specifically showing one embodiment of the crystal growth monitoring device according to the present invention.

【図3】この発明に係る結晶成長監視装置の一実施例の
動作を示すフローチャート。
FIG. 3 is a flowchart showing the operation of an embodiment of the crystal growth monitoring device according to the present invention.

【図4】この発明に係る結晶成長監視装置の一実施例に
おける白下の画像を示す説明図。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing an image below white in an embodiment of the crystal growth monitoring apparatus according to the present invention.

【図5】この発明に係る結晶成長監視装置のパラメータ
の時間変化の一例を示すグラフ。
FIG. 5 is a graph showing an example of changes over time in parameters of the crystal growth monitoring apparatus according to the present invention.

【図6】この発明に係る結晶成長監視装置のパラメータ
の時間変化の一例を示すグラフ。
FIG. 6 is a graph showing an example of a change over time in parameters of the crystal growth monitoring apparatus according to the present invention.

【図7】この発明に係る結晶成長監視装置のパラメータ
の時間変化の一例を示すグラフ。
FIG. 7 is a graph showing an example of temporal changes in parameters of the crystal growth monitoring device according to the present invention.

【図8】この発明に係る結晶成長監視装置のパラメータ
の時間変化の一例を示すグラフ。
FIG. 8 is a graph showing an example of a change over time in parameters of the crystal growth monitoring apparatus according to the present invention.

【図9】この発明に係る結晶成長監視装置のパラメータ
の時間変化の一例を示すグラフ。
FIG. 9 is a graph showing an example of the change over time in the parameters of the crystal growth monitoring device according to the present invention.

【図10】この発明に係る結晶成長監視装置のパラメー
タの時間変化の一例を示すグラフ。
FIG. 10 is a graph showing an example of a change over time in parameters of the crystal growth monitoring apparatus according to the present invention.

【図11】この発明に係る結晶成長監視装置のパラメー
タの時間変化の一例を示すグラフ。
FIG. 11 is a graph showing an example of a change over time in parameters of the crystal growth monitoring apparatus according to the present invention.

【図12】この発明に係る結晶成長監視装置のパラメー
タの時間変化の一例を示すグラフ。
FIG. 12 is a graph showing an example of a change over time in parameters of the crystal growth monitoring apparatus according to the present invention.

【図13】この発明に係る結晶成長監視装置のパラメー
タの一例を示すグラフ。
FIG. 13 is a graph showing an example of parameters of the crystal growth monitoring apparatus according to the present invention.

【図14】この発明に係る結晶成長監視装置のパラメー
タの時間変化の一例を示すグラフ。
FIG. 14 is a graph showing an example of a change over time in parameters of the crystal growth monitoring apparatus according to the present invention.

【図15】この発明に係る結晶成長監視装置のパラメー
タの時間変化の一例を示すグラフ。
FIG. 15 is a graph showing an example of a change with time of parameters of the crystal growth monitoring apparatus according to the present invention.

【図16】この発明に係る結晶成長監視装置のパラメー
タの時間変化の一例を示すグラフ。
FIG. 16 is a graph showing an example of a change over time in parameters of the crystal growth monitoring apparatus according to the present invention.

【図17】この発明に係る結晶成長監視装置のパラメー
タの時間変化の一例を示すグラフ。
FIG. 17 is a graph showing an example of a change over time in parameters of the crystal growth monitoring apparatus according to the present invention.

【図18】この発明に係る結晶成長監視装置のパラメー
タの時間変化の一例を示すグラフ。
FIG. 18 is a graph showing an example of the change over time in the parameters of the crystal growth monitoring apparatus according to the present invention.

【図19】この発明に係る結晶成長監視装置のパラメー
タの時間変化の一例を示すグラフ。
FIG. 19 is a graph showing an example of a change with time of parameters of the crystal growth monitoring apparatus according to the present invention.

【図20】この発明に係る結晶成長監視装置のパラメー
タの時間変化の一例を示すグラフ。
FIG. 20 is a graph showing an example of a change over time in parameters of the crystal growth monitoring apparatus according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…結晶成長監視装置 12…入力機
器 14…パラメータ抽出手段 16…検出値
記憶手段 18…基準値記憶手段 20…判定手
段 22…出力機器
10 ... Crystal growth monitoring device 12 ... Input device 14 ... Parameter extraction means 16 ... Detected value storage means 18 ... Reference value storage means 20 ... Judgment means 22 ... Output equipment

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】結晶の成長状態を判定するためのパラメー
タを結晶の画像データから抽出するパラメータ抽出手段
と、抽出された上記パラメータを検出値として記憶する
検出値記憶手段と、上記結晶が成長した場合の上記パラ
メータからなる基準値とこの基準値に対応する成長状態
とを予め記憶した基準値記憶手段と、上記検出値と上記
基準値とを比較して上記検出値に対応する成長状態を判
定する判定手段とを備えた結晶成長監視装置。
1. A parameter extracting means for extracting a parameter for determining a crystal growth state from image data of the crystal, a detection value storing means for storing the extracted parameter as a detection value, and the crystal has grown. In the case of reference value storage means for storing in advance a reference value consisting of the above parameters and a growth state corresponding to this reference value, and comparing the detected value with the reference value to determine the growth state corresponding to the detected value. And a crystal growth monitoring device.
【請求項2】成長中の結晶を撮像して画像データを得る
入力機器と、上記結晶の成長状態を判定するためのパラ
メータを上記画像データから抽出するパラメータ抽出手
段と、抽出された上記パラメータを検出値として記憶す
る検出値記憶手段と、上記結晶が正常に成長した場合の
上記パラメータからなる基準値とこの基準値に対応する
成長状態とを予め記憶した基準値記憶手段と、上記検出
値と上記基準値とを比較して上記検出値に対応する成長
状態を判定する判定手段と、判定された上記成長状態を
少なくとも出力する出力機器とを備えた結晶成長監視装
置。
2. An input device for imaging a growing crystal to obtain image data, a parameter extracting means for extracting a parameter for determining a growth state of the crystal from the image data, and the extracted parameter. Detected value storage means to store as a detected value, reference value storage means pre-stored reference value and growth state corresponding to the reference value consisting of the parameter when the crystal is normally grown, and the detected value A crystal growth monitoring apparatus comprising: a determination unit that compares the reference value with a growth state corresponding to the detected value; and an output device that outputs at least the determined growth state.
【請求項3】パラメータが結晶とその背景とを合わせた
全体の明るさである請求項1又は2記載の結晶成長監視
装置。
3. The crystal growth monitoring apparatus according to claim 1, wherein the parameter is the total brightness of the crystal and the background thereof.
【請求項4】パラメータが結晶の背景の明るさである請
求項1又は2記載の結晶成長監視装置。
4. The crystal growth monitoring device according to claim 1, wherein the parameter is the brightness of the background of the crystal.
【請求項5】パラメータが結晶の大きさである請求項1
又は2記載の結晶成長監視装置。
5. The parameter is a crystal size.
Alternatively, the crystal growth monitoring device according to item 2.
【請求項6】パラメータが結晶の大きさのバラツキであ
る請求項1又2の結晶成長監視装置。
6. The crystal growth monitoring apparatus according to claim 1 or 2, wherein the parameter is variation in crystal size.
【請求項7】パラメータが結晶の形状である請求項1又
2の結晶成長監視装置。
7. The crystal growth monitoring device according to claim 1, wherein the parameter is the crystal shape.
【請求項8】パラメータが結晶の形状の種類毎の比率で
ある請求項1又2の結晶成長監視装置。
8. The crystal growth monitoring apparatus according to claim 1 or 2, wherein the parameter is a ratio for each type of crystal shape.
【請求項9】パラメータが結晶の密度である請求項1又
2の結晶成長監視装置。
9. The crystal growth monitoring device according to claim 1, wherein the parameter is the density of crystals.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200021530A (en) * 2017-08-23 2020-02-28 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈 Image Processing Apparatus, Methods, and Charged Particle Microscopes

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US11430106B2 (en) 2017-08-23 2022-08-30 Hitachi High-Tech Corporation Image processing device, image processing method and charged particle microscope

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