JPH06145996A - Electroless gold plating liquid - Google Patents

Electroless gold plating liquid

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JPH06145996A
JPH06145996A JP34965292A JP34965292A JPH06145996A JP H06145996 A JPH06145996 A JP H06145996A JP 34965292 A JP34965292 A JP 34965292A JP 34965292 A JP34965292 A JP 34965292A JP H06145996 A JPH06145996 A JP H06145996A
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salt
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勝 加藤
Yutaka Yazawa
豊 矢澤
Shigetaka Hoshino
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Abstract

PURPOSE:To improve cost effectiveness and workability by preparing the electroless gold plating liquid which is specified in components consisting of chloroauric acid, sulfurous acid, etc., thereby making a plating bath usable in a stable state over a long period of time. CONSTITUTION:The formation of the precipitate of gold when 2g/l Na chloroaurate as gold, 10g/l Na sulfite, 20g/l Na thiosulfate, 40g/l Na L- ascorbate, 9g/l hydrogen phosphate=Na, 3g/l dihydrogen phosphate-Na, and 7.0 pH are used as the electroless gold plating liquid A and 6-ethoxy-2- mercaptobenzothiazole is added to the soln. in assessed. Consequently, there is no formationof the gold precipitate for two days without addition there of after prepn. of the liquid A, for 6 days with addition of 0.5ppm and 30 days with a bath added with its 5.0ppm.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、金源として塩化金(I
II)酸もしくは亜硫酸又はチオ硫酸の金(I)錯塩を
用いた無電解金めっき液に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to gold chloride (I
II) An electroless gold plating solution using a gold (I) complex salt of acid or sulfurous acid or thiosulfate.

【0002】[0002]

【背景技術】無電解金めっき法は、その優れた機能特性
から複雑な微細回路やリードのとりにくい孤立した部分
等へのめっきが必要とされる電子工業分野において幅広
く利用されている。従来、一般に使用されている無電解
金めっき液としては、金(I)イオンの錯化剤として毒
性の強いシアン化合物を含んだものが用いられており、
これを、高温度、強アルカリ条件で使用するのが通例で
あった。そのため前述した如き用途に用いる場合におい
ては、回路のマスキングに用いたレジストが剥離すると
か、あるいは、アルカリによりセラミック基板素地が侵
蝕される等の問題がおこり、また、シアン化合物を含有
する無電解金めっき浴は非常に毒性が高く、取り扱いや
保管上及び管理上の問題があり、さらに実作業環境の安
全性や廃液処理の経済面についての問題が存在してい
た。
BACKGROUND ART The electroless gold plating method is widely used in the electronic industry field where plating is required for complicated fine circuits and isolated parts where leads are difficult to take due to its excellent functional characteristics. Conventionally, as an electroless gold plating solution which is generally used, a solution containing a highly toxic cyanide compound as a complexing agent for gold (I) ions is used.
It was customary to use this under high temperature and strong alkaline conditions. Therefore, when it is used in the above-mentioned applications, there is a problem that the resist used for masking the circuit is peeled off, or the base of the ceramic substrate is eroded by an alkali, and electroless gold containing a cyanide compound. The plating bath is very toxic, and there are problems in handling, storage and management, and there are problems in safety of the actual working environment and economical aspects of waste liquid treatment.

【0003】他方、シアン化合物を用いない金めっき液
としては、代表的なものとして金源に塩化金(IH)酸
を用いた金めっき液が知られている(例えば、米国特許
4142902、英国特許2114159参照)。この
塩化金(III)酸塩を用いた金めっき液は、塩化金
(III)酸塩と組成成分の亜硫酸又はチオ硫酸の塩と
がそれらの金錯塩を形成するとされているもので、シア
ン化合物を用いないめっき液として実用化されている。
On the other hand, as a gold plating solution which does not use a cyanide compound, a gold plating solution using gold (IH) chloride as a gold source is known as a typical one (for example, US Pat. No. 4,142,902, British Patent). 2114159). The gold plating solution using this chloroauric acid (III) salt is said to form a gold complex salt thereof with the chloroauric acid (III) salt and the salt of sulfurous acid or thiosulfuric acid as a constituent component. It has been put to practical use as a plating solution that does not use.

【0004】本発明者らは、先に、上記塩化金(II
I)酸を金源とする無電解金めっき液の改良として、還
元成分としてアスコルビン酸を用いた金めっき液を提供
した(特開平1−191782号公報参照)。この無電
解金めっき液は、塩化金(III)酸又はその塩、亜硫
酸又はチオ硫酸のアルカリ金属塩又はアンモニウム塩、
アスコルビン酸又はその塩を組成成分とするもので、低
温度ならびに中性付近のpH条件で実用的なめっき速度
が得られ、また、セラミック基板を侵すことがなく、マ
スキングしたレジストを剥離することもなしにプリント
基板等の微細な回路やリードの金めっき液として使用し
得るという優れたものである。
The present inventors have previously reported that the above-mentioned gold chloride (II
I) As an improvement of an electroless gold plating solution using an acid as a gold source, a gold plating solution using ascorbic acid as a reducing component was provided (see JP-A-1-191782). This electroless gold plating solution is composed of gold (III) chloride acid or its salt, sulfurous acid or thiosulfuric acid alkali metal salt or ammonium salt,
Ascorbic acid or its salt is used as a composition component, a practical plating rate can be obtained at low temperature and near neutral pH conditions, and the masked resist can be peeled off without attacking the ceramic substrate. It is an excellent material that can be used as a gold plating solution for fine circuits and leads of printed circuit boards and the like.

【0005】しかしながら、この無電解金めっき液につ
いても使用中に微量の沈殿を生成したり、建浴後保存中
に金微粒子の沈殿を生ずるなど、安定性の面で解決すべ
き課題が存在しており、満足し得るものではない。この
場合に、亜硫酸金(I)錯塩又はチオ硫酸金(I)錯塩
を金源とする金めっき浴や塩化金(III)酸塩と亜硫
酸、チオ硫酸とから内部的に金錯体を形成せしめる金め
っき浴の安定性が保たれない原因は、実証的には明らか
にされていないが、以下のような理由が考えられる。
However, even with this electroless gold plating solution, there are problems to be solved in terms of stability, such as the formation of a small amount of precipitate during use and the precipitation of fine gold particles during storage after the bath is made. However, it is not satisfactory. In this case, a gold plating bath using a gold (I) sulfite complex salt or a gold (I) thiosulfate complex salt as a gold source, or gold capable of internally forming a gold complex from a gold (III) chloride salt and sulfurous acid or thiosulfate. The reason why the stability of the plating bath is not maintained has not been empirically revealed, but the following reasons are considered.

【0006】保存中あるいはめっき時の亜硫酸イオン、
チオ硫酸イオン等の酸化性成分の自然酸化、濃度減少に
より溶液内平衡が変化し金錯体が不安定化し、金活量が
増加し浴分解しやすくなること、またアスコルビン酸の
酸化活性を高める微量の金属イオンによる汚染により、
これらを核として金微粒子の生成が起こり、分解を促進
することになることなどである。
Sulfite ion during storage or during plating,
The natural oxidation of oxidative components such as thiosulfate ion and the decrease in concentration change the equilibrium in the solution, destabilize the gold complex, increase the gold activity and facilitate bath decomposition, and increase the oxidation activity of ascorbic acid in trace amounts. Contamination by metal ions of
For example, the generation of fine gold particles occurs by using these as nuclei to accelerate the decomposition.

【0007】[0007]

【発明の開示】本発明者らは、無電解金めっき液の安定
性の向上を目的として鋭意研究を行った結果、(a)金
源としての塩化金(III)酸又はその塩もしくは亜硫
酸又はチオ硫酸の金(I)錯塩、(b)亜硫酸又はチオ
硫酸のアルカリ金属塩又はアンモニウム塩、(c)アス
コルビン酸又はその塩及び(d)pH緩衝剤を組成成分
として含有する水溶液よりなる無電解金めっき液に対し
て、6−エトキシ−2−メルカプトベンゾチアゾール、
2−メルカプトベンズイミダゾール、2−メルカプトベ
ンゾオキサゾール及びこれらの塩から選択された化合物
を含有せしめることにより、めっき液の保存時及びめっ
き実施時における安定性を著しく向上させることがで
き、長期使用ならびに長期保存におけるめっき液の安定
性を改善し得ることを見出した。本発明は、かかる知見
に基づいてなされたものである。
DISCLOSURE OF THE INVENTION As a result of intensive studies aimed at improving the stability of an electroless gold plating solution, the present inventors have found that (a) gold (III) chloride acid or its salt or sulfurous acid as a gold source, or Electroless consisting of an aqueous solution containing a gold (I) complex salt of thiosulfate, (b) an alkali metal salt or ammonium salt of sulfite or thiosulfate, (c) ascorbic acid or a salt thereof, and (d) a pH buffering agent as constituent components. 6-ethoxy-2-mercaptobenzothiazole,
By containing a compound selected from 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole and salts thereof, it is possible to remarkably improve the stability of the plating solution during storage and during plating, and long-term use and long-term use. It was found that the stability of the plating solution during storage can be improved. The present invention has been made based on such findings.

【0008】すなわち、本発明は、(a)金源としての
塩化金(III)酸又はその塩もしくは亜硫酸又はチオ
硫酸の金(I)錯塩、(b)亜硫酸又はチオ硫酸のアル
カリ金属塩又はアンモニウム塩、(c)アスコルビン酸
又はその塩、(d)pH緩衝剤及び(e)6−エトキシ
−2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベ
ンズイミダゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール
及びそれらの塩から選択された化合物を含有する無電解
金めっき液を提供するものである。
That is, the present invention provides (a) gold (III) chloride or a salt thereof as a gold source or a gold (I) complex salt of sulfurous acid or thiosulfuric acid, (b) an alkali metal salt of sulfurous acid or thiosulfuric acid, or ammonium. Salt, (c) ascorbic acid or salt thereof, (d) pH buffer and (e) selected from 6-ethoxy-2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole and salts thereof. An electroless gold plating solution containing a compound is provided.

【0009】以下に本発明を詳細に説明する。The present invention will be described in detail below.

【0010】本発明にかかる無電解金めっき液の好まし
い態様は以下のように説明される。
A preferred embodiment of the electroless gold plating solution according to the present invention is explained as follows.

【0011】金塩として0.001〜0.10mol/
リットル、亜硫酸ナトリウム0.01〜1.0mol/
リットル、チオ硫酸ナトリウム0.01〜1.0mol
/リットル、りん酸ナトリウム0.01〜1.0mol
/リットル、アスコルビン酸又はそのナトリウム塩0.
001〜1.0mol/リットル及び6−エトキシ−2
−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンズ
イミダゾール又は2−メルカプトベンゾオキサゾールと
して6×10−7〜3×10−3mol/リットルを含
有する。
As a gold salt, 0.001 to 0.10 mol /
Liter, sodium sulfite 0.01-1.0 mol /
Liter, sodium thiosulfate 0.01-1.0 mol
/ Liter, sodium phosphate 0.01-1.0 mol
/ Liter, ascorbic acid or its sodium salt
001 to 1.0 mol / liter and 6-ethoxy-2
-Containing 6 × 10 −7 to 3 × 10 −3 mol / liter as mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzimidazole or 2-mercaptobenzoxazole.

【0012】本発明者らは、本発明にかかる無電解金め
っき液組成と、得られるめっき速度とめっき液安定性と
の関係について種々検討したところ、以下の如き知見を
得た。
The present inventors have made various studies on the relationship between the composition of the electroless gold plating solution according to the present invention and the obtained plating rate and stability of the plating solution, and have obtained the following findings.

【0013】(1) 金源として用いられる塩化金(I
II)酸又はその塩もしくは亜硫酸又はチオ硫酸の金
(I)錯塩の使用量については、0.001〜0.1m
ol/リットルが好ましいが、特に好ましくは0.00
5〜0.05mol/リットルである。0.001mo
l/リットル以下では実用的なめっき速度は得られず、
また0.1mol/リットル以上では金の沈殿が生じや
すくなり、また経済的にも不利である。
(1) Gold chloride (I
The amount of the acid (II) or its salt or the gold (I) complex salt of sulfurous acid or thiosulfuric acid is 0.001 to 0.1 m.
ol / liter is preferable, but 0.00 is particularly preferable.
It is 5 to 0.05 mol / liter. 0.001mo
If it is less than 1 / liter, a practical plating rate cannot be obtained,
Further, if it is 0.1 mol / liter or more, precipitation of gold is likely to occur and it is economically disadvantageous.

【0014】(2) 亜硫酸塩については例えばナトリ
ウム塩として、0.01〜1.0mol/リットルが好
ましいが、特に好ましくは0.04〜0.5mol/リ
ットルである。0.01mol/リットル以下では液が
不安定で分解しやすく、1.0mol/リットル以上で
はめっき速度が著しく低下し、実用的に好ましくない。
(2) Regarding the sulfite salt, for example, as a sodium salt, 0.01 to 1.0 mol / liter is preferable, and 0.04 to 0.5 mol / liter is particularly preferable. If it is 0.01 mol / liter or less, the solution is unstable and easily decomposes, and if it is 1.0 mol / liter or more, the plating rate remarkably decreases, which is not preferable in practice.

【0015】(3) チオ硫酸塩については、例えばナ
トリウム塩として、0.01〜1.0mol/リットル
が好ましいが、特に好ましくは0.04〜0.5mol
/リットルである。0.01mol/リットル以下では
めっき液の安定性を欠き分解を生じ易く、また、1.0
mol/リットル以上ではめっき反応に格別効果を示さ
ない。
(3) Regarding the thiosulfate, for example, as a sodium salt, 0.01 to 1.0 mol / liter is preferable, and 0.04 to 0.5 mol is particularly preferable.
/ Liter. If the amount is less than 0.01 mol / liter, the plating solution lacks stability and easily decomposes.
If it is more than mol / liter, no particular effect is shown in the plating reaction.

【0016】(4) pH緩衝剤としては、例えばりん
酸水素ナトリウムにより調製された緩衝液が好適であ
り、その含有量は、0.01〜1.0mol/リットル
が好ましいが、特に好ましくは0.05〜0.5mol
/リットルである。0.01mol/リットル以下では
めっき面の粗雑化が生じ易い。また、1.0mol/リ
ットル以上では、格別の効果は期待されない。
(4) As the pH buffering agent, for example, a buffer solution prepared with sodium hydrogen phosphate is suitable, and its content is preferably 0.01 to 1.0 mol / liter, particularly preferably 0. .05 to 0.5 mol
/ Liter. If the amount is 0.01 mol / liter or less, the plated surface tends to be rough. At 1.0 mol / liter or more, no particular effect is expected.

【0017】(5) アスコルビン酸については例えば
ナトリウム塩として、0.001〜1.0mol/リッ
トルが好ましいが、特に好ましくは0.01〜0.5m
ol/リットルである。0.001mol/リットル以
下ではめっき速度が遅く、また、1.0mol/リット
ル以上ではめっき液が不安定となり、分解を生じ易くな
る。
(5) Ascorbic acid, for example, as a sodium salt is preferably 0.001 to 1.0 mol / liter, and particularly preferably 0.01 to 0.5 m.
ol / liter. If it is 0.001 mol / liter or less, the plating rate is slow, and if it is 1.0 mol / liter or more, the plating solution becomes unstable and decomposition is likely to occur.

【0018】(6) 6−エトキシ−2−メルカプトベ
ンゾチアゾール、2−メルカプトベンズイミダゾール、
2−メルカプトベンゾオキサゾール、又はその誘導体も
しくはその塩については、6×10−7〜3×10−3
mol/リットルが好ましいが、特に好ましくは6×1
−6〜6×10−5mol/リットルである。6×1
−7mol/リットル以下ではめっき液が不安定とな
り、分解を生じ易いので好ましくない。また、3×10
−3mol/リットル以上ではめっき液の安定性は増大
するが、めっき速度が遅くなり好ましくない。
(6) 6-ethoxy-2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzimidazole,
Regarding 2-mercaptobenzoxazole, its derivative or its salt, 6 × 10 −7 to 3 × 10 −3
mol / liter is preferable, and 6 × 1 is particularly preferable.
It is 0 −6 to 6 × 10 −5 mol / liter. 6x1
If it is 0-7 mol / liter or less, the plating solution becomes unstable and decomposition is likely to occur, which is not preferable. Also, 3 × 10
If it is -3 mol / liter or more, the stability of the plating solution increases, but the plating rate becomes slow, which is not preferable.

【0019】(7) 使用時においてめっき液のpH
は、めっき液成分が分解しない範囲内において硫酸又は
カセイソーダ液により適時調整する。好ましいpH域は
5〜9、特にpH6〜8の範囲である。
(7) pH of plating solution during use
Is adjusted appropriately with sulfuric acid or caustic soda solution within the range in which the components of the plating solution are not decomposed. A preferred pH range is 5 to 9, particularly pH 6 to 8.

【0020】(8) めっき液の操作温度は50〜80
℃の範囲で選択できるが、好ましくは50〜70℃、さ
らに好ましくは55〜65℃である。このような低温度
においてめっき可能であることは、被めっき対照物が温
度に抵抗を有しない物体の場合、特に好都合であり、こ
のことは、さらにエネルギーの節約、作業者の安全性の
点からも従来の無電解金めっき液にない優れた利点をも
たらす。
(8) The operating temperature of the plating solution is 50-80.
The temperature can be selected in the range of 50 ° C, preferably 50 to 70 ° C, more preferably 55 to 65 ° C. Being able to plate at such low temperatures is particularly advantageous when the object to be plated is a non-temperature resistant object, which further saves energy and is safe for the operator. Also brings excellent advantages over conventional electroless gold plating solutions.

【0021】[0021]

【実施例】次に、本発明の実施例を掲げ、本発明を具体
的に説明する。
EXAMPLES Next, the present invention will be specifically described with reference to examples of the present invention.

【0022】実施例1 下記の組成の無電解金めっき液(A)を用い、これに表
1に示されている0.5ppm、1.0ppm、2.5
ppm及び5.0ppmの各種濃度において6−エトキ
シ−2−メルカプトベンゾチアゾールを含有せしめた各
液を調製した。室温で保存した場合のこれら各液の安定
性を調べた。その結果は後掲表1に示される。
Example 1 An electroless gold plating solution (A) having the following composition was used, and 0.5 ppm, 1.0 ppm and 2.5 ppm shown in Table 1 were used.
Each liquid containing 6-ethoxy-2-mercaptobenzothiazole at various concentrations of ppm and 5.0 ppm was prepared. The stability of each of these solutions when stored at room temperature was investigated. The results are shown in Table 1 below.

【0023】無電解金めっき液(A) 塩化金(III)酸ナトリウム 金として2g/L 亜硫酸ナトリウム 10g/L チオ硫酸ナトリウム 20g/L L−アスコルビン酸ナトリウム 40g/L りん酸水素二ナトリウム 9g/L りん酸二水素一ナトリウム 3g/L pH 7.0Electroless Gold Plating Solution (A) Sodium Chloride (III) Chloride As Gold 2 g / L Sodium Sulfite 10 g / L Sodium Thiosulfate 20 g / L L-Sodium Ascorbate 40 g / L Disodium Hydrogen Phosphate 9 g / L Sodium dihydrogen phosphate 3 g / L pH 7.0

【0024】表1に見られるように、6−エトキシ−2
−メルカプトベンゾチアゾールを含有していない浴(比
較例1)では、建浴後2日目には既に金の沈殿物を生成
し、不安定で長時間使用及び建浴後数日間保存すること
も困難である。
As seen in Table 1, 6-ethoxy-2
-In the bath containing no mercaptobenzothiazole (Comparative Example 1), a gold precipitate was already formed on the second day after the bath, which was unstable and difficult to use for a long time and to store for several days after the bath. is there.

【0025】これに対し、6−エトキシ−2−メルカプ
トベンゾチアゾール0.5ppm、1.0ppm、2.
5ppm、5.0ppmの各添加浴(実施例)では、
0.5ppm添加でも6日間、1.0ppm及び2.5
ppmの各浴では15日間、5.0ppmの添加浴では
30日間の各期間に金の沈殿物を生成せず、無添加の場
合に比較して安定性が大幅に改善され、長期間、室温に
おいて保存することが可能であった。また、6−エトキ
シ−2−メルカプトベンゾチアゾールの添加濃度が高い
ほど安定性が良くなる傾向にあることも判った。これら
の実施例からみて本発明に係わる無電解金めっき液が、
浴の安定性向上に著しい効果を発揮することが認められ
る。
On the other hand, 6-ethoxy-2-mercaptobenzothiazole 0.5 ppm, 1.0 ppm, 2.
In each addition bath (Example) of 5 ppm and 5.0 ppm,
1.0ppm and 2.5 for 6 days with 0.5ppm addition
No precipitation of gold was generated during each period of 15 days in each ppm bath and 30 days in 5.0 ppm addition bath, and the stability was significantly improved compared to the case of no addition, long-term room temperature It was possible to store in. It was also found that the higher the concentration of 6-ethoxy-2-mercaptobenzothiazole added, the better the stability. From these examples, the electroless gold plating solution according to the present invention is
It is recognized that it exerts a remarkable effect in improving the stability of the bath.

【0026】[0026]

【表1】 [Table 1]

【0027】実施例2 下記の組成の無電解金めっき液(B)を用い、これに表
2に示した50ppm、100ppm、250ppm、
500ppmの各種濃度において2−メルカプトベンゾ
オキサゾールを含有せしめた各液を調製した。室温で保
存した場合のこれら各液の安定性を調べた。その結果を
後掲表2に示した。
Example 2 An electroless gold plating solution (B) having the following composition was used, and 50 ppm, 100 ppm, 250 ppm shown in Table 2 were added thereto.
Each liquid containing 2-mercaptobenzoxazole at various concentrations of 500 ppm was prepared. The stability of each of these solutions when stored at room temperature was investigated. The results are shown in Table 2 below.

【0028】無電解金めっき液(B) 亜硫酸金(I)ナトリウム 金として 2g/L 亜硫酸ナトリウム 10g/L チオ硫酸ナトリウム 25g/L L−アスコルビン酸ナトリウム 40g/L りん酸水素二ナトリウム 9g/L りん酸二水素一ナトリウム 3g/L pH 7.0Electroless Gold Plating Solution (B) Gold (I) Sodium Sulfite 2 g / L Sodium sulfite 10 g / L Sodium thiosulfate 25 g / L L-Sodium ascorbate 40 g / L Disodium hydrogen phosphate 9 g / L Phosphorus Sodium dihydrogen acid 3 g / L pH 7.0

【0029】表2に見られるように、2−メルカプトベ
ンゾオキサゾールを含有していない浴(比較例2)で
は、建浴後3日目には既に金の沈殿物を生成し、不安定
で長時間の使用も困難であり、また、建浴後数日間保存
することも困難である。
As can be seen from Table 2, in the bath containing no 2-mercaptobenzoxazole (Comparative Example 2), a gold precipitate was already formed on the third day after the bath was built, which was unstable for a long time. It is also difficult to use, and it is also difficult to store for several days after building the bath.

【0030】これに対し、2−メルカプトベンゾオキサ
ゾール50ppm,100ppm、250ppm,50
0ppmの各添加浴(実施例)では、50ppm添加の
場合でも20日間、100ppm、250ppm,50
0ppmでは30日間、の期間において金の沈殿物を生
成せず、無添加の場合に比較して安定性は大幅に改善さ
れ、長期間室温で保存することが可能であった。また、
2−メルカプトベンゾオキサゾールの添加濃度が高いほ
ど安定性が良くなる傾向にあることも判った。これらの
実施例からみて本発明に係わる無電解金めっき液が、浴
の安定性の点において著しい効果を有するものであるこ
とが認められる。
On the other hand, 2-mercaptobenzoxazole 50 ppm, 100 ppm, 250 ppm, 50
In each addition bath of 0 ppm (Example), 100 ppm, 250 ppm, 50
At 0 ppm, no gold precipitate was formed in the period of 30 days, the stability was significantly improved as compared with the case of no addition, and it was possible to store at room temperature for a long time. Also,
It was also found that the higher the concentration of 2-mercaptobenzoxazole added, the better the stability. From these examples, it is recognized that the electroless gold plating solution according to the present invention has a remarkable effect in terms of bath stability.

【0031】[0031]

【表2】 [Table 2]

【0032】実施例3 下記の組成の無電解金めっき液(C)を調製し、これに
6−メトキシ−2−メルカプトベンゾチアゾールを0.
5ppm、1ppm,2ppm及び2.5ppmの各濃
度でそれぞれを含有せしめた液を用い、めっき試片とし
て、大きさ2cm×2cm、厚さ0.1mmの圧延ニッ
ケル板に厚さ3μmのニッケル皮膜を、次に、厚さ3μ
mの金皮膜をそれぞれ電気めっきしたものを用い、浴負
荷1.2dm/L、温度60℃、撹拌条件で6時間め
っきを行った。その結果を後掲表3に示した。
Example 3 An electroless gold plating solution (C) having the following composition was prepared, and 6-methoxy-2-mercaptobenzothiazole was added thereto.
Using a solution containing each of the concentrations of 5 ppm, 1 ppm, 2 ppm, and 2.5 ppm, as a plating test piece, a rolled nickel plate having a size of 2 cm × 2 cm and a thickness of 0.1 mm was coated with a nickel film having a thickness of 3 μm. , Next, thickness 3μ
Using the electroplated gold film of m, each was plated for 6 hours under a bath load of 1.2 dm 2 / L, a temperature of 60 ° C., and stirring conditions. The results are shown in Table 3 below.

【0033】無電解金めっき液(C) 亜硫酸金(I)ナトリウム 金として 2g/L 亜硫酸ナトリウム 15g/L チオ硫酸ナトリウム 30g/L L−アスコルビン酸ナトリウム 40g/L りん酸水素二ナトリウム 12g/L りん酸二水素一ナトリウム 4g/L pH 7.0Electroless Gold Plating Solution (C) Sodium Gold (I) Sulfite 2 g / L Sodium sulfite 15 g / L Sodium thiosulfate 30 g / L L-Sodium ascorbate 40 g / L Disodium hydrogen phosphate 12 g / L Phosphorus Monosodium dihydrogen acid 4 g / L pH 7.0

【0034】[0034]

【表3】 [Table 3]

【0035】表3に見られるように、6−エトキシ−2
−メルカプトベンゾチアゾールを含有していない浴(比
較例3)では、約3時間で浴中に微量の金沈殿物の生成
がはじまり、6時間以上使用することは困難であった。
As seen in Table 3, 6-ethoxy-2
-In the bath containing no mercaptobenzothiazole (Comparative Example 3), formation of a trace amount of gold precipitate started in about 3 hours, and it was difficult to use for 6 hours or more.

【0036】これに対し、6−エトキシ−2−メルカプ
トベンゾチアゾール添加浴(実施例)では、6時間のめ
っき中に金沈殿物の生成は全く認められず、浴の安定性
が著しく向上していることが認められた。また金の析出
速度については、6−エトキシ−2−メルカプトベンゾ
チアゾール2ppm以下の添加量では無添加浴(比較
例)とめっき速度は、ほぼ同様であり、安定性の向上に
ともなう速度の低下は認められなかった。ただし、6−
エトキシ−2−メルカプトベンゾチアゾール2.5pp
m添加の場合では析出速度は、わずかに低下しているこ
とが認められた。
On the other hand, in the 6-ethoxy-2-mercaptobenzothiazole addition bath (Example), no gold precipitate was observed during the plating for 6 hours, and the bath stability was remarkably improved. It was recognized that Regarding the deposition rate of gold, the plating rate was almost the same as that of the additive-free bath (Comparative Example) when the amount of 6-ethoxy-2-mercaptobenzothiazole added was 2 ppm or less, and there was no decrease in the rate with the improvement in stability. I was not able to admit. However, 6-
Ethoxy-2-mercaptobenzothiazole 2.5pp
It was confirmed that the deposition rate slightly decreased when m was added.

【0037】また、析出物の外観は無添加比較例が赤味
を帯びた黄色無光沢であるのに対し、実施例では明黄色
の半光沢であり、良好な外観を示した。
The appearance of the precipitate was reddish yellow matte in the additive-free comparative example, whereas it was a bright yellow semi-gloss in the examples, showing a good appearance.

【0038】これらの実施例からみて本発明に係わる無
電解金めっき液が、浴の安定性に優れた効果をもたら
し、更に析出速度に悪影響を与えず、析出外観も良好で
あることが認められる。
From these examples, it is recognized that the electroless gold plating solution according to the present invention has an excellent effect on the stability of the bath, does not adversely affect the deposition rate, and has a good deposition appearance. .

【0039】実施例4 下記の組成の無電解金めっき液(D)を調製し、これに
2−メルカプトベンゾオキサゾールを50ppm、10
0ppm、250ppm及び500ppmの各濃度でそ
れぞれ含有せしめた液を用い、めっき試片として実施例
3で用いたものと同様処理のものを用い、浴負荷0.8
dm/L、温度60℃、撹拌条件で6時間めっきを行
った。その結果を後掲表4に示した。
Example 4 An electroless gold plating solution (D) having the following composition was prepared, and 50 ppm of 2-mercaptobenzoxazole was added thereto.
Using solutions containing the respective concentrations of 0 ppm, 250 ppm, and 500 ppm, and using the same treatment as that used in Example 3 as a plating test piece, a bath load of 0.8
Plating was performed for 6 hours under a stirring condition of dm 2 / L, temperature of 60 ° C. The results are shown in Table 4 below.

【0040】無電解金めっき液(D) 亜硫酸金(I)ナトリウム 金として 2g/L 亜硫酸ナトリウム 12.5g/
L チオ硫酸ナトリウム 25g/L L−アスコルビン酸ナトリウム 40g/L りん酸水素二ナトリウム 9g/L りん酸二水素一ナトリウム 3g/L pH 7.0
Electroless Gold Plating Solution (D) Gold (I) Sulfite Sodium 2 g / L Sodium Sulfite 12.5 g / L
L sodium thiosulfate 25 g / L L-sodium ascorbate 40 g / L disodium hydrogen phosphate 9 g / L monosodium dihydrogen phosphate 3 g / L pH 7.0

【0041】[0041]

【表4】 [Table 4]

【0042】表4に見られるように、2−メルカプトベ
ンゾオキサゾールを含有していない浴(比較例4)で
は、約2時間で浴中に微量の金沈殿物の生成がはじま
り、6時間以上使用することは困難であった。
As can be seen from Table 4, in the bath containing no 2-mercaptobenzoxazole (Comparative Example 4), a trace amount of gold precipitate started to form in the bath in about 2 hours, and the bath was used for 6 hours or more. It was difficult to do.

【0043】これに対し、2−メルカプトベンゾオキサ
ゾール添加浴(実施例)では、6時間めっき中に、金の
沈殿物の生成は全く認められず、浴の安定性が著しく向
上していることが認められた。また、金の析出速度につ
いては、2−メルカプトベンゾオキサゾール添加浴はど
の添加濃度においても無添加浴(比較例4)に比し、め
っき速度はほぼ同様であり、安定性の向上にともなう速
度の低下は認められなかった。
On the other hand, in the 2-mercaptobenzoxazole-added bath (Example), no gold precipitate was formed during the plating for 6 hours, and the bath stability was remarkably improved. Admitted. Regarding the deposition rate of gold, the plating rate of the 2-mercaptobenzoxazole-added bath was almost the same as that of the additive-free bath (Comparative Example 4) at any addition concentration, and the rate associated with improvement in stability was No decrease was observed.

【0044】また、析出物の外観は、無添加の比較例の
場合が赤味を帯びた黄色無光沢なのに対し、実施例のそ
れは明黄色の半光沢で良好であった。
The appearance of the precipitate was reddish yellow matte in the case of the non-added comparative example, whereas that of the example was good in light yellow semigloss.

【0045】これらの実施例からみて本発明に係わる無
電解金めっき液が、浴の安定性に優れた効果をもたら
し、更に析出速度に悪影響を与えず良好な析出外観が得
られるものであることが認められる。
From these examples, the electroless gold plating solution according to the present invention has an excellent effect on the stability of the bath, and has a good deposition appearance without adversely affecting the deposition rate. Is recognized.

【0046】実施例5 前記の無電解金めっき液(A)に2−メルカプトベンズ
イミダゾール25ppmを含有せしめた金めっき浴を調
製し、実施例3と同様のめっき試片を用い、同様のめっ
き条件の下で、6時間めっきを行い、室温で一晩放置し
た後、翌日以後、連日5日間にわたり毎日、すべて同一
条件の下でめっきを繰り返して行った。比較例として2
−メルカプトベンズイミダゾールを添加しない場合につ
いても同様条件でめっきを行った。
Example 5 A gold plating bath in which 25 ppm of 2-mercaptobenzimidazole was added to the electroless gold plating solution (A) was prepared, and the same plating sample as in Example 3 was used under the same plating conditions. After 6 hours of plating under room temperature, the plate was left overnight at room temperature, and then the following day, the plating was repeated under the same conditions every day for 5 consecutive days. 2 as a comparative example
-Plating was performed under the same conditions even when mercaptobenzimidazole was not added.

【0047】その結果、2−メルカプトベンズイミダゾ
ール無添加浴での場合には1日目における6時間の平均
めっき速度0.85μm/hrでめっき可能であった
が、第1日目の約3時間めっき時点で、めっき液中に金
微粒子の沈殿物が生成し、更に、一晩の室温放置中に金
の沈殿物が徐々に増加し、翌日には多量の沈殿物の生成
が認められた。そのため、第2日目以降においては、め
っきを行うことができなかった。これに対し、2−メル
カプトベンズイミダゾール25ppm添加浴では、5日
間のめっき期間中において金の沈殿物等浴中に分解物の
生成は全く認められず、毎日の繰り返し作業にともない
一日約10%程度の速度の低下は認められたが、5日間
めっき作業を行うことが可能であった。6時間の平均め
っき速度は、1日目、0.85μm/hr、2日目、
0.77μm/hr、3日目、0.72μm/hr、4
日目、0.66μm/hr、5日目、0.60μm/h
rであった。これら実施例の結果からみて、2−メルカ
プトベンズイミダゾールを含有せしめることにより、め
っき浴の安定性において優れた効果をもたらすことが認
められ一度加熱した液の保存状態における分解物の生成
も防止されることが認められ、長時間にわたる繰り返し
使用が可能となることが認められた。
As a result, in the case of the 2-mercaptobenzimidazole-free bath, it was possible to plate at an average plating rate of 0.85 μm / hr for 6 hours on the first day, but about 3 hours on the first day. Precipitation of fine gold particles was generated in the plating solution at the time of plating, and further, the precipitation of gold was gradually increased during standing overnight at room temperature, and generation of a large amount of precipitation was observed on the next day. Therefore, plating could not be performed after the second day. On the other hand, in the 2-mercaptobenzimidazole 25 ppm addition bath, no decomposition product was found in the bath such as gold precipitate during the plating period of 5 days, and about 10% a day was observed due to the repeated work every day. It was possible to carry out the plating operation for 5 days, although the speed was reduced to some extent. The average plating rate for 6 hours was 0.85 μm / hr on the first day, the second day,
0.77 μm / hr, 3rd day, 0.72 μm / hr, 4
Day 6, 0.66 μm / hr, Day 5, 0.60 μm / h
It was r. From the results of these examples, it is recognized that the inclusion of 2-mercaptobenzimidazole has an excellent effect on the stability of the plating bath, and the generation of decomposed products in the storage state of the solution once heated is also prevented. Therefore, it was confirmed that repeated use over a long period of time was possible.

【0048】実施例6 下記の組成の無電解金めっき液(E)及びこれに6−エ
トキシ−2−メルカプトベンゾチアゾールを2ppm含
有せしめた液を調製し、これらの各めっき浴について未
使用状態で室温条件下に後掲の表5に示した各保存期間
に保存した。
Example 6 An electroless gold plating solution (E) having the following composition and a solution containing 2 ppm of 6-ethoxy-2-mercaptobenzothiazole were prepared, and each plating bath was used in an unused state. It was stored at room temperature for each storage period shown in Table 5 below.

【0049】これらの各保存期間のめっき液の一部を用
いて、めっき試片として実施例3と同様処理したものを
用い、浴負荷0.8dm/L、温度60℃、撹拌条件
で6時間めっきを行い、各保存期間に保存された各めっ
き液について、その速度ならびに仕上がりの外観を比較
した。その結果を後掲表5に示した。
Using a portion of the plating solution for each of these storage periods, a plating test piece treated in the same manner as in Example 3 was used, and a bath load of 0.8 dm 2 / L, a temperature of 60 ° C., and stirring conditions of 6 were used. Time plating was performed, and the speed and finish appearance of each plating solution stored in each storage period were compared. The results are shown in Table 5 below.

【0050】 無電解金めっき液(E) 塩化金 (III)酸ナトリウム 金として 2g/L 亜硫酸ナトリウム 12.5g/L チオ硫酸ナトリウム 25g/L L−アスコルビン酸ナトリウム 40g/L りん酸水素二ナトリウム 9g/L りん酸二水素一ナトリウム 3g/L pH 7.0Electroless Gold Plating Solution (E) Sodium Chloride (III) Chloride As Gold 2 g / L Sodium Sulfite 12.5 g / L Sodium Thiosulfate 25 g / L L-Sodium Ascorbate 40 g / L Disodium Hydrogen Phosphate 9 g / L monosodium dihydrogen phosphate 3g / L pH 7.0

【0051】[0051]

【表5】 [Table 5]

【0052】表5に見られるように、6−エトキシ−2
−メルカプトベンゾチアゾールを添加しない浴(比較
例)では保存期間1週間で既に、浴中に多量の金沈殿物
が生成し、めっきを行うことはできなかった。これに対
し、6−エトキシ−2−メルカプトベンゾチアゾールの
2ppm添加浴(実施例)では28日目まで、液中に沈
殿物の生成は認められなかった。これらの保存浴による
めっきでは、建浴直後より、わずかにめっき速度は低下
したが、保存日数によるめっき速度の差は認められず、
最大28日保存浴までめっきを行うことが可能であっ
た。35日保存浴では金の沈殿物が生成したため、正常
にめっきを行うことが不可能であった。
As seen in Table 5, 6-ethoxy-2
In the bath containing no mercaptobenzothiazole (comparative example), a large amount of gold precipitate was already formed in the bath after a storage period of 1 week, and plating could not be performed. On the other hand, in the 2 ppm addition bath of 6-ethoxy-2-mercaptobenzothiazole (Example), formation of a precipitate was not observed in the liquid until the 28th day. In plating with these storage baths, the plating speed slightly decreased from immediately after the construction bath, but no difference in plating speed due to the number of storage days was observed.
It was possible to plate up to a storage bath of up to 28 days. In the 35-day storage bath, a gold precipitate was formed, and it was impossible to normally perform plating.

【0053】また、6−エトキシ−2−メルカプトベン
ゾチアゾール2ppm添加浴におけるめっきにおいて
は、めっき浴の保存期間に関係なく、明黄色無光沢又は
半光沢の均一な析出膜が得られた。
In plating with 6 ppm of 6-ethoxy-2-mercaptobenzothiazole added at 2 ppm, a bright yellow matte or semi-gloss uniform deposition film was obtained regardless of the storage period of the plating bath.

【0054】このように、6−エトキシ−2−メルカプ
トベンゾチアゾールは、めっき液の分解防止に著しい効
果を示し、その結果、めっき浴の使用可能期間が延長さ
れ、浴活性を低下させることなくめっき浴を室温で長期
間、保存することが可能となった。
As described above, 6-ethoxy-2-mercaptobenzothiazole has a remarkable effect in preventing decomposition of the plating solution, and as a result, the usable period of the plating bath is extended and the plating activity is not lowered. It became possible to store the bath at room temperature for a long time.

【0055】[0055]

【発明の効果】本発明にかかる無電解金めっき液は、建
浴後の保存状態及び使用状態において、浴中の沈殿物生
成を防止し、めっき浴を安定状態で長期間にわたり使用
することができ、この浴を用いて繰り返し、めっきを行
うことが可能であり、従来の金めっき浴が、建浴後直ち
に使用しなければならないという欠点を有するのに対
し、作業時間について制約されないという優れた利点を
有する。したがって、本発明により、金めっきの経済性
ならびに作業性に著しい改善がもたらされる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The electroless gold plating solution according to the present invention can prevent the formation of precipitates in the bath in a storage state and a use state after the construction bath, and can use the plating bath in a stable state for a long period of time. , It is possible to perform plating repeatedly using this bath, and while the conventional gold plating bath has the drawback of having to be used immediately after the bath is built, it has the excellent advantage of not being restricted in working time. Have. Therefore, the present invention brings about a significant improvement in the economical efficiency and workability of gold plating.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (a)金源としての塩化金(III)酸
又はその塩もしくは亜硫酸又はチオ硫酸の金(I)錯
塩、(b)亜硫酸又はチオ硫酸のアルカリ金属塩又はア
ンモニウム塩、(c)アスコルビン酸又はその塩及び
(d)pH緩衝剤を組成成分として含有する水溶液より
なる無電解金めっき液において、6−エトキシ−2−メ
ルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンズイミ
ダゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール及びこれ
らの塩から選択された化合物を含有せしめることを特徴
とする無電解金めっき液。
1. A (a) gold (III) chloride or a salt thereof as a gold source or a gold (I) complex salt of sulfurous acid or thiosulfuric acid, (b) an alkali metal salt or ammonium salt of sulfurous acid or thiosulfuric acid, (c) ) In an electroless gold plating solution comprising an aqueous solution containing ascorbic acid or a salt thereof and (d) a pH buffering agent as composition components, 6-ethoxy-2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole And an electroless gold plating solution containing a compound selected from these salts.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2006249485A (en) * 2005-03-10 2006-09-21 Japan Pure Chemical Co Ltd Gold sulfite salt aqueous solution for gold plating

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7022169B2 (en) 2002-12-10 2006-04-04 Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha Electroless gold plating solution
JP2006249485A (en) * 2005-03-10 2006-09-21 Japan Pure Chemical Co Ltd Gold sulfite salt aqueous solution for gold plating

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