JPH06163778A - Semiconductor device and its manufacture - Google Patents

Semiconductor device and its manufacture

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JPH06163778A
JPH06163778A JP33960092A JP33960092A JPH06163778A JP H06163778 A JPH06163778 A JP H06163778A JP 33960092 A JP33960092 A JP 33960092A JP 33960092 A JP33960092 A JP 33960092A JP H06163778 A JPH06163778 A JP H06163778A
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frame
heat sink
leads
lead
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淳 福井
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厚生 能隅
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    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item

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  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
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Abstract

PURPOSE:To enhance the flatness of inner leads by a method wherein a heat treatment process used to remove a residual stress in a working history stored in a lead frame is omitted, the manufacturing process of the lead frame is shortened, the deformation of the inner leads is prevented, the positional accuracy of the inner leads is enhanced and the levitation and fall of the inner leads is eliminated. CONSTITUTION:The title semiconductor device is provided with many leads 12, with a frame-shaped bonding part 14 which connects inner leads 13 collectively and which is composed of an insulating adhesive material and with a heat sink 16 provided with a semiconductor-element mounting part formed in such a way that an outer edge part 16a in which cutout holes 17 have been made at least in individual corner parts has been bent to be a stepped shape by forming a frame-shaped flat part 16b thermocompression-bonded to the bonding part 14 at the outside. In addition, the title semiconductor device is provided with a semiconductor element 15 mounted on the semiconductor-element mounting part, with wires connecting the inner leads 13 to electrodes for the semiconductor element 15 and with a molding body 20 which resin-molds the semiconductor element 15 and its mounting part.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置およびその
製造方法に係り、さらに詳しくは、半導体素子の発熱を
拡散すると共に、インナーリードに滞留した残留応力の
開放時のインナーリードの変形を防止するヒートシンク
を別体にリードフレームに装着した半導体装置およびそ
の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device and a method of manufacturing the same, and more specifically, it diffuses heat generated by a semiconductor element and prevents deformation of the inner lead when residual stress accumulated in the inner lead is released. The present invention relates to a semiconductor device in which a heat sink is separately mounted on a lead frame, and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体装置の高集積化に伴う半導
体素子の発熱の対策として、半導体装置に熱を拡散させ
るヒートシンク(放熱板)を装着させたり、半導体装置
の多ピン化に対応して、リードの残留応力を除去する熱
処理が行われている。以下、図10、11を参照して従
来の半導体装置を具体的に説明する。
2. Description of the Related Art In recent years, as a measure against heat generation of a semiconductor element due to high integration of a semiconductor device, a heat sink (radiating plate) for diffusing the heat is attached to the semiconductor device or the semiconductor device has a large number of pins. The heat treatment for removing the residual stress of the leads is performed. Hereinafter, a conventional semiconductor device will be specifically described with reference to FIGS.

【0003】従来の半導体装置100は、図10に示す
ように積層型リードフレームLを有している。この積層
型リードフレームLは、条材をプレス加工またはエッチ
ング加工して、多数本のリード101などを有するリー
ドフレーム本体102を設け、次いで加工履歴により生
じた残留応力を除去する熱処理を行った後、その表面に
メッキ加工を施す。続いて、リード101のインナーリ
ード103の先端部の裏面に、インナーリード103を
一括して連結し、かつ熱可塑性の絶縁性接着材からなる
枠形絶縁テープ104を貼着し、この枠形絶縁テープ1
04を介して、インナーリード103に半導体素子10
5の搭載部を兼ねたヒートシンク106を結合すること
により積層型リードフレームLが製造される。なお、こ
のヒートシンク106の四隅には、屈曲したサポートリ
ード107が突設されており、各サポートリード107
は、枠形絶縁テープ104の対応する角部に熱圧着され
ている。この枠形絶縁テープ104の角部にはインナー
リード103は配置されていない。
A conventional semiconductor device 100 has a laminated lead frame L as shown in FIG. In this laminated lead frame L, a strip material is pressed or etched to provide a lead frame main body 102 having a large number of leads 101 and the like, and then a heat treatment for removing residual stress caused by the processing history is performed. , The surface is plated. Subsequently, the inner leads 103 are collectively connected to the back surface of the tip end portion of the inner lead 103 of the lead 101, and a frame-shaped insulating tape 104 made of a thermoplastic insulating adhesive is adhered to this frame-shaped insulation. Tape 1
The semiconductor element 10 is connected to the inner lead 103 via 04.
The laminated lead frame L is manufactured by connecting the heat sink 106 that also serves as the mounting portion of No. 5. Bent support leads 107 are provided at the four corners of the heat sink 106 so as to project from each support lead 107.
Are thermocompression bonded to corresponding corners of the frame-shaped insulating tape 104. The inner leads 103 are not arranged at the corners of the frame-shaped insulating tape 104.

【0004】また、図示しないものの、従来の他のリー
ドフレームとして、リードフレーム本体から下方に屈曲
状態で延びる4本の長尺なサポートリードを介して、イ
ンナーリードの先方の空隙部に、前記ヒートシンクを宙
吊り状態に保持したものが知られている。なお、従来の
積層型リードフレームLに使用されるヒートシンク10
6のサポートリード107は、図11に示すように、モ
ールド体109の上部の厚さAと下部の厚さBがほぼ同
じになるように屈曲されている。この積層型リードフレ
ームLは、半導体素子105をヒートシンク106の半
導体素子搭載部を兼ねた底部の上面に搭載し、次いでイ
ンナーリード103と半導体素子105の電極をワイヤ
108により接続した後、半導体素子105およびその
搭載部を樹脂モールドしてモールド体109を設け、そ
れからアウターリード110の先端の切断とそのフォー
ミングを行って半導体装置100を製造する。
Although not shown in the drawings, as another conventional lead frame, the heat sink is provided in a space in front of the inner lead via four long support leads extending downward from the lead frame body in a bent state. It is known that the pendant is suspended in the air. The heat sink 10 used for the conventional laminated lead frame L
As shown in FIG. 11, the support lead 107 of No. 6 is bent so that the upper portion thickness A and the lower portion thickness B of the molded body 109 are substantially the same. In this laminated lead frame L, the semiconductor element 105 is mounted on the upper surface of the bottom of the heat sink 106 which also serves as the semiconductor element mounting portion, and then the inner lead 103 and the electrodes of the semiconductor element 105 are connected by the wire 108, and then the semiconductor element 105. Then, the mounting portion thereof is resin-molded to provide the molded body 109, and then the tip of the outer lead 110 is cut and the forming is performed to manufacture the semiconductor device 100.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
積層型リードフレームLでは、このようにサポートリー
ド107が熱圧着されるインナーリード103群のそれ
ぞれの角部にインナーリード103が配置されていない
ので、サポートリード103は枠形絶縁テープ104だ
けに熱圧着される。従って、インナーリード103は組
み立て工程などの後工程において加熱されると、予め取
り除かれた加工履歴の残留応力が開放されてインナーリ
ード103の先端部が変形し、これによりワイヤボンデ
ィングが不安定になる。そこで、積層型リードフレーム
Lの形状加工後に、再び残留応力を除去する熱処理が必
要であり、この熱処理のための設備や作業工程を要する
という問題点があった。さらに、近来、半導体装置10
0の高集積化に伴い、半導体素子105が大きくなり、
インナーリード103の先端と、モールド体109の端
部との距離が短くなり、アウターリード110のフォー
ミングの際に、インナーリード103が外方に引っ張ら
れてワイヤ108にストレスが生じたり、モールド樹脂
との接着性が低下して、長期的な信頼性が低下するなど
の問題点があった。
However, in the conventional laminated lead frame L, the inner leads 103 are not arranged at the respective corners of the group of inner leads 103 to which the support leads 107 are thermocompression bonded as described above. The support lead 103 is thermocompression bonded only to the frame-shaped insulating tape 104. Therefore, when the inner lead 103 is heated in a subsequent process such as an assembling process, the residual stress of the processing history that has been removed in advance is released and the tip portion of the inner lead 103 is deformed, which makes the wire bonding unstable. . Therefore, there is a problem in that after the shape processing of the laminated lead frame L, a heat treatment for removing the residual stress is required again, and equipment and working steps for this heat treatment are required. Furthermore, recently, the semiconductor device 10
With the high integration of 0, the semiconductor element 105 becomes large,
The distance between the tip of the inner lead 103 and the end of the mold body 109 is shortened, and when the outer lead 110 is formed, the inner lead 103 is pulled outward, which causes stress on the wire 108, and the molding resin. However, there is a problem in that the adhesiveness of the product deteriorates and the long-term reliability decreases.

【0006】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、リードフレームに滞留した加工履歴中の残留応
力を除去する熱処理工程を省いて製造工程の短縮化を図
ると共に、良好な放熱効率が得られ、またインナーリー
ドの変形を防止して、インナーリードの位置精度の向上
およびインナーリードの浮き沈みを解消することにより
インナーリードの平坦度の向上が図れる半導体装置およ
びその製造方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and the heat treatment step for removing the residual stress in the working history accumulated in the lead frame is omitted to shorten the manufacturing process and to improve the heat dissipation efficiency. To provide a semiconductor device and a method for manufacturing the same in which the inner lead is prevented from being deformed, the inner lead is improved in positional accuracy, and the inner lead is prevented from rising or falling to improve the flatness of the inner lead. With the goal.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】前記目的に沿う請求項1
記載の半導体装置は、多数本のリードと、該リードのイ
ンナーリードを一括して連結する絶縁性接着材からなる
枠形の接合部と、少なくとも各角部に切欠孔が設けられ
た外縁部を、前記接合部に熱圧着される枠形の平坦部を
外側に設けて段差状に屈曲させた半導体素子搭載部を有
するヒートシンクと、該ヒートシンクの半導体素子搭載
部に搭載される半導体素子と、該半導体素子の電極と前
記インナーリードとを接続するワイヤと、前記半導体素
子およびその搭載部を樹脂モールドするモールド体とを
備えた構成としている。また、請求項2記載の半導体装
置の製造方法は、リードフレーム用の条材を打ち抜い
て、多数本のリードのインナーリードの先端が連結部に
より連結された中間形状のリードフレーム本体を設け、
前記インナーリードの先端部および連結部の少なくとも
片面に、絶縁性接着材からなる絶縁テープを貼着し、次
いで前記連結部を打ち抜いて、各インナーリードの先端
を切断すると共に、該インナーリードを一括して連結す
る前記絶縁テープからなる枠形の接合部を設け、一方半
導体素子搭載部を有するヒートシンクの、少なくとも各
角部に切欠孔が設けられた外縁部を、外側に枠形の平坦
部を設けて段差状に屈曲させ、次いで前記接合部を介し
て、前記ヒートシンクの平坦部を前記リードフレーム本
体のインナーリードに接合させ、次にまた前記ヒートシ
ンクの半導体素子搭載部に半導体素子を搭載し、該半導
体素子の電極と前記インナーリードとをワイヤにより接
続し、それから前記半導体素子および前記半導体素子搭
載部をモールド体により樹脂モールドした構成としてい
る。
A method according to the above-mentioned object.
The semiconductor device described above includes a large number of leads, a frame-shaped joint made of an insulating adhesive material that collectively connects the inner leads of the leads, and an outer edge portion provided with a cutout hole at least at each corner. A heat sink having a semiconductor element mounting portion in which a frame-shaped flat portion that is thermocompression bonded to the joint portion is provided outside and bent in a step shape; and a semiconductor element mounted on the semiconductor element mounting portion of the heat sink, A wire is provided for connecting the electrode of the semiconductor element and the inner lead, and a mold body for resin-molding the semiconductor element and its mounting portion is provided. According to a second aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device manufacturing method, wherein a lead frame strip is punched out to provide an intermediate lead frame body in which the tips of inner leads of a large number of leads are connected by a connecting portion.
An insulating tape made of an insulating adhesive is adhered to at least one surface of the tip portion and the connecting portion of the inner lead, and then the connecting portion is punched to cut the tip of each inner lead, and at the same time, the inner lead is collectively attached. A frame-shaped joint portion made of the insulating tape to be connected to each other is provided, and an outer edge portion of the heat sink having the semiconductor element mounting portion is provided with cutout holes at least at each corner, and a frame-shaped flat portion is provided outside. Provided and bent in a step shape, then through the joining portion, the flat portion of the heat sink is joined to the inner lead of the lead frame body, and then the semiconductor element is mounted on the semiconductor element mounting portion of the heat sink. An electrode of the semiconductor element and the inner lead are connected by a wire, and then the semiconductor element and the semiconductor element mounting part are molded. It is more resin molded configuration.

【0008】[0008]

【作用】請求項1、2記載の半導体装置およびその製造
方法においては、ヒートシンクの半導体素子搭載部を支
持する外縁部を段差状に屈曲するように外方から圧力を
かけて半導体素子搭載部を形成する際に、この外縁部の
少なくとも各角部には切欠孔が設けられているので、外
縁部の切欠孔間のサポートリード部分が、外縁部の外側
にほとんど歪みのない枠形の平坦部を残し、前記半導体
素子搭載部を屈曲することができる。次いで、この平坦
部を、インナーリードの枠形の接合部に熱圧着すること
により、ヒートシンクは、従来のように半導体素子搭載
部の四隅から延びるサポートリードを熱圧着したもの
や、リードフレーム本体と一体化した長尺なサポートリ
ードに比べ、全てのインナーリードの先端部に熱圧着さ
れるので、半導体素子搭載部の取り付け、支持が安定化
する。
In the semiconductor device and the method of manufacturing the same according to claims 1 and 2, pressure is applied from the outside so that the outer edge portion of the heat sink supporting the semiconductor element mounting portion is bent in a stepped manner. When forming, since the notch holes are provided at least at each corner of the outer edge portion, the support lead portion between the notch holes of the outer edge portion has a frame-shaped flat portion with almost no distortion outside the outer edge portion. The semiconductor element mounting portion can be bent, leaving the above. Then, the flat portion is thermocompression-bonded to the frame-shaped joint portion of the inner lead, so that the heatsink is formed by thermocompression-bonding the support leads extending from the four corners of the semiconductor element mounting portion as in the conventional case, and the lead frame main body. As compared with the integrated long support lead, thermocompression bonding is applied to the tip portions of all the inner leads, so that mounting and supporting of the semiconductor element mounting portion are stabilized.

【0009】しかも、インナーリードは、このように接
合部を介して枠形の平坦部に堅固に熱圧着されているの
で、リードに滞留する残留応力を取り除く熱処理をしな
くても、半導体装置の組み立てなどの後工程における加
熱時に生じる残留応力の開放によるインナーリードの変
形を拘束し、リードの寄りや浮き沈みを防止できる。さ
らに、枠形の平坦部によりインナーリードを固定してい
るので、アウターリードのフォーミングの際に生じるイ
ンナーリードの引っ張りを防止できると共に、モールド
樹脂の密着性を向上できる。
Moreover, since the inner lead is firmly thermocompression-bonded to the frame-shaped flat portion via the joining portion in this manner, the semiconductor device of the semiconductor device can be manufactured without heat treatment for removing residual stress accumulated in the lead. It is possible to prevent deformation of the inner leads due to release of residual stress generated during heating in a post process such as assembly, and prevent the leads from leaning or rising or falling. Further, since the inner lead is fixed by the frame-shaped flat portion, it is possible to prevent the inner lead from being pulled when forming the outer lead, and improve the adhesion of the molding resin.

【0010】[0010]

【実施例】続いて、添付した図面を参照しつつ、本発明
を具体化した実施例につき説明し、本発明の理解に供す
る。ここに、図1は本発明の一実施例の半導体装置およ
びその製造方法に係る半導体装置の拡大斜視図、図2は
同リードフレームの分解斜視図、図3は同断面図、図4
(a)は同打抜き加工されたリードフレーム本体の斜視
図、図4(b)は同インナーリードの先端部および先端
を連結した連結部を絶縁テープにより貼着した状態の斜
視図、図4(c)は同インナーリードの先端を連結した
連結部を除去した斜視図、図5(a)は同ヒートシンク
の所要の形状を打ち抜き加工中の斜視図、図5(b)は
同ヒートシンクの屈曲加工中の断面図、図5(c)は同
ヒートシンクの打抜き加工中の断面図、図6(a)は同
リードフレーム本体へのヒートシンクの搭載中の斜視
図、図6(b)は同リードフレーム本体へのヒートシン
クの熱圧着中の断面図、図7(a)は同反転されたリー
ドフレームの断面図、図7(b)は同ヒートシンクの半
導体素子搭載部上にボンドを塗布中の断面図、図8
(a)は同ヒートシンクの半導体素子搭載部上への半導
体素子の搭載中の断面図、図8(b)は同インナーリー
ドと半導体素子の電極とのワイヤ接続後の断面図、図8
(c)は同半導体素子の搭載部の樹脂モールド後の断面
図、図9(a)は同インナーリードの先端の切断後の断
面図、図9(b)は同アウターリードのフォーミング中
の断面図を示している。
Embodiments of the present invention will now be described with reference to the accompanying drawings to provide an understanding of the present invention. 1 is an enlarged perspective view of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention and a semiconductor device according to a manufacturing method thereof, FIG. 2 is an exploded perspective view of the same lead frame, FIG. 3 is a sectional view thereof, and FIG.
4 (a) is a perspective view of the lead frame body punched and punched, and FIG. 4 (b) is a perspective view showing a state in which a tip portion of the inner lead and a connecting portion connecting the tips are attached with an insulating tape. FIG. 5C is a perspective view in which a connecting portion that connects the tips of the inner leads is removed, FIG. 5A is a perspective view during punching of a required shape of the heat sink, and FIG. 5B is bending processing of the heat sink. 5C is a cross-sectional view of the heat sink during punching, FIG. 6A is a perspective view of the heat sink mounted on the lead frame body, and FIG. 6B is the lead frame. FIG. 7A is a cross-sectional view of the heat sink bonded to the main body during thermocompression bonding, FIG. 7A is a cross-sectional view of the inverted lead frame, and FIG. 7B is a cross-sectional view of the heat sink in which a bond is applied on the semiconductor element mounting portion. , Fig. 8
8A is a sectional view of the heat sink during mounting of the semiconductor element on the semiconductor element mounting portion, and FIG. 8B is a sectional view after wire connection between the inner lead and the electrode of the semiconductor element.
9C is a cross-sectional view of the mounting portion of the semiconductor element after resin molding, FIG. 9A is a cross-sectional view after cutting the tip of the inner lead, and FIG. 9B is a cross-section of the outer lead during forming. The figure is shown.

【0011】まず、本発明の一実施例に係る半導体装置
の構成を説明する。図1に示す本発明の一実施例に係る
半導体装置10は、図2、3に示す積層型リードフレー
ムLを基体として設けられている。積層型リードフレー
ムLは、順送り金型により打抜き加工されたリードフレ
ーム本体11を有している。リードフレーム本体11に
は多数本のリード12が設けられており、それぞれのリ
ード12のインナーリード13の先端部は、熱可塑性の
絶縁性接着材からなる枠形の接合部の一例としての枠形
絶縁テープ14により一括して連結されている。枠形絶
縁テープ14の下面には、半導体素子15が搭載される
下方に屈曲(ダウンセット)する半導体素子搭載部16
dを有するヒートシンク16が熱圧着されている。
First, the structure of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention will be described. A semiconductor device 10 according to an embodiment of the present invention shown in FIG. 1 is provided with the laminated lead frame L shown in FIGS. The laminated lead frame L has a lead frame body 11 punched by a progressive die. The lead frame main body 11 is provided with a large number of leads 12, and the tips of the inner leads 13 of the respective leads 12 are frame-shaped as an example of a frame-shaped joint made of a thermoplastic insulating adhesive material. They are connected together by the insulating tape 14. On the lower surface of the frame-shaped insulating tape 14, a semiconductor element mounting portion 16 that bends (downsets) downward where the semiconductor element 15 is mounted
A heat sink 16 having d is thermocompression bonded.

【0012】ヒートシンク16の外縁部16aの全域に
は、四隅を含んで多数個の長方形の切欠孔17が所定間
隔毎に穿孔されており、またこの外縁部16aは、枠形
絶縁テープ14に熱圧着される枠形の平坦部16bを外
側に設けて、それぞれの切欠孔17間に形成された多数
本のサポートリード16cを介して、段差状に屈曲され
ている。このヒートシンク16の屈曲量は、半導体素子
15を半導体素子搭載部16dに搭載した際に、モール
ド体36の上部幅Aと下部幅Bがほぼ等しくなるように
設定されている(図3参照)。図3に示すように、ヒー
トシンク16の底部の上面には、ボンド18を介して、
半導体素子15を搭載している。また、インナーリード
13と半導体素子15の電極はワイヤ19により接続さ
れており、半導体素子15および半導体素子搭載部16
dはモールド体20により樹脂モールドされている。モ
ールド体20の四辺から外方に突出するアウターリード
21は、ガウリング形にフォーミングされている(図1
も参照)。
A large number of rectangular cutout holes 17 including four corners are punched at predetermined intervals all over the outer edge portion 16a of the heat sink 16, and the outer edge portion 16a is heated by the frame-shaped insulating tape 14. A frame-shaped flat portion 16b to be crimped is provided on the outside, and is bent in a stepped shape through a large number of support leads 16c formed between the respective cutout holes 17. The bending amount of the heat sink 16 is set so that the upper width A and the lower width B of the molded body 36 are substantially equal when the semiconductor element 15 is mounted on the semiconductor element mounting portion 16d (see FIG. 3). As shown in FIG. 3, on the upper surface of the bottom of the heat sink 16 via the bond 18,
The semiconductor element 15 is mounted. Further, the inner leads 13 and the electrodes of the semiconductor element 15 are connected by the wires 19, and the semiconductor element 15 and the semiconductor element mounting portion 16 are connected.
d is resin-molded by the mold body 20. The outer leads 21 projecting outward from the four sides of the mold body 20 are formed into a gauring shape (FIG. 1).
See also).

【0013】続いて、図4〜9を参照して本発明の一実
施例の半導体装置10の製造方法を説明する。図4
(a)に示すように、積層型リードフレームLの条材を
金型により打抜き加工して、多数本のリード12を有す
る中間形状のリードフレーム本体11を設ける。このと
き、全てのインナーリード13の先端はほぼ四角形の連
結部11aにより連結されている。次に、図4(b)に
示すように、移載ヘッド22のノズル23にほぼ四角形
の熱可塑性の絶縁性接着材からなる絶縁テープ14Aを
吸着して、これを図4(a)に示すリードフレーム本体
11の接着エリアaに接着する。これにより、インナー
リード13の先端部上に、絶縁テープ14Aの外縁部が
接着される。次いで、図4(c)に示すように、それぞ
れのインナーリード13の先端の端面と枠形絶縁テープ
14を残すように、打抜き用の刃物24を有する抜き型
25により連結部11aを打ち抜いて除去した後、イン
ナーリード13の先端の端面と枠形絶縁テープ14の端
面にシェイビング加工を施して、インナーリード13の
先端部に枠形絶縁テープ14を有するリードフレーム本
体11を連続した条材が設けられる。
Next, a method of manufacturing the semiconductor device 10 according to one embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Figure 4
As shown in (a), the strip material of the laminated lead frame L is punched by a die to provide an intermediate lead frame body 11 having a large number of leads 12. At this time, the tips of all the inner leads 13 are connected by the connecting portion 11a having a substantially rectangular shape. Next, as shown in FIG. 4 (b), the nozzle 23 of the transfer head 22 adsorbs the substantially rectangular insulating tape 14A made of a thermoplastic insulating adhesive, and this is shown in FIG. 4 (a). The lead frame body 11 is bonded to the bonding area a. As a result, the outer edge of the insulating tape 14A is adhered to the tip of the inner lead 13. Next, as shown in FIG. 4 (c), the connecting portion 11a is punched and removed by a punching die 25 having a punching tool 24 so that the end surfaces of the tips of the inner leads 13 and the frame-shaped insulating tape 14 are left. After that, the end face of the inner lead 13 and the end face of the frame-shaped insulating tape 14 are subjected to a shaving process, and the lead frame body 11 having the frame-shaped insulating tape 14 is provided on the tip of the inner lead 13 as a continuous strip. To be

【0014】一方、このリードフレーム11の形成と平
行して、図5(a)に示すように、所要の条材26から
ヒートシンク16を支持する支持タブとパイロット孔を
備えた外枠と内枠とを有し、多数個のパンチ(刃物)が
一定間隔で枠型に配列されたパンチブロック27を有す
る上型28と下型29により打ち抜いて、ヒートシンク
16の外縁部16aに設けられる多数個の切欠部17を
穿孔して、サポートリード16c、枠形の平坦部16
b、半導体素子搭載部16dを有するヒートシンク16
を連続した条材26aを設ける(図5(b)参照)。そ
れから、図5(b)に示すように、条材22aをダウン
セットパンチおよびダイを有する上下型30、31によ
りプレスして、サポートリード16cを下方に屈曲させ
て、平坦部16bと半導体搭載部16dとに所定の屈曲
量を有する段差を設けている。このとき、半導体素子搭
載部16dは、切欠孔17を有する外縁部16aのサポ
ートリード16c部分で屈曲されるので、ほとんど歪み
のない枠形の平坦部16bと半導体素子搭載部16dが
形成される。次いで、図5(c)に示すように、条材2
6aに形成されたヒートシンク16を、前記支持タブを
上型30aに設けたパンチ32により切断してヒートシ
ンク16を分離する。
On the other hand, in parallel with the formation of the lead frame 11, as shown in FIG. 5A, an outer frame and an inner frame having a support tab for supporting the heat sink 16 from a required strip 26 and a pilot hole. And a plurality of punches (blades) are punched by an upper die 28 and a lower die 29 having punch blocks 27 arranged in a frame shape at regular intervals, and a large number of punches are provided on the outer edge portion 16a of the heat sink 16. The notch 17 is perforated to form the support lead 16c and the frame-shaped flat portion 16
b, heat sink 16 having semiconductor element mounting portion 16d
A continuous strip 26a is provided (see FIG. 5B). Then, as shown in FIG. 5B, the strip 22a is pressed by the upper and lower molds 30 and 31 having a downset punch and a die, the support lead 16c is bent downward, and the flat portion 16b and the semiconductor mounting portion are bent. 16d and a step having a predetermined bending amount are provided. At this time, since the semiconductor element mounting portion 16d is bent at the support lead 16c portion of the outer edge portion 16a having the cutout hole 17, the frame-shaped flat portion 16b and the semiconductor element mounting portion 16d with almost no distortion are formed. Then, as shown in FIG.
The heat sink 16 formed on 6a is cut by the punch 32 provided on the upper die 30a at the support tab to separate the heat sink 16.

【0015】それから、ヒートシンク16を図6(a)
に示す移載ヘッド33のノズル34により吸着してピッ
クアップし、移載ヘッド33を前記リードフレーム本体
11上に移動させてノズル34を昇降させ、ヒートシン
ク16の平坦部16bを枠形絶縁テープ14上に載置す
る。次にまた、図6(b)に示すように、リードフレー
ム本体11を熱圧着台35上に載置し、ヘッド36の下
面に設けられた枠形の熱圧着子37により、上方からヒ
ートシンク16の平坦部16bを押圧することにより、
インナーリード13の先端部にヒートシンク16が熱圧
着されて、図1および図3実線に示す積層型のリードフ
レームLが製造される。
Then, the heat sink 16 is attached as shown in FIG.
The transfer head 33 is sucked up and picked up by the nozzle 34 of the transfer head 33, the transfer head 33 is moved onto the lead frame main body 11 and the nozzle 34 is moved up and down, and the flat portion 16b of the heat sink 16 is transferred onto the frame-shaped insulating tape 14. Place on. Next, as shown in FIG. 6B, the lead frame body 11 is placed on the thermocompression bonding table 35, and the heatsink 16 is applied from above by a frame-shaped thermocompression bonding element 37 provided on the lower surface of the head 36. By pressing the flat part 16b of
The heat sink 16 is thermocompression-bonded to the tip portions of the inner leads 13 to manufacture the laminated lead frame L shown by the solid lines in FIGS. 1 and 3.

【0016】それから、製造された積層型リードフレー
ムLは上下反転され(図7(a)参照)、次いで図7
(b)に示すように、ヒートシンク16の半導体素子搭
載部16dの上面に、ボンド塗布装置38のノズル39
からボンド18を滴下してこれを塗布する。次いで、図
8(a)に示すように、テープフィーダ40に収納され
た半導体素子15を移載ヘッド41のノズル42に吸着
してピックアップし、その後、移載ヘッド41を積層型
リードフレームLのヒートシンク16上で昇降させるこ
とにより、ボンド18を介して、半導体素子15をヒー
トシンク16の半導体素子搭載部16dに搭載する。続
いて、図8(b)に示すように、ワイヤボンダ43のホ
ーン44を上下動させて、インナーリード13のワイヤ
ボンディングエリアと半導体素子15の電極をワイヤ1
9により接続して電気的導通回路を形成する。
Then, the manufactured laminated lead frame L is turned upside down (see FIG. 7 (a)), and then FIG.
As shown in (b), the nozzle 39 of the bond coating device 38 is provided on the upper surface of the semiconductor element mounting portion 16 d of the heat sink 16.
Then, the bond 18 is dropped and applied. Next, as shown in FIG. 8A, the semiconductor element 15 housed in the tape feeder 40 is adsorbed by the nozzle 42 of the transfer head 41 to be picked up, and then the transfer head 41 is attached to the laminated lead frame L. By elevating and lowering on the heat sink 16, the semiconductor element 15 is mounted on the semiconductor element mounting portion 16 d of the heat sink 16 via the bond 18. Then, as shown in FIG. 8B, the horn 44 of the wire bonder 43 is moved up and down to connect the wire bonding area of the inner lead 13 and the electrode of the semiconductor element 15 to the wire 1.
9 connect to form an electrical continuity circuit.

【0017】その後、図8(c)に示すように、モール
ディング装置45の上下型46、47間に積層型リード
フレームLを介在させて、これらの上下型46、47を
嵌合し、下型47の注入孔48からモールド樹脂を型内
に注入して、半導体素子15および半導体素子搭載部1
6dを樹脂モールドしてモールド体20を設ける。半導
体素子15の搭載部の樹脂モールド時には、図3に示す
ように、モールド体20の上部幅Aと下部幅Bがほぼ等
しくなるように屈曲量を設定できるので、上部と下部側
でモールド樹脂の流れが異なるのを原因とするモールド
樹脂の充填欠陥が発生するのを防止できる。次いで、図
9(a)に示すように、下面に切断用の刃49が突設さ
れた上型50と下型51の間に積層型リードフレームL
を介在させて、上下型50、51を嵌合させることによ
り、アウターリード21の先端を積層型リードフレーム
Lから切断する。次にまた、図9(b)に示すように、
上下型52、53を嵌合させてアウターリード21をガ
ウリング形に屈曲フォーミングすることにより、図1、
3に示す半導体装置10が製造される。
Thereafter, as shown in FIG. 8C, the upper and lower dies 46 and 47 of the molding device 45 are interposed between the upper and lower dies 46 and 47, and the upper and lower dies 46 and 47 are fitted to each other to form a lower die. A mold resin is injected into the mold through the injection hole 48 of 47 to form the semiconductor element 15 and the semiconductor element mounting portion 1.
6d is resin-molded to provide a molded body 20. At the time of resin molding of the mounting portion of the semiconductor element 15, as shown in FIG. 3, the bending amount can be set so that the upper width A and the lower width B of the molded body 20 are substantially equal to each other. It is possible to prevent a filling defect of the mold resin due to the difference in the flow. Next, as shown in FIG. 9A, the laminated lead frame L is provided between the upper die 50 and the lower die 51 having the cutting blades 49 protruding from the lower surface.
By interposing the upper and lower dies 50 and 51 with each other interposed, the tips of the outer leads 21 are cut from the laminated lead frame L. Next, as shown in FIG. 9B,
By fitting the upper and lower molds 52 and 53 and bending and forming the outer lead 21 into a gauling shape, as shown in FIG.
The semiconductor device 10 shown in 3 is manufactured.

【0018】このように、ヒートシンク16の平坦部1
6bを、枠形絶縁テープ14を介してインナーリード1
3に熱圧着することにより、ヒートシンク16は、従来
のようにインナーリード13が枠形絶縁テープ14のみ
により連結されていたものに比べて連結が著しく堅固に
なり、インナーリード13の浮き沈みや寄りがなくな
り、平坦度および位置精度の向上が図れると共に、アウ
ターリード21のフォーミング時に引っ張りに対するイ
ンナーリード13および半導体素子搭載部16dの安定
性が向上する。しかも、インナーリード13は、このよ
うに枠形絶縁テープ14を介して枠形の平坦部16bに
堅固に熱圧着されるので、リード12の残留応力を取り
除く熱処理をしなくても、ヒートシンク16をインナー
リード13に熱圧着する際のインナーリード13の熱変
形を防止でき、これにより熱処理に要する設備コストの
削減や作業時間の短縮化が図れる。
Thus, the flat portion 1 of the heat sink 16 is
6b through the frame-shaped insulating tape 14 to the inner lead 1
By thermocompression bonding to 3, the heatsink 16 becomes significantly firmer than the one in which the inner leads 13 are connected only by the frame-shaped insulating tape 14 as in the conventional case, and the inner leads 13 are prevented from rising and falling or shifting. As a result, the flatness and the positional accuracy can be improved, and the stability of the inner lead 13 and the semiconductor element mounting portion 16d against pulling at the time of forming the outer lead 21 is improved. Moreover, since the inner leads 13 are firmly thermocompression-bonded to the frame-shaped flat portion 16b through the frame-shaped insulating tape 14 in this manner, the heat sink 16 can be fixed without heat treatment for removing the residual stress of the leads 12. It is possible to prevent thermal deformation of the inner lead 13 when it is thermocompression bonded to the inner lead 13, and thus it is possible to reduce the equipment cost required for the heat treatment and the working time.

【0019】以上、本発明の実施例を説明したが、本発
明はこの実施例に限定されるものではなく、要旨を逸脱
しない限り、本発明に含まれる。例えば、積層型リード
フレームを製造する方法は、実施例のものに限定される
ものではなく、例えば図2に示すようにインナーリード
の先端部の下面に、接着部とヒートシンクを順次取り付
けるようにして製造するなど、その製造方法はどのよう
な方法や手順であってもかまわない。また、実施例で
は、絶縁テープおよびヒートシンクの移載に、移載ヘッ
ドを用いて説明したが、積層型リードフレームの製造工
程の所定位置の上部または下部のいずれかで、リードフ
レーム本体と、帯状の絶縁テープおよびヒートシンクが
連続した条材とを交差させて圧着して形成してもよい。
さらに、実施例では、ヒートシンクの外縁部に設けられ
る切欠孔を、この外縁部の全域に多数個設けたが、これ
に限定しなくても、少なくとも外縁部の各角部に設けて
あればかまわない。
Although the embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to this embodiment and is included in the present invention as long as it does not depart from the gist. For example, the method of manufacturing the laminated lead frame is not limited to that of the embodiment. For example, as shown in FIG. 2, the adhesive portion and the heat sink may be sequentially attached to the lower surface of the tip portion of the inner lead. The manufacturing method such as manufacturing may be any method or procedure. Further, in the embodiment, the transfer head was used to transfer the insulating tape and the heat sink, but the lead frame body and the strip shape are formed at either the upper or lower part of the predetermined position in the manufacturing process of the laminated lead frame. The insulating tape and the heat sink may be formed by intersecting and crimping a continuous strip.
Furthermore, in the embodiment, a large number of cutout holes are provided in the outer edge portion of the heat sink in the entire area of the outer edge portion. However, without being limited to this, at least each corner portion of the outer edge portion may be provided. Absent.

【0020】[0020]

【発明の効果】請求項1、2記載の半導体装置およびそ
の製造方法は、このようにヒートシンクの外縁部の切欠
孔間の部分のサポートリードが、外縁部の外側にほとん
ど歪みのない枠形の平坦部を残して屈曲しているので、
熱応力に対して安定性が向上する。また、ヒートシンク
の平坦部を絶縁テープを介してインナーリードに熱圧着
することにより、従来のようにインナーリードが絶縁テ
ープのみにより連結されていたのに比べて連結が著しく
堅固になり、インナーリードの浮き沈みや寄りがなくな
って平坦度および位置精度の向上ができると共に、アウ
ターリードのフォーミングによる引っ張りに対するイン
ナーリードおよび半導体素子搭載部の安定性が向上す
る。しかも、インナーリードは、このように絶縁テープ
を介して枠形の平坦部に堅固に熱圧着されているので、
リードの残留応力を取り除く熱処理に要する設備コスト
の削減や作業時間の短縮化が図れる。さらに、枠形の平
坦部によりインナーリードを固定しているので、アウタ
ーリードのフォーミングの際に生じるインナーリードの
引っ張りを防止できる。さらにまた、インナーリードを
枠形の平坦部により固定しているので、樹脂パッケージ
に生じるクラックを防止でき、半導体装置の信頼性が向
上できる。
As described above, the semiconductor device and the method of manufacturing the same according to the first and second aspects are such that the support leads in the portion between the cutout holes in the outer edge portion of the heat sink have a frame shape with almost no distortion outside the outer edge portion. Since it is bent leaving the flat part,
Improves stability against thermal stress. Also, by thermocompression-bonding the flat part of the heat sink to the inner leads via the insulating tape, the connection between the inner leads is significantly solid compared to the conventional case where the inner leads were connected only by the insulating tape, and Since the ups and downs and the deviation are eliminated, the flatness and the positional accuracy can be improved, and the stability of the inner lead and the semiconductor element mounting portion against the pulling due to the forming of the outer lead is improved. Moreover, since the inner lead is firmly thermocompression bonded to the frame-shaped flat portion via the insulating tape,
It is possible to reduce the equipment cost and work time required for heat treatment to remove the residual stress of the leads. Further, since the inner lead is fixed by the frame-shaped flat portion, it is possible to prevent the inner lead from being pulled when forming the outer lead. Furthermore, since the inner leads are fixed by the frame-shaped flat portion, cracks generated in the resin package can be prevented and the reliability of the semiconductor device can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の半導体装置およびその製造
方法に係る半導体装置の拡大斜視図である。
FIG. 1 is an enlarged perspective view of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention and a semiconductor device according to a manufacturing method thereof.

【図2】同リードフレームの分解斜視図である。FIG. 2 is an exploded perspective view of the lead frame.

【図3】同断面図である。FIG. 3 is a sectional view of the same.

【図4】(a) 同打抜き加工されたリードフレーム本
体の斜視図である。 (b) 同インナーリードの先端部および先端を連結し
た連結部を絶縁テープにより貼着した状態の斜視図であ
る。 (c) 同インナーリードの先端を連結した連結部を除
去した斜視図である。
FIG. 4A is a perspective view of the lead frame body that has been punched. (B) It is a perspective view of the state which attached the tip part of the same inner lead, and the connection part which connected the tip by the insulating tape. (C) It is a perspective view which removed the connection part which connected the tip of the same inner lead.

【図5】(a) 同ヒートシンクの所要の形状を打ち抜
き加工中の斜視図である。 (b) 同ヒートシンクの屈曲加工中の断面図である。 (c) 同ヒートシンクの打抜き加工中の断面図であ
る。
FIG. 5 (a) is a perspective view of the heat sink during punching of a required shape. (B) It is sectional drawing in the bending process of the same heat sink. (C) A sectional view of the heat sink during punching.

【図6】(a) 同リードフレーム本体へのヒートシン
クの搭載中の斜視図である。 (b) 同リードフレーム本体へのヒートシンクの熱圧
着中の断面図である。
FIG. 6A is a perspective view of the lead frame body while the heat sink is being mounted. (B) It is sectional drawing during thermocompression bonding of the heat sink to the lead frame main body.

【図7】(a) 同反転されたリードフレームの断面図
である。 (b) 同ヒートシンクの半導体素子搭載部上にボンド
を塗布中の断面図である。
FIG. 7A is a cross-sectional view of the inverted lead frame. (B) It is sectional drawing in the process of apply | coating a bond on the semiconductor element mounting part of the same heat sink.

【図8】(a) 同ヒートシンクの半導体素子搭載部上
への半導体素子の搭載中の断面図である。 (b) 同インナーリードと半導体素子の電極とのワイ
ヤ接続後の断面図である。 (c) 同半導体素子の搭載部の樹脂モールド後の断面
図である。
FIG. 8A is a sectional view of the heat sink during mounting of the semiconductor element on the semiconductor element mounting portion. (B) It is sectional drawing after wire connection of the same inner lead and the electrode of a semiconductor element. (C) It is sectional drawing after resin molding of the mounting part of the same semiconductor element.

【図9】(a) 同インナーリードの先端の切断後の断
面図である。 (b) 同アウターリードのフォーミング中の断面図で
ある。
FIG. 9 (a) is a cross-sectional view of the inner lead after cutting the tip thereof. (B) A sectional view of the outer lead during forming.

【図10】従来手段のリードフレームの分解斜視図であ
る。
FIG. 10 is an exploded perspective view of a conventional lead frame.

【図11】同断面図である。FIG. 11 is a sectional view of the same.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 半導体装置 11 リードフレーム本体 11a 連結部 12 リード 13 インナーリード 14 枠形絶縁テープ(接合部) 14A 絶縁テープ 15 半導体素子 16 ヒートシンク 16a 外縁部 16b 平坦部 16c サポートリード 16d 半導体素子搭載部 17 切欠孔 18 ボンド 19 ワイヤ 20 モールド体 21 アウターリード 22 移載ヘッド 23 ノズル 24 刃 25 抜き型 26 条材 26a 条材 27 パンチブロック 28 上型 29 下型 30 上型 31 下型 32 刃 33 移載ヘッド 34 ノズル 35 熱圧着台 36 ヘッド 37 熱圧着子 38 ボンド塗布装置 39 ノズル 40 テープフィーダ 41 移載ヘッド 42 ノズル 43 ワイヤボンダ 44 トーチ 45 モールディング装置 46 上型 47 下型 48 注入孔 49 刃 50 上型 51 下型 52 上型 53 下型 L 積層型リードフレーム DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Semiconductor device 11 Lead frame main body 11a Connection part 12 Lead 13 Inner lead 14 Frame type insulating tape (joint part) 14A Insulating tape 15 Semiconductor element 16 Heat sink 16a Outer edge 16b Flat part 16c Support lead 16d Semiconductor element mounting part 17 Notch hole 18 Bond 19 Wire 20 Molded body 21 Outer lead 22 Transfer head 23 Nozzle 24 Blade 25 Cutting die 26 Article 26a Article 27 Punch block 28 Upper die 29 Lower die 30 Upper die 31 Lower die 32 Blade 33 Transfer head 34 Nozzle 35 Thermocompression bonding table 36 Head 37 Thermocompression bonding element 38 Bond coating device 39 Nozzle 40 Tape feeder 41 Transfer head 42 Nozzle 43 Wire bonder 44 Torch 45 Molding device 46 Upper mold 47 Lower mold 48 Injection hole 49 Blade 50 Upper mold 51 Lower mold 52 Upper mold 53 Lower mold L Stackable lead frame

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 多数本のリードと、該リードのインナー
リードを一括して連結する絶縁性接着材からなる枠形の
接合部と、少なくとも各角部に切欠孔が設けられた外縁
部を、前記接合部に熱圧着される枠形の平坦部を外側に
設けて段差状に屈曲させた半導体素子搭載部を有するヒ
ートシンクと、該ヒートシンクの半導体素子搭載部に搭
載される半導体素子と、該半導体素子の電極と前記イン
ナーリードとを接続するワイヤと、前記半導体素子およ
びその搭載部を樹脂モールドするモールド体とを備えた
ことを特徴とする半導体装置。
1. A large number of leads, a frame-shaped joint portion made of an insulating adhesive material for collectively connecting inner leads of the leads, and an outer edge portion having cutout holes at least at respective corners, A heat sink having a semiconductor element mounting portion in which a frame-shaped flat portion thermocompression bonded to the joint portion is provided outside and bent in a step shape, a semiconductor element mounted on the semiconductor element mounting portion of the heat sink, and the semiconductor A semiconductor device comprising: a wire connecting an electrode of an element and the inner lead; and a mold body for resin-molding the semiconductor element and its mounting portion.
【請求項2】 リードフレーム用の条材を打ち抜いて、
多数本のリードのインナーリードの先端が連結部により
連結された中間形状のリードフレーム本体を設け、前記
インナーリードの先端部および連結部の少なくとも片面
に、絶縁性接着材からなる絶縁テープを貼着し、次いで
前記連結部を打ち抜いて、各インナーリードの先端を切
断すると共に、該インナーリードを一括して連結する前
記絶縁テープからなる枠形の接合部を設け、 一方、半導体素子搭載部を有するヒートシンクの、少な
くとも各角部に切欠孔が設けられた外縁部を、外側に枠
形の平坦部を設けて段差状に屈曲させ、 次いで、前記接合部を介して、前記ヒートシンクの平坦
部を前記リードフレーム本体のインナーリードに接合さ
せ、 次にまた、前記ヒートシンクの半導体素子搭載部に半導
体素子を搭載し、該半導体素子の電極と前記インナーリ
ードとをワイヤにより接続し、 それから、前記半導体素子および前記半導体素子搭載部
をモールド体により樹脂モールドしたことを特徴とする
半導体装置の製造方法。
2. A blank for a lead frame is punched out,
An inner lead frame body in which the tips of the inner leads of a large number of leads are connected by a connecting portion is provided, and an insulating tape made of an insulating adhesive is adhered to at least one surface of the tip portion of the inner leads and the connecting portion. Then, the connecting portion is punched out, the tips of the inner leads are cut, and a frame-shaped joint portion made of the insulating tape for collectively connecting the inner leads is provided. On the other hand, a semiconductor element mounting portion is provided. An outer edge portion of the heat sink having at least each corner portion provided with a cutout hole is bent in a step shape by providing a frame-shaped flat portion on the outside, and then the flat portion of the heat sink is connected to the flat portion through the joint portion. It is joined to the inner lead of the lead frame body, and then the semiconductor element is mounted on the semiconductor element mounting portion of the heat sink, and the electrode of the semiconductor element is mounted. Wherein the inner leads connected by wires, then, a method of manufacturing a semiconductor device, characterized in that the resin molding by a mold member said semiconductor element and said semiconductor element mounting portion.
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