JPH06140193A - Beam chamber for sr device - Google Patents
Beam chamber for sr deviceInfo
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- JPH06140193A JPH06140193A JP4283186A JP28318692A JPH06140193A JP H06140193 A JPH06140193 A JP H06140193A JP 4283186 A JP4283186 A JP 4283186A JP 28318692 A JP28318692 A JP 28318692A JP H06140193 A JPH06140193 A JP H06140193A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、電子ビームを加速し
てＳＲ光(シンクロトロン放射光)を放射するＳＲ装置用
ビームチェンバに関し、特に超高真空状態を実現して電
子ビームを長時間にわたって蓄積できるようにしたＳＲ
装置用ビームチェンバに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a beam chamber for an SR device for accelerating an electron beam to emit SR light (synchrotron radiation), and more particularly to realizing an ultrahigh vacuum state for a long time. SR that can be stored
The present invention relates to a beam chamber for a device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来より、ＳＲ装置から放射されるＳＲ
光は、半導体の超微細加工等に用いられている。このよ
うなＳＲ光を放射するＳＲ装置においては、偏向用のビ
ームチェンバ(偏向部真空槽)を連結して周回軌道が形成
されるが、周回軌道上で電子ビームを長時間にわたって
蓄積して加速するため、ビームチェンバ内を常に高真空
に保つ必要がある。Conventionally, SR radiated from an SR device
Light is used for ultra-fine processing of semiconductors. In an SR device that emits such SR light, a beam chamber for deflection (deflection vacuum chamber) is connected to form a circular orbit, but an electron beam is accumulated and accelerated on the circular orbit for a long time. Therefore, it is necessary to always maintain a high vacuum inside the beam chamber.
【０００３】図４は例えば1982年12月(分子科学研究所、
UVSOR-9)発行の「ＵＶＳＯＲストレージリングの設計(D
esign of UVSOR Storage Ring)」の第57頁に記載された
従来のＳＲ装置用ビームチェンバを示す水平断面図であ
る。図において、１はＳＲ装置の偏向部となる真空槽即
ちビームチェンバ、２はビームチェンバ１内で電子ビー
ムＡが通過する中心軌道である。ここでは、ＳＲ装置の
周回軌道の一部を構成する１個のビームチェンバのみが
示されている。FIG. 4 shows, for example, December 1982 (Institute for Molecular Science,
UVSOR-9) published "Design of UVSOR Storage Ring (D
FIG. 28 is a horizontal cross-sectional view showing a conventional beam chamber for an SR device described in page 57 of “esign of UVSOR Storage Ring)”. In the figure, 1 is a vacuum chamber or beam chamber which serves as a deflection part of the SR apparatus, and 2 is a central orbit through which the electron beam A passes in the beam chamber 1. Here, only one beam chamber forming a part of the orbit of the SR device is shown.
【０００４】３はビームチェンバ１の外周部からＳＲ光
Ｂを放射するためのポートであり、中心軌道２の接線方
向に一致するように形成されている。４はビームチェン
バ１内に組み込まれた第１の真空ポンプとなるイオンポ
ンプであり、破線で示すように中心軌道２の内周部に沿
って配列されている。Reference numeral 3 denotes a port for emitting the SR light B from the outer peripheral portion of the beam chamber 1, which is formed so as to coincide with the tangential direction of the central orbit 2. Reference numeral 4 denotes an ion pump which is a first vacuum pump incorporated in the beam chamber 1 and is arranged along the inner peripheral portion of the central orbit 2 as shown by a broken line.
【０００５】次に、図４を参照しながら、従来のＳＲ装
置用ビームチェンバの動作について説明する。まず、ビ
ームチェンバ１の両端の直線部を介して複数のビームチ
ェンバを連結し、電子ビームＡの周回軌道を形成する。
続いて、イオンポンプ４に高電圧を印加することによ
り、気体分子の電離作用を用いて、ビームチェンバ１内
の空気を十分低い気圧まで排気する。Next, the operation of the conventional beam chamber for SR equipment will be described with reference to FIG. First, a plurality of beam chambers are connected to each other through the linear portions at both ends of the beam chamber 1 to form a circular orbit of the electron beam A.
Then, by applying a high voltage to the ion pump 4, the air in the beam chamber 1 is exhausted to a sufficiently low atmospheric pressure by using the ionization action of gas molecules.
【０００６】これにより、電子ビームＡは、ビームチェ
ンバ１内の中心軌道２上を光速に近い速度で通過して周
回する。このとき、電子ビームＡの中心軌道２は、ビー
ムチェンバ１内の磁界によって円弧状に曲げられ、中心
軌道２の接線方向にＳＲ光Ｂが放射される。ＳＲ光Ｂ
は、ポート３介してＳＲ装置の外部に導かれ、半導体の
超微細加工等に用いられる。As a result, the electron beam A passes through the central orbit 2 in the beam chamber 1 at a speed close to the speed of light and goes around. At this time, the central trajectory 2 of the electron beam A is bent into an arc by the magnetic field in the beam chamber 1, and the SR light B is emitted in the tangential direction of the central trajectory 2. SR light B
Is guided to the outside of the SR device through the port 3 and used for ultrafine processing of semiconductors.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】従来のＳＲ装置用ビー
ムチェンバは以上のように、ビームチェンバ１内に組み
込み式のイオンポンプ４のみが真空ポンプとして設置さ
れているので、残留ガスとして水素が多量に残ってしま
い、ビームチェンバ１内を例えば10-11Ｔorr程度の超高
真空領域まで排気することができず、又、排気するのに
長時間を要するという問題点があった。As described above, in the conventional beam chamber for the SR apparatus, since only the built-in ion pump 4 is installed as a vacuum pump in the beam chamber 1, a large amount of hydrogen is left as a residual gas. However, there is a problem in that the inside of the beam chamber 1 cannot be evacuated to an ultra-high vacuum region of, for example, 10 −11 Torr, and it takes a long time to evacuate.
【０００８】この発明は上記のような問題点を解決する
ためになされたもので、10-11Ｔorr程度の超高真空領域
まで短時間で到達することができ、電子ビームの蓄積寿
命を延長することのできるＳＲ装置用ビームチェンバを
得ることを目的とする。The present invention has been made to solve the above problems, and can reach an ultrahigh vacuum region of about 10 -11 Torr in a short time, thereby extending the storage life of an electron beam. An object of the present invention is to obtain a beam chamber for an SR device that can be used.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】この発明の請求項１に係
るＳＲ装置用ビームチェンバは、電子ビームの中心軌道
に沿って設置された第１の真空ポンプとなるイオンポン
プと、電子ビームの偏向に基づくＳＲ光を放射するため
に中心軌道の外周部に設けられたポートと、中心軌道に
沿って第２の真空ポンプとなる非蒸発型ゲッタポンプと
を設けたものである。A beam chamber for an SR apparatus according to claim 1 of the present invention comprises an ion pump serving as a first vacuum pump installed along a central orbit of an electron beam, and a deflection of the electron beam. A port provided on the outer periphery of the central orbit for radiating SR light based on the above, and a non-evaporable getter pump serving as a second vacuum pump along the central orbit.
【００１０】又、この発明の請求項２に係るＳＲ装置用
ビームチェンバは、中心軌道に沿って設置されたガイド
を更に有し、非蒸発型ゲッタポンプを複数個連結すると
共にガイドに対して着脱自在に位置決めしたものであ
る。The beam chamber for an SR apparatus according to claim 2 of the present invention further has a guide installed along the central orbit, and a plurality of non-evaporable getter pumps are connected and detachable from the guide. It is positioned at.
【００１１】又、この発明の請求項３に係るＳＲ装置用
ビームチェンバは、第１又は第２の真空ポンプの少なく
とも一方を、中心軌道の外周部に沿って設置すると共に
少なくともＳＲ光の通過位置において上下に分割したも
のである。According to a third aspect of the present invention, there is provided a beam chamber for an SR apparatus, in which at least one of the first and second vacuum pumps is installed along the outer periphery of the central orbit and at least the SR light passage position. In the above, it is divided up and down.
【００１２】又、この発明の請求項４に係るＳＲ装置用
ビームチェンバは、ＳＲ光の通過位置以外の中心軌道の
外周部に沿ってビームアブソーバを更に設けたものであ
る。A beam chamber for an SR device according to a fourth aspect of the present invention further comprises a beam absorber along the outer periphery of the central orbit other than the SR light passage position.
【００１３】[0013]
【作用】この発明の請求項１においては、超高真空領域
で問題となる残留ガスを非蒸発型ゲッタポンプにより排
気し、非蒸発型ゲッタポンプからの放出ガス及びその他
のガスをイオンポンプにより排気する。In the first aspect of the present invention, the residual gas which is a problem in the ultra-high vacuum region is exhausted by the non-evaporable getter pump, and the gas released from the non-evaporable getter pump and other gases are exhausted by the ion pump.
【００１４】又、この発明の請求項２においては、連結
された複数の非蒸発型ゲッタポンプをビームチェンバの
側端面から挿入し、ガイドを介して着脱自在に位置決め
することにより、容易に組み立て可能な構造とする。Further, according to the second aspect of the present invention, the plurality of coupled non-evaporable getter pumps are inserted from the side end surface of the beam chamber, and are removably positioned through the guide, whereby the assembly can be easily performed. The structure.
【００１５】又、この発明の請求項３においては、第１
又は第２の真空ポンプを中心軌道の外周部に設置した場
合には、その真空ポンプの分割部を介してＳＲ光を確実
に放射する。In the third aspect of the present invention, the first
Alternatively, when the second vacuum pump is installed on the outer peripheral portion of the central orbit, the SR light is surely emitted through the divided portion of the vacuum pump.
【００１６】又、この発明の請求項４においては、ポー
トから放射されないＳＲ光がビームチェンバの内壁に照
射されるのを防止すると共に、ビームアブソーバの冷却
作用により、内壁の温度上昇に起因するガスの発生を防
止する。Further, according to a fourth aspect of the present invention, SR light not emitted from the port is prevented from irradiating the inner wall of the beam chamber, and at the same time, due to the cooling effect of the beam absorber, the gas caused by the temperature rise of the inner wall is increased. To prevent the occurrence of.
【００１７】[0017]
【実施例】実施例１．以下、この発明の実施例１を図に
ついて説明する。図１はこの発明の実施例１を示す水平
断面図、図２は図１内のＸ−Ｘ′線による側断面図であ
り、１〜４は前述と同様のものである。EXAMPLES Example 1. Embodiment 1 of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 is a horizontal sectional view showing a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a side sectional view taken along the line XX 'in FIG. 1, and 1 to 4 are the same as those described above.
【００１８】５は中心軌道２に沿って設置された第２の
真空ポンプとなる非蒸発型ゲッタポンプであり、気体分
子の吸着機能を向上させるための加熱手段(図示せず)が
具備されている。この場合、非蒸発型ゲッタポンプ５
は、例えば７個だけ連結されて中心軌道２の外周部に配
列されている。又、第１の真空ポンプとなるイオンポン
プ４は、例えば６個だけ連結され、中心軌道２を挟んで
非蒸発型ゲッタポンプ５の反対側となるように、中心軌
道２の内周部に配列されている。Reference numeral 5 denotes a non-evaporable getter pump which is a second vacuum pump installed along the central orbit 2, and is provided with a heating means (not shown) for improving the adsorption function of gas molecules. . In this case, the non-evaporable getter pump 5
Are arranged, for example, on the outer periphery of the central track 2 by connecting only seven of them. Further, for example, only six ion pumps 4 serving as a first vacuum pump are connected to each other and arranged on the inner peripheral portion of the central orbit 2 so as to be on the opposite side of the non-evaporable getter pump 5 with the central orbit 2 interposed therebetween. ing.
【００１９】６は非蒸発型ゲッタポンプ５を着脱自在に
位置決めするためのガイド、７は複数の非蒸発型ゲッタ
ポンプ５を連結するための金具(図２参照)、８はイオン
ポンプ４と中心軌道２との間に設けられた第１の分割
板、９は非蒸発型ゲッタポンプ５と中心軌道２との間に
設けられた第２の分割板である。各分割板８及び９は、
電子ビームＡの周回軌道を限定している。又、ガイド６
は、第２の分割板９に沿って複数箇所に設けられてい
る。Reference numeral 6 is a guide for removably positioning the non-evaporable getter pump 5, 7 is a metal fitting (see FIG. 2) for connecting the plurality of non-evaporable getter pumps 5, and 8 is the ion pump 4 and the central track 2. The first dividing plate provided between the non-evaporable getter pump 5 and the central orbit 2 is a second dividing plate provided between the non-evaporable getter pump 5 and the central orbit 2. Each split plate 8 and 9 is
The orbit of the electron beam A is limited. Also, guide 6
Are provided at a plurality of locations along the second dividing plate 9.
【００２０】尚、図２に参照されるように、非蒸発型ゲ
ッタポンプ５及び第２の分割板９は少なくともＳＲ光Ｂ
の通過位置において上下に分割され、ＳＲ光Ｂは、それ
ぞれの分割部を通過して外部に放射されるようになって
いる。ここでは、製造性及び組立性等を考慮して、非蒸
発型ゲッタポンプ５及び第２の分割板９は、全体にわた
って２分割されているものとする。As shown in FIG. 2, the non-evaporable getter pump 5 and the second dividing plate 9 are at least SR light B.
At the passage position of 1, the SR light B is divided into upper and lower parts, and the SR light B is emitted to the outside after passing through the respective dividing parts. Here, it is assumed that the non-evaporable getter pump 5 and the second dividing plate 9 are divided into two parts as a whole in consideration of manufacturability and assembling property.
【００２１】次に、図１及び図２に示したこの発明の実
施例１の動作について説明する。まず、金具７を介して
連結された複数の非蒸発型ゲッタポンプ５は、ビームチ
ェンバ１内に挿入されてガイド６により位置決めされ、
中心軌道２に沿って設置される。このとき、ガイド６が
非蒸発型ゲッタポンプ５を着脱自在に位置決めするの
で、非蒸発型ゲッタポンプ５は、ビームチェンバ１内に
容易に挿入されて組み立てられる。Next, the operation of the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 and 2 will be described. First, the plurality of non-evaporable getter pumps 5 connected through the metal fittings 7 are inserted into the beam chamber 1 and positioned by the guide 6.
It is installed along the central track 2. At this time, since the guide 6 removably positions the non-evaporable getter pump 5, the non-evaporable getter pump 5 is easily inserted into the beam chamber 1 and assembled.
【００２２】ビームチェンバ１に内蔵された非蒸発型ゲ
ッタポンプ５の各セルは、加熱手段により加熱されてそ
の表面が活性化される。従って、非蒸発型ゲッタポンプ
５のセル表面は、気体分子を吸着することによりポンプ
機能を有する。このとき、非蒸発型ゲッタポンプ５によ
り、超高真空領域の残留ガスとして問題になる水素が主
に排気されるが、同時に、非蒸発型ゲッタポンプ５から
メタンガスが放出されるので、このままではビームチェ
ンバ１内の全圧は上昇する。Each cell of the non-evaporable getter pump 5 built in the beam chamber 1 is heated by the heating means to activate its surface. Therefore, the cell surface of the non-evaporable getter pump 5 has a pump function by adsorbing gas molecules. At this time, the non-evaporable getter pump 5 mainly discharges hydrogen, which is a problem as a residual gas in the ultra-high vacuum region, but at the same time, the non-evaporable getter pump 5 releases methane gas. The total pressure inside rises.
【００２３】しかし、非蒸発型ゲッタポンプ５から発生
するメタンガスは、ビームチェンバ１に内蔵されたイオ
ンポンプ４により排気され、これにより、ビームチェン
バ１内の超高真空状態(10-11Ｔorr程度)が達成される。
こうして得られた超高真空状態は、ビームチェンバ１の
運転中においても、非蒸発型ゲッタポンプ５及びイオン
ポンプ４の作用により継続して維持される。However, the methane gas generated from the non-evaporable getter pump 5 is exhausted by the ion pump 4 incorporated in the beam chamber 1, so that the ultrahigh vacuum state (about 10 -11 Torr) in the beam chamber 1 is maintained. To be achieved.
The ultrahigh vacuum state thus obtained is continuously maintained by the action of the non-evaporable getter pump 5 and the ion pump 4 even during the operation of the beam chamber 1.
【００２４】又、図示したように、中心軌道２の内周部
に設置されたイオンポンプ４は、両端部で保持されるの
みによって位置決めされ得るが、中心軌道２の外周部に
設置された非蒸発型ゲッタポンプ５は、第２の分割板９
の複数箇所に設けられたガイド６によって位置決めされ
る。Further, as shown in the drawing, the ion pump 4 installed on the inner peripheral portion of the central orbit 2 can be positioned only by being held at both ends, but it is not installed on the outer peripheral portion of the central orbit 2. The evaporation type getter pump 5 includes the second dividing plate 9
It is positioned by guides 6 provided at a plurality of positions.
【００２５】即ち、金具７を介して連結された複数の非
蒸発型ゲッタポンプ５をビームチェンバ１の側端面の開
口部から挿入した後、金具７の複数箇所をガイド６を介
して着脱自在に保持すればよい。このような組立容易性
を有することにより、ＳＲ装置全体として特にコストア
ップすることもない。That is, after inserting a plurality of non-evaporable getter pumps 5 connected through metal fittings 7 from the opening of the side end surface of the beam chamber 1, a plurality of metal fittings 7 are detachably held via guides 6. do it. With such ease of assembly, the cost of the SR device as a whole does not increase.
【００２６】又、電子ビームＡの偏光によって放射され
るＳＲ光Ｂは、中心軌道２の外周部に設置された非蒸発
型ゲッタポンプ５及び第２の分割板９の各分割部を通過
して外部に導出される。The SR light B emitted by the polarization of the electron beam A passes through the non-evaporable getter pump 5 installed on the outer periphery of the central orbit 2 and the respective divided portions of the second dividing plate 9 to the outside. Be derived to.
【００２７】実施例２．尚、上記実施例１では、複数の
非蒸発型ゲッタポンプ５を７個だけ連結してビームチェ
ンバ１内に挿入したが、１個以上の必要数だけ必要箇所
に設置することができる。Example 2. In the first embodiment, only seven non-evaporable getter pumps 5 are connected to each other and inserted into the beam chamber 1. However, one or more required number of the getter pumps 5 can be installed at necessary places.
【００２８】実施例３．又、中心軌道２の内周部にイオ
ンポンプ４を設置し、外周部に非蒸発型ゲッタポンプ５
を設置したが、中心軌道２に沿った位置であれば、イオ
ンポンプ４及び非蒸発型ゲッタポンプ５は任意の位置に
設置され得る。この場合、中心軌道２の外周部に設置さ
れた真空ポンプのみが、ＳＲ光Ｂを通過させるために分
割されていれば良い。従って、もし第１及び第２の真空
ポンプ４及び５が共に中心軌道２の内周部に設置されて
いれば、いずれも分割する必要はない。Example 3. An ion pump 4 is installed on the inner circumference of the central track 2 and a non-evaporable getter pump 5 is installed on the outer circumference.
However, the ion pump 4 and the non-evaporable getter pump 5 can be installed at arbitrary positions as long as they are located along the central orbit 2. In this case, only the vacuum pump installed on the outer peripheral portion of the central track 2 needs to be divided in order to pass the SR light B. Therefore, if both the first and second vacuum pumps 4 and 5 are installed on the inner peripheral portion of the central track 2, it is not necessary to divide them.
【００２９】実施例４．更に、上記各実施例では、ＳＲ
光Ｂが通過位置(ポート３の位置に対応)以外のビームチ
ェンバ内壁1aに照射されることに対して何ら考慮してい
ないが、内壁1aに対するＳＲ光Ｂの照射を防止すること
が望ましい。なぜなら、内壁1aにＳＲ光Ｂが照射される
と、内壁1aの発熱で発生するガスによりビームチェンバ
１の内圧が上昇し、電子ビームＡの蓄積寿命を十分に延
長することができなくなるおそれがあるからである。Example 4. Furthermore, in each of the above embodiments, the SR
Although no consideration is given to the fact that the light B irradiates the beam chamber inner wall 1a other than the passing position (corresponding to the position of the port 3), it is desirable to prevent the SR light B from irradiating the inner wall 1a. This is because when the inner wall 1a is irradiated with the SR light B, the internal pressure of the beam chamber 1 rises due to the gas generated by the heat generation of the inner wall 1a, and the accumulated life of the electron beam A may not be sufficiently extended. Because.
【００３０】図３はこの発明の実施例４(請求項４に対
応)によるビームチェンバ１を示す側断面図であり、10
はＳＲ光Ｂの正規の通過位置以外の中心軌道２の外周部
に沿って設けられたビームアブソーバである。この場
合、通過位置以外で非蒸発型ゲッタポンプ５の分割部を
通過したＳＲ光Ｂは、ビームアブソーバ10に照射されて
内壁1aには直接照射されない。従って、内壁1aの発熱は
防止され、内壁1aから不所望なガスが発生することはな
い。FIG. 3 is a side sectional view showing a beam chamber 1 according to a fourth embodiment (corresponding to claim 4) of the present invention.
Is a beam absorber provided along the outer periphery of the central orbit 2 other than the normal passing position of the SR light B. In this case, the SR light B that has passed through the divided portion of the non-evaporable getter pump 5 at a position other than the passing position is applied to the beam absorber 10 and is not directly applied to the inner wall 1a. Therefore, heat generation of the inner wall 1a is prevented, and undesired gas is not generated from the inner wall 1a.
【００３１】又、ＳＲ光Ｂの照射によってビームアブソ
ーバ10から放出されるガスは、非蒸発型ゲッタポンプ５
により排気される。更に、ビームアブソーバ10内に冷却
水を供給することにより、ビームチェンバ１の外周部内
壁1aが冷却されるので、外周部内壁1aからのガスの発生
を更に防止することができる。The gas emitted from the beam absorber 10 by the irradiation of the SR light B is the non-evaporable getter pump 5.
Exhausted by. Further, by supplying the cooling water into the beam absorber 10, the outer peripheral inner wall 1a of the beam chamber 1 is cooled, so that the generation of gas from the outer peripheral inner wall 1a can be further prevented.
【００３２】[0032]
【発明の効果】以上のようにこの発明の請求項１によれ
ば、電子ビームの中心軌道に沿って設置された第１の真
空ポンプとなるイオンポンプと、電子ビームの偏向に基
づくＳＲ光を放射するために中心軌道の外周部に設けら
れたポートと、中心軌道に沿って第２の真空ポンプとな
る非蒸発型ゲッタポンプとを設け、超高真空領域で問題
となる残留ガスを非蒸発型ゲッタポンプにより排気し、
非蒸発型ゲッタポンプからの放出ガス及びその他のガス
をイオンポンプにより排気するようにしたので、10-11
Ｔorr程度の超高真空領域まで短時間で到達することが
でき、電子ビームの蓄積寿命を延長することのできるＳ
Ｒ装置用ビームチェンバが得られる効果がある。As described above, according to the first aspect of the present invention, the ion pump serving as the first vacuum pump installed along the central orbit of the electron beam and the SR light based on the deflection of the electron beam are provided. A port provided on the outer periphery of the central orbit for emitting radiation and a non-evaporable getter pump that serves as a second vacuum pump along the central orbit are provided to non-evaporate residual gas that is a problem in the ultra-high vacuum region. Exhaust with a getter pump,
Since the released gas and other gases from the non-evaporable getter pump was set to be evacuated by the ion pump, 10 -11
It is possible to reach the ultra-high vacuum region of about Torr in a short time and to extend the electron beam storage life.
There is an effect that the beam chamber for the R device can be obtained.
【００３３】又、この発明の請求項２によれば、中心軌
道に沿って設置されたガイドを更に設け、非蒸発型ゲッ
タポンプを複数個連結すると共に、ガイドに対して着脱
自在に位置決めしたので、電子ビームの蓄積寿命を延長
すると共に、複数の非蒸発型ゲッタポンプをビームチェ
ンバの側端面から挿入して容易に組み立て可能なＳＲ装
置用ビームチェンバが得られる効果がある。Further, according to the second aspect of the present invention, a guide installed along the central track is further provided, a plurality of non-evaporable getter pumps are connected, and the guide is detachably positioned with respect to the guide. There is an effect that the storage life of the electron beam is extended, and a beam chamber for an SR device that can be easily assembled by inserting a plurality of non-evaporable getter pumps from the side end surface of the beam chamber is obtained.
【００３４】又、この発明の請求項３によれば、第１又
は第２の真空ポンプの少なくとも一方を、中心軌道の外
周部に沿って設置すると共にＳＲ光の通過位置において
上下に分割し、分割部を介してＳＲ光を放射するように
したので、電子ビームの蓄積寿命を延長すると共に、Ｓ
Ｒ光を確実に放射することのできるＳＲ装置用ビームチ
ェンバが得られる効果がある。Further, according to claim 3 of the present invention, at least one of the first and second vacuum pumps is installed along the outer periphery of the central orbit and divided vertically at the SR light passage position, Since SR light is radiated through the dividing portion, the accumulation life of the electron beam is extended and S
There is an effect that a beam chamber for an SR device that can reliably emit R light can be obtained.
【００３５】又、この発明の請求項４によれば、ＳＲ光
の通過位置以外の中心軌道の外周部に沿ってビームアブ
ソーバを更に設け、ポートから放射されないＳＲ光がビ
ームチェンバの内壁に照射されるのを防止すると共に、
ビームアブソーバの冷却作用により内壁の温度上昇に起
因するガスの発生を防止するようにしたので、超高真空
状態を確実に維持することができ、更に電子ビームの蓄
積寿命を延長することのできるＳＲ装置用ビームチェン
バが得られる効果がある。According to the fourth aspect of the present invention, a beam absorber is further provided along the outer periphery of the central orbit other than the SR light passage position, and the SR light not emitted from the port is applied to the inner wall of the beam chamber. And prevent
Since the generation of gas due to the temperature rise of the inner wall is prevented by the cooling action of the beam absorber, it is possible to reliably maintain the ultra-high vacuum state and further extend the storage life of the electron beam. The beam chamber for the apparatus can be obtained.
【図１】この発明の実施例１を示す水平断面図である。FIG. 1 is a horizontal sectional view showing a first embodiment of the present invention.
【図２】図１内のＸ−Ｘ′線による側断面図である。FIG. 2 is a side sectional view taken along line XX ′ in FIG.
【図３】この発明の実施例４を示す側断面図である。FIG. 3 is a side sectional view showing Embodiment 4 of the present invention.
【図４】従来のＳＲ装置用ビームチェンバを示す水平断
面図である。FIG. 4 is a horizontal cross-sectional view showing a conventional beam chamber for an SR device.
１ ビームチェンバ ２ 中心軌道 ３ ポート ４ イオンポンプ ５ 非蒸発型ゲッタポンプ ６ ガイド １０ ビームアブソーバ Ａ 電子ビーム Ｂ ＳＲ光 1 beam chamber 2 central orbit 3 port 4 ion pump 5 non-evaporable getter pump 6 guide 10 beam absorber A electron beam B SR light
Claims (4)
するためのＳＲ装置用ビームチェンバであって、前記中
心軌道に沿って設置された第１の真空ポンプとなるイオ
ンポンプと、前記電子ビームの偏向に基づくＳＲ光を放
射するために前記中心軌道の外周部に設けられたポート
とを有するＳＲ装置用ビームチェンバにおいて、 前記中心軌道に沿って第２の真空ポンプとなる非蒸発型
ゲッタポンプを設置したことを特徴とするＳＲ装置用ビ
ームチェンバ。1. A beam chamber for an SR device for accumulating and accelerating an electron beam on a central orbit, the ion pump serving as a first vacuum pump installed along the central orbit, and the electron. A beam chamber for an SR device having a port provided on an outer peripheral portion of the central orbit for radiating SR light based on beam deflection, comprising: a non-evaporable getter pump serving as a second vacuum pump along the central orbit. A beam chamber for SR equipment, characterized in that
を更に有し、前記非蒸発型ゲッタポンプは、複数個連結
されると共に、前記ガイドに対して着脱自在に位置決め
されたことを特徴とする請求項１のＳＲ装置用ビームチ
ェンバ。2. The apparatus further comprises a guide installed along the central orbit, wherein a plurality of the non-evaporable getter pumps are connected to each other and positioned so as to be detachable from the guide. A beam chamber for an SR device according to claim 1.
とも一方は、前記中心軌道の外周部に沿って設置され、
少なくとも前記ＳＲ光の通過位置において上下に分割さ
れたことを特徴とする請求項１又は請求項２のＳＲ装置
用ビームチェンバ。3. At least one of the first or second vacuum pump is installed along an outer peripheral portion of the central orbit,
3. The beam chamber for an SR device according to claim 1, wherein the beam chamber is vertically divided at least at a passing position of the SR light.
道の外周部に沿ってビームアブソーバを更に設けたこと
を特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかのＳＲ装
置用ビームチェンバ。4. The beam chamber for an SR device according to claim 1, further comprising a beam absorber provided along an outer peripheral portion of the central orbit other than the SR light passage position.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4283186A JPH06140193A (en) | 1992-10-21 | 1992-10-21 | Beam chamber for sr device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4283186A JPH06140193A (en) | 1992-10-21 | 1992-10-21 | Beam chamber for sr device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06140193A true JPH06140193A (en) | 1994-05-20 |
Family
ID=17662252
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4283186A Pending JPH06140193A (en) | 1992-10-21 | 1992-10-21 | Beam chamber for sr device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06140193A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8342813B2 (en) | 2008-03-28 | 2013-01-01 | Saes Getters S.P.A. | Combined pumping system comprising a getter pump and an ion pump |
| GB2578293A (en) * | 2018-10-18 | 2020-05-06 | Edwards Ltd | A set of pumps, and a method and system for evacuating a vacuum chamber in a radioactive environment |
-
1992
- 1992-10-21 JP JP4283186A patent/JPH06140193A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8342813B2 (en) | 2008-03-28 | 2013-01-01 | Saes Getters S.P.A. | Combined pumping system comprising a getter pump and an ion pump |
| GB2578293A (en) * | 2018-10-18 | 2020-05-06 | Edwards Ltd | A set of pumps, and a method and system for evacuating a vacuum chamber in a radioactive environment |
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