JPH06133997A - 角膜手術装置 - Google Patents
角膜手術装置Info
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- JPH06133997A JPH06133997A JP4308216A JP30821692A JPH06133997A JP H06133997 A JPH06133997 A JP H06133997A JP 4308216 A JP4308216 A JP 4308216A JP 30821692 A JP30821692 A JP 30821692A JP H06133997 A JPH06133997 A JP H06133997A
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- yag laser
- harmonic
- laser
- yag
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 ＱスイッチパルスＹＡＧレーザ発振器４より
発振されるＹＡＧレーザ基本波をもとに、ＹＡＧレーザ
第５高調波を発生させるのに、ＹＡＧレーザ第２高調波
発生器５と、ＹＡＧレーザ第４高調波発生器６と、ＹＡ
Ｇレーザ第５高調波発生器７とを用い、ＹＡＧレーザ第
５高調波と他の波長成分のレーザ光とをペリンブロカプ
リズム８によって各波長成分ごとに分離する。分離され
たレーザ光のうち、ＹＡＧレーザ第５高調波を治療すべ
き角膜１２に照射すると、該角膜１２の表層部を形成す
る組織が徐々に蒸散して角膜１２の形状が矯正される。 【効果】 ＹＡＧレーザ第５高調波のもとになるＹＡＧ
レーザ基本波をＱスイッチパルスＹＡＧレーザ発振器４
により発振させるので、装置のメンテナンス作業を頻繁
に行わなくてもよく、装置の小型化を図ることができ
る。
発振されるＹＡＧレーザ基本波をもとに、ＹＡＧレーザ
第５高調波を発生させるのに、ＹＡＧレーザ第２高調波
発生器５と、ＹＡＧレーザ第４高調波発生器６と、ＹＡ
Ｇレーザ第５高調波発生器７とを用い、ＹＡＧレーザ第
５高調波と他の波長成分のレーザ光とをペリンブロカプ
リズム８によって各波長成分ごとに分離する。分離され
たレーザ光のうち、ＹＡＧレーザ第５高調波を治療すべ
き角膜１２に照射すると、該角膜１２の表層部を形成す
る組織が徐々に蒸散して角膜１２の形状が矯正される。 【効果】 ＹＡＧレーザ第５高調波のもとになるＹＡＧ
レーザ基本波をＱスイッチパルスＹＡＧレーザ発振器４
により発振させるので、装置のメンテナンス作業を頻繁
に行わなくてもよく、装置の小型化を図ることができ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は角膜手術装置に関するも
のである。
のである。
【０００２】
【従来の技術】近年、近視等の視力障害を治療するため
に、角膜の手術が試みられている。
に、角膜の手術が試みられている。
【０００３】近視等の視力障害は角膜の変形に起因し、
例えば、近視の人の角膜は正常な状態の角膜と比べると
角膜表面がより湾曲した形状になっているので、角膜を
正常な形状に矯正すれば視力障害を解消することができ
る。
例えば、近視の人の角膜は正常な状態の角膜と比べると
角膜表面がより湾曲した形状になっているので、角膜を
正常な形状に矯正すれば視力障害を解消することができ
る。
【０００４】このような視力障害の原因となる角膜の変
形を矯正する手段として、角膜の表層部を削りとること
により角膜の形状を矯正する角膜切除手術や、角膜の表
層部に切込みを設けることにより角膜の形状を矯正する
角膜切開手術があり、現在、上記の各手術には、ＡｒＦ
エキシマレーザ（アルゴン・弗素エキシマレーザ）が用
いられている。
形を矯正する手段として、角膜の表層部を削りとること
により角膜の形状を矯正する角膜切除手術や、角膜の表
層部に切込みを設けることにより角膜の形状を矯正する
角膜切開手術があり、現在、上記の各手術には、ＡｒＦ
エキシマレーザ（アルゴン・弗素エキシマレーザ）が用
いられている。
【０００５】図５はＡｒＦエキシマレーザ発振器の概念
を示すもので、１は気密構造を有するチェンバ、２はチ
ェンバ１内に設けられた陽極、３はチェンバ１内に設け
られた陰極、２０は前記チェンバ１の側壁に組込まれた
共振器フロントミラー、２１は共振器フロントミラー２
０と対峙するように前記チェンバ１の側壁に組込まれた
共振器リアミラーである。
を示すもので、１は気密構造を有するチェンバ、２はチ
ェンバ１内に設けられた陽極、３はチェンバ１内に設け
られた陰極、２０は前記チェンバ１の側壁に組込まれた
共振器フロントミラー、２１は共振器フロントミラー２
０と対峙するように前記チェンバ１の側壁に組込まれた
共振器リアミラーである。
【０００６】２２は前記チェンバ１内にアルゴン（Ａ
ｒ）ガスを供給するためのアルゴンガス供給管、２３は
前記チェンバ１内に弗素（Ｆ2）ガスを供給するための
弗素ガス供給管、２４は前記チェンバ１内にネオンガス
（Ｎｅ）を供給するためのネオンガス供給管、２５は前
記チェンバ１内の劣化した混合ガスを外部へ排出するた
めのガス排出管であり、前記チェンバ１内には、アルゴ
ンガスと、弗素ガスと、ネオンガスとが所定の割合で充
填されている。
ｒ）ガスを供給するためのアルゴンガス供給管、２３は
前記チェンバ１内に弗素（Ｆ2）ガスを供給するための
弗素ガス供給管、２４は前記チェンバ１内にネオンガス
（Ｎｅ）を供給するためのネオンガス供給管、２５は前
記チェンバ１内の劣化した混合ガスを外部へ排出するた
めのガス排出管であり、前記チェンバ１内には、アルゴ
ンガスと、弗素ガスと、ネオンガスとが所定の割合で充
填されている。
【０００７】この状態で、陽極２と陰極３との間に放電
を行うと（前記のネオンガスはこの放電の形状を滑らか
にするためのバッファガスである）、該放電のエネルギ
ーによってアルゴンガスの原子と弗素ガスの分子とが励
起されて不安定な二量子（エキシマ）の状態となり、こ
の二量子状態から安定な状態に戻ろうとするときに紫外
線光が発生する。
を行うと（前記のネオンガスはこの放電の形状を滑らか
にするためのバッファガスである）、該放電のエネルギ
ーによってアルゴンガスの原子と弗素ガスの分子とが励
起されて不安定な二量子（エキシマ）の状態となり、こ
の二量子状態から安定な状態に戻ろうとするときに紫外
線光が発生する。
【０００８】この紫外線光は共振器フロントミラー２０
と共振器リアミラー２１とにより増幅され、共振器フロ
ントミラー２０から出力される波長１９３ｎｍのレーザ
光（ＡｒＦエキシマレーザ光）を角膜に照射すると、該
角膜の表層部を形成する組織が徐々に蒸散する。
と共振器リアミラー２１とにより増幅され、共振器フロ
ントミラー２０から出力される波長１９３ｎｍのレーザ
光（ＡｒＦエキシマレーザ光）を角膜に照射すると、該
角膜の表層部を形成する組織が徐々に蒸散する。
【０００９】従って、手術を行うべき角膜の特定の箇所
に対してＡｒＦエキシマレーザ光を所定時間照射すれ
ば、ＡｒＦエキシマレーザ光が照射された部分の表層部
を形成する組織が削りとられ、角膜の形状が矯正され
る。
に対してＡｒＦエキシマレーザ光を所定時間照射すれ
ば、ＡｒＦエキシマレーザ光が照射された部分の表層部
を形成する組織が削りとられ、角膜の形状が矯正され
る。
【００１０】また、手術を行うべき角膜の特定の箇所に
対してＡｒＦエキシマレーザ光を所定時間照射しながら
該ＡｒＦエキシマレーザ光の照射位置を徐々に変位させ
ると、ＡｒＦエキシマレーザ光の照射位置の軌跡に沿っ
て表層部を形成する組織が切開され、その結果角膜の形
状が矯正される。
対してＡｒＦエキシマレーザ光を所定時間照射しながら
該ＡｒＦエキシマレーザ光の照射位置を徐々に変位させ
ると、ＡｒＦエキシマレーザ光の照射位置の軌跡に沿っ
て表層部を形成する組織が切開され、その結果角膜の形
状が矯正される。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ＡｒＦ
エキシマレーザ発振器を角膜手術に用いた場合には、下
記のような問題点がある。
エキシマレーザ発振器を角膜手術に用いた場合には、下
記のような問題点がある。
【００１２】（１）チェンバ１内に充填されるアルゴン
ガス、弗素ガス、ネオンガスの交換、及び共振器を構成
するレーザミラーの洗浄を頻繁に行わないと、所定のレ
ーザ性能を保持できなくなる。
ガス、弗素ガス、ネオンガスの交換、及び共振器を構成
するレーザミラーの洗浄を頻繁に行わないと、所定のレ
ーザ性能を保持できなくなる。
【００１３】（２）所定のレーザ性能を保持するために
チェンバ１のオーバーホールを１〜２年ごとに行う必要
がある。
チェンバ１のオーバーホールを１〜２年ごとに行う必要
がある。
【００１４】（３）弗素ガスは人体に対して極めて有害
であるので、ガス交換を行う際の処理を厳重に行わなけ
ればならない。
であるので、ガス交換を行う際の処理を厳重に行わなけ
ればならない。
【００１５】（４）チェンバ１内に各ガスを充填し、ま
たチェンバ１内のガスを回収するためのガス充填回収設
備として、アルゴンガス供給管２２、弗素ガス供給管２
３、ネオンガス供給管２４、ガス排出管２５や、ポン
プ、ガス貯留用ボンベ等の付帯設備を設けなければなら
ないので、装置が大形になる。
たチェンバ１内のガスを回収するためのガス充填回収設
備として、アルゴンガス供給管２２、弗素ガス供給管２
３、ネオンガス供給管２４、ガス排出管２５や、ポン
プ、ガス貯留用ボンベ等の付帯設備を設けなければなら
ないので、装置が大形になる。
【００１６】本発明は上述した実情に鑑みなしたもの
で、安全性が極めて高く且つ装置の小型化を図ることが
可能な角膜手術装置を提供することを目的としている。
で、安全性が極めて高く且つ装置の小型化を図ることが
可能な角膜手術装置を提供することを目的としている。
【００１７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の角膜手術装置においては、ＹＡＧレーザ基
本波を発振するＹＡＧレーザ発振器と、該ＹＡＧレーザ
発振器より発振されるＹＡＧレーザ基本波からＹＡＧレ
ーザ第２高調波を発生させるＹＡＧレーザ第２高調波発
生器と、該ＹＡＧレーザ第２高調波発生器によって発生
したＹＡＧレーザ第２高調波からＹＡＧレーザ第４高調
波を発生させ且つ前記ＹＡＧレーザ第２高調波発生器に
おいて変換されずに残ったＹＡＧレーザ基本波成分を透
過させるＹＡＧレーザ第４高調波発生器と、該ＹＡＧレ
ーザ第４高調波発生器によって発生したＹＡＧレーザ第
４高調波とＹＡＧレーザ第４高調波発生器を透過したＹ
ＡＧレーザ基本波とからＹＡＧレーザ第５高調波を発生
させるＹＡＧレーザ第５高調波発生器とを備えている。
め、本発明の角膜手術装置においては、ＹＡＧレーザ基
本波を発振するＹＡＧレーザ発振器と、該ＹＡＧレーザ
発振器より発振されるＹＡＧレーザ基本波からＹＡＧレ
ーザ第２高調波を発生させるＹＡＧレーザ第２高調波発
生器と、該ＹＡＧレーザ第２高調波発生器によって発生
したＹＡＧレーザ第２高調波からＹＡＧレーザ第４高調
波を発生させ且つ前記ＹＡＧレーザ第２高調波発生器に
おいて変換されずに残ったＹＡＧレーザ基本波成分を透
過させるＹＡＧレーザ第４高調波発生器と、該ＹＡＧレ
ーザ第４高調波発生器によって発生したＹＡＧレーザ第
４高調波とＹＡＧレーザ第４高調波発生器を透過したＹ
ＡＧレーザ基本波とからＹＡＧレーザ第５高調波を発生
させるＹＡＧレーザ第５高調波発生器とを備えている。
【００１８】また、本発明の角膜手術装置においては、
ＹＡＧレーザ基本波を発振するＹＡＧレーザ発振器と、
該ＹＡＧレーザ発振器より発振されるＹＡＧレーザ基本
波からＹＡＧレーザ第２高調波を発生させるＹＡＧレー
ザ第２高調波発生器と、該ＹＡＧレーザ第２高調波発生
器によって発生したＹＡＧレーザ第２高調波とＹＡＧレ
ーザ第２高調波発生器において第２高調波に変換されず
に残ったＹＡＧレーザ基本波とからＹＡＧレーザ第３高
調波を発生させるＹＡＧレーザ第３高調波発生器と、Ｙ
ＡＧレーザ第３高調波発生器によって発生したＹＡＧレ
ーザ第３高調波からＹＡＧレーザ第６高調波を発生させ
るＹＡＧレーザ第６高調波発生器とを備えている。
ＹＡＧレーザ基本波を発振するＹＡＧレーザ発振器と、
該ＹＡＧレーザ発振器より発振されるＹＡＧレーザ基本
波からＹＡＧレーザ第２高調波を発生させるＹＡＧレー
ザ第２高調波発生器と、該ＹＡＧレーザ第２高調波発生
器によって発生したＹＡＧレーザ第２高調波とＹＡＧレ
ーザ第２高調波発生器において第２高調波に変換されず
に残ったＹＡＧレーザ基本波とからＹＡＧレーザ第３高
調波を発生させるＹＡＧレーザ第３高調波発生器と、Ｙ
ＡＧレーザ第３高調波発生器によって発生したＹＡＧレ
ーザ第３高調波からＹＡＧレーザ第６高調波を発生させ
るＹＡＧレーザ第６高調波発生器とを備えている。
【００１９】更に、本発明の角膜手術装置においては、
ＹＡＧレーザ基本波を発振するＹＡＧレーザ発振器と、
該ＹＡＧレーザ発振器より発振されるＹＡＧレーザ基本
波からＹＡＧレーザ第２高調波を発生させるＹＡＧレー
ザ第２高調波発生器と、該ＹＡＧレーザ第２高調波発生
器によって発生したＹＡＧレーザ第２高調波からＹＡＧ
レーザ第４高調波を発生させるＹＡＧレーザ第４高調波
発生器と、該ＹＡＧレーザ第４高調波発生器によって発
生したＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレーザ第４高調
波発生器において変換されずに残ったＹＡＧレーザ第２
高調波とからＹＡＧレーザ第６高調波を発生させるＹＡ
Ｇレーザ第６高調波発生器とを備えている。
ＹＡＧレーザ基本波を発振するＹＡＧレーザ発振器と、
該ＹＡＧレーザ発振器より発振されるＹＡＧレーザ基本
波からＹＡＧレーザ第２高調波を発生させるＹＡＧレー
ザ第２高調波発生器と、該ＹＡＧレーザ第２高調波発生
器によって発生したＹＡＧレーザ第２高調波からＹＡＧ
レーザ第４高調波を発生させるＹＡＧレーザ第４高調波
発生器と、該ＹＡＧレーザ第４高調波発生器によって発
生したＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレーザ第４高調
波発生器において変換されずに残ったＹＡＧレーザ第２
高調波とからＹＡＧレーザ第６高調波を発生させるＹＡ
Ｇレーザ第６高調波発生器とを備えている。
【００２０】更にまた、本発明の角膜手術装置において
は、ＹＡＧレーザ基本波を発振するＹＡＧレーザ発振器
と、該ＹＡＧレーザ発振器より発振されるＹＡＧレーザ
基本波からＹＡＧレーザ第２高調波を発生させるＹＡＧ
レーザ第２高調波発生器と、該ＹＡＧレーザ第２高調波
発生器によって発生したＹＡＧレーザ第２高調波からＹ
ＡＧレーザ第４高調波を発生させ且つ前記ＹＡＧレーザ
第２高調波発生器において変換されずに残ったＹＡＧレ
ーザ基本波成分を透過させるＹＡＧレーザ第４高調波発
生器と、該ＹＡＧレーザ第４高調波発生器によって発生
したＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレーザ第４高調波
発生器を透過したＹＡＧレーザ基本波とからＹＡＧレー
ザ第５高調波を発生させるＹＡＧレーザ第５高調波発生
器と、該ＹＡＧレーザ第５高調波発生器によって発生し
たＹＡＧレーザ第５高調波とＹＡＧレーザ第５高調波発
生器において変換されずに残ったＹＡＧレーザ基本波と
からＹＡＧレーザ第６高調波を発生させるＹＡＧレーザ
第６高調波発生器とを備えている。
は、ＹＡＧレーザ基本波を発振するＹＡＧレーザ発振器
と、該ＹＡＧレーザ発振器より発振されるＹＡＧレーザ
基本波からＹＡＧレーザ第２高調波を発生させるＹＡＧ
レーザ第２高調波発生器と、該ＹＡＧレーザ第２高調波
発生器によって発生したＹＡＧレーザ第２高調波からＹ
ＡＧレーザ第４高調波を発生させ且つ前記ＹＡＧレーザ
第２高調波発生器において変換されずに残ったＹＡＧレ
ーザ基本波成分を透過させるＹＡＧレーザ第４高調波発
生器と、該ＹＡＧレーザ第４高調波発生器によって発生
したＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレーザ第４高調波
発生器を透過したＹＡＧレーザ基本波とからＹＡＧレー
ザ第５高調波を発生させるＹＡＧレーザ第５高調波発生
器と、該ＹＡＧレーザ第５高調波発生器によって発生し
たＹＡＧレーザ第５高調波とＹＡＧレーザ第５高調波発
生器において変換されずに残ったＹＡＧレーザ基本波と
からＹＡＧレーザ第６高調波を発生させるＹＡＧレーザ
第６高調波発生器とを備えている。
【００２１】
【作用】本発明の角膜手術装置では、ＹＡＧレーザ発振
器より発振されるＹＡＧレーザ基本波をもとに、ＹＡＧ
レーザ第２高調波発生器とＹＡＧレーザ第４高調波発生
器とＹＡＧレーザ第５高調波発生器とを用いてＹＡＧレ
ーザ第５高調波を発生させる。
器より発振されるＹＡＧレーザ基本波をもとに、ＹＡＧ
レーザ第２高調波発生器とＹＡＧレーザ第４高調波発生
器とＹＡＧレーザ第５高調波発生器とを用いてＹＡＧレ
ーザ第５高調波を発生させる。
【００２２】このＹＡＧレーザ第５高調波を治療すべき
角膜に照射すると、該角膜の表層部を形成する組織が徐
々に蒸散する。
角膜に照射すると、該角膜の表層部を形成する組織が徐
々に蒸散する。
【００２３】従って、角膜の特定の箇所に対して上記Ｙ
ＡＧレーザ第５高調波を所定時間照射すれば、ＹＡＧレ
ーザ第５高調波が照射された部分の表層部を形成する組
織が削りとられ、角膜の形状が矯正される。
ＡＧレーザ第５高調波を所定時間照射すれば、ＹＡＧレ
ーザ第５高調波が照射された部分の表層部を形成する組
織が削りとられ、角膜の形状が矯正される。
【００２４】また、角膜の特定の箇所に対して上記のＹ
ＡＧレーザ第５高調波を所定時間照射しながら該ＹＡＧ
レーザ第５高調波の照射位置を徐々に変位させると、Ｙ
ＡＧレーザ第５高調波の照射位置の軌跡に沿って表層部
を形成する組織が切開され、その結果角膜の形状が矯正
される。
ＡＧレーザ第５高調波を所定時間照射しながら該ＹＡＧ
レーザ第５高調波の照射位置を徐々に変位させると、Ｙ
ＡＧレーザ第５高調波の照射位置の軌跡に沿って表層部
を形成する組織が切開され、その結果角膜の形状が矯正
される。
【００２５】また、本発明の角膜手術装置では、ＹＡＧ
レーザ発振器より発振されるＹＡＧレーザ基本波をもと
に、ＹＡＧレーザ第２高調波発生器とＹＡＧレーザ第３
高調波発生器とＹＡＧレーザ第６高調波発生器とを用い
てＹＡＧレーザ第６高調波を発生させる。
レーザ発振器より発振されるＹＡＧレーザ基本波をもと
に、ＹＡＧレーザ第２高調波発生器とＹＡＧレーザ第３
高調波発生器とＹＡＧレーザ第６高調波発生器とを用い
てＹＡＧレーザ第６高調波を発生させる。
【００２６】このＹＡＧレーザ第６高調波を治療すべき
角膜に照射すると、該角膜の表層部を形成する組織が徐
々に蒸散する。
角膜に照射すると、該角膜の表層部を形成する組織が徐
々に蒸散する。
【００２７】従って、角膜の特定の箇所に対して上記Ｙ
ＡＧレーザ第６高調波を所定時間照射すれば、ＹＡＧレ
ーザ第６高調波が照射された部分の表層部を形成する組
織が削りとられ、角膜の形状が矯正される。
ＡＧレーザ第６高調波を所定時間照射すれば、ＹＡＧレ
ーザ第６高調波が照射された部分の表層部を形成する組
織が削りとられ、角膜の形状が矯正される。
【００２８】また、角膜の特定の箇所に対して上記のＹ
ＡＧレーザ第６高調波を所定時間照射しながら該ＹＡＧ
レーザ第６高調波の照射位置を徐々に変位させると、Ｙ
ＡＧレーザ第６高調波の照射位置の軌跡に沿って表層部
を形成する組織が切開され、その結果角膜の形状が矯正
される。
ＡＧレーザ第６高調波を所定時間照射しながら該ＹＡＧ
レーザ第６高調波の照射位置を徐々に変位させると、Ｙ
ＡＧレーザ第６高調波の照射位置の軌跡に沿って表層部
を形成する組織が切開され、その結果角膜の形状が矯正
される。
【００２９】更に、本発明の角膜手術装置では、ＹＡＧ
レーザ発振器より発振されるＹＡＧレーザ基本波をもと
に、ＹＡＧレーザ第２高調波発生器とＹＡＧレーザ第４
高調波発生器とＹＡＧレーザ第６高調波発生器とを用い
てＹＡＧレーザ第６高調波を発生させる。
レーザ発振器より発振されるＹＡＧレーザ基本波をもと
に、ＹＡＧレーザ第２高調波発生器とＹＡＧレーザ第４
高調波発生器とＹＡＧレーザ第６高調波発生器とを用い
てＹＡＧレーザ第６高調波を発生させる。
【００３０】このＹＡＧレーザ第６高調波を治療すべき
角膜に照射すると、該角膜の表層部を形成する組織が徐
々に蒸散する。
角膜に照射すると、該角膜の表層部を形成する組織が徐
々に蒸散する。
【００３１】従って、上述したように角膜の形状が矯正
される。
される。
【００３２】更にまた、本発明の角膜手術装置では、Ｙ
ＡＧレーザ発振器より発振されるＹＡＧレーザ基本波を
もとに、ＹＡＧレーザ第２高調波発生器とＹＡＧレーザ
第４高調波発生器とＹＡＧレーザ第５高調波発生器とＹ
ＡＧレーザ第６高調波発生器とを用いてＹＡＧレーザ第
５高調波あるいはＹＡＧレーザ第６高調波を発生させ
る。
ＡＧレーザ発振器より発振されるＹＡＧレーザ基本波を
もとに、ＹＡＧレーザ第２高調波発生器とＹＡＧレーザ
第４高調波発生器とＹＡＧレーザ第５高調波発生器とＹ
ＡＧレーザ第６高調波発生器とを用いてＹＡＧレーザ第
５高調波あるいはＹＡＧレーザ第６高調波を発生させ
る。
【００３３】このＹＡＧレーザ第５高調波あるいはＹＡ
Ｇレーザ第６高調波を治療すべき角膜に照射すると、該
角膜の表層部を形成する組織が徐々に蒸散する。
Ｇレーザ第６高調波を治療すべき角膜に照射すると、該
角膜の表層部を形成する組織が徐々に蒸散する。
【００３４】従って、上述したように角膜の形状が矯正
される。
される。
【００３５】
【実施例】以下本発明の実施例を図面を参照しつつ説明
する。
する。
【００３６】図１は本発明の角膜手術装置の第１の実施
例を示すもので、本実施例は本発明の請求項１に対応し
ている。
例を示すもので、本実施例は本発明の請求項１に対応し
ている。
【００３７】４は波長１０６４ｎｍのレーザ光（ＹＡＧ
レーザ基本波）を発振するＱスイッチパルスＹＡＧレー
ザ発振器、５はＱスイッチパルスＹＡＧレーザ発振器４
より発振されるＹＡＧレーザ基本波から、 １／λ2＝１／λ1＋１／λ1…（１） （λ1：基本波、λ2：第２高調波）の関係（第２高調波
発生）によって波長５３２ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレー
ザ第２高調波）を発生させるＹＡＧレーザ第２高調波発
生器、６はＹＡＧレーザ第２高調波発生器５によって発
生したＹＡＧレーザ第２高調波とＹＡＧレーザ第２高調
波発生器５において第２高調波に変換されずに残ったＹ
ＡＧレーザ基本波のうち、ＹＡＧレーザ基本波成分を透
過させ且つＹＡＧレーザ第２高調波から、 １／λ4＝１／λ2＋１／λ2…（２） （λ2：第２高調波、λ4：第４高調波）の関係（第４高
調波発生、実質的には、前記式（１）における基本波λ
1、第２高調波λ2をそれぞれ第２高調波λ2、第４高調
波λ4に置換した第２高調波発生）によって波長２６６
ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ第４高調波）を発生させ
るＹＡＧレーザ第４高調波発生器である。
レーザ基本波）を発振するＱスイッチパルスＹＡＧレー
ザ発振器、５はＱスイッチパルスＹＡＧレーザ発振器４
より発振されるＹＡＧレーザ基本波から、 １／λ2＝１／λ1＋１／λ1…（１） （λ1：基本波、λ2：第２高調波）の関係（第２高調波
発生）によって波長５３２ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレー
ザ第２高調波）を発生させるＹＡＧレーザ第２高調波発
生器、６はＹＡＧレーザ第２高調波発生器５によって発
生したＹＡＧレーザ第２高調波とＹＡＧレーザ第２高調
波発生器５において第２高調波に変換されずに残ったＹ
ＡＧレーザ基本波のうち、ＹＡＧレーザ基本波成分を透
過させ且つＹＡＧレーザ第２高調波から、 １／λ4＝１／λ2＋１／λ2…（２） （λ2：第２高調波、λ4：第４高調波）の関係（第４高
調波発生、実質的には、前記式（１）における基本波λ
1、第２高調波λ2をそれぞれ第２高調波λ2、第４高調
波λ4に置換した第２高調波発生）によって波長２６６
ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ第４高調波）を発生させ
るＹＡＧレーザ第４高調波発生器である。
【００３８】７はＹＡＧレーザ第４高調波発生器６によ
って発生したＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレーザ第
４高調波発生器６において変換されずに残ったＹＡＧレ
ーザ第２高調波とＹＡＧレーザ第４高調波発生器６を透
過するＹＡＧレーザ基本波のうち、ＹＡＧレーザ第２高
調波成分を透過させ且つＹＡＧレーザ基本波とＹＡＧレ
ーザ第４高調波とから、 １／λ5＝１／λ1＋１／λ4…（３） （λ1：基本波、λ4：第４高調波、λ5：第５高調波）
の関係（和周波発生）によって波長２１３ｎｍのレーザ
光（ＹＡＧレーザ第５高調波）を発生させるＹＡＧレー
ザ第５高調波発生器、８はＹＡＧレーザ第５高調波発生
器７によって発生したＹＡＧレーザ第５高調波とＹＡＧ
レーザ第５高調波発生器７において変換されずに残った
ＹＡＧレーザ基本波並びにＹＡＧレーザ第４高調波とＹ
ＡＧレーザ第５高調波発生器７を透過したＹＡＧレーザ
第２高調波とを各波長成分ごとに分離するペリンブロカ
プリズム、９はペリンブロカプリズム８によって各波長
成分ごとに分離されたレーザ光のうち、ＹＡＧレーザ基
本波とＹＡＧレーザ第２高調波とＹＡＧレーザ第４高調
波とを遮光する遮光板である。
って発生したＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレーザ第
４高調波発生器６において変換されずに残ったＹＡＧレ
ーザ第２高調波とＹＡＧレーザ第４高調波発生器６を透
過するＹＡＧレーザ基本波のうち、ＹＡＧレーザ第２高
調波成分を透過させ且つＹＡＧレーザ基本波とＹＡＧレ
ーザ第４高調波とから、 １／λ5＝１／λ1＋１／λ4…（３） （λ1：基本波、λ4：第４高調波、λ5：第５高調波）
の関係（和周波発生）によって波長２１３ｎｍのレーザ
光（ＹＡＧレーザ第５高調波）を発生させるＹＡＧレー
ザ第５高調波発生器、８はＹＡＧレーザ第５高調波発生
器７によって発生したＹＡＧレーザ第５高調波とＹＡＧ
レーザ第５高調波発生器７において変換されずに残った
ＹＡＧレーザ基本波並びにＹＡＧレーザ第４高調波とＹ
ＡＧレーザ第５高調波発生器７を透過したＹＡＧレーザ
第２高調波とを各波長成分ごとに分離するペリンブロカ
プリズム、９はペリンブロカプリズム８によって各波長
成分ごとに分離されたレーザ光のうち、ＹＡＧレーザ基
本波とＹＡＧレーザ第２高調波とＹＡＧレーザ第４高調
波とを遮光する遮光板である。
【００３９】１０は前記ペリンブロカプリズム８により
分離されたＹＡＧレーザ第５高調波のビームの光強度分
布を均一化するためのビームホモジェナイザ等のビーム
整形素子、１１はビーム整形素子１０によってビームの
光強度分布を均一化されたＹＡＧレーザ第５高調波の光
強度を調整するためのＡＲレンズである。
分離されたＹＡＧレーザ第５高調波のビームの光強度分
布を均一化するためのビームホモジェナイザ等のビーム
整形素子、１１はビーム整形素子１０によってビームの
光強度分布を均一化されたＹＡＧレーザ第５高調波の光
強度を調整するためのＡＲレンズである。
【００４０】なお、図中１２は手術を行うべき角膜を有
する眼球である。
する眼球である。
【００４１】以下、本実施例の装置の作動を説明する。
【００４２】上記構成を有する角膜手術装置によって角
膜の変形を矯正する際には、ＱスイッチパルスＹＡＧレ
ーザ発振器４によって波長１０６４ｎｍのレーザ光（Ｙ
ＡＧレーザ基本波）を発振させる。
膜の変形を矯正する際には、ＱスイッチパルスＹＡＧレ
ーザ発振器４によって波長１０６４ｎｍのレーザ光（Ｙ
ＡＧレーザ基本波）を発振させる。
【００４３】ＱスイッチパルスＹＡＧレーザ発振器４よ
り発振されるＹＡＧレーザ基本波は、ＹＡＧレーザ第２
高調波発生器５に入射し、該ＹＡＧレーザ第２高調波発
生器５において前記式（１）の関係により波長５３２ｎ
ｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ第２高調波）が発生する。
り発振されるＹＡＧレーザ基本波は、ＹＡＧレーザ第２
高調波発生器５に入射し、該ＹＡＧレーザ第２高調波発
生器５において前記式（１）の関係により波長５３２ｎ
ｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ第２高調波）が発生する。
【００４４】ＹＡＧレーザ第２高調波発生器５によって
発生したＹＡＧレーザ第２高調波とＹＡＧレーザ第２高
調波発生器５において第２高調波に変換されずに残った
ＹＡＧレーザ基本波とがＹＡＧレーザ第４高調波発生器
６に入射し、該ＹＡＧレーザ第４高調波発生器６におい
て前記式（２）の関係により波長２６６ｎｍのレーザ光
（ＹＡＧレーザ第４高調波）が発生する。
発生したＹＡＧレーザ第２高調波とＹＡＧレーザ第２高
調波発生器５において第２高調波に変換されずに残った
ＹＡＧレーザ基本波とがＹＡＧレーザ第４高調波発生器
６に入射し、該ＹＡＧレーザ第４高調波発生器６におい
て前記式（２）の関係により波長２６６ｎｍのレーザ光
（ＹＡＧレーザ第４高調波）が発生する。
【００４５】更に、ＹＡＧレーザ第４高調波発生器６に
よって発生したＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレーザ
第４高調波発生器６において変換されずに残ったＹＡＧ
レーザ第２高調波とＹＡＧレーザ第４高調波発生器６を
透過するＹＡＧレーザ基本波とがＹＡＧレーザ第５高調
波発生器７に入射し、該ＹＡＧレーザ第５高調波発生器
７において前記式（３）の関係により波長２１３ｎｍの
レーザ光（ＹＡＧレーザ第５高調波）が発生する。
よって発生したＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレーザ
第４高調波発生器６において変換されずに残ったＹＡＧ
レーザ第２高調波とＹＡＧレーザ第４高調波発生器６を
透過するＹＡＧレーザ基本波とがＹＡＧレーザ第５高調
波発生器７に入射し、該ＹＡＧレーザ第５高調波発生器
７において前記式（３）の関係により波長２１３ｎｍの
レーザ光（ＹＡＧレーザ第５高調波）が発生する。
【００４６】ＹＡＧレーザ第５高調波発生器７によって
発生したＹＡＧレーザ第５高調波とＹＡＧレーザ第５高
調波発生器７において変換されずに残ったＹＡＧレーザ
基本波並びにＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレーザ第
５高調波発生器７を透過したＹＡＧレーザ第２高調波は
ペリンブロカプリズム８に入射して該ペリンブロカプリ
ズム８により各波長成分ごとに分離され、遮光板９によ
ってＹＡＧレーザ基本波とＹＡＧレーザ第２高調波とＹ
ＡＧレーザ第４高調波とが遮光される。
発生したＹＡＧレーザ第５高調波とＹＡＧレーザ第５高
調波発生器７において変換されずに残ったＹＡＧレーザ
基本波並びにＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレーザ第
５高調波発生器７を透過したＹＡＧレーザ第２高調波は
ペリンブロカプリズム８に入射して該ペリンブロカプリ
ズム８により各波長成分ごとに分離され、遮光板９によ
ってＹＡＧレーザ基本波とＹＡＧレーザ第２高調波とＹ
ＡＧレーザ第４高調波とが遮光される。
【００４７】一方、ペリンブロカプリズム８により分離
されたＹＡＧレーザ第５高調波は、ビームホモジェナイ
ザ等よりなるビーム整形素子１０に入射してビームの光
強度分布の均一化が行われ、更に、ビームの光強度分布
を均一化されたＹＡＧレーザ第５高調波は、ＡＲレンズ
１１に入射して光強度の調整が行われる。
されたＹＡＧレーザ第５高調波は、ビームホモジェナイ
ザ等よりなるビーム整形素子１０に入射してビームの光
強度分布の均一化が行われ、更に、ビームの光強度分布
を均一化されたＹＡＧレーザ第５高調波は、ＡＲレンズ
１１に入射して光強度の調整が行われる。
【００４８】このＹＡＧレーザ第５高調波を眼球１２の
角膜に照射すると、該角膜の表層部を形成する組織が徐
々に蒸散する。
角膜に照射すると、該角膜の表層部を形成する組織が徐
々に蒸散する。
【００４９】よって、上記の角膜の特定の箇所に対して
ＹＡＧレーザ第５高調波を所定時間照射すれば、ＹＡＧ
レーザ第５高調波が照射された部分の表層部を形成する
組織が削りとられ、角膜の形状が矯正される。
ＹＡＧレーザ第５高調波を所定時間照射すれば、ＹＡＧ
レーザ第５高調波が照射された部分の表層部を形成する
組織が削りとられ、角膜の形状が矯正される。
【００５０】また、手術を行うべき角膜の特定の箇所に
対してＹＡＧレーザ第５高調波を所定時間照射しながら
該ＹＡＧレーザ第５高調波の照射位置を徐々に変位させ
ると、ＹＡＧレーザ第５高調波の照射位置の軌跡に沿っ
て表層部を形成する組織が切開され、その結果角膜の形
状が矯正される。
対してＹＡＧレーザ第５高調波を所定時間照射しながら
該ＹＡＧレーザ第５高調波の照射位置を徐々に変位させ
ると、ＹＡＧレーザ第５高調波の照射位置の軌跡に沿っ
て表層部を形成する組織が切開され、その結果角膜の形
状が矯正される。
【００５１】本実施例の角膜手術装置によって、ビーム
照射前の温度が１５℃の被対象物に対し、ビーム光強度
が１５ｍＪ／ｃｍ2のＹＡＧレーザ第５高調波ビームを
２分間照射した後、前記被対象物の温度を計測したとこ
ろ、２０℃になっていた。
照射前の温度が１５℃の被対象物に対し、ビーム光強度
が１５ｍＪ／ｃｍ2のＹＡＧレーザ第５高調波ビームを
２分間照射した後、前記被対象物の温度を計測したとこ
ろ、２０℃になっていた。
【００５２】一方、ビーム照射前の温度が１５℃の被対
象物に対し、ビーム光強度が１５ｍＪ／ｃｍ2のＹＡＧ
レーザ第４高調波ビームを２分間照射した後、前記被対
象物の温度を計測したところ、３０℃になっていた。
象物に対し、ビーム光強度が１５ｍＪ／ｃｍ2のＹＡＧ
レーザ第４高調波ビームを２分間照射した後、前記被対
象物の温度を計測したところ、３０℃になっていた。
【００５３】従って、角膜切除手術や角膜切開手術を行
う場合、波長２６６ｎｍのＹＡＧレーザ第４高調波を用
いるよりも、波長２１３ｎｍのＹＡＧレーザ第５高調波
を用いたほうが、角膜表層部の熱変性が生じにくくなる
と考えられ、従って、ＹＡＧレーザ第４高調波に比べて
波長が短いＹＡＧレーザ第５高調波を用いたほうが、角
膜表層部の切除あるいは切開をシャープに且つ均一に行
うことができる。
う場合、波長２６６ｎｍのＹＡＧレーザ第４高調波を用
いるよりも、波長２１３ｎｍのＹＡＧレーザ第５高調波
を用いたほうが、角膜表層部の熱変性が生じにくくなる
と考えられ、従って、ＹＡＧレーザ第４高調波に比べて
波長が短いＹＡＧレーザ第５高調波を用いたほうが、角
膜表層部の切除あるいは切開をシャープに且つ均一に行
うことができる。
【００５４】更に、それぞれビーム照射量が８０ｍＪ・
ｍｉｎ／ｃｍ2のＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレー
ザ第５高調波との切除深度を概算したところ、ＹＡＧレ
ーザ第４高調波においては切除深度が５０μｍ程度であ
るのに対し、ＹＡＧレーザ第５高調波においては切除深
度が２００μｍ程度に達し、従って、ＹＡＧレーザ第４
高調波に比べてＹＡＧレーザ第５高調波のほうが、およ
そ４倍ぐらい切除切開能力が高いと考えられる。
ｍｉｎ／ｃｍ2のＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレー
ザ第５高調波との切除深度を概算したところ、ＹＡＧレ
ーザ第４高調波においては切除深度が５０μｍ程度であ
るのに対し、ＹＡＧレーザ第５高調波においては切除深
度が２００μｍ程度に達し、従って、ＹＡＧレーザ第４
高調波に比べてＹＡＧレーザ第５高調波のほうが、およ
そ４倍ぐらい切除切開能力が高いと考えられる。
【００５５】更にまた、本実施例においては、Ｑスイッ
チパルスＹＡＧレーザ発振器４より発振される波長１０
６４ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ基本波）をもとに、
最終的に波長２１３ｎｍのＹＡＧレーザ第５高調波を発
生させるので、従来のＡｒＦエキシマレーザ発振器を用
いた装置のような手間のかかるメンテナンス作業を行わ
なくてもよく、装置の小型化を図ることができ、また、
人体に対して有害な弗素ガスを使用しないので安全性が
極めて高い。
チパルスＹＡＧレーザ発振器４より発振される波長１０
６４ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ基本波）をもとに、
最終的に波長２１３ｎｍのＹＡＧレーザ第５高調波を発
生させるので、従来のＡｒＦエキシマレーザ発振器を用
いた装置のような手間のかかるメンテナンス作業を行わ
なくてもよく、装置の小型化を図ることができ、また、
人体に対して有害な弗素ガスを使用しないので安全性が
極めて高い。
【００５６】図２は本発明の角膜手術装置の第２の実施
例を示すもので、本実施例は本発明の請求項２に対応し
ている。
例を示すもので、本実施例は本発明の請求項２に対応し
ている。
【００５７】なお、本実施例において、Ｑスイッチパル
スＹＡＧレーザ発振器４、ＹＡＧレーザ第２高調波発生
器５、ペリンブロカプリズム８等は、図１に示す角膜手
術装置と同一であり、その他、図１と同一の符号を付し
た部分は同一物を表わしている。
スＹＡＧレーザ発振器４、ＹＡＧレーザ第２高調波発生
器５、ペリンブロカプリズム８等は、図１に示す角膜手
術装置と同一であり、その他、図１と同一の符号を付し
た部分は同一物を表わしている。
【００５８】１３はＹＡＧレーザ基本波とＹＡＧレーザ
第２高調波とから、 １／λ3＝１／λ1＋１／λ2…（４） （λ1：基本波、λ2：第２高調波、λ3：第３高調波）
の関係（和周波発生）によって波長３５５ｎｍのレーザ
光（ＹＡＧレーザ第３高調波）を発生させるＹＡＧレー
ザ第３高調波発生器である。
第２高調波とから、 １／λ3＝１／λ1＋１／λ2…（４） （λ1：基本波、λ2：第２高調波、λ3：第３高調波）
の関係（和周波発生）によって波長３５５ｎｍのレーザ
光（ＹＡＧレーザ第３高調波）を発生させるＹＡＧレー
ザ第３高調波発生器である。
【００５９】１７はＹＡＧレーザ第３高調波から、 １／λ6＝１／λ3＋１／λ3…（５） （λ3：第３高調波、λ6：第６高調波）の関係（第６高
調波発生、実質的には、前記式（１）における基本波λ
1、第２高調波λ2をそれぞれ第３高調波λ3、第６高調
波λ6に置換した第２高調波発生）によって波長１７７
ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ第６高調波）を発生させ
るＹＡＧレーザ第６高調波発生器である。
調波発生、実質的には、前記式（１）における基本波λ
1、第２高調波λ2をそれぞれ第３高調波λ3、第６高調
波λ6に置換した第２高調波発生）によって波長１７７
ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ第６高調波）を発生させ
るＹＡＧレーザ第６高調波発生器である。
【００６０】ＹＡＧレーザ第３高調波発生器１３には、
ＹＡＧレーザ第２高調波発生器５によって発生したＹＡ
Ｇレーザ第２高調波とＹＡＧレーザ第２高調波発生器５
において第２高調波に変換されずに残ったＹＡＧレーザ
基本波とが入射するようになっている。
ＹＡＧレーザ第２高調波発生器５によって発生したＹＡ
Ｇレーザ第２高調波とＹＡＧレーザ第２高調波発生器５
において第２高調波に変換されずに残ったＹＡＧレーザ
基本波とが入射するようになっている。
【００６１】また、ＹＡＧレーザ第３高調波発生器１３
によって発生したＹＡＧレーザ第３高調波とＹＡＧレー
ザ第３高調波発生器１３によって変換されずに残ったＹ
ＡＧレーザ基本波並びにＹＡＧレーザ第２高調波はダイ
クロイックミラー１４に入射し、ＹＡＧレーザ第３高調
波のみがダイクロイックミラー１４により反射し、ＹＡ
Ｇレーザ基本波成分並びにＹＡＧレーザ第２高調波成分
はダイクロイックミラー１４を透過して遮光板１５によ
り遮光されるようになっている。
によって発生したＹＡＧレーザ第３高調波とＹＡＧレー
ザ第３高調波発生器１３によって変換されずに残ったＹ
ＡＧレーザ基本波並びにＹＡＧレーザ第２高調波はダイ
クロイックミラー１４に入射し、ＹＡＧレーザ第３高調
波のみがダイクロイックミラー１４により反射し、ＹＡ
Ｇレーザ基本波成分並びにＹＡＧレーザ第２高調波成分
はダイクロイックミラー１４を透過して遮光板１５によ
り遮光されるようになっている。
【００６２】一方、ダイクロイックミラー１４により反
射したＹＡＧレーザ第３高調波は全反射ミラー１６を介
してＹＡＧレーザ第６高調波発生器１７に入射し、該Ｙ
ＡＧレーザ第６高調波発生器１７によって発生したＹＡ
Ｇレーザ第６高調波とＹＡＧレーザ第６高調波発生器１
７において変換されずに残ったＹＡＧレーザ第３高調波
とがペリンブロカプリズム８に入射するようになってい
る。
射したＹＡＧレーザ第３高調波は全反射ミラー１６を介
してＹＡＧレーザ第６高調波発生器１７に入射し、該Ｙ
ＡＧレーザ第６高調波発生器１７によって発生したＹＡ
Ｇレーザ第６高調波とＹＡＧレーザ第６高調波発生器１
７において変換されずに残ったＹＡＧレーザ第３高調波
とがペリンブロカプリズム８に入射するようになってい
る。
【００６３】更に、上記のＹＡＧレーザ第３高調波とＹ
ＡＧレーザ第６高調波とはペリンブロカプリズム８によ
り各波長成分ごとに分離され、該ペリンブロカプリズム
８によって各波長成分ごとに分離されたレーザ光のう
ち、ＹＡＧレーザ第６高調波のみがビーム整形素子１０
に入射し、ＹＡＧレーザ第３高調波は遮光板９により遮
光されるようになっている。
ＡＧレーザ第６高調波とはペリンブロカプリズム８によ
り各波長成分ごとに分離され、該ペリンブロカプリズム
８によって各波長成分ごとに分離されたレーザ光のう
ち、ＹＡＧレーザ第６高調波のみがビーム整形素子１０
に入射し、ＹＡＧレーザ第３高調波は遮光板９により遮
光されるようになっている。
【００６４】以下、本実施例の装置の作動を説明する。
【００６５】上記構成を有する角膜手術装置によって角
膜の変形を矯正する際には、ＱスイッチパルスＹＡＧレ
ーザ発振器４によって波長１０６４ｎｍのレーザ光（Ｙ
ＡＧレーザ基本波）を発振させる。
膜の変形を矯正する際には、ＱスイッチパルスＹＡＧレ
ーザ発振器４によって波長１０６４ｎｍのレーザ光（Ｙ
ＡＧレーザ基本波）を発振させる。
【００６６】ＱスイッチパルスＹＡＧレーザ発振器４よ
り発振されるＹＡＧレーザ基本波は、ＹＡＧレーザ第２
高調波発生器５に入射し、該ＹＡＧレーザ第２高調波発
生器５において前記式（１）の関係により波長５３２ｎ
ｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ第２高調波）が発生する。
り発振されるＹＡＧレーザ基本波は、ＹＡＧレーザ第２
高調波発生器５に入射し、該ＹＡＧレーザ第２高調波発
生器５において前記式（１）の関係により波長５３２ｎ
ｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ第２高調波）が発生する。
【００６７】ＹＡＧレーザ第２高調波発生器５によって
発生したＹＡＧレーザ第２高調波とＹＡＧレーザ第２高
調波発生器５において第２高調波に変換されずに残った
ＹＡＧレーザ基本波とがＹＡＧレーザ第３高調波発生器
１３に入射し、該ＹＡＧレーザ第３高調波発生器１３に
おいて前記式（４）の関係より波長３５５ｎｍのレーザ
光（ＹＡＧレーザ第３高調波）が発生する。
発生したＹＡＧレーザ第２高調波とＹＡＧレーザ第２高
調波発生器５において第２高調波に変換されずに残った
ＹＡＧレーザ基本波とがＹＡＧレーザ第３高調波発生器
１３に入射し、該ＹＡＧレーザ第３高調波発生器１３に
おいて前記式（４）の関係より波長３５５ｎｍのレーザ
光（ＹＡＧレーザ第３高調波）が発生する。
【００６８】更に、ＹＡＧレーザ第３高調波発生器１３
によって発生したＹＡＧレーザ第３高調波とＹＡＧレー
ザ第３高調波発生器１３によって変換されずに残ったＹ
ＡＧレーザ基本波並びにＹＡＧレーザ第２高調波はダイ
クロイックミラー１４に入射し、ＹＡＧレーザ第３高調
波のみがダイクロイックミラー１４により反射し、ＹＡ
Ｇレーザ基本波成分並びにＹＡＧレーザ第２高調波成分
はダイクロイックミラー１４を透過して遮光板１５によ
り遮光される。
によって発生したＹＡＧレーザ第３高調波とＹＡＧレー
ザ第３高調波発生器１３によって変換されずに残ったＹ
ＡＧレーザ基本波並びにＹＡＧレーザ第２高調波はダイ
クロイックミラー１４に入射し、ＹＡＧレーザ第３高調
波のみがダイクロイックミラー１４により反射し、ＹＡ
Ｇレーザ基本波成分並びにＹＡＧレーザ第２高調波成分
はダイクロイックミラー１４を透過して遮光板１５によ
り遮光される。
【００６９】一方、ダイクロイックミラー１４により反
射したＹＡＧレーザ第３高調波は全反射ミラー１６を介
してＹＡＧレーザ第６高調波発生器１７に入射し、該Ｙ
ＡＧレーザ第６高調波発生器１７において前記式（５）
の関係により波長１７７ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ
第６高調波）が発生する。
射したＹＡＧレーザ第３高調波は全反射ミラー１６を介
してＹＡＧレーザ第６高調波発生器１７に入射し、該Ｙ
ＡＧレーザ第６高調波発生器１７において前記式（５）
の関係により波長１７７ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ
第６高調波）が発生する。
【００７０】ＹＡＧレーザ第６高調波発生器１７によっ
て発生したＹＡＧレーザ第６高調波とＹＡＧレーザ第６
高調波発生器１７において変換されずに残ったＹＡＧレ
ーザ第３高調波とはペリンブロカプリズム８に入射して
該ペリンブロカプリズム８により各波長成分ごとに分離
され、遮光板９によってＹＡＧレーザ第３高調波が遮光
される。
て発生したＹＡＧレーザ第６高調波とＹＡＧレーザ第６
高調波発生器１７において変換されずに残ったＹＡＧレ
ーザ第３高調波とはペリンブロカプリズム８に入射して
該ペリンブロカプリズム８により各波長成分ごとに分離
され、遮光板９によってＹＡＧレーザ第３高調波が遮光
される。
【００７１】一方、ペリンブロカプリズム８により分離
されたＹＡＧレーザ第６高調波は、ビームホモジェナイ
ザ等よりなるビーム整形素子１０に入射してビームの光
強度分布の均一化が行われ、更に、ビームの光強度分布
を均一化されたＹＡＧレーザ第６高調波は、ＡＲレンズ
１１に入射して光強度の調整が行われる。
されたＹＡＧレーザ第６高調波は、ビームホモジェナイ
ザ等よりなるビーム整形素子１０に入射してビームの光
強度分布の均一化が行われ、更に、ビームの光強度分布
を均一化されたＹＡＧレーザ第６高調波は、ＡＲレンズ
１１に入射して光強度の調整が行われる。
【００７２】このＹＡＧレーザ第６高調波を眼球１２の
角膜に照射すると、該角膜の表層部を形成する組織が徐
々に蒸散する。
角膜に照射すると、該角膜の表層部を形成する組織が徐
々に蒸散する。
【００７３】よって、上記の角膜の特定の箇所に対して
ＹＡＧレーザ第６高調波を所定時間照射すれば、ＹＡＧ
レーザ第６高調波が照射された部分の表層部を形成する
組織が削りとられ、角膜の形状が矯正される。
ＹＡＧレーザ第６高調波を所定時間照射すれば、ＹＡＧ
レーザ第６高調波が照射された部分の表層部を形成する
組織が削りとられ、角膜の形状が矯正される。
【００７４】また、手術を行うべき角膜の特定の箇所に
対してＹＡＧレーザ第６高調波を所定時間照射しながら
該ＹＡＧレーザ第６高調波の照射位置を徐々に変位させ
ると、ＹＡＧレーザ第６高調波の照射位置の軌跡に沿っ
て表層部を形成する組織が切開され、その結果角膜の形
状が矯正される。
対してＹＡＧレーザ第６高調波を所定時間照射しながら
該ＹＡＧレーザ第６高調波の照射位置を徐々に変位させ
ると、ＹＡＧレーザ第６高調波の照射位置の軌跡に沿っ
て表層部を形成する組織が切開され、その結果角膜の形
状が矯正される。
【００７５】更に、本実施例においては、Ｑスイッチパ
ルスＹＡＧレーザ発振器４より発振される波長１０６４
ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ基本波）をもとに、最終
的に波長１７７ｎｍのＹＡＧレーザ第６高調波を発生さ
せるので、前述した本発明の第１の実施例と同様に、従
来のＡｒＦエキシマレーザ発振器を用いた装置のような
手間のかかるメンテナンス作業を行わなくてもよく、装
置の小型化を図ることができ、また、人体に対して有害
な弗素ガスを使用しないので安全性が極めて高い。
ルスＹＡＧレーザ発振器４より発振される波長１０６４
ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ基本波）をもとに、最終
的に波長１７７ｎｍのＹＡＧレーザ第６高調波を発生さ
せるので、前述した本発明の第１の実施例と同様に、従
来のＡｒＦエキシマレーザ発振器を用いた装置のような
手間のかかるメンテナンス作業を行わなくてもよく、装
置の小型化を図ることができ、また、人体に対して有害
な弗素ガスを使用しないので安全性が極めて高い。
【００７６】図３は本発明の角膜手術装置の第３の実施
例を示すもので、本実施例は本発明の請求項３に対応し
ている。
例を示すもので、本実施例は本発明の請求項３に対応し
ている。
【００７７】本実施例は図１に示す角膜手術装置におけ
るＹＡＧレーザ第５高調波発生器７に代えて、ＹＡＧレ
ーザ第４高調波発生器６とペリンブロカプリズム８との
間にＹＡＧレーザ第６高調波発生器１８を設けた構成を
有している。
るＹＡＧレーザ第５高調波発生器７に代えて、ＹＡＧレ
ーザ第４高調波発生器６とペリンブロカプリズム８との
間にＹＡＧレーザ第６高調波発生器１８を設けた構成を
有している。
【００７８】ＹＡＧレーザ第６高調波発生器１８は、Ｙ
ＡＧレーザ第２高調波とＹＡＧレーザ第４高調波とか
ら、 １／λ6＝１／λ2＋１／λ4…（６） （λ2：第２高調波、λ4：第４高調波、λ6：第６高調
波）の関係（和周波発生）によって波長１７７ｎｍのレ
ーザ光（ＹＡＧレーザ第６高調波）を発生させるように
なっている。
ＡＧレーザ第２高調波とＹＡＧレーザ第４高調波とか
ら、 １／λ6＝１／λ2＋１／λ4…（６） （λ2：第２高調波、λ4：第４高調波、λ6：第６高調
波）の関係（和周波発生）によって波長１７７ｎｍのレ
ーザ光（ＹＡＧレーザ第６高調波）を発生させるように
なっている。
【００７９】すなわち、本実施例においては、ＹＡＧレ
ーザ第４高調波発生器６によって発生したＹＡＧレーザ
第４高調波とＹＡＧレーザ第４高調波発生器６において
変換されずに残ったＹＡＧレーザ第２高調波とがＹＡＧ
レーザ第６高調波発生器１８に入射し、更に、ＹＡＧレ
ーザ第６高調波発生器１８によって発生したＹＡＧレー
ザ第６高調波とＹＡＧレーザ第６高調波発生器１８にお
いて変換されずに残ったＹＡＧレーザ第２高調波及びＹ
ＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレーザ第６高調波発生器
１８を透過したＹＡＧレーザ基本波成分がペリンブロカ
プリズム８に入射するようになっている。
ーザ第４高調波発生器６によって発生したＹＡＧレーザ
第４高調波とＹＡＧレーザ第４高調波発生器６において
変換されずに残ったＹＡＧレーザ第２高調波とがＹＡＧ
レーザ第６高調波発生器１８に入射し、更に、ＹＡＧレ
ーザ第６高調波発生器１８によって発生したＹＡＧレー
ザ第６高調波とＹＡＧレーザ第６高調波発生器１８にお
いて変換されずに残ったＹＡＧレーザ第２高調波及びＹ
ＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレーザ第６高調波発生器
１８を透過したＹＡＧレーザ基本波成分がペリンブロカ
プリズム８に入射するようになっている。
【００８０】上記のＹＡＧレーザ基本波とＹＡＧレーザ
第２高調波とＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレーザ第
６高調波とはペリンブロカプリズム８により各波長成分
ごとに分離され、該ペリンブロカプリズム８によって各
波長成分ごとに分離されたレーザ光のうち、ＹＡＧレー
ザ第６高調波のみがビーム整形素子１０に入射し、遮光
板９によりＹＡＧレーザ基本波とＹＡＧレーザ第２高調
波とＹＡＧレーザ第４高調波とが遮光されるようになっ
ている。
第２高調波とＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレーザ第
６高調波とはペリンブロカプリズム８により各波長成分
ごとに分離され、該ペリンブロカプリズム８によって各
波長成分ごとに分離されたレーザ光のうち、ＹＡＧレー
ザ第６高調波のみがビーム整形素子１０に入射し、遮光
板９によりＹＡＧレーザ基本波とＹＡＧレーザ第２高調
波とＹＡＧレーザ第４高調波とが遮光されるようになっ
ている。
【００８１】以下、本実施例の装置の作動を略述する。
【００８２】本実施例においては、前述した本発明の第
１の実施例と同様に、ＱスイッチパルスＹＡＧレーザ発
振器４によって波長１０６４ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレ
ーザ基本波）を発振させると、ＹＡＧレーザ第２高調波
発生器５において前記式（１）の関係により波長５３２
ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ第２高調波）が発生し、
ＹＡＧレーザ第４高調波発生器６において前記式（２）
の関係により波長２６６ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ
第４高調波）が発生し、更に、ＹＡＧレーザ第４高調波
発生器１８において前記式（６）の関係により波長１７
７ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ第６高調波）が発生す
る。
１の実施例と同様に、ＱスイッチパルスＹＡＧレーザ発
振器４によって波長１０６４ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレ
ーザ基本波）を発振させると、ＹＡＧレーザ第２高調波
発生器５において前記式（１）の関係により波長５３２
ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ第２高調波）が発生し、
ＹＡＧレーザ第４高調波発生器６において前記式（２）
の関係により波長２６６ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ
第４高調波）が発生し、更に、ＹＡＧレーザ第４高調波
発生器１８において前記式（６）の関係により波長１７
７ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ第６高調波）が発生す
る。
【００８３】更に、ＹＡＧレーザ第６高調波発生器１８
によって発生したＹＡＧレーザ第６高調波とＹＡＧレー
ザ第６高調波発生器１８において変換されずに残ったＹ
ＡＧレーザ第２高調波及びＹＡＧレーザ第４高調波とＹ
ＡＧレーザ第６高調波発生器１８を透過したＹＡＧレー
ザ基本波成分はペリンブロカプリズム８に入射して該ペ
リンブロカプリズム８により各波長成分ごとに分離され
る。
によって発生したＹＡＧレーザ第６高調波とＹＡＧレー
ザ第６高調波発生器１８において変換されずに残ったＹ
ＡＧレーザ第２高調波及びＹＡＧレーザ第４高調波とＹ
ＡＧレーザ第６高調波発生器１８を透過したＹＡＧレー
ザ基本波成分はペリンブロカプリズム８に入射して該ペ
リンブロカプリズム８により各波長成分ごとに分離され
る。
【００８４】ペリンブロカプリズム８によって各波長成
分ごとに分離されたレーザ光のうち、ＹＡＧレーザ第６
高調波のみがビーム整形素子１０に入射してビームの光
強度分布の均一化が行われ、更に、ビームの光強度分布
を均一化されたＹＡＧレーザ第６高調波は、ＡＲレンズ
１１に入射して光強度の調整が行われる。
分ごとに分離されたレーザ光のうち、ＹＡＧレーザ第６
高調波のみがビーム整形素子１０に入射してビームの光
強度分布の均一化が行われ、更に、ビームの光強度分布
を均一化されたＹＡＧレーザ第６高調波は、ＡＲレンズ
１１に入射して光強度の調整が行われる。
【００８５】一方、ＹＡＧレーザ基本波、ＹＡＧレーザ
第２高調波、ＹＡＧレーザ第４高調波は遮光板９により
遮光される。
第２高調波、ＹＡＧレーザ第４高調波は遮光板９により
遮光される。
【００８６】上記のＹＡＧレーザ第６高調波を眼球１２
の角膜に照射すると、該角膜の表層部を形成する組織が
徐々に蒸散する。
の角膜に照射すると、該角膜の表層部を形成する組織が
徐々に蒸散する。
【００８７】従って本実施例においても、前述した本発
明の第１、第２の実施例と同様な作用効果を奏し得る。
明の第１、第２の実施例と同様な作用効果を奏し得る。
【００８８】図４は本発明の角膜手術装置の第４の実施
例を示すもので、本実施例は本発明の請求項４に対応し
ている。
例を示すもので、本実施例は本発明の請求項４に対応し
ている。
【００８９】なお、本実施例において、Ｑスイッチパル
スＹＡＧレーザ発振器４、ＹＡＧレーザ第２高調波発生
器５、ＹＡＧレーザ第４高調波発生器６、ＹＡＧレーザ
第５高調波発生器７、ペリンブロカプリズム８等は、図
１に示す角膜手術装置と同一であり、その他、図１と同
一の符号を付した部分は同一物を表わしている。
スＹＡＧレーザ発振器４、ＹＡＧレーザ第２高調波発生
器５、ＹＡＧレーザ第４高調波発生器６、ＹＡＧレーザ
第５高調波発生器７、ペリンブロカプリズム８等は、図
１に示す角膜手術装置と同一であり、その他、図１と同
一の符号を付した部分は同一物を表わしている。
【００９０】１９はＹＡＧレーザ基本波とＹＡＧレーザ
第５高調波とから、 １／λ6＝１／λ1＋１／λ5…（７） （λ1：基本波、λ5：第５高調波、λ6：第６高調波）
の関係（和周波発生）によって波長１７７ｎｍのレーザ
光（ＹＡＧレーザ第６高調波）を発生させるＹＡＧレー
ザ第６高調波発生器である。
第５高調波とから、 １／λ6＝１／λ1＋１／λ5…（７） （λ1：基本波、λ5：第５高調波、λ6：第６高調波）
の関係（和周波発生）によって波長１７７ｎｍのレーザ
光（ＹＡＧレーザ第６高調波）を発生させるＹＡＧレー
ザ第６高調波発生器である。
【００９１】ＹＡＧレーザ第６高調波発生器１９には、
ＹＡＧレーザ第５高調波発生器７によって発生したＹＡ
Ｇレーザ第５高調波とＹＡＧレーザ第５高調波発生器７
において変換されずに残ったＹＡＧレーザ基本波並びに
ＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレーザ第５高調波発生
器７を透過したＹＡＧレーザ第２高調波とが入射し、更
に、ＹＡＧレーザ第６高調波発生器１９によって発生し
たＹＡＧレーザ第６高調波とＹＡＧレーザ第６高調波発
生器１９において変換されずに残ったＹＡＧレーザ基本
波並びにＹＡＧレーザ第５高調波とＹＡＧレーザ第６高
調波発生器１９を透過したＹＡＧレーザ第２高調波成分
及びＹＡＧレーザ第４高調波成分とがペリンブロカプリ
ズム８に入射するようになっている。
ＹＡＧレーザ第５高調波発生器７によって発生したＹＡ
Ｇレーザ第５高調波とＹＡＧレーザ第５高調波発生器７
において変換されずに残ったＹＡＧレーザ基本波並びに
ＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレーザ第５高調波発生
器７を透過したＹＡＧレーザ第２高調波とが入射し、更
に、ＹＡＧレーザ第６高調波発生器１９によって発生し
たＹＡＧレーザ第６高調波とＹＡＧレーザ第６高調波発
生器１９において変換されずに残ったＹＡＧレーザ基本
波並びにＹＡＧレーザ第５高調波とＹＡＧレーザ第６高
調波発生器１９を透過したＹＡＧレーザ第２高調波成分
及びＹＡＧレーザ第４高調波成分とがペリンブロカプリ
ズム８に入射するようになっている。
【００９２】上記のＹＡＧレーザ基本波とＹＡＧレーザ
第２高調波とＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレーザ第
５高調波とＹＡＧレーザ第６高調波とはペリンブロカプ
リズム８により各波長成分ごとに分離される。
第２高調波とＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレーザ第
５高調波とＹＡＧレーザ第６高調波とはペリンブロカプ
リズム８により各波長成分ごとに分離される。
【００９３】このとき、ペリンブロカプリズム８をある
角度に設定した場合には、該ペリンブロカプリズム８に
よって各波長成分ごとに分離されたレーザ光のうち、Ｙ
ＡＧレーザ第６高調波のみがビーム整形素子１０に入射
し、遮光板９によりＹＡＧレーザ基本波とＹＡＧレーザ
第２高調波とＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレーザ第
５高調波とが遮光されるようになっている。
角度に設定した場合には、該ペリンブロカプリズム８に
よって各波長成分ごとに分離されたレーザ光のうち、Ｙ
ＡＧレーザ第６高調波のみがビーム整形素子１０に入射
し、遮光板９によりＹＡＧレーザ基本波とＹＡＧレーザ
第２高調波とＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレーザ第
５高調波とが遮光されるようになっている。
【００９４】また、ペリンブロカプリズム８を上記とは
異なる別のある角度に設定した場合には、該ペリンブロ
カプリズム８によって各波長成分ごとに分離されたレー
ザ光のうち、ＹＡＧレーザ第５高調波のみがビーム整形
素子１０に入射し、遮光板９によりＹＡＧレーザ基本波
とＹＡＧレーザ第２高調波とＹＡＧレーザ第３高調波と
ＹＡＧレーザ第６高調波とが遮光されるようになってい
る。
異なる別のある角度に設定した場合には、該ペリンブロ
カプリズム８によって各波長成分ごとに分離されたレー
ザ光のうち、ＹＡＧレーザ第５高調波のみがビーム整形
素子１０に入射し、遮光板９によりＹＡＧレーザ基本波
とＹＡＧレーザ第２高調波とＹＡＧレーザ第３高調波と
ＹＡＧレーザ第６高調波とが遮光されるようになってい
る。
【００９５】以下、本実施例の装置の作動を略述する。
【００９６】本実施例においては、前述した本発明の第
１の実施例と同様に、ＱスイッチパルスＹＡＧレーザ発
振器４によって波長１０６４ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレ
ーザ基本波）を発振させると、ＹＡＧレーザ第２高調波
発生器５において前記式（１）の関係により波長５３２
ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ第２高調波）が発生し、
ＹＡＧレーザ第４高調波発生器６において前記式（２）
の関係により波長２６６ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ
第４高調波）が発生し、更に、ＹＡＧレーザ第５高調波
発生器７において前記式（３）の関係により波長２１３
ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ第５高調波）が発生す
る。
１の実施例と同様に、ＱスイッチパルスＹＡＧレーザ発
振器４によって波長１０６４ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレ
ーザ基本波）を発振させると、ＹＡＧレーザ第２高調波
発生器５において前記式（１）の関係により波長５３２
ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ第２高調波）が発生し、
ＹＡＧレーザ第４高調波発生器６において前記式（２）
の関係により波長２６６ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ
第４高調波）が発生し、更に、ＹＡＧレーザ第５高調波
発生器７において前記式（３）の関係により波長２１３
ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ第５高調波）が発生す
る。
【００９７】ＹＡＧレーザ第５高調波発生器７によって
発生したＹＡＧレーザ第５高調波とＹＡＧレーザ第５高
調波発生器７において変換されずに残ったＹＡＧレーザ
基本波並びにＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレーザ第
５高調波発生器７を透過したＹＡＧレーザ第２高調波と
がＹＡＧレーザ第６高調波発生器１８に入射し、該ＹＡ
Ｇレーザ第６高調波発生器１９において前記式（７）の
関係により波長１７７ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ第
６高調波）が発生する。
発生したＹＡＧレーザ第５高調波とＹＡＧレーザ第５高
調波発生器７において変換されずに残ったＹＡＧレーザ
基本波並びにＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレーザ第
５高調波発生器７を透過したＹＡＧレーザ第２高調波と
がＹＡＧレーザ第６高調波発生器１８に入射し、該ＹＡ
Ｇレーザ第６高調波発生器１９において前記式（７）の
関係により波長１７７ｎｍのレーザ光（ＹＡＧレーザ第
６高調波）が発生する。
【００９８】更に、ＹＡＧレーザ第６高調波発生器１９
によって発生したＹＡＧレーザ第６高調波とＹＡＧレー
ザ第６高調波発生器１９において変換されずに残ったＹ
ＡＧレーザ基本波及びＹＡＧレーザ第５高調波とＹＡＧ
レーザ第６高調波発生器１９を透過したＹＡＧレーザ第
２高調波成分及びＹＡＧレーザ第４高調波成分はペリン
ブロカプリズム８に入射して該ペリンブロカプリズム８
により各波長成分ごとに分離される。
によって発生したＹＡＧレーザ第６高調波とＹＡＧレー
ザ第６高調波発生器１９において変換されずに残ったＹ
ＡＧレーザ基本波及びＹＡＧレーザ第５高調波とＹＡＧ
レーザ第６高調波発生器１９を透過したＹＡＧレーザ第
２高調波成分及びＹＡＧレーザ第４高調波成分はペリン
ブロカプリズム８に入射して該ペリンブロカプリズム８
により各波長成分ごとに分離される。
【００９９】このとき、ペリンブロカプリズム８をある
角度に設定した場合には、該ペリンブロカプリズム８に
よって各波長成分ごとに分離されたレーザ光のうち、Ｙ
ＡＧレーザ第６高調波のみがビーム整形素子１０に入射
してビームの光強度分布の均一化が行われ、更に、ビー
ムの光強度分布を均一化されたＹＡＧレーザ第６高調波
は、ＡＲレンズ１１に入射して光強度の調整が行われ
る。
角度に設定した場合には、該ペリンブロカプリズム８に
よって各波長成分ごとに分離されたレーザ光のうち、Ｙ
ＡＧレーザ第６高調波のみがビーム整形素子１０に入射
してビームの光強度分布の均一化が行われ、更に、ビー
ムの光強度分布を均一化されたＹＡＧレーザ第６高調波
は、ＡＲレンズ１１に入射して光強度の調整が行われ
る。
【０１００】一方、ＹＡＧレーザ基本波、ＹＡＧレーザ
第２高調波、ＹＡＧレーザ第４高調波、ＹＡＧレーザ第
５高調波は遮光板９により遮光される。
第２高調波、ＹＡＧレーザ第４高調波、ＹＡＧレーザ第
５高調波は遮光板９により遮光される。
【０１０１】上記のＹＡＧレーザ第６高調波を眼球１２
の角膜に照射すると、該角膜の表層部を形成する組織が
徐々に蒸散する。
の角膜に照射すると、該角膜の表層部を形成する組織が
徐々に蒸散する。
【０１０２】また、ペリンブロカプリズム８を上記とは
異なる別のある角度に設定した場合には、該ペリンブロ
カプリズム８によって各波長成分ごとに分離されたレー
ザ光のうち、ＹＡＧレーザ第５高調波のみがビーム整形
素子１０に入射してビームの光強度分布の均一化が行わ
れ、更に、ビームの光強度分布を均一化されたＹＡＧレ
ーザ第５高調波は、ＡＲレンズ１１に入射して光強度の
調整が行われる。
異なる別のある角度に設定した場合には、該ペリンブロ
カプリズム８によって各波長成分ごとに分離されたレー
ザ光のうち、ＹＡＧレーザ第５高調波のみがビーム整形
素子１０に入射してビームの光強度分布の均一化が行わ
れ、更に、ビームの光強度分布を均一化されたＹＡＧレ
ーザ第５高調波は、ＡＲレンズ１１に入射して光強度の
調整が行われる。
【０１０３】一方、ＹＡＧレーザ基本波、ＹＡＧレーザ
第２高調波、ＹＡＧレーザ第４高調波、ＹＡＧレーザ第
６高調波は遮光板９により遮光される。
第２高調波、ＹＡＧレーザ第４高調波、ＹＡＧレーザ第
６高調波は遮光板９により遮光される。
【０１０４】上記のＹＡＧレーザ第５高調波を眼球１２
の角膜に照射すると、該角膜の表層部を形成する組織が
徐々に蒸散する。
の角膜に照射すると、該角膜の表層部を形成する組織が
徐々に蒸散する。
【０１０５】従って本実施例においても、前述した本発
明の各実施例と同様な作用効果を奏し得る。
明の各実施例と同様な作用効果を奏し得る。
【０１０６】また、本実施例においては、ペリンブロカ
プリズム８の角度を調整することにより、ＹＡＧレーザ
第５高調波とＹＡＧレーザ第６高調波とを交互に出力す
ることができるので、装置の応用範囲が広がる。
プリズム８の角度を調整することにより、ＹＡＧレーザ
第５高調波とＹＡＧレーザ第６高調波とを交互に出力す
ることができるので、装置の応用範囲が広がる。
【０１０７】なお、本発明の角膜手術装置は、上述の実
施例にのみ限定されるものではなく、本発明の角膜手術
装置を近視以外の遠視や乱視等の視力障害の治療に用い
るようにすること、その他、本発明の要旨を逸脱しない
範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。
施例にのみ限定されるものではなく、本発明の角膜手術
装置を近視以外の遠視や乱視等の視力障害の治療に用い
るようにすること、その他、本発明の要旨を逸脱しない
範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。
【０１０８】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の角膜手術装
置によれば、下記のような種々の優れた効果を奏し得
る。
置によれば、下記のような種々の優れた効果を奏し得
る。
【０１０９】（１）本発明の請求項１に記載した角膜手
術装置においては、手術用のＹＡＧレーザ第５高調波の
もととなるＹＡＧレーザ基本波をＹＡＧレーザ発振器に
より発振させているので、また、本発明の請求項２及び
請求項３に記載した角膜手術装置においては、手術用の
ＹＡＧレーザ第６高調波のもととなるＹＡＧレーザ基本
波をＹＡＧレーザ発振器により発振させているので、更
に本発明の請求項４に記載した角膜手術装置において
は、手術用のＹＡＧレーザ第５高調波とＹＡＧレーザ第
６高調波とのもとになるＹＡＧレーザ基本波をＹＡＧレ
ーザ発振器により発振させているので、いずれにおいて
も、装置のメンテナンス作業を頻繁に行わなくてもよ
く、装置の小型化を図ることができ、また、有害なガス
を使用しないので安全性が極めて高い。
術装置においては、手術用のＹＡＧレーザ第５高調波の
もととなるＹＡＧレーザ基本波をＹＡＧレーザ発振器に
より発振させているので、また、本発明の請求項２及び
請求項３に記載した角膜手術装置においては、手術用の
ＹＡＧレーザ第６高調波のもととなるＹＡＧレーザ基本
波をＹＡＧレーザ発振器により発振させているので、更
に本発明の請求項４に記載した角膜手術装置において
は、手術用のＹＡＧレーザ第５高調波とＹＡＧレーザ第
６高調波とのもとになるＹＡＧレーザ基本波をＹＡＧレ
ーザ発振器により発振させているので、いずれにおいて
も、装置のメンテナンス作業を頻繁に行わなくてもよ
く、装置の小型化を図ることができ、また、有害なガス
を使用しないので安全性が極めて高い。
【０１１０】（２）本発明の請求項１に記載した角膜手
術装置においては、ＹＡＧレーザ第５高調波を角膜に照
射できるので、また、本発明の請求項２及び請求項３に
記載した角膜手術装置においては、ＹＡＧレーザ第６高
調波を角膜に照射できるので、更に本発明の請求項４に
記載した角膜手術装置においては、ＹＡＧレーザ第５高
調波とＹＡＧレーザ第６高調波を角膜に照射できるの
で、いずれにおいても、レーザ光が照射される角膜表層
部に熱変性が生じにくく、また、角膜表層部の切除ある
いは切開をシャープに且つ均一に行うことができる。
術装置においては、ＹＡＧレーザ第５高調波を角膜に照
射できるので、また、本発明の請求項２及び請求項３に
記載した角膜手術装置においては、ＹＡＧレーザ第６高
調波を角膜に照射できるので、更に本発明の請求項４に
記載した角膜手術装置においては、ＹＡＧレーザ第５高
調波とＹＡＧレーザ第６高調波を角膜に照射できるの
で、いずれにおいても、レーザ光が照射される角膜表層
部に熱変性が生じにくく、また、角膜表層部の切除ある
いは切開をシャープに且つ均一に行うことができる。
【０１１１】（３）本発明の請求項４に記載した角膜手
術装置においては、ＹＡＧレーザ第５高調波とＹＡＧレ
ーザ第６高調波とを発生させることができるので、装置
の応用範囲が広い。
術装置においては、ＹＡＧレーザ第５高調波とＹＡＧレ
ーザ第６高調波とを発生させることができるので、装置
の応用範囲が広い。
【図１】本発明の角膜手術装置の第１の実施例を示す概
念図である。
念図である。
【図２】本発明の角膜手術装置の第２の実施例を示す概
念図である。
念図である。
【図３】本発明の角膜手術装置の第３の実施例を示す概
念図である。
念図である。
【図４】本発明の角膜手術装置の第４の実施例を示す概
念図である。
念図である。
【図５】角膜手術に用いられているＡｒＦエキシマレー
ザ発振器を示す概念図である。
ザ発振器を示す概念図である。
４ ＱスイッチパルスＹＡＧレーザ発振器 ５ ＹＡＧレーザ第２高調波発生器 ６ ＹＡＧレーザ第４高調波発生器 ７ ＹＡＧレーザ第５高調波発生器 １３ ＹＡＧレーザ第３高調波発生器 １７，１８，１９ ＹＡＧレーザ第６高調波発生器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宇田川 毅 東京都江東区豊洲三丁目１番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内 (72)発明者 高岡 啓吾 東京都千代田区大手町二丁目２番１号 石 川島播磨重工業株式会社本社内 (72)発明者 山田 一二三 東京都千代田区大手町二丁目２番１号 石 川島播磨重工業株式会社本社内
Claims (4)
- 【請求項１】 ＹＡＧレーザ基本波を発振するＹＡＧレ
ーザ発振器と、該ＹＡＧレーザ発振器より発振されるＹ
ＡＧレーザ基本波からＹＡＧレーザ第２高調波を発生さ
せるＹＡＧレーザ第２高調波発生器と、該ＹＡＧレーザ
第２高調波発生器によって発生したＹＡＧレーザ第２高
調波からＹＡＧレーザ第４高調波を発生させ且つ前記Ｙ
ＡＧレーザ第２高調波発生器において変換されずに残っ
たＹＡＧレーザ基本波成分を透過させるＹＡＧレーザ第
４高調波発生器と、該ＹＡＧレーザ第４高調波発生器に
よって発生したＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレーザ
第４高調波発生器を透過したＹＡＧレーザ基本波とから
ＹＡＧレーザ第５高調波を発生させるＹＡＧレーザ第５
高調波発生器とを備えてなることを特徴とする角膜手術
装置。 - 【請求項２】 ＹＡＧレーザ基本波を発振するＹＡＧレ
ーザ発振器と、該ＹＡＧレーザ発振器より発振されるＹ
ＡＧレーザ基本波からＹＡＧレーザ第２高調波を発生さ
せるＹＡＧレーザ第２高調波発生器と、該ＹＡＧレーザ
第２高調波発生器によって発生したＹＡＧレーザ第２高
調波とＹＡＧレーザ第２高調波発生器において第２高調
波に変換されずに残ったＹＡＧレーザ基本波とからＹＡ
Ｇレーザ第３高調波を発生させるＹＡＧレーザ第３高調
波発生器と、ＹＡＧレーザ第３高調波発生器によって発
生したＹＡＧレーザ第３高調波からＹＡＧレーザ第６高
調波を発生させるＹＡＧレーザ第６高調波発生器とを備
えてなることを特徴とする角膜手術装置。 - 【請求項３】 ＹＡＧレーザ基本波を発振するＹＡＧレ
ーザ発振器と、該ＹＡＧレーザ発振器より発振されるＹ
ＡＧレーザ基本波からＹＡＧレーザ第２高調波を発生さ
せるＹＡＧレーザ第２高調波発生器と、該ＹＡＧレーザ
第２高調波発生器によって発生したＹＡＧレーザ第２高
調波からＹＡＧレーザ第４高調波を発生させるＹＡＧレ
ーザ第４高調波発生器と、該ＹＡＧレーザ第４高調波発
生器によって発生したＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧ
レーザ第４高調波発生器において変換されずに残ったＹ
ＡＧレーザ第２高調波とからＹＡＧレーザ第６高調波を
発生させるＹＡＧレーザ第６高調波発生器とを備えてな
ることを特徴とする角膜手術装置。 - 【請求項４】 ＹＡＧレーザ基本波を発振するＹＡＧレ
ーザ発振器と、該ＹＡＧレーザ発振器より発振されるＹ
ＡＧレーザ基本波からＹＡＧレーザ第２高調波を発生さ
せるＹＡＧレーザ第２高調波発生器と、該ＹＡＧレーザ
第２高調波発生器によって発生したＹＡＧレーザ第２高
調波からＹＡＧレーザ第４高調波を発生させ且つ前記Ｙ
ＡＧレーザ第２高調波発生器において変換されずに残っ
たＹＡＧレーザ基本波成分を透過させるＹＡＧレーザ第
４高調波発生器と、該ＹＡＧレーザ第４高調波発生器に
よって発生したＹＡＧレーザ第４高調波とＹＡＧレーザ
第４高調波発生器を透過したＹＡＧレーザ基本波とから
ＹＡＧレーザ第５高調波を発生させるＹＡＧレーザ第５
高調波発生器と、該ＹＡＧレーザ第５高調波発生器によ
って発生したＹＡＧレーザ第５高調波とＹＡＧレーザ第
５高調波発生器において変換されずに残ったＹＡＧレー
ザ基本波とからＹＡＧレーザ第６高調波を発生させるＹ
ＡＧレーザ第６高調波発生器とを備えてなることを特徴
とする角膜手術装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4308216A JPH06133997A (ja) | 1992-10-22 | 1992-10-22 | 角膜手術装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4308216A JPH06133997A (ja) | 1992-10-22 | 1992-10-22 | 角膜手術装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06133997A true JPH06133997A (ja) | 1994-05-17 |
Family
ID=17978322
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4308216A Pending JPH06133997A (ja) | 1992-10-22 | 1992-10-22 | 角膜手術装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06133997A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103302402A (zh) * | 2012-03-16 | 2013-09-18 | 株式会社迪思科 | 激光加工装置 |
| CN114421262A (zh) * | 2022-01-25 | 2022-04-29 | 国神光电科技（上海）有限公司 | 一种采用佩林布洛卡棱镜分光的紫外激光器装置及方法 |
-
1992
- 1992-10-22 JP JP4308216A patent/JPH06133997A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103302402A (zh) * | 2012-03-16 | 2013-09-18 | 株式会社迪思科 | 激光加工装置 |
| CN103302402B (zh) * | 2012-03-16 | 2016-04-06 | 株式会社迪思科 | 激光加工装置 |
| TWI584903B (zh) * | 2012-03-16 | 2017-06-01 | Disco Corp | Laser processing device |
| CN114421262A (zh) * | 2022-01-25 | 2022-04-29 | 国神光电科技（上海）有限公司 | 一种采用佩林布洛卡棱镜分光的紫外激光器装置及方法 |
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