JPH06167701A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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Publication number
JPH06167701A
JPH06167701A JP31999492A JP31999492A JPH06167701A JP H06167701 A JPH06167701 A JP H06167701A JP 31999492 A JP31999492 A JP 31999492A JP 31999492 A JP31999492 A JP 31999492A JP H06167701 A JPH06167701 A JP H06167701A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
linear
crystal display
light emitting
display device
Prior art date
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Pending
Application number
JP31999492A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Sayuri Fujiwara
小百合 藤原
Yoshihiro Izumi
良弘 和泉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP31999492A priority Critical patent/JPH06167701A/en
Publication of JPH06167701A publication Critical patent/JPH06167701A/en
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Abstract

PURPOSE:To uniformalize display characteristics without varying the retardation regulated by the double refractive indices of liquid crystals and cell thicknesses by providing substrates after sticking with plural grooves for the liquid crystals in the horizontal direction of a screen. CONSTITUTION:Plural wire-shaped light emitting sources Y1 to Yn are arranged along a direction Y on the one glass substrate and plural wire-shaped electrodes X1 to Xm are arranged in a direction X so as to intersect therewith on these light sources. The respective wire-shaped light emitting sources Y1 to Yn are constituted of light emitting parts 1 and wire-shaped optical waveguides 2 for transmitting the light from these light emitting parts 1. The plural grooves for the liquid crystals are formed in the horizontal direction of the screen on the substrates after sticking. Walls are eventually formed to prevent the fall of the liquid crystals by their own weight and the cell gaps of the liquid crystals are assured (nearly d1=d2) and the display uniform over the entire part of the screen is therefore possible.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は液晶表示装置に係り、詳
細には大容量、大画面の液晶表示装置に係る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a large capacity, large screen liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】マトリクス型の液晶表示装置(LCD) は大
容量化が要求されており、表示画面のサイズよりも大型
化することが求められているが、大型化にともなって配
線抵抗と浮遊容量による電気信号の遅延や、パネルの表
示が不均一になるといった問題が生じ、前者の問題を解
決するために光信号を用いて絵素駆動電流を増大させる
液晶表示装置が提案されている(東レ(株)開平1-1730
16、カシオ計算機(株)開平2-89029 、セイコ−エプソ
ン(株)開平2-134617、シャ−プ(株)出願平3-26394
7、等) 。
2. Description of the Related Art Matrix type liquid crystal display devices (LCDs) are required to have a large capacity and are required to be larger than the size of a display screen. There has been proposed a liquid crystal display device in which an electric signal is used to increase a pixel drive current in order to solve the former problem by causing a delay of an electric signal due to capacitance and non-uniformity of display on a panel ( Toray Industries, Inc. Kaihei 1-1730
16, Casio Computer Co., Ltd. Kaihei 2-89029, Seiko-Epson Co., Ltd. Kaihei 2-134617, Sharp Corp. Application No. 3-26394
7, etc.).

【0003】図13は上述した光アドレス方式駆動マトリ
クス型の液晶表示装置の概略平面図を、図14は図13のA
−A線に沿ったマトリクス型の液晶表示装置の概略断面
図を示す。図13では、図14に示すガラス基板、透明電
極、液晶層、シ−ル材は省略されている。
FIG. 13 is a schematic plan view of the above-mentioned photo-address type drive matrix type liquid crystal display device, and FIG.
3 is a schematic cross-sectional view of the matrix type liquid crystal display device taken along the line A. FIG. In FIG. 13, the glass substrate, transparent electrode, liquid crystal layer, and seal material shown in FIG. 14 are omitted.

【0004】図13、14において、一方のガラス基板5a
上には複数の線状発光源Y 1 、Y 2、…Y n-1 、Y n がY
方向(図1の縦方向)に沿って並列されており、これ
らの上に交差して複数の線状電極X 1 、X 2 、…X
m-1 、X m がX 方向(図13の横方向)に沿って並列さ
れている。
13 and 14, one glass substrate 5a
A plurality of linear light sources Y 1 , Y 2 , ... Y n-1 , Y n
Are arranged in parallel along the direction (vertical direction in FIG. 1), and a plurality of linear electrodes X 1 , X 2 , ...
m-1 and X m are arranged in parallel along the X direction (horizontal direction in FIG. 13).

【0005】各線状発光源Y 1 、Y 2 、…Y n-1 、Y
n 、例えば線状発光源Y1は、発光ダイオ−ド(LED)ア
レイ素子、あるいはレザ−ダイオ−ド(LD)アレイ素子に
よる発光部1とこの発光部1からの光を伝える線状の光
導波路2とから構成されており、発光部1を発光させる
ことにより、光は光導波路2を伝搬する。
Each linear light emitting source Y 1 , Y 2 , ... Y n-1 , Y
n , for example, a linear light-emitting source Y1 is a light-emitting diode (LED) array element or a laser diode (LD) array element, which is a light-emitting section 1 and a linear optical waveguide for transmitting light from the light-emitting section 1. The light is propagated through the optical waveguide 2 by causing the light emitting unit 1 to emit light.

【0006】線状発光源Y 1 、Y 2 、…Y n-1 、Y n
線状電極X 1 、X 2 、…X m-1 、X m との各交差部分に
は、線状発光源Y 1 、Y 2 、…Y n-1 、Y n と線状電極
X 1 、X 2 、…X m-1 、X m との各交差部に隣接して、
光導電体層からなる光スイッチ素子3が夫々設けられて
いる。
The linear emission sources Y 1 , Y 2 , ... Y n-1 , Y n and the linear electrodes X 1 , X 2 , ... X m-1 , X m intersect with each other to produce linear emission. Sources Y 1 , Y 2 , ... Y n-1 , Y n and linear electrodes
Adjacent to each intersection with X 1 , X 2 , ... X m-1 , X m ,
Optical switch elements 3 each composed of a photoconductor layer are provided.

【0007】線状電極X 1 、X 2 、…X m-1 、X m と液
晶等の表示媒体を駆動するための絵素電極4とは同一平
面上に形成されており、線状電極X 1 、X 2 、…X
m-1 、X m と絵素電極4との間には上述の光スイッチ
素子3が夫々設けられている。
The linear electrodes X 1 , X 2 , ... X m-1 , X m and the picture element electrodes 4 for driving a display medium such as a liquid crystal are formed on the same plane. 1 , X 2 , ... X
The above-mentioned optical switch element 3 is provided between m-1 , X m and the pixel electrode 4, respectively.

【0008】他方のガラス基板5b上には透明電極6が
設けられており、上述した基板及びシ−ル材7の間に液
晶層8が封止されている。
A transparent electrode 6 is provided on the other glass substrate 5b, and a liquid crystal layer 8 is sealed between the substrate and the seal material 7 described above.

【0009】光スイッチ素子3に光が照射されると、す
なわち、線状発光源Y1が発光し、光導波路2を伝搬して
きた光がスイッチ素子3に入射されると、光スイッチ素
子3はその電気抵抗が低減し線状電極X1からの信号が絵
素電極4に印加され、液晶の配向状態が変化する。
When the optical switch element 3 is irradiated with light, that is, when the linear light source Y1 emits light and the light propagating through the optical waveguide 2 is incident on the switch element 3, the optical switch element 3 receives the light. The electric resistance is reduced and the signal from the linear electrode X1 is applied to the pixel electrode 4, and the alignment state of the liquid crystal is changed.

【0010】線状発光源Y 1 、Y 2 、…Y n-1 、Y n
Y 1 からY n まで順次発光させることにより光走査し、
それに応じて電気信号を線状電極X 1 、X 2 、…X
m-1 、X m に印加する。線状発光源Y 1 、Y 2 、…Y
n-1 、Y n が発光している期間、その発光源上の光スイ
ッチ素子3がオン状態となるため、線状電極X 1 、X
2 、…X m-1 、X m からの電気信号がそれぞれの絵素
電極4に印加される。即ち、TFT 素子の電気的ゲ−ト信
号の代わりに線状発光源Y 1 、Y 2 、…Y n-1 、Y n
らの光信号により光スイッチ素子3が走査されることに
なる。
Linear light sources Y 1 , Y 2 , ... Y n-1 , Y n
Optical scanning is performed by sequentially emitting light from Y 1 to Y n ,
Correspondingly, an electric signal is sent to the linear electrodes X 1 , X 2 , ... X.
It is applied to m-1 and X m . Linear light source Y 1 , Y 2 , ... Y
While n−1 and Y n are emitting light, the optical switching element 3 on the light emitting source is in the ON state, so that the linear electrodes X 1 and X
2 , ... The electric signals from X m-1 , X m are applied to the respective picture element electrodes 4. That is, the optical switch element 3 is scanned by the optical signals from the linear light emitting sources Y 1 , Y 2 , ... Y n-1 , Y n instead of the electrical gate signal of the TFT element.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】大画面の表示装置にお
いて、図15に示されるように、液晶の自重によって画面
下方部に液晶がたまり、セルギャップが画面上下で異な
り(画面上部のセルギャップd1が画面下部のセルギャッ
プd2より小さい)、結晶の複屈折率( △n)及びセル厚み
(d) によって規定されるリタ−デ−ション(△n ・d)が
面内で異なるため、表示特性が不均一になるという問題
がある。
In a large-screen display device, as shown in FIG. 15, liquid crystal accumulates in the lower part of the screen due to the weight of the liquid crystal, and the cell gap is different between the upper and lower parts of the screen (cell gap d1 at the upper part of the screen). Is smaller than the cell gap d2 at the bottom of the screen), crystal birefringence (△ n) and cell thickness
Since the retardation (Δnd) defined by (d) is different in the plane, there is a problem that the display characteristics become non-uniform.

【0012】本発明の目的は、液晶の複屈折率及びセル
厚みにより規定されるリタ−デ−ションが面内で異なる
ことなく表示特性が均一な液晶表示装置を提供すること
にある。
An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device in which the retardation defined by the birefringence index of the liquid crystal and the cell thickness does not vary in the plane and the display characteristics are uniform.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明は、夫々が電極を
有する2つの基板と、該基板の間に配置されており印加
される信号により層の各絵素が駆動されるように構成さ
れた液晶と、貼り合わせ後の基板に画面水平方向に形成
された複数の液晶用の溝とを含むことを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The invention is constructed such that two substrates, each having an electrode, are arranged between the substrates and each pixel of the layer is driven by an applied signal. And a plurality of liquid crystal grooves formed in the horizontal direction of the screen on the bonded substrate.

【0014】[0014]

【作用】貼り合わせ後の基板に複数の液晶用の溝が画面
水平方向に形成されているので液晶が自重によって下方
に降りないように壁が形成されることになり液晶のセル
ギャップは保証され( ほぼd1=d2)、したがって画面全体
にわたり均一な表示が可能となる。
[Function] Since a plurality of liquid crystal grooves are formed in the horizontal direction of the screen on the substrate after bonding, a wall is formed so that the liquid crystal does not descend downward due to its own weight, and the cell gap of the liquid crystal is guaranteed. (Approximately d1 = d2), and therefore uniform display is possible over the entire screen.

【0015】[0015]

【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0016】図2は画面水平方向に形成された液晶用の
溝を説明する図である。図2に示されるように画面水平
方向に液晶用の溝が形成され液晶が自重により下方に降
りないように壁があるので液晶のセルギャップは保証さ
れる。
FIG. 2 is a view for explaining a liquid crystal groove formed in the horizontal direction of the screen. As shown in FIG. 2, a liquid crystal groove is formed in the horizontal direction of the screen, and there is a wall so that the liquid crystal does not descend downward due to its own weight.

【0017】図1は本発明に係る液晶表示装置の第1実
施例である光アドレス方式駆動型LCD の基本的構造を示
す平面図であり、図3〜5は本発明に係る液晶表示装置
の第1実施例である光アドレス方式駆動型LCD の基本的
構造を示す断面図である。ここで図3は図1のD-D 線に
沿った概略断面図、図4は図1のE-E 線に沿った概略断
面図、図5は図1のF-F 線に沿った概略断面図である。
FIG. 1 is a plan view showing the basic structure of an optically addressed drive type LCD which is a first embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention, and FIGS. 3 to 5 show the liquid crystal display device according to the present invention. FIG. 3 is a cross-sectional view showing the basic structure of an optical addressing type drive LCD which is the first embodiment. 3 is a schematic sectional view taken along line DD of FIG. 1, FIG. 4 is a schematic sectional view taken along line EE of FIG. 1, and FIG. 5 is a schematic sectional view taken along line FF of FIG.

【0018】図1、図3〜5に示すように一方のガラス
基板5a上には複数の線状発光源Y 1、Y 2 、…Y n-1 、Y
n が図の1のY 方向に沿って配列されており、これら
の上に交差して複数の線状電極X 1 、X 2 、…X m-1
X m が図の1のX 方向に配列されている。
As shown in FIGS. 1 and 3 to 5, a plurality of linear light emitting sources Y 1 , Y 2 , ... Y n-1 , Y are provided on one glass substrate 5a.
n are arranged along the Y direction in FIG. 1, and a plurality of linear electrodes X 1 , X 2 , ... X m-1 , intersecting these are arranged.
X m are arranged in the X direction of 1 in the figure.

【0019】各線状発光源Y 1 、Y 2 、…Y n-1 、Y
n 、例えば線状発光源Y 2 は、発光ダイオ−ド(LED)
アレイ素子、あるいはレ−ザダイオ−ド(LD)アレイ素子
による発光部1とこの発光部1からの光を伝える線状の
光導波路2とから構成されており、発光部1を発光させ
ることにより、光は光導波路2内を伝搬し、この光導波
路2を部分的に傷を付ける等の方法を用いることにより
光を部分的に取り出す。
Each linear light-emitting source Y 1 , Y 2 , ... Y n-1 , Y
n , for example, the linear light source Y 2 is a light emitting diode (LED)
It is composed of an array element or a laser diode (LD) array element as a light emitting section 1 and a linear optical waveguide 2 for transmitting light from the light emitting section 1. By making the light emitting section 1 emit light, The light propagates in the optical waveguide 2, and the light is partially extracted by using a method of partially scratching the optical waveguide 2.

【0020】各線状発光源Y 1 、Y 2 、…Y n-1 、Y n
と各線状電極X 1 、X 2 、…X m-1、X m との交差部分
には、すなわち、線状発光源Y 1 、Y 2 、…Y n-1 、Y
n と各線状電極X 1 、X 2 、…X m-1 、X m との交差部
分に隣接して光導電層からなる光スイッチ素子3がそれ
ぞれ設けられている。線状電極X 1 、X 2 、…X m-1、X
m と液晶等との表示媒体を駆動するための絵素電極4
とは同一平面上に形成されており、線状電極X 1 、X
2 、…X m-1 、X m と絵素電極4との間に上述の光ス
イッチ素子3が夫々設けられている。
Each linear light-emitting source Y 1 , Y 2 , ... Y n-1 , Y n
And the linear electrodes X 1 , X 2 , ... X m-1 , X m at the intersections, that is, the linear emission sources Y 1 , Y 2 , ... Y n-1 , Y m.
Optical switch elements 3 each made of a photoconductive layer are provided adjacent to the intersections of n and each of the linear electrodes X 1 , X 2 , ... X m-1 , X m . Linear electrodes X 1 , X 2 , ... X m-1 , X
A pixel electrode 4 for driving a display medium such as m and a liquid crystal
Are formed on the same plane, and the linear electrodes X 1 , X
The optical switch elements 3 described above are provided between 2 , ... X m-1 , X m and the picture element electrode 4, respectively.

【0021】他方のガラス基板5b上には透明電極6が設
けられており上述した基板及びシ−ル剤7の間には液晶
層8が封止されている。
A transparent electrode 6 is provided on the other glass substrate 5b, and a liquid crystal layer 8 is sealed between the substrate and the sealant 7 described above.

【0022】光スイッチ素子3に光が照射されるとすな
わち、線状発光源Y 2 が発光すると光スイッチ素子3は
そのインピ−ダンスが低減し、線状電極X 1 からの信号
が絵素電極4に印加され、したがって、液晶の配向状態
が変化する。
When the optical switch element 3 is irradiated with light, that is, when the linear light source Y 2 emits light, the impedance of the optical switch element 3 is reduced, and the signal from the linear electrode X 1 is transmitted to the pixel electrode. 4 and thus changes the alignment state of the liquid crystal.

【0023】ガラス基板5a、5bは本発明の2つの基板の
一実施例であり、光スイッチ素子3は本発明の光導電体
層の一実施例である。
The glass substrates 5a and 5b are examples of the two substrates of the present invention, and the optical switch element 3 is an example of the photoconductor layer of the present invention.

【0024】線状発光源Y 1 、Y 2 、…Y n-1 、Y n
Y 1 からY n まで順次発光させることにより光走査し、
それに応じて電気信号を線状電極X 1 、X 2 、…X
m-1 、X m に印加する。線状発光源Y 1 、Y 2 、…Y
n-1 、Y n が発光している期間、その線状発光源上の光
スイッチ素子がオン状態となるため、線状電極X 1 、X
2、…X m-1 、X m からの電気信号が夫々の絵素電極4
に印加される。即ち、TFT素子の電気的ゲ−ト信号の代
わりに線状発光源Y 1 、Y 2 、…Y n-1 、Y n からの光
信号により光スイッチ3が走査されることとなる。
The linear emission sources Y 1 , Y 2 , ... Y n-1 , Y n are
Optical scanning is performed by sequentially emitting light from Y 1 to Y n ,
Correspondingly, an electric signal is sent to the linear electrodes X 1 , X 2 , ... X.
It is applied to m-1 and X m . Linear light source Y 1 , Y 2 , ... Y
While n-1 and Y n are emitting light, the optical switching element on the linear light emitting source is turned on, so that the linear electrodes X 1 and X
2 , ... Electric signals from X m-1 and X m are picture element electrodes 4 respectively
Applied to. That is, the optical switch 3 is scanned by the optical signals from the linear light emitting sources Y 1 , Y 2 , ... Y n-1 , Y n instead of the electrical gate signal of the TFT element.

【0025】このように上述の実施例によれば走査信号
が光であるため、TFT 素子の場合のように走査(ゲ−ト
信号)が素子の電気容量を通じて流れ込むような不都合
が生じない。また液晶のセルギャップの均一性が保たれ
るため、画面全面にわたり均一な表示ができる。
As described above, according to the above-described embodiment, since the scanning signal is light, there is no inconvenience that the scanning (gate signal) flows through the electric capacity of the element as in the case of the TFT element. Further, since the cell gap of the liquid crystal is kept uniform, a uniform display can be performed over the entire screen.

【0026】以下に実施例の作成方法を詳細に述べる。The production method of the embodiment will be described in detail below.

【0027】図6にその一部を示したようにガラス基板
5aにパタ−ン化したレジストを形成し、サンドブラスト
法を用いて溝を堀り、その溝に図7(a) 、(b) 、(c) に
示すようにガラスファイバ−z(遮光層11、クラッド1
2、コア13で構成されている)をはめ込み融着し、さらに
基板表面のファイバの遮光層11とクラッド12の一部を研
磨して取り除いておく。このとき基板表面のクラッドは
導波路内を伝搬する光が表面にもれない程度(コアとク
ラッドの屈折率により異なるが、例えば1マイクロメ−
タ以上)残しておく。ついでフアィバ表面に傷をつけて
コアが光導電体層3と接触するようにし、発光源1から
の光を光導電体層3に導く。
A glass substrate as shown in FIG.
A patterned resist is formed on 5a, and a groove is formed by using a sandblast method, and a glass fiber z (light-shielding layer 11 is formed in the groove as shown in FIGS. 7A, 7B, and 7C). , Clad 1
(2, composed of core 13) is fitted and fused, and a part of the light shielding layer 11 and the clad 12 of the fiber on the substrate surface is polished and removed. At this time, in the clad on the surface of the substrate, light propagating in the waveguide is not reflected on the surface (depending on the refractive index of the core and the clad, for example, 1 μm).
Or more) leave. Then, the fiber surface is scratched so that the core comes into contact with the photoconductor layer 3, and the light from the light emitting source 1 is guided to the photoconductor layer 3.

【0028】図6及び図7(a) 、(b) 、(c) には溝の断
面の形状を四角形で示したが、半円やV字形であっても
構わない。ガラス基板に溝を形成する方法として機械加
工では本実施例で示したサンドブラスト法の他にブレ−
ドを用いる方法があり、化学加工ではエッチング法があ
るが、機械加工、化学加工のどちらも有効であり、好ま
しくは機械加工を施した後、化学加工するとよい。本実
施例では基板表面のファイバのクラッド部を一部残した
が、クラッド部を取り除いてコア部を基板表面に露出さ
せ、コア部より低屈折率の膜をパタ−ン化してもよい。
Although the cross-sectional shape of the groove is shown as a quadrangle in FIGS. 6 and 7 (a), (b) and (c), it may be a semi-circle or a V-shape. As a method for forming a groove in a glass substrate, in machining, in addition to the sandblast method shown in this embodiment, a blasting method is used.
Although there is a method of using a metal and an etching method is used as the chemical processing, both the mechanical processing and the chemical processing are effective, and it is preferable to perform the chemical processing after performing the mechanical processing. In this embodiment, a part of the fiber clad portion on the substrate surface is left, but the clad portion may be removed to expose the core portion on the substrate surface, and the film having a lower refractive index than the core portion may be patterned.

【0029】線状発光源Y 1 、Y 2 、…Y n-1 、Y n
線状電極X 1 、X 2 、…X m-1 、X m の交差部分に、線
状発光源Y 1 、Y 2 、…Y n-1 、Y n 上近傍に導電体層
3を形成する。この導電体層3は水素化アモルファスシ
リコン(a-Si:H)膜をプラズマ化学気相蒸着(P-CVD) 法を
用いて作成し、エッチングすることによりパタ−ン化し
て形成する。この光導電体層3としては、a-Si:Hのほか
に水素化アモルファスシリコンゲルマニウム(a-SiGe:
H)、水素化アモルファスシリコンカ−バイト(a-SiC:H)
、水素化アモルファスシリコンオキサイド(a-SiO:H)
、水素化アモルファスシリコンナイトライド(a-SiN:H)
等、発光源1の波長に合わせて用いることができる。
At the intersections of the linear light sources Y 1 , Y 2 , ... Y n-1 , Y n and the linear electrodes X 1 , X 2 , ... X m-1 , X m , the linear light source Y 1 , Y 2 , ... Y n−1 , Y n , the conductor layer 3 is formed in the vicinity thereof. The conductor layer 3 is formed by forming a hydrogenated amorphous silicon (a-Si: H) film by using a plasma chemical vapor deposition (P-CVD) method and patterning it by etching. As the photoconductor layer 3, in addition to a-Si: H, hydrogenated amorphous silicon germanium (a-SiGe:
H), hydrogenated amorphous silicon carbide (a-SiC: H)
, Hydrogenated amorphous silicon oxide (a-SiO: H)
, Hydrogenated amorphous silicon nitride (a-SiN: H)
Etc. can be used according to the wavelength of the light emitting source 1.

【0030】その後、線状電極X 1 、X 2 、…X m-1
X m としてAl等の金属をEB蒸着法により作成し、エッチ
ングすることによりパタ−ン化して形成する。この線状
電極としてはAlの他にMo、Cr、Ti等の金属やインジウム
- 錫酸化物(ITO) 等の透明電極を用いてもかまわない。
After that, the linear electrodes X 1 , X 2 , ... X m-1 ,
A metal such as Al is formed as X m by the EB vapor deposition method, and is patterned by etching. As the linear electrode, in addition to Al, metals such as Mo, Cr and Ti and indium are used.
-A transparent electrode such as tin oxide (ITO) may be used.

【0031】一方、絵素電極4はITO 膜をスパッタ法で
蒸着し、エッチングによりパタ−ン化して形成する。
On the other hand, the pixel electrode 4 is formed by depositing an ITO film by sputtering and patterning it by etching.

【0032】ここで線状電極Xと絵素電極4を光導電体
層3の上に形成したが、光導電体層3を線状電極Xと絵
素電極4の上に形成してもよく線状電極Xと光導電体層
3、絵素電極4をプレナ−型にしたがサンドイッチ構造
でもよい。
Although the linear electrode X and the pixel electrode 4 are formed on the photoconductor layer 3 here, the photoconductive layer 3 may be formed on the linear electrode X and the pixel electrode 4. Although the linear electrode X, the photoconductive layer 3, and the pixel electrode 4 are of the planar type, they may have a sandwich structure.

【0033】これらの層の上に配向層9aを形成する。配
向層9aはスピナにより形成されたポリイミド膜ラビング
処理することにより形成される。配向層9aはここではス
ピナを用いて形成したが印刷法により形成してもよい。
An orientation layer 9a is formed on these layers. The alignment layer 9a is formed by rubbing a polyimide film formed by a spinner. Although the orientation layer 9a is formed by using a spinner here, it may be formed by a printing method.

【0034】他方のガラス基板5b上に図8に示されるよ
うなパタ−ンのレジストを形成し、サンドブラスト法を
用いて加工する。このパタ−ンは図9(a) 、(b) に示さ
れるようなパタ−ンのレジストを形成し、サンドブラス
ト法を用いて加工する。このパタ−ンは図9(a) 、(b)
で示すように2工程で作成され光スイッチ部分が凹みの
部分に作成されることになり図1〜図6及び図10から明
らかのように最終的には液晶用の注入口が画面水平方向
にライン上に形成されるように設計される。ここで(1 x
m) の絵素がカバ−できるように液晶層のラインを作成
したが、基板5a、5bのパタ−ンを変えることにより(2 x
m) 、(3 x m) …等、任意に作成することができる。ガ
ラス基板5b上には透明電極6が設けられている。この透
明電極6はスパッタ法によりITO を蒸着することにより
形成される。
A pattern resist as shown in FIG. 8 is formed on the other glass substrate 5b and processed by the sandblast method. This pattern is formed by forming a resist having a pattern as shown in FIGS. 9 (a) and 9 (b) and processing it by sandblasting. This pattern is shown in Figures 9 (a) and 9 (b).
As shown in Fig. 2, the optical switch part is created in the recessed part and finally the liquid crystal injection port is in the horizontal direction of the screen as shown in Figs. 1 to 6 and 10. Designed to be formed on-line. Where (1 x
The line of the liquid crystal layer was created so that the picture element of (m) could be covered, but by changing the pattern of the substrates 5a and 5b ((2 x
m), (3 xm), etc. can be created arbitrarily. The transparent electrode 6 is provided on the glass substrate 5b. This transparent electrode 6 is formed by depositing ITO by a sputtering method.

【0035】この透明電極6上に対向する基板に形成さ
れた光導電体層3からなる光スイッチ素子のパタ−ンに
合わせて遮光層10を形成する。この遮光層10はAlをEB蒸
着法により作成し、エッチングして形成する。この遮光
層10としてはAlの他にMo、Cr、Ti等の金属や、有機顔料
分散樹脂、及び無機顔料分散樹脂を用いてもよい。又、
ここでは透明電極6上に形成したがガラス基板5bの裏面
に形成してもよい。
A light-shielding layer 10 is formed on the transparent electrode 6 so as to match the pattern of the optical switch element composed of the photoconductor layer 3 formed on the opposing substrate. The light shielding layer 10 is formed by forming Al by EB vapor deposition and etching. In addition to Al, a metal such as Mo, Cr, or Ti, an organic pigment-dispersed resin, or an inorganic pigment-dispersed resin may be used as the light-shielding layer 10. or,
Although it is formed on the transparent electrode 6 here, it may be formed on the back surface of the glass substrate 5b.

【0036】さらにこれらの上に配向層9bを形成する。
この配向層9bはスピナにより作成されたポリイミド膜を
ラビングすることにより形成される。配向層9bはここで
はスピナを用いて形成したが印刷法により形成してもよ
い。
Further, an alignment layer 9b is formed on these.
The alignment layer 9b is formed by rubbing a polyimide film formed by a spinner. The orientation layer 9b is formed by using a spinner here, but may be formed by a printing method.

【0037】このようにして各層を形成した基板間に図
示しないスペ−サ14を分散し、シ−ル剤7を印刷法を用
いてパタ−ンで印刷し、液晶用の溝ができるように両基
板を貼り合わせる。
Spacers (not shown) are dispersed between the substrates on which the respective layers have been formed in this way, and the sealant 7 is printed by a pattern using a printing method so that grooves for liquid crystals are formed. Attach both substrates.

【0038】以上のようにして貼り合わせた基板は、両
面水平方向に液晶用の溝が形成されていることになるの
で、この空間に液晶を形成して液晶層8が形成される。
液晶層8の厚さは約5マイクロメ−タであり、表示モ−
ドはツイステッドネマティック(TN)のノ−マリホワイト
型である。液晶材料としては、例えばメルク社製のPCH
液晶ZLI-1565を用い、これを真空注入することによって
液晶層8を形成する。
Since the substrates bonded as described above have liquid crystal grooves formed on both sides in the horizontal direction, the liquid crystal is formed in this space to form the liquid crystal layer 8.
The thickness of the liquid crystal layer 8 is about 5 micrometers, and the display mode is
The Do is a normally white type of Twisted Nematic (TN). As the liquid crystal material, for example, PCH manufactured by Merck
Liquid crystal ZLI-1565 is used, and the liquid crystal layer 8 is formed by vacuum injection.

【0039】光スイッチ素子3に光が照射されると、す
なわち、線状発光源Y 2 が発光すると、光スイッチ素子
3はそのインピ−ダンスが低減し、線状電極X 1 からの
信号が絵素電極4に印加され、従って、液晶の配向状態
が変化する。そのとき、液晶用に作られた水平方向の溝
の壁が、液晶が画面下方に降りようとすることを拒み、
セルギャップを均一にすることが可能であるので画面上
において均一な表示ができる。
When the optical switch element 3 is irradiated with light, that is, when the linear light source Y 2 emits light, the impedance of the optical switch element 3 is reduced, and the signal from the linear electrode X 1 is displayed. It is applied to the elementary electrode 4, and therefore the alignment state of the liquid crystal changes. At that time, the wall of the horizontal groove made for the liquid crystal prevents the liquid crystal from trying to descend to the bottom of the screen,
Since the cell gap can be made uniform, uniform display can be performed on the screen.

【0040】本実施例では、光アドレス方式駆動型LCD
を示したが一般的なアクティブマトリクス型(例えば薄
膜トランジスタ型(TFT) やメタル・インシュレ−タ・メ
タル(MIM) 構造LCD においてもセルギャップを均一にす
る効果は同じである。
In this embodiment, an optical addressing type LCD is used.
However, even in a general active matrix type (for example, thin film transistor type (TFT) or metal insulator metal (MIM) structure LCD, the effect of making the cell gap uniform is the same.

【0041】図11、図12を用いて本発明の他の駆動方法
である単純マトリクス駆動方法を用い、あわせて光導波
路を対向基板上に形成した場合の光走査型液晶表示装置
の実施例を示す。ここで本実施例における液晶表示装置
の作成プロセス、条件、及び材料は前述の実施例で示し
た通りである。図11は本発明に係る光走査型液晶表示装
置の実施例である単純マトリクス駆動型LCD の基本的構
造を示す平面図であり、図12は図11のG-G 線に沿った概
略断面図である。なお、図11では図12のガラス基板5a、
5b、スペ−サを含む液晶層8、及びシ−ル7は省略され
ており、図12では左端のパタ−ン(ガラス基板5a、5b、
及びシ−ル7を除く符号記入部分)が繰り返される。
An embodiment of an optical scanning type liquid crystal display device in which a simple matrix driving method which is another driving method of the present invention is used with reference to FIGS. 11 and 12 and an optical waveguide is also formed on a counter substrate. Show. Here, the manufacturing process, conditions, and materials of the liquid crystal display device in this embodiment are as described in the above embodiments. 11 is a plan view showing the basic structure of a simple matrix drive type LCD which is an embodiment of the optical scanning type liquid crystal display device according to the present invention, and FIG. 12 is a schematic sectional view taken along the line GG in FIG. . In FIG. 11, the glass substrate 5a of FIG. 12,
5b, the liquid crystal layer 8 including a spacer, and the seal 7 are omitted. In FIG. 12, the leftmost pattern (glass substrates 5a, 5b,
And the code entry portion except the seal 7) is repeated.

【0042】図11、図12に示すように一方のガラス基板
5b上には複数の線状発光源Y 1 、Y 2 、…Y n-1 、Y n
がY 方向に沿って配列されており、これらと並列に複数
の共通線状電極C 1 、C 2 、...Ck-1 、C k がY 方向に
配列されている。線状発光源Y 1 、Y 2 、…Y n-1 、Y
n と共通線状電極C 1 、C 2 、...Ck-1 、C k とは同一
平面上に並んでおり、2本の線状発光源の間には少なく
とも2本以上の共通線状電極(j本) が形成されている。
各線状発光源Y 1 、Y 2 、…Y n-1 、Y n 、例えば線状
発光源Y 2 はLED アレイ素子、あるいはLDアレイ素子に
よる発光部1とこの発光部1からの光を伝える線状の光
導波路2とから構成されており、発光部1を発光させる
ことにより、線状発光源Y 2 全体からライン上の光が放
射される。
One glass substrate as shown in FIGS. 11 and 12.
A plurality of linear light emitting sources Y 1 , Y 2 , ... Y n-1 , Y n are provided on 5b.
Are arranged along the Y direction, and a plurality of common linear electrodes C 1 , C 2 , ... C k−1 , C k are arranged in parallel in the Y direction. Linear light source Y 1 , Y 2 , ... Y n-1 , Y
n and the common linear electrodes C 1 , C 2 , ... C k-1 , C k are arranged on the same plane, and at least two common lines are provided between the two linear light emitting sources. Electrodes (j) are formed.
Each of the linear light-emitting sources Y 1 , Y 2 , ... Y n-1 , Y n , for example, the linear light-emitting source Y 2 is a light emitting section 1 formed by an LED array element or an LD array element and a line for transmitting light from the light emitting section 1. The linear light source 2 emits light on a line by causing the light emitting section 1 to emit light.

【0043】他方のガラス基板5a上には複数の線状電極
X 1 、X 2 、…X m-1 、X m がガラス基板5a上に形成し
た複数の線状発光源Y 1 、Y 2 、…Y n-1 、Y n 、及び
共通線状電極C 1 、C 2 、...Ck-1 、C k と直交するよ
うに、すなわち、x方向に沿って配列されている。又、
絵素電極は1本の線状発光源とj本の共通線状電極とで
駆動されるように島状にパタ−ン化される。
A plurality of linear electrodes are provided on the other glass substrate 5a.
X 1 , X 2 , ... X m-1 , X m are formed on the glass substrate 5a by a plurality of linear light emitting sources Y 1 , Y 2 , ... Y n-1 , Y n , and a common linear electrode C 1 , C 2 , ... C k−1 , C k, and so on, that is, along the x direction. or,
The pixel electrodes are patterned in an island shape so as to be driven by one linear light emitting source and j common linear electrodes.

【0044】各線状発光源Y 1 、Y 2 、…Y n-1 、Y n
と線状電極X 1 、X 2 、…X m-1 、X m との交差部分に
は、すなわち、線状発光源Y 1 、Y 2 、…Y n-1 、Y n
と線状電極X 1 、X 2 、…X m-1 、X m との交差部分に
隣接して、光導電体層からなる光スイッチ素子3が夫々
設けられている。線状電極X 1 、X 2 、…X m-1 、X m
と液晶等の表示媒体を駆動するための絵素電極4とは同
一平面上に形成されており、線状電極X 1 、X 2 、…X
m-1 、X m と絵素電極4との間に上述の光スイッチ素子
3が夫々設けられている。上述した2枚の基板及びシ−
ル剤7の間に液晶層8が封止されている。光スイッチ素
子3に光が照射されると、すなわち、線状発光源Y2が発
光すると、光スイッチ素子3はそのインピ−ダンスが低
減し線状電極X 1 からの信号が絵素電極4に印加され、
したがって液晶の配向状態が変化する。
Each linear light emission source Y 1 , Y 2 , ... Y n-1 , Y n
And the linear electrodes X 1 , X 2 , ... X m-1 , X m at the intersections, that is, the linear emission sources Y 1 , Y 2 , ... Y n-1 , Y n.
Optical switch elements 3 made of a photoconductor layer are provided adjacent to the intersections of the linear electrodes X 1 , X 2 , ... X m-1 , X m . Linear electrodes X 1 , X 2 , ... X m-1 , X m
The pixel electrodes 4 for driving a display medium such as a liquid crystal are formed on the same plane, and the linear electrodes X 1 , X 2 , ... X are formed.
m-1, X m and above of the optical switch 3 between the pixel electrode 4 are provided respectively. The above-mentioned two substrates and sheets
The liquid crystal layer 8 is sealed between the adhesives 7. When the optical switch element 3 is irradiated with light, i.e., when the linear light-emitting source Y2 emitting, optical switching element 3 is the Inpi - applied to the signal is the picture element electrode 4 from the dance reduced linear electrodes X 1 Is
Therefore, the alignment state of the liquid crystal changes.

【0045】線状発光源Y 1 、Y 2 、…Y n-1 、Y n
Y 1 からY n まで順次発光させることにより光走査し、
それに応じて電気信号を線状電極X 1 、X 2 、…X
m-1 、X m に印加する。線状発光源Y 1 、Y 2 、…Y
n-1 、Y n が発光している期間、その線状発光源上の光
スイッチ素子がオン状態となるため、線状電極X 1 、X
2、…X m-1 、X m からの電気信号が夫々の絵素電極4
に印加される。即ち、j本の共通線状電極で構成される
表示領域を1単位のブロックとし各ブロックの選択を線
状発光源で行うことになる。その結果、デュ−テイ比(l
/j) で(j x m) の走査線を駆動することができる。
The linear light emitting sources Y 1 , Y 2 , ... Y n-1 , Y n
Optical scanning is performed by sequentially emitting light from Y 1 to Y n ,
Correspondingly, an electric signal is sent to the linear electrodes X 1 , X 2 , ... X.
It is applied to m-1 and X m . Linear light source Y 1 , Y 2 , ... Y
While n-1 and Y n are emitting light, the optical switching element on the linear light emitting source is turned on, so that the linear electrodes X 1 and X
2 , ... Electric signals from X m-1 and X m are picture element electrodes 4 respectively
Applied to. That is, the display area constituted by j common linear electrodes is set as one unit block, and each block is selected by the linear light emitting source. As a result, the duty ratio (l
/ j) can drive (jxm) scan lines.

【0046】このように上述の実施例によれば一般的な
単純マトリクス駆動型液晶表示装置に比べ、必要最小限
のドライバ数で高コントラスト及び大容量の表示が可能
となる。加えて液晶用に作られた水平方向の溝の壁が液
晶の画面下方への降下を拒み、セルギャップを均一にす
ることが可能なので、画面上において均一な表示ができ
る。本実施例では光アドレス方式駆動型LCD を示した
が、一般的な単純マトリクス型LCD においてもセルギャ
ップを均一にする効果は同じである。
As described above, according to the above-described embodiment, it is possible to display with high contrast and large capacity with the minimum required number of drivers as compared with a general simple matrix drive type liquid crystal display device. In addition, the wall of the horizontal groove made for the liquid crystal can prevent the liquid crystal from descending to the lower side of the screen and make the cell gap uniform, so that a uniform display can be made on the screen. In this embodiment, an optical address drive type LCD is shown, but the effect of making the cell gap uniform is the same in a general simple matrix type LCD.

【0047】[0047]

【発明の効果】貼り合わせ後の基板に複数の液晶用の溝
が画面水平方向に形成されているので液晶が自重によっ
て下方に降りないように壁が形成され液晶のセルギャッ
プを保証し得、画面全体にわたり均一な表示を行い得
る。
EFFECTS OF THE INVENTION Since a plurality of liquid crystal grooves are formed in the screen horizontal direction on the substrates after bonding, a wall is formed so that the liquid crystal does not descend downward due to its own weight, and the cell gap of the liquid crystal can be guaranteed. A uniform display can be provided over the entire screen.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の液晶表示装置の実施例の概略平面図で
ある。
FIG. 1 is a schematic plan view of an embodiment of a liquid crystal display device of the present invention.

【図2】本発明の液晶表示装置の実施例の概略斜視図で
ある。
FIG. 2 is a schematic perspective view of an embodiment of the liquid crystal display device of the present invention.

【図3】図1のD−D線の概略断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view taken along the line DD of FIG.

【図4】図1のE−E線の概略断面図である。FIG. 4 is a schematic sectional view taken along line EE of FIG.

【図5】図1のF−F線の概略断面図である。5 is a schematic cross-sectional view taken along the line FF of FIG.

【図6】ガラス基板のパタ−ン図である。FIG. 6 is a pattern diagram of a glass substrate.

【図7】光の導波路作成方法を説明する図である。FIG. 7 is a diagram illustrating a method of creating an optical waveguide.

【図8】他のガラス基板のパタ−ン図である。FIG. 8 is a pattern diagram of another glass substrate.

【図9】他のガラス基板の作成方法を説明する図であ
る。
FIG. 9 is a diagram illustrating another method for producing a glass substrate.

【図10】光走査型液晶表示装置の貼り合わせを説明す
る図である。
FIG. 10 is a diagram illustrating the bonding of the optical scanning liquid crystal display device.

【図11】本発明の液晶表示装置の他の実施例の概略平
面図である。
FIG. 11 is a schematic plan view of another embodiment of the liquid crystal display device of the present invention.

【図12】図11のG−G線の断面図である。12 is a cross-sectional view taken along the line GG of FIG.

【図13】一般的な光走査型液晶表示装置の概略平面図
である。
FIG. 13 is a schematic plan view of a general optical scanning liquid crystal display device.

【図14】図13のA−A線の断面図である。14 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.

【図15】一般的な光走査型液晶表示装置の概略斜視図
である。
FIG. 15 is a schematic perspective view of a general optical scanning liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 発光源 2 光導波路 3 光導電体 4 絵素電極 5a、5b 基板 6 透明電極 7 シ−ル剤 8 液晶層 9a、9b 配向層 10、11 遮光層 12 クラッド部 13 コア部 14 スペ−サ C1 ,C2 、…Ck-1 、Ck 共通電極 X1 、X2 …Xm-1 、Xm 線状電極 Y1 、Y2 …Yn-1 、Yn 線状発光源 Z 光ファイバDESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Light emission source 2 Optical waveguide 3 Photoconductor 4 Picture element electrode 5a, 5b Substrate 6 Transparent electrode 7 Sealing agent 8 Liquid crystal layer 9a, 9b Alignment layer 10, 11 Light shielding layer 12 Cladding part 13 Core part 14 Spacer C 1 , C 2 , ... C k-1 , C k common electrode X 1 , X 2 ... X m-1 , X m linear electrode Y 1 , Y 2 ... Y n-1 , Y n linear emission source Z light fiber

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 夫々が電極を有する2つの基板と、該基
板の間に配置されており印加される信号により層の各絵
素が駆動されるように構成された液晶と、貼り合わせ後
の前記基板に画面水平方向に形成された複数の液晶用の
溝とを含むことを特徴とする大画面用の液晶表示装置。
1. Two substrates, each having an electrode, a liquid crystal disposed between the substrates and configured so that each pixel of the layer is driven by an applied signal, and after bonding A liquid crystal display device for a large screen, comprising a plurality of liquid crystal grooves formed on the substrate in a horizontal direction of the screen.
【請求項2】 前記基板が、互いに並列に配列された複
数の線状発光源と、該複数の線状発光源と交差する方向
に互いに並列に配列された複数の線状電極と、前記複数
の線状発光源及び前記複数の線状電極が交差する位置に
隣接して前記複数の線状電極と同一基板上に形成されて
いる複数の絵素電極と該複数の線状電極との間に夫々設
けられ、前記複数の線状発光源からの光によりスイッチ
ング動作する複数の光導電体層とを備えており、前記線
状電極及び前記光導電体層を介して印加される信号によ
り液晶の各絵素が駆動されるように構成されていること
を特徴とする請求項1に記載の大画面用の液晶表示装
置。
2. The substrate includes a plurality of linear light emitting sources arranged in parallel with each other, a plurality of linear electrodes arranged in parallel with each other in a direction intersecting the plurality of linear light emitting sources, and the plurality of linear electrodes. Between a plurality of pixel electrodes formed on the same substrate as the plurality of linear electrodes adjacent to a position where the linear light emitting source and the plurality of linear electrodes intersect with each other, and And a plurality of photoconductor layers each of which is switched by light from the plurality of linear light emitting sources, and a liquid crystal is applied by a signal applied through the linear electrodes and the photoconductor layer. 2. The liquid crystal display device for a large screen according to claim 1, wherein each of the picture elements is driven.
【請求項3】 前記複数の光導電体層と前記複数の絵素
電極とで構成される光スイッチ部がプレナ−構造である
ことを特徴とする請求項2に記載の大画面用の液晶表示
装置。
3. A liquid crystal display for a large screen according to claim 2, wherein the optical switch section composed of the plurality of photoconductor layers and the plurality of pixel electrodes has a planar structure. apparatus.
【請求項4】 前記複数の光導電体層と前記複数の絵素
電極と前記複数の線状電極とで構成される光スイッチ部
がサンドイッチ構造であることを特徴とする請求項2に
記載の大画面用の液晶表示装置。
4. The optical switch section composed of the plurality of photoconductor layers, the plurality of picture element electrodes, and the plurality of linear electrodes has a sandwich structure. Liquid crystal display device for large screens.
【請求項5】 駆動方法が、アクティブマトリクス駆動
であることを特徴とする請求項2に記載の大画面用の液
晶表示装置。
5. The liquid crystal display device for a large screen according to claim 2, wherein the driving method is active matrix driving.
【請求項6】 駆動方法が、単純マトリクス駆動である
ことを特徴とする請求項2に記載の大画面用の液晶表示
装置。
6. The liquid crystal display device for a large screen according to claim 2, wherein the driving method is simple matrix driving.
【請求項7】 前記複数の線状発光源が、発光ダイオ−
ドアレイであることを特徴とする請求項2に記載の大画
面用の液晶表示装置。
7. The light emitting diode comprises a plurality of linear light emitting sources.
The liquid crystal display device for a large screen according to claim 2, wherein the liquid crystal display device is a dry array.
【請求項8】 前記複数の線状発光源が、レ−ザダイオ
−ドアレイであることを特徴とする請求項2に記載の大
画面用の液晶表示装置。
8. The liquid crystal display device for a large screen according to claim 2, wherein the plurality of linear light emitting sources are laser diode arrays.
【請求項9】 前記複数の液晶用の溝の一部が光導波路
材で構成されていることを特徴とする請求項2に記載の
大画面用の液晶表示装置。
9. The liquid crystal display device for a large screen according to claim 2, wherein a part of the plurality of liquid crystal grooves is formed of an optical waveguide material.
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