KR101294326B1 - 눈의 외과적 레이저 치료를 수행하기 위한 조립체 및 그수행 방법 - Google Patents

Abstract

눈의 수술적 레이저 치료를 수행하기 위한 조립체가 개시되어 있다. 상기 조립체는 약 190 nm에서 약 380 nm 범위의 파장과 펨토초 범위의 펄스 지속시간에서 펄스 치료 복사를 방사하도록 설계된다. 그러한 치료 복사로 인해서 눈에 적당한 각막 내지 안구내 레이저 치료를 가하는 것, 예를 들어 각막 섹션을 부착하거나 구체적으로 각막 조직을 제거하는 것이 가능하게 된다.

눈의 레이저 치료, 각막, 파장, 펄스 지속시간

Description

눈의 외과적 레이저 치료를 수행하기 위한 조립체 및 그 수행 방법{ASSEMBLY AND METHOD FOR PERFORMING SURGICAL LASER TREATMENTS OF THE EYE}

본 발명은 눈의 수술적 레이저 치료를 수행하기 위한 장치 및 그 방법에 관한 것이다.

안과 수술을 위해서, 특히 눈 위나 눈 안의 조직 구조를 분리하기 위하여 종래 기술에서 소위 펨토초 레이저(femtosecond laser), 즉 펨토초 범위의 펄스 지속시간을 가진 펄스 레이저를 사용하는 것이 알려져 있다. 예를 들어서, 펨토초 레이저는 소위 피판 절삭(flap cut), 즉 예를 들어 라식 시술을 위해서 측면으로 접혀 있는 작은 피판을 형성하기 위하여 측면으로부터 눈 안으로 절제를 수행하기 위하여 사용된다. 펨토초 레이저는 또한 소위 각막이식술에서 채용된다.

안과 수술에서 이전에 사용된 펨토초 레이저는 일반적으로 적외선 범위 또는 전자기 스펙트럼의 가시 범위의 파장을 가지는 복사선을 방사하였다.

미국 특허 제5,984,916호는 각막과 안구내 레이저 수술에 관한 것으로 약 400 nm 이상의 파장을 가지며 펄스 지속시간이 10 fs(femtosecond)에서 2 ps(picosecond)사이에 있는 펄스 레이저 복사를 채용하고 있다.

미국 특허 제5,656,186호는 펄스 레이저 복사로 광범위한 재료를 처리하기 위하여 적절한 펄스 지속시간을 결정하기 위한 방법을 기술하고 있다. 이 방법에 따르면, 재료의 광투과를 위한 문턱값의 펄스 지속시간에 대한 관계는 주어진 파장에 대해서 초기에 실험적으로 결정된다. 얻어진 상기 관계를 나타내는 곡선에서, 일 지점이 결정되는데, 이 지점으로부터 작은 펄스 지속시간 쪽으로 투과 문턱값이 펄스 지속시간의 제곱에 비례하는 관계는 더 이상 적용되지 않는다. 본질적으로 레이저 프로세싱은 이 때 전이 지점의 반대측에 있는 펄스 지속시간으로 수행된다. 이를 위해 펨토초와 피코초 범위의 펄스 지속시간이 나타나 있다.

미국 특허 제5,656,186호에 기재된 방법은 극도로 넓은 파장 범위에서 적용가능하려는 목적인데, 상기 파장 범위는 실제로 사용되는 전체 레이저 스펙트럼을 사실상 포함한다. 여하튼 간에, 200 nm에서 2 ㎛의 파장이 상기 문서에 언급되어 있다. 상기 방법을 적용하려는 다양한 재료의 예로서, 금과 알루미늄과 같은 금속들, 유리 재료, 또한 생체 조직, 특히 각막이 언급되어 있다. 각막의 레이저 치료를 위해서 구체적으로 770 nm의 파장이 나타나 있다.

본 발명의 목적은 개선된 수술 결과를 얻을 수 있는 눈의 수술적 레이저 치료를 수행하기 위한 방법과 그 장치를 제공하는 것이다. 특히, 그러한 장치와 방법은 눈의 조직 구조에서 바람직하지 않은 변화, 예를 들어 각막을 시술하는 동안 수정체 또는 망막에 손상을 잘 방지할 수 있어야 한다.

본 발명은, 약 190 nm에서 약 380 nm 사이의 파장과 펨토초 범위의 펄스 지속시간을 가지는 펄스 치료 복사의 작용에 의해서 수술 과정에서 전자기 복사의 영향을 받지 않으려는 눈 영역에 원하지 않는 손상을 보다 잘 방지할 수 있다.

그러나 적외선 범위 또는 가시광선 범위의 복사선을 사용하는 경우 그러한 손상을 항상 배제할 수 있는 것은 아니다.

바람직하게는 본 발명에 따른 장치는 치료 복사를 각막 위 또는 각막 안에 집중하기 위한 수단을 포함한다. 따라서 이를테면 라식 치료의 범위에서 각막 피판을 생성하도록, 예를 들어 표면 각막 또는 조직내 각막 물질을 제거하고 그리고/또는 각막에서 절제를 하기 위하여, 특히 광제거(photoablation) 및/또는 광파괴(photodisruption)에 의해서 각막 위에서만 외과적 시술을 하는 것이 가능하게 된다. 그렇기 때문에 눈의 다른 구조, 예를 들어 수정체 및/또는 망막에 상당한 영향을 미치는 것을 방지할 수 있게 된다.

본 발명의 바람직한 형태에 따르면, 방사되는 치료 복사의 파장은 약 190 nm에서 약 200 nm 사이 또는 약 260 nm에서 약 280 nm 사이 또는 약 340 nm에서 약 360 nm 사이에 있다. 구체적으로, 방사된 치료 복사의 파장은 약 193 nm 또는 약 267 nm 또는 약 347 nm일 수 있다. 후자의 파장은 예를 들어 1040 nm의 기본 파장으로부터 주파수 트리플링(frequency tripling)해서 생성될 수 있다. 193 nm의 파장은 예를 들어 1064 nm의 기본 파장으로부터 생성될 수 있다. 당업자는 주파수 변환 개념에 익숙하며, 따라서 주파수 변환에 관한 자세한 내용은 본 명세서에서 기술하지 않는다. 적절한 변환기는 예를 들어 광학 파라메트릭 제너레이터(parametric generator)/오실리에이터(oscillator), 합-주파수 제너레이터(sum-frequency generator) 및 제2, 제3, 제4 또는 제5 조파를 위한 제너레이터와 같은 구성요소로 형성될 수 있다. 적외선 범위 부근의 다른 파장뿐만 아니라 상기 언급한 두 개의 기본 파장을 방사하는 펨토초 레이저는 이미 상업적으로 사용되고 있다. 267 nm 파장은 예를 들어 Ti:Sa 레이저의 방사 파장의 제3 조파로서 생성될 수 있다.

예를 들어 피판을 생성하기 위하여 각막 치료를 위한 펨토초 범위의 펄스 지속시간과 상기 파장을 가지는 레이저 펄스를 사용하는 경우 사실상 모든 입사 복사선이 각막 내에서 변화되고, 잔류 전달로서 각막을 통과하는 모든 복사선은 망막 내가 아닌 인간의 수정체에 의하여 흡수된다.

상대적으로 높은 펄스 반복률의 결과로서, 또한 소위 제거 문턱값을 감소시키는 것이 가능한데, 상기 제거 문턱값을 넘어가면 통계적으로 말해서 광제거가 상당한 정도까지 발생한다. 적어도 약 340 nm에서 약 360 nm 사이의 방사된 치료 복사선의 파장을 위해서, 치료 복사를 위한 펄스 반복률(pulse repetition rate)은 따라서 바람직하게는 본 발명에서 적어도 약 10 kHz이며, 바람직하게는 약 100 kHz와 약 500 kHz 사이에 있다. 또한 MHz 범위로의 펄스 반복률이, 예를 들어 두 자리 MHz 범위로도 물론 선택될 수 있다.

적어도 약 340 nm에서 약 360 nm 사이의 방사된 치료 복사선의 파장의 경우, 치료 복사선의 펄스 에너지는 본 발명에서는 바람직하게는 약 0.1 nJ에서 약 5 μJ 사이에 있으며, 바람직하게는 최대 약 10 nJ이다. 예를 들어, 펄스 당 0.8 nJ 이하의 펄스 에너지가 설정될 수 있으며, 특히 펄스 당 0.7 nJ 이하이며 보다 구체적으로는 펄스 당 0.5 nJ이다. 최소 에너지 한계값은 이런 경우에 반복률과 개구수(numeral aperture)에 따라 다르며, 상기 한계값은 원하는 효과가 발생하도록, 예를 들어 제거 문턱값이 얻어지도록 반복적으로 조정되게 된다.

예시적으로, 본 발명에 의해서 단지 0.5 nJ/pulse의 에너지의 펄스 UV 복사선을 사용하여 라식 수술을 위한 고품질의 각막 피판을 생성할 수 있게 된다. 이로써 각막 피판을 생성하기 위한 약 30 초에서 1분의 시간을 가질 수 있다.

본 발명의 범위에서 펨토초 범위라는 용어는 또한 수백의 fs의 펄스 길이, 예를 들어 230 fs의 FWHM 길이의 펄스 길이를 포함한다. 특히, 이 용어는 또한 한자리수 피코초 범위에서 최대 약 10 ps의 펄스 길이를 포함한다. 예를 들어 FS 레이저의 펄스 길이는 적절한 광학 수단을 사용하여 1 ps로 연장될 수 있다.

본 발명의 예시적 실시예를 이하에서 첨부된 일 도면을 참고하여 기술한다.

도 1은 펄스 펨토초 레이저(10)를 구비한 레이저 치료 시스템을 보여주는 도면.

레이저(10)는 1040 nm의 기본 파장으로부터 제3 조파를 생성함으로써 347 nm의 파장을 전달한다. 방사된 복사 펄스(12)는 20 MHz의 반복률을 가지는 250 fs의 펄스 길이(FMHW)를 가진다. 전력은 27 mW이다. 빔 형성 및 안내 수단은 전체적으로 도면 부호 14로 나타낸 블록에 의해서 표시되고 있으며 본질적으로 당업자에게 알려져 있다. 특히 이와 같은 수단은 목표하는 전체 영역이 포함되도록 복사 펄스를 조정하도록 형성된다. 상기 빔 형성 및 안내 수단(14)은 또한 복사 펄스를 원하는 지점에 맞출 수 있게 하는 초점 기능을 가지고 있는데, 상기 원하는 지점은 예를 들어 목표 조직의 표면에 있거나 내부에 있을 수 있다. 이와 같이 빔 형성 및 안내 수단(14)에 의해서 시간과 공간적으로 제어되는 것으로서 도면부호 16으로 표시된 복사 펄스는 예를 들어 피판을 생성하기 위하여 본 예의 경우에 각막(18)을 향하고 있다.

필요하다면, 빔 형성 및 안내 수단은 또한 대물렌즈 장치를 포함할 수 있다. 그러나 이것은 본 발명의 범위에서 강제적인 것은 아니다.

예를 들어 20 MHz 범위의 반복률과, 펄스당 1 nJ의 최대 에너지를 가지는 347 nm의 파장을 사용하고 자외선 초점 대물렌즈(UV focusing objective)(100X)를 사용함으로써 양호한 제거 결과를 얻을 수 있다. 이것은 약 2 J/cm²의 에너지밀도(fluence)에 상응한다.

상술한 매개변수들에 의해서, 실제적으로 완전한 복사 흡수와 눈의 다른 영역 내로의 극도로 작은 복사 투과가 각막에서 가능하다. 매우 작은 펄스 에너지로 1분 이하의 허용시간 내에 고품질의 피판을 생성할 수 있다.

Claims (13)

1. 340 nm와 360 nm 사이의 파장과 펨토초(femtosecond) 범위의 펄스 지속시간을 가지는 펄스 치료 복사선을 방사하도록 구성되고, 치료 복사선의 펄스 에너지는 0.1 nJ과 5 μJ 사이에 있는 것을 특징으로 하는 눈의 각막의 수술적 레이저 치료 수행 장치.
2. 제1항에 있어서,

   치료 복사선을 각막 위 또는 각막 내로 초점을 맞추기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 눈의 각막의 수술적 레이저 치료 수행 장치.
3. 삭제
4. 제1항 또는 제2항에 있어서,

   방사된 치료 복사선의 파장은 347 nm인 것을 특징으로 하는 눈의 각막의 수술적 레이저 치료 수행 장치.
5. 제1항에 있어서,

   치료 복사선의 펄스 에너지는 최대 10 nJ인 것을 특징으로 하는 눈의 각막의 수술적 레이저 치료 수행 장치.
6. 제1항 또는 제2항에 있어서,

   적어도 340 nm와 360 nm 사이의 방사된 치료 복사선의 경우에, 치료 복사선의 펄스 반복률(pulse repetition rate)은 적어도 10 kHz인 것을 특징으로 하는 눈의 각막의 수술적 레이저 치료 수행 장치.
7. 삭제
8. 삭제
9. 삭제
10. 삭제
11. 삭제
12. 삭제
13. 제6항에 있어서,

    치료 복사선의 펄스 반복률(pulse repetition rate)은 100 kHz와 500 kHz 사이에 있는 것을 특징으로 하는 눈의 각막의 수술적 레이저 치료 수행 장치.

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