JPH1121280A - New benzene derivative and herbicide - Google Patents
New benzene derivative and herbicideInfo
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- JPH1121280A JPH1121280A JP18753397A JP18753397A JPH1121280A JP H1121280 A JPH1121280 A JP H1121280A JP 18753397 A JP18753397 A JP 18753397A JP 18753397 A JP18753397 A JP 18753397A JP H1121280 A JPH1121280 A JP H1121280A
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- compound
- alkoxy
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- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は新規なベンゼン誘導
体および除草剤に関する。The present invention relates to novel benzene derivatives and herbicides.
【0002】[0002]
【従来の技術】本発明化合物に類似の2−ベンゾイルシ
クロヘキサン−1,3−ジオン化合物が除草活性を有す
ることは、特開平3−255047号公報、特開平6−
271562号公報、WO94/04524号等に記載
されている。しかしながら、本発明化合物のように、ベ
ンゾイル基の3位がテトラゾリル基で置換された化合物
は知られていない。2. Description of the Related Art It has been reported that a 2-benzoylcyclohexane-1,3-dione compound similar to the compound of the present invention has herbicidal activity as disclosed in JP-A-3-255047 and JP-A-6-55047.
271562, WO94 / 04524 and the like. However, compounds in which the 3-position of the benzoyl group is substituted with a tetrazolyl group, such as the compound of the present invention, are not known.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、工業
的に有利に合成でき、安全性が高く、より低い薬量で優
れた効果を有し、作物との選択性の良い除草剤を提供す
ることである。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a herbicide which can be synthesized industrially advantageously, is highly safe, has an excellent effect at a lower dose, and has good selectivity to crops. To provide.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式〔I〕According to the present invention, there is provided a compound represented by the general formula [I]:
【0005】[0005]
【化3】 Embedded image
【0006】[式中、R1 ,R2 は、それぞれ独立し
て、ニトロ,シアノ,ハロゲン,C1-4アルキル,C1-4
アルコキシ,C1-4 ハロアルキル,C1-4 アルキルチ
オ,C1-4 アルキルスルフィニル,またはC1-4 アルキ
ルスルホニルを表す。R3 は、水素,またはC1-4 アル
キルを表す。R4 ,R5 ,R6 ,R7 ,R8 およびR9
は、それぞれ独立して、水素,シアノ,ホルミル,ハロ
ゲン,C1-4 アルキル,C1-4 ハロアルキル,C1-4 ア
ルコキシ,C1-4 ハロアルコキシ,C1-4 アルキルチ
オ,C1-4 アルキルスルフィニル,C1-4 アルキルスル
ホニル,C1-4 アルキルチオC1-4 アルキル,C1-4 ア
ルキルスルフィニルC1-4 アルキル,C1-4 アルキルス
ルホニルC1-4 アルキル,C1-4 アルコキシC1-4 アル
キル,C1-4 アルキルカルボニルオキシC1-4 アルキ
ル,ヒドロキシC1-4 アルキル,ジC1-4 アルコキシC
1-4 アルキル,C1-4 アルコキシカルボニル,ヒドロキ
シイミノC1-4 アルキル,C1-4 アルコキシイミノC
1-4 アルキル,C2-4 アルケニルオキシイミノC1-4 ア
ルキル,C2-4アルキニルオキシイミノC1-4 アルキ
ル,C1-4 ハロアルコキシイミノC1-4 アルキル,C
2-4 ハロアルケニルオキシイミノC1-4 アルキル,C
2-4 ハロアルキニルオキシイミノC1-4 アルキル,置換
されていてもよいフェニル,置換されていてもよいフェ
ニルチオC1-4 アルキル,置換されていてもよいフェニ
ルスルフィニルC1-4 アルキル,置換されていてもよい
フェニルスルホニルC1-4 アルキル,または置換されて
いてもよいフェニルC1-4 アルキルオキシC1-4 アルキ
ルを表す。また、(R4 とR5 )、(R6 とR7 )また
は(R8 とR9 )はそれぞれ一緒になってオキソまたは
C2-4 のアルキレン鎖を形成していてもよく、さらにR
5 とR7 は一緒になってメチレンまたはC2-4 のアルキ
レン鎖を形成してもよい。]で表されるベンゼン誘導体
またはその塩、およびそれらの1種または2種以上を有
効成分として含有する除草剤である。[Wherein R 1 and R 2 are each independently nitro, cyano, halogen, C 1-4 alkyl, C 1-4
Represents alkoxy, C 1-4 haloalkyl, C 1-4 alkylthio, C 1-4 alkylsulfinyl, or C 1-4 alkylsulfonyl. R 3 represents hydrogen or C 1-4 alkyl. R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9
Is each independently hydrogen, cyano, formyl, halogen, C 1-4 alkyl, C 1-4 haloalkyl, C 1-4 alkoxy, C 1-4 haloalkoxy, C 1-4 alkylthio, C 1-4 Alkylsulfinyl, C 1-4 alkylsulfonyl, C 1-4 alkylthio C 1-4 alkyl, C 1-4 alkylsulfinyl C 1-4 alkyl, C 1-4 alkylsulfonyl C 1-4 alkyl, C 1-4 alkoxy C 1-4 alkyl, C 1-4 alkylcarbonyloxy C 1-4 alkyl, hydroxy C 1-4 alkyl, di C 1-4 alkoxy C
1-4 alkyl, C 1-4 alkoxycarbonyl, hydroxyimino C 1-4 alkyl, C 1-4 alkoxyimino C
1-4 alkyl, C 2-4 alkenyloxyimino C 1-4 alkyl, C 2-4 alkynyloxyimino C 1-4 alkyl, C 1-4 haloalkoxyimino C 1-4 alkyl, C
2-4 haloalkenyloxyimino C 1-4 alkyl, C
2-4 haloalkynyloxyimino C 1-4 alkyl, optionally substituted phenyl, optionally substituted phenylthio C 1-4 alkyl, optionally substituted phenylsulfinyl C 1-4 alkyl, substituted Represents an optionally substituted phenylsulfonyl C 1-4 alkyl, or an optionally substituted phenyl C 1-4 alkyloxy C 1-4 alkyl. (R 4 and R 5 ), (R 6 and R 7 ) or (R 8 and R 9 ) may together form an oxo or C 2-4 alkylene chain.
5 and R 7 may together form a methylene or C 2-4 alkylene chain. And a herbicide containing one or more of these as an active ingredient.
【0007】R1 ,R2 において、ハロゲンとしては、
フッ素,塩素,臭素などが、C1-4アルキルとしては、
メチル,エチル,プロピル,イソプロピル,ブチル,イ
ソブチル,t−ブチルなどが、C1-4 アルコキシとして
は、メトキシ,エトキシ,プロポキシ,イソプロポキ
シ,ブトキシ,t−ブトキシなどが、C1-4 ハロアルキ
ルとしては、フルオロメチル,1−フルオロエチル.2
−フルオロエチル,ジフルオロメチル,トリフルオロメ
チル,ジフルオロクロロメチル,フルオロクロロメチ
ル,トリクロロメチル,トリブロモメチル,トルフルオ
ロエチル,ペンタフルオロエチルなどが、C1-4 ハロア
ルコキシとしては、トリフルオロメトキシ,1,1,
2,2−テトラフルオロエトキシ,トリクロロメトキ
シ,ジフルオロメトキシなどが、C1-4 アルキルチオと
しては、メチルチオ,エチルチオ,プロピルチオ,イソ
プロピルチオ,ブチルチオなどが、C1-4 アルキルスル
フィニルとしては、メチルスルフィニル,エチルスルフ
ィニル,プロピルスルフィニル,イソプロピルスルフィ
ニル,ブチルスルフィニルなどが、C1-4 アルキルスル
ホニルとしては、メチルスルホニル,エチルスルホニ
ル,プロピルスルホニル,イソプロピルスルホニル,ブ
チルスルホニルなどが挙げられる。In R 1 and R 2 , halogen is
Fluorine, chlorine, bromine, and the like, as C 1-4 alkyl,
Methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, t-butyl and the like; C 1-4 alkoxy as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, t-butoxy and the like; C 1-4 haloalkyl as , Fluoromethyl, 1-fluoroethyl. 2
-Fluoroethyl, difluoromethyl, trifluoromethyl, difluorochloromethyl, fluorochloromethyl, trichloromethyl, tribromomethyl, trifluoroethyl, pentafluoroethyl and the like; C 1-4 haloalkoxy includes trifluoromethoxy, 1 , 1,
2,2-tetrafluoroethoxy, trichloromethoxy, difluoromethoxy and the like, C 1-4 alkylthio as methylthio, ethylthio, propylthio, isopropylthio and butylthio, and C 1-4 alkylsulfinyl as methylsulfinyl, ethyl Examples thereof include sulfinyl, propylsulfinyl, isopropylsulfinyl, and butylsulfinyl. Examples of the C 1-4 alkylsulfonyl include methylsulfonyl, ethylsulfonyl, propylsulfonyl, isopropylsulfonyl, and butylsulfonyl.
【0008】R3 において、C1-4 アルキルとしては、
メチル,エチル,プロピル,イソプロピル,ブチル,イ
ソブチル,s−ブチル,t−ブチルなどが挙げられる。In R 3 , C 1-4 alkyl includes
Examples include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl and the like.
【0009】R4 〜R9 において、ハロゲンとしては、
フッ素,塩素,臭素などが、C1-4アルキルとしては、
メチル,エチル,プロピル,イソプロピル,ブチル,イ
ソブチル,t−ブチルなどが、C1-4 アルコキシとして
は、メトキシ,エトキシ,プロポキシ,イソプロポキ
シ,ブトキシ,t−ブトキシなどが、C1-4 ハロアルキ
ルとしては、フルオロメチル,1−フルオロエチル.2
−フルオロエチル,ジフルオロメチル,トリフルオロメ
チル,ジフルオロクロロメチル,フルオロクロロメチ
ル,トリクロロメチル,トリブロモメチル,トリフルオ
ロエチル,ペンタフルオロエチルエチルなどが、C1-4
ハロアルコキシとしては、トリフルオロメトキシ,1,
1,2,2−テトラフルオロエトキシ,トリクロロメト
キシ,ジフルオロメトキシなどが、C1-4 アルキルチオ
としては、メチルチオ,エチルチオ,プロピルチオ,イ
ソプロピルチオ,ブチルチオなどが、C1-4 アルキルス
ルフィニルとしては、メチルスルフィニル,エチルスル
フィニル,プロピルスルフィニル,イソプロピルスルフ
ィニル,ブチルスルフィニルなどが、C1-4 アルキルス
ルホニルとしては、メチルスルホニル,エチルスルホニ
ル,プロピルスルホニル,イソプロピルスルホニル,ブ
チルスルホニルなどが、C1-4 アルキルチオC1-4 アル
キルとしては、メチルチオメチル,メチルチオエチル,
エチルチオメチル,プロピルチオメチル,イソプロピル
チオメチル,ブチルチオメチルなどが、C1-4 アルキル
スルフィニルC1-4 アルキルとしては、メチルスルフィ
ニルメチル,メチルスルフィニルエチル,エチルスルフ
ィニルメチル,プロピルスルフィニルメチル,イソプロ
ピルスルフィニルメチルなどが、C1-4 アルキルスルホ
ニルC1-4 アルキルとしては、メチルスルホニルメチ
ル,メチルスルホニルエチル,エチルスルホニルメチ
ル,プロピルスルホニルメチル,イソプロピルスルホニ
ルメチルなどが、C1-4 アルコキシC1-4 アルキルとし
ては、メトキシメチル,メトキシエチル,エトキシメチ
ル,プロポキシメチル,イソプロポキシメチル,ブトキ
シメチルなどが挙げられる。In R 4 to R 9 , as halogen,
Fluorine, chlorine, bromine, and the like, as C 1-4 alkyl,
Methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, t-butyl and the like; C 1-4 alkoxy as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, t-butoxy and the like; C 1-4 haloalkyl as , Fluoromethyl, 1-fluoroethyl. 2
- fluoroethyl, difluoromethyl, trifluoromethyl, difluorochloromethyl, fluoro chloromethyl, trichloromethyl, tribromomethyl, trifluoroethyl, etc. pentafluoroethyl ethyl, C 1-4
Haloalkoxy includes trifluoromethoxy, 1,
1,2,2-tetrafluoroethoxy, trichloromethoxy, difluoromethoxy and the like, C 1-4 alkylthio as methylthio, ethylthio, propylthio, isopropylthio and butylthio, and C 1-4 alkylsulfinyl as methylsulfinyl , Ethylsulfinyl, propylsulfinyl, isopropylsulfinyl, butylsulfinyl and the like; and C1-4 alkylsulfonyl includes methylsulfonyl, ethylsulfonyl, propylsulfonyl, isopropylsulfonyl, butylsulfonyl and the like, and C1-4 alkylthio C1-4. Examples of the alkyl include methylthiomethyl, methylthioethyl,
Ethylthiomethyl, propylthiomethyl, isopropylthiomethyl, butylthiomethyl and the like; C 1-4 alkylsulfinyl C 1-4 alkyl includes methylsulfinylmethyl, methylsulfinylethyl, ethylsulfinylmethyl, propylsulfinylmethyl, isopropylsulfinyl methyl, etc. Examples of C 1-4 alkylsulfonyl C 1-4 alkyl, methylsulfonylmethyl, methylsulfonylethyl, ethylsulfonyl methyl, propyl sulfonyl methyl, isopropyl sulfonyl methyl, C 1-4 alkoxy C 1-4 alkyl Examples include methoxymethyl, methoxyethyl, ethoxymethyl, propoxymethyl, isopropoxymethyl, butoxymethyl and the like.
【0010】つづいて、R4 〜R9 において、C1-4 ア
ルキルカルボニルオキシC1-4 アルキルとしては、アセ
トキシメチル,アセトキシエチル,プロピオニルオキシ
メチル、イソブチリルオキシメチルなどが、ヒドロキシ
C1-4 アルキルとしては、ヒドロキシメチル,ヒドロキ
シエチル,ヒドロキシプロピル,ヒドロキシブチルなど
が、ジC1-4 アルコキシC1-4 アルキルとしては、ジメ
トキシメチル,ジメトキシエチル.ジエトキシメチル,
ジプロポキシメチル,ジブトキシメチル,ジt−ブトキ
シメチルなどが、C1-4 アルコキシカルボニルとして
は、メトキシカルボニル,エトキシカルボニル,プロポ
キシカルボニル,ブトキシカルボニルなどが、ヒドロキ
シイミノC1-4 アルキルとしては、ヒドロキシイミノメ
チル,ヒドロキシイミノエチル,ヒドロキシイミノプロ
ピル,ヒドロキシイミノブチルなどが、C1-4 アルコキ
シイミノC1-4 アルキルとしては、メトキシイミノメチ
ル,メトキシイミノエチル,エトキシイミノメチル,プ
ロポキシイミノメチル,ブトキシイミノメチルなどが、
C2-4 アルケニルオキシイミノC1-4 アルキルとして
は、ビニルオキシイミノメチル,ビニルオキシイミノエ
チル,1−プロペニルオキシイミノメチル,クロチルオ
キシイミノメチル,アリルオキシイミノメチルなどが、
C2-4 アルキニルオキシイミノC1-4 アルキルとして
は、エチニルオキシイミノメチル,エチニルオキシイミ
ノエチル,プロパギルオキシイミノメチルなどが、C
1-4 ハロアルコキシイミノC1-4 アルキルとして、フル
オロメチルイミノメチル,トリフルオロメチルイミノメ
チル,ジフルオロクロロメチルイミノメチル,トリクロ
ロメチルイミノメチルなどが、C2-4 ハロアルケニルオ
キシイミノC1-4 アルキルとしては、1−クロロビニル
オキシイミノメチル,2−クロロビニルオキシイミノメ
チル,3−クロロアリルオキシイミノメチルなどが、C
2-4 ハロアルキニルオキシイミノC1-4 アルキルとして
は、2−クロロエチニルオキシイミノメチル,3−クロ
ロ−2−プロピニルオキシイミノメチルなどが挙げられ
る。[0010] Then, in the R 4 to R 9, as the C 1-4 alkylcarbonyloxy C 1-4 alkyl, acetoxymethyl, acetoxyethyl, propionyloxymethyl, such as isobutyryloxymethyl is hydroxy C 1- Examples of 4 alkyl include hydroxymethyl, hydroxyethyl, hydroxypropyl, hydroxybutyl and the like, and examples of diC 1-4 alkoxy C 1-4 alkyl include dimethoxymethyl, dimethoxyethyl. Diethoxymethyl,
Dipropoxymethyl, dibutoxymethyl, di-t-butoxymethyl and the like; C 1-4 alkoxycarbonyl as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, butoxycarbonyl and the like; hydroxyimino C 1-4 alkyl as hydroxy Iminomethyl, hydroxyiminoethyl, hydroxyiminopropyl, hydroxyiminobutyl and the like; and C 1-4 alkoxyimino C 1-4 alkyl includes methoxyiminomethyl, methoxyiminoethyl, ethoxyiminomethyl, propoxyiminomethyl, butoxyiminomethyl. etc,
Examples of C 2-4 alkenyloxyimino C 1-4 alkyl include vinyloxyiminomethyl, vinyloxyiminoethyl, 1-propenyloxyiminomethyl, crotyloxyiminomethyl, allyloxyiminomethyl, and the like.
Examples of C 2-4 alkynyloxyimino C 1-4 alkyl include ethynyloxyiminomethyl, ethynyloxyiminoethyl, propargyloxyiminomethyl and the like.
Examples of the 1-4 haloalkoxy imino C 1-4 alkyl include fluoromethyl iminomethyl, trifluoromethyl iminomethyl, difluorochloromethyl iminomethyl, and trichloromethyl iminomethyl, and C 2-4 haloalkenyloxyimino C 1-4 alkyl. Examples thereof include 1-chlorovinyloxyiminomethyl, 2-chlorovinyloxyiminomethyl, and 3-chloroallyloxyiminomethyl.
Examples of the 2-4 haloalkynyloxyimino C 1-4 alkyl include 2-chloroethynyloxyiminomethyl, 3-chloro-2-propynyloxyiminomethyl and the like.
【0011】さらに、つづいて、R4 〜R9 において、
置換されていてもよいフェニルとしては、フッ素,塩
素,臭素などのハロゲン、メチル,エチル,プロピル,
イソプロピル,ブチル,イソブチル,t−ブチルなどの
C1-4 アルキル、メトキシ,エトキシ,プロポキシ,イ
ソプロポキシ,ブトキシ,t−ブトキシなどのC1-4 ア
ルコキシ、フルオロメチル,1−フルオロエチル.2−
フルオロエチル,ジフルオロメチル,トリフルオロメチ
ル,ジフルオロクロロメチル,フルオロクロロメチル,
トリクロロメチル,トリブロモメチル,トリフルオロエ
チルなどのC1-4ハロアルキル、トリフルオロメトキ
シ,1,1,2,2−テトラフルオロエトキシ,トリク
ロロメトキシ,ジフルオロメトキシなどのC1-4 ハロア
ルコキシなどで置換されてもよいフェニルなどが、置換
されていてもよいフェニルチオC1-4アルキルとして
は、フッ素,塩素,臭素などのハロゲン、メチル,エチ
ル,プロピル,イソプロピル,ブチル,イソブチル,t
−ブチルなどのC1-4 アルキル、メトキシ,エトキシ,
プロポキシ,イソプロポキシ,ブトキシ,t−ブトキシ
などのC1-4 アルコキシ、フルオロメチル,1−フルオ
ロエチル.2−フルオロエチル,ジフルオロメチル,ト
リフルオロメチル,ジフルオロクロロメチル,フルオロ
クロロメチル,トリクロロメチル,トリブロモメチル,
トリフルオロエチルなどのC1-4 ハロアルキル、トリフ
ルオロメトキシ,1,1,2,2−テトラフルオロエト
キシ,トリクロロメトキシ,ジフルオロメトキシなどの
C1-4 ハロアルコキシなどで置換されてもよいフェニル
チオメチル,フェニルチオエチル,フェニルチオプロピ
ルなどが、置換されていてもよいフェニルスルフィニル
C1-4アルキルとしては、フッ素,塩素,臭素などのハ
ロゲン、メチル,エチル,プロピル,イソプロピル,ブ
チル,イソブチル,t−ブチルなどのC1-4 アルキル、
メトキシ,エトキシ,プロポキシ,イソプロポキシ,ブ
トキシ,t−ブトキシなどのC1-4 アルコキシ、フルオ
ロメチル,1−フルオロエチル.2−フルオロエチル,
ジフルオロメチル,トリフルオロメチル,ジフルオロク
ロロメチル,フルオロクロロメチル,トリクロロメチ
ル,トリブロモメチル,トリフルオロエチルなどのC
1-4 ハロアルキル、トリフルオロメトキシ,1,1,
2,2−テトラフルオロエトキシ,トリクロロメトキ
シ,ジフルオロメトキシなどのC1-4 ハロアルコキシな
どで置換されてもよいフェニルスルフィニルメチル,フ
ェニルスルフィニルエチル,フェニルスルフィニルプロ
ピル,フェニルスルフィニルブチルなどが、置換されて
いてもよいフェニルスルホニルC1-4 アルキルとして
は、フッ素,塩素,臭素などのハロゲン、メチル,エチ
ル,プロピル,イソプロピル,ブチル,イソブチル,t
−ブチルなどのC1-4 アルキル、メトキシ,エトキシ,
プロポキシ,イソプロポキシ,ブトキシ,t−ブトキシ
などのC1-4 アルコキシ、フルオロメチル,1−フルオ
ロエチル.2−フルオロエチル,ジフルオロメチル,ト
リフルオロメチル,ジフルオロクロロメチル,フルオロ
クロロメチル,トリクロロメチル,トリブロモメチル,
トリフルオロエチルなどのC1-4 ハロアルキル、トリフ
ルオロメトキシ,1,1,2,2−テトラフルオロエト
キシ,トリクロロメトキシ,ジフルオロメトキシなどの
C1-4 ハロアルコキシなどで置換されてもよいフェニル
スルホニルメチル,フェニルスルホニルエチル,フェニ
ルスルホニルプロピル,フェニルスルホニルブチルなど
が、置換されていてもよいフェニルC1-4 アルキルオキ
シC1-4 アルキルとしては、フッ素,塩素,臭素などの
ハロゲン、メチル,エチル,プロピル,イソプロピル,
ブチル,イソブチル,t−ブチルなどのC1-4 アルキ
ル、メトキシ,エトキシ,プロポキシ,イソプロポキ
シ,ブトキシ,t−ブトキシなどのC1-4 アルコキシ、
フルオロメチル,1−フルオロエチル.2−フルオロエ
チル,ジフルオロメチル,トリフルオロメチル,ジフル
オロクロロメチル,フルオロクロロメチル,トリクロロ
メチル,トリブロモメチル,トリフルオロエチルなどの
C1-4 ハロアルキル、トリフルオロメトキシ,1,1,
2,2−テトラフルオロエトキシ,トリクロロメトキ
シ,ジフルオロメトキシなどのC1-4 ハロアルコキシな
どで置換されてもよいフェニルメトキシメチル,フェニ
ルメトキシエチル,フェニルエトキシメチル,フェニル
プロポキシメチル,フェニルイソプロポキシメチル,フ
ェニルブトキシメチルなどが挙げられる。Further, in R 4 to R 9 ,
Examples of the optionally substituted phenyl include halogen such as fluorine, chlorine, and bromine, methyl, ethyl, propyl,
Isopropyl, butyl, isobutyl, C 1-4 alkyl such as t- butyl, methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, C 1-4 alkoxy such as t- butoxy, fluoromethyl, 1-fluoroethyl. 2-
Fluoroethyl, difluoromethyl, trifluoromethyl, difluorochloromethyl, fluorochloromethyl,
Substituted with C 1-4 haloalkyl such as trichloromethyl, tribromomethyl, trifluoroethyl and the like, and C 1-4 haloalkoxy such as trifluoromethoxy, 1,1,2,2-tetrafluoroethoxy, trichloromethoxy and difluoromethoxy. Examples of phenylthio C 1-4 alkyl which may be substituted with phenyl and the like include halogen such as fluorine, chlorine and bromine, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl and t-butyl.
C 1-4 alkyl such as -butyl, methoxy, ethoxy,
C 1-4 alkoxy such as propoxy, isopropoxy, butoxy, t-butoxy, fluoromethyl, 1-fluoroethyl. 2-fluoroethyl, difluoromethyl, trifluoromethyl, difluorochloromethyl, fluorochloromethyl, trichloromethyl, tribromomethyl,
Phenylthiomethyl which may be substituted by C 1-4 haloalkyl such as trifluoroethyl, C 1-4 haloalkoxy such as trifluoromethoxy, 1,1,2,2-tetrafluoroethoxy, trichloromethoxy, difluoromethoxy and the like. , Phenylthioethyl, phenylthiopropyl and the like, and optionally substituted phenylsulfinyl C 1-4 alkyl include halogen such as fluorine, chlorine and bromine, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl and t-butyl. C 1-4 alkyl such as butyl,
C 1-4 alkoxy such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, t-butoxy, fluoromethyl, 1-fluoroethyl. 2-fluoroethyl,
C such as difluoromethyl, trifluoromethyl, difluorochloromethyl, fluorochloromethyl, trichloromethyl, tribromomethyl, trifluoroethyl, etc.
1-4 haloalkyl, trifluoromethoxy, 1,1,
Phenylsulfinylmethyl, phenylsulfinylethyl, phenylsulfinylpropyl, phenylsulfinylbutyl and the like which may be substituted by C 1-4 haloalkoxy such as 2,2-tetrafluoroethoxy, trichloromethoxy and difluoromethoxy are substituted. Examples of the phenylsulfonyl C 1-4 alkyl include halogen such as fluorine, chlorine and bromine, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl and t.
C 1-4 alkyl such as -butyl, methoxy, ethoxy,
C 1-4 alkoxy such as propoxy, isopropoxy, butoxy, t-butoxy, fluoromethyl, 1-fluoroethyl. 2-fluoroethyl, difluoromethyl, trifluoromethyl, difluorochloromethyl, fluorochloromethyl, trichloromethyl, tribromomethyl,
Phenylsulfonylmethyl which may be substituted with C 1-4 haloalkyl such as trifluoroethyl, C 1-4 haloalkoxy such as trifluoromethoxy, 1,1,2,2-tetrafluoroethoxy, trichloromethoxy, difluoromethoxy and the like. Phenylsulfonylethyl, phenylsulfonylpropyl, phenylsulfonylbutyl and the like, and optionally substituted phenyl C 1-4 alkyloxy C 1-4 alkyl includes halogen such as fluorine, chlorine and bromine, methyl, ethyl and propyl , Isopropyl,
Butyl, isobutyl, C 1-4 alkyl such as t- butyl, methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, C 1-4 alkoxy such as t- butoxy,
Fluoromethyl, 1-fluoroethyl. C 1-4 haloalkyl such as 2-fluoroethyl, difluoromethyl, trifluoromethyl, difluorochloromethyl, fluorochloromethyl, trichloromethyl, tribromomethyl, trifluoroethyl, trifluoromethoxy, 1,1,1
Phenylmethoxymethyl, phenylmethoxyethyl, phenylethoxymethyl, phenylpropoxymethyl, phenylisopropoxymethyl, phenylisopropoxymethyl which may be substituted by C 1-4 haloalkoxy such as 2,2-tetrafluoroethoxy, trichloromethoxy, difluoromethoxy and the like Butoxymethyl and the like.
【0012】さらに、R4 〜R9 において、C2-4 のア
ルキレン鎖としては、エチレン,トリメチレン,テトラ
メチレンなどが挙げられる。In R 4 to R 9 , examples of the C 2-4 alkylene chain include ethylene, trimethylene, tetramethylene and the like.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】本発明化合物は、次の方法によっ
て製造することができる。 製造法(i)BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The compound of the present invention can be produced by the following method. Production method (i)
【0014】[0014]
【化4】 Embedded image
【0015】(式中、R1 ,R2 ,R3 ,R4 ,R5 ,
R6 ,R7 ,R8 およびR9 は、前記と同じ意味を有
し、Qは、ハロゲン、アルキルカルボニルオキシ、アル
コキシカルボニルオキシまたはベンゾイルオキシを意味
する。)(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
R 6 , R 7 , R 8 and R 9 have the same meaning as described above, and Q represents halogen, alkylcarbonyloxy, alkoxycarbonyloxy or benzoyloxy. )
【0016】工程において、化合物〔Va〕および〔V
b〕は、化合物〔II〕と化合物[IVa ]とを各々1
モルずつあるいは一方を過剰に用い、1モルないし過剰
の塩基の存在下に反応させることによって得られる。用
いられる塩基は、KOH,NaOH等のアルカリ金属水
酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属水酸化
物、アルカリ土類金属炭酸塩、ジイソプロピルエチルア
ミン、トリエチルアミン、ピリジン、燐酸ナトリウム等
であり、溶媒としては、水, 塩化メチレン, クロロホル
ム,トルエン,酢酸エチル,N,N−ジメチルホルムア
ミド(DMF),テトラヒドロフラン(THF),ジメ
トキシエタン(DME),アセトニトリル等が用いられ
る。反応混合物は反応が完了するまで0℃から用いる溶
媒の沸点で攪拌される。また、四級アンモニウム塩等の
相間移動触媒を用いて、二相系で反応させることによっ
ても得られる。化合物〔Va〕および〔Vb〕は、化合
物〔II〕と化合物[IVb]化合物とを、ジシクロヘ
キシルカルボジイミド(DCC)等の脱水縮合剤の存在
下に反応させることによっても得られる。DCCとの反
応において用いられる溶媒としては、塩化メチレン,ク
ロロホルム,トルエン,酢酸エチル,DMF,THF,
DME,アセトニトリル等が用いられる。反応混合物は
反応が完了するまで−10℃から用いる溶媒の沸点で攪
拌される。反応混合物は常法によって処理される。In the process, the compounds [Va] and [V
b] represents the compound [II] and the compound [IVa] each having 1
It can be obtained by reacting in a molar excess or one of them in excess, in the presence of 1 mol to excess base. The base used is an alkali metal hydroxide such as KOH or NaOH, an alkali metal carbonate, an alkaline earth metal hydroxide, an alkaline earth metal carbonate, diisopropylethylamine, triethylamine, pyridine, sodium phosphate and the like. For example, water, methylene chloride, chloroform, toluene, ethyl acetate, N, N-dimethylformamide (DMF), tetrahydrofuran (THF), dimethoxyethane (DME), acetonitrile, and the like are used. The reaction mixture is stirred from 0 ° C. to the boiling point of the solvent used until the reaction is completed. It can also be obtained by reacting in a two-phase system using a phase transfer catalyst such as a quaternary ammonium salt. Compounds [Va] and [Vb] can also be obtained by reacting compound [II] with compound [IVb] in the presence of a dehydrating condensing agent such as dicyclohexylcarbodiimide (DCC). Solvents used in the reaction with DCC include methylene chloride, chloroform, toluene, ethyl acetate, DMF, THF,
DME, acetonitrile and the like are used. The reaction mixture is stirred from −10 ° C. to the boiling point of the solvent used until the reaction is complete. The reaction mixture is worked up in a conventional manner.
【0017】転位反応はシアン化合物および穏和な塩基
の存在下で行われる。例えば、1モルの化合物〔Va〕
および〔Vb〕を1〜4モルの塩基、好ましくは1〜2
モルの塩基および0.01〜0.5モル以上、好ましくは、
0.05〜0.2モルのシアン化合物と反応させる。ここで
用いられる塩基は前記の塩基がいずれも用いられ得る。
また、シアン化合物としてはシアン化カリウム,シアン
化ナトリウム,アセトンシアンヒドリン,シアン化水
素,シアン化カリウムを保持したポリマー等が用いられ
る。なお、少量のクラウンエーテル等の相間移動触媒を
加えることにより、反応がより短い時間で完結する。反
応温度は80℃より低い温度、好ましくは20〜40℃
で行われる。用いられる溶媒は、1,2−ジクロロエタ
ン,塩化メチレン,クロロホルム,トルエン,アセトニ
トリル,酢酸エチル,DMF,メチルイソブチルケト
ン,THF,DME等である。The rearrangement is carried out in the presence of a cyanide and a mild base. For example, one mole of the compound [Va]
And [Vb] are 1 to 4 mol of a base, preferably 1 to 2
Moles of base and 0.01 to 0.5 moles or more, preferably
It is reacted with 0.05 to 0.2 mol of a cyanide compound. As the base used here, any of the aforementioned bases can be used.
As the cyanide compound, potassium cyanide, sodium cyanide, acetone cyanohydrin, hydrogen cyanide, a polymer holding potassium cyanide, or the like is used. The reaction is completed in a shorter time by adding a small amount of a phase transfer catalyst such as a crown ether. The reaction temperature is lower than 80 ° C, preferably 20 to 40 ° C.
Done in The solvent used is 1,2-dichloroethane, methylene chloride, chloroform, toluene, acetonitrile, ethyl acetate, DMF, methyl isobutyl ketone, THF, DME and the like.
【0018】また、化合物〔I〕は、化合物〔II〕と
化合物[IVc ]とを塩基および必要ならばルイス酸の
存在下で反応させることによっても得られる。用いられ
る塩基は、KOH,NaOHなどのアルカリ金属水酸化
物、アルカリ土類金属の水酸化物、ジイソプロピルエチ
ルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、炭酸ナトリウ
ム、燐酸ナトリウムなどである。適当なルイス酸は、塩
化亜鉛,三塩化アルミニウム等であり、好ましくは塩化
亜鉛である。反応は、アセトニトリル,塩化メチレンな
どの有機溶媒中において、−20℃から溶媒の沸点まで
の適度な温度で行われる。Compound [I] can also be obtained by reacting compound [II] with compound [IVc] in the presence of a base and, if necessary, a Lewis acid. The base used is an alkali metal hydroxide such as KOH or NaOH, an alkaline earth metal hydroxide, diisopropylethylamine, triethylamine, pyridine, sodium carbonate, sodium phosphate and the like. Suitable Lewis acids are zinc chloride, aluminum trichloride and the like, preferably zinc chloride. The reaction is carried out in an organic solvent such as acetonitrile and methylene chloride at an appropriate temperature from -20 ° C to the boiling point of the solvent.
【0019】製造法(ii) また、上記のようにして製造した化合物〔Ia〕を用い
て以下の方法により、シクロヘキサン環上の置換基を変
換した目的とする化合物〔Ib〕および〔Ic〕を製造
することもできる。Production method (ii) The desired compounds [Ib] and [Ic] obtained by converting the substituent on the cyclohexane ring by the following method using the compound [Ia] produced as described above are obtained. It can also be manufactured.
【0020】[0020]
【化5】 Embedded image
【0021】(式中、R1 ,R2 ,R3 ,R4 ,R5 ,
R6 ,R7 ,R8 およびR9 は、前記と同じ意味を有す
る。)(Where R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
R 6 , R 7 , R 8 and R 9 have the same meaning as described above. )
【0022】すなわち、化合物〔Ia〕を溶媒中、フェ
ニルトリメチルアンモニウムトリブロミド,メルドラム
酸ジブロミド等のハロゲン化剤と0℃から溶媒の沸点ま
での適度な温度、好ましくは室温から50℃で、数時間
から数10時間反応させることによってハロゲン化され
たトリオン体〔Ib〕を製造することができる。用いら
れる溶媒としては、塩化メチレン,ベンゼン,酢酸エチ
ル,THF,アセトニトリル,DME等である。ハロゲ
ン化されたトリオン体〔Ib〕は、塩基の存在下、求核
試剤(nucleophile)との反応により目的と
する化合物〔Ic〕を製造することができる。That is, compound [Ia] is mixed with a halogenating agent such as phenyltrimethylammonium tribromide and Meldrum's acid dibromide in a solvent at an appropriate temperature from 0 ° C. to the boiling point of the solvent, preferably at room temperature to 50 ° C. for several hours. For several tens of hours to produce a halogenated trione [Ib]. Examples of the solvent used include methylene chloride, benzene, ethyl acetate, THF, acetonitrile, DME and the like. The target compound [Ic] can be produced by reacting the halogenated trione form [Ib] with a nucleophile in the presence of a base.
【0023】製造法(iii)Production method (iii)
【0024】[0024]
【化6】 Embedded image
【0025】(式中、R1 ,R2 ,R3 ,R4 ,R5 ,
R6 ,R7 ,R8 およびR9 は、前記と同じ意味を有す
る。R11は、低級の分岐していてもよいアルコキシ、ア
ラルキルオキシ、またはアセトキシを意味する。Zはハ
ロゲン、アルキルスルホナートまたはアリールスルホナ
ート等の脱離基を意味する。)(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
R 6 , R 7 , R 8 and R 9 have the same meaning as described above. R 11 represents lower optionally branched alkoxy, aralkyloxy, or acetoxy. Z represents a leaving group such as halogen, alkylsulfonate or arylsulfonate. )
【0026】化合物〔Ie〕は、化合物〔Id〕を、塩
酸,臭化水素酸等のハロゲン化水素酸、トリフルオロ酢
酸、三臭化ホウ素等の反応、水素化分解あるいはアルカ
リ加水分解等により、また、必要に応じて次いで加水分
解を行うことによって製造することができる。The compound [Ie] is prepared by reacting the compound [Id] with a hydrohalic acid such as hydrochloric acid or hydrobromic acid, trifluoroacetic acid, boron tribromide or the like, hydrogenolysis or alkali hydrolysis. Moreover, it can manufacture by hydrolyzing as needed.
【0027】さらに化合物〔Ie〕は、通常の方法によ
りハロゲン化、アルキルスルホナート化あるいはアリ−
ルスルホナート化することにより化合物〔If〕に導く
ことができる。この化合物〔If〕を溶媒中、等モル以
上の塩基の存在下、−20℃から用いる溶媒の沸点ま
で、好ましくは室温から100℃で30分から数10時
間反応させることによって化合物〔Ig〕を製造するこ
とができる。用いられる塩基は、KOH,NaOH等の
アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属の水酸化物、
ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン、ピリ
ジン、1,8−ジアザ−ビシクロ[5.4.0]ウンデ
−7−セン(DBU)、t−BuOK、トリトンB、炭
酸ナトリウム、燐酸ナトリウム等であり、溶媒として
は、単独あるいは混合して水,アルコール,塩化メチレ
ン,ベンゼン,トルエン,酢酸エチル,DMF,TH
F,DME,アセトニトリル等が用いられる。Further, the compound [Ie] can be converted to a halogenated compound, an alkylsulfonated compound or an allyl compound by a conventional method.
The compound [If] can be obtained by conversion to rusulfonate. The compound [Ig] is produced by reacting this compound [If] in a solvent in the presence of an equimolar or more base at −20 ° C. to the boiling point of the solvent used, preferably at room temperature to 100 ° C. for 30 minutes to several tens of hours. can do. Bases used are alkali metal hydroxides such as KOH and NaOH, hydroxides of alkaline earth metals,
Diisopropylethylamine, triethylamine, pyridine, 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] unde-7-cene (DBU), t-BuOK, triton B, sodium carbonate, sodium phosphate and the like. Water, alcohol, methylene chloride, benzene, toluene, ethyl acetate, DMF, TH
F, DME, acetonitrile and the like are used.
【0028】製造法(iv)Production method (iv)
【0029】[0029]
【化7】 Embedded image
【0030】(式中、R1 ,R2 ,R3 ,R4 ,R5 ,
R6 ,R7 ,R8 およびR9 は、前記と同じ意味を有す
る。R12,R13は、低級アルキル基を表し、R14は、水
素,C1-4 アルキル,C2-4 アルケニル,C2-4 アルキ
ニル,C1-4 ハロアルキル,C2-4 ハロアルケニル,C
2-4 ハロアルキニルを表し、mは0,1,2,3を表
す。)Where R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
R 6 , R 7 , R 8 and R 9 have the same meaning as described above. R 12 and R 13 represent a lower alkyl group; R 14 represents hydrogen, C 1-4 alkyl, C 2-4 alkenyl, C 2-4 alkynyl, C 1-4 haloalkyl, C 2-4 haloalkenyl, C
2-4 represents haloalkynyl, and m represents 0, 1, 2, 3. )
【0031】化合物〔Ih〕は、化合物〔I〕から公知
の方法により製造することができる。次に化合物〔I
h〕を溶媒中、等モル以上の式:H2 NOR14で表され
る化合物の存在下、−20℃から用いる溶媒の沸点ま
で、好ましくは室温から100℃で30分から数10時
間反応させることによって化合物〔Ii〕を製造するこ
とができる。なお、少量の硫酸等の酸触媒を加えること
により、反応がより短い時間で完結する。用いられる溶
媒としては、単独あるいは混合して水,アルコール,塩
化メチレン,ベンゼン,トルエン,酢酸エチル,DM
F,THF,DME,アセトニトリル等である。Compound [Ih] can be produced from compound [I] by a known method. Next, the compound [I
The solvent h], equimolar or more formula: presence of H compound represented by 2 NOR 14, to the boiling point of the solvent used -20 ° C., to preferably for 30 minutes to several 10 hours at 100 ° C. from room temperature Thus, compound [Ii] can be produced. The reaction is completed in a shorter time by adding a small amount of an acid catalyst such as sulfuric acid. The solvents used may be water, alcohol, methylene chloride, benzene, toluene, ethyl acetate, DM
F, THF, DME, acetonitrile and the like.
【0032】一般式〔II〕で表される環状ジオン体
は、公知の方法に従って製造することができる。また、
上記の置換された安息香酸[IVa ]も公知の反応によ
り製造することができる。The cyclic dione represented by the general formula [II] can be produced according to a known method. Also,
The above substituted benzoic acid [IVa] can also be produced by a known reaction.
【0033】本発明化合物の製造の重要な中間体である
化合物(1)および化合物(2)は以下のような方法に
よって製造できる。Compounds (1) and (2), which are important intermediates for producing the compound of the present invention, can be produced by the following methods.
【0034】[0034]
【化8】 Embedded image
【0035】〔式中、R1 ,R2 は、前記と同じ意味を
表す。R15は、R3 に対応するが水素原子を含まな
い。。Rは低級アルキルを表し、Xは、ハロゲン,R15
OSO3 基、R16SO3 基(R16は低級アルキル基、置
換していてもよいフェニル基)を表し、Yはハロゲン、
アルコキシを表す。〕[Wherein R 1 and R 2 have the same meanings as described above. R 15 corresponds to R 3 but does not include a hydrogen atom. . R represents lower alkyl, X represents halogen, R 15
An OSO 3 group, an R 16 SO 3 group (R 16 is a lower alkyl group, an optionally substituted phenyl group), Y is a halogen,
Represents alkoxy. ]
【0036】これらの中間体であるテトラゾール誘導体
は以下に示すような総説に記載の方法によって、合成す
ることができる。P.K.Kadaba,Synthe
sis,1973 71;M.F.Ansell,Ro
dd’s Chemistry of Carbon
Compounds,IVD,211−237,Els
evier Science Publishers
(1986); R.N.Butler,Advanc
esin Heterocyclic Chem.,2
1 323−436,Academic Press
(1977)These intermediate tetrazole derivatives can be synthesized by the methods described in the following review. P. K. Kadaba, Synthe
sis, 1973 71; F. Ansell, Ro
dd's Chemistry of Carbon
Compounds, IVD, 211-237, Els
Evier Science Publishers
(1986); N. Butler, Advanc
esin Heterocyclic Chem. , 2
1 323-436, Academic Press
(1977)
【0037】次に、具体的な例を挙げて説明する。化合
物(3)あるいは化合物(5)から既知の方法によって
合成されるベンゾニトリル体(7)に、アジ化ナトリウ
ム,アジ化リチウム,アジ化アンモニウムなどのアジ化
物、または、アジ化ナトリウムと塩化アンモニウムを加
え、DMF,N,N−ジメチルアセトアミド(DM
A),ジメチルスルホオキサイド(DMSO),アセト
ニトリルなどの溶媒中、室温から用いる溶媒の沸点の間
の温度で1〜48時間反応させることにより、化合物
(8)を製造できる。さらに、化合物(8)は、通常の
アルキル化により、化合物(1)を製造できる。アルキ
ル化の方法としては、例えば、アルキルハライド,ジア
ルキルスルフェート,アルキルスルホネートとアルカリ
金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩,有機アミン類、金
属ハライドなどを、エーテル類、アルコール類、アセト
ニトリル、DMF、DMSOなどの溶媒中、−10℃か
ら溶媒の沸点の間で反応させることが挙げられる。ま
た、カルボン酸(5)から常法に従って得られるN−ア
ルキルアミド体(9)から、常法に従い、イミドイルハ
ライドあるいはイミデート体(10)を合成し、化合物
(10)とアジ化ナトリウムを、アセトン、水、DM
F、DMA、DMSOなどの溶媒中−10℃から用いる
溶媒の沸点の間の温度で反応させることにより化合物
(2)を得ることができる。Next, a specific example will be described. Azide such as sodium azide, lithium azide, ammonium azide, or sodium azide and ammonium chloride are added to compound (3) or benzonitrile compound (7) synthesized from compound (5) by a known method. In addition, DMF, N, N-dimethylacetamide (DM
Compound (8) can be produced by reacting in a solvent such as A), dimethylsulfoxide (DMSO), or acetonitrile at a temperature between room temperature and the boiling point of the solvent to be used for 1 to 48 hours. Further, compound (1) can be produced from compound (8) by ordinary alkylation. As the alkylation method, for example, alkyl halides, dialkyl sulfates, alkyl sulfonates and alkali metal hydroxides, alkali metal carbonates, organic amines, metal halides, etc. are converted into ethers, alcohols, acetonitrile, DMF, DMSO In such a solvent, the reaction is carried out at a temperature between -10 ° C and the boiling point of the solvent. Further, from the N-alkylamide compound (9) obtained from the carboxylic acid (5) according to a conventional method, an imidoyl halide or an imidate compound (10) is synthesized according to a conventional method, and the compound (10) and sodium azide are converted into Acetone, water, DM
Compound (2) can be obtained by reacting in a solvent such as F, DMA or DMSO at a temperature between −10 ° C. and the boiling point of the solvent used.
【0038】さらに式[I−1]で表される安息香酸類
は、式[I−2]で表される4─Cl体に、塩基の存在
下にR’SHで表されるメルカプタンを作用させること
によって、式[I−3]で表される4−SR’体とした
のち、酸化することにより製造することができる。SO
2 R’が4位以外に置換している場合も相当する位置の
クロル体から同様にして変換できる。Further, the benzoic acid represented by the formula [I-1] reacts a mercaptan represented by R'SH on a 4 @ Cl compound represented by the formula [I-2] in the presence of a base. Thus, the compound can be produced by converting it into a 4-SR ′ form represented by the formula [I-3], and then oxidizing the form. SO
When 2R 'is substituted at a position other than the 4-position, it can be similarly converted from the chloro form at the corresponding position.
【0039】[0039]
【化9】 Embedded image
【0040】(式中、R1 およびRは、前記と同じ意味
を表し、R’はC1-4 アルキル基を表す。)(In the formula, R 1 and R have the same meanings as described above, and R ′ represents a C 1-4 alkyl group.)
【0041】この反応に用いられる塩基としては、水酸
化ナトリウム,水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化
物、ナトリウムメトキシド,ナトリウムエトキシド等の
金属アルコキシド,炭酸ナトリウム,炭酸カリウム等の
炭酸塩、水素化ナトリウムなどの水素化物、トリエチル
アミン,ジイソプロピルエチルアミン,DBU,ピリジ
ンなどの有機塩基を例示することができる。また、反応
に用いられる溶媒としては、メタノール,エタノールな
どのアルコール類、THF,DMEなどのエーテル類、
DMF,DMAなどのアミド類、DMSO,アセトニト
リル,ベンゼン,トルエン,キシレン等を例示すること
ことができる。次の酸化反応は、水、酢酸等の有機酸、
ジクロロメタン,クロロホルム,四塩化炭素等のハロゲ
ン化炭化水素等の不活性溶媒中、過酸化水素,過酢酸,
過安息香酸,m−クロロ過安息香酸などの過酸、次亜塩
素酸ナトリウム,次亜塩素酸カリウム等の次亜塩素酸等
の酸化剤を使用して行われる。反応は、室温から溶媒の
沸点までの温度範囲で円滑に進行する。The base used in this reaction includes alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, metal alkoxides such as sodium methoxide and sodium ethoxide, carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, and hydrogen. Examples include hydrides such as sodium chloride, and organic bases such as triethylamine, diisopropylethylamine, DBU, and pyridine. Examples of the solvent used in the reaction include alcohols such as methanol and ethanol, ethers such as THF and DME,
Examples include amides such as DMF and DMA, DMSO, acetonitrile, benzene, toluene, xylene and the like. The next oxidation reaction is water, organic acids such as acetic acid,
In an inert solvent such as a halogenated hydrocarbon such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride, hydrogen peroxide, peracetic acid,
It is carried out using an oxidizing agent such as peracid such as perbenzoic acid and m-chloroperbenzoic acid, and hypochlorous acid such as sodium hypochlorite and potassium hypochlorite. The reaction proceeds smoothly in a temperature range from room temperature to the boiling point of the solvent.
【0042】化合物[I]が、遊離のヒドロキシル基を
含有している場合には、該化合物から、その塩、特に農
園芸的に許容され得る塩、エナミンまたはその類似物,
アシレート,スルホネート,カルバメート,エーテル,
チオエーテル,スルホキシドまたはスルホン等を誘導し
得る。適当な農園芸的に許容され得る塩として、ナトリ
ウム,カリウム, リチウム等のアルカリ金属の塩、マグ
ネシウム, カルシウム等のアルカリ土類金属の塩および
アンモニウム塩等が挙げられる。アンモニウム塩の例と
しては、式:N+ RaRbRcRd(式中、Ra,R
b,RcおよびRdは、それぞれ独立して、水素およ
び、場合によりヒドロキシ基等により置換されたC1-10
アルキル基である)のイオンとの塩が挙げられる。R
a,Rb,RcおよびRdは、いずれかが、場合により
置換されたアルキル基である場合には、これらは1〜4
個の炭素原子を含有していることが望ましい。適当なエ
ナミンまたはその類似物は、OH部分がそれぞれ、式:
−NReRf(式中、ReおよびRfは、それぞれ独立
して、水素または、例えば炭素数が1〜6個の、場合に
より置換されたアルキル基またはアリール基、例えばフ
ェニル基である。)、ハロゲン、S(O)gRh(式
中:Rhは、例えば炭素数が1〜6個の、場合により置
換されたアルキル基またはアリール基、例えばフェニル
基であり、gは0〜2を表す。)に転化されている化合
物である。適当なアシレート,エーテルまたはカルバメ
ート誘導体は、OH部分が、それぞれ、式:−OCOR
i,−ORjまたは−OCONRkRl(式中、Riお
よびRjは、前記のRhと同じ意味を表し、Rkおよび
Rlは、前記のReと同じ意味を表す。)に転化されて
いる化合物である。これらの誘導体は、慣用の方法で製
造し得る。When the compound [I] contains a free hydroxyl group, a salt thereof, particularly an agriculturally and horticulturally acceptable salt, enamine or an analog thereof,
Acylate, sulfonate, carbamate, ether,
Thioethers, sulfoxides or sulfones can be derived. Suitable agriculturally and horticulturally acceptable salts include salts of alkali metals such as sodium, potassium and lithium, salts of alkaline earth metals such as magnesium and calcium, and ammonium salts. Examples of ammonium salts include those of the formula: N + RaRbRcRd (where Ra, R
b, Rc and Rd each independently represent hydrogen and C 1-10 optionally substituted by a hydroxy group or the like.
(Which is an alkyl group). R
When any of a, Rb, Rc and Rd is an optionally substituted alkyl group, they are 1 to 4
Desirably, it contains carbon atoms. Suitable enamines or analogs thereof are those wherein the OH moiety is each of the formula:
-NReRf, wherein Re and Rf are each independently hydrogen or an optionally substituted alkyl or aryl group having, for example, 1 to 6 carbon atoms, such as a phenyl group; a halogen; S (O) gRh where Rh is, for example, an optionally substituted alkyl or aryl group having 1 to 6 carbon atoms, such as a phenyl group, and g represents 0 to 2. It is a compound. Suitable acylate, ether or carbamate derivatives are those wherein the OH moiety is each of the formula: -OCOR
i, -ORj or -OCONRkRl (wherein Ri and Rj have the same meaning as Rh described above, and Rk and Rl have the same meaning as Re described above). These derivatives can be manufactured by a conventional method.
【0043】本発明化合物〔I〕には、光学活性体が存
在する場合もあり、さらに下記に示すような多数の互変
異性体の形で存在し得る。かかる形は、すべて本発明の
範囲に含まれる。The compound [I] of the present invention may exist in an optically active form, and may exist in a number of tautomeric forms as shown below. All such forms are within the scope of the present invention.
【0044】[0044]
【化10】 Embedded image
【0045】本発明において、反応終了後は、通常の後
処理を行うことにより目的物を得ることができる。本発
明化合物の構造は、IR,NMRおよびMS等から決定
した。In the present invention, after completion of the reaction, the desired product can be obtained by performing ordinary post-treatment. The structure of the compound of the present invention was determined from IR, NMR, MS and the like.
【0046】〔除草剤〕本発明化合物は畑作条件で、土
壌処理、茎葉処理のいずれの方法でも高い除草活性を示
し、アキノエノコログサ、エンバク、イチビ、イヌビユ
等の各種畑雑草に有効で、トウモロコシ、ムギ類、大
豆、ワタ等の作物に選択性を示す化合物も含まれてい
る。[Herbicidal agent] The compound of the present invention shows high herbicidal activity under any conditions of upland cropping, both in soil treatment and foliage treatment, and is effective for various field weeds such as Aquino nokogosa, oat, Ichibai and Inubuille, corn and wheat. It also contains compounds that show selectivity for crops such as soybeans, soybeans, and cotton.
【0047】また、本発明化合物は、作物、観賞用植
物、果樹等の有用植物に対し、生育抑制作用等の植物成
長調節作用を示す化合物も含まれている。The compounds of the present invention also include compounds having a plant growth regulating effect such as a growth inhibitory effect on useful plants such as crops, ornamental plants and fruit trees.
【0048】また、本発明化合物は、水田雑草のノビ
エ、タマガヤツリ、オモダカ、ホタルイ等の各種水田雑
草に対し、優れた殺草効力を有し、イネに選択性を示す
化合物も含まれている。さらに、本発明化合物は、果樹
園、芝生、線路端、空き地等の雑草の防除にも適用する
ことができる。本発明化合物には植物成長調節作用、殺
菌活性、殺虫・殺ダニ活性を有するものも含まれる。Further, the compound of the present invention has excellent herbicidal activity against various paddy weeds such as paddy field weeds such as Nobie, Tamayatsuri, Omodaka and Firefly, and also includes a compound showing selectivity to rice. Further, the compound of the present invention can be applied to the control of weeds in orchards, lawns, track ends, vacant lots and the like. The compounds of the present invention also include those having a plant growth regulating action, a bactericidal activity, an insecticidal / miticidal activity.
【0049】本発明除草剤は、本発明化合物の1種また
は2種以上を有効成分として含有する。本発明化合物を
実際に施用する際には、他成分を加えず純粋な形で使用
できるし、また農薬として使用する目的で一般の農薬の
とり得る形態、すなわち、水和剤,粒剤,粉剤,乳剤,
水溶剤,懸濁剤,フロアブル等の形態で使用することも
できる。添加剤および担体としては固型剤を目的とする
場合は、大豆粉,小麦粉等の植物性粉末、珪藻土,燐灰
石,石こう,タルク,ベントナイト,パイロフィライ
ト,クレイ等の鉱物性微粉末、安息香酸ソーダ,尿素,
芒硝等の有機および無機化合物が使用される。液体の剤
型を目的とする場合は、ケロシン,キシレンおよびソル
ベントナフサ等の石油留分、シクロヘキサン,シクロヘ
キサノン,DMF,DMSO,アルコール,アセトン,
トリクロルエチレン,メチルイソブチルケトン,鉱物
油,植物油,水等を溶剤として使用する。これらの製剤
において均一かつ安定な形態をとるために、必要ならば
界面活性剤を添加することもできる。界面活性剤として
は、特に限定はないが、例えば、ポリオキシエチレンが
付加したアルキルフェニルエーテル,ポリオキシエチレ
ンが付加したアルキルエーテル,ポリオキシエチレンが
付加した高級脂肪酸エステル,ポリオキシエチレンが付
加したソルビタン高級脂肪酸エステル,ポリオキシエチ
レンが付加したトリスチリルフェニルエーテル等の非イ
オン性界面活性剤,ポリオキシエチレンが付加したアル
キルフェニルエーテルの硫酸エステル塩,アルキルベン
ゼンスルホン酸塩,高級アルコールの硫酸エステル塩,
アルキル硫酸塩,アルキルナフタレンスルホン酸塩,ポ
リカルボン酸塩,リグニンスルホン酸塩,アルキルナフ
タレンスルホン酸塩のホルムアルデヒド縮合物,イソブ
チレン−無水マレイン酸の共重合物などが挙げられる。The herbicide of the present invention contains one or more of the compounds of the present invention as an active ingredient. When the compound of the present invention is actually applied, it can be used in a pure form without adding other components, and can be in the form of a general pesticide for use as a pesticide, that is, wettable powder, granule, powder ,emulsion,
It can be used in the form of a water solvent, a suspending agent, a flowable or the like. When solid additives are used as additives and carriers, plant powders such as soybean flour and flour; mineral fine powders such as diatomaceous earth, apatite, gypsum, talc, bentonite, pyrophyllite, and clay; benzoic acid Soda, urea,
Organic and inorganic compounds such as sodium sulfate are used. When a liquid dosage form is intended, petroleum fractions such as kerosene, xylene and solvent naphtha, cyclohexane, cyclohexanone, DMF, DMSO, alcohol, acetone,
Trichloroethylene, methyl isobutyl ketone, mineral oil, vegetable oil, water, etc. are used as solvents. In order to obtain a uniform and stable form in these preparations, a surfactant may be added, if necessary. Examples of the surfactant include, but are not particularly limited to, alkyl phenyl ether to which polyoxyethylene is added, alkyl ether to which polyoxyethylene is added, higher fatty acid ester to which polyoxyethylene is added, and sorbitan to which polyoxyethylene is added. Nonionic surfactants such as higher fatty acid esters, tristyryl phenyl ether added with polyoxyethylene, sulfates of alkyl phenyl ether added with polyoxyethylene, alkyl benzene sulfonates, sulfates of higher alcohols,
Examples thereof include alkyl sulfates, alkyl naphthalene sulfonates, polycarboxylates, lignin sulfonates, formaldehyde condensates of alkyl naphthalene sulfonates, and copolymers of isobutylene-maleic anhydride.
【0050】本発明除草剤における有効成分濃度は前述
した製剤の形により種々の濃度に変化するものである
が、例えば、水和剤においては、5〜90重量%、好ま
しくは10〜85%:乳剤においては、3〜70%、好
ましくは5〜60%:粒剤においては、0.01〜50
%、好ましくは、0.05%〜40%の濃度が用いられ
る。The concentration of the active ingredient in the herbicide of the present invention varies depending on the form of the preparation described above. For example, in the case of a wettable powder, 5-90% by weight, preferably 10-85%: 3 to 70%, preferably 5 to 60% in emulsions: 0.01 to 50 in granules
%, Preferably a concentration of 0.05% to 40% is used.
【0051】このようにして得られた水和剤、乳剤は水
で所定の濃度に希釈して懸濁液或いは乳濁液として、粒
剤はそのまま雑草の発芽前又は発芽後に散布処理もしく
は混和処理される。実際に本発明除草剤を適用するに当
たっては1ヘクタール当たり有効成分0.1g以上の適当
量が施用される。The wettable powder and emulsion thus obtained are diluted to a predetermined concentration with water to form a suspension or an emulsion, and the granules are directly sprayed or mixed before or after germination of the weeds. Is done. In actually applying the herbicide of the present invention, an appropriate amount of 0.1 g or more of the active ingredient per hectare is applied.
【0052】また、本発明除草剤は公知の殺菌剤,殺虫
剤,殺ダニ剤,除草剤,植物成長調整剤,肥料等と混合
して使用することも出来る。特に、除草剤と混合使用す
ることにより、使用薬量を減少させることが可能であ
る。また、省力化をもたらすのみならず、混合薬剤の相
乗作用により一層高い効果も期待できる。その場合、複
数の公知除草剤との組合せも可能である。The herbicide of the present invention can be used in combination with known fungicides, insecticides, acaricides, herbicides, plant growth regulators, fertilizers and the like. In particular, it is possible to reduce the amount of the drug used by mixing and using the herbicide. In addition to not only saving labor, but also higher effects can be expected due to the synergistic action of the mixed drug. In that case, a combination with a plurality of known herbicides is also possible.
【0053】本発明除草剤と混合使用するにふさわしい
薬剤としては、ジフルフェニカン,プロパニル等のアニ
リド系除草剤、アラクロール,プレチラクロール等のク
ロロアセトアニリド系除草剤、2,4−D,2,4−D
B等のアリールオキシアルカン酸系除草剤、ジクロホッ
プ−メチル,フェノキサプロップ−エチル等のアリール
オキシフェノキシアルカン酸系除草剤、ジカンバ,ピリ
チオバック等のアリールカルボン酸系除草剤、イマザキ
ン,イマゼタピル等のイミダゾリノン系除草剤、ジウロ
ン,イソプロツロン等のウレア系除草剤、クロルプロフ
ァム,フェンメジファム等のカーバメート系除草剤、チ
オベンカルブ、EPTC等のチオカーバメート系除草
剤、トリフルラリン,ペンジメタリン等のジニトロアニ
リン系除草剤、アシフルオルフェン、ホメサフェン等の
ジフェニルエーテル系除草剤、ベンスルフロン−メチ
ル、ニコスルフロン等のスルホニルウレア系除草剤、メ
トリブジン、メタミトロン等のトリアジノン系除草剤、
アトラジン、シアナジン等のトリアジン系除草剤、フル
メツラム等のトリアゾピリミジン系除草剤、ブロモキシ
ニル、ジクロベニル等のニトリル系除草剤、グリホサー
ト、グリホシネート等のリン酸系除草剤、パラコート、
ジフェンゾコート等の4級アンモニウム塩系除草剤、フ
ルミクロラック−ペンチル、フルチアセット−メチル等
の環状イミド系除草剤、その他として、イソキサベン、
エトフメセート、オキサジアゾン、キンクロラック、ク
ロマゾン、スルコトリオン、シンメチリン、ジチオピ
ル、ピラゾレート、ピリデート、フルポキサム、ベンタ
ゾン、ベンフルセート、更に、セトキシジム、トラルコ
キシジム等のシクロヘキサンジオン系除草剤等が挙げら
れる。また、これらの組み合わせた物に植物油及び油濃
縮物を添加することも出来る。The agents suitable for use in combination with the herbicide of the present invention include anilide herbicides such as diflufenican and propanil, chloroacetanilide herbicides such as arachlor and pretilachlor, and 2,4-D, 2,4-D.
Aryloxyalkanoic acid herbicides such as B; aryloxyphenoxyalkanoic acid herbicides such as diclohop-methyl and fenoxaprop-ethyl; arylcarboxylic acid herbicides such as dicamba and pyrithiobac; imidazolinones such as imazaquin and imazethapyr Based herbicides, urea herbicides such as diuron and isoproturone, carbamate herbicides such as chlorprofam and fenmedifam, thiocarbamate herbicides such as thiobencarb and EPTC, dinitroaniline herbicides such as trifluralin and pendimethalin, Acifluorfen, diphenyl ether herbicides such as fomesafen, benzulfuron-methyl, sulfonylurea herbicides such as nicosulfuron, metribuzin, triazinone herbicides such as metamitrone,
Atrazine, triazine herbicides such as cyanazine, triazopyrimidine herbicides such as flumeturum, bromoxynil, nitrile herbicides such as dichlobenil, glyphosate, phosphate herbicides such as glyphosinate, paraquat,
Quaternary ammonium salt-based herbicides such as difenzoquat; cyclic imide-based herbicides such as flumicrolac-pentyl and fluthiacet-methyl;
Examples include ethofumesate, oxadiazon, quinclorac, chromazone, sulcotrione, cinmethylin, dithiopyr, pyrazolate, pyridate, flupoxam, bentazone, benflusate, and cyclohexanedione herbicides such as sethoxydim and tralkoxydim. Vegetable oils and oil concentrates can also be added to these combinations.
【0054】[0054]
【実施例】次に実施例、参考例を挙げて、本発明化合物
を更に詳細に説明する。The compounds of the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Reference Examples.
【0055】実施例1 2−[2−クロロ−4−メチルスルホニル−3−(2−
メチルテトラゾール−5−イル)ベンゾイル]シクロヘ
キサン−1,3−ジオン(化合物番号II−5)の製造Example 1 2- [2-chloro-4-methylsulfonyl-3- (2-
Methyltetrazol-5-yl) benzoyl] cyclohexane-1,3-dione (Compound No. II-5)
【0056】[0056]
【化11】 Embedded image
【0057】ベンゼン20mlに、2−クロロ−4−メ
チルスルホニル−3−(2−メチルテトラゾール−5−
イル)ベンゾイックアシッド0.80g、チオニルクロリ
ド1.5gおよびピリジン一滴を加え、2時間加熱還流し
た。ベンゼンを減圧留去した後、ジクロロメタン20m
lに溶解した。この溶液を1,3−シクロヘキサンジオ
ン0.35gとトリエチルアミン0.30gの塩化メチレン
20ml溶液に室温で滴下して、さらに室温で2時間攪
拌した。反応混合物を1規定の塩酸水、飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留
去した。残留物をアセトニトリル20mlに溶解し、ト
リエチルアミン0.30gとアセトンシアンヒドリン0.1
0gを加え、室温で16時間攪拌した。溶媒を減圧下留
去した後、残留物をジクロロメタン0.10gを加え、室
温で16時間攪拌した。溶媒を減圧下留去した後、残留
物をジクロロメタンに溶解し、1N−水酸化ナトリウム
水溶液で抽出した。得られた水層を濃塩酸で酸性とし、
酢酸エチルで抽出して、水洗、飽和食塩水で洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。
粗製物にメタノールを加え、得られた結晶を濾別して、
結晶として、目的物0.65gを得た。m.p.205−
206℃In 20 ml of benzene, 2-chloro-4-methylsulfonyl-3- (2-methyltetrazole-5-
Il) Benzoic acid (0.80 g), thionyl chloride (1.5 g) and one drop of pyridine were added, and the mixture was heated under reflux for 2 hours. After distilling off benzene under reduced pressure, dichloromethane 20m
l. This solution was added dropwise to a solution of 0.35 g of 1,3-cyclohexanedione and 0.30 g of triethylamine in 20 ml of methylene chloride at room temperature, and further stirred at room temperature for 2 hours. The reaction mixture was washed with 1N aqueous hydrochloric acid and saturated saline, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was dissolved in acetonitrile (20 ml), triethylamine (0.30 g) and acetone cyanohydrin (0.1).
0 g was added, and the mixture was stirred at room temperature for 16 hours. After evaporating the solvent under reduced pressure, 0.10 g of dichloromethane was added to the residue, and the mixture was stirred at room temperature for 16 hours. After evaporating the solvent under reduced pressure, the residue was dissolved in dichloromethane and extracted with a 1N aqueous sodium hydroxide solution. The resulting aqueous layer was acidified with concentrated hydrochloric acid,
The mixture was extracted with ethyl acetate, washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off.
Methanol was added to the crude product, and the obtained crystals were separated by filtration.
0.65 g of the desired product was obtained as crystals. m. p. 205-
206 ° C
【0058】参考例1 2,4−ジクロロ−3−(1−メチルテトラゾール−5
−イル)ベンゾイックアシッドの製造Reference Example 1 2,4-dichloro-3- (1-methyltetrazole-5
-Il) Manufacture of benzoic acid
【0059】[0059]
【化12】 Embedded image
【0060】2,6−ジクロロ−3−メトキシカルボニ
ルベンゾイックアシッドメチルアミド25.1g、五塩化
リン20.9gをベンゼン300mlに加え、1時間45
分間加熱還流した。冷却後、ベンゼンおよび低沸分を減
圧留去して得た粗製イミドイルクロリドをDMF200
mlに溶解し、室温下に90%アジ化ナトリウム7.24
gを添加した。添加後、室温で60時間、80℃で10
時間攪拌した。冷却後、氷水にあけ、酢酸エチルで抽出
した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去して、結晶を含
む油状物質を得た。酢酸エチルで結晶を濾別後、濾液を
濃縮して得た油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=7/3)で精製し
て、結晶として、メチル 2,4−ジクロロ−3−(1
−メチルテトラゾール−5−イル)ベンゾエート10.7
gを得た。m.p.109−110℃メチル 2,4−
ジクロロ−3−(1−メチルテトラゾール−5−イル)
ベンゾエート4.0gをエタノール42mlに加え、1N
−水酸化ナトリウム水溶液41.7mlを加えた後、室温
で22時間攪拌した。反応終了後、溶媒を減圧留去して
得られた残留物を水に溶解し、冷却下に酢酸エチルで洗
浄した。水層は、濃塩酸で酸性とし、酢酸エチルで抽出
した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去して、結晶とし
て目的物3.64gを得た。m.p.232−235℃25.1 g of 2,6-dichloro-3-methoxycarbonylbenzoic acid methylamide and 20.9 g of phosphorus pentachloride were added to 300 ml of benzene and added for 1 hour and 45 hours.
Heated to reflux for minutes. After cooling, the crude imidoyl chloride obtained by distilling off benzene and low boiling components under reduced pressure was added to DMF200
and 90% sodium azide 7.24 at room temperature.
g was added. After addition, add 10 hours at 80 ° C for 60 hours at room temperature.
Stirred for hours. After cooling, the mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water and brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain an oil containing crystals. After filtering off the crystals with ethyl acetate, the filtrate was concentrated and the resulting oil was purified by silica gel column chromatography (n-hexane / ethyl acetate = 7/3) to give methyl 2,4-dichloro- 3- (1
-Methyltetrazol-5-yl) benzoate 10.7
g was obtained. m. p. 109-110 ° C Methyl 2,4-
Dichloro-3- (1-methyltetrazol-5-yl)
Add 4.0 g of benzoate to 42 ml of ethanol and add 1N
After adding 41.7 ml of an aqueous sodium hydroxide solution, the mixture was stirred at room temperature for 22 hours. After completion of the reaction, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was dissolved in water and washed with ethyl acetate under cooling. The aqueous layer was made acidic with concentrated hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water and brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 3.64 g of the desired product as crystals. m. p. 232-235 ° C
【0061】参考例2 2,6−ジクロロ−3−メトキシカルボニルベンゾイッ
クアシッドメチルアミドの製造Reference Example 2 Production of 2,6-dichloro-3-methoxycarbonylbenzoic acid methylamide
【0062】[0062]
【化13】 Embedded image
【0063】2,6−ジクロロ−3−メトキシカルボニ
ルベンゾイックアシッド30.0g、塩化チオニル71.4
gをベンゼン300mlに加え、数滴のピリジンを添加
後、2時間加熱還流した。冷却後、ベンゼンおよび低沸
物を減圧下に留去して、得られた残留物をアセトニトリ
ル200mlに溶解し、氷冷下にメチルアミン塩酸塩8.
9g、次いでトリエチルアミン26.6gを添加後、2時
間加熱還流した。冷却後、アセトニトリルを減圧留去し
て、得られた残留物をクロロホルムに溶解し、水洗およ
び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を減圧留去して、得られた結晶を酢酸エチルで
洗浄して、目的物25.12gを得た。2,6-dichloro-3-methoxycarbonylbenzoic acid 30.0 g, thionyl chloride 71.4
g was added to 300 ml of benzene, a few drops of pyridine were added, and the mixture was heated under reflux for 2 hours. After cooling, benzene and low-boiling substances were distilled off under reduced pressure, the obtained residue was dissolved in 200 ml of acetonitrile, and methylamine hydrochloride 8.
After adding 9 g and then 26.6 g of triethylamine, the mixture was heated under reflux for 2 hours. After cooling, acetonitrile was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was dissolved in chloroform, washed with water and saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained crystals were washed with ethyl acetate to obtain 25.12 g of the desired product.
【0064】参考例3 2,4−ジクロロ−3−(2−メチルテトラゾール−5
−イル)ベンゾイックアシッドの製造Reference Example 3 2,4-Dichloro-3- (2-methyltetrazole-5
-Il) Manufacture of benzoic acid
【0065】[0065]
【化14】 Embedded image
【0066】2,4−ジクロロ−3−(テトラゾール−
5−イル)ベンゾイックアシッド3.3gをDMF20m
lに溶解し、炭酸カリウム3.7gおよび沃化メチル3.8
gを添加後、100℃で2時間攪拌した。反応液は、冷
却後水にあけ、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和
食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を減圧留去して、得られた残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル
=7/3)で精製して、メチル 2,4−ジクロロ−3
−(2−メチルテトラゾール−5−イル)ベンゾエート
1.51gを得た。メチル 2,4−ジクロロ−3−(2
−メチルテトラゾール−5−イル)ベンゾエート1.91
gをエタノール20mlに添加し、1N−水酸化ナトリ
ウム水溶液20mlを加えて、室温で15時間攪拌し
た。参考例1と同様の後処理を行い、結晶として目的物
1.51gを得た。m.p.214−217℃2,4-dichloro-3- (tetrazole-
3.3 g of 5-yl) benzoic acid in 20 m of DMF
of potassium carbonate and 3.8 g of methyl iodide.
After adding g, the mixture was stirred at 100 ° C. for 2 hours. The reaction solution was cooled, poured into water, extracted with ethyl acetate, and the organic layer was washed with water and saturated saline, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane / ethyl acetate = 7/3) to give methyl 2,4-dichloro-3.
-(2-methyltetrazol-5-yl) benzoate
1.51 g were obtained. Methyl 2,4-dichloro-3- (2
-Methyltetrazol-5-yl) benzoate 1.91
g was added to 20 ml of ethanol, 20 ml of a 1N aqueous solution of sodium hydroxide was added, and the mixture was stirred at room temperature for 15 hours. The same post-treatment as in Reference Example 1 was performed to obtain the target compound as crystals.
1.51 g were obtained. m. p. 214-217 ° C
【0067】参考例4 メチル 2−クロロ−3−(2−メチルテトラゾール−
5−イル)−4−メチルスルホニルベンゾエートの製造Reference Example 4 Methyl 2-chloro-3- (2-methyltetrazole-
Preparation of 5-yl) -4-methylsulfonylbenzoate
【0068】[0068]
【化15】 Embedded image
【0069】メチル 2,4−ジクロロ−3−(2−メ
チルテトラゾール−5−イル)ベンゾエート7.46gと
炭酸カリウム3.93gを60mlのDMFに溶解し、メ
タンチオール1.86gを溶解したDMF20mlを加
え、室温で17.5時間、ついで40℃で2.5時間攪拌し
た。反応混合物を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、飽
和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒
を減圧下留去した。得られた粗製メチル 2−クロロ−
3−(2−メチルテトラゾール−5−イル)−4−メチ
ルスルフェニルベンゾエート体を150mlのクロロホ
ルムに溶解し、m−クロロ過安息香酸24.3g(純度5
5%)を加え、室温で18時間攪拌した。反応混合物を
濾過し、濾液を1N−水酸化ナトリウム水溶液、次いで
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を減圧下留去した。残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=7/3)
で精製し、白色結晶として目的物4.66gを得た。m.
p.150−151℃7.46 g of methyl 2,4-dichloro-3- (2-methyltetrazol-5-yl) benzoate and 3.93 g of potassium carbonate were dissolved in 60 ml of DMF, and 20 ml of DMF containing 1.86 g of methanethiol were dissolved. The mixture was stirred at room temperature for 17.5 hours and then at 40 ° C. for 2.5 hours. The reaction mixture was poured into ice water, extracted with ethyl acetate, washed with brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The resulting crude methyl 2-chloro-
The 3- (2-methyltetrazol-5-yl) -4-methylsulfenylbenzoate was dissolved in 150 ml of chloroform, and 24.3 g of m-chloroperbenzoic acid (purity: 5
5%) and stirred at room temperature for 18 hours. The reaction mixture was filtered, and the filtrate was washed with a 1N aqueous solution of sodium hydroxide and then with a saturated saline solution, and dried over anhydrous magnesium sulfate.
The solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (n-hexane / ethyl acetate = 7/3).
To give 4.66 g of the desired product as white crystals. m.
p. 150-151 ° C
【0070】参考例5 2−クロロ−3−(2−メチルテトラゾール−5−イ
ル)−4−メチルスルホニルベンゾイックアシッドの製
造Reference Example 5 Production of 2-chloro-3- (2-methyltetrazol-5-yl) -4-methylsulfonylbenzoic acid
【0071】[0071]
【化16】 Embedded image
【0072】メチル 2−クロロ−3−(2−メチルテ
トラゾール−5−イル)−4−メチルスルホニルベンゾ
エート4.66gをエタノール42mlに添加し、1N−
水酸化ナトリウム水溶液42mlを加えて、室温で15
時間攪拌した。参考例1と同様の後処理を行い、結晶と
して、目的物4.1gを得た。m.p.201−202℃ 同様にして、2−クロロ−3−(1−メチルテトラゾー
ル−5−イル)−4−メチルスルホニルベンゾイックア
シッドを粉末で得た。1 H−NMR(CDCl3 ,δppm) 3.20(3H,s),3.96(3H,s),8.2
7(1H,d),8.33(1H,d),9.27(1
H,bs)4.66 g of methyl 2-chloro-3- (2-methyltetrazol-5-yl) -4-methylsulfonylbenzoate was added to 42 ml of ethanol, and 1N-
Add 42 ml of aqueous sodium hydroxide solution and add
Stirred for hours. The same post-treatment as in Reference Example 1 was performed to obtain 4.1 g of the desired product as crystals. m. p. 201-202 ° C In a similar manner, 2-chloro-3- (1-methyltetrazol-5-yl) -4-methylsulfonylbenzoic acid was obtained as a powder. 1 H-NMR (CDCl 3 , δ ppm) 3.20 (3H, s), 3.96 (3H, s), 8.2
7 (1H, d), 8.33 (1H, d), 9.27 (1
H, bs)
【0073】参考例6 2,4−ジクロロ−3−(テトラゾール−5−イル)ベ
ンゾイックアシッドの製造Reference Example 6 Production of 2,4-dichloro-3- (tetrazol-5-yl) benzoic acid
【0074】[0074]
【化17】 Embedded image
【0075】メチル 3−[1−(2−シアノエチル)
テトラゾール−5−イル]−2,4−ジクロロベンゾエ
ート5.6gをエタノール100mlに加え、1N−水酸
化ナトリウム水溶液100mlを加えた後、室温で15
時間攪拌した。反応終了後、溶媒を減圧留去して、得ら
れた残留物を水に溶解し、1N−塩酸で酸性とした後、
酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗、飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧
留去して、結晶として目的物4.4gを得た。m.p.2
35−238℃Methyl 3- [1- (2-cyanoethyl)
5.6 g of [tetrazol-5-yl] -2,4-dichlorobenzoate was added to 100 ml of ethanol, and 100 ml of a 1N aqueous sodium hydroxide solution was added.
Stirred for hours. After completion of the reaction, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was dissolved in water and acidified with 1N-hydrochloric acid.
Extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water, saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 4.4 g of the desired product as crystals. m. p. 2
35-238 ° C
【0076】参考例7 メチル 3−[1−(2−シアノエチル)テトラゾール
−5−イル]−2,4−ジクロロベンゾエートの製造Reference Example 7 Production of methyl 3- [1- (2-cyanoethyl) tetrazol-5-yl] -2,4-dichlorobenzoate
【0077】[0077]
【化18】 Embedded image
【0078】2,6−ジクロロ−3−メトキシカルボニ
ルベンゾイックアシッド 2−シアノエチルアミド43.
2g、五塩化リン32.9gをベンゼン500mlに加
え、1時間加熱還流した。冷却後、ベンゼンおよび低沸
分を減圧留去して得た粗製イミドイルクロリドを、DM
F300mlに溶解し、室温下に、90%アジ化ナトリ
ウム11.4gを添加した。添加後、80℃で17時間攪
拌した。冷却後、氷水にあけ、酢酸エチルで抽出した。
有機層を水洗、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。得られた粗製
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサ
ン/酢酸エチル=7/3)で精製して、目的物5.6gを
得た。2,6-dichloro-3-methoxycarbonylbenzoic acid 2-cyanoethylamide 43.
2 g and 32.9 g of phosphorus pentachloride were added to 500 ml of benzene, and the mixture was heated under reflux for 1 hour. After cooling, the crude imidoyl chloride obtained by distilling off benzene and low boiling components under reduced pressure was added to DM
The solution was dissolved in 300 ml of F. At room temperature, 11.4 g of 90% sodium azide was added. After the addition, the mixture was stirred at 80 ° C. for 17 hours. After cooling, the mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate.
The organic layer was washed with water, washed with saturated saline, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained crude product was purified by silica gel column chromatography (n-hexane / ethyl acetate = 7/3) to obtain 5.6 g of the desired product.
【0079】参考例8 2,6−ジクロロ−3−メトキシカルボニルベンゾイッ
クアシッド 2−シアノエチルアミドの製造Reference Example 8 Production of 2,6-dichloro-3-methoxycarbonylbenzoic acid 2-cyanoethylamide
【0080】[0080]
【化19】 Embedded image
【0081】2,6−ジクロロ−3−メトキシカルボニ
ルベンゾイックアシッド38.0g、塩化チオニル90.8
gをベンゼン400mlに加え、数滴のピリジンを添加
後、1.5時間加熱還流した。冷却後、ベンゼンおよび低
沸物を減圧下に留去して、得られた残留物をアセトニト
リル250mlに溶解し、氷冷下に、2−シアノエチル
アミン21.4gを滴下後、さらに、室温で17時間攪拌
した。冷却後、アセトニトリルを減圧留去後、得られた
残留物をクロロホルムに溶解し、水洗および飽和食塩水
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減
圧留去して、目的物43.2gを得た。38.0 g of 2,6-dichloro-3-methoxycarbonylbenzoic acid, 90.8 thionyl chloride
g was added to 400 ml of benzene, a few drops of pyridine were added, and the mixture was heated under reflux for 1.5 hours. After cooling, benzene and low-boiling substances were distilled off under reduced pressure. The obtained residue was dissolved in 250 ml of acetonitrile, and 21.4 g of 2-cyanoethylamine was added dropwise under ice-cooling. Stirred for hours. After cooling, acetonitrile was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was dissolved in chloroform, washed with water and saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 43.2 g of the desired product.
【0082】上記実施例を含め、本発明化合物の代表例
を第1表〜第4表に示す。Representative examples of the compounds of the present invention, including the above Examples, are shown in Tables 1 to 4.
【0083】[0083]
【表101】 [Table 101]
【0084】[0084]
【表102】 [Table 102]
【0085】[0085]
【表103】 [Table 103]
【0086】[0086]
【表104】 [Table 104]
【0087】[0087]
【表105】 [Table 105]
【0088】[0088]
【表201】 [Table 201]
【0089】[0089]
【表202】 [Table 202]
【0090】[0090]
【表203】 [Table 203]
【0091】[0091]
【表204】 [Table 204]
【0092】[0092]
【表205】 [Table 205]
【0093】[0093]
【表206】 [Table 206]
【0094】[0094]
【表301】 [Table 301]
【0095】[0095]
【表302】 [Table 302]
【0096】[0096]
【表303】 [Table 303]
【0097】[0097]
【表401】 [Table 401]
【0098】[0098]
【表402】 [Table 402]
【0099】〔除草剤〕次に、本発明除草剤に関する製
剤例を若干示すが、有効成分化合物、添加物及び添加割
合は、本実施例にのみ限定されることなく、広い範囲で
変更可能である。製剤実施例中の部は重量部を示す。[Herbicide] Next, some formulation examples of the herbicide of the present invention are shown. The active ingredient compounds, additives and the ratio of addition are not limited to the present example, but can be changed in a wide range. is there. Parts in Formulation Examples are parts by weight.
【0100】 実施例2 水和剤 本発明化合物 20部 ホワイトカーボン 20部 ケイソウ土 52部 アルキル硫酸ソーダ 8部 以上を均一に混合、微細に粉砕して、有効成分20%の
水和剤を得た。Example 2 Wettable powder 20 parts of the compound of the present invention 20 parts White carbon 20 parts Diatomaceous earth 52 parts Sodium alkyl sulfate 8 parts The above components were uniformly mixed and finely pulverized to obtain a wettable powder having an active ingredient of 20%. .
【0101】 実施例3 乳剤 本発明化合物 20部 キシレン 55部 ジメチルホルムアミド 15部 ポリオキシエチレンフェニルエーテル 10部 以上を混合、溶解して有効成分20%の乳剤を得た。Example 3 Emulsion 20 parts of the compound of the present invention 55 parts of xylene 15 parts of dimethylformamide 10 parts of polyoxyethylene phenyl ether The above were mixed and dissolved to obtain an emulsion having an active ingredient of 20%.
【0102】 実施例4 粒剤 本発明化合物 5部 タルク 40部 クレー 38部 ベントナイト 10部 アルキル硫酸ソーダ 7部 以上を均一に混合して微細に粉砕後、直径0.5〜1.0m
mの粒状に造粒して有効成分5%の粒剤を得た。Example 4 Granules Compound of the present invention 5 parts Talc 40 parts Clay 38 parts Bentonite 10 parts Alkyl sulfate 7 parts After uniformly mixing and finely pulverizing, the diameter is 0.5 to 1.0 m.
m was granulated to obtain granules having an active ingredient of 5%.
【0103】[0103]
【発明の効果】次に本発明除草剤の効果に関する試験例
を示す。除草効果は下記の調査基準に従って調査し、殺
草指数で表した。Next, test examples relating to the effect of the herbicide of the present invention will be shown. The herbicidal effect was investigated according to the following criteria and expressed as a weed kill index.
【0104】 調査基準 殺 草 率 殺 草 指 数 0% 0 20〜29% 2 40〜49% 4 60〜69% 6 80〜89% 8 100% 10 また、1、3、5、7、9の数値は、各々0と2、2と
4、4と6、6と8、8と10の中間の値を示す。Survey criteria Weed kill rate Weed kill index 0% 0 20-29% 240-49% 460-69% 680-89% 8 100% 10 Also, 1, 3, 5, 7, 9 The numerical values indicate intermediate values between 0 and 2, 2 and 4, 4 and 6, 6 and 8, and 8 and 10, respectively.
【0105】[0105]
【数1】 (Equation 1)
【0106】試験例1 茎葉散布処理 200cm2 のポットに土壌を充填し、表層にイチビ,
イヌビユ,オナモミ,アキノエノコログサ及びトウモロ
コシの各種子を播き、軽く覆土後温室内で生育させた。
各植物が5〜25cmの草丈に生育した時点で実施例3
に示した乳剤の水希釈液を、有効成分が所定の薬量にな
るように1000リットル/haの散布量相当量で、小
型噴霧器にて茎葉部に散布した。3週間後に作物の薬害
及び雑草の除草効果を前記調査基準に従って調査し、そ
の結果を第5表に示した。Test Example 1 Foliar spraying treatment A 200 cm 2 pot was filled with soil, and the surface layer was made of strawberry,
Various seedlings of Brassica juncea, Onomimomi, Aquinoenokorogosa and Maize were sown, grown lightly in the greenhouse after soil covering.
Example 3 when each plant grew to a plant height of 5 to 25 cm
The water dilution of the emulsion shown in (1) was sprayed onto the foliage with a small sprayer in an amount equivalent to the spraying amount of 1000 liter / ha so that the active ingredient had a predetermined dose. Three weeks later, the phytotoxicity of the crop and the herbicidal effect of the weeds were examined in accordance with the above-mentioned survey criteria.
【0107】[0107]
【表5】 [Table 5]
フロントページの続き (72)発明者 古口 正巳 神奈川県小田原市高田345 日本曹達株式 会社小田原研究所内Continued on the front page (72) Inventor Masami Furuguchi 345 Takada, Odawara-shi, Kanagawa Pref.
Claims (2)
アノ,ハロゲン,C1-4アルキル,C1-4 アルコキシ,
C1-4 ハロアルキル,C1-4 アルキルチオ,C1-4 アル
キルスルフィニル,またはC1-4 アルキルスルホニルを
表す。R3 は、水素,またはC1-4 アルキルを表す。R
4 ,R5 ,R6 ,R7 ,R8 およびR9 は、それぞれ独
立して、水素,シアノ,ホルミル,ハロゲン,C1-4 ア
ルキル,C1-4 ハロアルキル,C1-4 アルコキシ,C
1-4 ハロアルコキシ,C1-4 アルキルチオ,C1-4 アル
キルスルフィニル,C1-4 アルキルスルホニル,C1-4
アルキルチオC1-4 アルキル,C1-4 アルキルスルフィ
ニルC1-4 アルキル,C1-4 アルキルスルホニルC1-4
アルキル,C1-4 アルコキシC1-4 アルキル,C1-4 ア
ルキルカルボニルオキシC1-4 アルキル,ヒドロキシC
1-4 アルキル,ジC1-4 アルコキシC1-4 アルキル,C
1-4 アルコキシカルボニル,ヒドロキシイミノC1-4 ア
ルキル,C1-4 アルコキシイミノC1-4 アルキル,C
2-4 アルケニルオキシイミノC1-4 アルキル,C2-4ア
ルキニルオキシイミノC1-4 アルキル,C1-4 ハロアル
コキシイミノC1-4 アルキル,C2-4 ハロアルケニルオ
キシイミノC1-4 アルキル,C2-4 ハロアルキニルオキ
シイミノC1-4 アルキル,置換されていてもよいフェニ
ル,置換されていてもよいフェニルチオC1-4 アルキ
ル,置換されていてもよいフェニルスルフィニルC1-4
アルキル,置換されていてもよいフェニルスルホニルC
1-4 アルキル,または置換されていてもよいフェニルC
1-4 アルキルオキシC1-4 アルキルを表す。また、(R
4 とR5 )、(R6 とR7 )または(R8 とR9 )は、
それぞれ一緒になってオキソまたはC2-4 のアルキレン
鎖を形成していてもよく、さらにR5 とR7 は一緒にな
ってメチレンまたはC2-4 のアルキレン鎖を形成しても
よい。]で表されるベンゼン誘導体またはその塩。1. A compound of the general formula [I] Wherein R 1 and R 2 are each independently nitro, cyano, halogen, C 1-4 alkyl, C 1-4 alkoxy,
Represents C 1-4 haloalkyl, C 1-4 alkylthio, C 1-4 alkylsulfinyl, or C 1-4 alkylsulfonyl. R 3 represents hydrogen or C 1-4 alkyl. R
4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 are each independently hydrogen, cyano, formyl, halogen, C 1-4 alkyl, C 1-4 haloalkyl, C 1-4 alkoxy, C
1-4 haloalkoxy, C 1-4 alkylthio, C 1-4 alkylsulfinyl, C 1-4 alkylsulfonyl, C 1-4
Alkylthio C 1-4 alkyl, C 1-4 alkylsulfinyl C 1-4 alkyl, C 1-4 alkylsulfonyl C 1-4
Alkyl, C 1-4 alkoxy C 1-4 alkyl, C 1-4 alkylcarbonyloxy C 1-4 alkyl, hydroxy C
1-4 alkyl, di C 1-4 alkoxy C 1-4 alkyl, C
1-4 alkoxycarbonyl, hydroxyimino C 1-4 alkyl, C 1-4 alkoxyimino C 1-4 alkyl, C
2-4 alkenyloxyimino C 1-4 alkyl, C 2-4 alkynyloxy imino C 1-4 alkyl, C 1-4 haloalkoxy imino C 1-4 alkyl, C 2-4 haloalkenyloxy imino C 1-4 Alkyl, C 2-4 haloalkynyloxyimino C 1-4 alkyl, optionally substituted phenyl, optionally substituted phenylthio C 1-4 alkyl, optionally substituted phenylsulfinyl C 1-4
Alkyl, optionally substituted phenylsulfonyl C
1-4 alkyl, or optionally substituted phenyl C
1-4 alkyloxy represents C 1-4 alkyl. Also, (R
4 and R 5 ), (R 6 and R 7 ) or (R 8 and R 9 )
Each may together form an oxo or C 2-4 alkylene chain, and R 5 and R 7 may together form a methylene or C 2-4 alkylene chain. Or a salt thereof.
R8 およびR9 は、前記と同じ意味を表す。)で表され
る化合物もしくはその塩の1種または2種以上を有効成
分として含有することを特徴とする除草剤。2. A compound of the general formula [I] (Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 ,
R 8 and R 9 represent the same meaning as described above. Or a salt thereof, as an active ingredient.
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---|---|---|---|
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CN107353238A (en) * | 2017-08-17 | 2017-11-17 | 青岛清原化合物有限公司 | Substituted benzoylcyclohexan cyclohexadione compounds or its dynamic isomer, salt, preparation method, Herbicidal combinations and application |
WO2021204665A1 (en) | 2020-04-07 | 2021-10-14 | Bayer Aktiengesellschaft | Substituted isophthalic acid diamides |
WO2021204667A1 (en) | 2020-04-07 | 2021-10-14 | Bayer Aktiengesellschaft | Substituted isophthalic acid diamides |
WO2021204669A1 (en) | 2020-04-07 | 2021-10-14 | Bayer Aktiengesellschaft | Substituted isophthalic acid diamides |
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1997
- 1997-06-27 JP JP18753397A patent/JPH1121280A/en active Pending
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