JPH06150396A - Production of optical master disk - Google Patents

Production of optical master disk

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Publication number
JPH06150396A
JPH06150396A JP30202292A JP30202292A JPH06150396A JP H06150396 A JPH06150396 A JP H06150396A JP 30202292 A JP30202292 A JP 30202292A JP 30202292 A JP30202292 A JP 30202292A JP H06150396 A JPH06150396 A JP H06150396A
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JP
Japan
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substrate
signal
photoresist
depth
pits
Prior art date
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Pending
Application number
JP30202292A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Fumiaki Ueno
文章 植野
Michiyoshi Nagashima
道芳 永島
Kenji Takamoto
健治 高本
Toshinori Kishi
俊法 貴志
Hisaki Miyamoto
寿樹 宮本
Shinya Abe
伸也 阿部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP30202292A priority Critical patent/JPH06150396A/en
Publication of JPH06150396A publication Critical patent/JPH06150396A/en
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Abstract

PURPOSE:To enable the selection of a substrate having decreased drop-outs in the stage of the substrate to be reproduced by applying a photoresist to the substrate produced by reproducing the substrate formed with signal pits, then recording signals again thereon. CONSTITUTION:The positive type photoresist is applied by a method, such as spin coating, on the substrate 1 consisting of a glass, etc., subjected to flattening of the surface by a method, such as polishing, and is baked to form a photoresist layer 2. A conductive film 5 of nickel, etc., is then formed on the surface by a method, such as sputtering method and the number of the drop-outs is measured by making evaluation by reproduction. The stages are repeated from the beginning in case of the many drop-outs. The substrate having the decreased drop-outs is selected and is subjected to nickel plating by using the conductive film 5 as an electrode.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は光ディスク原盤の作製方
法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an optical disc master.

【0002】[0002]

【従来の技術】光ディスク原盤は、一般に表面を研摩し
た硝子基板にフォトレジストを塗布し、これを記録すべ
き情報信号により強度変調したレーザー光を用いて感光
させ、現像してその感光度に対応した凹凸状の信号もし
くは溝または凹凸状の信号及び溝を形成して作製され
る。以下この凹凸状の信号もしくは溝または凹凸状の信
号及び溝を一括して信号ピットと呼ぶことにする。
2. Description of the Related Art In general, a master disc of an optical disc is prepared by coating a photoresist on a glass substrate whose surface is polished, exposing it to light using a laser beam whose intensity is modulated by an information signal to be recorded, and developing it to correspond to its photosensitivity. It is manufactured by forming the uneven signal or groove or the uneven signal and groove. Hereinafter, the uneven signal or groove or the uneven signal and groove will be collectively referred to as a signal pit.

【0003】高記録密度を達成するため、深さの異なっ
た二種類の信号ピットを形成した光ディスクが考案され
ている(例えば、特開昭54−136303号公報)。
この光ディスクでは、深さの異なる二種類の信号ピット
の深さが重要である。信号を読み取る光の波長をλとす
ると、信号ピットの深さは、λ/4とλ/8である必要
がある。
In order to achieve a high recording density, an optical disk having two kinds of signal pits having different depths has been devised (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 54-136303).
In this optical disc, the depths of two types of signal pits having different depths are important. When the wavelength of the light for reading the signal is λ, the depth of the signal pit needs to be λ / 4 and λ / 8.

【0004】このような光ディスクを作製するため、信
号を記録する際の光強度を変化させることにより深さの
異なる二種類の信号ピットを得る方法が示されている。
つまり、浅い信号ピットを記録する場合は強度の弱い光
を、深い信号ピットを記録する場合には強度の強い光を
照射し現像することにより、深さの異なる二種類の信号
ピットを形成する。
In order to manufacture such an optical disc, a method of obtaining two kinds of signal pits having different depths by changing the light intensity when recording a signal has been shown.
That is, two kinds of signal pits having different depths are formed by irradiating and developing light having low intensity when recording shallow signal pits and light having high intensity when recording deep signal pits.

【0005】従来例の光ディスク原盤の作成方法の工程
を図5(a)〜(c)に示す。同図(a)に示すよう
に、表面を研磨等の方法で平坦にした硝子等からなる基
板1にスピンコート法等の方法でポジ型フォトレジスト
を塗布し、ベークしてフォトレジスト層19を形成す
る。現像によってフォトレジストは光を照射されていな
い部分も少し膜厚が減少するので、現像後に光を照射さ
れていない部分のフォトレジスト膜厚が深い方の信号ピ
ットの深さになるよう、深い方の信号ピットの深さより
少し厚くフォトレジストを原盤上に塗布する。
FIG. 5A to FIG. 5C show steps of a conventional method for producing an optical disk master. As shown in FIG. 3A, a positive type photoresist is applied by a method such as spin coating to a substrate 1 made of glass or the like whose surface is flattened by a method such as polishing, and baked to form a photoresist layer 19. Form. Since the thickness of the photoresist is slightly reduced by the development even in the non-irradiated area, the photoresist thickness in the non-irradiated area after development should be deeper so that the depth of the signal pit becomes deeper. A photoresist is applied to the master so that the photoresist is slightly thicker than the signal pit depth.

【0006】次に、同図(b)に示すように、深い信号
ピットを記録する場合にはフォトレジストが現像により
全て取り除かれる強度の光を照射し、浅い信号ピットを
記録する場合には、フォトレジストが膜厚の約半分だけ
現像によって取り除かれる強度の光を照射する。感光し
た部分を斜線部3で示す。
Next, as shown in FIG. 1B, when recording deep signal pits, light having an intensity that completely removes the photoresist by development is irradiated, and when recording shallow signal pits, The photoresist is exposed to light of an intensity that removes about half of the film thickness by development. The exposed portion is indicated by the shaded portion 3.

【0007】そして、同図(c)に示すように現像する
ことにより感光した部分を取り除き深さの異なる二種類
の信号ピット4、10を形成する。
Then, as shown in FIG. 1C, the exposed portion is removed by developing to form two kinds of signal pits 4 and 10 having different depths.

【0008】フォトレジスト塗布・信号記録・現像の工
程を二回繰り返すことにより深さの異なる二種類の信号
ピットを形成することもできる。
It is also possible to form two kinds of signal pits having different depths by repeating the steps of photoresist coating, signal recording and development twice.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】照射する光強度を調整
することによりフォトレジスト膜を途中まで現像によっ
て取り除く方法では、光強度のばらつきや現像条件のば
らつき等によって信号ピットの深さが変化してしまい、
安定して二種類の深さの信号ピットを形成することがで
きない。また、フォトレジスト塗布・信号記録・現像の
工程を二回繰り返す方法では異物の付着やフォトレジス
トの欠けなどのドロップアウトが多く発生してしまう。
In the method of removing the photoresist film halfway by development by adjusting the irradiation light intensity, the depth of the signal pit changes due to variations in light intensity and development conditions. Sisters,
It is not possible to stably form signal pits of two kinds of depths. Further, in the method in which the steps of photoresist coating, signal recording, and development are repeated twice, many dropouts such as adhesion of foreign matters and chipping of photoresist occur.

【0010】本発明は、上記の欠点を排除した深さの異
なる二種類の信号ピットを有する光ディスク原盤の作製
方法を提供することを目的としたものである。
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an optical disc master having two kinds of signal pits having different depths, which eliminates the above-mentioned drawbacks.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は上記の目的を、
信号ピットを形成した基板を複製して作製された基板に
フォトレジストを塗布して再び信号を記録することによ
り達成する。
The present invention has the above-mentioned objects.
This is achieved by applying a photoresist to the substrate prepared by duplicating the substrate on which the signal pit is formed and recording the signal again.

【0012】[0012]

【作用】フォトレジスト塗布・信号記録・現像の工程を
行うと異物の付着やフォトレジストの欠けなどのドロッ
プアウトが発生してしまう。本発明の方法では、複製す
る基板の段階でドロップアウトの少ないものを選択する
ことができ、ドロップアウトの少ない深さの異なる二種
類の信号ピットを形成した原盤を作製することができ
る。また、基板に信号ピットを形成する際と複製された
基板に信号ピットを形成する際にフォトレジストの厚さ
を規定することにより深さの異なる二種類の信号ピット
の深さを安定させることもできる。
When the steps of photoresist coating, signal recording and development are carried out, dropout such as adhesion of foreign matter or chipping of photoresist occurs. According to the method of the present invention, it is possible to select a substrate having a small number of dropouts at the stage of the substrate to be duplicated, and it is possible to produce a master disc having two types of signal pits having a small number of dropouts and different depths. It is also possible to stabilize the depth of two types of signal pits having different depths by defining the thickness of the photoresist when forming the signal pits on the substrate and when forming the signal pits on the duplicated substrate. it can.

【0013】[0013]

【実施例】以下本発明を実施例によって詳細に説明す
る。
EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to examples.

【0014】(実施例1)本発明の一実施例における光
ディスク原盤の作成方法の工程を図1(a)〜(l)に
示すとともに、各工程を詳細に説明する。
(Embodiment 1) The steps of a method for producing an optical disk master according to an embodiment of the present invention are shown in FIGS. 1A to 1L, and each step will be described in detail.

【0015】同図(a):表面を研磨等の方法で平坦に
した硝子等からなる基板1にスピンコート法等の方法で
ポジ型フォトレジストを塗布し、ベークしてフォトレジ
スト層2を形成する。
FIG. 1A: A positive type photoresist is applied by a method such as spin coating to a substrate 1 made of glass or the like whose surface is flattened by a method such as polishing, and baked to form a photoresist layer 2. To do.

【0016】同図(b):信号記録用のレーザー光を記
録したい信号に応じて電気光学効果を利用した光変調器
等で強度変調し、フォトレジストを塗布した基板1に絞
り込んで照射し、フォトレジスト層を感光させる。感光
した部分を斜線部3で示す。
FIG. 1B: Intensity modulation of a laser beam for signal recording is performed by an optical modulator utilizing an electro-optical effect according to a signal to be recorded, and the substrate 1 coated with a photoresist is narrowed down and irradiated. Exposing the photoresist layer to light. The exposed portion is indicated by the shaded portion 3.

【0017】同図(c):現像することにより未露光部
を除去し信号ピット4を形成する。 同図(d):スパッタ法等の方法で表面にニッケル等の
導電性膜5を形成し、再生評価してドロップアウトの数
を測定する。ドロップアウトが多ければ(a)の工程か
らやり直す。
FIG. 1C: The unexposed portion is removed by development to form the signal pit 4. The same figure (d): A conductive film 5 of nickel or the like is formed on the surface by a method such as a sputtering method, and reproduction is evaluated to measure the number of dropouts. If there are many dropouts, start over from step (a).

【0018】同図(e):ドロップアウトの少ない基板
を選択し、導電性膜5を電極にしてニッケルメッキす
る。
FIG. 3E: A substrate with few dropouts is selected, and the conductive film 5 is used as an electrode for nickel plating.

【0019】同図(f):基板から剥離してスタンパ6
を作製する。剥離後スタンパを洗浄する場合もある。こ
こでは、導電性膜を形成した段階で再生評価してドロッ
プアウト数を測定したが、スタンパの段階で再生評価し
て選択してもよい。
FIG. 2 (f): The stamper 6 is peeled off from the substrate.
To make. The stamper may be washed after peeling. Here, although the number of dropouts was measured by performing the reproduction evaluation at the stage of forming the conductive film, the reproduction evaluation may be performed at the stage of the stamper for selection.

【0020】同図(g):スタンパ6からインジェクシ
ョン法・フォトポリマー法等の方法によって信号ピット
を有する基板7を複製する。
FIG. 3G: The substrate 7 having signal pits is duplicated from the stamper 6 by a method such as an injection method or a photopolymer method.

【0021】同図(h):信号ピットを有する基板7を
にスピンコート法等の方法でポジ型フォトレジストを塗
布し、ベークしてフォトレジスト層8を形成する。
FIG. 3H: A positive photoresist is applied to the substrate 7 having signal pits by a method such as spin coating and baked to form a photoresist layer 8.

【0022】同図(i):信号記録用のレーザー光を記
録したい信号に応じて電気光学効果を利用した光変調器
等で強度変調し、フォトレジストを塗布した基板に絞り
込んで照射し、フォトレジスト層を感光させる。感光し
た部分を斜線部3で示す。
FIG. 1I: Intensity modulation of a laser beam for signal recording is performed by an optical modulator or the like utilizing an electro-optical effect according to a signal to be recorded, and a substrate coated with a photoresist is narrowed down and irradiated with a photo. Exposing the resist layer to light. The exposed portion is indicated by the shaded portion 3.

【0023】同図(j):現像することにより窪み9を
形成する。 同図(k):窪みの形成されたフォトレジスト層をマス
クにしてエッチングによって基板を彫り込み、信号ピッ
ト10が形成される。
FIG. 3J: The depression 9 is formed by developing. In the same figure (k): the signal pit 10 is formed by engraving the substrate by etching using the photoresist layer in which the depression is formed as a mask.

【0024】同図(l):最後に基板上に残ったフォト
レジストをリムーバー等の有機溶剤や酸素プラズマによ
る灰化等の方法で除去して深さの異なる二種類の信号ピ
ットを有する光ディスク原盤11を得る。
FIG. 1 (l): An optical disk master having two kinds of signal pits having different depths by removing the photoresist remaining on the substrate by a method such as ashing with an organic solvent such as remover or oxygen plasma. Get 11.

【0025】基板1としては、硝子の他にニッケル・銅
等の金属や、アクリル樹脂等の合成樹脂など表面が平坦
にできる材料であればよい。
The substrate 1 may be made of a material such as nickel, copper or the like, a synthetic resin such as an acrylic resin or the like, which can have a flat surface, in addition to glass.

【0026】フォトレジスト層2の厚さは、形成したい
信号ピットの深さを原盤から作製した光ディスクの材料
の屈折率で割った値と現像によって未露光部が膜べりす
る量を足した値に等しくなるようにする。フォトレジス
ト層8の厚さは、形成したいもう一方の信号ピットの深
さを原盤から作製した光ディスクの材料の屈折率で割っ
た値をフォトレジストと基板のエッチレート比で割った
値に現像によって未露光部が膜べりする量を足した値よ
り大きくなるようにする。なお、ここでエッチレート比
はフォトレジストのエッチレートを1としたときの基板
のエッチレートを表わす。ポジ型フォトレジストの現像
時の膜べり量は現像条件によって異なるが通常の現像で
は5〜15nm程度である。
The thickness of the photoresist layer 2 is a value obtained by adding the value obtained by dividing the depth of the signal pit to be formed by the refractive index of the material of the optical disc manufactured from the master and the amount of film-deposition in the unexposed portion due to development. Try to be equal. The thickness of the photoresist layer 8 is set to a value obtained by dividing the depth of the other signal pit to be formed by the refractive index of the material of the optical disc manufactured from the master by the etching rate ratio of the photoresist and the substrate by development. The unexposed area should be larger than the sum of the amount of film slippage. Here, the etch rate ratio represents the etch rate of the substrate when the etch rate of the photoresist is 1. The amount of film slippage of the positive photoresist during development varies depending on the development conditions, but is about 5 to 15 nm in normal development.

【0027】基板7にフォトレジストを塗布する場合、
基板に形成された信号ピットが深いと信号ピットの周囲
でフォトレジストの流れが乱れフォトレジストの厚さが
むらになってしまう。このため、浅い方の信号ピットを
形成した基板を用いた方がよい。
When a photoresist is applied to the substrate 7,
If the signal pits formed on the substrate are deep, the flow of the photoresist is disturbed around the signal pits and the thickness of the photoresist becomes uneven. Therefore, it is better to use a substrate on which shallower signal pits are formed.

【0028】エッチングは、イオンビームエッチング・
反応性イオンビームエッチング・ウエットエッチング等
の方法を用いることができる。望ましくは、基板に垂直
方向に彫り込むことのできる異方性エッチング、例えば
イオン銃を用いたArイオンによるイオンビームエッチ
ングが望ましい。
The etching is ion beam etching.
A method such as reactive ion beam etching or wet etching can be used. Desirably, anisotropic etching capable of engraving the substrate in the vertical direction, for example, ion beam etching with Ar ions using an ion gun is desirable.

【0029】フォトレジスト塗布・信号記録・現像の工
程を二回繰り返す方法では異物の付着やフォトレジスト
の欠けなどのドロップアウトが多く発生してしまう。ド
ロップアウトの少ないものを選択し複製すると、ドロッ
プアウトの少ない基板を大量に作製できる。ドロップア
ウトの少ない基板を用い、原盤の段階でもドロップアウ
トの少ないものを選択することによりドロップアウトの
少ない原盤を作製することができる。
In the method in which the steps of photoresist coating, signal recording and development are repeated twice, many dropouts such as adhesion of foreign matter and chipping of photoresist occur. A substrate with few dropouts can be produced in large quantity by selecting and duplicating one with few dropouts. A master with few dropouts can be produced by using a substrate with few dropouts and selecting a material with few dropouts even at the master stage.

【0030】一回のフォトレジスト塗布・信号記録・現
像の工程でドロップアウトの発生する確率をRとする。
Rは1以下である。この工程を二回繰り返す従来の方法
でのドロップアウトの発生確率はR×Rでありドロップ
アウトの少ない原盤を選択しようとしてもドロップアウ
トの少ない原盤はあまり存在しない。本発明の方法で
は、フォトレジスト塗布・信号記録・現像の工程一回毎
にドロップアウトの少ないものを選択するので最終的な
ドロップアウトの発生確率はRとなり、ドロップアウト
の少ない原盤を得られる。
Let R be the probability that a dropout will occur in a single photoresist coating / signal recording / development process.
R is 1 or less. In the conventional method in which this process is repeated twice, the probability of dropout occurrence is R × R, and even if an original disc with few dropouts is selected, there are not many original discs with few dropouts. In the method of the present invention, since the one with less dropout is selected for each step of photoresist coating / signal recording / development, the final probability of dropout is R, and a master with less dropout can be obtained.

【0031】本発明の方法では、フォトレジスト層の厚
さで信号ピットの深さを規定することができるし、基板
を複製する際にドロップアウトの少ないものを選択する
ことができるので、ドロップアウトが少なく、深さの安
定した深さの異なる二種類の信号ピットを有する光ディ
スク原盤を作製することができる。
In the method of the present invention, the depth of the signal pit can be defined by the thickness of the photoresist layer, and the one with less dropout can be selected when the substrate is duplicated. It is possible to manufacture an optical disc master having two kinds of signal pits with a small depth and a stable depth.

【0032】二種類の深さの信号ピットを形成する場
合、一方の深さの信号ピット列ともう一方の深さの信号
ピット列を交互に形成する事が望ましい。一方の深さの
信号ピットを形成した後もう一方の深さの信号ピットを
形成する場合、先に形成した信号ピット列にトラッキン
グ制御をかけて記録する必要がある。一種類の深さの信
号ピットを形成した基板7にフォトレジストを塗布して
もう一種類の深さの信号を記録する場合、基板とフォト
レジストの屈折率の差が小さいため、基板4に形成され
た信号ピット列から得られるトラッキング誤差信号が小
さくなってしまう。
When forming signal pits of two kinds of depth, it is desirable to alternately form a signal pit row of one depth and a signal pit row of the other depth. When a signal pit having one depth is formed and then a signal pit having the other depth is formed, it is necessary to perform recording control for recording on the previously formed signal pit row. When a photoresist is applied to the substrate 7 on which signal pits of one type of depth are formed and a signal of another type of depth is recorded, the difference in the refractive index between the substrate and the photoresist is small, so that it is formed on the substrate 4. The tracking error signal obtained from the generated signal pit train becomes small.

【0033】トラッキング誤差信号が小さいと、トラッ
キング制御をかけたときに制御利得を高くできないため
トラッキング制御がふらついてしまう。この問題点を解
決するため、基板7表面に反射層を形成して基板7の反
射率を高めることにより、基板7に形成された信号ピッ
ト列から得られるトラッキング誤差信号を大きくし、ト
ラッキング制御利得を高めトラッキングの精度を高める
ことができる。
If the tracking error signal is small, the control gain cannot be increased when the tracking control is applied, and the tracking control fluctuates. In order to solve this problem, a reflective layer is formed on the surface of the substrate 7 to increase the reflectance of the substrate 7, thereby increasing the tracking error signal obtained from the signal pit train formed on the substrate 7 to increase the tracking control gain. The tracking accuracy can be improved.

【0034】反射層としては、金・アルミニウム・ニッ
ケル等の金属や誘電体等を用いることができる。反射層
の形成方法は、真空蒸着法・DCスパッタ法・ACスパ
ッタ法等を用いることができる。反射層の厚さは、トラ
ッキング制御に充分なトラッキング誤差信号が得られる
反射率が得られる厚さ以上あればよい。
For the reflective layer, a metal such as gold, aluminum or nickel, a dielectric or the like can be used. As a method for forming the reflective layer, a vacuum vapor deposition method, a DC sputtering method, an AC sputtering method, or the like can be used. The thickness of the reflective layer may be greater than or equal to the thickness at which the reflectance that provides a tracking error signal sufficient for tracking control is obtained.

【0035】反射層の厚さを形成する信号ピットの深さ
以上にし、反射層をエッチングすることもできる。この
場合、フォトレジスト層8の厚さは形成したいもう一方
の信号ピットの深さを原盤から作製した光ディスクの材
料の屈折率で割った値をフォトレジストと反射層のエッ
チレート比で割った値より大きくなるようにする。反射
層をエッチングして信号ピットを形成すると、フォトレ
ジストとのエッチレート比を考えずに複製してつくられ
る基板4の材質を選択することができる利点がある。
It is also possible to etch the reflective layer so that the thickness of the reflective layer is equal to or greater than the depth of the signal pits forming the reflective layer. In this case, the thickness of the photoresist layer 8 is a value obtained by dividing the depth of the other signal pit to be formed by the refractive index of the material of the optical disc manufactured from the master, by the etching rate ratio of the photoresist and the reflective layer. Try to be bigger. Forming the signal pits by etching the reflective layer has an advantage that the material of the substrate 4 to be duplicated can be selected without considering the etching rate ratio with the photoresist.

【0036】(実施例2)本発明の一実施例における光
ディスク原盤の作成方法の工程を図2(a)〜(n)に
示す。以下、同図(a)〜(n)ごとの工程の説明を行
う。
(Embodiment 2) FIGS. 2A to 2N show the steps of a method for producing an optical disk master according to an embodiment of the present invention. Hereinafter, the steps for each of the figures (a) to (n) will be described.

【0037】同図(a):表面を研磨等の方法で平坦に
した硝子等からなる基板1にスピンコート法等の方法で
ポジ型フォトレジストを塗布し、ベークしてフォトレジ
スト層2を形成する。
FIG. 3A: A positive type photoresist is applied by a method such as spin coating to a substrate 1 made of glass or the like whose surface is flattened by a method such as polishing and baked to form a photoresist layer 2. To do.

【0038】同図(b):信号記録用のレーザー光を記
録したい信号に応じて電気光学効果を利用した光変調器
等で強度変調し、フォトレジストを塗布した基板1に絞
り込んで照射し、フォトレジスト層を感光させる。感光
した部分を斜線部3で示す。
FIG. 2B: Laser light for signal recording is intensity-modulated by an optical modulator or the like utilizing an electro-optical effect according to a signal to be recorded, and the substrate 1 coated with photoresist is narrowed down and irradiated. Exposing the photoresist layer to light. The exposed portion is indicated by the shaded portion 3.

【0039】同図(c):現像することによりフォトレ
ジスト層2に窪み12を形成する。 同図(d):窪みの形成されたフォトレジスト層をマス
クにしてエッチングによって基板を彫り込み、信号ピッ
ト4が形成される。
FIG. 3C: The depression 12 is formed in the photoresist layer 2 by developing. In the same figure (d): The substrate is engraved by etching with the photoresist layer in which the depressions are formed as a mask to form signal pits 4.

【0040】同図(e):基板上に残ったフォトレジス
トをリムーバー等の有機溶剤や酸素プラズマによる灰化
等の方法で除去して信号ピットを形成した基板を得る。
FIG. 5E: The photoresist remaining on the substrate is removed by a method such as ashing with an organic solvent such as remover or oxygen plasma to obtain a substrate having signal pits formed thereon.

【0041】同図(f):スパッタ法等の方法で表面に
ニッケル等の導電性膜5を形成し、再生評価してドロッ
プアウトの数を測定する。ドロップアウトが多ければ
(a)の工程からやり直す。
FIG. 5F: A conductive film 5 made of nickel or the like is formed on the surface by a method such as a sputtering method, and reproduction is evaluated to measure the number of dropouts. If there are many dropouts, start over from step (a).

【0042】同図(g):ドロップアウトの少ない基板
を選択し、導電性膜を電極にしてメッキする。
In the same figure (g), a substrate with few dropouts is selected, and the conductive film is used as an electrode for plating.

【0043】同図(h):基板から剥離してスタンパ6
を作製する。なお、剥離後スタンパを洗浄する場合もあ
る。ここでは、導電性膜を形成した段階で再生評価して
ドロップアウト数を測定したが、スタンパの段階で再生
評価して選択してもよい。
FIG. 6 (h): The stamper 6 is peeled off from the substrate.
To make. The stamper may be washed after peeling. Here, although the number of dropouts was measured by performing the reproduction evaluation at the stage of forming the conductive film, the reproduction evaluation may be performed at the stage of the stamper for selection.

【0044】同図(i):スタンパ6からインジェクシ
ョン法・フォトポリマー法等の方法によって信号ピット
を有する基板7を複製する。
(I) of the same figure: The substrate 7 having signal pits is duplicated from the stamper 6 by a method such as an injection method or a photopolymer method.

【0045】同図(j):信号ピットを有する基板7を
にスピンコート法等の方法でポジ型フォトレジストを塗
布し、ベークしてフォトレジスト層8を形成する。
In the same figure (j): A positive type photoresist is applied to the substrate 7 having signal pits by a method such as spin coating and baked to form a photoresist layer 8.

【0046】同図(k):信号記録用のレーザー光を記
録したい信号に応じて電気光学効果を利用した光変調器
等で強度変調し、フォトレジストを塗布した基板7に絞
り込んで照射し、フォトレジスト層を感光させる。感光
した部分を斜線部3で示す。
(K): Laser light for signal recording is intensity-modulated by an optical modulator or the like utilizing an electro-optical effect according to a signal to be recorded, and the substrate 7 coated with a photoresist is narrowed down and irradiated. Exposing the photoresist layer to light. The exposed portion is indicated by the shaded portion 3.

【0047】同図(l):現像することにより窪み9を
形成する。 同図(m):窪みの形成されたフォトレジスト層をマス
クにしてエッチングによって基板を彫り込み、信号ピッ
ト10が形成される。
FIG. 1 (l): The depression 9 is formed by developing. In the figure, (m): the signal pit 10 is formed by engraving the substrate by etching using the photoresist layer having the depressions as a mask.

【0048】同図(n):最後に基板上に残ったフォト
レジストをリムーバー等の有機溶剤や酸素プラズマによ
る灰化等の方法で除去して深さの異なる二種類の信号ピ
ットを有する光ディスク原盤11を得る。
(N): The optical disc master having two kinds of signal pits having different depths by removing the photoresist remaining on the substrate by a method such as ashing with an organic solvent such as remover or oxygen plasma at the end. Get 11.

【0049】基板としては、実施例1記載のものと同様
のものを用いることができるが、望ましくはフォトレジ
ストとエッチレートの異なる材料のものがよい。
As the substrate, the same substrate as that described in the first embodiment can be used, but it is desirable to use a material having a different etching rate from that of the photoresist.

【0050】フォトレジスト層2の厚さは、形成したい
信号ピットの深さを原盤から作製した光ディスクの材料
の屈折率で割った値をフォトレジストと基板のエッチレ
ート比で割った値に現像によって未露光部が膜べりする
量を足した値より大きくなるようにする。フォトレジス
ト層8の厚さは、形成したいもう一方の信号ピットの深
さを原盤から作製した光ディスクの材料の屈折率で割っ
た値をフォトレジストと基板のエッチレート比で割った
値に現像によって未露光部が膜べりする量を足した値よ
り大きくなるようにする。
The thickness of the photoresist layer 2 is a value obtained by dividing the depth of the signal pits to be formed by the refractive index of the material of the optical disc manufactured from the master by the etching rate ratio of the photoresist and the substrate, by development. The unexposed area should be larger than the sum of the amount of film slippage. The thickness of the photoresist layer 8 is set to a value obtained by dividing the depth of the other signal pit to be formed by the refractive index of the material of the optical disc manufactured from the master by the etching rate ratio of the photoresist and the substrate by development. The unexposed area should be larger than the sum of the amount of film slippage.

【0051】基板7にフォトレジストを塗布する場合、
基板に形成された信号ピットが深いと信号ピットの周囲
でフォトレジストの流れが乱れフォトレジストの厚さが
むらになってしまう。このため、浅い方の信号ピットを
形成した基板を用いた方がよい。
When a photoresist is applied to the substrate 7,
If the signal pits formed on the substrate are deep, the flow of the photoresist is disturbed around the signal pits and the thickness of the photoresist becomes uneven. Therefore, it is better to use a substrate on which shallower signal pits are formed.

【0052】エッチングは、実施例1記載の方法と同様
の方法を用いる。フォトレジストの窪みをマスクとして
エッチングにより信号ピットを形成する本方法では、ピ
ット深さをエッチングの時間で制御することができ、フ
ォトレジスト層の膜厚の変動や、現像によるフォトレジ
ストの膜べりの影響を受けずに安定した信号ピット深さ
を得ることができる。また、エッチング条件を選べば、
信号ピットの形状も良くすることができる。
For etching, the same method as that described in Example 1 is used. In this method in which signal pits are formed by etching using the depressions of the photoresist as a mask, the pit depth can be controlled by the etching time, and fluctuations in the film thickness of the photoresist layer and film thickness of the photoresist due to development can be prevented. A stable signal pit depth can be obtained without being affected. Also, if you choose the etching conditions,
The shape of the signal pit can also be improved.

【0053】基板を複製する際にドロップアウトの少な
いものを選択することができるので、ドロップアウトが
少なく、エッチングの時間でピット深さを制御すること
ができるので深さの安定した深さの異なる二種類の信号
ピットを有する光ディスク原盤を作製することができ
る。
Since it is possible to select a substrate having a small number of dropouts when replicating the substrate, the number of dropouts is small, and the pit depth can be controlled by the etching time. An optical disc master having two types of signal pits can be manufactured.

【0054】本実施例の場合も、基板7表面に反射層を
形成して基板7の反射率を高めることにより、基板7に
形成された信号ピット列から得られるトラッキング誤差
信号を大きくし、トラッキング制御利得を高めトラッキ
ングの精度を高めることができる。また、反射層の厚さ
を形成する信号ピットの深さ以上にし、反射層をエッチ
ングすることもできる。
Also in the case of the present embodiment, by forming a reflection layer on the surface of the substrate 7 to increase the reflectance of the substrate 7, the tracking error signal obtained from the signal pit row formed on the substrate 7 is increased and tracking is performed. It is possible to increase the control gain and the tracking accuracy. It is also possible to etch the reflective layer so that the thickness of the reflective layer is greater than or equal to the depth of the signal pits that form it.

【0055】(実施例3)本発明のもう一つの実施例に
おける光ディスク原盤の作成方法の工程を図3(a)〜
(j)に示すとともに、以下、同図(a)〜(j)の工
程の説明を行う。
(Embodiment 3) FIG. 3 (a) to FIG. 3 (c) show steps of a method for producing an optical disk master in another embodiment of the present invention.
In addition to being shown in (j), the steps of FIGS. (A) to (j) will be described below.

【0056】同図(a):表面を研磨等の方法で平坦に
した硝子等からなる基板1にスピンコート法等の方法で
ポジ型フォトレジストを塗布し、ベークしてフォトレジ
スト層2を形成する。
FIG. 5A: A positive type photoresist is applied to a substrate 1 made of glass or the like whose surface is flattened by a method such as polishing by a method such as a spin coating method and baked to form a photoresist layer 2. To do.

【0057】同図(b):信号記録用のレーザー光をフ
ォトレジストを塗布した基板1に絞り込んで照射し、フ
ォトレジスト層を感光させる。感光した部分を斜線部1
3で示す。
FIG. 5B: A laser beam for signal recording is focused on the substrate 1 coated with the photoresist and irradiated to expose the photoresist layer. The exposed area is the shaded area 1
3 shows.

【0058】同図(c):現像することにより溝14を
形成する。 同図(d):スパッタ法等の方法で表面にニッケル等の
導電性膜5を形成し、再生評価してドロップアウトの数
を測定する。ドロップアウトが多ければ(a)の工程か
らやり直す。
FIG. 6C: Grooves 14 are formed by developing. The same figure (d): A conductive film 5 of nickel or the like is formed on the surface by a method such as a sputtering method, and reproduction is evaluated to measure the number of dropouts. If there are many dropouts, start over from step (a).

【0059】同図(e):ドロップアウトの少ない基板
を選択し、導電性膜を電極にしてメッキする。
FIG. 6E: A substrate with few dropouts is selected, and the conductive film is used as an electrode for plating.

【0060】同図(f):基板から剥離してスタンパ1
5を作製する。剥離後スタンパを洗浄する場合もある。
FIG. 6 (f): The stamper 1 is peeled off from the substrate.
5 is produced. The stamper may be washed after peeling.

【0061】同図(g):スタンパ15からインジェク
ション法・フォトポリマー法等の方法によって溝を有す
る基板16を複製する。
(G): The substrate 16 having the groove is duplicated from the stamper 15 by a method such as an injection method or a photopolymer method.

【0062】同図(h):溝を有する基板16をにスピ
ンコート法等の方法でポジ型フォトレジストを塗布し、
ベークしてフォトレジスト層17を形成する。
FIG. 6H: A positive type photoresist is applied to the substrate 16 having grooves by a method such as spin coating,
The photoresist layer 17 is formed by baking.

【0063】同図(i):信号記録用の二本のレーザー
光をそれぞれ記録したい信号に応じて電気光学効果を利
用した光変調器等で強度変調し、フォトレジストを塗布
した基板16にそれぞれ絞り込んで照射し、フォトレジ
スト層を感光させる。
(I): Two laser beams for signal recording are intensity-modulated by an optical modulator or the like utilizing the electro-optical effect according to the signals to be recorded, and are respectively applied to the substrate 16 coated with photoresist. The photoresist layer is exposed by squeezing it down.

【0064】同図(j):現像することにより二種類の
深さの信号ピット4、10を形成する。
FIG. 11 (j): signal pits 4 and 10 having two kinds of depths are formed by developing.

【0065】本実施例において、基板1としては、硝子
の他にニッケル・銅等の金属や、アクリル樹脂等の合成
樹脂など表面が平坦にできる材料であればよい。
In the present embodiment, the substrate 1 may be made of a material such as nickel, copper or the like, a synthetic resin such as an acrylic resin, or the like, whose surface can be made flat, in addition to glass.

【0066】フォトレジスト層2の厚さは、形成したい
二種類の深さの信号ピットの深さの差を原盤から作製し
た光ディスクの材料の屈折率で割った値に現像によって
未露光部が膜べりする量を足した値と等しくなるように
する。フォトレジスト層17の厚さは、浅い方の信号ピ
ットの深さを原盤から作製した光ディスクの材料の屈折
率で割った値に現像によって未露光部が膜べりする量を
足した値と等しくなるようにする。
The thickness of the photoresist layer 2 is a value obtained by dividing the difference between the depths of two kinds of signal pits to be formed by the depth of the signal pits by the refractive index of the material of the optical disc manufactured from the master, and the unexposed portion is filmed by the development. Make it equal to the sum of the amount of sliding. The thickness of the photoresist layer 17 is equal to the value obtained by dividing the depth of the shallower signal pit by the refractive index of the material of the optical disc manufactured from the master to the value obtained by adding the amount by which the unexposed portion is film-thickened by the development. To do so.

【0067】スタンパに形成されている溝の溝幅と溝間
の幅を等しくしておけば、基板1に塗布するフォトレジ
ストはネガ型でも同じである。ただし、この場合にはフ
ォトレジスト層2の膜厚は、形成したい二種類の深さの
信号ピットの深さの差を原盤から作製した光ディスクの
材料の屈折率で割った値と等しくなるようにする必要が
ある。
If the groove width of the groove formed in the stamper and the width between the grooves are made equal, the photoresist applied to the substrate 1 is the same for the negative type. However, in this case, the film thickness of the photoresist layer 2 should be equal to the value obtained by dividing the difference in the depth of the signal pits of the two kinds of depths to be formed by the refractive index of the material of the optical disc manufactured from the master. There is a need to.

【0068】本発明の方法では、フォトレジスト層の厚
さで信号ピットの深さを規定することができるし、基板
を複製する際にドロップアウトの少ないものを選択する
ことができるので、ドロップアウトが少なく、深さの安
定した深さの異なる二種類の信号ピットを有する光ディ
スク原盤を作製することができる。また、溝を形成した
複製された基板16はドロップアウトの少ないものを大
量に作製できるし、信号が記録されていないので汎用製
がある。。
According to the method of the present invention, the depth of the signal pit can be defined by the thickness of the photoresist layer, and a dropout can be selected when the substrate is duplicated. It is possible to manufacture an optical disc master having two kinds of signal pits with a small depth and a stable depth. Further, the duplicated substrate 16 having the groove formed therein can be manufactured in large numbers with a small dropout, and since no signal is recorded, it is a general-purpose product. .

【0069】本実施例の場合も、基板16表面に反射層
を形成して基板16の反射率を高めることにより、基板
16に形成された溝から得られるトラッキング誤差信号
を大きくし、トラッキング制御利得を高めトラッキング
の精度を高めることができる。
Also in the case of the present embodiment, by forming a reflective layer on the surface of the substrate 16 to increase the reflectance of the substrate 16, the tracking error signal obtained from the groove formed in the substrate 16 is increased and the tracking control gain is increased. The tracking accuracy can be improved.

【0070】(実施例4)本発明の一実施例における光
ディスク原盤の作成方法の工程を図4(a)〜(l)に
示すとともに、各工程を詳細に説明する。
(Embodiment 4) The steps of the method for producing an optical disk master according to an embodiment of the present invention are shown in FIGS. 4 (a) to 4 (l), and each step will be described in detail.

【0071】同図(a):表面を研磨等の方法で平坦に
した硝子等からなる基板1にスピンコート法等の方法で
ポジ型フォトレジストを塗布し、ベークしてフォトレジ
スト層2を形成する。
FIG. 9A: A positive type photoresist is applied by a method such as spin coating to a substrate 1 made of glass or the like whose surface is flattened by a method such as polishing, and baked to form a photoresist layer 2. To do.

【0072】同図(b):信号記録用のレーザー光をフ
ォトレジストを塗布した基板1に絞り込んで照射し、フ
ォトレジスト層を感光させる。感光した部分を斜線部1
3で示す。
FIG. 7B: Laser light for signal recording is focused on the substrate 1 coated with the photoresist and irradiated to expose the photoresist layer. The exposed area is the shaded area 1
3 shows.

【0073】同図(c):現像することにより溝状の窪
み18を形成する。 同図(d):窪みの形成されたフォトレジスト層をマス
クにしてエッチングによって基板を彫り込してエッチン
グによって基板を彫り込み、溝14が形成される。
FIG. 7C: Groove-shaped depression 18 is formed by developing. In the same figure (d): The substrate is engraved by etching and the groove 14 is formed by etching using the photoresist layer having the depressions as a mask.

【0074】同図(e):基板上に残ったフォトレジス
トをリムーバー等の有機溶剤や酸素プラズマによる灰化
等の方法で除去して信号ピットを形成した基板を得る。
FIG. 7E: The photoresist remaining on the substrate is removed by a method such as ashing with an organic solvent such as remover or oxygen plasma to obtain a substrate having signal pits formed thereon.

【0075】同図(f):スパッタ法等の方法で表面に
ニッケル等の導電性膜5を形成し、再生評価してドロッ
プアウトの数を測定する。ドロップアウトが多ければ
(a)の工程からやり直す。
FIG. 6F: A conductive film 5 made of nickel or the like is formed on the surface by a method such as a sputtering method, and reproduction is evaluated to measure the number of dropouts. If there are many dropouts, start over from step (a).

【0076】同図(g):ドロップアウトの少ない基板
を選択し、導電性膜を電極にしてメッキする。
FIG. 7G: A substrate with few dropouts is selected, and the conductive film is used as an electrode for plating.

【0077】同図(h):基板から剥離してスタンパ1
5を作製する。剥離後スタンパを洗浄する場合もある。
FIG. 6H: The stamper 1 is peeled off from the substrate.
5 is produced. The stamper may be washed after peeling.

【0078】なお、ここでは、導電性膜を形成した段階
で再生評価してドロップアウト数を測定したが、スタン
パの段階で再生評価して選択してもよい。
Here, the number of dropouts was measured by performing the reproduction evaluation at the stage of forming the conductive film, but the reproduction evaluation may be performed at the stage of the stamper for selection.

【0079】同図(i):スタンパ15からインジェク
ション法・フォトポリマー法等の方法によって溝を有す
る基板16を複製する。
(I) of the same figure: The substrate 16 having the groove is duplicated from the stamper 15 by a method such as an injection method or a photopolymer method.

【0080】同図(j):溝を有する基板16にスピン
コート法等の方法でポジ型フォトレジストを塗布し、ベ
ークしてフォトレジスト層17を形成する。
FIG. 11J: A positive type photoresist is applied to the substrate 16 having grooves by a method such as spin coating and baked to form a photoresist layer 17.

【0081】同図(k):信号記録用のレーザー光を記
録したい信号に応じて電気光学効果を利用した光変調器
等で強度変調し、フォトレジストを塗布した基板16に
絞り込んで照射し、フォトレジスト層を感光させる。
(K): Laser light for signal recording is intensity-modulated by an optical modulator or the like utilizing an electro-optical effect according to a signal to be recorded, and the substrate 16 coated with a photoresist is narrowed down and irradiated, Exposing the photoresist layer to light.

【0082】同図(l):現像することにより二種類の
深さの信号ピット4、10を形成する。
(L) of the same figure: By developing, signal pits 4 and 10 of two kinds of depth are formed.

【0083】フォトレジスト層2の厚さは、形成したい
二種類の深さの信号ピットの深さの差を原盤から作製し
た光ディスクの材料の屈折率で割った値をフォトレジス
トと基板のエッチレート比で割った値に現像によって未
露光部が膜べりする量を足した値より大きくなるように
する。フォトレジスト層17の厚さは、浅い方の信号ピ
ットの深さを原盤から作製した光ディスクの材料の屈折
率で割った値に現像によって未露光部が膜べりする量を
足した値都等しくする。
The thickness of the photoresist layer 2 is obtained by dividing the difference between the depths of two kinds of signal pits to be formed by the depth of the signal pits by the refractive index of the material of the optical disc manufactured from the master, and the etching rate of the photoresist and the substrate. It should be larger than the value obtained by dividing the value obtained by dividing the ratio by the amount of film-developing in the unexposed portion by the development. The thickness of the photoresist layer 17 is made equal to the value obtained by dividing the depth of the shallower signal pit by the refractive index of the material of the optical disc manufactured from the master, plus the amount of film-deposition in the unexposed portion due to development. .

【0084】基板としては、実施例1記載のものと同様
のものを用いることができるが、望ましくはフォトレジ
ストとエッチレートの異なる材料のものがよい。
As the substrate, the same ones as those described in the first embodiment can be used, but it is desirable to use a material having a different etching rate from that of the photoresist.

【0085】本発明の方法では、フォトレジスト層の厚
さで信号ピットの深さを規定することができるし、基板
を複製する際にドロップアウトの少ないものを選択する
ことができるので、ドロップアウトが少なく、深さの安
定した深さの異なる二種類の信号ピットを有する光ディ
スク原盤を作製することができる。
According to the method of the present invention, the depth of the signal pit can be defined by the thickness of the photoresist layer, and it is possible to select one having a small number of dropouts when the substrate is duplicated. It is possible to manufacture an optical disc master having two kinds of signal pits with a small depth and a stable depth.

【0086】エッチング方法としては、実施例2記載の
方法を用いることができる。フォトレジストの窪みをマ
スクとしてエッチングにより溝を形成する本方法では、
溝深さをエッチングの時間で制御することができ、フォ
トレジスト層2の膜厚の変動や、現像によるフォトレジ
ストの膜べりの影響を受けずに安定した溝深さを得るこ
とができる。
As the etching method, the method described in Example 2 can be used. In this method of forming a groove by etching using the depression of the photoresist as a mask,
The groove depth can be controlled by the etching time, and a stable groove depth can be obtained without being affected by the variation of the film thickness of the photoresist layer 2 and the film thickness of the photoresist film due to the development.

【0087】本発明の方法では、フォトレジスト層の厚
さで信号ピットの深さを規定することができるし、基板
を複製する際にドロップアウトの少ないものを選択する
ことができるので、ドロップアウトが少なく、深さの安
定した深さの異なる二種類の信号ピットを有する光ディ
スク原盤を作製することができる。
According to the method of the present invention, the depth of the signal pit can be defined by the thickness of the photoresist layer, and it is possible to select one having a small number of dropouts when the substrate is duplicated. It is possible to manufacture an optical disc master having two kinds of signal pits with a small depth and a stable depth.

【0088】本実施例の場合も、基板16表面に反射層
を形成して基板16の反射率を高めることにより、基板
16に形成された溝から得られるトラッキング誤差信号
を大きくし、トラッキング制御利得を高めトラッキング
の精度を高めることができる。
Also in the case of this embodiment, by forming a reflective layer on the surface of the substrate 16 to increase the reflectance of the substrate 16, the tracking error signal obtained from the groove formed in the substrate 16 is increased, and the tracking control gain is increased. The tracking accuracy can be improved.

【0089】[0089]

【発明の効果】本発明の方法は、信号ピットを形成した
基板を複製して作製された基板にフォトレジストを塗布
して再び信号を記録することにより、複製する基板の段
階でドロップアウトの少ないものを選択することがで
き、ドロップアウトの少ない深さの異なる二種類の信号
ピットを形成した原盤を作製することができる。また、
基板に信号ピットを形成する際と複製された基板に信号
ピットを形成する際にフォトレジストの厚さを規定する
ことにより深さの異なる二種類の信号ピットの深さを安
定させることもできる。
According to the method of the present invention, a substrate formed by duplicating a signal pit is duplicated and a photoresist is applied to the substrate to record a signal again. One can be selected, and a master having two kinds of signal pits with few dropouts and different depths can be manufactured. Also,
It is also possible to stabilize the depth of two kinds of signal pits having different depths by defining the thickness of the photoresist when forming the signal pits on the substrate and when forming the signal pits on the duplicated substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の光ディスク原盤の作製方法の一実施例
を示す工程図
FIG. 1 is a process diagram showing an embodiment of a method for manufacturing an optical disc master according to the present invention.

【図2】本発明の他の実施例を示す工程図FIG. 2 is a process chart showing another embodiment of the present invention.

【図3】本発明の更に他の実施例を示す工程図FIG. 3 is a process chart showing still another embodiment of the present invention.

【図4】本発明の更に他の実施例を示す工程図FIG. 4 is a process chart showing still another embodiment of the present invention.

【図5】従来の光ディスク原盤の作製方法を示す工程図FIG. 5 is a process diagram showing a conventional method for producing an optical disc master.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 フォトレジスト層 4 信号ピット 5 導電性膜 6 スタンパ 7、16 基板 8 フォトレジスト層 9 窪み 10 信号ピット 11 光ディスク原盤 1 Substrate 2 Photoresist Layer 4 Signal Pit 5 Conductive Film 6 Stamper 7, 16 Substrate 8 Photoresist Layer 9 Dimple 10 Signal Pit 11 Optical Disc Master

フロントページの続き (72)発明者 貴志 俊法 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 宮本 寿樹 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 阿部 伸也 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内Front page continuation (72) Inventor Takashi Shunho 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Inventor Shinya Abe 1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】信号ピットを形成した第1の基板を複製し
て作製された第2の基板にフォトレジストを塗布して再
び信号を記録することにより深さの異なる二種類の信号
ピットを形成する光ディスク原盤の作製方法。
1. Two kinds of signal pits having different depths are formed by applying a photoresist to a second substrate produced by duplicating a first substrate having signal pits formed thereon and recording a signal again. A method for manufacturing an optical disk master.
【請求項2】第2の基板として、浅い信号ピットを形成
した基板を用いることを特徴とする請求項1記載の光デ
ィスク原盤の作製方法。
2. The method of manufacturing an optical disk master according to claim 1, wherein a substrate having shallow signal pits is used as the second substrate.
【請求項3】第1の基板にはエッチングによって信号ピ
ットを形成した基板を用いることを特徴とする請求項1
または2記載の光ディスク原盤の作製方法。
3. A substrate having signal pits formed by etching is used as the first substrate.
Alternatively, the method for producing the optical disk master according to the item 2.
【請求項4】信号ピットの深さの差に相当する溝を形成
した第1の基板を複製して作製された第2の基板にフォ
トレジストを塗布して信号を記録することにより深さの
異なる二種類の信号ピットを形成する光ディスク原盤の
作製方法。
4. A photoresist is applied to a second substrate produced by duplicating a first substrate having a groove corresponding to the difference in depth of signal pits, and a signal is recorded so that the depth of the signal can be reduced. A method for manufacturing an optical disc master in which two different types of signal pits are formed.
【請求項5】複製して作製された基板表面に更に反射層
を形成する、請求項1〜4の何れかに記載の光ディスク
原盤の作製方法。
5. The method for producing an optical disk master according to claim 1, wherein a reflective layer is further formed on the surface of the duplicated substrate.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009274445A (en) * 2003-07-11 2009-11-26 Kuraray Co Ltd Method for manufacturing stamper for flow path member for fuel cell, method for manufacturing flow path member for fuel cell, and flow path member for fuel cell, and fuel cell
US9338272B2 (en) 2014-03-31 2016-05-10 Canon Kabushiki Kaisha Communication apparatus that detects improper connection of cable, control method therefor, and storage medium

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