JPH06140213A - Resistor matrix circuit and driving method thereof - Google Patents

Resistor matrix circuit and driving method thereof

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JPH06140213A
JPH06140213A JP31143992A JP31143992A JPH06140213A JP H06140213 A JPH06140213 A JP H06140213A JP 31143992 A JP31143992 A JP 31143992A JP 31143992 A JP31143992 A JP 31143992A JP H06140213 A JPH06140213 A JP H06140213A
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Morimitsu Wakabayashi
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Abstract

PURPOSE:To provide the title resistance matrix circuit and driving method thereof in simple structure displaying the functions as storage elements in high recording density having easy recording and reading out capacity. CONSTITUTION:A plurality of mutually insulated rows Xie and a plurality of columns Yjf formed on the rows Xie with insulating layers therebetween are provided. Next, resistors Rijk both ends of which are connected to the rows Xie and columns Yjf respectively are provided on the intersecting parts of the rows Xie and the columns Yjf with insulating layers therebetween. Through repetion of the procedures, a plurality of layers are formed of the rows Xie, the resistors Rijk and the columns Yif.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、マトリクス状に組ま
れた回路を積層し、記憶素子として用いる抵抗マトリク
ス回路とその駆動方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resistance matrix circuit used as a memory element by stacking circuits assembled in a matrix form and a driving method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、抵抗マトリクス回路は、本願出願
人による特開昭63−1142915号公報に開示され
ている様に、X−Y方向に2次元的に組まれた導体パタ
ーン間に、各交差部分毎に抵抗体が接続された構造に形
成されている。この抵抗マトリクス回路は、マトリクス
に組まれた抵抗体の抵抗値を測定して、各種の物理量を
測定するものである。またこの抵抗マトリクス回路を、
ディジタルメモリまたはアナログメモリとして用いるも
のも提案されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 63-142915 of the applicant of the present invention, a resistance matrix circuit is provided between conductor patterns that are two-dimensionally assembled in the XY directions. The resistor is formed at each intersection. The resistance matrix circuit measures various physical quantities by measuring the resistance value of the resistors incorporated in the matrix. In addition, this resistance matrix circuit
A memory used as a digital memory or an analog memory has also been proposed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上記従来の技術の場
合、抵抗体の配列が2次元的であり、記憶素子として用
いる場合の記憶容量が少ないという問題があった。ま
た、周知の半導体メモリは構造が複雑であり、記憶密度
が上がれば上がるほど複雑な製造工程になるという問題
があった。さらに、他の周知の磁気記憶媒体や、光ディ
スク等は、記録再生に機械的構成が必要となり、記録再
生装置が大型になるという問題があった。
In the above conventional technique, there is a problem that the array of the resistors is two-dimensional and the storage capacity when used as a storage element is small. Further, the known semiconductor memory has a complicated structure, and the higher the storage density, the more complicated the manufacturing process. Further, other known magnetic storage media, optical disks, and the like have a problem that a recording / reproducing apparatus becomes large in size because a mechanical structure is required for recording / reproducing.

【0004】この発明は上記従来の技術の問題点に鑑み
て成されたもので、構造が簡単であり、記録密度が高く
記録及び読み出しが容易な記憶素子としての機能を有し
た抵抗マトリクス回路とその駆動方法を提供することを
目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and has a simple structure and a resistance matrix circuit having a function as a memory element having a high recording density and easy recording and reading. It is an object to provide a driving method thereof.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】この発明は、互いに絶縁
された複数の行ラインと、この行ライン上で互いに絶縁
され上記複数の行ラインと絶縁層をはさんで形成された
複数の列ラインとを設け、この行ラインと列ラインとが
上記絶縁層をはさんで交差する部分に上記行ラインと列
ラインとに両端が接続された抵抗体を設け、この行ライ
ンと抵抗体と列ラインの繰り返しによる複数の層を形成
してなる抵抗マトリクス回路である。またこの発明は、
同一層中の行ラインの内の任意の1本の電位を第一の電
位に設定し、同一層中の他の行ラインの電位を上記第一
の電位と異なる第二の電位に設定し、抵抗体をはさんで
この行ラインと隣接する列ラインの層の任意の1本の列
ラインの電位を上記第二の電位に設定し、その層の他の
列ラインの電位を上記第一の電位に設定し、上記任意の
1本の行ラインの他方の側に隣接した列ラインの電位を
上記第一の電位に設定し、上記任意の1本の列ラインの
他方の側に隣接した行ラインの電位を上記第二の電位に
設定して、上記任意の行ライン及び列ライン間の抵抗体
の値を読み込む抵抗マトリクス回路の駆動方法である。
The present invention is directed to a plurality of row lines insulated from each other, and a plurality of column lines insulated from each other on the row lines and sandwiched between the plurality of row lines and an insulating layer. Is provided, and a resistor whose both ends are connected to the row line and the column line is provided at a portion where the row line and the column line intersect with each other across the insulating layer, and the row line, the resistor, and the column line are provided. Is a resistance matrix circuit formed by repeating a plurality of layers. This invention also
The potential of any one of the row lines in the same layer is set to the first potential, and the potential of the other row lines in the same layer is set to the second potential different from the first potential, The potential of any one column line in the layer of the column line adjacent to this row line is set to the above second potential across the resistor, and the potentials of the other column lines in that layer are set to the above first potential. The potential of the column line adjacent to the other side of the arbitrary one row line is set to the first potential, and the row adjacent to the other side of the arbitrary one column line is set to the first potential. This is a method of driving a resistance matrix circuit in which the potential of the line is set to the second potential and the value of the resistor between the arbitrary row line and column line is read.

【0006】[0006]

【作用】この発明の抵抗マトリクス回路とその駆動方法
は、抵抗体をはさんでマトリクス状に形成された回路
が、3次元的に積層されているので、記録密度が高く、
しかも抵抗値の読み出しに際して、任意の抵抗体をはさ
んだライン以外のラインからの電流の回り込みを阻止し
て駆動されるので、正確な抵抗値の読み出しが可能であ
る。
In the resistance matrix circuit and the driving method thereof according to the present invention, since the circuits formed in a matrix shape with the resistors interposed therebetween are three-dimensionally stacked, the recording density is high,
Moreover, when reading the resistance value, the current is prevented from sneaking from the lines other than the line sandwiching the arbitrary resistor, and the resistance value can be read accurately.

【0007】[0007]

【実施例】以下この発明の一実施例について図面に基づ
いて説明する。この実施例の抵抗マトリクス回路は、図
1〜図3に示す様に、n本の互いに絶縁された銅等の導
体列ラインからなるY1層と、このY1層上にSiO2
の絶縁層11が形成され、絶縁層11上にm本の互いに
絶縁された銅等の導体行ラインからなるX2層が形成さ
れている。さらに、絶縁層12を介してY1層と同様の
Y3層が形成され、さらに、絶縁層13を介してX2層
と同様のX4層が形成され、その上に絶縁層14を介し
てY1層と同様のY5層が形成されている。以下、各行
ラインをXie(iは行数を示し1〜mの任意の自然
数、eは層の位置を示し2または4である)と表し、各
列ラインをYjf(jは列数を示し1〜nの任意の自然
数、fは層の位置を示し1,3または5である)と表
す。従って、この実施例は、5層からなる行ラインまた
は列ラインを有する立体回路である。最下層のY1層
は、セラミック基板15上に形成され、各列ラインYj
1はニッケル膜ライン16を介して形成されている。ま
た、最上層のY5層は、SiO2の保護膜17で全面が
覆われている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. As shown in FIGS. 1 to 3, the resistance matrix circuit of this embodiment has a Y1 layer composed of n conductor row lines of copper or the like insulated from each other, and SiO 2 on the Y1 layer.
The insulating layer 11 is formed, and on the insulating layer 11, the X2 layer formed of m conductor row lines of copper or the like insulated from each other is formed. Further, a Y3 layer similar to the Y1 layer is formed via the insulating layer 12, an X4 layer similar to the X2 layer is formed via the insulating layer 13, and a Y1 layer is formed thereon via the insulating layer 14. A similar Y5 layer is formed. Hereinafter, each row line is referred to as Xie (i is the number of rows and is an arbitrary natural number from 1 to m, e is a layer position and is 2 or 4), and each column line is Yjf (j is the number of columns and 1). ~ N is an arbitrary natural number, f is the position of the layer, and is represented by 1, 3 or 5. Therefore, this embodiment is a three-dimensional circuit having five layers of row lines or column lines. The Y1 layer, which is the bottom layer, is formed on the ceramic substrate 15, and each column line Yj is formed.
1 is formed via the nickel film line 16. The uppermost Y5 layer is entirely covered with a SiO 2 protective film 17.

【0008】行ラインXie及び列ラインYjfは、互
いに隣接する層の行または列ラインとの間の交差部分
で、絶縁層11〜14に形成された透孔に、タンタル等
の抵抗体Rijk(i,jは上記と同様であり、kは1
〜4で絶縁層11〜14に対応する)が設けられてい
る。各抵抗体Rijkは、各位置毎に、500Ω、1k
Ω、2kΩ、4kΩの中から適宜選択した値に形成し、
所定の情報を形成するものである。
The row line Xie and the column line Yjf are the intersections between the row or column lines of the layers adjacent to each other, and are formed in the through holes formed in the insulating layers 11 to 14 with resistors Rijk (i) such as tantalum. , J are the same as above, and k is 1
4 to 4 (corresponding to the insulating layers 11 to 14) are provided. Each resistor Rijk has 500Ω, 1k for each position.
Ω, 2kΩ, 4kΩ to a value appropriately selected,
It forms predetermined information.

【0009】各行ラインXieは、マルチプレクサ等に
よるスイッチSXiLe(iは行ラインに対応した1〜
mの任意の自然数、eは2または4である)を介して、
オペアンプ等から成る各行毎のバッファアンプ20の出
力側端子に接続され、各バッファアンプ20の入力端子
は、各々抵抗Rxを介して所定の低電位ライン22に接
続されている。さらに、各行ラインXieは、スイッチ
SXiHe(iは行ラインに対応した1〜mの任意の自
然数、eは2または4である)を介して、所定の高電位
VH1の高電位ライン24にも接続されている。
Each row line Xie is a switch SXiLe (i is 1 to 1 corresponding to a row line) formed by a multiplexer or the like.
via any natural number of m, e is 2 or 4),
It is connected to the output side terminal of the buffer amplifier 20 for each row formed of an operational amplifier or the like, and the input terminal of each buffer amplifier 20 is connected to a predetermined low potential line 22 via a resistor Rx. Further, each row line Xie is also connected to a high potential line 24 of a predetermined high potential VH1 via a switch SXiHe (i is an arbitrary natural number of 1 to m corresponding to the row line, e is 2 or 4). Has been done.

【0010】また、各列ラインYjfは、抵抗Rs、ス
イッチSYjLf(jは列ラインに対応した1〜nの任
意の自然数、fは1,3または5である)を介して、オ
ペアンプ等から成るバッファアンプ26の出力側端子に
接続され、このバッファアンプ26の入力端子は、所定
の低電位VL1に接続されている。さらに、各列ライン
Yjfは、抵抗Rs、スイッチSYjHf(jは列ライ
ンに対応した1〜nの任意の自然数、fは1,3または
5である)を介して、オペアンプ等から成る各列毎のバ
ッファアンプ28の出力側端子に接続され、この各バッ
ファアンプ28の入力端子は、各々抵抗Ryを介して所
定の高電位VH2(ここではVH1=VH2とする)の
高電位ライン30に接続されている。そして、各列ライ
ンYjfは、出力ライン32に、各々スイッチSWoj
f(fは1,3または5である)を介して接続されてい
る。出力ライン32には、バッファアンプ34が設けら
れ、さらに、バッファアンプ36を介して低電位ライン
22に接続されている。
Each column line Yjf is composed of an operational amplifier or the like via a resistor Rs and a switch SYjLf (j is an arbitrary natural number 1 to n corresponding to the column line, and f is 1, 3 or 5). It is connected to the output side terminal of the buffer amplifier 26, and the input terminal of this buffer amplifier 26 is connected to a predetermined low potential VL1. Further, each column line Yjf is provided with a resistor Rs and a switch SYjHf (j is an arbitrary natural number of 1 to n corresponding to the column line, f is 1, 3 or 5), and each column line is composed of operational amplifiers or the like. Of the buffer amplifier 28, and the input terminal of each buffer amplifier 28 is connected to a high potential line 30 of a predetermined high potential VH2 (here, VH1 = VH2) via a resistor Ry. ing. Each column line Yjf is connected to the output line 32 by a switch SWoj.
connected via f (f is 1, 3 or 5). A buffer amplifier 34 is provided on the output line 32, and is further connected to the low potential line 22 via a buffer amplifier 36.

【0011】この実施例の抵抗マトリクス回路の製造方
法は、セラミック基板15に、ニッケル薄膜と銅薄膜を
各々蒸着により形成し、これを所定の幅及び間隔でエッ
チングして、Y1層の列ラインYj1を形成する。ニッ
ケル薄膜は、セラミック基板15と銅薄膜との接着性を
確保するために形成したものである。この後、SiO2
の絶縁層11を蒸着により形成する。この絶縁層11
に、上記列ラインYj1と等ピッチで、縦横にライン幅
より狭い透孔をエッチングにより形成する。この後タン
タルを蒸着し、上記透孔内のタンタルを残し各透孔位置
で上記4種類のうちの所望の抵抗値となるようにエッチ
ングして抵抗体Rij1を形成する。この上に、銅を蒸
着し、列ラインYj1と同一のピッチで直交する方向に
行ラインXi2が形成される様にエッチングを行う。以
下上記と同様に順次絶縁層12、抵抗体Rij2、Y3
層、絶縁層13、抵抗体RiJ3、X4層、絶縁層1
4、抵抗体Rij4、Y5層を形成し、最後に保護膜1
7を蒸着する。
In the method of manufacturing the resistance matrix circuit of this embodiment, a nickel thin film and a copper thin film are respectively formed on the ceramic substrate 15 by vapor deposition, and these are etched at a predetermined width and at a predetermined interval to form the column line Yj1 of the Y1 layer. To form. The nickel thin film is formed to ensure the adhesiveness between the ceramic substrate 15 and the copper thin film. After this, SiO 2
The insulating layer 11 is formed by vapor deposition. This insulating layer 11
Further, through holes having a pitch equal to that of the column line Yj1 and narrower than the line width are formed vertically and horizontally by etching. After that, tantalum is vapor-deposited, and the tantalum in the through hole is left, and etching is performed at each through hole position so as to have a desired resistance value among the above four types, thereby forming a resistor Rij1. Copper is vapor-deposited on this, and etching is performed so that the row line Xi2 is formed in the direction orthogonal to the column line Yj1 at the same pitch. Thereafter, similarly to the above, the insulating layer 12, the resistors Rij2, Y3 are sequentially arranged.
Layer, insulating layer 13, resistor RiJ3, X4 layer, insulating layer 1
4, resistor Rij4, Y5 layer is formed, and finally the protective film 1
7 is vapor-deposited.

【0012】この実施例の抵抗マトリクス回路の動作作
用について以下に説明する。この実施例のマトリクス回
路の駆動方法は、例えば、図1において抵抗体R332
の値を読み込む場合を考えると、出力を出すために、S
Wo33を閉じ、スイッチSX3H2と、スイッチSY
3L3を閉じ、X2層の行ラインX32を高電位VH1
に接続し、Y3層の列ラインY33を低電位VL1に接
続する。さらに、X2層の行ラインX32以外の全ての
行ラインXi2を低電位ライン22に接続するため、ス
イッチSX3L2以外の全てのスイッチSXiL2を閉
じる。また、Y3層の列ラインY33以外の全ての行ラ
インYj3を高電位ライン30に接続するため、スイッ
チSY3H3以外の全てのスイッチSYjH3を閉じ
る。さらに、X2層と隣接するY1層の全ての列ライン
Yj1を高電位ライン30に接続するために、全てのス
イッチSYjH1を閉じる。そして、Y3層と隣接する
X4層の全ての行ラインXi4を低電位ライン22に接
続するために、全てのスイッチスイッチSXiL4を閉
じる。また、その他のスイッチは全て開いた状態にす
る。
The operation of the resistance matrix circuit of this embodiment will be described below. The driving method of the matrix circuit of this embodiment is, for example, as shown in FIG.
Consider the case of reading the value of
Wo33 is closed, switch SX3H2 and switch SY
3L3 is closed, and the row line X32 of the X2 layer is set to the high potential VH1.
The column line Y33 of the Y3 layer is connected to the low potential VL1. Further, since all the row lines Xi2 other than the row line X32 of the X2 layer are connected to the low potential line 22, all the switches SXiL2 other than the switch SX3L2 are closed. Further, since all the row lines Yj3 other than the column line Y33 of the Y3 layer are connected to the high potential line 30, all the switches SYjH3 other than the switch SY3H3 are closed. Further, in order to connect all the column lines Yj1 of the Y1 layer adjacent to the X2 layer to the high potential line 30, all the switches SYjH1 are closed. Then, in order to connect all the row lines Xi4 of the X4 layer adjacent to the Y3 layer to the low potential line 22, all the switches SXiL4 are closed. Also, leave all other switches open.

【0013】これによって、X2層の行ラインX32と
Y3層の列ラインY33とには、他のラインや層からノ
イズである電流が流れ込むことがない。そして、出力の
電位をVL2とすると、VL2=VH1{Rs/(R3
32+Rs)}と表されるので、R332=Rs(VH
1/VL2−1)となり、出力VL2により抵抗値が計
算される。また、他の任意の抵抗体Rijkの値も、同
様に読み込むことができる。
As a result, a noise current does not flow into the row line X32 of the X2 layer and the column line Y33 of the Y3 layer from other lines or layers. When the output potential is VL2, VL2 = VH1 {Rs / (R3
32 + Rs)}, R332 = Rs (VH
1 / VL2-1), and the resistance value is calculated from the output VL2. Further, the values of other arbitrary resistors Rijk can be read in the same manner.

【0014】この実施例の抵抗マトリクス回路によれ
ば、読み出したい位置の抵抗に流れる電流のみが出力さ
れ、同層の他のラインや他層のラインからの電流の流込
がなく、正確な抵抗値を算出することができる。従っ
て、この抵抗値を任意に設定することにより、正確なア
ナログメモリとして利用することができ、ディジタルメ
モリとしても利用でき、しかも、3次元構造に形成され
ているので、記録密度が高く、読み出しも容易な記憶素
子を得ることができる。
According to the resistance matrix circuit of this embodiment, only the current flowing through the resistance at the position to be read is output, and the current does not flow from the other line of the same layer or the line of the other layer, and the accurate resistance is obtained. The value can be calculated. Therefore, by setting this resistance value arbitrarily, it can be used as an accurate analog memory and also as a digital memory, and since it is formed in a three-dimensional structure, it has a high recording density and can be read out. An easy storage element can be obtained.

【0015】また、この発明の抵抗体マトリクスの他の
実施例として、上記実施例の抵抗体を、ヒューズ性を有
した材料により狭小なパターンに形成しても良い。そし
て、所望の位置のヒューズ部分を切るには、上記実施例
の抵抗体の値を読み出す場合と同様に、所望の行及び列
ラインをH及びLに接続し、そのヒューズ部分に、切る
のに必要な電圧をかける。この時、他のヒューズ部分に
は、ヒューズを切らない程度にしか電流が流れない様
に、所定の抵抗を介して接続する。さらに、各ヒューズ
部分にも抵抗を持たせ、所望の行及び列ライン以外は、
フローティングにし、回り込み回路は少なくとも抵抗が
3倍となり、各ヒューズ部分に印加される電力は9分の
1以下となり切れないようにする。これによって、半導
体メモリのPROMと同様に、書き込み可能なメモリと
して用いることができる。
As another embodiment of the resistor matrix of the present invention, the resistor of the above embodiment may be formed in a narrow pattern by using a material having a fuse property. Then, in order to cut the fuse portion at the desired position, the desired row and column lines are connected to H and L and the fuse portion is cut, as in the case of reading the value of the resistor in the above embodiment. Apply the required voltage. At this time, the other fuse parts are connected via a predetermined resistor so that the current flows only to the extent that the fuse is not cut. In addition, each fuse part also has a resistance, except for the desired row and column lines,
The floating circuit is made to have a resistance at least tripled so that the electric power applied to each fuse portion cannot be reduced to 1/9 or less. As a result, like the PROM of the semiconductor memory, it can be used as a writable memory.

【0016】また、上記実施例の抵抗体の代わりに、各
ライン間全面に高抵抗の皮膜を形成し、所望の交点部分
に透孔を設けた絶縁膜を形成したものでも良い。これに
よれば、透孔を形成した部分で高抵抗皮膜を介して電流
が流れ、他の箇所では、抵抗が無限大であり、2値のデ
ィジタルメモリを形成することができる。
Further, instead of the resistor of the above embodiment, a high resistance film may be formed on the entire surface between the lines and an insulating film having a through hole may be formed at a desired intersection. According to this, a current flows through the high resistance film in the portion where the through hole is formed, and the resistance is infinite in other portions, so that a binary digital memory can be formed.

【0017】さらに、導体ラインの上に、絶縁膜を形成
し所望の位置に透孔を形成した後、イミダゾール層を形
成するか陽極酸化する等により、この透孔部では抵抗値
が出せる程度に表面に薄い絶縁層を形成し、その上に次
の層の導体ラインを形成しても良い。これによっても、
ディジタルメモリとしては十分なものが得られ、簡単に
製造することができるものである。
Further, an insulating film is formed on the conductor line and a through hole is formed at a desired position, and then an imidazole layer is formed or anodization is performed so that a resistance value can be obtained at this through hole portion. A thin insulating layer may be formed on the surface and a conductor line of the next layer may be formed thereon. This also
Sufficient digital memory can be obtained and can be easily manufactured.

【0018】[0018]

【発明の効果】この発明の抵抗マトリクス回路とその駆
動方法は、抵抗をはさんでマトリクス状に形成された回
路が、3次元的に積層されているので、記録密度が高
く、しかも抵抗値の読み出しに際して、任意の抵抗をは
さんだライン以外のラインからの電流の流込がなく、ノ
イズが入らない様に駆動することができ、正確な読み出
しが可能である。
According to the resistance matrix circuit and the driving method thereof of the present invention, since the circuits formed in a matrix shape with the resistors interposed therebetween are three-dimensionally laminated, the recording density is high and the resistance value is high. At the time of reading, current does not flow from a line other than a line sandwiching an arbitrary resistance, driving can be performed without noise, and accurate reading is possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施例の抵抗体マトリクス回路の
回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram of a resistor matrix circuit according to an embodiment of the present invention.

【図2】この実施例の抵抗マトリクス回路の構造を示す
該略図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing the structure of a resistance matrix circuit of this embodiment.

【図3】この実施例の抵抗マトリクス回路の構造を示す
縦断面図である。
FIG. 3 is a vertical cross-sectional view showing the structure of a resistance matrix circuit of this embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11〜14 絶縁層 Rijk 抵抗体 Xie 行ライン Yjf 列ライン 11-14 Insulating Layer Rijk Resistor Xie Row Line Yjf Column Line

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 互いに絶縁された複数の行ラインと、こ
の行ラインの上層で互いに絶縁され上記複数の行ライン
と絶縁層をはさんで直交するように形成された複数の列
ラインとを設け、この行ラインと列ラインとが上記絶縁
層をはさんで交差する部分に上記行ラインと列ラインと
に両端が接続された抵抗体を設け、この行ラインと抵抗
体と列ラインの繰り返しによる複数の層を形成してなる
ことを特徴とする抵抗マトリクス回路。
1. A plurality of row lines insulated from each other, and a plurality of column lines insulated from each other above the row lines and formed so as to be orthogonal to the plurality of row lines sandwiching an insulating layer. , A resistor whose both ends are connected to the row line and the column line is provided at a portion where the row line and the column line cross each other across the insulating layer, and the row line, the resistor, and the column line are repeated. A resistance matrix circuit comprising a plurality of layers.
【請求項2】 互いに絶縁された複数の行ラインと、こ
の行ラインの上層で互いに絶縁され上記複数の行ライン
と絶縁層をはさんで直交するように形成された複数の列
ラインとを設け、この行ラインと列ラインとが上記絶縁
層をはさんで交差する部分に上記行ラインと列ラインと
に両端が接続された抵抗体を設け、この行ラインと抵抗
体と列ラインの繰り返しによる複数の層を形成してなる
抵抗マトリクス回路を形成し、同一層中の行ラインの内
の任意の1本の電位を第一の電位に設定し、同一層中の
他の行ラインの電位を上記第一の電位と異なる第二の電
位に設定し、抵抗体をはさんでこの行ラインと隣接する
列ラインの層の任意の1本の列ラインの電位を上記第二
の電位に設定し、その層の他の列ラインの電位を上記第
一の電位に設定し、上記任意の1本の行ラインに対して
上記任意の1本の列ラインとは反対側に隣接した列ライ
ンの電位を上記第一の電位に設定し、上記任意の1本の
列ラインに対して上記任意の1本の行ラインとは反対側
に隣接した行ラインの電位を上記第二の電位に設定し
て、上記任意の行ラインと列ライン間の抵抗体の値を読
み込むことを特徴とする抵抗マトリクス回路の駆動方
法。
2. A plurality of row lines insulated from each other, and a plurality of column lines insulated from each other above the row lines and formed so as to be orthogonal to the plurality of row lines sandwiching an insulating layer. , A resistor whose both ends are connected to the row line and the column line is provided at a portion where the row line and the column line cross each other across the insulating layer, and the row line, the resistor, and the column line are repeated. A resistance matrix circuit formed by forming a plurality of layers is formed, and the potential of any one of the row lines in the same layer is set to the first potential, and the potential of other row lines in the same layer is set. The second potential different from the first potential is set, and the potential of any one column line of the layer of the column line adjacent to this row line is set to the second potential with the resistor interposed therebetween. , Set the potential of the other column line of the layer to the first potential above, The potential of a column line adjacent to the arbitrary one row line on the opposite side of the arbitrary one column line is set to the first potential, and the potential of the arbitrary one column line is set to the first potential. And the potential of a row line adjacent to the side opposite to the arbitrary one row line is set to the second potential, and the value of the resistor between the arbitrary row line and the column line is read. And method for driving a resistance matrix circuit.
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