JPH06131714A - Production of magneto-optical recording medium - Google Patents

Production of magneto-optical recording medium

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JPH06131714A
JPH06131714A JP30294392A JP30294392A JPH06131714A JP H06131714 A JPH06131714 A JP H06131714A JP 30294392 A JP30294392 A JP 30294392A JP 30294392 A JP30294392 A JP 30294392A JP H06131714 A JPH06131714 A JP H06131714A
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recording
magneto
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洋一 橋本
Hideki Kobayashi
秀樹 小林
Tokuo Igari
徳夫 猪狩
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Kuraray Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To provide the process for production of the magneto-optical recording medium capable of recording or erasing signals while maintaining signal quality of a high level even under a small external magnetic field by decreasing the noises in a low magnetic field and increasing CNR. CONSTITUTION:The film of a lower layer 4a in contact with a dielectric substance layer 3 of a lower layer is formed at >=100 angstrom/min deposition rate at the time of forming a recording film 4. An upper layer 4b in contact with the dielectric substance layer 5 of the upper layer is formed to 10 to 30 angstrom thickness at <=15 angstrom/min deposition rate. After the formation of the film of the upper layer, the surface thereof is subjected to an oxidation treatment.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、希土類−遷移金属アモ
ルファス合金からなる記録層を有した光磁気記録媒体の
製造方法に係り、特に、磁界記録特性を向上させる技術
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a magneto-optical recording medium having a recording layer made of a rare earth-transition metal amorphous alloy, and more particularly to a technique for improving magnetic field recording characteristics.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、種々の光記録素子が提案されてお
り、その中でも追加記録や消去ができるという利点を持
つ光磁気記録媒体は、既に実用化の段階に入っている。
光磁気記録媒体を用いた記録方式の一つに、磁界変調方
式がある。この磁界変調方式による光磁気記録媒体の記
録膜としては、総合的な特性が適していることから、現
在のところ希土類−遷移金属合金からなる薄膜が最も多
く用いられている。希土類−遷移金属アモルファス合金
膜は、飽和磁化が膜面に垂直に向く垂直磁化膜であり、
膜上の記録箇所における磁化の向きを変化させることに
より、信号化された情報が書き込まれる。
2. Description of the Related Art Conventionally, various optical recording elements have been proposed, and among them, a magneto-optical recording medium having the advantage of being capable of additional recording and erasing has already been put into practical use.
A magnetic field modulation method is one of recording methods using a magneto-optical recording medium. As a recording film of a magneto-optical recording medium by this magnetic field modulation method, a thin film made of a rare earth-transition metal alloy is most often used at present because of its suitable comprehensive characteristics. The rare earth-transition metal amorphous alloy film is a perpendicular magnetization film whose saturation magnetization is perpendicular to the film surface,
The signalized information is written by changing the direction of the magnetization at the recording location on the film.

【0003】上記の磁界変調方式を用いて情報を記録も
しくは消去する方法の中に、キューリ点記録方式があ
る。これは、記録膜に電磁石などを用いて外部磁界を与
えておき、それと同時に、レンズによって集光されたレ
ーザ光を記録膜に照射して、記録膜をキューリ温度まで
昇温させ、外部磁界と同じ方向に磁化させて情報を記録
もしくは消去するものである。このキューリ点記録方式
においては、例えば、記録媒体が一般的な単層構造の希
土類−遷移金属アモルファス合金記録膜を備えた光磁気
ディスクである場合、記録・消去動作のために200〜
400(Oe)程度の磁場が必要である。より小さい磁
場で記録・消去が行えるようになれば、外部磁界を発生
するための磁石の小型化、軽量化が図れ、さらに、磁界
変調方式の場合には、磁界の高速変調が可能になるの
で、記録媒体の磁界感度特性をより向上させる技術が望
まれている。
A Curie point recording method is one of the methods for recording or erasing information using the above magnetic field modulation method. This is because an external magnetic field is applied to the recording film using an electromagnet or the like, and at the same time, the recording film is irradiated with laser light focused by a lens to raise the temperature of the recording film to the Curie temperature. Information is recorded or erased by magnetizing in the same direction. In the Curie point recording method, for example, when the recording medium is a magneto-optical disk provided with a general single-layer structure rare earth-transition metal amorphous alloy recording film, 200 to 200
A magnetic field of about 400 (Oe) is required. If recording / erasing can be performed with a smaller magnetic field, the magnet for generating the external magnetic field can be made smaller and lighter, and in the case of the magnetic field modulation method, high-speed modulation of the magnetic field becomes possible. A technique for further improving the magnetic field sensitivity characteristic of a recording medium is desired.

【0004】図6は、代表的な光磁気記録媒体である光
磁気ディスクの磁界感度特性図であり、予め磁化の向き
をそろえて初期化した光磁気ディスクに外部磁界を与
え、レーザ光を照射してデータを書き込んだときの、外
部磁界とCNRとの関係を示す。磁界変調方式における
記録・消去磁界を低減させるためには、記録媒体の特性
として、CNRが飽和する外部磁界Hs と、CNRが出
現し始める外部磁界H0がともに小さいことが望まれ
る。すなわち、磁界変調方式では、Hs とH0 との間で
磁界を反転させるので、Hs とH0 が小さく、且つ、H
s とH0 との差が小さいほど、より高速な変調動作が可
能になる。また、Hs とH0 が小さければ、それを発生
させるための電磁石コイルを小型、軽量にできる。
FIG. 6 is a magnetic field sensitivity characteristic diagram of a magneto-optical disk which is a typical magneto-optical recording medium. An external magnetic field is applied to a magneto-optical disk which is initialized by aligning the direction of magnetization in advance, and laser light is irradiated. The relationship between the external magnetic field and the CNR when the data is written by the following is shown. In order to reduce the recording / erasing magnetic field in the magnetic field modulation method, it is desirable that the external magnetic field Hs at which the CNR saturates and the external magnetic field H0 at which the CNR begins to appear are both small as characteristics of the recording medium. That is, in the magnetic field modulation method, the magnetic field is reversed between Hs and H0, so that Hs and H0 are small and
The smaller the difference between s and H0, the faster the modulation operation becomes possible. If Hs and H0 are small, the electromagnet coil for generating them can be made small and lightweight.

【0005】一方、図7に示すように、書き込み時の垂
直磁化膜71においては、レーザ光Lを照射された高温
部72には、電磁石などからの外部磁界Hexと、高温部
72周辺のキューリ温度以下の部分から発生する反磁界
Hd の2つの磁界がかかる。上記図6に示したH0 に大
きく影響するのは、この反磁界Hd であり、Hd が大き
ければそれを打ち消すだけのH0 が必要となる。このH
d は、高温部72周辺の磁化の大きさに依存するため、
記録膜が単層のディスクにおいては、磁化が小さくなる
ような補償組成を選んで記録膜を組成設計をすればよい
が、組成の微妙な変化によって特性が大きく変化するの
で、所望する品質の記録膜を安定して供給するのは困難
である。そのため、誘電体層や記録膜を成膜する時の投
入電力や、スパッタガス圧を調整したり、誘電体層を逆
スパッタすることによって、補償組成を選ぶことなく、
H0 を小さくする方法が採用されていた。
On the other hand, as shown in FIG. 7, in the perpendicularly magnetized film 71 at the time of writing, the high temperature portion 72 irradiated with the laser beam L has an external magnetic field Hex from an electromagnet or the like and a curie around the high temperature portion 72. Two magnetic fields, a demagnetizing field Hd generated from a portion below the temperature, are applied. It is this demagnetizing field Hd that has a great effect on H0 shown in FIG. 6, and if Hd is large, H0 is necessary to cancel it. This H
Since d depends on the magnitude of magnetization around the high temperature portion 72,
In the case of a disc with a single recording film, the composition of the recording film may be designed by selecting a compensating composition that reduces the magnetization, but since the characteristics change greatly due to subtle changes in the composition, recording with the desired quality It is difficult to stably supply the membrane. Therefore, without adjusting the compensating composition by adjusting the input power at the time of forming the dielectric layer or the recording film, the sputtering gas pressure, or by performing reverse sputtering of the dielectric layer,
A method of reducing H0 has been adopted.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、H0 を
小さくすることにより、低磁界の作用下でのノイズレベ
ルが大きくなることが問題となってきた。磁界変調方式
において磁界を反転させるときには、必ず外部磁界がゼ
ロとなる状態を経るので、図6に示した外部磁界特性に
おけるゼロ磁界でのノイズを低減し、CNRを高くする
ことは、高品質な光磁気記録媒体を製造する上で、極め
て重要な課題の一つである。
However, it has become a problem that the noise level becomes large under the action of a low magnetic field by reducing H0. When reversing the magnetic field in the magnetic field modulation method, the external magnetic field always goes to a state of zero. Therefore, reducing the noise at the zero magnetic field in the external magnetic field characteristics shown in FIG. 6 and increasing the CNR is of high quality. This is one of the extremely important problems in manufacturing a magneto-optical recording medium.

【0007】本発明は、上述した問題点を解決するため
になされたものであり、低磁界下でのノイズを低減させ
てCNRを大きくすることにより、小型、軽量の電磁石
を備えた装置であっても安定した記録・消去動作が可能
な光磁気記録媒体を製造する方法を提供することを目的
とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and is an apparatus provided with a small and lightweight electromagnet by reducing noise under a low magnetic field and increasing CNR. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a magneto-optical recording medium capable of stable recording / erasing operations.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は、基板上に、下層の誘電体層、希土類−遷
移金属アモルファス合金からなる記録膜、及び上層の誘
電体層を順次積層する光磁気記録媒体の製造方法におい
て、前記記録膜を、前記下層の誘電体層に接する側では
100オングストローム/min以上の堆積速度で成膜
し、前記上層の誘電体層に接する側では、堆積速度が1
5オングストローム/min以下で、10乃至30オン
グストロームの厚さに成膜し、前記記録膜の表面を酸化
処理するものである。
In order to achieve the above object, the present invention provides a substrate on which a lower dielectric layer, a recording film made of a rare earth-transition metal amorphous alloy, and an upper dielectric layer are sequentially formed. In the method for manufacturing a laminated magneto-optical recording medium, the recording film is formed at a deposition rate of 100 Å / min or more on the side in contact with the lower dielectric layer, and on the side in contact with the upper dielectric layer, Deposition rate is 1
The film is formed at a thickness of 5 to 30 Å / min and a thickness of 10 to 30 Å, and the surface of the recording film is oxidized.

【0009】[0009]

【作用】上記の構成により、記録膜を成膜する際に、下
層の誘電体層に接する側の堆積速度と、上層の誘電体層
に接する側の堆積速度及び膜厚が所定の条件になるよう
にし、成膜後、記録膜の表面を酸化させることにより、
低い外部磁界の作用下でのノイズが低減されてCNRが
向上し、安定した記録、消去が可能な光磁気記録媒体を
作製できる。
With the above structure, when the recording film is formed, the deposition rate on the side in contact with the lower dielectric layer, the deposition rate on the side in contact with the upper dielectric layer, and the film thickness satisfy predetermined conditions. And by oxidizing the surface of the recording film after film formation,
It is possible to manufacture a magneto-optical recording medium capable of stable recording and erasing by reducing noise under the action of a low external magnetic field and improving CNR.

【0010】[0010]

【実施例】以下に本発明の一実施例について、図面を参
照しながら説明する。図1は、本実施例において作成し
た光磁気ディスク(以下、ディスク)の構成例である。
ディスク1は、厚さ1.2mmの基板2、厚さ1100
オングストロームの下層の誘電体層(干渉層)3、垂直
磁化膜である厚さ200オングストロームの記録膜4、
厚さ350オングストロームの上層の誘電体層(保護
層)5、及び厚さ500オングストロームの反射層6か
らなる。記録膜4は2層構造であり、下層の誘電体層3
に接する下部層4aと、上層の誘電体層5に接する上部
層4bとを、それぞれ条件を変えて形成した。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a configuration example of a magneto-optical disk (hereinafter referred to as a disk) created in this embodiment.
The disk 1 is a substrate 2 having a thickness of 1.2 mm and a thickness of 1100.
A dielectric layer (interference layer) 3 below angstrom, a recording film 4 having a thickness of 200 angstrom which is a perpendicular magnetization film,
The dielectric layer (protective layer) 5 is an upper layer of 350 Å thick, and the reflective layer 6 is 500 Å thick. The recording film 4 has a two-layer structure and includes a lower dielectric layer 3
The lower layer 4a in contact with and the upper layer 4b in contact with the upper dielectric layer 5 were formed under different conditions.

【0011】基板2の材料としては、ポリカーボネート
やエポキシ樹脂等のプラスチック、ガラス、セラミッ
ク、金属等の中から選択すればよい。また、誘電体層
3,5の材料には、SiN,AlSiN,AlSiO
N,SiO,ZnSなどを用いる。記録膜4は、希土類
−遷移金属アモルファス合金をスパッタして下部層4
a、上部層4bの順で形成し、上部層4bを成膜した後
に、記録膜4の表面を酸化処理する。反射層6の材料に
は、Al,Au,Ag,Ptなどに、Ti,Cr,I
n,Cuの中から1種類以上を添加したものを用いる。
本実施例では、基板2にはポリカーボネート、誘電体層
3,5にはSiN、記録膜4にはTbFeCoCr、反
射層6にはAlTiを用いた。記録膜4をスパッタ成膜
する時に用いたガスは、Ar、N2 である。記録膜4表
面の酸化処理は、アルゴン酸素混合ガスを導入して行っ
た。酸化処理に用いるガスとしては、記録膜4の表面を
酸化する能力があればよく、上記アルゴン酸素混合ガス
の他、酸素のみからなるガスや、酸素以外のものを多数
含むガスであってもよい。
The material of the substrate 2 may be selected from plastics such as polycarbonate and epoxy resin, glass, ceramics, metals and the like. The material of the dielectric layers 3 and 5 is SiN, AlSiN, AlSiO.
N, SiO, ZnS or the like is used. The recording film 4 is formed as a lower layer 4 by sputtering a rare earth-transition metal amorphous alloy.
a and the upper layer 4b are formed in this order, and after the upper layer 4b is formed, the surface of the recording film 4 is oxidized. The reflective layer 6 may be made of Al, Au, Ag, Pt, etc., Ti, Cr, I.
One or more of n and Cu added is used.
In this example, polycarbonate was used for the substrate 2, SiN was used for the dielectric layers 3 and 5, TbFeCoCr was used for the recording film 4, and AlTi was used for the reflective layer 6. The gases used when forming the recording film 4 by sputtering are Ar and N 2 . The oxidation treatment on the surface of the recording film 4 was performed by introducing an argon / oxygen mixed gas. The gas used for the oxidation treatment may be any gas as long as it has the ability to oxidize the surface of the recording film 4, and may be a gas containing only oxygen or a gas containing a large number of substances other than oxygen, in addition to the above-described argon-oxygen mixed gas. .

【0012】上記構成のように記録膜を2層構造にする
ことの効果を調べるために、一般的な単層構造の記録膜
を有するディスク(以下、単層膜ディスク)と、本実施
例による2層構造の記録膜を有するディスク(以下、2
層膜ディスク)の記録特性の違いを比較した。単層膜デ
ィスクは、図1に示した記録膜4を下部層4aのみで構
成したものを用いた。単層膜ディスク、2層膜ディスク
ともに、記録膜4の膜厚を200オングストロームにし
た。2層膜ディスクについては、その下部層を、100
オングストローム/minの堆積速度で、膜厚が180
オングストロームになるようにスパッタ成膜し、また、
上部層を堆積速度10オングストローム/minでスパ
ッタして、20オングストロームの膜厚に成膜した。酸
化処理は、両ディスクとも記録膜の成膜後、0.2Pa
の真空度を90秒間保つように酸素ガスを導入して行っ
た。
In order to investigate the effect of making the recording film have a two-layer structure as described above, a disk having a general recording film having a single-layer structure (hereinafter referred to as a single-layer film disk) and a disk according to this embodiment are used. A disc having a recording film with a two-layer structure (hereinafter referred to as 2
The difference in the recording characteristics of the layer film disk) was compared. As the single-layer film disk, the one in which the recording film 4 shown in FIG. 1 was constituted only by the lower layer 4a was used. The recording film 4 has a film thickness of 200 angstroms for both the single-layer film disc and the double-layer film disc. For a dual-layer membrane disc, the lower layer is 100
A film thickness of 180 at a deposition rate of Angstrom / min
Sputter film formation to be Angstrom,
The upper layer was sputtered at a deposition rate of 10 Å / min to form a film having a thickness of 20 Å. Oxidation is performed by applying 0.2 Pa after forming the recording film on both disks.
Oxygen gas was introduced so as to maintain the degree of vacuum for 90 seconds.

【0013】上記の手順で作成した単層膜及び2層膜の
ディスクについて、それぞれの磁界特性を測定した結果
を図2に示す。同図において、(a)及び(c)は外部
磁界に対するCNR、(b)及び(d)は低い外部磁界
(−200〜200[Oe])の作用下でのノイズレベ
ルを示す。測定条件は、線速を7.54m/s、記録周
波数を4.93MHz、デューティを25%、記録に用
いたレーザ光のパワーを7mWとした。CNRが現れ始
める外部磁界の大きさについては、単層膜ディスクで
は、図2(a)に示すように酸化処理しなかった場合
(H01)と、酸化処理した場合(H02)とで殆ど差がな
いが、2層膜ディスクでは、図2(c)に示すように酸
化処理しなかった場合(H01)と比べて、酸化処理した
場合(H02)に、CNRが現れ始める外部磁界がゼロに
近くなっている。また、外部磁界ゼロ付近におけるCN
Rについては、単層膜ディスクでは、酸化処理による変
化が見られないが、2層膜ディスクでは、酸化処理によ
ってCNRが大きくなっている。一方、低磁界下のノイ
ズレベルについては、単層膜ディスクでは、図2(b)
に示すように僅かな変化しか見られないが、2層膜ディ
スクでは、図2(d)に示すように大幅に低減されてお
り、2層膜ディスクが、低磁界下でのノイズが小さい優
れた記録特性を有することが分かる。
FIG. 2 shows the results of measuring the magnetic field characteristics of the single-layer and double-layered discs produced by the above procedure. In the same figure, (a) and (c) show CNR with respect to an external magnetic field, (b) and (d) show the noise level under the action of a low external magnetic field (-200 to 200 [Oe]). As the measurement conditions, the linear velocity was 7.54 m / s, the recording frequency was 4.93 MHz, the duty was 25%, and the power of the laser beam used for recording was 7 mW. Regarding the magnitude of the external magnetic field at which CNR begins to appear, in the single-layer film disc, there is almost no difference between the case where no oxidation treatment is performed (H01) and the case where oxidation treatment is performed (H02), as shown in FIG. 2A. However, in the two-layer disc, the external magnetic field at which CNR begins to appear is closer to zero in the case of being oxidized (H02) as compared to the case of not being oxidized (H01) as shown in FIG. 2 (c). Has become. In addition, CN near zero external magnetic field
Regarding R, in the single-layer film disc, no change due to the oxidation treatment is observed, but in the double-layer film disc, the CNR becomes large due to the oxidation treatment. On the other hand, regarding the noise level under a low magnetic field, in the case of the single-layer film disk, the noise level in
Although a slight change is observed as shown in Fig. 2, the double-layer film disc is significantly reduced as shown in Fig. 2 (d), and the double-layer film disc is excellent in that noise in a low magnetic field is small. It can be seen that it has excellent recording characteristics.

【0014】さらに、2層膜ディスクにおいて、より望
ましい記録特性を得るための構成及び作成手順について
調べた。図3は、記録膜の上部層の厚さと磁界特性との
関係を示す特性図であり、図1に示した上部層4bの厚
さを変えた時の、CNRが現れ始める外部磁界の大きさ
H0 とノイズレベルの変化を測定したものである。記録
膜4をスパッタ成膜した時の堆積速度は、下部層4aを
100オングストローム/min、上部層4bを10オ
ングストローム/minとし、上部層4bを成膜後、記
録膜4の表面を酸化処理した。酸化処理は、上記と同様
に、記録膜4の成膜後に0.2Paの真空度を90秒間
保つように酸素ガスを導入した。磁界特性の測定条件は
上記と同等である。同図に示すように、膜厚を10乃至
30オングストロームとした時にH0 の値が小さくな
り、また、ノイズレベルも低くなっていることが分か
る。
Further, in the two-layer film disc, the structure and the procedure for producing more desirable recording characteristics were investigated. FIG. 3 is a characteristic diagram showing the relationship between the thickness of the upper layer of the recording film and the magnetic field characteristics. The magnitude of the external magnetic field at which CNR begins to appear when the thickness of the upper layer 4b shown in FIG. 1 is changed. It is a measurement of changes in H0 and noise level. The deposition rate when the recording film 4 was formed by sputtering was 100 angstrom / min for the lower layer 4a and 10 angstrom / min for the upper layer 4b. After forming the upper layer 4b, the surface of the recording film 4 was oxidized. . In the oxidation treatment, oxygen gas was introduced so that the vacuum degree of 0.2 Pa was maintained for 90 seconds after the recording film 4 was formed, as in the above. The measurement conditions for the magnetic field characteristics are the same as above. As shown in the figure, when the film thickness is set to 10 to 30 Å, the value of H0 becomes small and the noise level becomes low.

【0015】図4は、記録膜の下部層の堆積速度と磁界
特性との関係を示す特性図であり、図1に示した下部層
4aの堆積速度を変えた時の、CNRが現れ始める外部
磁界の大きさH0 とノイズレベルの変化を測定したもの
である。下部層4aの膜厚は180オングストローム/
minとし、上部層4bは、堆積速度を10オングスト
ローム/min、膜厚を20オングストロームとした。
酸化処理は、上記と同様の手順で行った。磁界特性の測
定条件は上記と同等である。同図に示すように、下部層
4aの堆積速度を上げるにつれて、H0 の値が急激に小
さくなり、100オングストローム/min以上とした
場合に、H0 が望ましい大きさになっている。一方、ノ
イズレベルについては、H0 の値とは逆に、堆積速度の
上昇に伴って、徐々にレベルが高くなっているが、その
レベルはディスクの記録特性に悪影響を及ぼす程の高さ
ではなく、また、記録膜の堆積速度をある程度速くする
方がディスクを量産化する上で望ましいことから、下部
層の堆積速度の望ましい値を100オングストローム/
min以上とした。
FIG. 4 is a characteristic diagram showing the relationship between the deposition rate of the lower layer of the recording film and the magnetic field characteristics. CNR begins to appear when the deposition rate of the lower layer 4a shown in FIG. 1 is changed. This is a measurement of changes in the magnetic field magnitude H0 and noise level. The thickness of the lower layer 4a is 180 Å /
The upper layer 4b has a deposition rate of 10 Å / min and a film thickness of 20 Å.
The oxidation treatment was performed by the same procedure as above. The measurement conditions for the magnetic field characteristics are the same as above. As shown in the figure, as the deposition rate of the lower layer 4a is increased, the value of H0 sharply decreases, and when the value is 100 angstrom / min or more, H0 becomes a desirable size. On the other hand, as for the noise level, contrary to the value of H0, the level gradually increases as the deposition rate increases, but the level is not high enough to adversely affect the recording characteristics of the disc. Also, since it is desirable to increase the deposition rate of the recording film to some extent in order to mass-produce the disc, the desirable value of the deposition rate of the lower layer is 100 angstroms /
It was set to min or more.

【0016】図5は、記録膜の上部層の堆積速度と磁界
特性との関係について説明する。図1に示した上部層4
bの堆積速度を変えた時の、CNRが現れ始める外部磁
界の大きさH0 と、ノイズレベルの変化を示す特性図で
ある。下部層4aは、120オングストローム/min
の堆積速度でスパッタし、その膜厚を180オングスト
ローム/minとした。上部層4bの膜厚は20オング
ストロームとした。記録膜4表面の酸化処理は、上記と
同様の手順で行った。また、磁界特性の測定条件は上記
と同等である。同図に示すように、上部層4bの堆積速
度が15オングストローム/min以下の時は、H0 の
値が小さいが、15オングストローム/minを超える
と、H0 の値が急激に大きくなる。一方、ノイズレベル
についても、15オングストローム/min以下では、
望ましい低レベルであるが、堆積速度を上昇させるに従
ってレベルが高くなり、20オングストローム/min
を超えると急激に高くなっている。これにより、上部層
の堆積速度の望ましい値を15オングストローム/mi
n以下とした。
FIG. 5 illustrates the relationship between the deposition rate of the upper layer of the recording film and the magnetic field characteristics. Upper layer 4 shown in FIG.
It is a characteristic view which shows the magnitude | size H0 of the external magnetic field which CNR begins to appear, and the change of a noise level when the deposition rate of b is changed. The lower layer 4a is 120 angstrom / min
Was sputtered at a deposition rate of 180 .ANG. / Min. The film thickness of the upper layer 4b was 20 angstrom. The surface of the recording film 4 was oxidized by the same procedure as above. The measurement conditions of the magnetic field characteristics are the same as above. As shown in the figure, when the deposition rate of the upper layer 4b is 15 angstroms / min or less, the value of H0 is small, but when it exceeds 15 angstroms / min, the value of H0 rapidly increases. On the other hand, as for the noise level, below 15 Å / min,
It is a desirable low level, but as the deposition rate increases, the level increases, and it is 20 Å / min.
When it exceeds, it is getting higher rapidly. This gives a desirable value for the top layer deposition rate of 15 Å / mi.
It was set to n or less.

【0017】上記図2乃至図5に示したように、記録膜
表面を酸化処理する効果を高め、望ましい記録特性を得
るためには、構成や作成手順において以下の条件が必要
である。(1)記録膜を2層構造にし、1層目である下
部層と、2層目である上部層とを、それぞれ条件を変え
て形成する。(2)上部層の膜厚を10乃至30オング
ストロームとする。(3)下部層の堆積速度を100オ
ングストローム/min以上とする。(4)上部層の堆
積速度を15オングストローム/min以下とする。
As shown in FIGS. 2 to 5, in order to enhance the effect of oxidizing the surface of the recording film and obtain desired recording characteristics, the following conditions are required in the structure and the production procedure. (1) The recording film has a two-layer structure, and the lower layer which is the first layer and the upper layer which is the second layer are formed under different conditions. (2) The film thickness of the upper layer is 10 to 30 Å. (3) The deposition rate of the lower layer is 100 Å / min or more. (4) The deposition rate of the upper layer is set to 15 Å / min or less.

【0018】以上、本発明の一実施例について説明した
が、上記構成に限られるものではなく、様々な変形が可
能である。例えば、図1に示した記録膜4の構成につい
て、上記実施例では、成膜時の条件を異ならせた下部層
4aと上部層4bとからなる2層構造としたが、下層の
誘電体層3に接する側と上層の誘電体層5に接する側と
を、それぞれ所定の構成にできるのであれば、製造する
光磁気記録媒体の目的や用途、製造環境などに応じて積
層数を増加させてもよい。また、図1に示したディスク
1は、基板2上に、第1の誘電体層3、記録膜4、第2
の誘電体層5、及び反射層6の順で積層したが、これ
は、光磁気ディスクの一般例に基づいた構成であり、本
発明は、上記とは逆に、基板2上に、反射層6、第2の
誘電体層5、記録膜4、第1の誘電体層3の順で積層す
るものも含まれる。さらには、上記実施例では反射層を
有する光磁気ディスクを例にしたが、反射層を形成しな
い構成であってもよい。
Although one embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above-mentioned configuration, and various modifications can be made. For example, with respect to the structure of the recording film 4 shown in FIG. 1, in the above-described embodiment, the two-layer structure including the lower layer 4a and the upper layer 4b, which are different in film forming conditions, is used. If the side in contact with 3 and the side in contact with the upper dielectric layer 5 can each have a predetermined configuration, increase the number of layers according to the purpose and application of the magneto-optical recording medium to be manufactured, the manufacturing environment, etc. Good. In addition, the disc 1 shown in FIG. 1 includes a first dielectric layer 3, a recording film 4, and a second dielectric layer on a substrate 2.
The dielectric layer 5 and the reflective layer 6 are laminated in this order, but this is a structure based on a general example of a magneto-optical disk. 6, the second dielectric layer 5, the recording film 4, and the first dielectric layer 3 are laminated in this order. Further, although the magneto-optical disk having the reflective layer is taken as an example in the above-mentioned embodiment, the structure without the reflective layer may be adopted.

【0019】なお、本発明は、例示した光磁気ディスク
のみならず、他の光磁気記録媒体にも広く適用されるも
のであり、極めて容易に実施でき、従来より用いていた
製造設備などの大部分を活用できる。さらには、光磁気
記録媒体の記録特性を向上させることを目的とした他の
製造方法との併用を図ることも可能である。
The present invention can be widely applied not only to the illustrated magneto-optical disk but also to other magneto-optical recording media, can be carried out extremely easily, and requires a large amount of manufacturing equipment conventionally used. You can utilize the part. Furthermore, it can be used in combination with other manufacturing methods for the purpose of improving the recording characteristics of the magneto-optical recording medium.

【0020】[0020]

【発明の効果】以上のように本発明の製造方法では、記
録膜を所定の積層構造にし、その表面を酸化処理するの
で、小さな外部磁界の作用下で記録・消去動作が可能
な、磁界変調方式に対して望ましい特性を有する記録媒
体を作製することができる。また、本発明は極めて容易
に実施でき、手順も簡素なので量産化に応じることが可
能であり、従来より用いていた製造設備などを有効に利
用することもできる。一方、本発明の製造方法によって
作製された光磁気記録媒体を用いて情報を記録もしくは
消去する際には、その装置に大型の磁気ヘッドを備える
必要がなくなり、装置の小型化及び軽量化が図れ、さら
には、必要な外部磁界が小さくてすむことから、磁界変
調における処理の高速化も実現する。
As described above, according to the manufacturing method of the present invention, since the recording film has a predetermined laminated structure and the surface thereof is oxidized, the recording / erasing operation can be performed under the action of a small external magnetic field. It is possible to produce a recording medium having desirable characteristics for the system. Further, the present invention can be carried out very easily, and the procedure is simple, so that it is possible to respond to mass production, and it is possible to effectively utilize the manufacturing equipment and the like which has been conventionally used. On the other hand, when recording or erasing information using the magneto-optical recording medium manufactured by the manufacturing method of the present invention, it is not necessary to equip the device with a large magnetic head, and the size and weight of the device can be reduced. Moreover, since the required external magnetic field is small, the processing speed in magnetic field modulation can be increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例による光磁気ディスクの断面
構成図である。
FIG. 1 is a cross-sectional configuration diagram of a magneto-optical disk according to an embodiment of the present invention.

【図2】一般的な単層膜ディスクと、本発明の一実施例
による2層膜ディスクについて、酸化処理したときの磁
界特性の変化を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing changes in magnetic field characteristics of a general single-layer film disk and a dual-layer film disk according to an example of the present invention when subjected to an oxidation treatment.

【図3】本発明の一実施例による2層膜ディスクについ
て、上部層の厚さを変えた時の、CNRとノイズレベル
の変化を示す特性図である。
FIG. 3 is a characteristic diagram showing changes in CNR and noise level when the thickness of the upper layer is changed in the two-layer film disk according to the embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施例による2層膜ディスクについ
て、下部層の堆積速度を変えた時の、CNRとノイズレ
ベルの変化を示す特性図である。
FIG. 4 is a characteristic diagram showing changes in CNR and noise level when a deposition rate of a lower layer is changed in a two-layer film disk according to an example of the present invention.

【図5】本発明の一実施例による2層膜ディスクについ
て、上部層の堆積速度を変えた時の、CNRとノイズレ
ベルの変化を示す特性図である。
FIG. 5 is a characteristic diagram showing changes in CNR and noise level when a deposition rate of an upper layer is changed in a two-layer film disk according to an example of the present invention.

【図6】一般的な光磁気記録媒体の磁界感度特性図であ
る。
FIG. 6 is a magnetic field sensitivity characteristic diagram of a general magneto-optical recording medium.

【図7】書き込み時の垂直磁化膜における外部磁界と反
磁界を示す説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing an external magnetic field and a demagnetizing field in the perpendicular magnetization film at the time of writing.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光磁気ディスク 2 基板(ポリカーボネイト) 3 下層の誘電体層(SiN) 4 記録膜(TbFeCoCr) 4a 記録膜下部層 4b 記録膜上部層 5 上層の誘電体層(SiN) 6 反射層(AlTi) 1 Magneto-Optical Disk 2 Substrate (Polycarbonate) 3 Lower Dielectric Layer (SiN) 4 Recording Film (TbFeCoCr) 4a Lower Recording Film Layer 4b Upper Recording Film Layer 5 Upper Dielectric Layer (SiN) 6 Reflective Layer (AlTi)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に、下層の誘電体層、希土類−遷
移金属アモルファス合金からなる記録膜、及び上層の誘
電体層を順次積層する光磁気記録媒体の製造方法におい
て、 前記記録膜を、前記下層の誘電体層に接する側では10
0オングストローム/min以上の堆積速度で成膜し、
前記上層の誘電体層に接する側では、堆積速度が15オ
ングストローム/min以下で、10乃至30オングス
トロームの厚さに成膜し、前記記録膜の表面を酸化処理
することを特徴とした光磁気記録媒体の製造方法。
1. A method of manufacturing a magneto-optical recording medium, comprising: a lower dielectric layer, a recording film made of a rare earth-transition metal amorphous alloy, and an upper dielectric layer, which are sequentially laminated on a substrate. 10 on the side in contact with the lower dielectric layer
The film is formed at a deposition rate of 0 angstrom / min or more,
Magneto-optical recording, characterized in that a film having a deposition rate of 15 Å / min or less and a thickness of 10 to 30 Å is formed on the side of the upper dielectric layer in contact with the surface of the recording film. Medium manufacturing method.
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