JPH06160045A - 電磁波干渉縞の不要光除去方法および電磁波干渉縞を用いた測定方法 - Google Patents

電磁波干渉縞の不要光除去方法および電磁波干渉縞を用いた測定方法

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JPH06160045A
JPH06160045A JP31536392A JP31536392A JPH06160045A JP H06160045 A JPH06160045 A JP H06160045A JP 31536392 A JP31536392 A JP 31536392A JP 31536392 A JP31536392 A JP 31536392A JP H06160045 A JPH06160045 A JP H06160045A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 第1発明の目的は、干渉縞よりcos縞成分
を抽出する方法の提供にあり、第2発明の目的は、干渉
縞より抽出されたcos縞成分を利用して、形状を正確
に測定する方法の提供にある。 【構成】 干渉縞を生じさせる一方の電磁波を被測定物
2に当て、その光強度分布を第1光強度分布記憶手段9
で記憶する。他方の電磁波を被測定物2に当て、その光
強度分布を第2光強度分布記憶手段11で記憶する。干
渉縞を被測定物2に当て、その光強度分布を第3光強度
分布記憶手段10で記憶する。不要光除手段12で、
第1、第2、第3光強度分布記憶手段9、11、10の
記憶する各光強度分布より、演算によって各画素毎にお
けるcos縞成分を抽出する。そして、測定手段13に
よって、得られたcos縞成分より、各画素毎における
位置を算出し、各画素毎の位置より形状を測定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、2つの電磁波の干渉に
よって生じる干渉縞より不要光を取り除き、干渉縞中の
cos縞成分を抽出する電磁波干渉縞の不要光除去方法
と、この不要光除去方法を利用して被測定物の形状や色
などを測定する電磁波干渉縞を用いた測定方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】2つの電磁波の干渉によって生じる干渉
縞を、被測定物である物体に投射し、物体に投射された
多数の干渉縞の分布状態から、被測定物の形状や色を測
定する研究がなされている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、従来の技術
では、被測定物に投射され、反射した電磁波が被測定物
の他の位置に当たり、その不要光をセンサで測定するた
め、測定精度が低い不具合を有していた。同様に、例え
ば皮膚など電磁波を透過する被測定物を測定する場合、
被測定部に当たった電磁波の一部が被測定物に透過、拡
散し、その不要光をセンサで測定するため、測定精度が
低い不具合を有していた。さらに、多数の干渉縞の分布
状態で被測定物を測定するものは、干渉縞に飛び越しの
発生の可能性があるため、干渉縞の飛び越しの発生によ
って測定精度が劣化する不具合を有していた。
【0004】
【発明の目的】第1発明の目的は、2つの電磁波の干渉
によって生じる干渉縞より不要光を取り除く電磁波干渉
縞の不要光除去方法の提供にあり、第2発明の目的は、
2つの電磁波の干渉を用いて被測定物の形状や色などを
正確に測定する電磁波干渉縞を用いた測定方法の提供に
ある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
〔第1発明〕第1発明の電磁波干渉縞の不要光除去方法
は、干渉縞を形成する2つの電磁波の一方の電磁波を被
投射体に投射し、その被投射体に投射された光強度分布
を撮影し、その光強度分布を記憶する第1光強度分布記
憶手段と、干渉縞を形成する2つの電磁波の他方の電磁
波を前記被投射体に投射し、その被投射体に投射された
光強度分布を撮影し、その光強度分布を記憶する第2光
強度分布記憶手段と、2つの電磁波の干渉によって生じ
る干渉縞を前記被投射体に投射し、その被投射体に投射
された光強度分布を撮影し、その光強度分布を記憶する
第3光強度分布記憶手段と、この第3光強度分布記憶手
段の記憶する光強度分布から、前記第1、第2光強度分
布記憶手段の記憶するそれぞれの光強度分布を用いて、
干渉縞よりcos縞成分を抽出する不要光除去手段とを
備えた技術的手段を採用する。 〔第2発明〕第2発明の電磁波干渉縞を用いた測定方法
は、被測定物の測定対象範囲内に、2つの電磁波の干渉
によって生じる干渉縞の光強度の極小から極大の範囲内
を投射し、その被測定物に投射された光強度分布を撮影
し、その光強度分布を記憶する第3光強度分布記憶手段
と、干渉縞を形成する2つの電磁波の一方の電磁波を前
記被測定物に投射し、その被測定物に投射された光強度
分布を撮影し、その光強度分布を記憶する第1光強度分
布記憶手段と、干渉縞を形成する2つの電磁波の他方の
電磁波を前記被測定物に投射し、その被測定物に投射さ
れた光強度分布を撮影し、その光強度分布を記憶する第
2光強度分布記憶手段と、第3光強度分布記憶手段の記
憶する光強度分布から、第1、第2光強度分布記憶手段
の記憶するそれぞれの光強度分布を用いて、干渉縞より
cos縞成分を抽出する不要光除去手段と、干渉縞中よ
り不要光を取り除いたcos縞成分の光強度分布より被
測定物を測定する測定手段とを備えた技術的手段を採用
する。なお、第1、第2発明ともに、一方の電磁波、他
方の電磁波、干渉縞の投射順序は、限定されるものでは
なく、種々変更可能なものである。
【0006】
【発明の作用】
〔第1発明の作用〕例えば、まず干渉縞を形成する一方
の電磁波を被投射体に投射する。そして、被投射体に投
射された光強度分布を撮影し、その光強度の分布状態を
第1光強度分布記憶手段で記憶する。続いて、干渉縞を
形成する他方の電磁波を被投射体に投射する。そして、
被投射体に投射された光強度分布を撮影し、その光強度
の分布状態を第2光強度分布記憶手段で記憶する。さら
に、2つの電磁波によって生じる干渉縞を被投射体に投
射する。そして、被投射体に投射された光強度分布を撮
影し、その光強度の分布状態を第3光強度分布記憶手段
で記憶する。そして、不要光除去手段で、第3光強度分
布記憶手段で記憶する干渉縞の光強度分布と、第1、第
2光強度分布記憶手段で記憶する光強度分布とから、干
渉縞のcos縞成分を抽出する。 〔第2発明の作用〕例えば、まず干渉縞を形成する一方
の電磁波を被測定物に投射する。そして、被測定物に投
射された光強度分布を撮影し、その光強度の分布状態を
第1光強度分布記憶手段で記憶する。続いて、干渉縞を
形成する他方の電磁波を被測定物に投射する。そして、
被測定物に投射された光強度分布を撮影し、その光強度
の分布状態を第2光強度分布記憶手段で記憶する。さら
に、被測定物の測定対象範囲内に、2つの電磁波によっ
て生じる干渉縞の光強度の極小から極大の範囲内を投射
する。そして、被測定物に投射された光強度分布を撮影
し、その光強度の分布状態を第3光強度分布記憶手段で
記憶する。そして、不要光除去手段で、第3光強度分布
記憶手段で記憶する干渉縞の光強度分布と、第1、第2
光強度分布記憶手段で記憶する光強度分布とから、干渉
縞のcos縞成分を抽出し、測定手段で不要光の取り除
かれたcos縞成分の光強度分布より、被測定物を測定
する。なお、被測定物の色を測定する場合は、被測定物
に投射させる電磁波を、複数の色の波長とし(例えば、
レーザ光の色を変えたり、カラーフィルタを変えて通す
など)、それぞれのcos縞成分の光強度分布の比か
ら、被測定物の色を測定する。
【0007】
【発明の効果】第1発明では、電磁波の干渉縞より不要
光を除去して、cos縞成分のみを抽出することができ
る。また、第2発明では、干渉縞の光強度の極小から極
大の範囲内を被測定物に投射しているため、従来のよう
な縞の飛び越しがなく、かつ不要光が除去されたcos
縞成分を用いて被測定物を測定できるため、従来に比較
して、測定精度を高めることができる。
【0008】
【実施例】次に、第1発明の電磁波干渉縞の不要光除去
方法および第2発明の電磁波干渉縞を用いた測定方法
を、図に示す一実施例に基づき説明する。 〔第1実施例の構成〕図1ないし図3は第1実施例を示
すもので、図1は電磁波干渉縞の不要光除去方法および
電磁波干渉縞を用いた測定方法を利用して、被測定物の
形状を測定する測定装置のブロック図、図2は2つの電
磁波を放射して被測定物に干渉縞を生じさせるレーザ装
置の概略構成図である。本実施例の測定装置1は、例え
ば歯牙を切削して得られた形成欠損部の形状を測定する
もので、容易に動くことのできないように固定された患
者の歯牙(被投射体であり、かつ被測定物)2の形成欠
損部(測定範囲内)に、電磁波(レーザ光)による干渉
縞の光強度の極小から極大(極大から極小でも同じ)の
範囲内を投射させるレーザ装置3と、被測定物2に照射
された光強度分布を撮影するカメラ4と、レーザ装置3
を制御するとともに、カメラ4の撮影した光強度分布か
ら、被測定物2の測定範囲の形状を算出(測定)するコ
ンピュータを使用した電気回路5とからなる。なお、本
実施例では、電気回路5にモニター装置6が接続され、
測定装置1の使用者等に測定装置1の操作手順や、カメ
ラ4で測定した光分布状態、測定結果等を表示するよう
に設けられている。
【0009】レーザ装置3の一例を図2に示す。レーザ
装置3は、コヒーレント光を照射する半導体レーザ7、
この半導体レーザ7の照射した光の一部を反射し、他の
光を透過する第1ハーフミラーHM1 、この第1ハーフ
ミラーHM1 の反射した光を被測定物2に向ける第1ミ
ラーM1 、第1ハーフミラーHM1 を透過した光を反射
させる第2ミラーM2 、この第2ミラーM2 が反射した
光を被測定物2に向けるとともに、第1ミラーM1 から
被測定物2に向かう光を透過する第2ハーフミラーHM
2 を備える。また、レーザ装置3は、第1ハーフミラー
HM1 から第1ミラーM1 へ向かう光の第1光路R1 、
第2ミラーM2 から第2ハーフミラーHM2 へ向かう光
の第2光路R2 の一方を遮断することが可能なシャッタ
8を備える。このシャッタ8は、第1光路R1 および第
2光路R2 の両方を開放することにより、第1光路R1
を通る電磁波と第2光路R2 を通る電磁波によって被測
定物2に干渉縞が照射され、第1光路R1 を開放し、第
2光路R2 を遮断することにより、第1光路R1 を通る
電磁波のみが被測定物2に照射され、第1光路R1を遮
断し、第2光路R2 を開放することにより、第2光路R
2 を通る電磁波のみが被測定物2に照射される。そし
て、半導体レーザ7やシャッタ8の作動は、電気回路5
によって制御される。なお、レーザ装置3は、被測定物
2の測定範囲内に、干渉縞の光強度の極小から極大の範
囲内を投射させるように設けられている。
【0010】カメラ4は、例えば画素数の多い高感度C
CDカメラで、電気回路5は、各画素によって検出され
る光強度を読み取ることができる。なお、カメラ4はC
CDカメラに限定されるものでなく、カメラ4の撮影し
た受像体を用いて、最終的に電気回路5の内部で受像体
の光強度分布を読み取れるものであれば良い。
【0011】電気回路5は、半導体レーザ7やシャッタ
8の作動を制御するとともに、カメラ4の読み込んだ被
測定物2の光強度分布から干渉縞から、2次以降の多次
散乱光、像界スペックル、回析界スペックルなどの不要
光を取り除いてcos縞成分とし、このcos縞成分を
基に被測定物2の測定範囲内の形状を算出することによ
って、測定結果を得るものである。この電気回路5の作
動の一例を図3のフローチャートを用いて説明する。本
実施例では、まずシャッタ8によって第2光路R2 のみ
を遮断し、第1光路R1 を通る光のみを被測定物2に照
射させる(ステップS1 )。この状態で、カメラ4によ
って被測定物2を撮影し、各画素毎における光強度を記
憶する。つまり、第1光路R1 のみを通る光の照射され
た被測定物2の光強度分布を記憶する(第1光強度分布
記憶手段9の作動、ステップS2 )。次に、シャッタ8
によって第1、第2光路R1 、R2 の両方を開放し、第
1光路R1 を通る光と第2光路R2 を通る光による干渉
縞を被測定物2に照射させる(ステップS3 )。この状
態で、カメラ4によって被測定物2を撮影し、各画素毎
における光強度を記憶する。つまり、被測定物2に照射
された干渉縞の光強度分布を記憶する(第3光強度分布
記憶手段10の作動、ステップS4 )。次に、シャッタ
8によって第1光路R1 のみを遮断し、第2光路R2 を
通る光のみを被測定物2に照射させる(ステップS5
)。この状態で、カメラ4によって被測定物2を撮影
し、各画素毎における光強度を記憶する。つまり、第2
光路R2 のみを通る光の照射された被測定物2の光強度
分布を記憶する(第2光強度分布記憶手段11の作動、
ステップS6 )。次に、第1、第2、第3光強度分布記
憶手段9、11、10の記憶する光強度分布を用いて干
渉縞より不要光成分を除去し、cos縞成分を抽出する
(不要光除去手段12の作動、ステップS7 )。この不
要光除去手段12の作動を、具体的に説明する。干渉縞
は、次の式の関係を有する。
【数1】A3 2 =A1 2 +A2 2 +2A1 A2 cosθ なお、A1 は第1光路R1 のみによる光強度、A2 は第
2光路R2 のみによる光強度、A3 は干渉縞による光強
度である。次に、次式の演算を行う。
【数2】y=k{A3 2 −(A1 2 +A2 2 )} なお、kは算出精度を高めるための任意の定数である。
次に、次式の演算を行う。
【数3】2kcosθ=y/(A1 ・A2 ) この演算は、各画素毎に行われる。次に、不要光が除去
された光強度分布を基に、被測定物2の測定範囲内の形
状の算出を行う(測定手段13の作動、ステップS8
)。この演算は、各画素毎において三角測量法によっ
て、各画素毎の位置を算出し、各画素の算出する位置関
係から被測定物2の測定範囲の形状を算出し、測定値を
得るものである。なお、測定範囲内に、干渉縞が当たら
ない欠損部が有れば、レーザ装置3より照射される光の
照射位置を変えて、欠損部の測定を行う。
【0012】なお、被測定物2の形状の測定結果の利用
の一例を示す。被測定物2が歯牙で、その形成切削部の
形状を測定した場合、その測定結果を基に3次元切削機
(図示しない)を操作して、形成切削部に嵌め込まれる
歯冠修復用補填物を作成する。これによって、患者から
印象などによって型取りし、その型から歯冠修復用補填
物を作成する技術に比較して、迅速かつ正確な歯冠修復
用補填物を得ることができる。
【0013】〔実施例の効果〕本実施例では、干渉縞の
飛び越しによる影響がないばかりでなく、電磁波の干渉
縞より不要光を除去して、cos縞成分のみを抽出する
ことができ、その不要光が除去されたcos縞成分を用
いて被測定物2を測定できるため、干渉縞を用いて被測
定物2の形状を測定する従来技術に比較して、測定精度
を高めることができる。
【0014】〔第2実施例〕図4は第2実施例を示すも
ので、電磁波干渉縞の不要光除去方法および電磁波干渉
縞を用いた測定方法を利用して、形状の他に、被測定物
2の色を測定する測定装置1のブロック図である。本実
施例の測定装置1に使用されるレーザ装置3の半導体レ
ーザ7(第1実施例参照)は、3色のレーザ光を切り換
えて発することができるもので、電気回路5の指示に応
じて、赤色レーザ、緑色レーザ、青色レーザを発する。
【0015】そして、電気回路5は、半導体レーザ7で
赤色レーザを放射させ、カメラ4が被測定物2の光強度
分布を撮影する状態で、シャッタ8(第1実施例参照)
を操作して第1光路R1 (第1実施例参照)のみの光を
被測定物2に照射して、その光強度分布を第1光強度分
布記憶手段9で記憶する。次に、シャッタ8を操作して
第1光路R1 と第2光路R2 (第1実施例参照)の両方
を通る光を被測定物2に照射して、その光強度分布を第
3光強度分布記憶手段10で記憶する。次に、シャッタ
8を操作して第2光路R2 のみの光を被測定物2に照射
して、その光強度分布を第2光強度分布記憶手段11で
記憶する。次に、第1、第2、第3光強度分布記憶手段
9、11、10で記憶する各光強度分布から、各画素毎
において上記
【数1】、
【数2】、
【数3】を用いて不要光を除去し、赤色レーザで撮影し
た際のcos縞成分の光強度分布を記憶する(赤色co
s縞記憶手段16の作動)。次に、半導体レーザ7の放
射するレーザ光を、赤色レーザから緑色レーザに切替
え、カメラ4が被測定物2の光強度分布を撮影する状態
で、シャッタ8を操作して第1光路R1 のみの光を被測
定物2に照射して、その光強度分布を第1光強度分布記
憶手段9で記憶する。次に、シャッタ8を操作して第1
光路R1 と第2光路R2 の両方を通る光を被測定物2に
照射して、その光強度分布を第3光強度分布記憶手段1
0で記憶する。次に、シャッタ8を操作して第2光路R
2 のみの光を被測定物2に照射して、その光強度分布を
第2光強度分布記憶手段11で記憶する。次に、第1、
第2、第3光強度分布記憶手段9、11、10で記憶す
る各光強度分布から、各画素毎において上記
【数1】、
【数2】、
【数3】を用いて不要光を除去し、緑色レーザで撮影し
た際のcos縞成分の光強度分布を記憶する(緑色co
s縞記憶手段17の作動)。次に、半導体レーザ7の放
射するレーザ光を、緑色レーザから青色レーザに切替
え、カメラ4が被測定物2の光強度分布を撮影する状態
で、シャッタ8を操作して第1光路R1 のみの光を被測
定物2に照射して、その光強度分布を第1光強度分布記
憶手段9で記憶する。次に、シャッタ8を操作して第1
光路R1 と第2光路R2 の両方を通る光を被測定物2に
照射して、その光強度分布を第3光強度分布記憶手段1
0で記憶する。次に、シャッタ8を操作して第2光路R
2 のみの光を被測定物2に照射して、その光強度分布を
第2光強度分布記憶手段11で記憶する。次に、第1、
第2、第3光強度分布記憶手段10で記憶する各光強度
分布から、各画素毎において上記
【数1】、
【数2】、
【数3】を用いて不要光を除去し、青色レーザで撮影し
た際のcos縞成分の光強度分布を記憶する(青色co
s縞記憶手段18の作動)。次に、赤色、緑色、青色c
os縞記憶手段16、17、18の記憶するcos縞成
分の光強度分布から、各画素毎における光強度の比を比
較して、その光強度の比から、各画素毎における色を算
出し、被測定物2の測定範囲内の色を測定するととも
に、各画素毎において三角測量法によって、各画素毎の
位置を算出し、各画素の算出する位置関係から被測定物
2の形状を算出し、被測定物2の測定範囲内の形状を測
定する(測定手段13の作動)。
【0016】本実施例では、例えば皮膚や、歯牙など電
磁波の一部を透過する被測定物2を測定する場合であっ
ても、被測定物2の透過、拡散する不要光を除去するこ
とができるめ、高い測定精度で色および形の測定を行う
ことができる。
【0017】〔変形例〕第1発明の一例として、第2発
明に示す測定装置に利用した例を示したが、電磁波の干
渉縞を用いる全ての分野に利用可能なものである。第1
実施例では、光強度と三角測量法で形状を測定したが、
例えば同一光強度の画素を選別させ、同一光強度の画素
の分布状態から形状を測定するように設けるなど、他の
手段を用いても良い。比測定物に照射される光をレンズ
などの拡張手段によって拡張しても良い。また、cos
縞が完全なcosカーブからずれる場合は、そのずれを
修正して利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】被測定物の形状を測定する測定装置のブロック
図である(第1実施例)。
【図2】電磁波を放射して被測定物に干渉縞を生じさせ
るレーザ装置の概略構成図である(第1実施例)。
【図3】電気回路の作動の一例を示すフローチャートで
ある(第1実施例)。
【図4】被測定物の色を測定する測定装置のブロック図
である(第2実施例)。
【符号の説明】
2 被測定物(被投射体) 3 レーザ装置 4 カメラ 5 電気回路 9 第1光強度分布記憶手段 10 第3光強度分布記憶手段 11 第2光強度分布記憶手段 12 不要光除去手段 13 測定手段
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年12月28日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の詳細な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、2つの電磁波の干渉に
よって生じる干渉縞より不要光を取り除き、干渉縞中の
cos縞成分を抽出する電磁波干渉縞の不要光除去方法
と、この不要光除去方法を利用して被測定物の形状を
定する電磁波干渉縞を用いた測定方法に関する。
【0002】
【従来の技術】2つの電磁波の干渉によって生じる干渉
縞を、被測定物である物体に投射し、物体に投射された
多数の干渉縞の分布状態から、被測定物の形状を測定す
る研究がなされている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、従来の技術
では、被測定物に投射され、反射した電磁波が被測定物
の他の位置に当たり、その不要光をセンサで測定するた
め、測定精度が低い不具合を有していた。同様に、例え
ば皮膚など電磁波を透過する被測定物を測定する場合、
被測定部に当たった電磁波の一部が被測定物に透過、拡
散し、その不要光をセンサで測定するため、測定精度が
低い不具合を有していた。さらに、多数の干渉縞の分布
状態で被測定物を測定するものは、干渉縞に飛び越しの
発生の可能性があるため、干渉縞の飛び越しの発生によ
って測定精度が劣化する不具合を有していた。
【0004】
【発明の目的】第1発明の目的は、2つの電磁波の干渉
によって生じる干渉縞より不要光を取り除く電磁波干渉
縞の不要光除去方法の提供にあり、第2発明の目的は、
2つの電磁波の干渉を用いて被測定物の形状を正確に測
定する電磁波干渉縞を用いた測定方法の提供にある。
【0005】
【課題を解決するための手段】 〔第1発明〕第1発明の電磁波干渉縞の不要光除去方法
は、干渉縞を形成する2つの電磁波の一方の電磁波を被
投射体に投射し、その被投射体に投射された光強度分布
を撮影し、その光強度分布を記憶する第1光強度分布記
憶手段と、干渉縞を形成する2つの電磁波の他方の電磁
波を前記被投射体に投射し、その被投射体に投射された
光強度分布を撮影し、その光強度分布を記憶する第2光
強度分布記憶手段と、2つの電磁波の干渉によって生じ
る干渉縞を前記被投射体に投射し、その被投射体に投射
された光強度分布を撮影し、その光強度分布を記憶する
第3光強度分布記憶手段と、この第3光強度分布記憶手
段の記憶する光強度分布から、前記第1、第2光強度分
布記憶手段の記憶するそれぞれの光強度分布を用いて、
干渉縞よりcos縞成分を抽出する不要光除去手段とを
備えた技術的手段を採用する。 〔第2発明〕第2発明の電磁波干渉縞を用いた測定方法
は、被測定物の測定対象範囲内に、2つの電磁波の干渉
によって生じる干渉縞の光強度の極小から極大の範囲内
を投射し、その被測定物に投射された光強度分布を撮影
し、その光強度分布を記憶する第3光強度分布記憶手段
と、干渉縞を形成する2つの電磁波の一方の電磁波を前
記被測定物に投射し、その被測定物に投射された光強度
分布を撮影し、その光強度分布を記憶する第1光強度分
布記憶手段と、干渉縞を形成する2つの電磁波の他方の
電磁波を前記被測定物に投射し、その被測定物に投射さ
れた光強度分布を撮影し、その光強度分布を記憶する第
2光強度分布記憶手段と、第3光強度分布記憶手段の記
憶する光強度分布から、第1、第2光強度分布記憶手段
の記憶するそれぞれの光強度分布を用いて、干渉縞より
cos縞成分を抽出する不要光除去手段と、干渉縞中よ
り不要光を取り除いたcos縞成分の光強度分布より被
測定物を測定する測定手段とを備えた技術的手段を採用
する。なお、第1、第2発明ともに、一方の電磁波、他
方の電磁波、干渉縞の投射順序は、限定されるものでは
なく、種々変更可能なものである。
【0006】
【発明の作用】 〔第1発明の作用〕例えば、まず干渉縞を形成する一方
の電磁波を被投射体に投射する。そして、被投射体に投
射された光強度分布を撮影し、その光強度の分布状態を
第1光強度分布記憶手段で記憶する。続いて、干渉縞を
形成する他方の電磁波を被投射体に投射する。そして、
被投射体に投射された光強度分布を撮影し、その光強度
の分布状態を第2光強度分布記憶手段で記憶する。さら
に、2つの電磁波によって生じる干渉縞を被投射体に投
射する。そして、被投射体に投射された光強度分布を撮
影し、その光強度の分布状態を第3光強度分布記憶手段
で記憶する。そして、不要光除去手段で、第3光強度分
布記憶手段で記憶する干渉縞の光強度分布と、第1、第
2光強度分布記憶手段で記憶する光強度分布とから、干
渉縞のcos縞成分を抽出する。 〔第2発明の作用〕例えば、まず干渉縞を形成する一方
の電磁波を被測定物に投射する。そして、被測定物に投
射された光強度分布を撮影し、その光強度の分布状態を
第1光強度分布記憶手段で記憶する。続いて、干渉縞を
形成する他方の電磁波を被測定物に投射する。そして、
被測定物に投射された光強度分布を撮影し、その光強度
の分布状態を第2光強度分布記憶手段で記憶する。さら
に、被測定物の測定対象範囲内に、2つの電磁波によっ
て生じる干渉縞の光強度の極小から極大の範囲内を投射
する。そして、被測定物に投射された光強度分布を撮影
し、その光強度の分布状態を第3光強度分布記憶手段で
記憶する。そして、不要光除去手段で、第3光強度分布
記憶手段で記憶する干渉縞の光強度分布と、第1、第2
光強度分布記憶手段で記憶する光強度分布とから、干渉
縞のcos縞成分を抽出し、測定手段で不要光の取り除
かれたcos縞成分の光強度分布より、被測定物を測定
する。
【0007】
【発明の効果】第1発明では、電磁波の干渉縞より不要
光を除去して、cos縞成分のみを抽出することができ
る。また、第2発明では、干渉縞の光強度の極小から極
大の範囲内を被測定物に投射しているため、従来のよう
な縞の飛び越しがなく、かつ不要光が除去されたcos
縞成分を用いて被測定物を測定できるため、従来に比較
して、測定精度を高めることができる。
【0008】
【実施例】次に、第1発明の電磁波干渉縞の不要光除去
方法および第2発明の電磁波干渉縞を用いた測定方法
を、図に示す一実施例に基づき説明する。 〔第1実施例の構成〕図1ないし図3は第1実施例を示
すもので、図1は電磁波干渉縞の不要光除去方法および
電磁波干渉縞を用いた測定方法を利用して、被測定物の
形状を測定する測定装置のブロック図、図2は2つの電
磁波を放射して被測定物に干渉縞を生じさせるレーザ装
置の概略構成図である。本実施例の測定装置1は、例え
ば歯牙を切削して得られた形成欠損部の形状を測定する
もので、容易に動くことのできないように固定された患
者の歯牙(被投射体であり、かつ被測定物)2の形成欠
損部(測定範囲内)に、電磁波(レーザ光)による干渉
縞の光強度の極小から極大(極大から極小でも同じ)の
範囲内を投射させるレーザ装置3と、被測定物2に照射
された光強度分布を撮影するカメラ4と、レーザ装置3
を制御するとともに、カメラ4の撮影した光強度分布か
ら、被測定物2の測定範囲の形状を算出(測定)するコ
ンピュータを使用した電気回路5とからなる。なお、本
実施例では、電気回路5にモニター装置6が接続され、
測定装置1の使用者等に測定装置1の操作手順や、カメ
ラ4で測定した光分布状態、測定結果等を表示するよう
に設けられている。
【0009】レーザ装置3の一例を図2に示す。レーザ
装置3は、コヒーレント光を照射する半導体レーザ7、
この半導体レーザ7の照射した光の一部を反射し、他の
光を透過する第1ハーフミラーHM1 、この第1ハーフ
ミラーHM1 の反射した光を被測定物2に向ける第1ミ
ラーM1 、第1ハーフミラーHM1 を透過した光を反射
させる第2ミラーM2 、この第2ミラーM2 が反射した
光を被測定物2に向けるとともに、第1ミラーM1 から
被測定物2に向かう光を透過する第2ハーフミラーHM
2 を備える。また、レーザ装置3は、第1ハーフミラー
HM1 から第1ミラーM1 へ向かう光の第1光路R1 、
第2ミラーM2 から第2ハーフミラーHM2 へ向かう光
の第2光路R2 の一方を遮断することが可能なシャッタ
8を備える。このシャッタ8は、第1光路R1 および第
2光路R2 の両方を開放することにより、第1光路R1
を通る電磁波と第2光路R2 を通る電磁波によって被測
定物2に干渉縞が照射され、第1光路R1 を開放し、第
2光路R2 を遮断することにより、第1光路R1 を通る
電磁波のみが被測定物2に照射され、第1光路R1を遮
断し、第2光路R2 を開放することにより、第2光路R
2 を通る電磁波のみが被測定物2に照射される。そし
て、半導体レーザ7やシャッタ8の作動は、電気回路5
によって制御される。なお、レーザ装置3は、被測定物
2の測定範囲内に、干渉縞の光強度の極小から極大の範
囲内を投射させるように設けられている。
【0010】カメラ4は、例えば画素数の多い高感度C
CDカメラで、電気回路5は、各画素によって検出され
る光強度を読み取ることができる。なお、カメラ4はC
CDカメラに限定されるものでなく、カメラ4の撮影し
た受像体を用いて、最終的に電気回路5の内部で受像体
の光強度分布を読み取れるものであれば良い。
【0011】電気回路5は、半導体レーザ7やシャッタ
8の作動を制御するとともに、カメラ4の読み込んだ被
測定物2の光強度分布から干渉縞から、2次以降の多次
散乱光、像界スペックル、回析界スペックルなどの不要
光を取り除いてcos縞成分とし、このcos縞成分を
基に被測定物2の測定範囲内の形状を算出することによ
って、測定結果を得るものである。この電気回路5の作
動の一例を図3のフローチャートを用いて説明する。本
実施例では、まずシャッタ8によって第2光路R2 のみ
を遮断し、第1光路R1 を通る光のみを被測定物2に照
射させる(ステップS1 )。この状態で、カメラ4によ
って被測定物2を撮影し、各画素毎における光強度を記
憶する。つまり、第1光路R1 のみを通る光の照射され
た被測定物2の光強度分布を記憶する(第1光強度分布
記憶手段9の作動、ステップS2 )。次に、シャッタ8
によって第1、第2光路R1 、R2 の両方を開放し、第
1光路R1 を通る光と第2光路R2 を通る光による干渉
縞を被測定物2に照射させる(ステップS3 )。この状
態で、カメラ4によって被測定物2を撮影し、各画素毎
における光強度を記憶する。つまり、被測定物2に照射
された干渉縞の光強度分布を記憶する(第3光強度分布
記憶手段10の作動、ステップS4 )。次に、シャッタ
8によって第1光路R1 のみを遮断し、第2光路R2 を
通る光のみを被測定物2に照射させる(ステップS5
)。この状態で、カメラ4によって被測定物2を撮影
し、各画素毎における光強度を記憶する。つまり、第2
光路R2 のみを通る光の照射された被測定物2の光強度
分布を記憶する(第2光強度分布記憶手段11の作動、
ステップS6 )。次に、第1、第2、第3光強度分布記
憶手段9、11、10の記憶する光強度分布を用いて干
渉縞より不要光成分を除去し、cos縞成分を抽出する
(不要光除去手段12の作動、ステップS7 )。この不
要光除去手段12の作動を、具体的に説明する。干渉縞
は、次の式の関係を有する。
【数1】A3 2 =A1 2 +A2 2 +2A1 A2 cosθ なお、A1 は第1光路R1 のみによる光強度、A2 は第
2光路R2 のみによる光強度、A3 は干渉縞による光強
度である。次に、次式の演算を行う。
【数2】y=k{A3 2 −(A1 2 +A2 2 )} なお、kは算出精度を高めるための任意の定数である。
次に、次式の演算を行う。
【数3】2kcosθ=y/(A1 ・A2 ) この演算は、各画素毎に行われる。次に、不要光が除去
された光強度分布を基に、被測定物2の測定範囲内の形
状の算出を行う(測定手段13の作動、ステップS8
)。この演算は、各画素毎において三角測量法によっ
て、各画素毎の位置を算出し、各画素の算出する位置関
係から被測定物2の測定範囲の形状を算出し、測定値を
得るものである。なお、測定範囲内に、干渉縞が当たら
ない欠損部が有れば、レーザ装置3より照射される光の
照射位置を変えて、欠損部の測定を行う。
【0012】なお、被測定物2の形状の測定結果の利用
の一例を示す。被測定物2が歯牙で、その形成切削部の
形状を測定した場合、その測定結果を基に3次元切削機
(図示しない)を操作して、形成切削部に嵌め込まれる
歯冠修復用補填物を作成する。これによって、患者から
印象などによって型取りし、その型から歯冠修復用補填
物を作成する技術に比較して、迅速かつ正確な歯冠修復
用補填物を得ることができる。
【0013】〔実施例の効果〕本実施例では、干渉縞の
飛び越しによる影響がないばかりでなく、電磁波の干渉
縞より不要光を除去して、cos縞成分のみを抽出する
ことができ、その不要光が除去されたcos縞成分を用
いて被測定物2を測定できるため、干渉縞を用いて被測
定物2の形状を測定する従来技術に比較して、測定精度
を高めることができる。
【0014】 〔変形例〕第1発明の一例として、第2発
明に示す測定装置に利用した例を示したが、電磁波の干
渉縞を用いる全ての分野に利用可能なものである。第1
実施例では、光強度と三角測量法で形状を測定したが、
例えば同一光強度の画素を選別させ、同一光強度の画素
の分布状態から形状を測定するように設けるなど、他の
手段を用いても良い。比測定物に照射される光をレンズ
などの拡張手段によって拡張しても良い。また、cos
縞が完全なcosカーブからずれる場合は、そのずれを
修正して利用することができる。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図4
【補正方法】削除 ─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年12月28日
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】
【図2】
【図3】

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(a)干渉縞を形成する2つの電磁波の一
    方の電磁波を被投射体に投射し、その被投射体に投射さ
    れた光強度分布を撮影し、その光強度分布を記憶する第
    1光強度分布記憶手段と、 (b)干渉縞を形成する2つの電磁波の他方の電磁波を
    前記被投射体に投射し、その被投射体に投射された光強
    度分布を撮影し、その光強度分布を記憶する第2光強度
    分布記憶手段と、 (c)2つの電磁波の干渉によって生じる干渉縞を前記
    被投射体に投射し、その被投射体に投射された光強度分
    布を撮影し、その光強度分布を記憶する第3光強度分布
    記憶手段と、 (d)この第3光強度分布記憶手段の記憶する光強度分
    布から、前記第1、第2光強度分布記憶手段の記憶する
    それぞれの光強度分布を用いて、干渉縞よりcos縞成
    分を抽出する不要光除去手段とを備えた電磁波干渉縞の
    不要光除去方法。
  2. 【請求項2】(e)被測定物の測定対象範囲内に、2つ
    の電磁波の干渉によって生じる干渉縞の光強度の極小か
    ら極大の範囲内を投射し、その被測定物に投射された光
    強度分布を撮影し、その光強度分布を記憶する第3光強
    度分布記憶手段と、 (f)干渉縞を形成する2つの電磁波の一方の電磁波を
    前記被測定物に投射し、その被測定物に投射された光強
    度分布を撮影し、その光強度分布を記憶する第1光強度
    分布記憶手段と、 (g)干渉縞を形成する2つの電磁波の他方の電磁波を
    前記被測定物に投射し、その被測定物に投射された光強
    度分布を撮影し、その光強度分布を記憶する第2光強度
    分布記憶手段と、 (h)第3光強度分布記憶手段の記憶する光強度分布か
    ら、第1、第2光強度分布記憶手段の記憶するそれぞれ
    の光強度分布を用いて、干渉縞よりcos縞成分を抽出
    する不要光除去手段と、 (i)干渉縞中より不要光を取り除いたcos縞成分の
    光強度分布より被測定物を測定する測定手段とを備えた
    電磁波干渉縞を用いた測定方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012518844A (ja) * 2009-02-25 2012-08-16 ディメンジョナル フォトニクス インターナショナル,インコーポレイテッド 三次元計測システムのための輝度およびカラー表示

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5529045U (ja) * 1978-08-15 1980-02-25
JPS6138505A (ja) * 1984-07-31 1986-02-24 Yamatake Honeywell Co Ltd 光学式計測装置

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