JPH06136028A - プロピレン−エチレンブロック共重合体の製造法 - Google Patents
プロピレン−エチレンブロック共重合体の製造法Info
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- JPH06136028A JPH06136028A JP23137891A JP23137891A JPH06136028A JP H06136028 A JPH06136028 A JP H06136028A JP 23137891 A JP23137891 A JP 23137891A JP 23137891 A JP23137891 A JP 23137891A JP H06136028 A JPH06136028 A JP H06136028A
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- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 剛性と光沢性の物性バランスに優れたプロピ
レン−エチレンブロック共重合体の製造法。 【構成】 下記1)〜3)からなる重合触媒を用いて、
エチレン含量0.01〜10重量%のプロピレン−エチ
レン共重合体を製造する工程、エチレン含量30〜95
重量%のプロピレン−エチレン共重合体及びエチレン単
独重合体を製造する工程からなるブロック共重合体の製
造法。 1)金属酸化物、マグネシウム、チタン、ハロゲン及び
電子供与性化合物を必須成分とする固体触媒成分、2)
有機金属化合物及び、3)一般式 〔但し、R1 , R4 ,R5 およびR6 ,R7 は炭素数1
〜10個の炭化水素基、R2 は炭素数1〜10個の炭化
水素基若しくはR6 O、R3 は炭素数1〜10個の炭化
水素基若しくはR7 Oであり、xは2若しくは3、であ
る。〕で表わされる有機珪素化合物。
レン−エチレンブロック共重合体の製造法。 【構成】 下記1)〜3)からなる重合触媒を用いて、
エチレン含量0.01〜10重量%のプロピレン−エチ
レン共重合体を製造する工程、エチレン含量30〜95
重量%のプロピレン−エチレン共重合体及びエチレン単
独重合体を製造する工程からなるブロック共重合体の製
造法。 1)金属酸化物、マグネシウム、チタン、ハロゲン及び
電子供与性化合物を必須成分とする固体触媒成分、2)
有機金属化合物及び、3)一般式 〔但し、R1 , R4 ,R5 およびR6 ,R7 は炭素数1
〜10個の炭化水素基、R2 は炭素数1〜10個の炭化
水素基若しくはR6 O、R3 は炭素数1〜10個の炭化
水素基若しくはR7 Oであり、xは2若しくは3、であ
る。〕で表わされる有機珪素化合物。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プロピレン−エチレン
ブロック共重合体の製造方法に関する。より詳しくは、
特定の重合用触媒を用いて、光沢性と剛性のバランスに
より優れたプロピレン−エチレンブロック共重合体を製
造する方法に関する。
ブロック共重合体の製造方法に関する。より詳しくは、
特定の重合用触媒を用いて、光沢性と剛性のバランスに
より優れたプロピレン−エチレンブロック共重合体を製
造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】高結晶性ポリプロピレンは剛性、耐熱
性、表面光沢に優れていることから広く利用されてい
る。しかしながら衝撃強度が低いという欠点を有するた
め、耐衝撃性を改良するためにいくつかの方法が提案さ
れている。例えば、プロピレンに少量のエチレンを添加
してランダム共重合を行う方法が知られている。しか
し、この方法では、ポリプロピレン本来の特性である剛
性が著しく低下してしまう。耐衝撃性と剛性のバランス
に優れたポリプロピレンを得る方法としてはプロピレン
の単独重合を行う工程と、プロピレンとエチレンの共重
合を行う工程とを組み合わせた、いわゆるプロレン−エ
チレンブロック共重合体の製造法が行われている。しか
しこの方法にて耐衝撃性と剛性のバランスは向上するも
のの、今度はポリプロピレン本来の特性である表面光沢
が損われる。近年、ポリプロピレンの用途拡大に伴って
さまざまな付加価値が求められており、用途分野によっ
ては単に機械物性にとどまらず、表面光沢性がよいなど
の外観の美しさも製品の価値を左右する重要な因子とな
る場合が多くなっている。
性、表面光沢に優れていることから広く利用されてい
る。しかしながら衝撃強度が低いという欠点を有するた
め、耐衝撃性を改良するためにいくつかの方法が提案さ
れている。例えば、プロピレンに少量のエチレンを添加
してランダム共重合を行う方法が知られている。しか
し、この方法では、ポリプロピレン本来の特性である剛
性が著しく低下してしまう。耐衝撃性と剛性のバランス
に優れたポリプロピレンを得る方法としてはプロピレン
の単独重合を行う工程と、プロピレンとエチレンの共重
合を行う工程とを組み合わせた、いわゆるプロレン−エ
チレンブロック共重合体の製造法が行われている。しか
しこの方法にて耐衝撃性と剛性のバランスは向上するも
のの、今度はポリプロピレン本来の特性である表面光沢
が損われる。近年、ポリプロピレンの用途拡大に伴って
さまざまな付加価値が求められており、用途分野によっ
ては単に機械物性にとどまらず、表面光沢性がよいなど
の外観の美しさも製品の価値を左右する重要な因子とな
る場合が多くなっている。
【0003】このような機械物性と、表面光沢性のバラ
ンスを向上させる目的で、最近プロピレン−エチレンブ
ロック共重合体を製造する際のプロピレンの単独重合工
程に、少量のエチレンを添加してプロピレンと共重合を
行う方法が行われるようになった。しかしながら、この
方法を用いると、表面光沢性は改善されるものの、剛性
は期待されるほど向上せず、共重合体の用途によってそ
の使用が制限されることがあった。
ンスを向上させる目的で、最近プロピレン−エチレンブ
ロック共重合体を製造する際のプロピレンの単独重合工
程に、少量のエチレンを添加してプロピレンと共重合を
行う方法が行われるようになった。しかしながら、この
方法を用いると、表面光沢性は改善されるものの、剛性
は期待されるほど向上せず、共重合体の用途によってそ
の使用が制限されることがあった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、より効果的
に剛性と光沢性のバランスに優れたプロピレン−エチレ
ンブロック共重合体を製造する方法を提供することを目
的とする。
に剛性と光沢性のバランスに優れたプロピレン−エチレ
ンブロック共重合体を製造する方法を提供することを目
的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を行った結果、特定の有機硅素化合物を必須成分とする
重合触媒を用いて共重合することにより、本発明の目的
を達成しうることを見出し、本発明を完成した。
を行った結果、特定の有機硅素化合物を必須成分とする
重合触媒を用いて共重合することにより、本発明の目的
を達成しうることを見出し、本発明を完成した。
【0006】発明の要旨 すなわち、本発明の要旨は、(A)金属酸化物、マグネ
シウム、チタン、ハロゲン及び電子供与性化合物を必須
成分とする固体触媒成分、(B)有機金属化合物及び
(C)一般式
シウム、チタン、ハロゲン及び電子供与性化合物を必須
成分とする固体触媒成分、(B)有機金属化合物及び
(C)一般式
【化2】 〔但し、R1 , R4 およびR5 は同一か異なる炭素数1
〜10個の炭化水素基、R2 は炭素数1〜10個の炭化
水素基若しくはR6 O、R3 は炭素数1〜10個の炭化
水素基若しくはR7 Oであり、xは2若しくは3、R6
及びR7 は同一か異なる炭素数1〜10個の炭化水素基
である。〕で表わされる有機珪素化合物とからなる重合
触媒の存在下、(1)プロピレンとエチレンを共重合し
てエチレン含有量が0.01〜10重量%のプロピレン
とエチレンの共重合体を製造する工程(a)、(2)プ
ロピレンとエチレンを共重合してエチレン含有量が30
〜95重量%のプロピレンとエチレンの共重合体を製造
する工程(b)及び(3)エチレンの単独重合体を製造
する工程(c)からなるプロピレン−エチレンブロック
共重合体の製造法にある。
〜10個の炭化水素基、R2 は炭素数1〜10個の炭化
水素基若しくはR6 O、R3 は炭素数1〜10個の炭化
水素基若しくはR7 Oであり、xは2若しくは3、R6
及びR7 は同一か異なる炭素数1〜10個の炭化水素基
である。〕で表わされる有機珪素化合物とからなる重合
触媒の存在下、(1)プロピレンとエチレンを共重合し
てエチレン含有量が0.01〜10重量%のプロピレン
とエチレンの共重合体を製造する工程(a)、(2)プ
ロピレンとエチレンを共重合してエチレン含有量が30
〜95重量%のプロピレンとエチレンの共重合体を製造
する工程(b)及び(3)エチレンの単独重合体を製造
する工程(c)からなるプロピレン−エチレンブロック
共重合体の製造法にある。
【0007】固体触媒成分 本発明で用いられる触媒(以下本発明の触媒という)の
一成分である固体触媒成分(以下、成分Aという)は、
金属酸化物、マグネシウム、チタン、ハロゲン及び電子
供与性化合物を必須成分とするが、このような成分は通
常金属酸化物、マグネシウム化合物、チタン化合物及び
電子供与性化合物、更に前記各化合物がハロゲンを有し
ない化合物の場合は、ハロゲン含有化合物を、それぞれ
接触することにより調製される。
一成分である固体触媒成分(以下、成分Aという)は、
金属酸化物、マグネシウム、チタン、ハロゲン及び電子
供与性化合物を必須成分とするが、このような成分は通
常金属酸化物、マグネシウム化合物、チタン化合物及び
電子供与性化合物、更に前記各化合物がハロゲンを有し
ない化合物の場合は、ハロゲン含有化合物を、それぞれ
接触することにより調製される。
【0008】(1)金属酸化物 本発明で用いられる金属酸化物は、元素の周期表第II族
〜第IV族の元素の群から選ばれる元素の酸化物であり、
それらを例示すると、B2 O3 、MgO、Al 2 O3 、
SiO2 、CaO、TiO2 、ZnO、ZrO2 、Sn
O2 、BaO、ThO2 等が挙げられる。これらの中で
もB2 O3 、MgO、Al2 O3 、SiO2 、Ti
O2 、ZrO2 が望ましく、特にSiO2 が望ましい。
更に、これら金属酸化物を含む複合酸化物、例えばSi
O2 −MgO、SiO2 −Al2 O3、SiO2 −Ti
O2 、SiO2 −V2 O5 、SiO2 −Cr2 O3 、S
iO2−TiO2 −MgO等も使用し得る。これら金属
酸化物の形状は通常粉末状のものが用いられる。粉末の
大きさ及び形状等の形体は、得られるオレフィン重合体
の形体に影響を及ぼすことが多いので、適宜調節するこ
とが望ましい。金属酸化物は、使用に当って被毒物質を
除去する目的等から、可能な限り高温で焼成し、更に大
気と直接接触しないように取扱うのが望ましい。
〜第IV族の元素の群から選ばれる元素の酸化物であり、
それらを例示すると、B2 O3 、MgO、Al 2 O3 、
SiO2 、CaO、TiO2 、ZnO、ZrO2 、Sn
O2 、BaO、ThO2 等が挙げられる。これらの中で
もB2 O3 、MgO、Al2 O3 、SiO2 、Ti
O2 、ZrO2 が望ましく、特にSiO2 が望ましい。
更に、これら金属酸化物を含む複合酸化物、例えばSi
O2 −MgO、SiO2 −Al2 O3、SiO2 −Ti
O2 、SiO2 −V2 O5 、SiO2 −Cr2 O3 、S
iO2−TiO2 −MgO等も使用し得る。これら金属
酸化物の形状は通常粉末状のものが用いられる。粉末の
大きさ及び形状等の形体は、得られるオレフィン重合体
の形体に影響を及ぼすことが多いので、適宜調節するこ
とが望ましい。金属酸化物は、使用に当って被毒物質を
除去する目的等から、可能な限り高温で焼成し、更に大
気と直接接触しないように取扱うのが望ましい。
【0009】(2)マグネシウム化合物 マグネシウム化合物は、一般式MgR1 R2 で表わされ
る。式において、R1及びR2 は同一か異なる炭化水素
基、OR基(Rは炭化水素基)、ハロゲン原子を示す。
より詳細には、R1 及びR2 の炭化水素基としては、炭
素数1〜20個のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基、アルアルキル基が、OR基としては、Rが炭素
数1〜12個のアルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、アルアルキル基が、ハロゲン原子としては塩素、
臭素、ヨウ素、弗素等である。
る。式において、R1及びR2 は同一か異なる炭化水素
基、OR基(Rは炭化水素基)、ハロゲン原子を示す。
より詳細には、R1 及びR2 の炭化水素基としては、炭
素数1〜20個のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基、アルアルキル基が、OR基としては、Rが炭素
数1〜12個のアルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、アルアルキル基が、ハロゲン原子としては塩素、
臭素、ヨウ素、弗素等である。
【0010】それら化合物の具体例を下記に示すが、化
学式において、Me:メチル、Et:エチル、Pr :プ
ロピル、Bu:ブチル、He:ヘキシル、Oct:オク
チル、Ph:フェニル、cyHe:シクロヘキシルをそ
れぞれ示す。MgMe2 ,MgEt2 , Mgi−P
r2 , MgBu2 ,MgHe2 ,MgOct2 ,MgE
tBu,MgPh2 ,MgcyHe2 ,Mg(OMe)
2 ,Mg(OEt)2 ,Mg(OBu)2 ,Mg(OH
e)2 ,Mg(OOct)2 ,Mg(OPh)2 ,Mg
(OcyHe)2 , EtMgCl,BuMgCl,He
MgCl,i−BuMgCl,t−BuMgCl,Ph
MgCl,PhCH2 MgCl,EtMgBr,BuM
gBr,PhMgBr,BuMgI,EtOMgCl,
BuOMgCl,HeOMgCl,PhOMgCl,E
tOMgBr,BuOMgBr,EtOMgI,MgC
l2 ,MgBr2 ,MgI2 。
学式において、Me:メチル、Et:エチル、Pr :プ
ロピル、Bu:ブチル、He:ヘキシル、Oct:オク
チル、Ph:フェニル、cyHe:シクロヘキシルをそ
れぞれ示す。MgMe2 ,MgEt2 , Mgi−P
r2 , MgBu2 ,MgHe2 ,MgOct2 ,MgE
tBu,MgPh2 ,MgcyHe2 ,Mg(OMe)
2 ,Mg(OEt)2 ,Mg(OBu)2 ,Mg(OH
e)2 ,Mg(OOct)2 ,Mg(OPh)2 ,Mg
(OcyHe)2 , EtMgCl,BuMgCl,He
MgCl,i−BuMgCl,t−BuMgCl,Ph
MgCl,PhCH2 MgCl,EtMgBr,BuM
gBr,PhMgBr,BuMgI,EtOMgCl,
BuOMgCl,HeOMgCl,PhOMgCl,E
tOMgBr,BuOMgBr,EtOMgI,MgC
l2 ,MgBr2 ,MgI2 。
【0011】上記マグネシウム化合物は、成分Aを調製
する際に、金属マグネシウム又はその他のマグネシウム
化合物から調製することも可能である。その一例とし
て、金属マグネシウム、ハロゲン化炭化水素及び一般式
Xn M(OR) m-n のアルコキシ基含有化合物〔式に
おいて、Xは水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜2
0個の炭化水素基、Mは硼素、炭素、アルミニウム、珪
素又は燐原子、Rは炭素数1〜20個の炭化水素基、m
はMの原子価、m>n≧0を示す。〕を接触させる方法
が挙げられる。該アルコキシ基含有化合物の一般式のX
及びRの炭化水素基としては、メチル(Me)、エチル
(Et) 、プロピル、(Pr)、i−プロピル(i−P
r) 、ブチル(Bu) 、i−ブチル(i−Bu) 、ヘキ
シル(He) 、オクチル(Oct)等のアルキル基、シ
クロヘキシル(cyHe) 、メチルシクロヘキシル等の
シクロアルキル基、アリル、プロペニル、ブテニル等の
アルケニル基、フェニル(Ph) 、トリル、キシリル基
のアリール基、フェネチル、3−フェニルプロピル等の
アルアルキル等が挙げられる。これらの中でも、特に炭
素数1〜10個のアルキル基が望ましい。以下、アルコ
キシ基含有化合物の具体例を挙げる。
する際に、金属マグネシウム又はその他のマグネシウム
化合物から調製することも可能である。その一例とし
て、金属マグネシウム、ハロゲン化炭化水素及び一般式
Xn M(OR) m-n のアルコキシ基含有化合物〔式に
おいて、Xは水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜2
0個の炭化水素基、Mは硼素、炭素、アルミニウム、珪
素又は燐原子、Rは炭素数1〜20個の炭化水素基、m
はMの原子価、m>n≧0を示す。〕を接触させる方法
が挙げられる。該アルコキシ基含有化合物の一般式のX
及びRの炭化水素基としては、メチル(Me)、エチル
(Et) 、プロピル、(Pr)、i−プロピル(i−P
r) 、ブチル(Bu) 、i−ブチル(i−Bu) 、ヘキ
シル(He) 、オクチル(Oct)等のアルキル基、シ
クロヘキシル(cyHe) 、メチルシクロヘキシル等の
シクロアルキル基、アリル、プロペニル、ブテニル等の
アルケニル基、フェニル(Ph) 、トリル、キシリル基
のアリール基、フェネチル、3−フェニルプロピル等の
アルアルキル等が挙げられる。これらの中でも、特に炭
素数1〜10個のアルキル基が望ましい。以下、アルコ
キシ基含有化合物の具体例を挙げる。
【0012】Mが炭素の場合の化合物 式 C(OR)4 に含まれるC(OMe)4 ,C(OE
t)4 , C(OPr) 4 , C(OBu)4 , C(Oi−
Bu)4 ,C(OHe)4 , C(OOct)4:式 X
C(OR)3 に含まれるHC(OMe)3 , HC(OE
t)3 ,HC(OPr)3 , HC(OBu)3 ,HC
(OHe)3 , HC(OPh)3 ;MeC(OM
e)3 , MeC(OEt)3 ,EtC(OMe)3 ,E
tC(OEt)3,cyHeC(OEt)3 , PhC
(OMe)3 ,PhC(OEt)3 ,CH2ClC(O
Et)3 ,MeCHBrC(OEt)3 , MeCHCl
C(OEt) 3 ;ClC(OMe)3 ,ClC(OE
t)3 ,ClC(Oi−Bu)3 ,BrC(OE
t)3 ;式 X2 C(OR)2 に含まれるMeCH(O
Me)2 , MeCH(OEt)2 , CH2 (OM
e)2 , CH2 (OEt)2 ,CH2 ClCH(OE
t)2 ,CHCl2 CH(OEt)2 ,CCl3 CH
(OEt)2 ,CH 2 BrCH(OEt)2 ,PhCH
(OEt)2 。
t)4 , C(OPr) 4 , C(OBu)4 , C(Oi−
Bu)4 ,C(OHe)4 , C(OOct)4:式 X
C(OR)3 に含まれるHC(OMe)3 , HC(OE
t)3 ,HC(OPr)3 , HC(OBu)3 ,HC
(OHe)3 , HC(OPh)3 ;MeC(OM
e)3 , MeC(OEt)3 ,EtC(OMe)3 ,E
tC(OEt)3,cyHeC(OEt)3 , PhC
(OMe)3 ,PhC(OEt)3 ,CH2ClC(O
Et)3 ,MeCHBrC(OEt)3 , MeCHCl
C(OEt) 3 ;ClC(OMe)3 ,ClC(OE
t)3 ,ClC(Oi−Bu)3 ,BrC(OE
t)3 ;式 X2 C(OR)2 に含まれるMeCH(O
Me)2 , MeCH(OEt)2 , CH2 (OM
e)2 , CH2 (OEt)2 ,CH2 ClCH(OE
t)2 ,CHCl2 CH(OEt)2 ,CCl3 CH
(OEt)2 ,CH 2 BrCH(OEt)2 ,PhCH
(OEt)2 。
【0013】Mが珪素の場合の化合物 式 Si(OR)4 に含まれるSi(OMe)4 ,Si
(OEt)4 ,Si(OBu)4 ,Si(Oi−Bu)
4 ,Si(OHe)4 ,Si(OOct)4 ,Si(O
Ph)4 :式 XSi(OR)3 に含まれるHSi(O
Et)3 ,HSi(OBu)3 ,HSi(OHe)3 ,
HSi(OPh)3 ;MeSi(OMe)3 ,MeSi
(OEt)3 ,MeSi(OBu)3 ,EtSi(OE
t)3 ,PhSi(OEt)3 ,EtSi(OP
h)3 ;ClSi(OMe)3 ,ClSi(OE
t)3 ,ClSi(OBu)3 ,ClSi(OP
h)3 ,BrSi(OEt)3 ;式 X2 Si(OR)
2 に含まれるMe2 Si(OMe)2 ,Me2Si(O
Et)2 ,Et2 Si(OEt)2 ;MeClSi(O
Et)2 ;CHCl2 SiH(OEt)2 ;CCl3 S
iH(OEt)2 ;MeBeSi(OEt)2 :X3 S
iORに含まれるMe3 SiOMe,Me3 SiOE
t,Me3SiOBu,Me3 SiOPh,Et3 Si
OEt,Ph3 SiOEt。
(OEt)4 ,Si(OBu)4 ,Si(Oi−Bu)
4 ,Si(OHe)4 ,Si(OOct)4 ,Si(O
Ph)4 :式 XSi(OR)3 に含まれるHSi(O
Et)3 ,HSi(OBu)3 ,HSi(OHe)3 ,
HSi(OPh)3 ;MeSi(OMe)3 ,MeSi
(OEt)3 ,MeSi(OBu)3 ,EtSi(OE
t)3 ,PhSi(OEt)3 ,EtSi(OP
h)3 ;ClSi(OMe)3 ,ClSi(OE
t)3 ,ClSi(OBu)3 ,ClSi(OP
h)3 ,BrSi(OEt)3 ;式 X2 Si(OR)
2 に含まれるMe2 Si(OMe)2 ,Me2Si(O
Et)2 ,Et2 Si(OEt)2 ;MeClSi(O
Et)2 ;CHCl2 SiH(OEt)2 ;CCl3 S
iH(OEt)2 ;MeBeSi(OEt)2 :X3 S
iORに含まれるMe3 SiOMe,Me3 SiOE
t,Me3SiOBu,Me3 SiOPh,Et3 Si
OEt,Ph3 SiOEt。
【0014】Mが硼素の場合の化合物 式 B(OR)3 に含まれるB(OEt)3 ,B(OB
u)3 , B(OHe)3 ,B(OPh)3 。
u)3 , B(OHe)3 ,B(OPh)3 。
【0015】Mがアルミニウムの場合の化合物 式 Al(OR)3 に含まれるAl(OMe)3 ,Al
(OEt)3 ,Al(OPr)3 ,Al(Oi−Pr)
3 ,Al(OBu)3 ,Al(Ot−Bu)3,Al
(OHe)3 ,Al(OPh)3 。
(OEt)3 ,Al(OPr)3 ,Al(Oi−Pr)
3 ,Al(OBu)3 ,Al(Ot−Bu)3,Al
(OHe)3 ,Al(OPh)3 。
【0016】Mが燐の場合の化合物 式 P(OR)3 に含まれるP(OMe)3 , P(OE
t)3 , P(OBu) 3 ,P(OHe)3 ,P(OP
h)3 。
t)3 , P(OBu) 3 ,P(OHe)3 ,P(OP
h)3 。
【0017】更に、前記マグネシウム化合物は、周期表
第II族又は第 IIIa族金属(M)の有機化合物との錯体
も使用することができる。該錯体は一般式 MgR1 R
2 ・n(MR3 m ) で表わされる。該金属としては、ア
ルミニウム、亜鉛、カルシウム等であり、R3 は炭素数
1〜12個のアルキル基、シクロアルキル基、アリール
基、アルアルキル基である。又、mは金属Mの原子価
を、nは0.1〜10の数を示す。MR3 m で表わされ
る化合物の具体例としては、AlMe3 , AlEt3 ,
Ali−Bu3 ,AlPh3 ,ZnMe2 ,ZnE
t2 ,ZnBu2 ,ZnPh2 ,CaEt2 ,CaPh
2 等が挙げられる。
第II族又は第 IIIa族金属(M)の有機化合物との錯体
も使用することができる。該錯体は一般式 MgR1 R
2 ・n(MR3 m ) で表わされる。該金属としては、ア
ルミニウム、亜鉛、カルシウム等であり、R3 は炭素数
1〜12個のアルキル基、シクロアルキル基、アリール
基、アルアルキル基である。又、mは金属Mの原子価
を、nは0.1〜10の数を示す。MR3 m で表わされ
る化合物の具体例としては、AlMe3 , AlEt3 ,
Ali−Bu3 ,AlPh3 ,ZnMe2 ,ZnE
t2 ,ZnBu2 ,ZnPh2 ,CaEt2 ,CaPh
2 等が挙げられる。
【0018】(3)チタン化合物 チタン化合物は、二価、三価及び四価のチタンの化合物
であり、それらを例示すると、四塩化チタン、四臭化チ
タン、トリクロルエトキシチタン、トリクロルブトキシ
チタン、ジクロルジエトキシチタン、ジクロルジブトキ
シチタン、ジクロルジフェノキシチタン、クロルトリエ
トキシチタン、クロルトリブトキシチタン、テトラブト
キシチタン、三塩化チタン等を挙げることができる。こ
れらの中でも、四塩化チタン、トリクロルエトキシチタ
ン、ジクロルジブトキシチタン、ジクロルジフェノキシ
チタン等の四価のチタンハロゲン化物が望ましく、特に
四塩化チタンが望ましい。
であり、それらを例示すると、四塩化チタン、四臭化チ
タン、トリクロルエトキシチタン、トリクロルブトキシ
チタン、ジクロルジエトキシチタン、ジクロルジブトキ
シチタン、ジクロルジフェノキシチタン、クロルトリエ
トキシチタン、クロルトリブトキシチタン、テトラブト
キシチタン、三塩化チタン等を挙げることができる。こ
れらの中でも、四塩化チタン、トリクロルエトキシチタ
ン、ジクロルジブトキシチタン、ジクロルジフェノキシ
チタン等の四価のチタンハロゲン化物が望ましく、特に
四塩化チタンが望ましい。
【0019】(4)電子供与性化合物 電子供与性化合物としては、カルボン酸類、カルボン酸
無水物、カルボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化
物、アルコール類、エーテル類、ケトン類、アミン類、
アミド類、ニトリル類、アルデヒド類、アルコレート
類、有機基と炭素もしくは酸素を介して結合した燐、ヒ
素およびアンチモン化合物、ホスホアミド類、チオエー
テル類、チオエステル類、炭酸エステル等が挙げられ
る。これのうちカルボン酸類、カルボン酸無水物、カル
ボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化物、アルコー
ル類、エーテル類が好ましく用いられる。
無水物、カルボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化
物、アルコール類、エーテル類、ケトン類、アミン類、
アミド類、ニトリル類、アルデヒド類、アルコレート
類、有機基と炭素もしくは酸素を介して結合した燐、ヒ
素およびアンチモン化合物、ホスホアミド類、チオエー
テル類、チオエステル類、炭酸エステル等が挙げられ
る。これのうちカルボン酸類、カルボン酸無水物、カル
ボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化物、アルコー
ル類、エーテル類が好ましく用いられる。
【0020】カルボン酸の具体例としては、ギ酸、酢
酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン
酸、ピバリン酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン
酸等の脂肪族モノカルボン酸、マロン酸、コハク酸、グ
ルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマ
ル酸等の脂肪族ジカルボン酸、酒石酸等の脂肪族オキシ
カルボン酸、シクロヘキサンモノカルボン酸、シクロヘ
キセンモノカルボン酸、シス−1,2−シクロヘキサン
ジカルボン酸、シス−4−メチルシクロヘキセン−1,
2−ジカルボン酸等の脂環式カルボン酸、安息香酸、ト
ルイル酸、アニス酸、p−第三級ブチル安息香酸、ナフ
トエ酸、ケイ皮酸等の芳香族モノカルボン酸、フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ナフタル酸、トリメ
リト酸、ヘミメリト酸、トリメシン酸、ピロメリト酸、
メリト酸等の芳香族多価カルボン酸等が挙げられる。カ
ルボン酸無水物としては、上記のカルボン酸類の酸無水
物が使用し得る。
酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン
酸、ピバリン酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン
酸等の脂肪族モノカルボン酸、マロン酸、コハク酸、グ
ルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマ
ル酸等の脂肪族ジカルボン酸、酒石酸等の脂肪族オキシ
カルボン酸、シクロヘキサンモノカルボン酸、シクロヘ
キセンモノカルボン酸、シス−1,2−シクロヘキサン
ジカルボン酸、シス−4−メチルシクロヘキセン−1,
2−ジカルボン酸等の脂環式カルボン酸、安息香酸、ト
ルイル酸、アニス酸、p−第三級ブチル安息香酸、ナフ
トエ酸、ケイ皮酸等の芳香族モノカルボン酸、フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ナフタル酸、トリメ
リト酸、ヘミメリト酸、トリメシン酸、ピロメリト酸、
メリト酸等の芳香族多価カルボン酸等が挙げられる。カ
ルボン酸無水物としては、上記のカルボン酸類の酸無水
物が使用し得る。
【0021】カルボン酸エステルとしては、上記のカル
ボン酸類のモノ又は多価エステルが使用することがで
き、その具体例として、ギ酸ブチル、酢酸エチル、酢酸
ブチル、イソ酪酸イソブチル、ピバリン酸プロピル、ピ
バリン酸イソブチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸イソブチ
ル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジイソブチル、コハク
酸ジエチル、コハク酸ジブチル、コハク酸ジイソブチ
ル、グルタル酸ジエチル、グルタル酸ジブチル、グルタ
ル酸ジイソブチル、アジピン酸ジイソブチル、セバシン
酸ジブチル、セバシン酸ジイソブチル、マレイン酸ジエ
チル、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジイソブチル、
フマル酸モノメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジイ
ソブチル、酒石酸ジエチル、酒石酸ジブチル、酒石酸ジ
イソブチル、シクロヘキサンカルボン酸エチル、安息香
酸メチル、安息香酸エチル、p−トルイル酸メチル、p
−第三級ブチル安息香酸エチル、p−アニス酸エチル、
α−ナフトエ酸エチル、α−ナフトエ酸イソブチル、ケ
イ皮酸エチル、フタル酸モノメチル、フタル酸モノブチ
ル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジイソブチル、フタル
酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジ2−エ
チルヘキシル、フタル酸ジアリル、フタル酸ジフェニ
ル、イソフタル酸ジエチル、イソフタル酸ジイソブチ
ル、テレフタル酸ジエチル、テレフタル酸ジブチル、ナ
フタル酸ジエチル、ナフタル酸ジブチル、トリメリト酸
トリエチル、トリメリト酸トリブチル、ピロメリト酸テ
トラメチル、ピロメリト酸テトラエチル、ピロメリト酸
テトラブチル等が挙げられる。
ボン酸類のモノ又は多価エステルが使用することがで
き、その具体例として、ギ酸ブチル、酢酸エチル、酢酸
ブチル、イソ酪酸イソブチル、ピバリン酸プロピル、ピ
バリン酸イソブチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸イソブチ
ル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジイソブチル、コハク
酸ジエチル、コハク酸ジブチル、コハク酸ジイソブチ
ル、グルタル酸ジエチル、グルタル酸ジブチル、グルタ
ル酸ジイソブチル、アジピン酸ジイソブチル、セバシン
酸ジブチル、セバシン酸ジイソブチル、マレイン酸ジエ
チル、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジイソブチル、
フマル酸モノメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジイ
ソブチル、酒石酸ジエチル、酒石酸ジブチル、酒石酸ジ
イソブチル、シクロヘキサンカルボン酸エチル、安息香
酸メチル、安息香酸エチル、p−トルイル酸メチル、p
−第三級ブチル安息香酸エチル、p−アニス酸エチル、
α−ナフトエ酸エチル、α−ナフトエ酸イソブチル、ケ
イ皮酸エチル、フタル酸モノメチル、フタル酸モノブチ
ル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジイソブチル、フタル
酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジ2−エ
チルヘキシル、フタル酸ジアリル、フタル酸ジフェニ
ル、イソフタル酸ジエチル、イソフタル酸ジイソブチ
ル、テレフタル酸ジエチル、テレフタル酸ジブチル、ナ
フタル酸ジエチル、ナフタル酸ジブチル、トリメリト酸
トリエチル、トリメリト酸トリブチル、ピロメリト酸テ
トラメチル、ピロメリト酸テトラエチル、ピロメリト酸
テトラブチル等が挙げられる。
【0022】カルボン酸ハロゲン化物としては、上記の
カルボン酸類の酸ハロゲン化物が使用することができ、
その具体例として、酢酸クロリド、酢酸ブロミド、酢酸
アイオダイド、プロピオン酸クロリド、酪酸クロリド、
酪酸ブロミド、酪酸アイオダイド、ピバリン酸クロリ
ド、ピバリン酸ブロミド、アクリル酸クロリド、アクリ
ル酸ブロミド、アクリル酸アイオダイド、メタクリル酸
クロリド、メタクリル酸ブロミド、メタクリル酸アイオ
ダイド、クロトン酸クロリド、マロン酸クロリド、マロ
ン酸ブロミド、コハク酸クロリド、コハク酸ブロミド、
グルタル酸クロリド、グルタル酸ブロミド、アジピン酸
クロリド、アジピン酸ブロミド、セバシン酸クロリド、
セバシン酸ブロミド、マレイン酸クロリド、マレイン酸
ブロミド、フマル酸クロリド、フマル酸ブロミド、酒石
酸クロリド、酒石酸ブロミド、シクロヘキサンカルボン
酸クロリド、シクロヘキサンカルボン酸ブロミド、1−
シクロヘキセンカルボン酸クロリド、シス−4−メチル
シクロヘキセンカルボン酸クロリド、シス−4−メチル
シクロヘキセンカルボン酸ブロミド、塩化ベンゾイル、
臭化ベンゾイル、p−トルイル酸クロリド、p−トルイ
ル酸ブロミド、p−アニス酸クロリド、p−アニス酸ブ
ロミド、α−ナフトエ酸クロリド、ケイ皮酸クロリド、
ケイ皮酸ブロミド、フタル酸ジクロリド、フタル酸ジブ
ロミド、イソフタル酸ジクロリド、イソフタル酸ジブロ
ミド、テレフタル酸ジクロリド、ナフタル酸ジクロリド
が挙げられる。又、アジピン酸モノメチルクロリド、マ
レイン酸モノエチルクロリド、マレイン酸モノメチルク
ロリド、フタル酸ブチルクロリドのようなジカルボン酸
のモノアルキルハロゲン化物も使用し得る。
カルボン酸類の酸ハロゲン化物が使用することができ、
その具体例として、酢酸クロリド、酢酸ブロミド、酢酸
アイオダイド、プロピオン酸クロリド、酪酸クロリド、
酪酸ブロミド、酪酸アイオダイド、ピバリン酸クロリ
ド、ピバリン酸ブロミド、アクリル酸クロリド、アクリ
ル酸ブロミド、アクリル酸アイオダイド、メタクリル酸
クロリド、メタクリル酸ブロミド、メタクリル酸アイオ
ダイド、クロトン酸クロリド、マロン酸クロリド、マロ
ン酸ブロミド、コハク酸クロリド、コハク酸ブロミド、
グルタル酸クロリド、グルタル酸ブロミド、アジピン酸
クロリド、アジピン酸ブロミド、セバシン酸クロリド、
セバシン酸ブロミド、マレイン酸クロリド、マレイン酸
ブロミド、フマル酸クロリド、フマル酸ブロミド、酒石
酸クロリド、酒石酸ブロミド、シクロヘキサンカルボン
酸クロリド、シクロヘキサンカルボン酸ブロミド、1−
シクロヘキセンカルボン酸クロリド、シス−4−メチル
シクロヘキセンカルボン酸クロリド、シス−4−メチル
シクロヘキセンカルボン酸ブロミド、塩化ベンゾイル、
臭化ベンゾイル、p−トルイル酸クロリド、p−トルイ
ル酸ブロミド、p−アニス酸クロリド、p−アニス酸ブ
ロミド、α−ナフトエ酸クロリド、ケイ皮酸クロリド、
ケイ皮酸ブロミド、フタル酸ジクロリド、フタル酸ジブ
ロミド、イソフタル酸ジクロリド、イソフタル酸ジブロ
ミド、テレフタル酸ジクロリド、ナフタル酸ジクロリド
が挙げられる。又、アジピン酸モノメチルクロリド、マ
レイン酸モノエチルクロリド、マレイン酸モノメチルク
ロリド、フタル酸ブチルクロリドのようなジカルボン酸
のモノアルキルハロゲン化物も使用し得る。
【0023】アルコール類は、一般式 ROHで表わさ
れる。式においてRは炭素数1〜12個のアルキル、ア
ルケニル、シクロアルキル、アリール、アルアルキルで
ある。その具体例としては、メタノール、エタノール、
プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブ
タノール、ペンタノール、ヘキサノール、オクタノー
ル、2−エチルヘキサノール、シクロヘキサノール、ベ
ンジルアルコール、アリルアルコール、フェノール、ク
レゾール、キシレノール、エチルフェノール、イソプロ
ピルフェノール、p−ターシャリーブチルフェノール、
n−オクチルフェノール等である。
れる。式においてRは炭素数1〜12個のアルキル、ア
ルケニル、シクロアルキル、アリール、アルアルキルで
ある。その具体例としては、メタノール、エタノール、
プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブ
タノール、ペンタノール、ヘキサノール、オクタノー
ル、2−エチルヘキサノール、シクロヘキサノール、ベ
ンジルアルコール、アリルアルコール、フェノール、ク
レゾール、キシレノール、エチルフェノール、イソプロ
ピルフェノール、p−ターシャリーブチルフェノール、
n−オクチルフェノール等である。
【0024】エーテル類は、一般式ROR1 で表わされ
る。式においてR,R1 は炭素数1〜12個のアルキ
ル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルアル
キルであり、RとR1 は同じでも異ってもよい。その具
体例としては、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、ジブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジイ
ソアミルエーテル、ジ−2−エチルヘキシルエーテル、
ジアリルエーテル、エチルアリルエーテル、ブチルアリ
ルエーテル、ジフェニルエーテル、アニソール、エチル
フェニルエーテル等である。
る。式においてR,R1 は炭素数1〜12個のアルキ
ル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルアル
キルであり、RとR1 は同じでも異ってもよい。その具
体例としては、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、ジブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジイ
ソアミルエーテル、ジ−2−エチルヘキシルエーテル、
ジアリルエーテル、エチルアリルエーテル、ブチルアリ
ルエーテル、ジフェニルエーテル、アニソール、エチル
フェニルエーテル等である。
【0025】成分Aの調製法としては、金属酸化物
(成分1)、マグネシウム化合物(成分2)、チタン化
合物(成分3)及び電子供与性化合物(成分4)をその
順序に接触させる。成分1と成分3を接触させた後、
成分4と成分3をその順序に接触させる。成分1,成
分2を接触させた後、成分3と成分4を同時に用いて接
触させる、成分2と成分3を接触させた後、成分4と
成分1をその順序に接触させる、成分2と成分4を接
触させた後、成分3と成分1をその順序に接触させる、
成分2,成分3及び成分4を同時に接触させた後、成
分1を接触させる等の方法が採用し得る。又、成分3を
用いて接触させる前にハロゲン含有化合物と接触させる
こともできる。
(成分1)、マグネシウム化合物(成分2)、チタン化
合物(成分3)及び電子供与性化合物(成分4)をその
順序に接触させる。成分1と成分3を接触させた後、
成分4と成分3をその順序に接触させる。成分1,成
分2を接触させた後、成分3と成分4を同時に用いて接
触させる、成分2と成分3を接触させた後、成分4と
成分1をその順序に接触させる、成分2と成分4を接
触させた後、成分3と成分1をその順序に接触させる、
成分2,成分3及び成分4を同時に接触させた後、成
分1を接触させる等の方法が採用し得る。又、成分3を
用いて接触させる前にハロゲン含有化合物と接触させる
こともできる。
【0026】ハロゲン含有化合物としては、ハロゲン化
炭化水素、ハロゲン含有アルコール、水素−珪素結合を
有するハロゲン化珪素化合物、周期表第IIa族、IVa
族、Va族元素のハロゲン化物(以下、金属ハライドと
いう。)等が挙げられる。
炭化水素、ハロゲン含有アルコール、水素−珪素結合を
有するハロゲン化珪素化合物、周期表第IIa族、IVa
族、Va族元素のハロゲン化物(以下、金属ハライドと
いう。)等が挙げられる。
【0027】ハロゲン化炭化水素としては、炭素数1〜
12個の飽和又は不飽和の脂肪族、脂環式及び芳香族炭
化水素のモノ及びポリハロゲン置換体である。それら化
合物の具体的な例は、脂肪族化合物では、メチルクロラ
イド、メチルブロマイド、メチルアイオダイド、メチレ
ンクロライド、メチレンブロマイド、メチレンアイオダ
イド、クロロホルム、ブロモホルム、ヨードホルム、四
塩化炭素、四臭化炭素、四沃化炭素、エチルクロライ
ド、エチルブロマイド、エチルアイオダイド、1,2−
ジクロルエタン、1,2−ジブロムエタン、1,2−ジ
ヨードエタン、メチルクロロホルム、メチルブロモホル
ム、メチルヨードホルム、1,1,2−トリクロルエチ
レン、1,1,2−トリブロモエチレン、1,1,2,
2−テトラクロルエチレン、ペンタクロルエタン、ヘキ
サクロルエタン、ヘキサブロモエタン、n−プロピルク
ロライド、1,2−ジクロルプロパン、ヘキサクロロプ
ロピレン、オクタクロロプロパン、デカブロモブタン、
塩素化パラフィンが、脂環式化合物ではクロロシクロプ
ロパン、テトラクロルシクロペンタン、ヘキサクロロシ
クロペンタジェン、ヘキサクロルシクロヘキサンが、芳
香族化合物ではクロルベンゼン、ブロモベンゼン、o−
ジクロルベンゼン、p−ジクロルベンゼン、ヘキサクロ
ロベンゼン、ヘキサブロモベンゼン、ベンゾトリクロラ
イド、p−クロロベンゾトリクロライド等が挙げられ
る。これらの化合物は、一種のみならず二種以上用いて
もよい。
12個の飽和又は不飽和の脂肪族、脂環式及び芳香族炭
化水素のモノ及びポリハロゲン置換体である。それら化
合物の具体的な例は、脂肪族化合物では、メチルクロラ
イド、メチルブロマイド、メチルアイオダイド、メチレ
ンクロライド、メチレンブロマイド、メチレンアイオダ
イド、クロロホルム、ブロモホルム、ヨードホルム、四
塩化炭素、四臭化炭素、四沃化炭素、エチルクロライ
ド、エチルブロマイド、エチルアイオダイド、1,2−
ジクロルエタン、1,2−ジブロムエタン、1,2−ジ
ヨードエタン、メチルクロロホルム、メチルブロモホル
ム、メチルヨードホルム、1,1,2−トリクロルエチ
レン、1,1,2−トリブロモエチレン、1,1,2,
2−テトラクロルエチレン、ペンタクロルエタン、ヘキ
サクロルエタン、ヘキサブロモエタン、n−プロピルク
ロライド、1,2−ジクロルプロパン、ヘキサクロロプ
ロピレン、オクタクロロプロパン、デカブロモブタン、
塩素化パラフィンが、脂環式化合物ではクロロシクロプ
ロパン、テトラクロルシクロペンタン、ヘキサクロロシ
クロペンタジェン、ヘキサクロルシクロヘキサンが、芳
香族化合物ではクロルベンゼン、ブロモベンゼン、o−
ジクロルベンゼン、p−ジクロルベンゼン、ヘキサクロ
ロベンゼン、ヘキサブロモベンゼン、ベンゾトリクロラ
イド、p−クロロベンゾトリクロライド等が挙げられ
る。これらの化合物は、一種のみならず二種以上用いて
もよい。
【0028】ハロゲン含有アルコールとしては、一分子
中に一個又は二個以上の水酸基を有するモノ又は多価ア
ルコール中の、水酸基以外の任意の一個又は二個以上の
水素原子がハロゲン原子で置換された化合物を意味す
る。ハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素、弗素
原子が挙げられるが、塩素原子が望ましい。それら化合
物を例示すると、2−クロルエタノール、1−クロル−
2−プロパノール、3−クロル−1−プロパノール、1
−クロル−2−メチル−2−プロパノール、4−クロル
−1−ブタノール、5−クロル−1−ペンタノール、6
−クロル−1−ヘキサノール、3−クロル−1,2−プ
ロパンジオール、2−クロルシクロヘキサノール、4−
クロルベンズヒドロール、(m,o,p)−クロルベン
ジルアルコール、4−クロルカテコール、4−クロル−
(m,o)−クレゾール、6−クロル−(m,o)−ク
レゾール、4−クロル−3,5−ジメチルフェノール、
クロルハイドロキノン、2−ベンジル−4−クロルフェ
ノール、4−クロル−1−ナフトール、(m,o,p)
−クロルフェノール、p−クロル−α−メチルベンジル
アルコール、2−クロル−4−フェニルフェノール、6
−クロルチモール、4−クロルレゾルシン、2−ブロム
エタノール、3−ブロム−1−プロパノール、1−ブル
ム−2−プロパノール、1−ブロム−2−ブタノール、
2−ブロム−p−クレゾール、1−ブロム−2−ナフト
ール、6−ブロム−2−ナフトール、(m,o,p)−
ブロムフェノール、4−ブロムレゾルシン、(m,o,
p)−フロロフェノール、p−イオドフェノール:2,
2−ジクロルエタノール、2,3−ジクロル−1−プロ
パノール、1,3−ジクロル−2−プロパノール、3−
クロル−1−(α−クロルメチル)−1−プロパノー
ル、2,3−ジブロム−1−プロパノール、1,3−ジ
ブロム−2−プロパノール、2,4−ジブロムフェノー
ル、2,4−ジブロム−1−ナフトール:2,2,2−
トリクロルエタノール、1,1,1−トリクロル−2−
プロパノール、β,β,β−トリクロル−tert−ブ
タノール、2,3,4−トリクロルフェノール、2,
4,5−トリクロルフェノール、2,4,6−トリクロ
ルフェノール、2,4,6−トリブロムフェノール、
2,3,5−トリブロム−2−ヒドロキシトルエン、
2,3,5−トリブロム−4−ヒドロキシトルエン、
2,2,2−トリフルオロエタノール、α,α,α−ト
リフルオロ−m−クレゾール、2,4,6−トリイオド
フェノール:2,3,4,6−テトラクロルフェノー
ル、テトラクロルハイドロキノン、テトラクロルビスフ
ェノールA、テトラブロムビスフェノールA、2,2,
3,3−テトラフルオロ−1−プロパノール、2,3,
5,6−テトラフルオロフェノール、テトラフルオロレ
ゾルシン等が挙げられる。
中に一個又は二個以上の水酸基を有するモノ又は多価ア
ルコール中の、水酸基以外の任意の一個又は二個以上の
水素原子がハロゲン原子で置換された化合物を意味す
る。ハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素、弗素
原子が挙げられるが、塩素原子が望ましい。それら化合
物を例示すると、2−クロルエタノール、1−クロル−
2−プロパノール、3−クロル−1−プロパノール、1
−クロル−2−メチル−2−プロパノール、4−クロル
−1−ブタノール、5−クロル−1−ペンタノール、6
−クロル−1−ヘキサノール、3−クロル−1,2−プ
ロパンジオール、2−クロルシクロヘキサノール、4−
クロルベンズヒドロール、(m,o,p)−クロルベン
ジルアルコール、4−クロルカテコール、4−クロル−
(m,o)−クレゾール、6−クロル−(m,o)−ク
レゾール、4−クロル−3,5−ジメチルフェノール、
クロルハイドロキノン、2−ベンジル−4−クロルフェ
ノール、4−クロル−1−ナフトール、(m,o,p)
−クロルフェノール、p−クロル−α−メチルベンジル
アルコール、2−クロル−4−フェニルフェノール、6
−クロルチモール、4−クロルレゾルシン、2−ブロム
エタノール、3−ブロム−1−プロパノール、1−ブル
ム−2−プロパノール、1−ブロム−2−ブタノール、
2−ブロム−p−クレゾール、1−ブロム−2−ナフト
ール、6−ブロム−2−ナフトール、(m,o,p)−
ブロムフェノール、4−ブロムレゾルシン、(m,o,
p)−フロロフェノール、p−イオドフェノール:2,
2−ジクロルエタノール、2,3−ジクロル−1−プロ
パノール、1,3−ジクロル−2−プロパノール、3−
クロル−1−(α−クロルメチル)−1−プロパノー
ル、2,3−ジブロム−1−プロパノール、1,3−ジ
ブロム−2−プロパノール、2,4−ジブロムフェノー
ル、2,4−ジブロム−1−ナフトール:2,2,2−
トリクロルエタノール、1,1,1−トリクロル−2−
プロパノール、β,β,β−トリクロル−tert−ブ
タノール、2,3,4−トリクロルフェノール、2,
4,5−トリクロルフェノール、2,4,6−トリクロ
ルフェノール、2,4,6−トリブロムフェノール、
2,3,5−トリブロム−2−ヒドロキシトルエン、
2,3,5−トリブロム−4−ヒドロキシトルエン、
2,2,2−トリフルオロエタノール、α,α,α−ト
リフルオロ−m−クレゾール、2,4,6−トリイオド
フェノール:2,3,4,6−テトラクロルフェノー
ル、テトラクロルハイドロキノン、テトラクロルビスフ
ェノールA、テトラブロムビスフェノールA、2,2,
3,3−テトラフルオロ−1−プロパノール、2,3,
5,6−テトラフルオロフェノール、テトラフルオロレ
ゾルシン等が挙げられる。
【0029】水素−珪素結合を有するハロゲン化珪素化
合物としては、HSiCl3 ,H2SiCl2 ,H3 S
iCl,HCH3 SiCl2 , HC2 H5 SiCl2 ,
H(t−C4 H9 )SiCl2 ,HC6 H5 SiCl
2 , H(CH3 ) 2 SiCl,H(i−C3 H7 )2 S
iCl,H2 C2 H5 SiCl,H2 (n−C4 H9 )
SiCl、H2 (C6 H4 CH3 )SiCl、HSiC
l(C6 H5 )2 等が挙げられる。
合物としては、HSiCl3 ,H2SiCl2 ,H3 S
iCl,HCH3 SiCl2 , HC2 H5 SiCl2 ,
H(t−C4 H9 )SiCl2 ,HC6 H5 SiCl
2 , H(CH3 ) 2 SiCl,H(i−C3 H7 )2 S
iCl,H2 C2 H5 SiCl,H2 (n−C4 H9 )
SiCl、H2 (C6 H4 CH3 )SiCl、HSiC
l(C6 H5 )2 等が挙げられる。
【0030】金属ハライドとしては、B,Al,Ga,
In,Tl,Si,Ge,Sn,Pb,As,Sb,B
iの塩化物、弗化物、臭化物、ヨウ化物が挙げられ、特
にBCl3 ,BBr3 , BI3 ,AlCl3 ,AlBr
3 , GaCl3 ,GaBr3, InCl3 ,TlC
l3 ,SiCl4 ,SnCl4 ,SbCl5 ,SbF5
等が好適である。
In,Tl,Si,Ge,Sn,Pb,As,Sb,B
iの塩化物、弗化物、臭化物、ヨウ化物が挙げられ、特
にBCl3 ,BBr3 , BI3 ,AlCl3 ,AlBr
3 , GaCl3 ,GaBr3, InCl3 ,TlC
l3 ,SiCl4 ,SnCl4 ,SbCl5 ,SbF5
等が好適である。
【0031】成分1,成分2,成分3及び成分4、更に
必要に応じて接触させることのできるハロゲン含有化合
物との接触は、不活性媒体の存在下、又は不存在下、混
合攪拌するが、機械的に共粉砕することによりなされ
る。接触は40〜150℃の加熱下で行うことができ
る。
必要に応じて接触させることのできるハロゲン含有化合
物との接触は、不活性媒体の存在下、又は不存在下、混
合攪拌するが、機械的に共粉砕することによりなされ
る。接触は40〜150℃の加熱下で行うことができ
る。
【0032】不活性媒体としては、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン等の飽和脂肪族炭化水素、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン等の飽和脂環式炭化水素、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が使用し得
る。
ン、オクタン等の飽和脂肪族炭化水素、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン等の飽和脂環式炭化水素、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が使用し得
る。
【0033】本発明における成分Aの調製法の具体例と
しては、特開昭58−162607号、同55−949
09号、同55−115405号、同57−10810
7号、同61−21109号、同61−174204
号、同61−174205号、同61−174206
号、同62−7706号公報等に開示されている方法等
が挙げられる。より詳細には、
しては、特開昭58−162607号、同55−949
09号、同55−115405号、同57−10810
7号、同61−21109号、同61−174204
号、同61−174205号、同61−174206
号、同62−7706号公報等に開示されている方法等
が挙げられる。より詳細には、
【0034】 金属酸化物とマグネシウムジアルコキ
シドとの反応生成物を、電子供与性化合物及び4価のハ
ロゲン化チタンと接触させる方法(特開昭58−162
607号公報)、 無機酸化物とマグネシウムヒドロカルビルハライド
化合物との反応生成物を、ルイス塩基化合物及び四塩化
チタンと接触させる方法(特開昭55−94909号公
報)、 シリカ等の多孔質担体とアルキルマグネシウム化合
物との反応生成物を、チタン化合物と接触させる前に電
子供与性化合物及びハロゲン化珪素化合物と接触させる
方法(特開昭55−115405号、同57−1081
07号公報)、 金属酸化物、アルコキシ基含有マグネシウム化合
物、オルト位にカルボキシル基を持つ芳香族多価カルボ
ン酸若しくはその誘導体及びチタン化合物を接触させる
方法(特開昭61−174204号公報)、 金属酸化物、アルコキシ基含有マグネシウム化合
物、水素−珪素結合を有する珪素化合物、電子供与性化
合物及びチタン化合物を接触させる方法(特開昭61−
174205号公報)、 金属酸化物、アルコキシ基含有マグネシウム化合
物、ハロゲン元素若しくはハロゲン含有化合物、電子供
与性化合物及びチタン化合物を接触させる方法(特開昭
61−174206号公報)、 金属酸化物、ジヒドロカルビルマグネシウム及びハ
ロゲン含有アルコールを接触させることによって得られ
る反応生成物を、電子供与性化合物及びチタン化合物を
接触させる方法(特開昭61−21109号公報)、 金属酸化物、ヒドロカルビルマグネシウム及びヒド
ロカルビルオキシ基含有化合物(前記アルコキシ基含有
化合物に相当)を接触させることによって得られる固体
を、ハロゲン含有アルコールと接触させ、更に電子供与
性化合物及びチタン化合物と接触させる方法(特開昭6
2−7706号公報)である。これらの内でも〜の
方法が、特に,の方法が望ましい。
シドとの反応生成物を、電子供与性化合物及び4価のハ
ロゲン化チタンと接触させる方法(特開昭58−162
607号公報)、 無機酸化物とマグネシウムヒドロカルビルハライド
化合物との反応生成物を、ルイス塩基化合物及び四塩化
チタンと接触させる方法(特開昭55−94909号公
報)、 シリカ等の多孔質担体とアルキルマグネシウム化合
物との反応生成物を、チタン化合物と接触させる前に電
子供与性化合物及びハロゲン化珪素化合物と接触させる
方法(特開昭55−115405号、同57−1081
07号公報)、 金属酸化物、アルコキシ基含有マグネシウム化合
物、オルト位にカルボキシル基を持つ芳香族多価カルボ
ン酸若しくはその誘導体及びチタン化合物を接触させる
方法(特開昭61−174204号公報)、 金属酸化物、アルコキシ基含有マグネシウム化合
物、水素−珪素結合を有する珪素化合物、電子供与性化
合物及びチタン化合物を接触させる方法(特開昭61−
174205号公報)、 金属酸化物、アルコキシ基含有マグネシウム化合
物、ハロゲン元素若しくはハロゲン含有化合物、電子供
与性化合物及びチタン化合物を接触させる方法(特開昭
61−174206号公報)、 金属酸化物、ジヒドロカルビルマグネシウム及びハ
ロゲン含有アルコールを接触させることによって得られ
る反応生成物を、電子供与性化合物及びチタン化合物を
接触させる方法(特開昭61−21109号公報)、 金属酸化物、ヒドロカルビルマグネシウム及びヒド
ロカルビルオキシ基含有化合物(前記アルコキシ基含有
化合物に相当)を接触させることによって得られる固体
を、ハロゲン含有アルコールと接触させ、更に電子供与
性化合物及びチタン化合物と接触させる方法(特開昭6
2−7706号公報)である。これらの内でも〜の
方法が、特に,の方法が望ましい。
【0035】上記のようにして成分Aは調製されるが、
成分Aは必要に応じて前記の不活性媒体で洗浄してもよ
く、更に乾燥してもよい。
成分Aは必要に応じて前記の不活性媒体で洗浄してもよ
く、更に乾燥してもよい。
【0036】又、成分Aは、更に有機アルミニウム化合
物の存在下、オレフィンと接触させて成分A中に生成す
るオレフィンポリマーを含有させてもよい。有機アルミ
ニウム化合物としては、本発明の触媒の一成分である後
記の有機金属化合物の中から選ばれる。
物の存在下、オレフィンと接触させて成分A中に生成す
るオレフィンポリマーを含有させてもよい。有機アルミ
ニウム化合物としては、本発明の触媒の一成分である後
記の有機金属化合物の中から選ばれる。
【0037】オレフィンとしては、エチレンの他プロピ
レン、1−ブテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペ
ンテン等のα−オレフィンが使用し得る。オレフィンと
の接触は、前記の不活性媒体の存在下行うのが望まし
い。接触は、通常100℃以下、望ましくは−10〜+
50℃の温度で行われる。成分A中に含有させるオレフ
ィンポリマーの量は、成分A1g当り通常0.1〜10
0gである。
レン、1−ブテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペ
ンテン等のα−オレフィンが使用し得る。オレフィンと
の接触は、前記の不活性媒体の存在下行うのが望まし
い。接触は、通常100℃以下、望ましくは−10〜+
50℃の温度で行われる。成分A中に含有させるオレフ
ィンポリマーの量は、成分A1g当り通常0.1〜10
0gである。
【0038】成分Aとオレフィンの接触は、有機アルミ
ニウム化合物と共に電子供与性化合物を存在させてもよ
い。電子供与性化合物は、成分Aを調製させる際に用い
られる化合物およびSi−O−C結合もしくはSi−N
−C結合を有する有機珪素化合物などの中から選択され
る。オレフィンと接触した成分Aは必要に応じて前記の
不活性媒体で洗浄することができ、又更に乾燥すること
ができる。
ニウム化合物と共に電子供与性化合物を存在させてもよ
い。電子供与性化合物は、成分Aを調製させる際に用い
られる化合物およびSi−O−C結合もしくはSi−N
−C結合を有する有機珪素化合物などの中から選択され
る。オレフィンと接触した成分Aは必要に応じて前記の
不活性媒体で洗浄することができ、又更に乾燥すること
ができる。
【0039】有機金属化合物 有機金属化合物(以下成分Bという。)は、周期表第I
族ないし第III 族金属の有機化合物である。成分Bとし
ては、リチウム、マグネシウム、カルシウム、亜鉛及び
アルミニウムの有機化合物が使用し得る。これらの中で
も特に、有機アルミニウム化合物が好適である。用い得
る有機アルミニウム化合物としては、一般式 Rn Al
X3-n (但し、Rはアルキル基又はアリール基、Xはハ
ロゲン原子、アルコキシ基又は水素原子を示し、nは1
≦n≦3の範囲の任意の数である。)で示されるもので
あり、例えばトリアルキルアルミニウム、ジアルキルア
ルミニウムモノハライド、モノアルキルアルミニウムジ
ハライド、アルキルアルミニウムセスキハライド、ジア
ルキルアルミニウムモノアルコキシド及びジアルキルア
ルミニウムモノハイドライドなどの炭素数1ないし18
個、好ましくは炭素数2ないし6個のアルキルアルミニ
ウム化合物又はその混合物もしくは錯化合物が特に好ま
しい。具体的には、トリメチルアルミニウム、トリエチ
ルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソ
ブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウムなどの
トリアルキルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロ
リド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミ
ニウムブロミド、ジエチルアルミニウムアイオダイド、
ジイソブチルアルミニウムクロリドなどのジアルキルア
ルミニウムモノハライド、メチルアルミニウムジクロリ
ド、エチルアルミニウムジクロリド、メチルアルミニウ
ムジブロミド、エチルアルミニウムジブロミド、エチル
アルミニウムジアイオダイド、イソブチルアルミニウム
ジクロリドなどのモノアルキルアルミニウムジハライ
ド、エチルアルミニウムセスキクロリドなどのアルキル
アルミニウムセスキハライド、ジメチルアルミニウムメ
トキシド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジエチル
アルミニウムフェノキシド、ジプロピルアルミニウムエ
トキシド、ジイソブチルアルミニウムエトキシド、ジイ
ソブチルアルミニウムフェノキシドなどのジアルキルア
ルミニウムモノアルコキシド、ジメチルアルミニウムハ
イドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジプ
ロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミ
ニウムハイドライドなどのジアルキルアルミニウムハイ
ドライドが挙げられる。これらの中でも、トリアルキル
アルミニウムが、特にトリエチルアルミニウム、トリイ
ソブチルアルミニウムが望ましい。又、これらトリアル
キルアルミニウムは、その他の有機アルミニウム化合
物、例えば、工業的に入手し易いジエチルアルミニウム
クロリド、エチルアルミニウムジクロリド、エチルアル
ミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムエトキ
シド、ジエチルアルミニウムハイドライド又はこれらの
混合物若しくは錯化合物等と併用することができる。
族ないし第III 族金属の有機化合物である。成分Bとし
ては、リチウム、マグネシウム、カルシウム、亜鉛及び
アルミニウムの有機化合物が使用し得る。これらの中で
も特に、有機アルミニウム化合物が好適である。用い得
る有機アルミニウム化合物としては、一般式 Rn Al
X3-n (但し、Rはアルキル基又はアリール基、Xはハ
ロゲン原子、アルコキシ基又は水素原子を示し、nは1
≦n≦3の範囲の任意の数である。)で示されるもので
あり、例えばトリアルキルアルミニウム、ジアルキルア
ルミニウムモノハライド、モノアルキルアルミニウムジ
ハライド、アルキルアルミニウムセスキハライド、ジア
ルキルアルミニウムモノアルコキシド及びジアルキルア
ルミニウムモノハイドライドなどの炭素数1ないし18
個、好ましくは炭素数2ないし6個のアルキルアルミニ
ウム化合物又はその混合物もしくは錯化合物が特に好ま
しい。具体的には、トリメチルアルミニウム、トリエチ
ルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソ
ブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウムなどの
トリアルキルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロ
リド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミ
ニウムブロミド、ジエチルアルミニウムアイオダイド、
ジイソブチルアルミニウムクロリドなどのジアルキルア
ルミニウムモノハライド、メチルアルミニウムジクロリ
ド、エチルアルミニウムジクロリド、メチルアルミニウ
ムジブロミド、エチルアルミニウムジブロミド、エチル
アルミニウムジアイオダイド、イソブチルアルミニウム
ジクロリドなどのモノアルキルアルミニウムジハライ
ド、エチルアルミニウムセスキクロリドなどのアルキル
アルミニウムセスキハライド、ジメチルアルミニウムメ
トキシド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジエチル
アルミニウムフェノキシド、ジプロピルアルミニウムエ
トキシド、ジイソブチルアルミニウムエトキシド、ジイ
ソブチルアルミニウムフェノキシドなどのジアルキルア
ルミニウムモノアルコキシド、ジメチルアルミニウムハ
イドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジプ
ロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミ
ニウムハイドライドなどのジアルキルアルミニウムハイ
ドライドが挙げられる。これらの中でも、トリアルキル
アルミニウムが、特にトリエチルアルミニウム、トリイ
ソブチルアルミニウムが望ましい。又、これらトリアル
キルアルミニウムは、その他の有機アルミニウム化合
物、例えば、工業的に入手し易いジエチルアルミニウム
クロリド、エチルアルミニウムジクロリド、エチルアル
ミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムエトキ
シド、ジエチルアルミニウムハイドライド又はこれらの
混合物若しくは錯化合物等と併用することができる。
【0040】又、酸素原子や窒素原子を介して2個以上
のアルミニウムが結合した有機アルミニウム化合物も使
用可能である。そのような化合物としては、例えば
のアルミニウムが結合した有機アルミニウム化合物も使
用可能である。そのような化合物としては、例えば
【化3】 等を例示できる。
【0041】アルミニウム金属以外の金属の有機化合物
としては、ジエチルマグネシウム、エチルマグネシウム
クロリド、ジエチル亜鉛等の他LiAl(C
2 H5 )4 ,LiAl(C7 H15)4 等の化合物が挙げ
られる。
としては、ジエチルマグネシウム、エチルマグネシウム
クロリド、ジエチル亜鉛等の他LiAl(C
2 H5 )4 ,LiAl(C7 H15)4 等の化合物が挙げ
られる。
【0042】有機珪素化合物 本発明の触媒の一成分である有機珪素化合物(以下、成
分Cという。)は、前記一般式で表わされる。該式にお
いて、R1 〜R5 の炭化水素基及びOR6 , OR7 にお
けるR6 , R7 の炭化水素基としては、アルキル基、ア
ルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルアル
キル基等が挙げられる。
分Cという。)は、前記一般式で表わされる。該式にお
いて、R1 〜R5 の炭化水素基及びOR6 , OR7 にお
けるR6 , R7 の炭化水素基としては、アルキル基、ア
ルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルアル
キル基等が挙げられる。
【0043】アルキル基としては、メチル、エチル、プ
ロピル、i−プロピル、ブチル、i−ブチル、s−ブチ
ル、t−ブチル、アミル、i−アミル、t−アミル、ヘ
キシル、オクチル、2−エチルヘキシル、デシル基等
が、アルケニル基としては、ビニル、アリル、プロペニ
ル、1−ブテニル、1−ペンテニル、1−ヘキセニル、
1−オクテニル、1−デケニル、1−メチル−1−ペン
チニル、1−メチル−1−ヘプテニル等が、シクロアル
キル基としては、シクロペンチル、シクロヘキシル、メ
チルシクロヘキシル基等が、アリール基としては、フェ
ニル、トリル、キシリル基等が、アルアルキル基として
は、ベンジル、フェネチル、3−フェニルプロピル基等
が挙げられる。これらの中でも、アルキル基、アルケニ
ル基等の脂肪族炭化水素基が望ましく、アルキル基が特
に望ましい。更にR4 の炭化水素基にあっては、メチ
ル、エチル基が最も望ましい。
ロピル、i−プロピル、ブチル、i−ブチル、s−ブチ
ル、t−ブチル、アミル、i−アミル、t−アミル、ヘ
キシル、オクチル、2−エチルヘキシル、デシル基等
が、アルケニル基としては、ビニル、アリル、プロペニ
ル、1−ブテニル、1−ペンテニル、1−ヘキセニル、
1−オクテニル、1−デケニル、1−メチル−1−ペン
チニル、1−メチル−1−ヘプテニル等が、シクロアル
キル基としては、シクロペンチル、シクロヘキシル、メ
チルシクロヘキシル基等が、アリール基としては、フェ
ニル、トリル、キシリル基等が、アルアルキル基として
は、ベンジル、フェネチル、3−フェニルプロピル基等
が挙げられる。これらの中でも、アルキル基、アルケニ
ル基等の脂肪族炭化水素基が望ましく、アルキル基が特
に望ましい。更にR4 の炭化水素基にあっては、メチ
ル、エチル基が最も望ましい。
【0044】更に、前記一般式において、OR4 及びR
2 がR6 O、R3 がR7 Oで表わされるアルコキシ基の
数が、全部で4個以下の場合が望ましく、その数が4個
の時は、それらアルコキシ基の内の少なくとも一つはメ
トキシ基である場合が特に望ましい。又、アルコキシ基
の数が多くとも3個の場合が特に望ましい。
2 がR6 O、R3 がR7 Oで表わされるアルコキシ基の
数が、全部で4個以下の場合が望ましく、その数が4個
の時は、それらアルコキシ基の内の少なくとも一つはメ
トキシ基である場合が特に望ましい。又、アルコキシ基
の数が多くとも3個の場合が特に望ましい。
【0045】成分Cは、通常一般式R1 R2 R3 SiO
Hで表わされる化合物と一般式 (R 4 O)x+1 SiR5
3-x で表わされる化合物をアミン化合物の存在下に反応
させることによって合成することができる。
Hで表わされる化合物と一般式 (R 4 O)x+1 SiR5
3-x で表わされる化合物をアミン化合物の存在下に反応
させることによって合成することができる。
【0046】以下、成分Cの具体例を列挙する。なお、
以下において、Me=メチル、Et=エチル、Pr=プ
ロピル、Bu=ブチル、Amy=アミル、Hex=ヘキ
シルをそれぞれ示す。
以下において、Me=メチル、Et=エチル、Pr=プ
ロピル、Bu=ブチル、Amy=アミル、Hex=ヘキ
シルをそれぞれ示す。
【0047】○ R1 R2 R3 SiOSi(OR4 )3
で表わされ、R2 , R3 が炭化水素基の場合(R1 /R
2 /R3 //OR4 と示す。但し、R1 ,R2 又はR3 が
同一の時は、R1 3 ,R1 2 /R3 等と表示する。) Me3 //OMe,Me3 //OEt,Et3 //OMe,E
t3 //OEt,Me2/n−Pr//OMe,Me2 /n
−Pr//OEt,Me2 /t−Bu//OMe,Me2 /
t−Bu//OEt,Et2 /Me//OMe,Et2 /M
e//OEt。
で表わされ、R2 , R3 が炭化水素基の場合(R1 /R
2 /R3 //OR4 と示す。但し、R1 ,R2 又はR3 が
同一の時は、R1 3 ,R1 2 /R3 等と表示する。) Me3 //OMe,Me3 //OEt,Et3 //OMe,E
t3 //OEt,Me2/n−Pr//OMe,Me2 /n
−Pr//OEt,Me2 /t−Bu//OMe,Me2 /
t−Bu//OEt,Et2 /Me//OMe,Et2 /M
e//OEt。
【0048】○ R1 R2 R3 SiOSi(OR4 )2
R5 で表わされ、R2 , R3 が炭化水素基の場合(R1
/R2 /R3 //OR4 /R5 と示す。但し、R1 ,R2
又はR 3 が同一の時は、R1 3 ,R1 2 /R3 等と表示
する。) Me3 //OMe/Me,Me3 //OEt/Me,Me3
//OMe/Et,Me 3 //OEt/Et,Me3 //OM
e/i−Pr,Me3 //OEt/i−Pr,Me3 //O
Me/t−Bu,Me3 //OEt/t−Bu,Me3 //
OMe/n−Bu,Me3 //OEt/n−Bu,Me3
//OMe/s−Bu,Me3 //OEt/s−Bu,Et
3 //OMe/Me,Et3 //OEt/Me,Et3 //O
Me/i−Pr,Et3 //OEt/i−Pr,Me2 /
n−Pr//OMe/Me,Me2/n−Pr//OEt/
Me,Me2 /t−Bu//OMe/Et,Me2 /t−
Bu//OEt/Et,Me2 /n−Bu//OMe/M
e,Me2 /n−Bu//OEt/Me,Me2 /n−H
ex//OMe/Me,Me2 /n−Hex//OEt/M
e,Me2 /s−Amy//OMe/Me,Me2 /s−
Amy//OEt/Me。
R5 で表わされ、R2 , R3 が炭化水素基の場合(R1
/R2 /R3 //OR4 /R5 と示す。但し、R1 ,R2
又はR 3 が同一の時は、R1 3 ,R1 2 /R3 等と表示
する。) Me3 //OMe/Me,Me3 //OEt/Me,Me3
//OMe/Et,Me 3 //OEt/Et,Me3 //OM
e/i−Pr,Me3 //OEt/i−Pr,Me3 //O
Me/t−Bu,Me3 //OEt/t−Bu,Me3 //
OMe/n−Bu,Me3 //OEt/n−Bu,Me3
//OMe/s−Bu,Me3 //OEt/s−Bu,Et
3 //OMe/Me,Et3 //OEt/Me,Et3 //O
Me/i−Pr,Et3 //OEt/i−Pr,Me2 /
n−Pr//OMe/Me,Me2/n−Pr//OEt/
Me,Me2 /t−Bu//OMe/Et,Me2 /t−
Bu//OEt/Et,Me2 /n−Bu//OMe/M
e,Me2 /n−Bu//OEt/Me,Me2 /n−H
ex//OMe/Me,Me2 /n−Hex//OEt/M
e,Me2 /s−Amy//OMe/Me,Me2 /s−
Amy//OEt/Me。
【0049】○ R1 R2 R3 SiOSi(OR4 )3
で表わされ、R2 が炭化水素基、R3がR6 Oの場合
(R1 /R2 /R6 O//OR4 と示す。但し、R1 ,R
2 が同一の時は、R1 2 と表示する。) Me2 /MeO//OMe,Me2 /MeO//OEt,M
e2 /EtO//OMe,Me2 /EtO//OEt,Me
2 /i−PrO//OMe,Me2 /i−PrO//OE
t,Me2 /t−BuO//OMe,Me2 /t−BuO
//OEt,Me2/n−Hex//OMe,Me2 /n−
HexO//OEt,Et2 /MeO//OMe,Et2 /
MeO//OEt,Me/t−Bu/MeO//OMe,M
e/t−Bu/MeO//OEt,(i−Pr)2 /Me
O//OMe,(i−Pr)2 /MeO//OEt,Me/
s−Amy/MeO//OMe,Me/s−Amy/Me
O//OEt。
で表わされ、R2 が炭化水素基、R3がR6 Oの場合
(R1 /R2 /R6 O//OR4 と示す。但し、R1 ,R
2 が同一の時は、R1 2 と表示する。) Me2 /MeO//OMe,Me2 /MeO//OEt,M
e2 /EtO//OMe,Me2 /EtO//OEt,Me
2 /i−PrO//OMe,Me2 /i−PrO//OE
t,Me2 /t−BuO//OMe,Me2 /t−BuO
//OEt,Me2/n−Hex//OMe,Me2 /n−
HexO//OEt,Et2 /MeO//OMe,Et2 /
MeO//OEt,Me/t−Bu/MeO//OMe,M
e/t−Bu/MeO//OEt,(i−Pr)2 /Me
O//OMe,(i−Pr)2 /MeO//OEt,Me/
s−Amy/MeO//OMe,Me/s−Amy/Me
O//OEt。
【0050】○ R1 R2 R3 SiOSi(OR4 )2
R5 で表わされ、R2 が炭化水素基、R3 がR6 Oの場
合(R1 /R2 /R6 O//OR4 /R5 と示す。但し、
R1 とR2 が同一の時は、R1 2 と表示する。) Me2 /MeO//OMe/Me,Me2 /MeO//OE
t/Me,Me2 /EtO//OMe/Me,Me2 /E
tO//OEt/Me,Me2 /i−PrO//OMe/M
e,Me2 /i−PrO//OEt/Me,Me2 /s−
BuO//OMe/Me,Me2 /s−BuO//OEt/
Me,Me2 /t−AmyO//OMe/Me,Me2 /
t−AmyO//OEt/Me,Me2 /n−HexO//
OMe/Me,Me2 /n−HexO//OEt/Me,
Et2 /MeO//OMe/Me,Et2 /MeO//OE
t/Me,Me/n−Pr/MeO//OMe/Et,M
e/n−Pr/MeO//OEt/Et,Me/t−Bu
/MeO//OMe/Me,Me/t−Bu/MeO//O
Et/Me,Me2 /MeO//OMe/Et,Me 2 /
MeO//OEt/Et,Me2 /MeO//OMe/i−
Pr,Me2 /MeO//OEt/i−Pr,Me2 /M
eO//OMe/t−Bu,Me2 /MeO//OEt/t
−Bu。
R5 で表わされ、R2 が炭化水素基、R3 がR6 Oの場
合(R1 /R2 /R6 O//OR4 /R5 と示す。但し、
R1 とR2 が同一の時は、R1 2 と表示する。) Me2 /MeO//OMe/Me,Me2 /MeO//OE
t/Me,Me2 /EtO//OMe/Me,Me2 /E
tO//OEt/Me,Me2 /i−PrO//OMe/M
e,Me2 /i−PrO//OEt/Me,Me2 /s−
BuO//OMe/Me,Me2 /s−BuO//OEt/
Me,Me2 /t−AmyO//OMe/Me,Me2 /
t−AmyO//OEt/Me,Me2 /n−HexO//
OMe/Me,Me2 /n−HexO//OEt/Me,
Et2 /MeO//OMe/Me,Et2 /MeO//OE
t/Me,Me/n−Pr/MeO//OMe/Et,M
e/n−Pr/MeO//OEt/Et,Me/t−Bu
/MeO//OMe/Me,Me/t−Bu/MeO//O
Et/Me,Me2 /MeO//OMe/Et,Me 2 /
MeO//OEt/Et,Me2 /MeO//OMe/i−
Pr,Me2 /MeO//OEt/i−Pr,Me2 /M
eO//OMe/t−Bu,Me2 /MeO//OEt/t
−Bu。
【0051】○ R1 R2 R3 SiOSi(OR4 )3
で表わされ、R2 がR6 O、R3 がR 7 Oの場合(R1
/R6 O/R7 O//OR4 と示す。但し、R6 ,R7 が
同一の時は、(R6 O)2 と表示する。) Me/(MeO)2 //OMe,Me/(MeO)2 //O
Et,Et/(MeO)2 //OMe,Et/(MeO)
2 //OEt,Me/(EtO)2 //OMe,Me/(E
tO)2 //OEt,Me/(n−PrO)2 //OMe,
Me/(n−PrO)//OEt,Me/(MeO)/
(t−BuO)//OMe,Me/(MeO)/(t−B
uO)//OEt。
で表わされ、R2 がR6 O、R3 がR 7 Oの場合(R1
/R6 O/R7 O//OR4 と示す。但し、R6 ,R7 が
同一の時は、(R6 O)2 と表示する。) Me/(MeO)2 //OMe,Me/(MeO)2 //O
Et,Et/(MeO)2 //OMe,Et/(MeO)
2 //OEt,Me/(EtO)2 //OMe,Me/(E
tO)2 //OEt,Me/(n−PrO)2 //OMe,
Me/(n−PrO)//OEt,Me/(MeO)/
(t−BuO)//OMe,Me/(MeO)/(t−B
uO)//OEt。
【0052】○ R1 R2 R3 SiOSi(OR4 )2
R5 で表わされ、R2 がR6 O、R3がR7 Oの場合
(R1 /R6 O/R7 O//OR4 /R5 と示す。但し、
R6 とR 7 が同一の時は、(R6 O)2 と表示する。) Me/(MeO)2 //OMe/Me,Me/(MeO)
2 //OEt/Me,Et/(MeO)2 //OMe/M
e,Et/(EtO)2 //OEt/Me,i−Pr/
(MeO)2 //OMe/Me,i−Pr/(MeO)2
//OEt/Me,n−Bu/(MeO)2 //OMe/M
e,n−Bu/(MeO)2 //OEt/Me,Me/
(n−PrO)2 //OMe/Me,Me/(n−Pr
O)2 //OEt/Me,Me/(s−BuO)2 //OM
e/Me,Me/(s−BuO)2 //OEt/Me,M
e/MeO/n−HexO//OMe/Me,Me/Me
O/n−HexO//OEt/Me,Et/(MeO)2
//OMe/Et,Et/(MeO) 2 //OEt/Et,
ビニル/(MeO)2 //OMe/ビニル, ビニル/(E
tO)2 //OEt/ビニル。
R5 で表わされ、R2 がR6 O、R3がR7 Oの場合
(R1 /R6 O/R7 O//OR4 /R5 と示す。但し、
R6 とR 7 が同一の時は、(R6 O)2 と表示する。) Me/(MeO)2 //OMe/Me,Me/(MeO)
2 //OEt/Me,Et/(MeO)2 //OMe/M
e,Et/(EtO)2 //OEt/Me,i−Pr/
(MeO)2 //OMe/Me,i−Pr/(MeO)2
//OEt/Me,n−Bu/(MeO)2 //OMe/M
e,n−Bu/(MeO)2 //OEt/Me,Me/
(n−PrO)2 //OMe/Me,Me/(n−Pr
O)2 //OEt/Me,Me/(s−BuO)2 //OM
e/Me,Me/(s−BuO)2 //OEt/Me,M
e/MeO/n−HexO//OMe/Me,Me/Me
O/n−HexO//OEt/Me,Et/(MeO)2
//OMe/Et,Et/(MeO) 2 //OEt/Et,
ビニル/(MeO)2 //OMe/ビニル, ビニル/(E
tO)2 //OEt/ビニル。
【0053】本発明の触媒は、成分A,成分B及び成分
Cからなるが、それらの構成割合は、成分Bが成分A中
のチタン1グラム原子当り1〜2,000グラムモル、
望ましくは20〜500グラムモル、成分Cが成分B1
モルに対して0.001〜10モル、望ましくは0.0
1〜1.0モルとなるように用いられる。
Cからなるが、それらの構成割合は、成分Bが成分A中
のチタン1グラム原子当り1〜2,000グラムモル、
望ましくは20〜500グラムモル、成分Cが成分B1
モルに対して0.001〜10モル、望ましくは0.0
1〜1.0モルとなるように用いられる。
【0054】プロピレン−エチレンブロック共重合体の
製造法 プロピレン−エチレンブロック共重合体の製造法は、プ
ロピレンとエチレンを共重合してエチレン含有量が0.
01〜10重量%のプロピレンとエチレンの共重合体を
製造する工程(工程a)、プロピレンとエチレンを共重
合してエチレン含有量が30〜95重量%のプロピレン
とエチレンの共重合体を製造する工程(工程b)及びエ
チレンの単独重合体を製造する工程(工程c)とからな
る。
製造法 プロピレン−エチレンブロック共重合体の製造法は、プ
ロピレンとエチレンを共重合してエチレン含有量が0.
01〜10重量%のプロピレンとエチレンの共重合体を
製造する工程(工程a)、プロピレンとエチレンを共重
合してエチレン含有量が30〜95重量%のプロピレン
とエチレンの共重合体を製造する工程(工程b)及びエ
チレンの単独重合体を製造する工程(工程c)とからな
る。
【0055】(1)工程a 工程aは、前記重合触媒の存在下、プロピレンとエチレ
ンを共重合することからなる。共重合反応は、気相、液
相のいずれでもよく、液相で重合させる場合は、ノルマ
ルブタン、イソブタン、ノルマルペンタン、イソペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の不活性炭化水素中及
び液状モノマー中で行うことができる。重合温度は、通
常−80℃〜+150℃、好ましくは40〜120℃の
範囲である。重合圧力は、例えば1〜60気圧でよい。
又得られる重合体の分子量の調節は、水素若しくは他の
公知の分子量調節剤を存在せしめることにより行われ
る。共重合は、そこで得られる共重合体中のエチレン含
有量が0.01〜10重量%、望ましくは0.1〜5重
量%となるように、プロピレンとエチレンを接触して反
応することによりなされる。工程aでは、そこで得られ
る共重合体が該ブロック共重合体の40〜98重量%、
特に70〜90重量%となるようにするのが望ましい。
更に、この工程では得られる共重合体のメルトフローレ
ート(MFR)を0.01〜200g/10分、特に
0.1〜100g/10分とするのが望ましい。
ンを共重合することからなる。共重合反応は、気相、液
相のいずれでもよく、液相で重合させる場合は、ノルマ
ルブタン、イソブタン、ノルマルペンタン、イソペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の不活性炭化水素中及
び液状モノマー中で行うことができる。重合温度は、通
常−80℃〜+150℃、好ましくは40〜120℃の
範囲である。重合圧力は、例えば1〜60気圧でよい。
又得られる重合体の分子量の調節は、水素若しくは他の
公知の分子量調節剤を存在せしめることにより行われ
る。共重合は、そこで得られる共重合体中のエチレン含
有量が0.01〜10重量%、望ましくは0.1〜5重
量%となるように、プロピレンとエチレンを接触して反
応することによりなされる。工程aでは、そこで得られ
る共重合体が該ブロック共重合体の40〜98重量%、
特に70〜90重量%となるようにするのが望ましい。
更に、この工程では得られる共重合体のメルトフローレ
ート(MFR)を0.01〜200g/10分、特に
0.1〜100g/10分とするのが望ましい。
【0056】(2)工程b プロピレンとエチレンの共重合は、前記の重合触媒の存
在下で行なわれる。共重合は、そこで得られる共重合体
中のエチレン含有量が30〜95重量%、望ましくは4
0〜80重量%となるように、プロピレンとエチレンを
接触して反応することによりなされる。共重合反応は、
工程aで行なわれる重合条件の範囲の中から適宜選択す
ることができ、又水素等の分子量調節剤の使用も工程a
の場合と同じである。工程bで得られる共重合体の量
は、該ブロック共重合体の50〜1重量%、特に30〜
5重量%とするのが望ましい。更に、工程bでは、得ら
れる共重合体のMFRを0.001〜150g/10
分、特に0.01〜100g/10分とするのが望まし
い。
在下で行なわれる。共重合は、そこで得られる共重合体
中のエチレン含有量が30〜95重量%、望ましくは4
0〜80重量%となるように、プロピレンとエチレンを
接触して反応することによりなされる。共重合反応は、
工程aで行なわれる重合条件の範囲の中から適宜選択す
ることができ、又水素等の分子量調節剤の使用も工程a
の場合と同じである。工程bで得られる共重合体の量
は、該ブロック共重合体の50〜1重量%、特に30〜
5重量%とするのが望ましい。更に、工程bでは、得ら
れる共重合体のMFRを0.001〜150g/10
分、特に0.01〜100g/10分とするのが望まし
い。
【0057】(3)工程c エチレンの単独重合体の製造は、前記の重合触媒の存在
下、エチレンを重合することにより行なわれる。エチレ
ンの重合反応は、工程a或いは工程bで行なわれる重合
条件の範囲の中から選ばれる。又、水素等の分子量調節
剤の使用も工程a及び工程bの場合と同じである。工程
cで得られるエチレン単独重合体は、該ブロック共重合
体の50〜1重量%、特に30〜5重量%とするのが望
ましく、又、該単独重合体のMFRを10 -8〜150g
/10分、特に10-6〜100g/10分とするのが望
ましい。
下、エチレンを重合することにより行なわれる。エチレ
ンの重合反応は、工程a或いは工程bで行なわれる重合
条件の範囲の中から選ばれる。又、水素等の分子量調節
剤の使用も工程a及び工程bの場合と同じである。工程
cで得られるエチレン単独重合体は、該ブロック共重合
体の50〜1重量%、特に30〜5重量%とするのが望
ましく、又、該単独重合体のMFRを10 -8〜150g
/10分、特に10-6〜100g/10分とするのが望
ましい。
【0058】本発明の方法は、工程a、工程b及び工程
cからなるが、それら3工程を任意の順序に行う直列方
式の他、それら3工程を並列に行い、それぞれで得られ
るポリマーを合体する方法が採用することができるが、
これらの中でも、特に工程a、工程b及び工程cをその
順序に行う方法が、装置上有利であり望ましい。このよ
うにして得られたブロック共重合体は、0.001〜1
50g/10分のMFRを有するが、望ましくは0.0
1〜100g/10分である。
cからなるが、それら3工程を任意の順序に行う直列方
式の他、それら3工程を並列に行い、それぞれで得られ
るポリマーを合体する方法が採用することができるが、
これらの中でも、特に工程a、工程b及び工程cをその
順序に行う方法が、装置上有利であり望ましい。このよ
うにして得られたブロック共重合体は、0.001〜1
50g/10分のMFRを有するが、望ましくは0.0
1〜100g/10分である。
【0059】
【実施例】本発明を実施例及び比較例により具体的に説
明する。なお、例におけるパーセント(%)は特に断ら
ない限り重量による。ポリマーの物性測定は、該ポリマ
ー粉末に、BHT(2,6−ジターシャリーブチル−4
−メチルフェノール)を0.18重量%、DSTDP
(ジステアリルチオジプロピオネート)を0.08重量
%、IRGANOX1010〔テトラキス−{メチレン
−(3,5−ジターシャリーブチル−4−ヒドロキシヒ
ドロ−シンナメート)メタン}〕を0.04重量%、カ
ルシウムステアレートを0.06重量%それぞれ添加
し、溶融混練によりペレットとした後、射出成形形によ
り試験片を作成して行った。曲げ弾性率:JIS K
7203−1982に準拠。又、ポリマーのMFRはA
STM D−1238に従って測定した。更に、ポリマ
ーのグロスは、厚さ2.0mmのシートを用い、JIS
K 7105−1981に従い、入射角及び受光角を
各々60°として測定した。
明する。なお、例におけるパーセント(%)は特に断ら
ない限り重量による。ポリマーの物性測定は、該ポリマ
ー粉末に、BHT(2,6−ジターシャリーブチル−4
−メチルフェノール)を0.18重量%、DSTDP
(ジステアリルチオジプロピオネート)を0.08重量
%、IRGANOX1010〔テトラキス−{メチレン
−(3,5−ジターシャリーブチル−4−ヒドロキシヒ
ドロ−シンナメート)メタン}〕を0.04重量%、カ
ルシウムステアレートを0.06重量%それぞれ添加
し、溶融混練によりペレットとした後、射出成形形によ
り試験片を作成して行った。曲げ弾性率:JIS K
7203−1982に準拠。又、ポリマーのMFRはA
STM D−1238に従って測定した。更に、ポリマ
ーのグロスは、厚さ2.0mmのシートを用い、JIS
K 7105−1981に従い、入射角及び受光角を
各々60°として測定した。
【0060】実施例1 成分Aの調製 滴下ロート及び攪拌機を取付けた200mlのフラスコを
窒素ガスで置換した。このフラスコに、酸化ケイ素(D
AVISON社製、商品名G−952)を窒素気流中に
おいて200℃で2時間、更に700℃で5時間焼成し
たものを5g及びn−ヘプタンを40ml入れた。更にn
−ブチルエチルマグネシウム(以下、BEMという。)
の20%n−ヘプタン溶液(テキサスアルキルズ社製、
商品名MAGALA BEM)20mlを加え、90℃で
1時間攪拌した。上記懸濁液を0℃に冷却した後、これ
にテトラエトキシシラン11.2gを20mlのn−ヘプ
タンに溶解した溶液を滴下ロートから30分掛けて滴下
した。滴下終了後、2時間掛けて50℃に昇温し、50
℃で1時間攪拌を続けた。反応終了後、デカンテーショ
ンにより上澄液を除去し、生成した固体を60mlのn−
ヘプタンにより室温で洗浄し、更にデカンテーションに
より上澄液を除去した。このn−ヘプタンによる洗浄処
理を更に4回行った。上記の固体に、50mlのn−ヘプ
タンを加えて懸濁液とし、これに2,2,2−トリクロ
ルエタノール8.0gを10mlのn−ヘプタンに溶解し
た溶液を、滴下ロートから25℃において15分間掛け
て滴下した。滴下終了後25℃で30分間攪拌を続け
た。反応終了後、室温において、60mlのn−ヘプタン
にて2回、60mlのトルエンにて3回それぞれ洗浄を行
った。得られた固体(固体成分I)を分析したところ、
SiO2 36.6%、マグネシウム5.1%、塩素3
8.5%を含んでいた。上記で得られた固体成分Iに、
n−ヘプタン10ml及び四塩化チタン40mlを加え、9
0℃迄昇温し、n−ヘプタン5mlに溶解したフタル酸ジ
n−ブチル0.6gを5分間掛けて添加した。その後、
115℃に昇温し、2時間反応させた。90℃に降温し
た後、デカンテーションにより上澄液を除き、n−ヘプ
タン70mlで2回洗浄を行った。更に、n−ヘプタン1
5mlと四塩化チタン40mlを加え、115℃で2時間反
応させた。反応終了後、得られた固体物質を60mlのn
−ヘキサンにて室温で8回洗浄を行った。次いで、減圧
下室温にて1時間乾燥を行い、8.3gの触媒成分(成
分A)を得た。この成分Aには、3.1%のチタンの他
酸化ケイ素、塩素及びフタル酸ジn−ブチルが含まれて
いた。
窒素ガスで置換した。このフラスコに、酸化ケイ素(D
AVISON社製、商品名G−952)を窒素気流中に
おいて200℃で2時間、更に700℃で5時間焼成し
たものを5g及びn−ヘプタンを40ml入れた。更にn
−ブチルエチルマグネシウム(以下、BEMという。)
の20%n−ヘプタン溶液(テキサスアルキルズ社製、
商品名MAGALA BEM)20mlを加え、90℃で
1時間攪拌した。上記懸濁液を0℃に冷却した後、これ
にテトラエトキシシラン11.2gを20mlのn−ヘプ
タンに溶解した溶液を滴下ロートから30分掛けて滴下
した。滴下終了後、2時間掛けて50℃に昇温し、50
℃で1時間攪拌を続けた。反応終了後、デカンテーショ
ンにより上澄液を除去し、生成した固体を60mlのn−
ヘプタンにより室温で洗浄し、更にデカンテーションに
より上澄液を除去した。このn−ヘプタンによる洗浄処
理を更に4回行った。上記の固体に、50mlのn−ヘプ
タンを加えて懸濁液とし、これに2,2,2−トリクロ
ルエタノール8.0gを10mlのn−ヘプタンに溶解し
た溶液を、滴下ロートから25℃において15分間掛け
て滴下した。滴下終了後25℃で30分間攪拌を続け
た。反応終了後、室温において、60mlのn−ヘプタン
にて2回、60mlのトルエンにて3回それぞれ洗浄を行
った。得られた固体(固体成分I)を分析したところ、
SiO2 36.6%、マグネシウム5.1%、塩素3
8.5%を含んでいた。上記で得られた固体成分Iに、
n−ヘプタン10ml及び四塩化チタン40mlを加え、9
0℃迄昇温し、n−ヘプタン5mlに溶解したフタル酸ジ
n−ブチル0.6gを5分間掛けて添加した。その後、
115℃に昇温し、2時間反応させた。90℃に降温し
た後、デカンテーションにより上澄液を除き、n−ヘプ
タン70mlで2回洗浄を行った。更に、n−ヘプタン1
5mlと四塩化チタン40mlを加え、115℃で2時間反
応させた。反応終了後、得られた固体物質を60mlのn
−ヘキサンにて室温で8回洗浄を行った。次いで、減圧
下室温にて1時間乾燥を行い、8.3gの触媒成分(成
分A)を得た。この成分Aには、3.1%のチタンの他
酸化ケイ素、塩素及びフタル酸ジn−ブチルが含まれて
いた。
【0061】プロピレンとエチレンの共重合 窒素置換をして充分に乾燥させた5リットルのオートク
レーブに上記で得られた成分A38.5mg、n−ヘプタ
ン1リットル中に0.6モルのトリエチルアルミニウム
を含む溶液4ml及びn−ヘプタン1リットル中に0.0
8モルの1,1,1−トリメトキシ−3,3,3−トリ
メチルジシロキサンを含む溶液3mlを混合し、5分間保
持した物をいれた。次いで水素を7.2リットル及び液
体プロピレン3リットルを圧入した後、オートクレーブ
内部温度を70℃に昇温し、エチレンを一定量連続的に
供給し、第1段重合(工程a)を行った。1時間後、未
反応のプロピレン、エチレン並びに水素をパージして、
器内圧力を0.2kg/cm2 −Gとした。第1段目の
ポリマーを少量採取した後、系内に水素を導入した。引
き続いて、第2段重合(工程b)として、プロピレンと
エチレンのモル比が2:3の混合ガスを供給して器内圧
力を6kg/cm2 −Gに保ち、75℃で40分、プロ
ピレンとエチレンの共重合を行った。重合終了後、未反
応ガス中には0.8モル%の水素が含まれていた。未反
応ガスを除去した後、ポリマーを少量採取した。さら
に、水素とエチレンガスを導入し、75℃で1時間30
分、第3段重合(工程c)を行った。分析の結果、1段
目の重合終了後、サンプリングしたポリマーのMFRは
30.8g/10分であり、エチレン含有率は0.5重
量%であった。2段目の重合終了後、サンプリングした
ポリマーのMFRは18.2g/10分であり、2段目
の共重合によって得られたポリマーの生成量は10%、
エチレンの含有量は46%であった。最終ポリマーのM
FRは7.7g/10分であり、3段目の重合によって
得られたポリマーの生成量は15%であった。最終ポリ
マーの曲げ弾性率は9.62kg/cm2 であった。ま
た、グロスは79.2%であった。
レーブに上記で得られた成分A38.5mg、n−ヘプタ
ン1リットル中に0.6モルのトリエチルアルミニウム
を含む溶液4ml及びn−ヘプタン1リットル中に0.0
8モルの1,1,1−トリメトキシ−3,3,3−トリ
メチルジシロキサンを含む溶液3mlを混合し、5分間保
持した物をいれた。次いで水素を7.2リットル及び液
体プロピレン3リットルを圧入した後、オートクレーブ
内部温度を70℃に昇温し、エチレンを一定量連続的に
供給し、第1段重合(工程a)を行った。1時間後、未
反応のプロピレン、エチレン並びに水素をパージして、
器内圧力を0.2kg/cm2 −Gとした。第1段目の
ポリマーを少量採取した後、系内に水素を導入した。引
き続いて、第2段重合(工程b)として、プロピレンと
エチレンのモル比が2:3の混合ガスを供給して器内圧
力を6kg/cm2 −Gに保ち、75℃で40分、プロ
ピレンとエチレンの共重合を行った。重合終了後、未反
応ガス中には0.8モル%の水素が含まれていた。未反
応ガスを除去した後、ポリマーを少量採取した。さら
に、水素とエチレンガスを導入し、75℃で1時間30
分、第3段重合(工程c)を行った。分析の結果、1段
目の重合終了後、サンプリングしたポリマーのMFRは
30.8g/10分であり、エチレン含有率は0.5重
量%であった。2段目の重合終了後、サンプリングした
ポリマーのMFRは18.2g/10分であり、2段目
の共重合によって得られたポリマーの生成量は10%、
エチレンの含有量は46%であった。最終ポリマーのM
FRは7.7g/10分であり、3段目の重合によって
得られたポリマーの生成量は15%であった。最終ポリ
マーの曲げ弾性率は9.62kg/cm2 であった。ま
た、グロスは79.2%であった。
【0062】実施例2〜5、比較例1,2 重合触媒の成分Cとして用いた1,1,1−トリメトキ
シ−3,3,3−トリメチルジシロキサンのかわりに、
表1及び表2に示す有機珪素化合物を用い、さらに表1
及び表2に示すMFRになるように水素量を調節した以
外は実施例1と同様にして、プロピレンとエチレンの共
重合を行った。得られた最終ポリマーの物性も表1及び
表2に示した。
シ−3,3,3−トリメチルジシロキサンのかわりに、
表1及び表2に示す有機珪素化合物を用い、さらに表1
及び表2に示すMFRになるように水素量を調節した以
外は実施例1と同様にして、プロピレンとエチレンの共
重合を行った。得られた最終ポリマーの物性も表1及び
表2に示した。
【0063】
【表1】
【表2】
【0064】
【発明の効果】本発明の方法によって、剛性と光沢性の
バランスに優れたプロピレン−エチレンブロック共重合
体を得ることができる。
バランスに優れたプロピレン−エチレンブロック共重合
体を得ることができる。
【図1】図1は、本発明の実施例及び比較例で得られた
ブロック共重合体の曲げ弾性率と光沢性との関係を示す
図面である。
ブロック共重合体の曲げ弾性率と光沢性との関係を示す
図面である。
【図2】図2は、本発明の方法を示すフローチャート図
である。
である。
フロントページの続き (72)発明者 今西 邦彦 埼玉県入間郡大井町西鶴ケ岡一丁目3番1 号 東燃株式会社総合研究所内 (72)発明者 植木 聰 埼玉県入間郡大井町西鶴ケ岡一丁目3番1 号 東燃株式会社総合研究所内 (72)発明者 斉藤 博夫 埼玉県入間郡大井町西鶴ケ岡一丁目3番1 号 東燃株式会社総合研究所内
Claims (1)
- 【請求項1】(A)金属酸化物、マグネシウム、チタ
ン、ハロゲン及び電子供与性化合物を必須成分とする固
体触媒成分、(B)有機金属化合物及び(C)一般式 【化1】 〔但し、R1 , R4 およびR5 は同一か異なる炭素数1
〜10個の炭化水素基、R2 は炭素数1〜10個の炭化
水素基若しくはR6 O、R3 は炭素数1〜10個の炭化
水素基若しくはR7 Oであり、xは2若しくは3、R6
及びR7 は同一か異なる炭素数1〜10個の炭化水素基
である。〕で表わされる有機珪素化合物とからなる重合
触媒の存在下、(1)プロピレンとエチレンを共重合し
てエチレン含有量が0.01〜10重量%のプロピレン
とエチレンの共重合体を製造する工程(a)、(2)プ
ロピレンとエチレンを共重合してエチレン含有量が30
〜95重量%のプロピレンとエチレンの共重合体を製造
する工程(b)及び(3)エチレンの単独重合体を製造
する工程(c)からなるプロピレン−エチレンブロック
共重合体の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23137891A JPH06136028A (ja) | 1991-09-11 | 1991-09-11 | プロピレン−エチレンブロック共重合体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23137891A JPH06136028A (ja) | 1991-09-11 | 1991-09-11 | プロピレン−エチレンブロック共重合体の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06136028A true JPH06136028A (ja) | 1994-05-17 |
Family
ID=16922684
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23137891A Pending JPH06136028A (ja) | 1991-09-11 | 1991-09-11 | プロピレン−エチレンブロック共重合体の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06136028A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE1017695A3 (fr) * | 2005-09-30 | 2009-04-07 | Samsung Total Petrochemicals | Procede de production de polymere de propylene en utilisant un compose d'alcoxysilane contenant un groupement trialkylsilyle dans la structure moleculaire. |
-
1991
- 1991-09-11 JP JP23137891A patent/JPH06136028A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE1017695A3 (fr) * | 2005-09-30 | 2009-04-07 | Samsung Total Petrochemicals | Procede de production de polymere de propylene en utilisant un compose d'alcoxysilane contenant un groupement trialkylsilyle dans la structure moleculaire. |
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