JPH0616664A - Herbicidal oxazoline compound - Google Patents

Herbicidal oxazoline compound

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JPH0616664A
JPH0616664A JP4174098A JP17409892A JPH0616664A JP H0616664 A JPH0616664 A JP H0616664A JP 4174098 A JP4174098 A JP 4174098A JP 17409892 A JP17409892 A JP 17409892A JP H0616664 A JPH0616664 A JP H0616664A
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JP
Japan
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compound
group
reaction
usually
solvent
Prior art date
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Pending
Application number
JP4174098A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Sato
佐藤  一雄
Noriaki Kudo
法明 工藤
Toyokuni Honma
豊邦 本間
Takeshi Endo
猛 遠藤
Masahiro Shindo
正宏 新藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sankyo Co Ltd
Original Assignee
Sankyo Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0616664A publication Critical patent/JPH0616664A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain a new compound useful as a herbicide. CONSTITUTION:The compound of formula I {X is H or Cl; Y is Cl or F; R is H or lower alkyl; A-B is N(R<1>)-(C=O) [R<1> is H, (substituted) lower alkyl, benzyl, etc.] or CH(-W<1>)-CH2 (W<1> is t-butyldimethylsilyloxy or OH) or C(=W<2>)-CH2 (W<2> is O or N-OCH3)} such as 5-t-butyl-3-(2H-7-fluoro-4- methoxymethyl-3,4-dihydro-1,4-benzoxazin-3-one-6-yl)-4-oxazolin-2-one. The compound of formula I is obtained by condensing a carbamate compound of formula II {Aa-B is N(R<1a>)-(C=O) [R<1a> is (substituted) lower alkyl, benzyl, etc.],etc.} with alpha-bromopinacolin optionally in the presence of a solvent by using a base.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、強力な除草作用を示す
新規なオキサゾリン誘導体、詳しくは4−オキサゾリン
−2−オン誘導体及び該化合物を有効成分とする除草剤
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel oxazoline derivative having a strong herbicidal action, specifically a 4-oxazoline-2-one derivative and a herbicide containing the compound as an active ingredient.

【0002】[0002]

【従来の技術】これまで、4−オキサゾリン−2−オン
誘導体としては、特許公開公報昭62−42976号に
一般式
2. Description of the Prior Art As a 4-oxazoline-2-one derivative, a general formula has been disclosed in Japanese Patent Laid-Open Publication No. 62-42976.

【0003】[0003]

【化2】 [Chemical 2]

【0004】を有する化合物が記載され、また、上記公
報には4−オキサゾリン−2−オン誘導体の製造方法が
記載されている。
[0004] A compound having ## STR1 ## is also described, and the above publication describes a method for producing a 4-oxazoline-2-one derivative.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記公報中、
オキサゾリン環5位の置換基R2 についてはメチル基、
エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、クロロメ
チル基の実施例が示されており、3位の置換基R3 につ
いては置換基を有しても良いフェニル基が示されている
のみであり、さらに、効果において除草活性のあること
が記載されているが、後記試験例で示す様に、その活性
は低量施用時において十分ではない。
However, in the above publication,
The substituent R 2 at the 5-position of the oxazoline ring is a methyl group,
Examples of ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, and chloromethyl group are shown, and a phenyl group which may have a substituent is shown for the substituent R 3 at the 3-position. Furthermore, although it is described that the herbicidal activity is effective, the activity is not sufficient when a low dose is applied, as shown in the test examples below.

【0006】本発明者らはオキサゾリン誘導体の合成と
その除草活性について永年に亘り鋭意研究を行なった結
果、既知のものとは構造を異にする新規なオキサゾリン
誘導体が優れた除草活性を有することを見い出し、本発
明を完成した。
The present inventors have conducted extensive research on the synthesis of oxazoline derivatives and their herbicidal activity for many years, and as a result, found that a novel oxazoline derivative having a structure different from that of a known one has excellent herbicidal activity. Found and completed the present invention.

【0007】[0007]

【発明の構成】[Constitution of the invention]

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、一般式(I)The present invention has the general formula (I)

【0009】[0009]

【化3】 [Chemical 3]

【0010】[式中、Xは、水素原子又は塩素原子を示
し、Yは塩素原子又は弗素原子を示し、Rは、水素原子
又は低級アルキル基を示し、A−Bは、N(R1 )−
(C=O)基、CH(−W1 )−CH2 基又はC(=W
2 )−CH2 基(式中、R1 は、水素原子、低級アルコ
キシ基若しくは低級アルコキシ低級アルコキシ基で置換
されても良い低級アルキル基、低級アルキニル基、ベン
ジル基又はp-メトキシベンジル基を示し、W1 は、t-ブ
チルジメチルシリルオキシ基、水酸基を示し、W2は、
酸素原子又はN−OCH3 基を示す。)を示す。]で表
される化合物及び、該化合物を有効成分とする除草剤で
ある。
[Wherein, X represents a hydrogen atom or a chlorine atom, Y represents a chlorine atom or a fluorine atom, R represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, and AB represents N (R 1 ). −
(C = O) group, CH (-W 1) -CH 2 group or C (= W
2 ) —CH 2 group (wherein R 1 represents a hydrogen atom, a lower alkoxy group or a lower alkyl group which may be substituted with a lower alkoxy lower alkoxy group, a lower alkynyl group, a benzyl group or a p-methoxybenzyl group) , W 1 represents a t-butyldimethylsilyloxy group or a hydroxyl group, and W 2 represents
An oxygen atom or N-OCH 3 groups. ) Is shown. ] And a herbicide containing the compound as an active ingredient.

【0011】上記において、R及びR1 の定義における
「低級アルキル基」とは、例えばメチル、エチル、n−
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、s−ブ
チル、t−ブチルのような、炭素数1乃至4個の直鎖又
は分枝鎖アルキル基であり、好適には、メチル基又はエ
チル基である。
In the above, "lower alkyl group" in the definition of R and R 1 is, for example, methyl, ethyl, n-
It is a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, preferably a methyl group or an ethyl group.

【0012】上記において、R1 の定義における「低級
アルキニル基」とは、エチニル、2−プロピニル、1−
メチル−2−プロピニル、2−ブチニル、3−ブチニル
のような、炭素数2乃至4の直鎖又は分枝鎖アルキニル
基である。
In the above, the "lower alkynyl group" in the definition of R 1 is ethynyl, 2-propynyl, 1-
It is a linear or branched alkynyl group having 2 to 4 carbon atoms such as methyl-2-propynyl, 2-butynyl and 3-butynyl.

【0013】上記において、R1 の定義における「低級
アルコキシ基」とは、例えば、メトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、
s−ブトキシのような、前記「低級アルキル基」が酸素
原子に結合した、炭素数1乃至4の直鎖又は分枝鎖アル
コキシ基であり、好適には炭素数1乃至2の直鎖アルコ
キシ基である。
In the above, the "lower alkoxy group" in the definition of R 1 is, for example, methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, isobutoxy,
A straight-chain or branched-chain alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms in which the above-mentioned "lower alkyl group" is bonded to an oxygen atom, such as s-butoxy, and preferably a straight-chain alkoxy group having 1 to 2 carbon atoms. Is.

【0014】上記において、R1 の定義における「低級
アルコキシ低級アルコキシ基」とは、例えば、メトキシ
メトキシ、エトキシメトキシ、(2−メトキシ)エトキ
シ、n−プロポキシメトキシ、イソプロポキシメトキ
シ、(2−エトキシ)エトキシ、(3−メトキシ)プロ
ポキシ、(2−メトキシ−1−メチル)エトキシ、(2
−メトキシ)プロポキシのような、炭素数の総数が2乃
至4個の低級アルコキシ低級アルコキシ基である。
In the above, the "lower alkoxy lower alkoxy group" in the definition of R 1 is, for example, methoxymethoxy, ethoxymethoxy, (2-methoxy) ethoxy, n-propoxymethoxy, isopropoxymethoxy, (2-ethoxy). Ethoxy, (3-methoxy) propoxy, (2-methoxy-1-methyl) ethoxy, (2
A lower alkoxy lower alkoxy group having a total of 2 to 4 carbon atoms, such as -methoxy) propoxy.

【0015】基で置換されても良い低級アルキル基又は
低級アルキニル基であり、更に好適には、メチル基、エ
チル基、メトキシメチル基、2−プロピニル基であり、
最も好適には、2−プロピニル基である。
A lower alkyl group or a lower alkynyl group which may be substituted with a group, more preferably a methyl group, an ethyl group, a methoxymethyl group or a 2-propynyl group,
Most preferably, it is a 2-propynyl group.

【0016】本発明化合物のうち、分子内にオキシム結
合が存在する場合、そのオキシム結合に関して、相対配
置の異なる異性体が存在しうる。一般的にそれらの化合
物の物理化学的性状が異なる場合があり、後記の表1に
おいて、記載の化合物がそのような場合には、「異性体
A」又は「異性体B」と記載する。
When an oxime bond is present in the molecule of the compound of the present invention, isomers having different relative configurations with respect to the oxime bond may exist. In general, the physicochemical properties of these compounds may differ, and in Table 1 below, when such a compound is mentioned, it is described as "isomer A" or "isomer B".

【0017】以下、表1に、本発明の化合物を化合物番
号とともに例示するが、本発明はこれらの化合物に限定
されるものではない。
Hereinafter, the compounds of the present invention are shown in Table 1 together with the compound numbers, but the present invention is not limited to these compounds.

【0018】表1において、Prg は2−プロピニル基
を、MEM は(2−メトキシ)エトキシメチル基を、MOM
はメトキシメトキシ基を、TBDMS はt−ブチルジメチル
シリル基を、Bzはベンジル基を、PMB はp-メトキシベン
ジル基を、それぞれ示す。
In Table 1, Prg represents a 2-propynyl group, MEM represents a (2-methoxy) ethoxymethyl group, and MOM.
Represents a methoxymethoxy group, TBDMS represents a t-butyldimethylsilyl group, Bz represents a benzyl group, and PMB represents a p-methoxybenzyl group.

【0019】[0019]

【表1】[Table 1]

【0020】[0020]

【化4】 [Chemical 4]

【0021】 ──────────────────────────────────── 化合物番号 X Y R A-B 融点 (℃) ──────────────────────────────────── 1 Cl F H NH-C(=O) オイル 2 Cl F H N(CH3)-C(=O) 90〜95 3 Cl F H N(C2H5)-C(=O) 185 〜190 4 Cl F H N(C3H7)-C(=O) 5 Cl F H N(i-C3H7)-C(=O) 142 〜145 6 H F H N(Prg)-C(=O) 7 Cl F H N(Prg)-C(=O) オイル 8 Cl Cl H N(Prg)-C(=O) 9 Cl F H N(MEM)-C(=O) 90〜93 10 H F H N(MOM)-C(=O) オイル 11 Cl Cl H N(MOM)-C(=O) 12 Cl F H N(MOM)-C(=O) 120 〜122 13 Cl F CH3 N(MOM)-C(=O) 14 Cl F CH3 N(Prg)-C(=O) 15 Cl F C2H5 N(Prg)-C(=O) 16 Cl Cl CH3 N(Prg)-C(=O) 17 Cl F CH3 N(C2H5)-C(=O) 170 〜175 18 Cl F H N(Bz)-C(=O) 19 Cl F H N(PMB)-C(=O) オイル 20 H F H CH(OTBDMS)-CH2 117 〜119 21 Cl F H CH(OTBDMS)-CH2 オイル 22 Cl F H CH(OH)-CH2 オイル 23 Cl F H C(=O)-CH2 150 〜156 24 Cl F H C(=N-OCH3)-CH2 99〜106 (異性体A) 25 Cl F H C(=N-OCH3)-CH2 33〜35 (異性体B) ──────────────────────────────────── 表1のうち、物性の欄に融点又は「オイル」が示されて
いる化合物のNMR スペクトルとマススペクトル(MS)を以
下に示す。
──────────────────────────────────── Compound No. XYR AB Melting point (℃) ─── ───────────────────────────────── 1 Cl FH NH-C (= O) Oil 2 Cl FHN (CH 3 ) -C (= O) 90 to 95 3 Cl FHN (C 2 H 5 ) -C (= O) 185 to 190 4 Cl FHN (C 3 H 7 ) -C (= O) 5 Cl FHN (iC 3 H 7 ) -C (= O) 142 ~ 145 6 HFHN (Prg) -C (= O) 7 Cl FHN (Prg) -C (= O) Oil 8 Cl Cl HN (Prg) -C (= O) 9 Cl FHN (MEM) -C (= O) 90 ~ 93 10 HFHN (MOM) -C (= O) Oil 11 Cl Cl HN (MOM) -C (= O) 12 Cl FHN (MOM) -C (= O) 120 to 122 13 Cl F CH 3 N (MOM) -C (= O) 14 Cl F CH 3 N (Prg) -C (= O) 15 Cl FC 2 H 5 N (Prg) -C (= O) 16 Cl Cl CH 3 N (Prg) -C (= O) 17 Cl F CH 3 N (C 2 H 5 ) -C (= O) 170 to 175 18 Cl FHN (Bz) -C (= O) 19 Cl FHN (PMB) -C (= O) Oil 20 HFH CH (OTBDMS) -CH 2 117 to 119 21 Cl FH CH (OTBDMS) -CH 2 Oil 22 Cl FH CH (OH) -CH 2 Oil 23 Cl FHC (= O ) -CH 2 150 to 156 24 Cl FHC (= N-OCH 3 ) -CH 2 99 to 106 (isomer A) 25 Cl FH C (= N-OCH 3 ) -CH 2 33 to 35 (isomer B) ──────────────────────────────── —————————————————————————————————————————————————————— In In In Table 1 below, the NMR spectra and mass spectra (MS) of compounds whose melting point or “oil” are indicated in the physical properties column are shown below.

【0022】化合物番号11 H-NMR(CDCl3,200MHz)δ;9.49(1H,brs),6.88(1H,d,J=7.
0Hz),6.85(1H,d,J=9.8Hz),4.63(2H,s),1.36(9H,s) MS(m/z);340(M+),325(M+-Me),149,83(base),55 化合物番号21 H-NMR(CDCl3,200MHz)δ;6.94(1H,d,J=3.1Hz),6.90(1H,
d,J=5.9Hz),4.69(2H,s),3.38(3H,s),1.37(9H,s) MS(m/z);354(M+),339(base,M+-Me),295,57 化合物番号31 H-NMR(CDCl3,200MHz)δ;6.93(1H,d,J=4.6Hz),6.89(1H,
d,J=7.4Hz),4.65(2H,s),3.97(2H,dq,J=7.2,2.6Hz),1.37
(9H,s),1.28(3H,t,J=7.2Hz) MS(m/z);368(M+),353(base,M+-Me),309,57 化合物番号51 H-NMR(CDCl3,200MHz)δ;7.08(1H,d,J=7.0Hz),6.91(1H,
d,J=9.6Hz),4.68(1H,heptet,J=7.0Hz),4.55(2H,s),1.54
(6H,d,J=7.0Hz),1.37(9H,s) MS(m/z);382(M+),367(base,M+-Me),325,57 化合物番号71 H-NMR(CDCl3,200MHz)δ;7.15(1H,d,J=6.9Hz),6.93(1H,
d,J=9.6Hz),4.83(1H,dd,J=18.0,2.3Hz),4.71(2H,s),4.5
6(1H,dd,J=18.0,2.3Hz),2.32(1H,t,J=2.3Hz),1.37(9H,
s) MS(m/z);378(M+),363(base,M+-Me),319,55 化合物番号91 H-NMR(CDCl3,200MHz)δ;7.37(1H,d,J=7.2Hz),6.90(1H,
d,J=9.6Hz),5.40(2H,brs),4.69(2H,s),3.73 〜3.78(2H,
m),3.51 〜3.56(2H,m),3.56(3H,s),1.38(9H,s)MS(m/z)
δ;428(M+),413(M+-Me),69,57(base) 化合物番号101 H-NMR(CDCl3,200MHz)δ;7.50(1H,d,J=7.5Hz),6.86(1H,
d,J=10.6Hz),6.34(1H,d,J=2.3Hz),5.28(2H,s),4.64 (2
H,s),3.38 (3H,t,J=2.8Hz),1.23(9H,s) 化合物番号121 H-NMR(CDCl3,200MHz)δ;7.28(1H,d,J=6.7Hz),6.90(1H,
d,J=9.7Hz),5.29(2H,s),4.69(2H,s),3.41(3H,s),1.36(9
H,s) MS(m/z);384(M+),369(base,M+-Me),325,55 化合物番号171 H-NMR(CDCl3,200MHz)δ;6.93(1H,d,J=1.3Hz),6.88(1H,
d,J=4.2Hz),4.68(1H,m),3.96(2H,brq,J=7.2Hz),1.55 〜
1.62(3H,m),1.37(9H,s),1.27(3H,t,J=7.2Hz) MS(m/z);382(M+),367(base,M+-Me),57 化合物番号191 H-NMR(CDCl3,200MHz)δ;7.19(2H,d,J=8.8Hz),6.84〜6.
92(4H,m),5.27(1H,d,J=16.9Hz),4.90(1H,d,J=16.9Hz),
4.76(2H,s),3.78(3H,s),1.34(9H,s) MS(m/z);460(M+),445(M+-Me),122(base) 化合物番号201 H-NMR(CDCl3,200MHz)δ;7.40(1H,d,J=8.6Hz),6.63(1H,
d,J=11.9Hz),6.30(1H,d,J=2.5Hz),4.77(1H,t,J=4.4Hz),
4.19〜4.42(2H,m),1.88 〜2.12(2H,m),1.23(9H,s),0.90
(9H,s),0.16(3H,s),0.15(3H,s) MS(m/z);421(M+),364(base),336 化合物番号211 H-NMR(CDCl3,200MHz)δ;7.14(1H,d,J=8.0Hz),6.67(1H,
d,J=10.9Hz),4.76(1H,t,J=4.2Hz),4.20 〜4.45(2H,m),
1.91 〜2.12(2H,m),1.36(9H,s),0.89(9H,s),0.16(3H,
s),0.13(3H,s) MS(m/z);491(M+),476,456,434,406 化合物番号221 H-NMR(200MHz,CDCl3)δ;7.31(1H,d,J=8.3Hz),6.66(1H,
d,J=11.0Hz),4.72(1H,brs),4.27(2H,brs),3.16(1H,br
s),2.04(2H,brs),1.34(9H,s) MS(m/z);341(M+),326(base,M+-Me),142 化合物番号231 H-NMR(200MHz,CDCl3)δ;7.94(1H,d,J=8.5Hz),6.86(1H,
d,J=10.3Hz),4.62(2H,t,J=6.4Hz),2.85(2H,t,J=6.4Hz),
1.36(9H,s) MS(m/z);339(M+),324(base,M+-Me),280,162,57 化合物番号241 H-NMR(200MHz,CDCl3)δ;7.92(1H,d,J=8.5Hz),6.76(1H,
d,J=10.4Hz),4.26(2H,t,J=6.0Hz),3.96(3H,s),2.90(2H,
t,J=6.0Hz),1.36(9H,s) MS(m/z);368(M+),353(base,M+-Me),250,57 化合物番号251 H-NMR(200MHz,CDCl3)δ;8.61(1H,d,J=8.8Hz),6.77(1H,
d,J=10.7Hz),4.41(2H,t,J=5.8Hz),4.00(3H,s),2.73(2H,
t,J=5.8Hz),1.37(9H,s) MS(m/z);368(M+),353(base,M+-Me),250,57 本発明の一般式(I)の化合物は、以下に示す工程Aか
ら工程Hの各工程により製造される。
Compound No. 1 1 H-NMR (CDCl 3 , 200 MHz) δ; 9.49 (1H, brs), 6.88 (1H, d, J = 7.
0Hz), 6.85 (1H, d, J = 9.8Hz), 4.63 (2H, s), 1.36 (9H, s) MS (m / z); 340 (M + ), 325 (M + -Me), 149 , 83 (base), 55 Compound No. 2 1 H-NMR (CDCl 3 , 200MHz) δ; 6.94 (1H, d, J = 3.1Hz), 6.90 (1H,
d, J = 5.9Hz), 4.69 (2H, s), 3.38 (3H, s), 1.37 (9H, s) MS (m / z); 354 (M + ), 339 (base, M + -Me) , 295,57 Compound No. 3 1 H-NMR (CDCl 3 , 200MHz) δ; 6.93 (1H, d, J = 4.6Hz), 6.89 (1H,
d, J = 7.4Hz), 4.65 (2H, s), 3.97 (2H, dq, J = 7.2,2.6Hz), 1.37
(9H, s), 1.28 (3H, t, J = 7.2Hz) MS (m / z); 368 (M + ), 353 (base, M + -Me), 309,57 Compound No. 5 1 H-NMR (CDCl 3 , 200MHz) δ; 7.08 (1H, d, J = 7.0Hz), 6.91 (1H,
d, J = 9.6Hz), 4.68 (1H, heptet, J = 7.0Hz), 4.55 (2H, s), 1.54
(6H, d, J = 7.0Hz), 1.37 (9H, s) MS (m / z); 382 (M + ), 367 (base, M + -Me), 325,57 Compound No. 7 1 H-NMR (CDCl 3 , 200MHz) δ; 7.15 (1H, d, J = 6.9Hz), 6.93 (1H,
d, J = 9.6Hz), 4.83 (1H, dd, J = 18.0,2.3Hz), 4.71 (2H, s), 4.5
6 (1H, dd, J = 18.0,2.3Hz), 2.32 (1H, t, J = 2.3Hz), 1.37 (9H,
s) MS (m / z); 378 (M + ), 363 (base, M + -Me), 319,55 Compound No. 9 1 H-NMR (CDCl 3 , 200 MHz) δ; 7.37 (1H, d, J = 7.2Hz), 6.90 (1H,
d, J = 9.6Hz), 5.40 (2H, brs), 4.69 (2H, s), 3.73 ~ 3.78 (2H,
m), 3.51 ~ 3.56 (2H, m), 3.56 (3H, s), 1.38 (9H, s) MS (m / z)
δ; 428 (M + ), 413 (M + -Me), 69, 57 (base) Compound number 10 1 H-NMR (CDCl 3 , 200 MHz) δ; 7.50 (1 H, d, J = 7.5 Hz), 6.86 (1H,
d, J = 10.6Hz), 6.34 (1H, d, J = 2.3Hz), 5.28 (2H, s), 4.64 (2
H, s), 3.38 (3H, t, J = 2.8Hz), 1.23 (9H, s) Compound No. 12 1 H-NMR (CDCl 3 , 200MHz) δ; 7.28 (1H, d, J = 6.7Hz), 6.90 (1H,
d, J = 9.7Hz), 5.29 (2H, s), 4.69 (2H, s), 3.41 (3H, s), 1.36 (9
H, s) MS (m / z); 384 (M + ), 369 (base, M + -Me), 325,55 Compound No. 17 1 H-NMR (CDCl 3 , 200 MHz) δ; 6.93 (1H, d , J = 1.3Hz), 6.88 (1H,
d, J = 4.2Hz), 4.68 (1H, m), 3.96 (2H, brq, J = 7.2Hz), 1.55〜
1.62 (3H, m), 1.37 (9H, s), 1.27 (3H, t, J = 7.2Hz) MS (m / z); 382 (M + ), 367 (base, M + -Me), 57 compounds No. 19 1 H-NMR (CDCl 3 , 200 MHz) δ; 7.19 (2H, d, J = 8.8Hz), 6.84 to 6.
92 (4H, m), 5.27 (1H, d, J = 16.9Hz), 4.90 (1H, d, J = 16.9Hz),
4.76 (2H, s), 3.78 (3H, s), 1.34 (9H, s) MS (m / z); 460 (M + ), 445 (M + -Me), 122 (base) Compound No. 20 1 H -NMR (CDCl 3 , 200MHz) δ; 7.40 (1H, d, J = 8.6Hz), 6.63 (1H,
d, J = 11.9Hz), 6.30 (1H, d, J = 2.5Hz), 4.77 (1H, t, J = 4.4Hz),
4.19 ~ 4.42 (2H, m), 1.88 ~ 2.12 (2H, m), 1.23 (9H, s), 0.90
(9H, s), 0.16 (3H, s), 0.15 (3H, s) MS (m / z); 421 (M + ), 364 (base), 336 Compound No. 21 1 H-NMR (CDCl 3 , 200MHz ) δ; 7.14 (1H, d, J = 8.0Hz), 6.67 (1H,
d, J = 10.9Hz), 4.76 (1H, t, J = 4.2Hz), 4.20 ~ 4.45 (2H, m),
1.91 ~ 2.12 (2H, m), 1.36 (9H, s), 0.89 (9H, s), 0.16 (3H,
s), 0.13 (3H, s) MS (m / z); 491 (M + ), 476,456,434,406 Compound No. 22 1 H-NMR (200MHz, CDCl 3 ) δ; 7.31 (1H, d, J = 8.3Hz), 6.66 (1H,
d, J = 11.0Hz), 4.72 (1H, brs), 4.27 (2H, brs), 3.16 (1H, br
s), 2.04 (2H, brs), 1.34 (9H, s) MS (m / z); 341 (M + ), 326 (base, M + -Me), 142 Compound No. 23 1 H-NMR (200MHz, CDCl 3 ) δ; 7.94 (1H, d, J = 8.5Hz), 6.86 (1H,
d, J = 10.3Hz), 4.62 (2H, t, J = 6.4Hz), 2.85 (2H, t, J = 6.4Hz),
1.36 (9H, s) MS (m / z); 339 (M + ), 324 (base, M + -Me), 280,162,57 Compound No. 24 1 H-NMR (200MHz, CDCl 3 ) δ; 7.92 (1H , d, J = 8.5Hz), 6.76 (1H,
d, J = 10.4Hz), 4.26 (2H, t, J = 6.0Hz), 3.96 (3H, s), 2.90 (2H,
t, J = 6.0Hz), 1.36 (9H, s) MS (m / z); 368 (M + ), 353 (base, M + -Me), 250,57 Compound No. 25 1 H-NMR (200MHz, CDCl 3 ) δ; 8.61 (1H, d, J = 8.8Hz), 6.77 (1H,
d, J = 10.7Hz), 4.41 (2H, t, J = 5.8Hz), 4.00 (3H, s), 2.73 (2H,
t, J = 5.8Hz), 1.37 (9H, s) MS (m / z); 368 (M + ), 353 (base, M + -Me), 250,57 Compounds of general formula (I) of the present invention Is manufactured by each of steps A to H shown below.

【0023】[0023]

【化5】 [Chemical 5]

【0024】[0024]

【化6】 [Chemical 6]

【0025】[上記式中、X、Y、Rは、前記と同意義
を示し、Aa −Bは、N(R1a)−(C=O)又はCH
(OTBDMS)−CH2 (式中、R1aは、低級アルコ
キシ基若しくは低級アルコキシ低級アルコキシ基で置換
されてもよい低級アルキル基、低級アルキニル基、ベン
ジル基又はp-メトキシベンジル基を示し、TBDMS
は、t-ブチルジメチルシリル基を示す。)を示す。]以
下、上記一般的製造法について更に詳しく説明する。
[In the above formula, X, Y and R have the same meanings as described above, and A a -B is N (R 1a )-(C = O) or CH.
(OTBDMS) -CH 2 (wherein R 1a represents a lower alkyl group which may be substituted with a lower alkoxy group or a lower alkoxy lower alkoxy group, a lower alkynyl group, a benzyl group or a p-methoxybenzyl group, and TBDMS
Represents a t-butyldimethylsilyl group. ) Is shown. ] The general manufacturing method will be described in more detail below.

【0026】(工程A)本工程は、カーバメート化合物
(IIa)とα−ブロモピナコリンとを、溶媒の存在下
又は非存在下、塩基を用い縮合することにより、一般式
(Ia)の4−オキサゾリン−2−オン誘導体を製造す
る工程である。
(Step A) In this step, the carbamate compound (IIa) and α-bromopinacholine are condensed with a base in the presence or absence of a solvent to give a compound of formula (Ia) It is a step of producing an oxazolin-2-one derivative.

【0027】本工程で用いられる塩基としては、例え
ば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジエチルイ
ソプロピルアミン、ピリジン、1,4−ジアザビシクロ
[2,2,2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ
[5,4,0]−7−ウンデセンのような有機三級アミ
ン類、水素化ナトリウム、水素カルシウム、ナトリウ
ム、リチウム、n−ブチルリチウム、リチウムジイソプ
ロピルアミド、リチウムビス(トリメチルシリル)アミ
ド、ナトリウムメトキシド、t−ブトキシカリなどのア
ルカリ金属塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基であり、
好適には、水素化ナトリウム、リチウムビス(トリメチ
ルシリル)アミド等のアルカリ金属塩基である。
Examples of the base used in this step include triethylamine, tributylamine, diethylisopropylamine, pyridine, 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octane, 1,8-diazabicyclo [5,4,0]. ] Organic tertiary amines such as -7-undecene, sodium hydride, calcium hydrogen, sodium, lithium, n-butyllithium, lithium diisopropylamide, lithium bis (trimethylsilyl) amide, sodium methoxide, t-butoxy potassium and the like. Alkali metal base, sodium hydroxide, potassium hydroxide,
An inorganic base such as sodium carbonate, potassium carbonate,
Preferred are alkali metal bases such as sodium hydride and lithium bis (trimethylsilyl) amide.

【0028】塩基の使用量は、化合物(IIa)に対し
て通常2〜20倍当量、好適には2〜10倍当量であ
る。
The amount of the base used is usually 2 to 20 times equivalent, preferably 2 to 10 times equivalent to the compound (IIa).

【0029】反応は、好適には溶媒の存在下で行なわ
れ、使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をあ
る程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適に
は、ヘキサン、石油エーテル、ベンゼン、トルエンのよ
うな炭化水素類、クロロホルム、塩化メチレンのような
ハロゲン化炭化水素類、エチルエーテル、テトラヒドロ
フランのようなエーテル類、N,N−ジメチルホルムア
ミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシドのような
スルホキシド類及びアセトニトリルのようなニトリル類
並びにこれらの溶媒の混合物等であり、好適には、N,
N−ジメチルホルムアミドである。
The reaction is preferably carried out in the presence of a solvent, and the solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but preferably hexane is used. , Hydrocarbons such as petroleum ether, benzene and toluene, halogenated hydrocarbons such as chloroform and methylene chloride, ethers such as ethyl ether and tetrahydrofuran, amides such as N, N-dimethylformamide, dimethyl Sulfoxides such as sulfoxide, nitriles such as acetonitrile, and a mixture of these solvents, and the like, preferably N,
It is N-dimethylformamide.

【0030】反応温度は、通常、−70〜90℃であ
り、好適には20〜60℃である。反応時間は、主に反
応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の種
類によって異なるが、通常15分〜一昼夜であり、好適
には、15分〜4時間である。
The reaction temperature is usually -70 to 90 ° C, preferably 20 to 60 ° C. The reaction time varies depending mainly on the reaction temperature, the raw material compound, the reaction reagent or the type of solvent used, but is usually 15 minutes to one day and night, and preferably 15 minutes to 4 hours.

【0031】本工程の出発原料(IIa)のうち、Aa
−BがN(R1a)−(C=O)である化合物は、特開昭
61−30586号公報記載の方法に準じて製造された
6−アミノベンゾオキサジノン誘導体とクロル炭酸エチ
ルを、特開平2−42057号公報記載の方法に準じて
反応させることにより製造される。
Of the starting materials (IIa) used in this step, A a
A compound in which -B is N (R 1a )-(C═O) is a compound obtained by specially treating a 6-aminobenzoxazinone derivative and ethyl chlorocarbonate prepared according to the method described in JP-A-61-30586. It is produced by reacting according to the method described in Kaihei 2-42057.

【0032】又、化合物(IIa)のうち、Aa −Bが
CH(OTBDMS)−CH2 である化合物も、前記ア
ミノベンゾオキサジン誘導体と同様に、6−アミノクロ
マン誘導体とクロル炭酸エチルを、特開平2−4205
7号公報記載の方法に準じて反応させることにより製造
される。さらに、6−アミノクロマン誘導体、すなわ
ち、6−アミノ−4−t−ブチルジメチルシリルオキシ
クロマン誘導体は、特開平3−24076号公報記載の
化合物である6−ニトロクロマン−4−オン誘導体のケ
トンを、常法であるメタノール中での水素化ホウ素ナト
リウムで還元し、得られた4−アルコール体を、ジメチ
ルホルムアミド中、t−ブチルジメチルシリルクロリド
とイミダゾールを用いて、4−シリルエーテルとした
後、6位のニトロ基を、特開平3−20274号公報記
載の酢酸中鉄粉を用いる還元方法により容易に製造する
ことができる。
Also in the compound (IIa), the compound in which A a -B is CH (OTBDMS) -CH 2 has the same properties as the aminobenzoxazine derivative, that is, 6-aminochroman derivative and ethyl chlorocarbonate. Kaihei 2-4205
It is produced by reacting according to the method described in Japanese Patent Publication No. 7. Further, a 6-aminochroman derivative, that is, a 6-amino-4-t-butyldimethylsilyloxychroman derivative is a compound of 6-nitrochroman-4-one derivative described in JP-A-3-24076. After reduction with sodium borohydride in methanol, which is a conventional method, the obtained 4-alcohol compound was converted to 4-silyl ether using t-butyldimethylsilyl chloride and imidazole in dimethylformamide, The 6-position nitro group can be easily produced by the reduction method using iron powder in acetic acid described in JP-A-3-20274.

【0033】(工程B)本工程は、一般式(Ia)で表
される化合物を、溶媒の存在下、塩素ガスのような塩素
化剤と反応させることにより、本発明化合物の中間体で
あり後記工程Cの原料であるジクロロオキサゾリジン−
2−オン誘導体(IIIa)を製造する工程である。
(Step B) This step is an intermediate of the compound of the present invention by reacting the compound represented by the general formula (Ia) with a chlorinating agent such as chlorine gas in the presence of a solvent. Dichlorooxazolidine-a raw material of step C described later
It is a step of producing a 2-one derivative (IIIa).

【0034】本工程は、通常、化合物(Ia)の溶液に
塩素ガスを吹きこむことにより反応を行なう。
In this step, the reaction is usually carried out by blowing chlorine gas into the solution of compound (Ia).

【0035】塩素ガスの使用量は、化合物(Ia)に対
して通常1〜20倍当量、好適には2〜10倍当量であ
る。
The amount of chlorine gas used is usually 1 to 20 times equivalent, preferably 2 to 10 times equivalent to the compound (Ia).

【0036】使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発
物質をある程度溶解するものであれば特に限定はない
が、好適には、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレ
ンのようなハロゲン化炭化水素類である。
The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting materials to some extent, but preferably, a halogenated hydrocarbon such as carbon tetrachloride, chloroform or methylene chloride. It is a kind.

【0037】反応温度は通常、0〜100℃で行なわれ
るが、好適には室温付近である。反応時間は、主に反応
温度、原料化合物、反応試薬、塩素ガスを吹き込む速度
又は使用される溶媒の種類によって異なるが、通常1分
〜3時間であり、好適には3分〜30分である。
The reaction temperature is usually 0 to 100 ° C., preferably about room temperature. The reaction time varies depending mainly on the reaction temperature, the raw material compound, the reaction reagent, the rate at which chlorine gas is blown, or the type of solvent used, but is usually 1 minute to 3 hours, and preferably 3 minutes to 30 minutes. .

【0038】(工程C)本工程は、工程Bにより製造さ
れるジクロル体(IIIa)を、溶媒の存在下又は非存
在下、脱塩酸剤と共に混和することにより、本発明の化
合物である4−クロロ−4−オキサゾリン−2−オン誘
導体(Ib)を製造する工程である。
(Step C) In this step, the dichloro compound (IIIa) produced in step B is mixed with a dehydrochlorinating agent in the presence or absence of a solvent to give a compound of the present invention 4- It is a step of producing a chloro-4-oxazolin-2-one derivative (Ib).

【0039】使用される脱塩酸剤は、例えば、トリエチ
ルアミン、トリブチルアミン、ジエチルイソプロピルア
ミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、1,8
−ビス(ジメチルアミノ)ナフタレン、1,4−ジアザ
ビシクロ[5,4,0]オクタン、1,8−ジアザビシ
クロ[5,4,0]−7−ウンデセンのような有機アミ
ン類、水素化ナトリウム、水素化カルシウム、金属ナト
リウム、金属リチウム、n-ブチルリチウム、リチウムジ
イソプロピルアミド、リチウムビス(トリメチルシリ
ル)アミド、ナトリウムメトキシド、t-ブトキシカリウ
ムのようなアルカリ金属塩基類、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような
無機塩基類等であり、好適には、1,8−ジアザビシク
ロ[5,4,0]−7−ウンデセン、リチウムビス(ト
リメチルシリル)アミドであり、更に好適には1,8−
ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセンであ
る。
The dehydrochlorinating agent used is, for example, triethylamine, tributylamine, diethylisopropylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, 1,8.
-Organic amines such as bis (dimethylamino) naphthalene, 1,4-diazabicyclo [5,4,0] octane, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7-undecene, sodium hydride, hydrogen Alkali metal bases such as calcium oxide, metallic sodium, metallic lithium, n-butyllithium, lithium diisopropylamide, lithium bis (trimethylsilyl) amide, sodium methoxide, potassium t-butoxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, carbonic acid. Inorganic bases such as sodium and potassium carbonate, etc., preferably 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7-undecene, lithium bis (trimethylsilyl) amide, and more preferably 1, 8-
It is diazabicyclo [5,4,0] -7-undecene.

【0040】脱塩酸剤の使用量は、化合物(IIIa)
に対して通常1〜20倍当量、好適には2〜10倍当量
である。
The amount of the dehydrochlorination agent used is the same as that of the compound (IIIa).
It is usually 1 to 20 times equivalent, preferably 2 to 10 times equivalent.

【0041】反応は、好適には溶媒の存在下で行なわ
れ、使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物
質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、
好適には、ヘキサン、石油エーテル、ベンゼン、トルエ
ンのような炭化水素類、クロロホルム、塩化メチレンの
ようなハロゲン化炭化水素類、エチルエーテル、テトラ
ヒドロフランのようなエーテル類、N,N−ジメチルホ
ルムアミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシドの
ようなスルホキシド類及びアセトニトリルのようなニト
リル類並びにこれらの溶媒の混合物であり、更に好適に
はN,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ドであり、より更に好適にはジメチルスルホキシドであ
る。
The reaction is preferably carried out in the presence of a solvent, and the solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting materials to some extent.
Preferred are hydrocarbons such as hexane, petroleum ether, benzene and toluene, halogenated hydrocarbons such as chloroform and methylene chloride, ethers such as ethyl ether and tetrahydrofuran, N, N-dimethylformamide and the like. Amides, sulfoxides such as dimethylsulfoxide, nitriles such as acetonitrile, and mixtures of these solvents, more preferably N, N-dimethylformamide and dimethylsulfoxide, and even more preferably dimethylsulfoxide. Is.

【0042】反応温度は、通常、−70〜90℃である
が、好適には0〜50℃である。反応時間は、主に反応
温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の種類
によって異なるが、通常、15分〜一昼夜であり、好適
には30分〜6時間である。 (工程D)本工程は、化合物(Ia' )又は(Ib'
のメトキシメチル基で保護されたアミド基を、溶媒の存
在下又は非存在下、脱保護剤と反応させることにより、
本発明化合物であるアミド体(Ic)を製造する工程で
ある。
The reaction temperature is usually -70 to 90 ° C, preferably 0 to 50 ° C. The reaction time varies depending mainly on the reaction temperature, the starting compound, the reaction reagent or the type of solvent used, but is usually 15 minutes to 24 hours, and preferably 30 minutes to 6 hours. (Step D) In this step, the compound (Ia ) or (Ib )
By reacting the amide group protected with a methoxymethyl group with a deprotecting agent in the presence or absence of a solvent,
This is a step of producing an amide compound (Ic) which is a compound of the present invention.

【0043】使用される脱保護剤は、通常、酸性のもの
が用いられ、例えば、塩酸、硫酸などの無機酸、四塩化
チタン、三フッ化ホウ素エーテル錯体、ジクロル亜鉛な
どのルイス酸及びトリフルオロ酢酸、トリフルオロメタ
ンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸等の有機酸等であ
り、好適には、トリフルオロ酢酸のような有機酸であ
る。
The deprotecting agent used is usually an acidic one, and examples thereof include inorganic acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid, titanium tetrachloride, boron trifluoride ether complex, Lewis acids such as dichlorozinc and trifluoromethane. Organic acids such as acetic acid, trifluoromethanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid and the like, and preferably organic acids such as trifluoroacetic acid.

【0044】脱保護剤の使用量は、化合物(Ia' )又
は(Ib' )に対して通常1〜20倍当量、好適には2
〜10倍当量である。
The amount of the deprotecting agent used is usually 1 to 20 times equivalent to the amount of the compound (Ia ' ) or (Ib ' ), preferably 2 times.
It is equivalent to 10 times.

【0045】溶媒の存在下で行なわれる場合に使用され
る溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解す
るものであれば特に限定はないが、好適には、ヘキサ
ン、石油エーテル、ベンゼン、トルエンのような炭化水
素類、クロロホルム、塩化メチレン、1,2−ジクロロ
エタン、1,1,2,2−テトラクロロエタンのような
ハロゲン化炭化水素類、エチルエーテル、テトラヒドロ
フランのようなエーテル類、N,N−ジメチルホルムア
ミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシドのような
スルホキシド類及びアセトニトリルのようなニトリル類
並びにこれらの溶媒の混合物等であり、更に好適には、
1,2−ジクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロ
ロエタンである。
The solvent used when the reaction is carried out in the presence of a solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but is preferably hexane, petroleum ether or benzene. , Hydrocarbons such as toluene, chloroform, methylene chloride, halogenated hydrocarbons such as 1,2-dichloroethane, 1,1,2,2-tetrachloroethane, ethers such as ethyl ether and tetrahydrofuran, N , Amides such as N-dimethylformamide, sulfoxides such as dimethylsulfoxide, nitriles such as acetonitrile, and a mixture of these solvents, and the like.
1,2-dichloroethane and 1,1,2,2-tetrachloroethane.

【0046】反応温度は、通常、0〜150℃である
が、好適には60〜120℃である。反応時間は、主に
反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の
種類によって異なるが、通常、15分〜一昼夜であり、
好適には2〜6時間である。
The reaction temperature is usually 0 to 150 ° C, preferably 60 to 120 ° C. The reaction time varies depending mainly on the reaction temperature, the starting compound, the reaction reagent or the type of solvent used, but is usually 15 minutes to one day and night,
It is preferably 2 to 6 hours.

【0047】(工程E)本工程は、前記化合物(Ic)
を原料として、溶媒の存在下並びに反応助剤の存在下、
基R1aの反応性誘導体と反応することにより、化合物
(Id)を製造する工程である。
(Step E) In this step, the above compound (Ic) is used.
In the presence of a solvent and a reaction aid,
In this step, compound (Id) is produced by reacting with a reactive derivative of group R 1a .

【0048】本工程に使用される反応助剤は、通常塩基
性がよく、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ジエチルイソプロピルアミン、ピリジン、1,4−
ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン、1,8−ジア
ザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセンのような有
機三級アミン類や、水素化ナトリウム、水素化カルシウ
ム、ナトリウム、リチウム、n−ブチルリチウム、リチ
ウムジイソプロピルアミド、リチウムビス(トリメチル
シリル)アミド、t−ブトキシカリウムなどのアルカリ
金属塩基、水酸化ナトリウム、水素化カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基であり、好適に
は水酸化ナトリウム、水素化カリウム、リチウムビス
(トリメチルシリル)アミドのようなアルカリ金属塩基
である。
The reaction aid used in this step usually has a good basicity, for example, triethylamine, tributylamine, diethylisopropylamine, pyridine, 1,4-
Organic tertiary amines such as diazabicyclo [2,2,2] octane and 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7-undecene, sodium hydride, calcium hydride, sodium, lithium, n- Butyl lithium, lithium diisopropylamide, lithium bis (trimethylsilyl) amide, alkali metal bases such as potassium t-butoxy, inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydride, sodium carbonate, potassium carbonate, and preferably sodium hydroxide. , Alkali metal bases such as potassium hydride, lithium bis (trimethylsilyl) amide.

【0049】この場合、反応性誘導体として適当なもの
は、例えば、基R1aのハロゲン化物やスルホン酸エステ
ル類であり、好適には基R1aのクロル体、ブロム体、メ
シルオキシ体、トシルオキシ体等であり、更に好適に
は、クロル体、メシルオキシ体、トシルオキシ体であ
る。
[0049] In this case, suitable are the reactive derivatives, for example, a halide or sulfonic acid esters of group R 1a, preferably chloro of radicals R 1a is bromine body, mesyloxy body, tosyloxy and the like And more preferably a chloro body, a mesyloxy body, and a tosyloxy body.

【0050】反応助剤の使用量は、化合物(Ic)に対
して通常1〜20倍当量、好適には2〜10倍当量であ
る。
The amount of the reaction aid used is usually 1 to 20 times equivalent, preferably 2 to 10 times equivalent to compound (Ic).

【0051】反応は、好適には溶媒の存在下で行なわ
れ、使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物
質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、
好適には、ヘキサン、石油エーテル、ベンゼン、トルエ
ンのような炭化水素類、クロロホルム、塩化メチレンの
ようなハロゲン化炭化水素類、エチルエーテル、テトラ
ヒドロフランのようなエーテル類、N,N−ジメチルホ
ルムアミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシドの
ようなスルホキシド類及びアセトニトリルのようなニト
リル類並びにこれらの溶媒の混合物であり、更に好適に
はN,N−ジメチルホルムアミドである。
The reaction is preferably carried out in the presence of a solvent, and the solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent.
Preferred are hydrocarbons such as hexane, petroleum ether, benzene and toluene, halogenated hydrocarbons such as chloroform and methylene chloride, ethers such as ethyl ether and tetrahydrofuran, N, N-dimethylformamide and the like. Amides, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, nitriles such as acetonitrile, and mixtures of these solvents, more preferably N, N-dimethylformamide.

【0052】反応温度は、通常、−70〜150℃であ
り、好適には室温〜120℃である。反応時間は、主に
反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の
種類によって異なるが、通常15分〜一昼夜であり、好
適には30分〜4時間である。
The reaction temperature is usually -70 to 150 ° C, preferably room temperature to 120 ° C. The reaction time varies depending mainly on the reaction temperature, the raw material compound, the reaction reagent or the type of solvent used, but is usually 15 minutes to 24 hours, and preferably 30 minutes to 4 hours.

【0053】(工程F)本工程は、保護されたアルコー
ルを有する化合物(Ia’’)(Ia’’)又は(I
b’’)を、脱保護剤と反応させることにより、アルコ
ール体(Ie)を製造する工程である。
(Step F) In this step, the compound (Ia '') (Ia '') or (Ia) having a protected alcohol is used.
b ″) is a step of producing an alcohol derivative (Ie) by reacting b ″) with a deprotecting agent.

【0054】使用される脱保護剤は、通常、シリル基の
脱保護剤として用いられるものであれば、酸性又は塩基
性のものどちらでもよく、酸性のものとしては、トリフ
ルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンス
ルホン酸、p-トルエンスルホン酸のような有機酸やフッ
化水素酸が好適である。又、塩基性のものとしては、テ
トラブチルアンモニウムフロリドやフッ化カリ等の含フ
ッ素塩基が好適である。
The deprotecting agent used may be either acidic or basic, as long as it is usually used as a deprotecting agent for silyl groups. Examples of acidic ones include trifluoroacetic acid and methanesulfonic acid. Preferred are organic acids such as trifluoromethanesulfonic acid and p-toluenesulfonic acid, and hydrofluoric acid. Further, as the basic one, a fluorinated base such as tetrabutylammonium fluoride or potassium fluoride is preferable.

【0055】脱保護剤の使用量は、化合物(Ia’’)
又は(Ib’’)に対して通常1〜20倍当量、好適に
は2〜10倍当量である。
The amount of the deprotecting agent used is the compound (Ia ″)
Or, it is usually 1 to 20 times equivalent, preferably 2 to 10 times equivalent to (Ib ″).

【0056】通常、本工程は溶媒の存在下に行なわれ、
使用される溶媒は、反応で阻害するものでなければ特に
限定はないが、例えば、ヘキサン、石油エーテル、ベン
ゼン、トルエンのような炭化水素類、クロロホルム、塩
化メチレン、1,2−ジクロロエタンのようなハロゲン
化炭化水素類、エチルエーテル、テトラヒドロフラン、
1,4−ジオキサンのようなエーテル類、並びにこれら
の溶媒の混合物等であり、好適には、テトラヒドロフラ
ン、1,4−ジオキサンのようなエーテル類である。
Usually, this step is carried out in the presence of a solvent,
The solvent used is not particularly limited as long as it does not interfere with the reaction, but is, for example, hydrocarbons such as hexane, petroleum ether, benzene and toluene, chloroform, methylene chloride, 1,2-dichloroethane and the like. Halogenated hydrocarbons, ethyl ether, tetrahydrofuran,
Ethers such as 1,4-dioxane, a mixture of these solvents, and the like, and ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane are preferable.

【0057】反応温度は、通常、−20〜100℃であ
るが、好適には0℃〜室温付近である。反応時間は、使
用される脱保護剤によって異なるが、通常、15分〜一
昼夜であり、好適には1〜6時間である。
The reaction temperature is usually from -20 to 100 ° C, preferably from 0 ° C to room temperature. The reaction time varies depending on the deprotecting agent used, but is usually 15 minutes to 24 hours, and preferably 1 to 6 hours.

【0058】(工程G)本工程は、アルコール体(I
e)を酸化剤と反応させて、ケトン(If)を製造する
工程である。使用される酸化剤は、通常アルコールをケ
トンに酸化するものであれば特に限定はないが、例え
ば、二酸化マンガン、オキサリルクロリド−ジメチルス
ルホキシド、無水酢酸−ジメチルスルホキシド、ピリジ
ニウムクロロクロメート、ピリジニウムジクロメート等
が好適である。
(Step G) In this step, the alcohol compound (I
In this step, e) is reacted with an oxidizing agent to produce a ketone (If). The oxidizing agent used is not particularly limited as long as it usually oxidizes an alcohol to a ketone, and for example, manganese dioxide, oxalyl chloride-dimethyl sulfoxide, acetic anhydride-dimethyl sulfoxide, pyridinium chlorochromate, pyridinium dichromate and the like. It is suitable.

【0059】酸化剤の使用量は、化合物(Ie)に対し
て、通常2〜30当量であるが使用する酸化剤の種類に
より、大巾に変わりうる。
The amount of the oxidizing agent used is usually 2 to 30 equivalents with respect to the compound (Ie), but can be largely changed depending on the kind of the oxidizing agent used.

【0060】本工程は、通常溶媒の存在下に行なわれ、
使用される溶媒は、反応を阻害するものでなければ特に
限定はないが、例えば、ヘキサン、石油エーテル、ベン
ゼン、トルエンのような炭化水素類、クロロホルム、塩
化メチレン、1,2−ジクロロエタンのようなハロゲン
化炭化水素類、エチルエーテル、テトラヒドロフラン、
1,4−ジオキサンのようなエーテル類、N,N −ジメチ
ルホルムアミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシ
ドのようなスルホキシド類及びアセトニトリルのような
ニトリル類並びにこれらの溶媒の混合物等である。好適
には、クロロホルム、塩化メチレンのようなハロゲン化
炭化水素類である。
This step is usually carried out in the presence of a solvent,
The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, and examples thereof include hydrocarbons such as hexane, petroleum ether, benzene and toluene, chloroform, methylene chloride, 1,2-dichloroethane and the like. Halogenated hydrocarbons, ethyl ether, tetrahydrofuran,
These include ethers such as 1,4-dioxane, amides such as N, N-dimethylformamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and nitriles such as acetonitrile, and a mixture of these solvents. Preferred are halogenated hydrocarbons such as chloroform and methylene chloride.

【0061】反応温度は、通常−20〜100℃である
が、好適には0℃〜室温付近である。反応時間は、使用
される酸化剤の種類によって異なるが、通常、15分〜
一昼夜であり、好適には、1〜6時間である。
The reaction temperature is usually -20 to 100 ° C, preferably 0 ° C to around room temperature. The reaction time varies depending on the type of oxidizing agent used, but is usually 15 minutes to
One day and one night, preferably 1 to 6 hours.

【0062】(工程H)本工程は、ケトン(If)を、
O−メチルヒドロキシルアミン又はその塩(例えば、塩
酸、硝酸又は硫酸のような鉱酸との塩)と反応させるこ
とによって、ケトンをオキシム化し、化合物(Ig)を
製造する工程である。
(Step H) In this step, the ketone (If) is added to
This is a step of producing a compound (Ig) by reacting with O-methylhydroxylamine or a salt thereof (for example, a salt with a mineral acid such as hydrochloric acid, nitric acid or sulfuric acid) to oxime a ketone.

【0063】反応は、通常、不活性溶媒中で行なわれ、
そのような溶媒としては、例えば、メタノール、エタノ
ールのようなアルコール類、ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフランのようなエーテル類、酢酸のような脂肪酸
類又は水、並びにこれらの溶媒の混合物等であるが、好
適には、メタノール、エタノールのようなアルコール類
と水の混合物である。
The reaction is usually carried out in an inert solvent,
Examples of such a solvent include alcohols such as methanol and ethanol, ethers such as diethyl ether and tetrahydrofuran, fatty acids such as acetic acid or water, and a mixture of these solvents. Is a mixture of alcohols such as methanol and ethanol and water.

【0064】反応温度は、好適には30〜90℃であ
り、反応時間は通常、1時間〜一昼夜であるが、好適に
は、2〜6時間である。
The reaction temperature is preferably 30 to 90 ° C., and the reaction time is usually 1 hour to 24 hours, preferably 2 to 6 hours.

【0065】上記各工程の反応終了後、反応目的物は常
法により、反応混合物から採取される。例えば、反応混
合物に水と混和しない有機溶剤を加え水洗後、溶剤を留
去することによって得られる。得られた目的化合物は、
必要ならば、常法、例えば、再結晶、再沈殿、ならびに
クロマトグラフィー等によって更に精製される。
After completion of the reaction in each of the above steps, the reaction target product is collected from the reaction mixture by a conventional method. For example, it can be obtained by adding an organic solvent immiscible with water to the reaction mixture, washing with water, and distilling off the solvent. The obtained target compound is
If necessary, it is further purified by a conventional method such as recrystallization, reprecipitation, and chromatography.

【0066】本発明の化合物(I)は、畑作の茎葉処理
及び土壌処理において問題となる種々の雑草、例えば、
ソバカズラ、スベリヒユ、ハコベ、シロザ、アオゲイト
ウ、アメリカツノクサネム、エビスグサ、ノハラガラ
シ、ナズナ、イチビ、アメリカキンゴジカ、フィールド
パンジー、ヤエムグラ、セイヨウヒルガオ、ヒメオドリ
コソウ、ホトケノザ、シロバナチョウセンアサガオ、イ
ヌホオズキ、オオイヌノフグリ、イヌカミツレ、コーン
マリーゴールドのような広葉雑草;ヒエ、イヌビエ、エ
ノコログサ、メヒシバ、オヒシバ、スズメノカタビラ、
ブラックグラス、スズメノテッポウ、カラスムギ、セイ
バンモロコシ、シバムギ、ウマノチャヒキ、ギョウギシ
バのようなイネ科雑草及びツユクサのようなツユクサ科
雑草;コゴメガヤツリ、ハマスゲのようなカヤツリグサ
科雑草等の種々の雑草に対して、除草活性を示し、か
つ、トウモロコシ、コムギ、ダイズのような主要作物に
対して問題となるような薬害を示さない。
The compound (I) of the present invention is used for various weeds which are problematic in the foliar treatment and soil treatment of upland fields, for example,
Buckwheat, purslane, chickweed, white-faced, blue-toothed, white horned squirrel, Ebisugusa, Noragarashi, nazuna, ichweed, stag deer, field pansy, yamegura, bindweed, black-billed dragonfly, red-billed dragonfly, red-billed dragonfly, red-billed dragonfly, red-billed dragonfly, red-billed dragonfly Broad-leaved weeds such as gold; millet, barnyard grass, green locust, crabgrass, crabgrass, grasshopper,
Herbicidal activity against various weeds such as blackgrass, cranaceae, oats, sorghum, sorghum, cedar, weeds such as Erythronium serrata, and communis weeds such as Commelina communis; , And it does not cause any harmful phytotoxicity to major crops such as corn, wheat and soybean.

【0067】又、本発明の化合物(I)は、水田におい
て問題となる種々の雑草、例えば、タイヌビエのような
イネ科雑草;コナギ、アゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ
のような広葉雑草;タマガヤツリ、ホタルイ、マツバ
イ、ミズガヤツリのようなカヤツリグサ科雑草等に対し
て除草活性を示し、かつ、イネに対しては問題となる薬
害を示さない。
The compound (I) of the present invention is a variety of weeds that are problematic in paddy fields, for example, weeds such as gramineous grass; broad-leaved weeds such as konagi, azena, sedgegrass, and zochabe; It exhibits herbicidal activity against cyperaceae weeds such as pine and cypress, and does not show a problematic phytotoxicity to rice.

【0068】更に、畑地、水田のみならず、果樹園、桑
園、非農耕地においても使用することができる。
Further, it can be used not only in upland fields and paddy fields but also in orchards, mulberry fields and non-agricultural fields.

【0069】尚、本発明化合物は、植物を枯死させるこ
となく、その生長を抑制する作用も有するので、例えば
水稲の短捍化による倒伏防止、芝生の生育抑制による刈
込回数の低減等の種々の有用性が期待される。
Since the compound of the present invention also has an effect of suppressing the growth of plants without dying them, it can prevent various lodgings such as prevention of lodging by shortening of paddy rice and reduction of lawn growth to reduce the number of cuttings. Expected to be useful.

【0070】本発明の化合物(I)から除草剤及び植物
生長調節剤を調製するには、固体担体、液体担体のよう
な担体で希釈し、必要に応じて、界面活性剤のようなそ
の他の製剤用補助剤を加えることにより、粉剤、粗粉
剤、粒剤、微粒剤、乳剤、懸濁剤、水和剤、フロアブル
剤、水溶剤、液剤等に調製することができる。もちろ
ん、精製の任意の段階で精製を中止し、粗製物を有効成
分とすることもできる。
To prepare a herbicide and a plant growth regulator from the compound (I) of the present invention, a herbicide and a plant growth regulator are diluted with a carrier such as a solid carrier or a liquid carrier, and if necessary, another carrier such as a surfactant is used. It is possible to prepare powders, coarse powders, granules, fine granules, emulsions, suspensions, wettable powders, flowables, aqueous solutions, liquids and the like by adding a formulation auxiliary agent. Of course, the crude product can be used as an active ingredient by stopping the purification at any stage of the purification.

【0071】担体とは、有効成分の植物への到達性を助
け、又は有効成分の貯蔵、輸送或いは取扱を容易にする
ために除草剤及び植物生長調節剤に混合される合成又は
天然の無機又は有機物質を意味する。
The carrier means a synthetic or natural inorganic substance which is mixed with a herbicide and a plant growth regulator to assist the accessibility of the active ingredient to the plant or to facilitate the storage, transportation or handling of the active ingredient. Means organic material.

【0072】又、除草剤および植物生長調節剤として使
用する場合においても、他の殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ
剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤、肥料、土壌改
良剤等と混合し、適用範囲を拡大し、省力化を図ること
もできる。
When it is used as a herbicide or a plant growth regulator, other fungicides, insecticides, acaricides, nematicides, herbicides, plant growth regulators, fertilizers, soil conditioners, etc. It can also be mixed with, the scope of application can be expanded, and labor can be saved.

【0073】処理方法としては、通常製剤化して、雑草
の出芽前又は出芽後約1か月以内に土壌処理、茎葉処理
又は湛水処理する。土壌処理には、土壌表面処理、土壌
混和処理等があり、茎葉処理には、植物体の上方からの
処理のほか、作物に付着しないよう雑草に限って処理す
る局部処理等があり、湛水処理には、粒剤の散布や水面
への灌注処理等がある。
As a treatment method, a formulation is usually prepared and soil treatment, foliage treatment or flooding treatment is carried out before or within about one month after emergence of the weeds. Soil treatment includes soil surface treatment, soil admixture treatment, etc., and foliage treatment includes treatment from above the plant body and local treatment such as treatment of only weeds so as not to adhere to crops. The treatment includes spraying granules and irrigating the water surface.

【0074】本発明化合物は、水田、畑地、果樹園、牧
草地、芝生地、森林又は非農耕地の除草剤として使用で
きる。
The compound of the present invention can be used as a herbicide for paddy fields, uplands, orchards, pastures, lawns, forests or non-agricultural lands.

【0075】以下、本発明について製剤例と実施例を示
し更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限られるも
のではない。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail by showing formulation examples and examples, but the present invention is not limited to these.

【0076】[0076]

【実施例】【Example】

【0077】[0077]

【製剤例1】 (水和剤)7番の化合物10%、エマルゲン810(登
録商標) (花王株式会社製界面活性剤) 0.5%、デモー
ルN(登録商標) (花王株式会社製界面活性剤) 0.5
%、クニライト201( クニミネ工業株式会社製珪藻
土) 20%、ジークライトCA(ジークライト鉱業株式
会社製クレー) 69%を均一に混合し粉砕して水和剤と
した。
[Formulation Example 1] (Wettable powder) No. 7 compound 10%, Emulgen 810 (registered trademark) (Kao Corporation surfactant) 0.5%, Demol N (registered trademark) (Kao Corporation surfactant) 0.5
%, 20% of Kunilite 201 (diatomaceous earth manufactured by Kunimine Industry Co., Ltd.), and 69% of Siglite CA (clay manufactured by Siglite Mining Co., Ltd.) were uniformly mixed and pulverized to obtain a wettable powder.

【0078】[0078]

【製剤例2】 (乳剤)7番の化合物30%、乳化剤ソルポールSM100
(登録商標) (東邦化学株式会社製界面活性剤) 10%
及びキシレン60%をよく混合して乳剤とした。
[Formulation Example 2] (Emulsion) No. 7 compound 30%, emulsifier Solpol SM100
(Registered trademark) (Toho Chemical Co., Ltd. surfactant) 10%
And xylene 60% were mixed well to prepare an emulsion.

【0079】[0079]

【製剤例3】 (粒剤)12番の化合物5%、ラウリルアルコール硫酸
エステルのナトリウム塩2%、リグニンスルホン酸ナト
リウム5%、カルボキシメチルセルロースのナトリウム
塩2%及びクレー86%を均一に混合し粉砕する。この
混合物100重量部に水20重量部を加えて練合し、押
出式造粒機を用いて、14〜32メッシュの粒状に加工
した後、乾燥して粒剤とした。
[Formulation Example 3] (Granule) 5% of No. 12 compound, 2% of sodium salt of lauryl alcohol sulfate, 5% of sodium ligninsulfonate, 2% of sodium salt of carboxymethylcellulose and 86% of clay are uniformly mixed and ground. To do. 20 parts by weight of water was added to 100 parts by weight of this mixture, and the mixture was kneaded, processed into granules of 14 to 32 mesh using an extrusion granulator, and then dried to obtain granules.

【0080】次に実施例をあげて、本発明をさらに具体
的に説明する。
Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples.

【0081】[0081]

【実施例1】(工程A) 5−t−ブチル−3−(2H−7−フルオロ−4−メト
キシメチル−3,4−ジヒドロ−1,4−ベンゾオキサ
ジン−3−オン−6−イル)−4−オキサゾリン−2−
オン(化合物番号10)
Example 1 (Step A) 5-t-Butyl-3- (2H-7-fluoro-4-methoxymethyl-3,4-dihydro-1,4-benzoxazin-3-one-6-yl) -4-oxazoline-2-
On (Compound No. 10)

【0082】[0082]

【化7】 [Chemical 7]

【0083】エチル N−(2H−7−フルオロ−4−
メトキシメチル−3,4−ジヒドロ−1,4−ベンゾオ
キサジン−3−オン−6−イル)カーバメイト1.0g
(3.3mmol)とα−ブロモピナコリン0.72g
(4.0mmol) のジメチルホルムアミド(DMF) 溶液に、
リチウムビス(トリメチルシリル)アミド7.35ml
(1モルテトラヒドロフラン溶液)を室温でゆっくり滴
下した。1時間攪拌後、水にあけ、酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を、乾燥(MgSO4) 、濃縮し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製し、1.3g(43
%)の表記化合物を得た。
Ethyl N- (2H-7-fluoro-4-
Methoxymethyl-3,4-dihydro-1,4-benzoxazin-3-one-6-yl) carbamate 1.0 g
(3.3 mmol) and 0.72 g of α-bromopinacholine
To a solution of (4.0 mmol) in dimethylformamide (DMF),
7.35 ml of lithium bis (trimethylsilyl) amide
(1 molar tetrahydrofuran solution) was slowly added dropwise at room temperature. After stirring for 1 hour, the mixture was poured into water and extracted with ethyl acetate. The extract was dried (MgSO 4 ), concentrated and the residue was purified by silica gel column chromatography to give 1.3 g (43
%) Of the title compound was obtained.

【0084】[0084]

【実施例2】(工程Bと工程C) 5−t−ブチル−4−クロロ−3−(2H−7−フルオ
ロ−4−メトキシメチル−3,4−ジヒドロ−1,4−
ベンゾオキサジン−3−オン−6−イル)−4−オキサ
ゾリン−2−オン(化合物番号12)
Example 2 (Step B and Step C) 5-t-butyl-4-chloro-3- (2H-7-fluoro-4-methoxymethyl-3,4-dihydro-1,4-
Benzoxazin-3-one-6-yl) -4-oxazolin-2-one (Compound No. 12)

【0085】[0085]

【化8】 [Chemical 8]

【0086】前記実施例1で製造した化合物番号10の
化合物1.3g(3.7mmol)の四塩化炭素溶液に、室
温で塩素ガスを4分間吹き込んだ。反応液を5分間攪拌
した後、飽和重そう水にあけ、ジクロロメタンで抽出し
た。抽出液を、乾燥 (MgSO4)、濃縮し、5−t−ブチル
−4,5−ジクロロ−3−(2H−7−フルオロ−4−
メトキシメチル−3,4−ジヒドロ−1,4−ベンゾオ
キサジン−3−オン−6−イル)オキサゾリジン−2−
オンの粗生成物を1.4g得た。
Chlorine gas was blown into the carbon tetrachloride solution of 1.3 g (3.7 mmol) of the compound of Compound No. 10 produced in Example 1 at room temperature for 4 minutes. The reaction solution was stirred for 5 minutes, poured into saturated sodium bicarbonate water, and extracted with dichloromethane. The extract was dried (MgSO 4), concentrated, 5-t-butyl-4,5-dichloro-3-(2H-7- fluoro-4-
Methoxymethyl-3,4-dihydro-1,4-benzoxazin-3-one-6-yl) oxazolidin-2-
1.4 g of a crude on product were obtained.

【0087】上記粗生成物1.4gを、ジメチルスルホ
キシドに溶かし、室温で1,8−ジアザビシクロ[5.4.
0] −7−ウンデセン4mlをゆっくりと滴下した。30
分間攪拌した後、反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出
した。抽出液を乾燥(MgSO4) 、濃縮後、残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィーで精製して、0.51g(通算収
率36%)の表記目的物を得た。
1.4 g of the above crude product was dissolved in dimethyl sulfoxide, and 1,8-diazabicyclo [5.4.
4 ml of 0] -7-undecene was slowly added dropwise. Thirty
After stirring for 1 minute, the reaction solution was poured into water and extracted with ethyl acetate. The extract was dried (MgSO 4 ), concentrated and the residue was purified by silica gel chromatography to give 0.51 g (total yield 36%) of the desired product.

【0088】[0088]

【実施例3】(工程D) 5−t−ブチル−4−クロロ−3−(2H−7−フルオ
ロ−3,4−ジヒドロ−1,4−ベンゾオキサジン−3
−オン−6−イル)−4−オキサゾリン−2−オン(化
合物番号1)
Example 3 (Step D) 5-t-butyl-4-chloro-3- (2H-7-fluoro-3,4-dihydro-1,4-benzoxazine-3
-On-6-yl) -4-oxazolin-2-one (Compound No. 1)

【0089】[0089]

【化9】 [Chemical 9]

【0090】実施例2の方法で製造した5−t−ブチル
−4−クロロ−3−(2H−7−フルオロ−4−メトキ
シメチル−3,4−ジヒドロ−1,4−ベンゾオキサジ
ン−3−オン−6−イル)−4−オキサゾリン−2−オ
ン0.10g(0.26mmol) の1,1,2,2−テト
ラクロロエタン溶液(2ml)に、トリフルオロ酢酸0.
60ml(7.8mmol) を加え、110℃で6.5時間攪
拌した。反応液を飽和重そう水にあけ、酢酸エチルで抽
出した。抽出液を乾燥(MgSO4) 、濃縮後、残渣をシリカ
ゲルクロマトグラフィーで精製して、32mgの原料を回
収し(回収率32%)、32mg(36%)の表記目的物
を得た。
5-t-butyl-4-chloro-3- (2H-7-fluoro-4-methoxymethyl-3,4-dihydro-1,4-benzoxazine-3-, prepared by the method of Example 2. On-6-yl) -4-oxazolin-2-one 0.10 g (0.26 mmol) of a 1,1,2,2-tetrachloroethane solution (2 ml) was added with trifluoroacetic acid (0.1 ml).
60 ml (7.8 mmol) was added and the mixture was stirred at 110 ° C. for 6.5 hours. The reaction solution was poured into saturated sodium bicarbonate water and extracted with ethyl acetate. The extract was dried (MgSO 4 ), concentrated, and then the residue was purified by silica gel chromatography to recover 32 mg of the raw material (recovery rate 32%) to obtain 32 mg (36%) of the desired product.

【0091】[0091]

【実施例4】(工程E) 5−t−ブチル−4−クロロ−3−[2H−7−フルオ
ロ−4−(2−プロピニル)−3,4−ジヒドロ−1,
4−ベンゾオキサジン−3−オン−6−イル]−4−オ
キサゾリン−2−オン(化合物番号7)
Example 4 (Step E) 5-t-butyl-4-chloro-3- [2H-7-fluoro-4- (2-propynyl) -3,4-dihydro-1,
4-benzoxazin-3-one-6-yl] -4-oxazolin-2-one (Compound No. 7)

【0092】[0092]

【化10】 [Chemical 10]

【0093】実施例3の方法で製造した5−t−ブチル
−4−クロロ−3−(2H−7−フルオロ−3,4−ジ
ヒドロ−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン−6−イ
ル)−4−オキサゾリン−2−オン32mg(0.092mmol)
のジメチルホルムアミド溶液を、アルゴンガス下、0℃
で水素化ナトリウム5.1mg(60%オイル分散試薬)
のジメチルホルムアミド懸濁液に加えた。10分間攪拌
した後、臭化プロパルギル12μl を加えた。室温で3
時間攪拌した後、水にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽
出液を乾燥(MgSO4) 、濃縮し、シリカゲルクロマトグラ
フィーで精製して、15mg(43%)の目的物を得た。
5-t-butyl-4-chloro-3- (2H-7-fluoro-3,4-dihydro-1,4-benzoxazin-3-one-6-yl prepared by the method of Example 3 ) -4-Oxazolin-2-one 32 mg (0.092 mmol)
Of dimethylformamide solution of 0 ° C under argon gas
5.1 mg of sodium hydride (60% oil dispersion reagent)
Was added to the dimethylformamide suspension. After stirring for 10 minutes, 12 μl of propargyl bromide was added. 3 at room temperature
After stirring for an hour, the mixture was poured into water and extracted with ethyl acetate. The extract was dried (MgSO 4), concentrated, and purified by silica gel chromatography to give the desired product 15mg (43%).

【0094】[0094]

【実施例5】(工程F) 5−t−ブチル−4−クロロ−3−(7−フルオロ−4
−ヒドロキシクロマン−6−イル)−4−オキサゾリン
−2−オン(化合物番号22)
Example 5 (Step F) 5-t-butyl-4-chloro-3- (7-fluoro-4)
-Hydroxychroman-6-yl) -4-oxazolin-2-one (Compound No. 22)

【0095】[0095]

【化11】 [Chemical 11]

【0096】実施例2の方法に準じて製造した5−t−
ブチル−4−クロロ−3−(7−フルオロ−4−t−ブ
チルジメチルシリルオキシクロマン−6−イル)−4−
オキサゾリン−2−オン0.10g(0.22mmol)の
テトラヒドロフラン溶液に、テトラブチルアンモニウム
フルオリド0.23ml(1Mテトラヒドロフラン溶液)
を加え、室温で30分間攪拌した。反応液を水にあけ、
酢酸エチルで抽出した。抽出液を、飽和食塩水で洗った
後、乾燥(MgSO4) 、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製して、0.075g(100
%)の表記目的物を得た。
5-t-prepared according to the method of Example 2
Butyl-4-chloro-3- (7-fluoro-4-t-butyldimethylsilyloxychroman-6-yl) -4-
To a tetrahydrofuran solution containing 0.10 g (0.22 mmol) of oxazolin-2-one, 0.23 ml of tetrabutylammonium fluoride (1M tetrahydrofuran solution)
Was added and stirred at room temperature for 30 minutes. Pour the reaction solution into water,
It was extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated brine, dried (MgSO 4 ) and concentrated, and the residue was purified by silica gel column chromatography to give 0.075 g (100
%) Was obtained.

【0097】[0097]

【実施例6】(工程G) 5−t−ブチル−4−クロロ−3−(7−フルオロクロ
マン−4−オン−6−イル)−4−オキサゾリン−2−
オン(化合物番号23)
Example 6 (Step G) 5-t-butyl-4-chloro-3- (7-fluorochroman-4-on-6-yl) -4-oxazoline-2-
On (Compound No. 23)

【0098】[0098]

【化12】 [Chemical 12]

【0099】実施例5の方法で製造した5−t−ブチル
−4−クロロ−3−(7−フルオロ−4−ヒドロキシク
ロマン−6−イル)−4−オキサゾリン−2−オン0.
081g(0.24mmol) のジクロロメタン溶液に、二
酸化マンガン0.94gを加え、室温で1時間攪拌し
た。反応液をろ過し、ろ液を濃縮して、45mg(55
%)の表記化合物を得た。
5-t-butyl-4-chloro-3- (7-fluoro-4-hydroxychroman-6-yl) -4-oxazolin-2-one prepared by the method of Example 5
0.94 g of manganese dioxide was added to a dichloromethane solution of 081 g (0.24 mmol), and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction solution was filtered and the filtrate was concentrated to 45 mg (55
%) Of the title compound was obtained.

【0100】[0100]

【実施例7】(工程H) 5−t−ブチル−4−クロロ−3−(7−フルオロ−4
−メトキシイミノクロマン−6−イル)−4−オキサゾ
リン−2−オン(化合物番号24と25)
Example 7 (Step H) 5-t-butyl-4-chloro-3- (7-fluoro-4)
-Methoxyiminochroman-6-yl) -4-oxazolin-2-one (Compound Nos. 24 and 25)

【0101】[0101]

【化13】 [Chemical 13]

【0102】実施例6の方法で製造した5−t−ブチル
−4−クロロ−3−(7−フルオロクロマン−4−オン
−6−イル)−4−オキサゾリン−2−オン0.070
g(0.21mmol)の水とエタノール混合溶液(水0.
1mlとエタノール2.9ml)に、O−メチルヒドロキシ
ルアミン塩酸塩0.028gと重曹0.35gを加え、
80℃で2.5時間攪拌した。反応液を水にあけ、酢酸
エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗い、乾燥(M
gSO4) 、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製して、表記化合物で極性の小さい異性体を
41mg(53%)(化合物番号24)と、極性の大きい
異性体を17mg(22%)(化合物番号25)得た。
5-t-butyl-4-chloro-3- (7-fluorochroman-4-one-6-yl) -4-oxazolin-2-one prepared by the method of Example 6 0.070
g (0.21 mmol) of water and ethanol mixed solution (water: 0.
To 1 ml of ethanol and 2.9 ml of ethanol, add 0.028 g of O-methylhydroxylamine hydrochloride and 0.35 g of baking soda,
The mixture was stirred at 80 ° C for 2.5 hours. The reaction solution was poured into water and extracted with ethyl acetate. Wash the extract with saturated saline and dry (M
gSO 4 ), concentrated, and the residue was purified by silica gel column chromatography to give 41 mg (53%) of the title compound as the less polar isomer and 17 mg (22%) of the more polar isomer as the title compound. (Compound No. 25) was obtained.

【0103】[0103]

【発明の効果】次に、生物試験例を挙げて、具体的にそ
の効果を示す。
[Effects of the Invention] Next, the effects will be specifically shown with reference to biological test examples.

【0104】[0104]

【試験例1】水田除草湛水土壌処理 100cm2 のポリプロピレン製ポット3ポット(A、
B、Cとする)に水田土壌を充填し、Aポットに休眠覚
醒したタイヌビエ、ホタルイ及びコナギ、アゼナ、キカ
シグサの広葉雑草の種子を表層1cmに混和した。Bポッ
トに催芽しミズガヤツリ、クログワイ、ウリカワの塊茎
及びマツバイの生育株を植え、Cポットに2葉期の水稲
の苗を移植した。各ポットを湛水状態とし、温室で生育
させ、3日後に製剤例1で調製した水和剤を用いて所定
の薬量を湛水土壌処理し、21日後に次に示す判定基準
に従って調査を行なった。その結果を表2に示す。
[Test Example 1] Paddy field weeding Submerged soil treatment 100 cm 2 polypropylene pot 3 pots (A,
(B and C) were filled with paddy soil, and seeds of broad-leaved weeds, such as denuded algae, fireflies, eels, azaleas, and yellow cypresses, were mixed in the A pot to the surface layer 1 cm. Germination was carried out in pot B, and tubers of Mizugaya-tsuguri, Kurowai, Urikawa and pineapple were planted, and seedlings of paddy rice at the two-leaf stage were transplanted in pot C. Each pot was submerged, grown in a greenhouse, and after 3 days, the wettable powder prepared in Formulation Example 1 was used to treat the submerged soil with a predetermined amount, and 21 days later, an investigation was conducted according to the following criteria. I did. The results are shown in Table 2.

【0105】判定基準 0−−−生育抑制率 0− 10% 1−−−生育抑制率 11− 30% 2−−−生育抑制率 31− 50% 3−−−生育抑制率 51− 70% 4−−−生育抑制率 71− 90% 5−−−生育抑制率 91−100% なお、表2、表3及び表4の比較化合物は、すべて特開
昭62−42976号公報に記載の次の化合物である。
Judgment Criteria 0 --- Growth inhibition rate 0-10% 1 --- Growth inhibition rate 11-30% 2--Growth inhibition rate 31-50% 3--Growth inhibition rate 51-70% 4 --- Growth inhibition rate 71-90% 5 --- Growth inhibition rate 91-100% In addition, all the comparative compounds of Table 2, Table 3 and Table 4 are the following compounds described in JP-A-62-42976. It is a compound.

【0106】[0106]

【化14】 [Chemical 14]

【0107】表2、表3及び表4において、EOはタイ
ヌビエを、BLは広葉雑草を、SJはホタルイを、EA
はマツバイを、CSはミズガヤツリを、EKはクログワ
イを、OSは水稲を、SPはウリカワを、ECはイヌビ
エを、SVはエノコログサを、DSはメヒシバを、AR
はヒユを、ATはイチビを、SNはイヌホオズキを、Z
Mはトウモロコシを、TAはコムギを、GMはダイズを
それぞれ示す。
In Tables 2, 3, and 4, EO is Taenia muscaria, BL is broadleaf weeds, SJ is firefly, and EA.
Is Matsubayashi, CS is Mizugaya, EK is Kurogwai, OS is paddy rice, SP is Urikawa, EC is barnyard grass, SV is Enocologsa, and DS is Mejishiba, AR
Stands for hiyu, AT stands for hibiscus, SN stands for physalis, Z
M indicates corn, TA indicates wheat, and GM indicates soybean.

【0108】[0108]

【表2】 ───────────────────────────────── 化合物 薬量 番号 (g/a) EO BL SJ EA SP CS EK OS ───────────────────────────────── 2 10 5 5 5 3 5 3 5 3 2 5 5 5 5 − − − − 1 3 10 5 5 5 4 5 5 4 2 3 5 5 5 5 5 − − − 1 5 10 5 5 5 3 5 2 5 1 5 5 5 5 5 5 − − − 0 7 10 5 5 5 3 5 5 5 3 7 5 5 5 5 − − − − 0 9 10 5 5 5 5 5 1 5 1 9 5 5 5 5 − − − − 0 12 10 5 5 5 5 5 5 5 2 12 5 5 5 5 − − − − 1 17 10 5 5 5 2 5 1 5 0 17 5 5 5 4 − − − − 0 19 10 5 5 5 2 5 1 4 0 19 5 5 5 4 − − − − 0 24 10 5 5 4 1 2 2 5 0 24 5 5 5 3 − − − − 0 25 10 5 5 4 2 2 3 5 0 25 5 5 5 4 − − − − 0 ───────────────────────────────── 比較 10 2 4 2 3 0 2 3 0 化合物 比較 5 0 3 0 0 0 0 1 0 化合物 ───────────────────────────────── [Table 2]   ──────────────────────────────────   Compound   Dosage   number   (g / a)   EO   BL   SJ   EA   SP   CS   EK   OS   ──────────────────────────────────   Two   10   5   5   5   Three   5   Three   5   Three   Two   5   5   5   5   −   −   −   −   1   Three   10   5   5   5   Four   5   5   Four   Two   Three   5   5   5   5   5   −   −   −   1   5   10   5   5   5   Three   5   Two   5   1   5   5   5   5   5   5   −   −   −   0   7   10   5   5   5   Three   5   5   5   Three   7   5   5   5   5   −   −   −   −   0   9   10   5   5   5   5   5   1   5   1   9   5   5   5   5   −   −   −   −   0   12   10   5   5   5   5   5   5   5   Two   12   5   5   5   5   −   −   −   −   1     17   10   5   5   5   Two   5   1   5   0   17   5   5   5   Four   −   −   −   −   0   19   10   5   5   5   Two   5   1   Four   0   19   5   5   5   Four   −   −   −   −   0   24   10   5   5   Four   1   Two   Two   5   0   24   5   5   5   Three   −   −   −   −   0   25   10   5   5   Four   Two   Two   Three   5   0   25   5   5   5   Four   −   −   −   −   0   ──────────────────────────────────   Comparison   10   Two   Four   Two   Three   0   Two   Three   0   Compound   Comparison   5   0   Three   0   0   0   0   1   0   Compound   ──────────────────────────────────  

【0109】[0109]

【試験例2】畑雑草発生前土壌処理 面積150cm2 のプラスチック製ポットに畑土壌をつ
め、イヌビエ、エノコログサ、メヒシバ、ヒユ、イチ
ビ、イヌホオズキの雑草種子及びトウモロコシ、コム
ギ、ダイズの種子を播種した後、1cm の厚さに覆土し、
温室内に静置した。覆土後直ちに製剤例1で調製した水
和剤を用いて、所定の薬量を土壌表面に処理した。処理
後21日目に試験例1に示す判定基準に従って調査を行
なった。その結果を表3に示す。
[Test Example 2] Soil treatment before outbreak of field weeds Field soil was filled in a plastic pot with an area of 150 cm 2 , and after sowing seeds of weeds, Echinochlox globosa, Mehibushus, millet, velvetleaf, physalis and corn, wheat and soybean were sown. , Cover with a thickness of 1 cm,
It was placed in a greenhouse. Immediately after covering with soil, the wettable powder prepared in Formulation Example 1 was used to treat the soil surface with a predetermined amount. On the 21st day after the treatment, the investigation was conducted according to the criteria shown in Test Example 1. The results are shown in Table 3.

【0110】[0110]

【表3】 ──────────────────────────────────── 化合物 薬量 番号 kg/ha ES SV DS AR AT SN ZM TA GM ──────────────────────────────────── 2 1 5 5 5 5 4 − 3 0 0 2 0.5 5 5 5 5 3 − 0 0 0 3 1 5 5 5 5 3 − 1 1 1 3 0.5 5 4 5 5 3 − 0 0 0 7 1 5 5 5 5 5 − 2 1 0 7 0.5 5 5 5 5 5 − 1 0 0 9 1 5 4 4 5 3 − 0 0 0 9 0.5 4 2 3 5 3 − 0 0 0 12 1 5 5 5 5 5 5 2 2 0 12 0.5 5 5 5 5 5 5 1 1 0 ──────────────────────────────────── 比較 1 2 3 3 3 3 4 0 0 0 化合物 比較 0.5 0 1 1 1 1 2 0 0 0 化合物 ────────────────────────────────────[Table 3] ──────────────────────────────────── Compound dose No. kg / ha ES SV DS AR AT SN ZM TA GM ──────────────────────────────────── 2 1 5 5 5 5 5 4 − 3 0 0 2 0.5 5 5 5 5 5 3-0 0 0 0 3 1 5 5 5 5 5 3 -1 1 1 1 3 0.5 5 5 4 5 5 3-0 0 0 0 7 1 5 5 5 5 5 5-2 1 1 0 7 0.5 5 5 5 5 5-1 0 0 9 1 5 4 4 5 5 3-0 0 0 9 9 0.5 4 2 3 5 3-0 0 0 0 12 1 5 5 5 5 5 5 5 2 2 0 12 12 0.5 5 5 5 5 5 5 5 5 1 10 ──────────────────────────────────── Comparison 1 2 3 3 3 3 4 0 0 0 compounds Comparative 0.5 0 1 1 1 1 1 2 0 0 0 Compounds ─────── ─────────────────────────────

【0111】[0111]

【試験例3】畑雑草生育期茎葉処理 面積150cm2 のプラスチック製ポットに畑土壌をつ
め、イヌビエ、エノコログサ、メヒシバ、ヒユ、イチ
ビ、イヌホオズキ、の雑草種子及びトウモロコシ、コム
ギ、ダイズ、の種子を播種した後、1cmの厚さに覆土し
た。その後、温室内で生育させ、2週間後に、製剤例1
で調製した水和剤を用いて所定の薬量を調製し、植物体
の茎葉に散布した。処理後14日目に試験例1に示す判
定基準に従って調査を行なった。その結果を表4に示
す。
[Test Example 3] Field weed foliage treatment Stem and foliage Field soil is filled in a plastic pot with an area of 150 cm 2 and seeds of weed seeds of barnyardgrass, green locusts, crabgrass, millet, velvetleaf, physalis, and corn, wheat, soybean are sown. After that, the soil was covered with a thickness of 1 cm. After that, it was grown in a greenhouse, and after 2 weeks, Formulation Example 1
A prescribed amount of the drug was prepared using the wettable powder prepared in (1) and sprayed on the foliage of the plant. On the 14th day after the treatment, the investigation was conducted according to the criteria shown in Test Example 1. The results are shown in Table 4.

【0112】[0112]

【表4】 ──────────────────────────────────── 化合物 濃度 番号 (ppm) ES SV DS AR AT SN ZM TA GM ──────────────────────────────────── 2 125 4 4 4 5 5 − 0 0 2 3 125 4 4 4 5 5 − 0 0 1 5 125 1 1 1 5 5 − 0 0 1 7 125 3 2 3 5 5 − 0 0 2 9 125 3 3 3 5 5 − 0 0 3 12 125 5 5 5 5 5 5 2 0 3 17 125 0 0 0 5 5 − 0 0 0 25 125 2 2 2 4 5 − 0 0 0 ──────────────────────────────────── 比較 125 1 2 1 3 4 4 0 0 0 化合物 ────────────────────────────────────[Table 4] ──────────────────────────────────── Compound concentration number (ppm) ES SV DS AR AT SN ZM TA GM ──────────────────────────────────── 2 125 4 4 4 5 5-0 0 2 3 125 4 4 4 5 5 − 0 0 1 5 125 1 1 1 1 5 5 − 0 0 1 1 7 125 3 2 3 5 5 − 0 0 2 9 125 3 3 3 3 5 5 − 0 0 3 12 12 125 5 5 5 5 5 5 2 0 3 17 17 125 0 0 0 5 5-5-0 0 0 0 25 125 2 2 2 4 5-0 0 0 0 ────────────────────── ─────────────── Comparison 125 1 2 1 3 4 4 0 0 0 Compounds ──────────────────────── ─────────────

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 遠藤 猛 滋賀県野洲郡野洲町野洲1041 三共株式会 社内 (72)発明者 新藤 正宏 滋賀県野洲郡野洲町野洲1041 三共株式会 社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Takeshi Endo 1041 Yasu-cho, Yasu-cho, Yasu-gun, Shiga In-house (72) Inventor Masahiro Shindo 1041 Yasu-cho, Yasu-cho, Yasu-gun, Shiga In-house

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 [式中、Xは、水素原子又は塩素原子を示し、Yは塩素
原子又は弗素原子を示し、Rは、水素原子又は低級アル
キル基を示し、A−Bは、N(R1 )−(C=O)基、
CH(−W1 )−CH2 基又はC(=W2 )−CH2
(式中、R1 は、水素原子、低級アルコキシ基若しくは
低級アルコキシ低級アルコキシ基で置換されても良い低
級アルキル基、低級アルキニル基、ベンジル基又はp-メ
トキシベンジル基を示し、W1 は、t-ブチルジメチルシ
リルオキシ基、水酸基を示し、W2は、酸素原子又はN
−OCH3 基を示す。)を示す。]で表される化合物。
1. A compound represented by the general formula (I): [In the formula, X represents a hydrogen atom or a chlorine atom, Y represents a chlorine atom or a fluorine atom, R represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, and AB represents N (R 1 )-(C = O) group,
CH (-W 1 ) -CH 2 group or C (= W 2 ) -CH 2 group (in the formula, R 1 is a hydrogen atom, a lower alkoxy group or a lower alkyl group which may be substituted with a lower alkoxy lower alkoxy group) , A lower alkynyl group, a benzyl group or a p-methoxybenzyl group, W 1 represents a t-butyldimethylsilyloxy group, a hydroxyl group, W 2 represents an oxygen atom or N
It shows a —OCH 3 group. ) Is shown. ] The compound represented by.
【請求項2】請求項1に記載の化合物を有効成分とする
除草剤。
2. A herbicide containing the compound according to claim 1 as an active ingredient.
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KR20130004170A (en) 2011-07-01 2013-01-09 마크스 가부시기가이샤 Stapler

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