JPH06136298A - Low temperature-baking paste for outer conductor of multi layer circuit board having copper inner conductor - Google Patents

Low temperature-baking paste for outer conductor of multi layer circuit board having copper inner conductor

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JPH06136298A
JPH06136298A JP4287557A JP28755792A JPH06136298A JP H06136298 A JPH06136298 A JP H06136298A JP 4287557 A JP4287557 A JP 4287557A JP 28755792 A JP28755792 A JP 28755792A JP H06136298 A JPH06136298 A JP H06136298A
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JP
Japan
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silver
copper
paste
conductor
powder
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP4287557A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akinori Yokoyama
明典 横山
Yoshio Hayashi
善夫 林
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide a low temperature-baking paste comprising copper-silver alloy powder containing the copper and the silver in a specific composition, high in the concentrations of the silver on the surfaces of the particles, and comprising a specific particle diameter, glass frit and an organic vehicle, and having excellent migration resistance, adhesive force and oxidation resistance. CONSTITUTION:100 pts.wt. of copper alloy powder represented by formula: AgxCu1-x(0.01<=x<=0.4, atomic ratio), and having an average particle diameter of 0.1-20mum wherein the concentration of the silver on the surfaces of the particles is >=2.1 times than the average concentration of the silver and wherein the concentration of the silver increases toward the surfaces of the particles, and containing the >=20mum diameter powder in an amount of >=90%, 0.1-20 pts.wt. of glass frit having an average particle diameter of 0.1-10mum and containing the <=10mum diameter particles in an amount of >=90%, and an organic vehicle comprising a solution containing ethyl cellulose, an acrylic resin, etc., are compound with each other and kneaded to provide the objective paste excellent in migration resistance, adhesion, and oxidation resistance, and giving multilayer circuit boards having excellent electric joints to inner conductors and capable of being highly densified.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明の低温焼成多層回路基板用
外部導体用ペーストは、高密度、信号の高速伝送に優れ
た特性を発揮する低温焼成多層回路基板の外部導体とし
て使用できる。また、ハイブリッドIC回路として利用
できる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The paste for an outer conductor for a low temperature fired multilayer circuit board of the present invention can be used as an outer conductor for a low temperature fired multilayer circuit board exhibiting excellent characteristics in high density and high speed signal transmission. It can also be used as a hybrid IC circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子材料分野で高集積化、高密度
化が進む中で、ハイブリッドIC基板としても多層化技
術が進められている。中でも、低温焼成グリーンシート
多層による多層化が進められている。多層化の方法とし
て、予めビアホールあるいはスルーホール用の穴をドリ
ルあるいはパンチングで作製されたグリーンシート(焼
成前の基板)に導体として銀、銀−パラジウム、銀−白
金、金などの貴金属粉末を用いたペースト、また、銅、
ペーストさらに必要に応じて誘電体、抵抗ペーストを印
刷し、印刷されたグリーンシートを多層化し、酸素含有
雰囲気中あるいは不活性雰囲気中で550〜1060℃
低温で同時焼成して多層回路基板として用いられてい
る。こうして多層回路基板の外部導体が形成された後、
必要に応じて、クロスオーバーガラス、オーバーガラ
ス、外部抵抗体などを印刷焼成を繰り返し行い、低温焼
成多層回路基板としての回路を形成していく方法が公知
である。
2. Description of the Related Art In recent years, in the field of electronic materials, with increasing integration and densification, multi-layer technology for hybrid IC substrates has been advanced. Among them, low-temperature firing green sheet multi-layering is being promoted. As a multi-layer method, a noble metal powder such as silver, silver-palladium, silver-platinum, or gold is used as a conductor on a green sheet (substrate before firing) that is prepared by drilling or punching holes for via holes or through holes in advance. Paste, also copper,
Paste Further, if necessary, a dielectric and a resistance paste are printed, the printed green sheet is multilayered, and the temperature is 550 to 1060 ° C. in an oxygen-containing atmosphere or an inert atmosphere.
It is used as a multi-layer circuit board by co-firing at low temperature. After the outer conductor of the multilayer circuit board is formed in this way,
A method is known in which, if necessary, printing and firing of a crossover glass, an overglass, an external resistor and the like is repeated to form a circuit as a low temperature firing multilayer circuit board.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】これまでに、低温焼成
多層回路基板の外部導体として用いられている、銀、銀
パラジウム、銀−白金、金、銅には以下の問題点があ
る。すなわち、銀の場合、内部導体として用いる場合に
は、積層されているため、内部導体間でのマイグレーシ
ョン性はそれほど問題にならないが、外部導体が銀であ
る場合には、多層回路基板のような高密度パターン間で
の外部導体間での銀マイグレーションが問題になる。
The silver, silver-palladium, silver-platinum, gold, and copper used as the outer conductor of a low-temperature fired multilayer circuit board have the following problems. That is, in the case of silver, when it is used as an internal conductor, since it is laminated, the migration property between the internal conductors does not matter so much. Silver migration between outer conductors between high density patterns becomes a problem.

【0004】銀−バラジウムの場合には、インピーダン
スが高すぎて実用回路に適さない。銀−白金の外部導体
では、信頼性、ファインライン回路のはんだ付け時のは
んだ食われは良いが、マイグレーション性に問題があ
る。金では、コストがかかりすぎてしまうことのみなら
ずはんだ食われが起こり易い。銅が外部導体として用い
られる場合には、ファインラインでのインピーダンスも
低く、電気的特性も優れるが、不活性雰囲気中で焼成し
て作製されるため、グリーンシート及び内部導体ペース
ト、外部導体ペーストの有機ビヒクルを完全に焼き飛ば
し、銅導体の酸化防止のため添加酸素量をかなり厳しく
コントロールしなければならなかった。このため、酸素
10ppm前後の窒素雰囲気中での焼成が一般に用いら
れてきている。しかし、有機ビヒクルの焼き飛び残、は
んだ付け不良の問題も多く発生しているのが現状であ
る。たとえば、酸素ドープ量を増加したりすると、焼成
雰囲気の影響を最も受け易い外部導体が銅の場合、内部
導体(ビアホール導体、スルーホール導体を通じて)と
の接合において、銅粉末の焼成時の微量でも酸化が起こ
ると内部導体(ビアホールあるいはスルーホール導体を
通して)との合金化が不十分になり易く接合面での電気
的不良、はんだ付け不良をおこし易い。また、酸素ドー
プ量を減少すると、有機ビヒクルの焼き飛び残が生じ、
内部導体との接合不良を起こすなどの問題がある。
In the case of silver-varadium, the impedance is too high to be suitable for practical circuits. The silver-platinum outer conductor has good reliability and good solder erosion during soldering of a fine line circuit, but has a problem in migration property. Gold is not only too costly, but also easily erodes solder. When copper is used as the outer conductor, the impedance in the fine line is low and the electrical characteristics are excellent, but since it is produced by firing in an inert atmosphere, the green sheet and the inner conductor paste, the outer conductor paste The organic vehicle had to be completely burned out and the amount of oxygen added had to be controlled quite strictly to prevent oxidation of the copper conductor. For this reason, firing in a nitrogen atmosphere containing about 10 ppm of oxygen has been generally used. However, there are many problems such as unburned residue of the organic vehicle and defective soldering. For example, if the amount of oxygen doping is increased, and the outer conductor most susceptible to the firing atmosphere is copper, even a small amount of copper powder during firing is bonded to the inner conductor (via the via-hole conductor and the through-hole conductor). When oxidation occurs, alloying with an internal conductor (via a via hole or a through hole conductor) is likely to be insufficient, and electrical defects and soldering defects on the joint surface are likely to occur. In addition, when the oxygen doping amount is reduced, the residue of the organic vehicle is left unburned,
There is a problem such as a defective joint with the internal conductor.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は一般式Agx
1-x (ただし、0.01≦x≦0.4、原子比)で表
され、且つ粒子表面の銀濃度が平均の銀濃度の2.1倍
より高く、粒子表面に向かって銀濃度が増加する領域を
有する平均粒子径が0.1〜20μmであり、且つ20
μm以下の粉末が90%以上である銅合金粉末100重
量部に対して、平均粒子径0.1〜10μmで且つ10
μm以下の粉末が90%以上であるガラスフリット0.
1〜20重量部、及び有機ビヒクルを含有することを特
徴とする、内部導体が銅あるいは銅−銀合金からなる低
温焼成多層回路基板の外部導体用ペースト、および該組
成のペーストを焼結してなる表面の銀濃度が平均の銀濃
度の2倍以上であることを特徴とする一般式Agx Cu
1-x (ただし、0.01≦x≦0.4、原子比)で表さ
れる外部導体からなる低温焼成多層回路基板に関するも
のである。
The present invention is directed to the general formula Ag x C
u 1-x (where 0.01 ≦ x ≦ 0.4, atomic ratio), and the silver concentration on the grain surface is higher than 2.1 times the average silver concentration, and the silver concentration increases toward the grain surface. The average particle size having a region in which is increased is 0.1 to 20 μm, and 20
The average particle size is 0.1 to 10 μm and 10 with respect to 100 parts by weight of the copper alloy powder having 90% or more of the powder having a size of μm or less.
Glass frit in which 90% or more of powder having a size of μm or less is used.
1 to 20 parts by weight and an organic vehicle are contained, and the paste for the outer conductor of the low temperature fired multilayer circuit board whose inner conductor is made of copper or copper-silver alloy, and the paste of the composition are sintered. The general formula Ag x Cu is characterized in that the silver concentration on the surface is 2 times or more of the average silver concentration.
The present invention relates to a low-temperature fired multilayer circuit board including an outer conductor represented by 1-x (where 0.01≤x≤0.4, atomic ratio).

【0006】本発明で使用することのできる銅合金粉末
の作製法はすでに本発明者により出願されているアトマ
イズ法が好ましい(USP5091114号)。開示内
容によれば、不活性ガス雰囲気中で、千数百度の高温度
でかかる組成の銅、銀を融解し、高速の不活性ガスを用
いて融液をアトマイズし、急冷凝固して微粉末を作製す
る方法である。
As a method for producing the copper alloy powder that can be used in the present invention, the atomizing method already applied for by the present inventor is preferable (USP 5091114). According to the disclosure, in an inert gas atmosphere, copper and silver having such a composition at a high temperature of several thousand and several hundred degrees are melted, the melt is atomized using a high-speed inert gas, and rapidly solidified to obtain a fine powder. Is a method of manufacturing.

【0007】銀量xが0.01未満では外部導体として
焼成時、十分な耐酸化性が乏しく、銅あるいは銅−銀合
金からなる内部導体との接合が十分とれない。0.4を
超える場合には、外部導体間での銀のマイグレーション
が起こり易くなる。好ましくは、0.01〜0.35で
あり、さらに、0.01〜0.25が好ましい。また、
本発明で使用することのできる銅合金粉末の表面の銀濃
度は平均の銀濃度より高く、粒子表面に向かって銀濃度
が増加する領域を有しているが、表面の銀濃度は平均の
銀濃度の2.1倍以上のものである。2.1倍未満の場
合には導体の焼成時の耐酸化性が不十分のみならず、内
部導体との接合が十分でない。好ましくは、2.1倍以
上40倍以下である。さらに、3倍以上30倍以下が好
ましい。
When the amount x of silver is less than 0.01, sufficient oxidation resistance is not obtained during firing as an outer conductor, and sufficient bonding with the inner conductor made of copper or copper-silver alloy cannot be obtained. If it exceeds 0.4, migration of silver between the outer conductors is likely to occur. It is preferably 0.01 to 0.35, and more preferably 0.01 to 0.25. Also,
The silver concentration on the surface of the copper alloy powder that can be used in the present invention is higher than the average silver concentration, and there is a region where the silver concentration increases toward the grain surface, but the silver concentration on the surface is the average silver concentration. It is more than 2.1 times the concentration. If it is less than 2.1 times, not only the oxidation resistance of the conductor during firing is insufficient, but also the bonding with the internal conductor is insufficient. It is preferably 2.1 times or more and 40 times or less. Further, it is preferably 3 times or more and 30 times or less.

【0008】本発明の外部導体用ペーストは内部導体と
の焼成時の合金接合によって充分な電気的導通を得るも
のである。すなわち、本発明で用いる銅合金粉末は銅が
主成分であり、且つ表面に銀濃度が高いため、銅、ある
いは銅−銀合金内部導体(ビアホールあるいはスルーホ
ール導体)とかかる組成の外部導体ペーストが焼成時に
容易に合金化しやすいことが利点の一つである。また、
最も外部導体が焼成雰囲気の影響を受け易いことから
も、焼成時の耐酸化性が高く、充分な電気的接合が得ら
れることももう一つの利点である。さらに、焼結後の外
部導体としても、平均の銀濃度が低く導体間でのマイグ
レーションの問題もないことも利点の一つである。
The external conductor paste of the present invention obtains sufficient electrical conduction by alloying with the internal conductor during firing. That is, since the copper alloy powder used in the present invention contains copper as a main component and has a high silver concentration on the surface, copper or a copper-silver alloy inner conductor (via hole or through hole conductor) and an outer conductor paste having such a composition are used. One of the advantages is that they are easily alloyed during firing. Also,
Since the outer conductor is most likely to be affected by the firing atmosphere, the oxidation resistance during firing is high, and sufficient electrical connection can be obtained, which is another advantage. Further, as an outer conductor after sintering, one of the advantages is that the average silver concentration is low and there is no problem of migration between conductors.

【0009】本発明で用いる銅合金粉末は、平均粒子径
が0.1〜20μmであるが、0.1μm未満であると
粒子の含有する酸素量が高く焼成時の導通不良を起こし
易い。20μmを超える場合には、焼結性が不十分で、
そのためビアホールあるいはスルーホールを通しての内
部導体との電気的接合が不十分になり易い。好ましく
は、0.1〜10μmの平均粒子径である。そのため、
20μm以下の粒子の存在割合が90%以上でないと焼
結の接点も不十分になる。好ましくは、95%以上であ
る。
The copper alloy powder used in the present invention has an average particle size of 0.1 to 20 μm. If the average particle size is less than 0.1 μm, the amount of oxygen contained in the particles is high and a conduction failure during firing is likely to occur. If it exceeds 20 μm, the sinterability is insufficient,
Therefore, electrical connection with the internal conductor through the via hole or the through hole tends to be insufficient. The average particle size is preferably 0.1 to 10 μm. for that reason,
If the existence ratio of particles of 20 μm or less is not 90% or more, the contact point of sintering becomes insufficient. It is preferably at least 95%.

【0010】本発明で用いられる平均粒子径とは、体積
積算平均粒子径を表す。測定は、レーザー回折型平均粒
子径測定装置(島津製SALD1100)を用いて、溶
媒をエチレングリコール中に銅合金粒子を完全に分散さ
せて測定した。また、20μm以上の粉末の存在も同様
にしてレーザー回折型平均粒子径測定装置を用いて粒径
分布より求めた。
The average particle diameter used in the present invention means a volume cumulative average particle diameter. The measurement was performed by using a laser diffraction type average particle size measuring device (SALD1100 manufactured by Shimadzu) by completely dispersing the copper alloy particles in ethylene glycol as a solvent. The presence of powder having a particle size of 20 μm or more was similarly determined from the particle size distribution using a laser diffraction type average particle size measuring device.

【0011】また、本発明の低温焼成多層回路基板外部
導体用ペーストは、ガラスフリットを銅合金粉末100
重量部に対して0.1〜20重量部含有しているが、ガ
ラスフリットの役目としては、多層回路基板との強固な
接着力を与えるものである。ガラスフリットの平均粒子
径は0.1〜10μmである。測定は銅合金粉末と同様
にして、レーザー回折型粒子径分布測定装置(島津製S
ALD1100)を用いて体積積算により行った。平均
粒子径が0.1μm未満であるとペースト中の分散が困
難であり、10μmを超える場合には焼結不足を起こし
たり、印刷適性が悪く、沈降分離しやすい。好ましく
は、平均粒子径が0.2〜8μmである。また、10μ
m以下の割合が90%以上であるものが使用できる。9
0%未満であると、内部導体との合金化の阻害をしてし
まう。好ましくは、99%以上である。
The low temperature fired multilayer circuit board outer conductor paste of the present invention comprises glass frit and copper alloy powder 100.
It is contained in an amount of 0.1 to 20 parts by weight with respect to parts by weight, but the role of the glass frit is to give a strong adhesive force to the multilayer circuit board. The average particle size of the glass frit is 0.1 to 10 μm. The measurement was carried out in the same manner as the copper alloy powder, and a laser diffraction particle size distribution measuring device (S
ALD1100) was used for volume integration. When the average particle size is less than 0.1 μm, it is difficult to disperse in the paste, and when it exceeds 10 μm, insufficient sintering occurs, printability is poor, and sedimentation easily occurs. Preferably, the average particle size is 0.2 to 8 μm. Also 10μ
Those having a ratio of m or less of 90% or more can be used. 9
If it is less than 0%, alloying with the internal conductor is hindered. It is preferably 99% or more.

【0012】また、ガラスフリットが0.1重量部未満
の場合には、充分な接着力がなく、20重量部を超える
場合には、銅合金粉末の焼結が不十分になる。好ましく
は、0.2〜15重量部である。ガラスフリットの成分
としては、PbO,SiO2 ,B2 3 、ZnO、Al
2 3 Oから選ばれた1種以上を主成分にするものであ
り、使用されるガラスフリットとしては、たとえば、P
bO−SiO2 −B2 3 ,PbO−SiO2 −Zn
O,PbO−SiO2 −Bn2 3 −ZnO,PbO−
SiO2 −CaO,PbO−SiO2 −BaO,PbO
−SiO2 −MgO,PbO−SiO2 −MnO,Pb
O−B2 3 ,PbO−B2 3 −ZnO,PbO−B
2 3 −CaO−ZnO,PbO−B2 3 −SiO2
−CaO,PbO−B2 3 −SiO 2 −MgO,Pb
O−SiO2 −Al2 3 ,PbO−SiO2 −B2
3 −Al2 3 ,PbO−B2 3 −Al2 3 ,Pb
O−SiO2 −Al2 3 −CaO,PbO−SiO2
−Al2 3 −MgO,PbO−B2 3 −Al2 3
−CaO,SiO2 −B2 3 系などの非晶性、あるい
は結晶性ガラスフリットを使用するのが好ましい。なか
でも、PbO成分を含むガラスフリットが好ましい。ガ
ラスフリットの役割としては、低温焼成多層回路基板と
かかる組成の外部導体との接着性を高めるためのもので
あり、焼成時、多層回路基板と結合するものが好まし
く、ガラスフリットの軟化点としては、650℃以下3
00℃以上のものが好ましく、さらに、550℃以下3
50℃以上のものが好ましい。また熱膨張係数差が多層
基板と80%未満であることが好ましい。
Further, the glass frit is less than 0.1 part by weight.
In the case of, there is not sufficient adhesive strength and it exceeds 20 parts by weight.
In this case, the sintering of the copper alloy powder will be insufficient. Preferably
Is 0.2 to 15 parts by weight. Glass frit ingredients
As PbO, SiO2, B2O3, ZnO, Al
2O3The main component is at least one selected from O
As the glass frit used, for example, P
bO-SiO2-B2O3, PbO-SiO2-Zn
O, PbO-SiO2-Bn2O3-ZnO, PbO-
SiO2-CaO, PbO-SiO2-BaO, PbO
-SiO2-MgO, PbO-SiO2-MnO, Pb
OB2O3, PbO-B2O3-ZnO, PbO-B
2O3-CaO-ZnO, PbO-B2O3-SiO2
-CaO, PbO-B2O3-SiO 2-MgO, Pb
O-SiO2-Al2O3, PbO-SiO2-B2O
3-Al2O3, PbO-B2O3-Al2O3, Pb
O-SiO2-Al2O3-CaO, PbO-SiO2
-Al2O3-MgO, PbO-B2O3-Al2O3
-CaO, SiO2-B2O3Amorphous system, or
It is preferred to use a crystalline glass frit. Inside
However, a glass frit containing a PbO component is preferable. Moth
The role of the lath frit is as a low temperature firing multilayer circuit board
To improve the adhesion with the outer conductor of such composition
Yes, it is preferable to combine with a multilayer circuit board when firing
The softening point of the glass frit is 650 ° C or lower 3
A temperature of 00 ° C or higher is preferable, and 550 ° C or lower 3
It is preferably 50 ° C. or higher. In addition, the difference in the coefficient of thermal expansion is
It is preferably less than 80% with the substrate.

【0013】本発明の低温焼成多層回路基板外部導体用
ペーストには、接着強度を高めるため、及びガラスフリ
ットとの濡れ性を高めるため、酸化第一銅粉末を添加す
るのが良い。酸化第一銅粉末の平均粒子径は、0.1〜
10μmのものを使用するのが良い。0.1μm未満の
場合には、ペースト中での分散性が悪い。10μmを超
える場合には、銅合金粉末の焼結を阻害する。好ましく
は、0.1〜7μmである。また、酸化第一銅粉末は1
0μm以下の粉末の割合が90%以上であることが良
い。90%未満であると、スクリーン印刷性のみなら
ず、銅合金粉末の焼結を阻害してしまうものである。好
ましくは、95%以上である。また、酸化第一銅の添加
量としては、銅合金粉末100重量部に対して0.1〜
15重量部添加して用いることができる。0.1未満の
場合には充分な接着強度が得られず、15重量部を超え
る場合には、銅合金粉末の焼結を阻害する。好ましく
は、0.1〜10重量部、さらに0.1〜7重量部がよ
り好ましい。酸化第一銅粉末の場合にも、平均粒子径及
び粒子径分布の測定は、銅合金粉末の測定法と同様にし
て体積積算により行った。10μm以下の割合は体積積
算粒子径分布より求めた。
To the low temperature fired multilayer circuit board outer conductor paste of the present invention, it is preferable to add cuprous oxide powder in order to increase the adhesive strength and wettability with the glass frit. The average particle size of the cuprous oxide powder is 0.1 to
It is better to use the one with 10 μm. If it is less than 0.1 μm, the dispersibility in the paste is poor. If it exceeds 10 μm, the sintering of the copper alloy powder is hindered. It is preferably 0.1 to 7 μm. The cuprous oxide powder is 1
It is preferable that the proportion of powder of 0 μm or less is 90% or more. If it is less than 90%, not only the screen printability but also the sintering of the copper alloy powder is hindered. It is preferably at least 95%. The amount of cuprous oxide added is 0.1 to 100 parts by weight of the copper alloy powder.
15 parts by weight can be added and used. When it is less than 0.1, sufficient adhesive strength cannot be obtained, and when it exceeds 15 parts by weight, sintering of the copper alloy powder is hindered. It is preferably 0.1 to 10 parts by weight, more preferably 0.1 to 7 parts by weight. Also in the case of cuprous oxide powder, the average particle size and particle size distribution were measured by volume integration in the same manner as in the measurement method of copper alloy powder. The ratio of 10 μm or less was obtained from the volume cumulative particle size distribution.

【0014】そのほか、さらに、低温焼成多層回路基板
との接着性、ほんだ濡れ性を高めるために、酸化第二
銅、酸化ビスマス、酸化鉛、酸化マグネシウム、酸化亜
鉛、酸化ほう素、シリカ、酸化カドミウムなどの微粉末
(好ましくは、平均粒子径0.1〜10μm)を銅合金
粉末100重量部に対して、0.01〜10重量部添加
することもできる。
In addition, cupric oxide, bismuth oxide, lead oxide, magnesium oxide, zinc oxide, boron oxide, silica, cadmium oxide, in order to further improve the adhesiveness to the low temperature firing multilayer circuit board and the wettability. It is also possible to add 0.01 to 10 parts by weight of fine powder (preferably, an average particle diameter of 0.1 to 10 μm) to 100 parts by weight of the copper alloy powder.

【0015】本発明の低温焼成多層回路基板外部導体用
ペーストは有機ビヒクルを含んでいるが、有機ビヒクル
としては、特に、特定はなく公知の有機ビヒクルを用い
ることができる。有機ビヒクルの役割としては、ペース
トに適度な粘度、チキソ性を与える物であり、たとえ
ば、エチルセルロース、メチルセルロース、アクリル樹
脂、ブチラール樹脂などの公知の有機バインダーであ
り、溶剤を用いて粘度、保存在を与える物である。溶剤
も公知の溶剤を用いることができる。
The low-temperature fired multilayer circuit board outer conductor paste of the present invention contains an organic vehicle. The organic vehicle may be any known organic vehicle without any particular limitation. The role of the organic vehicle is to provide the paste with an appropriate viscosity and thixotropy, for example, a known organic binder such as ethyl cellulose, methyl cellulose, acrylic resin, butyral resin, etc. It is something to give. As the solvent, a known solvent can be used.

【0016】また、必要に応じて、カップリング剤(チ
タンカップリング剤、シランカップリング剤)、水添ヒ
マシ油、コロイダルシリカ、酸化ポリエチレンなどのチ
キソ剤や、高級脂肪酸(たとえば、ステアリン酸、リノ
レン酸、リノール酸、パルミチン酸など)及びそれらの
銅塩を添加することもできる。有機ビヒクルの使用量と
しては、銅合金粉末100重量部に対して、1〜200
重量部が好ましい。さらに、2〜150重量部がより好
ましい。また、前記添加剤は、銅合金粉末100重量部
に対して、0.001〜30重量部が好ましい。
If necessary, coupling agents (titanium coupling agents, silane coupling agents), hydrogenated castor oil, colloidal silica, thixotropic agents such as polyethylene oxide, and higher fatty acids (eg stearic acid, linolenic acid). Acid, linoleic acid, palmitic acid, etc.) and their copper salts can also be added. The amount of the organic vehicle used is 1 to 200 with respect to 100 parts by weight of the copper alloy powder.
Parts by weight are preferred. Furthermore, 2-150 weight part is more preferable. Further, the additive is preferably 0.001 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the copper alloy powder.

【0017】本発明の外部導体用ペーストを印刷して、
焼成する場合、不活性雰囲気中で焼成するのが好ましい
が、不活性雰囲気としては、窒素、アルゴン、水素、ヘ
リウム雰囲気中が好ましい。特に、経済的な面から窒素
雰囲気中が好ましい。これら、不活性雰囲気中で焼成す
る場合、350〜1050℃程度の低温度で焼成し、結
晶体を形成するのが好ましい。この時、有機ビヒクルを
充分に焼き飛ばすために300〜600℃まで酸素をド
ープするのがさらに好ましい。たとえば、1〜1000
ppmドープするのが好ましい。焼成炉は、抵抗加熱炉
が、近赤外線炉など公知の焼成炉を用いることもできる
が、ベルトコンベア式の炉が好ましい。焼成時間として
は、特に指定はないが、最高焼成温度で3分から120
分が好ましい。
By printing the external conductor paste of the present invention,
When firing, it is preferable to fire in an inert atmosphere, but as the inert atmosphere, nitrogen, argon, hydrogen, or helium atmosphere is preferable. In particular, the nitrogen atmosphere is preferable from the economical viewpoint. When firing in an inert atmosphere, it is preferable to fire at a low temperature of about 350 to 1050 ° C. to form a crystal body. At this time, it is more preferable to dope oxygen to 300 to 600 ° C. in order to burn out the organic vehicle sufficiently. For example, 1-1000
It is preferably doped with ppm. As the firing furnace, a resistance heating furnace or a known firing furnace such as a near infrared furnace may be used, but a belt conveyor type furnace is preferable. The firing time is not particularly specified, but is 3 minutes to 120 at the maximum firing temperature.
Minutes are preferred.

【0018】前記温度で焼成し、焼結体として形成した
本発明の外部導体において、導体表面の銀濃度は平均の
銀濃度より高いものが特に好ましい。外部導体表面の銀
濃度は平均の銀濃度の2倍以上が好ましく、さらに、3
倍以上50倍以下が好ましい。2未満の場合にははんだ
付け性が悪くなる。すなわち、焼結のための温度である
ため、粒子の融解より粒子どうしの接点からシンタリン
グが始まる。この時、得られる外部導体の表面もやはり
銀濃度の高い導体表面を有する。しかし、焼成温度が1
100℃を超えたりすると、外部導体が溶融し、流動化
が起こり導体の形状がくずれるばかりでなく銀濃度の平
均化が起こる。また、酸素ドープ量が過剰に入りすぎた
りすると導体表面の銅濃度がかえって増加したりする。
In the outer conductor of the present invention formed as a sintered body by firing at the above temperature, it is particularly preferable that the silver concentration on the conductor surface is higher than the average silver concentration. The silver concentration on the surface of the outer conductor is preferably at least twice the average silver concentration, and further 3
It is preferably not less than twice and not more than 50 times. When it is less than 2, the solderability becomes poor. That is, since the temperature is for sintering, the sintering starts from the contact point between the particles rather than the melting of the particles. At this time, the surface of the obtained outer conductor also has a conductor surface having a high silver concentration. However, the firing temperature is 1
If the temperature exceeds 100 ° C., the outer conductor is melted and fluidized so that the shape of the conductor is broken and the silver concentration is averaged. Further, if the oxygen doping amount enters excessively, the copper concentration on the conductor surface will rather increase.

【0019】本発明の低温焼成多層回路基板外部導体は
表面の銀濃度が高いため、ランタンボライド系、ルテニ
ウム系外部抵抗体、ガラスペースト、絶縁ペーストをさ
らに、外部導体上にコートし、加熱処理する場合にも耐
酸化性を有し、電気的、半田濡れ性の劣化が少ないなど
の利点がある。本発明で使用できる低温焼成多層基板用
グリーンシート(積層して焼成する前の段階)として
は、公知の材料を用いることができるが、特に、アルミ
ナ(Al 2 3 )、フォルステライト(2MgO・Si
2 )、ムライト(3AI2 3・2SiO2 )、コー
ジライト(2MgO・2Al2 3 ・5SiO2 )、C
aZrO3 を主成分としてB2 3 ,SiO2 のガラス
成分を添加したものや、βースポジュメン(Li2 O・
Al2 3 ・4SiO2 )系や、BaO・SnO2、T
iO2 、B2 3 からなるBaSn(BO3 2 系、B
aTi(BO3)2系、Al2 3 、CaO、Si
2 、MgO、B2 3 などからなる系、BaO、Al
2 3 、SiO2 と添加物からなるガラス系が好まし
い。
The low temperature fired multilayer circuit board outer conductor of the present invention is
Due to the high silver concentration on the surface, lanthanide series, rutheni
U-type external resistor, glass paste, insulation paste
In addition, even when coated on the outer conductor and heat treated,
Oxidizing, little deterioration of electrical and solder wettability
There are advantages. For low temperature firing multilayer substrates that can be used in the present invention
As a green sheet (before stacking and firing)
A known material can be used for
Na (Al 2O3), Forsterite (2MgO ・ Si
O2), Mullite (3AI2O3・ 2SiO2), Co
Jillite (2MgO / 2Al2O3・ 5 SiO2), C
aZrO3With B as the main component2O3, SiO2Glass
Ingredients added and β-spodumene (Li2O
Al2O3・ 4SiO2) System and BaO / SnO2, T
iO2, B2O3Consisting of BaSn (BO3)2System, B
aTi (BO3) 2 system, Al2O3, CaO, Si
O2, MgO, B2O3System consisting of etc., BaO, Al
2O3, SiO2A glass system consisting of and additives is preferred
Yes.

【0020】たとえば、PbO−SiO2 −B2 3
CaO系ガラス+Al2 3 、CaO−Al2 3 −S
iO3 −B2 3 系ガラス+Al2 3 、BaO−Al
2 3 −SiO3 −B2 3 系ガラス、SiO2 −B2
3 系ガラス+Al2 3 +CaZrO3 、SiO2
2 3 系ガラス+Al2 3 、SiO2 −B2 3
ガラス+Al2 3 、2MgO−SiO2 ,2MgO−
2Al2 3 −5SiO2 系、ZnO−MgO−Al2
3 −SiO2 系、BaSnB2 6 −BaTiB2
3 系、Al2 3 −CaO−SiO2 −MgO−B2
3 系、BaO−SiO2 −Al2 3 −CaO−B2
3 系などがあげられる。グリーンシートの厚さとしては
5μm〜2000μm程度のものが使用することができ
るが特に指定する物ではない。
For example, PbO-SiO2-B2O3
CaO glass + Al2O3, CaO-Al2O3-S
iO3-B2O3System glass + Al2O3, BaO-Al
2O 3-SiO3-B2O3Glass, SiO2-B2
O3System glass + Al2O3+ CaZrO3, SiO2
B2O3System glass + Al2O3, SiO2-B2O3system
Glass + Al2O32MgO-SiO2, 2MgO-
2 Al2O3-5 SiO2System, ZnO-MgO-Al2
O3-SiO2System, BaSnB2O6-BaTiB2O
3System, Al2O3-CaO-SiO2-MgO-B2O
3System, BaO-SiO2-Al2O3-CaO-B2O
3System, etc. The thickness of the green sheet
5 μm to 2000 μm can be used
However, it is not specified.

【0021】本発明で使用される銅合金粉末の表面の銀
濃度、及び本発明の低温焼成多層回路基板用外部導体ペ
ーストにより得られる外部導体の表面の銀濃度の測定
は、XPS(X線光電子分光分析装置:KRATOS社
製 XSAM800)を用いて行った。 測定条件:試料台にカーボン両面テープを張り付け、銅
合金粉末あるいは外部導体チップ(オーバーコートして
なくむき出しの状態)を全面に覆うように張り付け、真
空脱気を十分に行った後、 アルゴン雰囲気 <10-8 torr MgKα線 試料電流10mA 12kV 取り出し角度 90度 で測定した。 エッチング条件:アルゴンガス 3keV 10-7
orr 5分間 上記条件で測定、エッチングを交互に5回繰り返し行い
最初の2回の測定値の平均値を表面の銀濃度x=Ag/
(Ag+Cu)、銅濃度1−x=Cu/(Ag+Cu)
とした。銅合金粉末、及び外部導体の平均の銀濃度の測
定値は、試料を濃硝酸溶液中で溶解した後、ICP(高
周波誘導結合型プラズマ発光分析計)を用いて試料を濃
硝酸に溶解して測定した。
The silver concentration on the surface of the copper alloy powder used in the present invention and the silver concentration on the surface of the outer conductor obtained by the outer conductor paste for a low temperature firing multilayer circuit board of the present invention are measured by XPS (X-ray photoelectron Spectroscopic analyzer: XSAM800 manufactured by KRATOS) was used. Measurement conditions: Carbon double-sided tape was attached to the sample table, copper alloy powder or external conductor chips (barred without overcoating) were attached to cover the entire surface, and vacuum deaeration was sufficiently performed, followed by argon atmosphere < 10 −8 torr MgKα ray Sample current 10 mA 12 kV Measurement was performed at an extraction angle of 90 degrees. Etching conditions: Argon gas 3 keV 10 −7 t
orr 5 minutes Measurement and etching are alternately repeated 5 times under the above conditions, and the average value of the first 2 measured values is the silver concentration on the surface x = Ag /
(Ag + Cu), copper concentration 1-x = Cu / (Ag + Cu)
And The average silver concentration of the copper alloy powder and the outer conductor was measured by dissolving the sample in concentrated nitric acid solution and then dissolving the sample in concentrated nitric acid using ICP (high frequency inductively coupled plasma emission spectrometer). It was measured.

【0022】また、マイグレーション試験は、外部導体
幅80μm、間隔100μmを作製して60℃、90%
相対湿度中、導体間隔に50DCV印可した時のマイグ
レーション時間を測定した。5時間以上を良好、5時間
未満を不良とした。また、内部導体と外部導体との接続
面における電気的接合は第2層目の導体とビアホールで
接続された外部導体との間のインピーダンス測定より判
断した。
In the migration test, an outer conductor width of 80 μm and an interval of 100 μm were prepared and the temperature was 60 ° C. and 90%.
The migration time was measured when 50 DCV was applied to the conductor spacing in relative humidity. A time of 5 hours or more was evaluated as good and a time of less than 5 hours was evaluated as bad. Further, the electrical connection on the connection surface between the inner conductor and the outer conductor was judged by measuring the impedance between the conductor of the second layer and the outer conductor connected by the via hole.

【0023】外部導体のはんだ濡れ性(はんだ付け性)
は、230℃すず/鉛共晶はんだ浴に10秒dipして
濡れ面積が95%以上を良好とした。それ以下を不良と
した。外部導体のインピーダンスは4端子法を用いて測
定した。以下に実施例を示す。
Solder wettability (solderability) of the outer conductor
Was dipped in a 230 ° C. tin / lead eutectic solder bath for 10 seconds to make the wet area 95% or more good. Anything less than that was considered defective. The impedance of the outer conductor was measured using the 4-terminal method. Examples will be shown below.

【0024】[0024]

【実施例】【Example】

【0025】[0025]

【粉末作製例1】銅粒子571.5g、銀粒子108g
を十分に混合し、黒鉛るつぼ中で窒素雰囲気中1700
℃まで加熱溶解した。融液をるつぼ先端より窒素雰囲気
中に噴出し、噴出と同時に40kg/cm2 の窒素ガス
を融液に対して噴出し、アトマイズした。得られた粉末
は平均粒子径11μmであった。銅合金粉末の表面の銀
濃度は、0.5、0.4、0.3、0.2、0.14で
あり、表面の銀濃度は0.45だった。また、平均の銀
濃度xは0.1であり、表面の銀濃度は、平均の銀濃度
の4.5倍であった。
[Powder Preparation Example 1] 571.5 g of copper particles and 108 g of silver particles
Thoroughly mixed in a graphite crucible in a nitrogen atmosphere at 1700
It melted by heating to ℃. The melt was jetted into the nitrogen atmosphere from the tip of the crucible, and simultaneously with the jetting, 40 kg / cm 2 of nitrogen gas was jetted to the melt to atomize. The obtained powder had an average particle size of 11 μm. The silver concentration on the surface of the copper alloy powder was 0.5, 0.4, 0.3, 0.2, and 0.14, and the silver concentration on the surface was 0.45. The average silver concentration x was 0.1, and the surface silver concentration was 4.5 times the average silver concentration.

【0026】以下に同様にして作製された銅合金粉末の
作製例を示す。
A production example of a copper alloy powder produced in the same manner is shown below.

【0027】[0027]

【表1】 [Table 1]

【0028】[0028]

【実施例1】粉末作製例1で得られた銅合金粉末の中、
10μm以下の粉末を分級した。得られた粉末は平均粒
子径4.2μm(20μm以下99%以上)であった。
その粉末10gとPbO−B2 3 −ZnOガラスフリ
ット(平均粒子径5μm、10μm以下99%以上)
0.2g、エチルセルロース0.05gアクリル樹脂
0.5g、テルペノール1g、ブチルカルビトール2
g、ブチルカルビトールアセテ−ト2g、酸化第一銅粉
末(平均粒子径2μm、10μm以下99%以上)0.
1g、パルミチン酸0.1g、シリコンオイル0.00
1g、チタンカップリング剤0.0001g、水添ヒマ
シ油0.002gを混合してペーストとした。別に、ム
ライトにB2 3 、CaO、MgOを添加してなるグリ
ーンシートに公知の銅ペーストを回路として印刷し、同
様にして10層作製した。さらに外層のグリーンシート
の外部導体、内部接続用ビアホールあるいはスルーホー
ルに前記作製した外部導体用ペーストを印刷した後、公
知の方法で積層し、700℃で60分間窒素中焼成し
た。この時、500℃まで、酸素300ppmドープし
た。
Example 1 Among the copper alloy powders obtained in Powder Preparation Example 1,
A powder having a size of 10 μm or less was classified. The obtained powder had an average particle size of 4.2 μm (20 μm or less and 99% or more).
10 g of the powder and PbO—B 2 O 3 —ZnO glass frit (average particle size 5 μm, 10 μm or less 99% or more)
0.2 g, ethyl cellulose 0.05 g acrylic resin 0.5 g, terpenol 1 g, butyl carbitol 2
g, butyl carbitol acetate 2 g, cuprous oxide powder (average particle diameter 2 μm, 10 μm or less 99% or more).
1 g, palmitic acid 0.1 g, silicone oil 0.00
1 g, a titanium coupling agent 0.0001 g, and hydrogenated castor oil 0.002 g were mixed to form a paste. Separately, a known copper paste was printed as a circuit on a green sheet formed by adding B 2 O 3 , CaO, and MgO to mullite, and 10 layers were similarly prepared. Further, after printing the above-prepared outer conductor paste on the outer conductor of the outer layer green sheet, the via hole for internal connection or the through hole, the paste was laminated by a known method and baked at 700 ° C. for 60 minutes in nitrogen. At this time, 300 ppm of oxygen was doped up to 500 ° C.

【0029】得られた導体の表面の銀濃度を測定したと
ころ、表面より銀濃度は0.6、0.52、0.45、
0.4、0.3であり、表面の銀濃度は0.56であ
り、平均の銀濃度の2.8倍であった。表層の外部導体
と内部導体との接合が良く、内部と外部での接合面では
ほとんど抵抗値の上昇は見られなかった。さらに、印刷
抵抗体として、ランタンボライド系の抵抗体を導体間に
印刷し、900℃で窒素雰囲気中で焼成した。抵抗値の
導体電極による抵抗値上昇は見られなかった。また、オ
ーバーコートガラスを印刷し、550℃窒素雰囲気中で
処理しても、導体表面の変色は見られなかった。
When the silver concentration on the surface of the obtained conductor was measured, the silver concentration was 0.6, 0.52, 0.45 from the surface.
0.4 and 0.3, the surface silver concentration was 0.56, which was 2.8 times the average silver concentration. The outer conductor and the inner conductor in the surface layer were well joined, and almost no increase in the resistance value was observed at the inner and outer joint surfaces. Further, as a printed resistor, a lanthanum boride type resistor was printed between the conductors and fired at 900 ° C. in a nitrogen atmosphere. No increase in resistance was observed due to the conductor electrode. Further, even when overcoat glass was printed and treated in a nitrogen atmosphere at 550 ° C., discoloration of the conductor surface was not observed.

【0030】マイグレーション試験をしたところ、良好
であった。また、外部導体のインピーダンスも良好であ
った。
The migration test was successful. The impedance of the outer conductor was also good.

【0031】[0031]

【実施例2】粉末作製例1で得られた銅合金粉末の中4
μm以下の粉末を分級した。得られた粉末は平均粒子径
2μm(20μm以下99%以上)であった。得られた
分級粉末10g、PbO−B2 3 −ZnO−SiO2
ガラスフリット(平均粒子径0.3μm、10μm以下
99%以上)0.3g、酸化第一銅粉末(平均粒子径
0.2μm、10μm以下99%以上)0.1g、エチ
ルセルロース0.02g、アクリル樹脂0.04g、メ
チルセルロース0.001g、ブチラール樹脂0.02
g、ブチルカルビトールアセテート0.6g、酸化第一
銅粉末(平均粒子径0.2μm、10μm以下99%以
上)0.1g、ステアリン酸0.0001g、沈降防止
剤0.001gを十分に混合してペーストとした。
[Example 2] 4 of the copper alloy powders obtained in Powder Preparation Example 1
The powder having a particle size of μm or less was classified. The obtained powder had an average particle diameter of 2 μm (20 μm or less and 99% or more). The resulting classification powder 10g, PbO-B 2 O 3 -ZnO-SiO 2
Glass frit (average particle size 0.3 μm, 10 μm or less 99% or more) 0.3 g, cuprous oxide powder (average particle size 0.2 μm, 10 μm or less 99% or more) 0.1 g, ethyl cellulose 0.02 g, acrylic resin 0.04g, methylcellulose 0.001g, butyral resin 0.02
g, butyl carbitol acetate 0.6 g, cuprous oxide powder (average particle size 0.2 μm, 10 μm or less 99% or more) 0.1 g, stearic acid 0.0001 g, and anti-settling agent 0.001 g are thoroughly mixed. And made a paste.

【0032】別に、フォルステライトにB2 3 、Si
2 を添加してなる、ビアホールを形成したグリーンシ
ートに公知の銅−銀合金(銀5重量%)を用いたペース
トを印刷し、さらに、公知誘電体ガラスペーストを印刷
し、ビヤホールにも銅−銀合金(銀5重量%)導体ペー
ストを印刷して、同様にしてグリーンシートを6枚作製
した。外層のグリーンシートに前記作製した外部導体用
ペーストを外部導体、内部導体接続用ビアホールあるい
はスルーホールに印刷して、ホットプレスで積層し、7
00℃で窒素中で2時間同時焼成した。
Separately, forsterite is added to B 2 O 3 and Si.
A paste using a known copper-silver alloy (5% by weight of silver) is printed on a green sheet in which a via hole is formed by adding O 2 , and a known dielectric glass paste is printed on the green sheet, and copper is also used in the via hole. -Silver alloy (5% by weight of silver) conductor paste was printed to produce 6 green sheets in the same manner. The outer conductor paste prepared above is printed on the outer layer green sheet on the outer conductor, inner conductor connecting via hole or through hole, and laminated by hot pressing.
It was co-fired in nitrogen at 00 ° C. for 2 hours.

【0033】550℃まで、酸素を500ppmドープ
した。得られた外部導体の表面の銀濃度は、0.9、
0.8、0.7、0.5、0.4であり、表面の銀濃度
は0.85であって、平均の銀濃度の3.4倍であっ
た。こうして得られた外部導体と内部導体との接合は良
好で、導電性は接合面で抵抗値が増加することは見られ
なかった。また、マイグレーション試験の結果良好であ
った。
Up to 550 ° C., 500 ppm of oxygen was doped. The silver concentration on the surface of the obtained outer conductor was 0.9,
It was 0.8, 0.7, 0.5, 0.4, and the surface silver concentration was 0.85, which was 3.4 times the average silver concentration. The outer conductor and the inner conductor thus obtained were joined well, and the conductivity was not found to increase in resistance at the joint surface. Moreover, the result of the migration test was good.

【0034】さらに、ランタンボライド系抵抗体ペース
ト、誘電体ガラスペーストをコートして、窒素雰囲気中
で焼成した。抵抗体と外部導体との接合での抵抗値変化
は0.1%以下と良好であった。
Further, a lanthanum boride-based resistor paste and a dielectric glass paste were coated and fired in a nitrogen atmosphere. The change in resistance value at the junction between the resistor and the outer conductor was good at 0.1% or less.

【0035】[0035]

【実施例3】粉末作製例3で得られた銅合金粉末の中2
μm以下の粉末を分級した。得られた分級粉末は平均粒
子径0.9μm(20μm以下99%以上)であった。
分級粉末10g、PbO−SiO2 −B2 3 −ZnO
ガラスフリット(平均粒子径1μm、10μm以下99
%以上)0.02g、アクリル樹脂1g、ブチルセロソ
ルブ0.2g、ブチルカルビトールアセテート0.1
g、シリコンオイル0.001g、チキソ剤0.000
1g、酸化第一銅粉(平均粒子径0.2μm、10μm
以下99%以上)0.8g、酸化カドミウム0.1g、
酸化ビスマス0.1g(平均粒子径0.5μm、10μ
m以下99%以上)。パルミチン酸0.1g、ステアリ
ン酸0.1gを混合してペーストとした。
[Example 3] 2 of the copper alloy powders obtained in Powder Preparation Example 3
The powder having a particle size of μm or less was classified. The obtained classified powder had an average particle diameter of 0.9 μm (20 μm or less and 99% or more).
Classifying powder 10g, PbO-SiO 2 -B 2 O 3 -ZnO
Glass frit (average particle size 1 μm, 10 μm or less 99
% Or more) 0.02 g, acrylic resin 1 g, butyl cellosolve 0.2 g, butyl carbitol acetate 0.1
g, silicone oil 0.001 g, thixotropic agent 0.000
1 g, cuprous oxide powder (average particle size 0.2 μm, 10 μm
Below 99%) 0.8 g, cadmium oxide 0.1 g,
Bismuth oxide 0.1g (average particle size 0.5μm, 10μ
m or less and 99% or more). Palmitic acid 0.1 g and stearic acid 0.1 g were mixed to form a paste.

【0036】別に、アルミナ、コージライトにB2 3
を添加してなる、ビアホール形成されたグリーンシート
に公知銅−銀合金(銀30重量%)ペーストを用いて回
路を形成した。さらに、公知誘電体ペーストを印刷し、
ビアホールにも印刷した後、同様にしてグリーンシート
を8層作製した。さらに、前記作製した外部導体用ペー
ストを外層のグリーンシートの外部導体および内部導体
との接続用ビアホールあるいはスルーホールに印刷した
後、ホットプレスで積層し、900℃窒素中で1時間同
時焼成した。
Separately, B 2 O 3 was added to alumina and cordierite.
A known copper-silver alloy (30% by weight of silver) paste was used to form a circuit on the green sheet in which the via hole was formed. Furthermore, by printing a known dielectric paste,
After printing on the via holes as well, eight layers of green sheets were similarly prepared. Further, after printing the prepared external conductor paste in via holes or through holes for connecting the external conductor and the internal conductor of the outer layer green sheet, they were laminated by hot pressing and cofired in 900 ° C. nitrogen for 1 hour.

【0037】この時、500℃まで酸素300ppmド
ープした。得られた外部導体の表面の銀濃度を測定した
ところ、表面より、銀濃度は0.88、0.8、0.
7、0.6、0.5であり、表面の銀濃度は0.84で
あった。平均の銀濃度は0.25であり、表面の銀濃度
は平均の銀濃度の3.3倍であった。外部導体と内部導
体との接合は良好であり、接合面での抵抗値の上昇はみ
られなかった。また、マイグレーション試験の結果良好
であった。
At this time, 300 ppm of oxygen was doped up to 500.degree. When the silver concentration on the surface of the obtained outer conductor was measured, the silver concentration was 0.88, 0.8, 0.
7, 0.6, 0.5, and the surface silver concentration was 0.84. The average silver concentration was 0.25 and the surface silver concentration was 3.3 times the average silver concentration. The outer conductor and the inner conductor were joined well, and no increase in resistance was observed at the joint surface. Moreover, the result of the migration test was good.

【0038】外部導体にさらに、絶縁ガラスペーストを
印刷して550℃窒素雰囲気中で焼成した。この時、5
00℃まで、酸素を100ppmドープした。得られた
外部導体回路のガラスコートによる変色などは見られな
かった。
Further, an insulating glass paste was printed on the outer conductor and fired in a nitrogen atmosphere at 550 ° C. At this time, 5
Up to 00 ° C., 100 ppm of oxygen was doped. No discoloration or the like due to the glass coating of the obtained outer conductor circuit was observed.

【0039】[0039]

【実施例4】粉末作製例4で得られた銅合金粉末の中3
μm以下の粉末を分級した。得られた粉末は平均1.2
μm(20μm以下99%以上)であった。分級粉10
g、PbO−SiO2 −CaO−ZnO−B2 3 ガラ
スフリット(平均粒子径0.5μm、10μm以下99
%以上)1g、酸化銅0.1g、酸化ビスマス0.00
2g、酸化第一銅(平均粒子径0.2μm、10μm以
下99%以上)0.025g、エチルセルロース0.2
g、アクリル樹脂0.2g、ブチラール樹脂0.1g、
ステアリン酸0.0001g、チキソ剤0.0002
g、ブチルカルビトールアセテート0.5g、α−テル
ペノール0.5gを充分に混合してペーストとした。
[Example 4] 3 of the copper alloy powders obtained in Powder Preparation Example 4
The powder having a particle size of μm or less was classified. The obtained powder is 1.2 on average.
It was μm (20 μm or less and 99% or more). Classification powder 10
g, PbO—SiO 2 —CaO—ZnO—B 2 O 3 glass frit (average particle size 0.5 μm, 10 μm or less 99
% Or more) 1 g, copper oxide 0.1 g, bismuth oxide 0.00
2 g, cuprous oxide (average particle size 0.2 μm, 10 μm or less 99% or more) 0.025 g, ethyl cellulose 0.2
g, acrylic resin 0.2 g, butyral resin 0.1 g,
Stearic acid 0.0001 g, thixotropic agent 0.0002
g, butyl carbitol acetate 0.5 g, and α-terpenol 0.5 g were sufficiently mixed to obtain a paste.

【0040】別に、β−スポジュメンとBaO−Al2
3 −SiO2 ガラスからなるすでにビアホールが形成
されているグリーンシートに導体回路として公知銅ペー
ストを印刷した。さらに、ビアホール印刷、ルテニウム
系抵抗体ペースト印刷したのち、同様にしてグリーンシ
ート6枚作製した。外層のグリーンシートの外部導体及
び内部導体接続用ビアホールあるいはスルーホールとし
て、前記作製した外部導体用ペーストを用いて印刷し
た。さらに、ホットプレスで積層し、700℃窒素雰囲
気中で30分間焼成した。この時、550℃まで酸素1
00ppmドープした。内部導体と外部導体との接合面
における抵抗値増加は見られなかった。また、マイグレ
ーション試験は良好であった。
Separately, β-spodumene and BaO-Al 2
A known copper paste was printed as a conductor circuit on a green sheet made of O 3 —SiO 2 glass in which a via hole was already formed. Further, after printing via holes and ruthenium-based resistor paste, 6 green sheets were similarly prepared. Printing was performed using the above-prepared external conductor paste as via holes or through holes for connecting the external conductor and internal conductor of the outer layer green sheet. Further, they were laminated by a hot press and baked in a nitrogen atmosphere at 700 ° C. for 30 minutes. At this time, oxygen up to 550 ℃ 1
Doped with 00 ppm. No increase in resistance was observed at the joint surface between the inner conductor and the outer conductor. The migration test was good.

【0041】外部導体の表面の銀濃度は、表面より0.
3、0.25、0.24、0.2、0.15であり、表
面の銀濃度は0.275であって、平均の銀濃度の5.
5倍であった。
The silver concentration on the surface of the outer conductor is 0.
3, 0.25, 0.24, 0.2, 0.15, the surface silver concentration was 0.275, and the average silver concentration was 5.
It was 5 times.

【0042】[0042]

【比較例】[Comparative example]

【0043】[0043]

【比較例1】銅粒子63.5g、銀粒子108gを混合
して黒鉛るつぼに入れ、1700℃まで窒素雰囲気中で
加熱溶解した。融液をるつぼ先端より窒素雰囲気中へ噴
出し、噴出と同時に、40kg/cm2 Gの窒素ガスを
融液に対して噴出し、アトマイズした。得られた粉末
は、平均粒子径13μmであった。平均の銀濃度xは
0.5、平均の銅濃度は0.5であった。得られた銅合
金粉末の中、10μm以下の粉末を分級した。分級後の
粉末の平均粒子径は5μm(20μm以下99%以上)
であった。分級後の銅合金粉末10g、PbO−B2
3 −SiO2 (平均粒子径1μm、10μm以下99%
以上)ガラスフリット0.2g、酸化第一銅粉(平均粒
子径0.5μm、10μm以下99%以上)0.01
g、エチルセルロース0.3g、テルペノール0.6
g、ブチルカルビトールアセテート0.3g、沈降防止
剤0.001gを充分に混合してペーストとした。
Comparative Example 1 63.5 g of copper particles and 108 g of silver particles were mixed and put in a graphite crucible and heated and melted at 1700 ° C. in a nitrogen atmosphere. The melt was jetted into the nitrogen atmosphere from the tip of the crucible, and at the same time, 40 kg / cm 2 G of nitrogen gas was jetted to the melt to atomize. The obtained powder had an average particle size of 13 μm. The average silver concentration x was 0.5 and the average copper concentration was 0.5. Of the obtained copper alloy powder, a powder having a particle size of 10 μm or less was classified. The average particle size of the powder after classification is 5 μm (20 μm or less and 99% or more)
Met. Copper alloy powder 10g after classification, PbO-B 2 O
3- SiO 2 (average particle size 1 μm, 10 μm or less 99%
(Above) 0.2 g of glass frit, cuprous oxide powder (average particle size 0.5 μm, 10 μm or less 99% or more) 0.01
g, ethyl cellulose 0.3 g, terpenol 0.6
g, butyl carbitol acetate 0.3 g, and an anti-settling agent 0.001 g were sufficiently mixed to obtain a paste.

【0044】市販銅ペーストをアルミナとBaO−B2
3 −SiO2 ガラスからなるすでにビアホール形成さ
れたグリーンシート上及びビアホールにも印刷した。さ
らに、誘電体も印刷した後、同様にして6枚のグリーン
シートを作製した。外層のグリーンシートに前記作製し
た外部導体用ペーストを外部導体及び内部導体接続用ビ
アホールあるいはスルーホールに印刷した後、ホットプ
レスで熱圧着した後、700℃で空気中で50分間同時
焼成した。さらに、公知のランタンボライド系の抵抗体
を印刷したのち、900℃10分間焼成した。
Commercially available copper paste was mixed with alumina and BaO-B 2
Printing was also performed on the green sheet of O 3 —SiO 2 glass on which a via hole was already formed and on the via hole. Further, after printing the dielectric material, six green sheets were similarly prepared. The above-prepared external conductor paste was printed on the outer layer green sheet on the via holes or through holes for connecting the external conductor and the internal conductor, followed by thermocompression bonding with a hot press and simultaneous firing at 700 ° C. for 50 minutes in the air. Further, after printing a known lanthanum boride type resistor, it was baked at 900 ° C. for 10 minutes.

【0045】焼成し、作製された外部導体のマイグレー
ション試験をしたところ、マイグレーションが著しかっ
た。また、外部導体の表面の銀濃度は、表面より0.
1、0.2、0.3、0.4、0.5であり、表面の銀
濃度は0.15であって、平均の銀濃度より0.3倍と
低かった。
When a migration test was performed on the outer conductor produced by firing, the migration was remarkable. Further, the silver concentration on the surface of the outer conductor is 0.
It was 1, 0.2, 0.3, 0.4 and 0.5, and the surface silver concentration was 0.15, which was 0.3 times lower than the average silver concentration.

【0046】[0046]

【比較例2】市販の銅粒子(平均粒子径2μm、20μ
m以下99%以上)10g、PbO−CaO−SiO2
−B2 3 (平均粒子径1μm、10μm以下99%以
上)1g、アクリル樹脂0.1g、テルペノール0.1
g、ブチルセロソルブ0.3g、ブチルカルビトルアセ
テート0.5g、酸化第二銅粉末(平均粒子径1μm、
10μm以下99%以上)0.2g、チタンカップリン
グ剤0.0002gを充分に混合してペーストとした。
前記作製した外部導体用ペーストを外層グリーンシート
の外部導体及び内部導体接続用ビアホールあるいはスル
ーホール導体として印刷した後、比較例1と同様にして
作製した6枚のグリーンシートとともにホットプレスで
積層した。さらに、600℃窒素雰囲気中で60分間焼
成した(500℃まで酸素100ppmドープした)。
外部導体と内部導体との接合はあまり良好でなく、抵抗
値の増加が見られた。さらに、ランタンボライド系抵抗
体を印刷し、窒素雰囲気中で900℃で10分間焼成し
た。抵抗体とのマッチング性は悪く、ノイズが高かっ
た。また、外部導電体のはんだ付け性は悪かった。
Comparative Example 2 Commercially available copper particles (average particle size 2 μm, 20 μm
m inclusive 99%) 10g, PbO-CaO -SiO 2
-B 2 O 3 (average particle size 1 μm, 10 μm or less 99% or more) 1 g, acrylic resin 0.1 g, terpenol 0.1
g, butyl cellosolve 0.3 g, butyl carbitol acetate 0.5 g, cupric oxide powder (average particle size 1 μm,
0.2 g of 10 μm or less and 99% or more) and 0.0002 g of a titanium coupling agent were sufficiently mixed to obtain a paste.
The produced external conductor paste was printed as via holes or through-hole conductors for connecting the external conductor and the internal conductor of the outer layer green sheet, and then laminated with 6 green sheets produced in the same manner as in Comparative Example 1 by hot pressing. Further, it was baked in a nitrogen atmosphere at 600 ° C. for 60 minutes (100 ppm oxygen was doped up to 500 ° C.).
The connection between the outer conductor and the inner conductor was not so good, and the resistance value increased. Further, a lanthanum boride-based resistor was printed and fired at 900 ° C. for 10 minutes in a nitrogen atmosphere. The matching with the resistor was poor and the noise was high. Also, the solderability of the external conductor was poor.

【0047】[0047]

【比較例3】銅粒子254g、銀粒子108gを混合し
て黒鉛るつぼに入れ、窒素雰囲気中で1700℃まで加
熱溶解した。融液をるつぼ先端より窒素雰囲気中へ噴出
し、噴出と同時に、7kg/cm2 Gの窒素ガスを融液
に対して噴出し、アトマイズした。得られた銅合金粉末
は平均粒子径30μmであった。
Comparative Example 3 254 g of copper particles and 108 g of silver particles were mixed and put into a graphite crucible, which was heated and melted to 1700 ° C. in a nitrogen atmosphere. The melt was jetted into the nitrogen atmosphere from the tip of the crucible, and at the same time as the jetting, 7 kg / cm 2 G of nitrogen gas was jetted to the melt for atomization. The obtained copper alloy powder had an average particle diameter of 30 μm.

【0048】銅合金粉末の平均の銀組成xは0.2、平
均の銅組成は0.8であった。表面の銀濃度は表面より
0.8、0.76、0.7、0.6、0.5であり、表
面の銀濃度は0.78であった。表面の銀濃度は平均の
銀濃度の3.9倍であった。得られた銅合金粉末10g
(平均粒子径30μm、20μm以下15%)、PbO
−B2 3 −SiO2 (平均粒子径1μm、10μm以
下99%以上)0.3g、テルペノール0.2g、ブチ
ルセロソルブ0.2g、酸化第一銅(平均粒子径1μ
m、10μm以下99%以上)0.5g、チタンカップ
リング剤0.003gを充分に混合してペーストとし
た。
The average silver composition x of the copper alloy powder was 0.2 and the average copper composition was 0.8. The silver concentration on the surface was 0.8, 0.76, 0.7, 0.6, 0.5 from the surface, and the silver concentration on the surface was 0.78. The silver concentration on the surface was 3.9 times the average silver concentration. 10 g of the obtained copper alloy powder
(Average particle size 30 μm, 20 μm or less 15%), PbO
-B 2 O 3 -SiO 2 (average particle size 1 μm, 10 μm or less 99% or more) 0.3 g, terpenol 0.2 g, butyl cellosolve 0.2 g, cuprous oxide (average particle size 1 μm
m, 10 μm or less and 99% or more) 0.5 g and a titanium coupling agent 0.003 g were sufficiently mixed to obtain a paste.

【0049】アルミナとBaO−Al2 3 −SiO2
ガラスからなるビアホール形成されたグリーンシートに
市販銅ペーストを印刷し、ビアホール内にも銅ペースト
を印刷し、公知抵抗ペーストも印刷して、同様にしてグ
リーンシートを6枚作製した。前記作製外部導体用ペー
ストを外層のグリーンシートに外部導体及び内部導体接
続用ビアホールあるいはスルーホールとして印刷した。
さらに、ホットプレスで積層した後、700℃窒素中で
60分間同時焼成した(500℃まで酸素300ppm
ドープ)。平均粒子径が大きく、充分な焼結性が得られ
ず、外部導体は抵抗が高かった。また、内部導体との接
合は悪く、抵抗値が著しく増加した。また、はんだ濡れ
性も悪かった。
Alumina and BaO--Al 2 O 3 --SiO 2
Commercially available copper paste was printed on a green sheet having a via hole formed of glass, the copper paste was also printed on the inside of the via hole, and a publicly known resistance paste was also printed to produce 6 green sheets in the same manner. The prepared outer conductor paste was printed on the outer layer green sheet as via holes or through holes for connecting outer conductors and inner conductors.
Furthermore, after laminating with a hot press, it was co-fired in nitrogen at 700 ° C. for 60 minutes (oxygen 300 ppm up to 500 ° C.
Dope). The average particle diameter was large, sufficient sinterability was not obtained, and the outer conductor had high resistance. Also, the connection with the internal conductor was poor, and the resistance value increased remarkably. Also, the solder wettability was poor.

【0050】[0050]

【比較例4】粉末作製例5で作製した銅合金粉末の中1
0μm以下の粉末(平均銀濃度0.12、平均粒子径
4.5μm、20μm以下99%以上)10g、PbO
−B23 −SiO2 ガラスフリット(平均粒子径10
μm、10μm以下50%)1g、酸化第一銅粉(平均
粒子径0.5μm、10μm以下99%以上)0.00
1g、エチルセルロース0.3g、テルペノール3gを
混合してペーストとした。前記作製外部導体用ペースト
を比較例3と同じ外層グリーンシートに外部導体及び内
部導体接続用ビアホールあるいはスルーホール導体とし
て印刷した後、比較例3と同様にして作製された内部導
体として銅が印刷されている6枚のグリーンシートとと
もにホットプレスで積層した後、600℃40分間窒素
雰囲気中で焼成した(500℃まで酸素300ppmド
ープした)。充分な焼結性が得られず、外部導体の抵抗
値は高かった。また、内部導体との接合面における抵抗
値は非常に高かった。しかし、マイグレーションは良好
であった。また、はんだ濡れ性は悪かった。
[Comparative Example 4] 1 of the copper alloy powders prepared in Powder Preparation Example 5
Powder of 0 μm or less (average silver concentration 0.12, average particle size 4.5 μm, 20 μm or less 99% or more) 10 g, PbO
-B 2 O 3 -SiO 2 glass frit (average particle size 10
μm, 10 μm or less 50%) 1 g, cuprous oxide powder (average particle size 0.5 μm, 10 μm or less 99% or more) 0.00
1 g, ethyl cellulose 0.3 g, and terpenol 3 g were mixed into a paste. The prepared outer conductor paste was printed on the same outer layer green sheet as in Comparative Example 3 as a via hole or a through-hole conductor for connecting an outer conductor and an inner conductor, and then copper was printed as an inner conductor prepared in the same manner as in Comparative Example 3. After stacking together with the above-mentioned six green sheets by hot pressing, it was baked in a nitrogen atmosphere at 600 ° C. for 40 minutes (oxygen 300 ppm was doped to 500 ° C.). Sufficient sinterability was not obtained, and the resistance value of the outer conductor was high. Further, the resistance value at the joint surface with the internal conductor was very high. However, the migration was good. Also, the solder wettability was poor.

【0051】[0051]

【比較例5】粉末作製例1で得られた銅合金粉末を10
μmで分級した。得られた分級後の粉末は平均粒子径
4.5μm(20μm以下99%以上)であった。分級
後の粉末10g、PbO−SiO2 −ZnO(平均粒子
径30μm、10μm以下5%)ガラスフリット0.3
g、エチルセルロース0.5g、テルペノール1gを充
分に混合してペーストとした。
Comparative Example 5 The copper alloy powder obtained in Powder Preparation Example 1
It was classified by μm. The obtained powder after classification had an average particle size of 4.5 μm (20 μm or less and 99% or more). 10 g of powder after classification, PbO—SiO 2 —ZnO (average particle diameter 30 μm, 10 μm or less 5%) glass frit 0.3
g, 0.5 g of ethyl cellulose, and 1 g of terpenol were sufficiently mixed to obtain a paste.

【0052】フォルステライトとB2 3 からなるビア
ホール形成されたグリーンシート上に市販銅ペーストを
印刷した。ビアホールにも印刷したのち、同様にしてグ
リーンシートを8枚作製した。前記作製した外部導体用
ペーストを外層グリーンシートに外部導体及び内部導体
接続用ビアホールあるいはスルーホールとして印刷した
後、積層してホットプレスで熱圧着した。さらに、80
0℃60分間窒素雰囲気中で焼成した(500℃まで酸
素900ppmドープ)。得られた銅合金導体は、ガラ
スフリットが導体膜中に析出していて抵抗は高かった。
また、外部導体の表面の銀濃度は0.15、0.18、
0.2、0.2、0.2であり、表面の銀濃度は0.1
65で平均の銀濃度より低かった。
Commercially available copper paste was printed on a green sheet having via holes formed of forsterite and B 2 O 3 . After printing on the via hole, eight green sheets were similarly prepared. The prepared external conductor paste was printed on the outer layer green sheet as via holes or through holes for connecting the external conductor and the internal conductor, and then laminated and thermocompression bonded by hot pressing. Furthermore, 80
It was fired in a nitrogen atmosphere at 0 ° C. for 60 minutes (900 ppm oxygen up to 500 ° C.). In the obtained copper alloy conductor, the glass frit was deposited in the conductor film and the resistance was high.
The silver concentration on the surface of the outer conductor is 0.15, 0.18,
0.2, 0.2, 0.2 and the surface silver concentration is 0.1
At 65, it was lower than the average silver concentration.

【0053】[0053]

【比較例6】粉末作製例1で得られた銅合金粉末を10
μmで分級した。得られた分級粉は平均4.5μm(2
0μm以下99%以上)であった。分級後の粉末10
g、PbO−SiO2 −B2 3 (平均粒子径1μm、
10μm以下99%以上)ガラスフリット5g、エチル
セルロース0.3g、テルペノール1g、チタンカップ
リング剤0.002gを充分に混合してペーストとし
た。
Comparative Example 6 The copper alloy powder obtained in Powder Preparation Example 1
It was classified by μm. The obtained classified powder has an average of 4.5 μm (2
0 μm or less and 99% or more). Powder after classification 10
g, PbO—SiO 2 —B 2 O 3 (average particle size 1 μm,
10 μm or less and 99% or more) 5 g of glass frit, 0.3 g of ethyl cellulose, 1 g of terpenol, and 0.002 g of titanium coupling agent were sufficiently mixed to obtain a paste.

【0054】BaO−Al2 3 −SiO2 ガラスから
なる予めビアホールが形成されているグリーンシートに
市販銅ペーストを回路、ビアホール共に印刷した。さら
に、欄胆ボライド系抵抗体ペーストを印刷して、同様に
して6枚グリーンシートを作製した。外層グリーンシー
トの外部導体及び内部導体接続用ビアホールあるいはス
ルーホール700℃空気中で1時間焼成した。さらに、
外部導体との接続用ビアホール内にも同様にして銀導体
を形成した後、前記銅合金ペーストを印刷した。印刷
後、600℃窒素雰囲気中で10分間加熱焼成した(5
00℃まで酸素400ppmドープした)。焼成後の外
部導体は、ガラスが表面に析出して、内部導体との接合
面で充分な導電性が得られなかった。
Commercially available copper paste was printed on both a circuit and a via hole on a green sheet made of BaO--Al 2 O 3 --SiO 2 glass in which the via hole was previously formed. Further, a columnar boride-based resistor paste was printed to produce 6 green sheets in the same manner. Via holes or through holes for connecting the outer conductor and inner conductor of the outer layer green sheet were fired in air at 700 ° C. for 1 hour. further,
A silver conductor was similarly formed in the via hole for connection with the external conductor, and then the copper alloy paste was printed. After printing, it was heated and baked in a nitrogen atmosphere at 600 ° C. for 10 minutes (5
400 ppm oxygen was doped up to 00 ° C). After firing, glass was deposited on the surface of the outer conductor, and sufficient conductivity was not obtained at the joint surface with the inner conductor.

【0055】[0055]

【比較例7】粉末作製例1で得られた銅合金粉末を10
μmで分級した。得られた分級粉は平均粒子径4.5μ
mであった。分級後の粉末(平均粒子径4.5μm、2
0μm以下99%以上)10g、エチルセルロース0.
3g、テルペノール0.4g、ブチルカルビトールアセ
テート0.3gを充分に混合してぺーストとした。
[Comparative Example 7] The copper alloy powder obtained in Powder Preparation Example 1 was replaced with 10
It was classified by μm. The obtained classified powder has an average particle diameter of 4.5μ.
It was m. Powder after classification (average particle size 4.5 μm, 2
0 μm or less and 99% or more) 10 g, ethyl cellulose 0.
A paste was prepared by thoroughly mixing 3 g, 0.4 g of terpenol and 0.3 g of butyl carbitol acetate.

【0056】比較例6で作製された多層回路基板の外部
導体としてスクリーン印刷した。印刷後、600℃窒素
雰囲気中で10分間加熱焼成した(500℃まで酸素4
00ppmドープ)。焼成後の銅合金導体は、多層基板
との接着力が不足していて基板より簡単に剥がれた。
Screen printing was performed as an outer conductor of the multilayer circuit board prepared in Comparative Example 6. After printing, it was heated and baked in a nitrogen atmosphere at 600 ° C for 10 minutes (oxygen 4
00 ppm dope). The calcined copper alloy conductor lacked adhesive strength to the multilayer substrate and was easily peeled off from the substrate.

【0057】[0057]

【比較例8】粉末作製例1で得られた銅合金粉末の中1
0μm以下の粉末(平均粒子径4.5μm、20μm以
下の粉末99%以上)10g、PbO−B2 3 −Si
2ガラスフリット(平均粒子径1μm、10μm以下
99%以上)4g、酸化第一銅(平均粒子径18μm、
10μm以下10%)3g、エチルセルロース0.7
g、ブチルカルビトールアセテート2g、沈降防止剤
0.001gを充分に混合してペーストとした。得られ
たペーストを比較例7と同じ多層回路基板の外部導体と
してスクリーン印刷した。印刷後、800℃30分間加
熱焼成した。(500℃まで酸素100ppmドー
プ)。焼成後の銅合金導体は、焼結不足であり、内部導
体との接合面での充分な導電性が得られなかった。
Comparative Example 8 Of the copper alloy powders obtained in Powder Preparation Example 1, 1
10 g of powder of 0 μm or less (99% or more of powder having an average particle size of 4.5 μm and 20 μm or less), PbO—B 2 O 3 —Si
O 2 glass frit (average particle size 1 μm, 10 μm or less 99% or more) 4 g, cuprous oxide (average particle size 18 μm,
10 μm or less 10%) 3 g, ethyl cellulose 0.7
g, butyl carbitol acetate 2 g, and an anti-settling agent 0.001 g were sufficiently mixed to obtain a paste. The obtained paste was screen-printed as an outer conductor of the same multilayer circuit board as in Comparative Example 7. After printing, it was baked at 800 ° C. for 30 minutes. (Oxygen 100 ppm doping up to 500 ° C.). The sintered copper alloy conductor was insufficiently sintered, and sufficient conductivity was not obtained at the joint surface with the internal conductor.

【0058】[0058]

【発明の効果】本発明は、一般式Agx Cu1-x (0.
01≦x≦0.4、原子比)で表され、粒子表面の銀濃
度が平均の銀濃度の2.1倍より高く、粒子表面に向か
って銀濃度が増加する領域を有する平均粒子径0.1〜
20μmで且つ20μm以下が90%以上の銅合金粉末
100重量部に対して平均粒子径0.1〜10μmで1
0μm以下が90%以上のガラスフリット0.2〜30
重量部及び有機ビヒクルよりなる低温焼成多層回路基板
の外部導体用ペーストを提供するものであるが、基板と
の優れた接着性、はんだ濡れ性、耐マイグレーション
性、耐酸化性を有するのみならず、銅あるいは銅−銀合
金からなる内部導体と焼成時に容易に合金化するため優
れた電気的接合性を有する外部導体及び低温焼成多層回
路基板を提供するものである。
According to the present invention, the general formula Ag x Cu 1-x (0.
01 ≦ x ≦ 0.4, atomic ratio), the average particle diameter is 0, which has a region in which the silver concentration on the grain surface is higher than 2.1 times the average silver concentration and the silver concentration increases toward the grain surface. 1 ~
1 with an average particle size of 0.1 to 10 μm with respect to 100 parts by weight of a copper alloy powder of 20 μm and 20 μm or less of 90% or more
Glass frit 0.2 to 30 with 0 μm or less of 90% or more
It is intended to provide a paste for an external conductor of a low-temperature fired multilayer circuit board consisting of parts by weight and an organic vehicle, but not only has excellent adhesion to the board, solder wettability, migration resistance, and oxidation resistance, It is intended to provide an internal conductor made of copper or a copper-silver alloy, an external conductor having excellent electrical bonding property because it is easily alloyed during firing, and a low temperature firing multilayer circuit board.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式Agx Cu1-x (ただし、0.0
1≦x≦0.4、原子比)で表され、粒子表面の銀濃度
が平均の銀濃度の2.1倍より高く、且つ粒子表面に向
かって銀濃度が増加する領域を有する、平均粒子径が
0.1〜20μmであり、且つ20μm以下の粉末が9
0%以上であることを特徴とする銅合金粉末100重量
部に対して、平均粒子径0.1〜10μmで且つ10μ
m以下の粉末が90%以上であるガラスフリット0.1
〜20重量部、有機ビヒクルからなることを特徴とす
る、銅あるいは銅−銀合金を内部導体に有する低温焼成
多層回路基板外部導体用ペースト
1. The general formula Ag x Cu 1-x (provided that 0.0
1 ≦ x ≦ 0.4, atomic ratio), and the average particle has a silver concentration higher than 2.1 times the average silver concentration and has a region where the silver concentration increases toward the particle surface. 9 powders having a diameter of 0.1 to 20 μm and 20 μm or less
0% or more, with respect to 100 parts by weight of the copper alloy powder, the average particle size is 0.1 to 10 μm and 10 μm.
Glass frit in which 90% or more of m or less powder is 0.1
To 20 parts by weight of an organic vehicle, a paste for a low-temperature fired multilayer circuit board outer conductor having copper or a copper-silver alloy as an inner conductor
【請求項2】 請求項1記載のペーストに平均粒子径
0.1〜10μmであり、10μm以下の粉末が90%
以上である酸化第一銅粉末を銅合金粉末100重量部に
対して0.1〜15重量部添加してなる低温焼成多層回
路基板外部導体用ペースト。
2. The paste according to claim 1, which has an average particle size of 0.1 to 10 μm and 90% of powder having a particle size of 10 μm or less.
A low-temperature fired multilayer circuit board outer conductor paste obtained by adding 0.1 to 15 parts by weight of the above cuprous oxide powder to 100 parts by weight of a copper alloy powder.
【請求項3】 請求項1または2記載のガラスフリット
がPbO,SiO22 3 ,ZnO,Al2 3 から
選ばれた1種以上の酸化物成分を主成分にしたガラスフ
リットからなることを特徴とする低温焼成多層回路基板
外部導体用ペースト。
3. The glass frit according to claim 1 or 2, wherein the glass frit contains at least one oxide component selected from PbO, SiO 2 B 2 O 3 , ZnO and Al 2 O 3. A low-temperature-fired multilayer circuit board outer conductor paste characterized by the following:
【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載の低温焼
成多層回路基板外部導体用ペーストを銅あるいは銅−銀
合金を内部導体に有する低温焼成多層回路基板の外層に
印刷し、焼結してなる一般式Agx Cu1-x (ただし、
0.01≦x≦0.4、原子比)で表される外部導体を
有する低温焼成多層回路基板。
4. The low-temperature fired multilayer circuit board outer conductor paste according to claim 1, which is printed on an outer layer of a low-temperature fired multilayer circuit board having copper or a copper-silver alloy as an inner conductor and sintered. The general formula Ag x Cu 1-x (where
0.01 ≦ x ≦ 0.4, atomic ratio) A low temperature fired multilayer circuit board having an outer conductor.
【請求項5】 請求項4記載の外部導体の表面の銀濃度
が平均の銀濃度の2倍より高いことを特徴とする低温焼
成多層回路基板。
5. A low temperature fired multilayer circuit board, wherein the silver concentration on the surface of the outer conductor according to claim 4 is higher than twice the average silver concentration.
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US7790065B2 (en) 2007-10-18 2010-09-07 E.I. Du Pont De Nemours And Company Conductive compositions and processes for use in the manufacture of semiconductor devices: Mg-containing additive

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