JPH06125029A - Lead frame for semiconductor device, resin sealed type semiconductor device, and manufacture of resin sealed type semiconductor device - Google Patents
Lead frame for semiconductor device, resin sealed type semiconductor device, and manufacture of resin sealed type semiconductor deviceInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置用リ−ドフレ
−ムの構造およびこれを利用した樹脂封止型半導体装置
に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a structure of a lead frame for a semiconductor device and a resin-sealed semiconductor device using the structure.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体装置のリ−ドを形成するために用
いられるリ−ドフレ−ム5は、通常図2に示すように、
フレ−ム50に取付けられたリ−ド51及びつりピン5
2とつりピンに支持されている半導体チップ載置用ベッ
ド(以下、ベッドという)53とを備えている。リ−ド
フレ−ムは、通常圧延などによって形成したCuや42
アロイ(Fe−42Ni合金)などを材料とする金属箔
をエッチングや打抜き法などで整形して得られる。この
リ−ドフレ−ムを用いて図1に示す樹脂封止型半導体装
置を形成するには、まず、集積回路などが形成された半
導体チップ1をエポキシ樹脂などのマウント剤4でリ−
ドフレ−ム5のベッド53に固定する。半導体チップ1
の主面には半導体チップ内の前記集積回路と電気的に接
続されたパッド電極などの電極(図示せず)が形成され
ており、この電極以外は、絶縁保護膜(図示せず)によ
って被覆保護されている。タイバ−50に取付けられて
いる複数のリ−ド51の先端は、それぞれ半導体チップ
1の電極に向い合っている。このリ−ド先端と電極とは
アルミや金などを材料とするボンディングワイヤ2によ
って電気的に接続されている。つぎに、半導体チップ1
をエポキシ樹脂などを含む樹脂封止体3で被覆する。半
導体チップ1の電極と接続しているリ−ド51の先端部
分も当然樹脂封止体3によって覆われている。樹脂封止
を施してからリ−ドフレ−ム5の不要部を除去し、リ−
ド51の樹脂封止体3の外部に露出している部分を実装
し易いような形に整形する。2. Description of the Related Art A lead frame 5 used for forming a lead of a semiconductor device is generally shown in FIG.
Lead 51 and hanging pin 5 attached to frame 50
2 and a semiconductor chip mounting bed (hereinafter, referred to as bed) 53 supported by the fishing pins. The lead frame is usually made of Cu or 42 formed by rolling or the like.
It is obtained by shaping a metal foil made of an alloy (Fe-42Ni alloy) or the like by etching, punching or the like. In order to form the resin-sealed semiconductor device shown in FIG. 1 by using this lead frame, first, the semiconductor chip 1 on which an integrated circuit or the like is formed is remounted with a mount agent 4 such as epoxy resin.
It is fixed to the bed 53 of the dframe 5. Semiconductor chip 1
An electrode (not shown) such as a pad electrode electrically connected to the integrated circuit in the semiconductor chip is formed on the main surface of the semiconductor chip, and the other electrodes are covered with an insulating protective film (not shown). Protected. The tips of the leads 51 attached to the tie bar 50 face the electrodes of the semiconductor chip 1, respectively. The lead tip and the electrode are electrically connected by a bonding wire 2 made of aluminum or gold. Next, the semiconductor chip 1
Is covered with a resin sealing body 3 containing an epoxy resin or the like. The tip portion of the lead 51 connected to the electrode of the semiconductor chip 1 is naturally covered with the resin sealing body 3. After sealing with resin, remove unnecessary parts of the lead frame 5 and
The portion of the terminal 51 exposed to the outside of the resin encapsulation body 3 is shaped so as to be easily mounted.
【0003】近年、樹脂封止型の半導体装置の分野にお
いては、半導体装置の高集積化に伴って、素子上の各種
機能単位の微細化や素子自体の大型化が急速に進んでい
る。また、ASIC(Application Specific IC)といわ
れるゲートアレイやスタンダードセル方式LSIに代表
される表面実装型パッケージが急速に進展している。こ
れら表面実装型パッケージを回路基板などに実装する際
には、ベーパーフェーズリフロー、赤外線リフロー、半
田浸漬などの工程が採用されている。これらの工程で
は、パッケージが215〜260℃に達する高温にさら
される。In recent years, in the field of resin-encapsulated semiconductor devices, miniaturization of various functional units on the elements and enlargement of the elements themselves have been rapidly progressing with the high integration of the semiconductor devices. In addition, surface mount packages represented by gate arrays called ASICs (Application Specific ICs) and standard cell type LSIs are rapidly advancing. When mounting these surface mount type packages on a circuit board or the like, steps such as vapor phase reflow, infrared reflow, and solder dipping are adopted. In these steps, the package is exposed to high temperatures up to 215-260 ° C.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】そのため、半導体装置
を回路基板などに実装する場合において、エポキシ樹脂
などで封止した樹脂封止型半導体装置ではこの樹脂を透
過して内部に侵入した微量の水分が急激に気化し、樹脂
封止体にクラックが入る。このクラックが外部にまで達
すると、対湿信頼性が保証できなくなる。また、樹脂の
膨れが生じて実装できないという現象も発生する。さら
に、アルミニウムなどの配線のパッシベーション膜とし
て用いられているPSG(リンケイ酸ガラス)やSiN
(窒化ケイ素)にクラックが生じたり、パッシベーショ
ンポリイミド膜が剥離したり、また金などのボンディン
グワイヤの断線が生ずるなどの問題が多発する。このよ
う問題を解決するために、(1)封止樹脂内の半導体チ
ップなどの封止物に対する応力を小さくし、かつ封止樹
脂と半導体チップ上のPSG、SiN、ポリイミド膜及
びリードフレームとの密着性を上げる、(2)実装温度
に対応した高い高温強度及び吸湿高温強度を付与し、か
つ、吸湿量を低減するなどの要求が、とくに、大型パッ
ケージ用の封止樹脂を中心として高まってきている。Therefore, when a semiconductor device is mounted on a circuit board or the like, in a resin-sealed semiconductor device sealed with an epoxy resin or the like, a small amount of moisture that penetrates through the resin and enters the inside. Rapidly evaporates and cracks occur in the resin encapsulant. When this crack reaches the outside, the reliability against humidity cannot be guaranteed. In addition, the phenomenon that the resin cannot be mounted due to the bulging of the resin occurs. Further, PSG (phosphosilicate glass) or SiN used as a passivation film for wiring such as aluminum.
There are many problems such as cracks in (silicon nitride), peeling of the passivation polyimide film, and breaking of bonding wires such as gold. In order to solve such a problem, (1) the stress on the sealing material such as the semiconductor chip in the sealing resin is reduced, and the sealing resin and the PSG, SiN, the polyimide film and the lead frame on the semiconductor chip are Demands for increasing adhesion, (2) providing high-temperature strength and moisture-absorption high-temperature strength corresponding to the mounting temperature, and reducing the amount of moisture absorption are increasing, especially for sealing resins for large packages. ing.
【0005】これらの観点から、封止樹脂としては例え
ばマレイミド樹脂系をはじめ、PPS(ポリフェニレン
スルフィド)系樹脂やPPO(ポリヒドロキシフェニレ
ンエーテル)系樹脂、また液晶ポリマーの実用化が検討
されている。さらに、最近では、マレイミド樹脂とエポ
キシ樹脂とを組合わせた樹脂、またはビスマレイミド樹
脂と4.4−ジアミノジフェニルメタンとを組み合わせ
たアミノビスマレイミド樹脂が封止樹脂として提案され
ている。一方、実装する際の問題点をパッケージ構造で
改良した樹脂封止型半導体装置(例えば特開昭60-20884
7 号公報参照)が提案されている。この半導体装置は、
ダイパッドの下側のモールド樹脂(封止樹脂)部に円柱
または多角形状の穴を設けて極度に肉厚の薄い部分また
はモールド樹脂がない部分を形成し、実装時のパッケ−
ジの加熱に際してモールド樹脂内部の水分の蒸発によっ
て発生するガスを前述した極度に薄くした部分などから
逃散させる構造になっている。また、トランスファーモ
ールド系半導体装置の製造方法からパッケージ表面に金
属性被履層を形成する方法なども提案されている。しか
しながら、いずれの樹脂封止型半導体装置も生産性及び
対湿信頼性の点から十分に満足するものではなかった。From these viewpoints, for example, maleimide resin-based, PPS (polyphenylene sulfide) -based resin, PPO (polyhydroxyphenylene ether) -based resin, and liquid crystal polymers are being put into practical use as sealing resins. Furthermore, recently, a resin in which a maleimide resin and an epoxy resin are combined, or an aminobismaleimide resin in which a bismaleimide resin and 4.4-diaminodiphenylmethane are combined has been proposed as a sealing resin. On the other hand, a resin-encapsulated semiconductor device in which a problem in mounting is improved by a package structure (for example, JP-A-60-20884).
No. 7) is proposed. This semiconductor device
A cylindrical or polygonal hole is formed in the mold resin (sealing resin) under the die pad to form an extremely thin portion or a portion without the molding resin, and the package for mounting
It has a structure in which the gas generated by the evaporation of the water inside the mold resin when the resin is heated escapes from the above-mentioned extremely thin portion. In addition, a method of forming a metallic covering layer on the surface of the package has been proposed from a method of manufacturing a transfer mold semiconductor device. However, none of the resin-encapsulated semiconductor devices has been sufficiently satisfactory in terms of productivity and reliability against humidity.
【0006】さらにまた、上記の実装時の問題点を軽減
し、封止樹脂の影響によるアルミニウム配線のずれや断
線を防止するために、中空型プラスチックパッケージな
どが提案されているが、製造性及び低湿信頼性の点から
十分なものではなかった。本発明は、この様な事情によ
って成されたものであり、実装時の熱の影響による封止
樹脂の破損を解消するために、リードフレームが封止樹
脂との密着性に優れ、しかも実装時に発生する水蒸気の
排出効果に優れた高信頼性を付与する樹脂封止型半導体
装置を提供することを目的としている。また、本発明
は、今後さらに加速する大型素子パッケージ、薄型パッ
ケージへ充分対応可能なリードフレームの提供を目的と
するものである。Furthermore, in order to alleviate the above-mentioned problems at the time of mounting and prevent the displacement and disconnection of the aluminum wiring due to the influence of the sealing resin, a hollow plastic package or the like has been proposed. It was not sufficient in terms of low humidity reliability. The present invention has been made under such circumstances, and in order to eliminate damage to the sealing resin due to the influence of heat during mounting, the lead frame has excellent adhesion to the sealing resin, and at the time of mounting An object of the present invention is to provide a resin-encapsulated semiconductor device that is highly effective in discharging the generated water vapor and has high reliability. It is another object of the present invention to provide a lead frame that can be sufficiently applied to large-sized device packages and thin-type packages that will be accelerated in the future.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明は、少なくとも一
部は多孔性金属焼結体から形成された半導体装置用リー
ドフレームを用いることを特徴としている。すなわち、
本発明の半導体装置用リードフレームは、半導体チップ
載置用ベッド、この半導体チップ載置用ベッドを支持す
るつりピン及びリ−ドを備え、外部に導出した少なくと
も1つの空孔を内部に有する多孔性金属焼結体からなる
ことを第1の特徴とし、半導体チップ載置用ベッド、こ
の半導体チップ載置用ベッドを支持するつりピン及びリ
−ドを備え、外部に導出した少なくとも1つの空孔を内
部に有する多孔性金属焼結体を少なくとも前記半導体チ
ップ載置用ベッド又は前記つりピンもしくはその両者に
取付けることを第2の特徴としている。前記多孔性金属
焼結体の表面部分は密に形成され、その内部部分は疎に
形成することが可能である。The present invention is characterized by using a lead frame for a semiconductor device, at least a part of which is formed of a porous metal sintered body. That is,
A lead frame for a semiconductor device of the present invention comprises a bed for mounting a semiconductor chip, a hanging pin and a lead for supporting the bed for mounting a semiconductor chip, and a porous body having at least one hole led out to the outside. The first feature is that it is made of a porous metal sintered body, and a semiconductor chip mounting bed, a hanging pin and a lead for supporting the semiconductor chip mounting bed, and at least one hole led to the outside are provided. The second feature is that the porous metal sintered body having the inside is attached to at least the semiconductor chip mounting bed, the hanging pin, or both. The surface portion of the porous metal sintered body may be densely formed and the inner portion thereof may be sparsely formed.
【0008】本発明の樹脂封止型半導体装置は、半導体
チップ載置用ベッドと、前記半導体チップ載置用ベッド
の上に取付けた半導体チップと、前記半導体チップの主
面上に形成された電極と、一端が前記電極に近接してこ
の電極と電気的に接続されており、他端が前記半導体チ
ップの外方に延在しているリ−ドと、前記半導体チップ
載置用ベッド、前記半導体チップ及び前記リ−ドの前記
他端を除いた部分を被覆する樹脂封止体とを備え、前記
リ−ド又は前記半導体チップ載置用ベッドもしくはその
双方は外部に導出した少なくとも1つの空孔を内部に有
する多孔性金属焼結体からなることを第1の特徴として
いる。また、半導体チップ載置用ベッドと、前記半導体
チップ載置用ベッドの上に取付けた半導体チップと、前
記半導体チップの主面上に形成された電極と、一端が前
記電極に近接してこの電極と電気的に接続されており、
他端が前記半導体チップの外方に延在しているリ−ド
と、前記半導体チップ載置用ベッド、前記半導体チップ
及び前記リ−ドの前記他端を除いた部分を被覆する樹脂
封止体とを備え、少なくとも前記リ−ド又は前記半導体
チップ載置用ベッドの前記半導体チップが載置されてい
る面と反対の面もしくはその双方には、外部に導出した
少なくとも1つの空孔を内部に有する多孔性金属焼結体
が取付けられていることを第2の特徴としている。The resin-encapsulated semiconductor device of the present invention comprises a semiconductor chip mounting bed, a semiconductor chip mounted on the semiconductor chip mounting bed, and electrodes formed on the main surface of the semiconductor chip. A lead having one end adjacent to the electrode and electrically connected to the electrode and the other end extending to the outside of the semiconductor chip; the semiconductor chip mounting bed; A semiconductor chip and a resin encapsulant that covers a portion of the lead excluding the other end, and the lead, the semiconductor chip mounting bed, or both are at least one empty space led to the outside. The first feature is that it is made of a porous metal sintered body having holes inside. Also, a semiconductor chip mounting bed, a semiconductor chip mounted on the semiconductor chip mounting bed, an electrode formed on the main surface of the semiconductor chip, and one end of the electrode being close to the electrode. Is electrically connected to
A lead having the other end extending to the outside of the semiconductor chip, and a resin encapsulation that covers the semiconductor chip mounting bed, the semiconductor chip and a portion of the lead excluding the other end. A body, and at least one hole that is led to the outside is provided on at least the surface of the lead or the surface of the semiconductor chip mounting bed opposite to the surface on which the semiconductor chips are mounted. The second characteristic is that the porous metal sintered body of the above is attached.
【0009】前記半導体チップ載置用ベッドは、このベ
ッドと連続的に繋がり前記樹脂封止体の外へ延在してい
るつりピンを有しており、前記半導体チップ載置用ベッ
ドと前記つりピンには、前記多孔性金属焼結体が取付け
られることができる。前記半導体チップ載置用ベッド部
分の前記多孔性金属焼結体の表面部分と内部部分とは疎
に形成され、また、前記つりピン部分の多孔性金属焼結
体の内部部分は疎に形成され、かつ、表面部分は密に形
成されることができる。半導体チップ載置用ベッドと、
前記半導体チップ載置用ベッドの上に取付けた半導体チ
ップと、前記半導体チップの主面上に形成された電極
と、一端が前記電極に近接してこの電極と電気的に接続
されており、他端が前記半導体チップの外方に延在して
いるリ−ドと、前記半導体チップ載置用ベッド、前記半
導体チップ及び前記リ−ドの前記他端を除いた部分を被
覆する樹脂封止体と、前記半導体チップ載置用ベッドの
前記半導体チップが載置されている面とは反対の面に取
付けられ、前記樹脂封止体から部分的に露出している放
熱板とを備えており、前記放熱板は、外部に導出した少
なくとも1つの空孔を内部に有する多孔性金属焼結体か
らなることを第3の特徴としている。前記多孔性金属焼
結体は、熱可塑性樹脂によって含浸され、被覆されるこ
とができる。The semiconductor chip mounting bed has a suspending pin which is continuously connected to the bed and extends to the outside of the resin sealing body. The porous metal sintered body may be attached to the pin. The surface portion and the inner portion of the porous metal sintered body of the bed for mounting the semiconductor chip are formed sparsely, and the inner portion of the porous metal sintered body of the hanging pin portion is formed sparsely. And, the surface portion can be densely formed. A bed for mounting semiconductor chips,
A semiconductor chip mounted on the bed for mounting the semiconductor chip, an electrode formed on the main surface of the semiconductor chip, one end thereof being close to the electrode and electrically connected to the electrode, A lead having an end extending to the outside of the semiconductor chip, a semiconductor chip mounting bed, a resin encapsulant that covers the semiconductor chip and a portion of the lead excluding the other end. And a heat sink attached to a surface of the semiconductor chip mounting bed opposite to the surface on which the semiconductor chips are mounted, and partially exposed from the resin sealing body, A third feature is that the heat dissipation plate is made of a porous metal sintered body having at least one hole led out to the outside. The porous metal sintered body may be impregnated and coated with a thermoplastic resin.
【0010】さらに、本発明の樹脂封止型半導体装置の
製造方法は、多孔性金属焼結体の薄板に樹脂を含浸させ
る工程と、前記多孔性金属焼結体薄板をエッチング液に
よってエッチング加工してリ−ドフレ−ムを形成する工
程と、前記リ−ドフレ−ムに含浸している前記樹脂を除
去する工程と、前記リ−ドフレ−ムに半導体チップを取
付ける工程と、前記リ−ドフレ−ムのリ−ド先端と前記
半導体チップ上の電極とをボンディングワイヤで接続す
る工程と、前記半導体チップ、前記リ−ドフレ−ムのリ
−ドの一部及び前記ボンディングワイヤを樹脂封止体で
被覆する工程とを備えていることを特徴としている。Further, the method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device of the present invention comprises a step of impregnating a thin plate of a porous metal sintered body with a resin, and an etching process of the porous metal sintered body thin plate with an etching solution. To form a lead frame, removing the resin impregnated in the lead frame, attaching a semiconductor chip to the lead frame, and the lead frame. A step of connecting the lead end of the frame and the electrode on the semiconductor chip with a bonding wire, and the semiconductor chip, a part of the lead of the lead frame and the bonding wire with a resin sealing body. And a coating step.
【0011】[0011]
【作用】リ−ドフレ−ムに多孔性金属焼結体を用いるこ
とによりこれを用いた樹脂封止型半導体装置を回路基板
等に実装する際に発生する水蒸気排出効果が向上する。
また、そのリ−ドフレ−ムに熱可塑性樹脂を含浸すると
耐湿性が向上する。By using the porous metal sintered body for the lead frame, the effect of discharging water vapor generated when the resin-sealed semiconductor device using the porous metal sintered body is mounted on a circuit board or the like is improved.
Further, when the lead frame is impregnated with a thermoplastic resin, the moisture resistance is improved.
【0012】[0012]
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。まず、図1乃至図3を参照して本発明の第1の実
施例を説明する。図1は、樹脂封止型半導体装置の断面
図であり、構造的には前述の従来例と同じである。即
ち、集積回路などが形成されたシリコン基板などの半導
体チップ1をエポキシ樹脂などのマウント剤4でリ−ド
フレ−ム5のベッド53に固定する。半導体チップ1の
主面には半導体チップ内の前記集積回路と電気的に接続
されたパッド電極などの電極(図示せず)が形成されて
おり、この電極以外は、SiO2 などの絶縁保護膜(図
示せず)によって被覆保護されている。リ−ド51の先
端はそれぞれ半導体チップ1の電極に向い合っている。
このリ−ド先端と電極とはアルミや金などを材料とする
ボンディングワイヤ2によって電気的に接続されてい
る。半導体チップ1は、エポキシ樹脂などを含む樹脂封
止体3で被覆される。半導体チップ1の電極と接続して
いるリ−ド51の先端部分も当然樹脂封止体3によって
覆われている。この実施例に用いる封止樹脂は、エポキ
シ樹脂(マレイミド樹脂を含有させることもできる)を
用いている。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. First, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a cross-sectional view of a resin-sealed semiconductor device, which is structurally the same as the above-mentioned conventional example. That is, a semiconductor chip 1 such as a silicon substrate on which an integrated circuit or the like is formed is fixed to a bed 53 of a lead frame 5 with a mount material 4 such as epoxy resin. Electrodes (not shown) such as pad electrodes electrically connected to the integrated circuit in the semiconductor chip are formed on the main surface of the semiconductor chip 1. Other than this electrode, an insulating protective film such as SiO 2 is formed. It is covered and protected by (not shown). The tips of the leads 51 face the electrodes of the semiconductor chip 1, respectively.
The lead tip and the electrode are electrically connected by a bonding wire 2 made of aluminum or gold. The semiconductor chip 1 is covered with a resin sealing body 3 containing an epoxy resin or the like. The tip portion of the lead 51 connected to the electrode of the semiconductor chip 1 is naturally covered with the resin sealing body 3. The sealing resin used in this example is an epoxy resin (which may contain a maleimide resin).
【0013】この樹脂封止体の材料としては、この他
に、マレイミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド(P
PS)系樹脂、ポリヒドロキシフェニレンエ−テル(P
PO)系樹脂、液晶ポリマ−、アミノビスマレイミド樹
脂等がある。この樹脂封止型半導体装置において、図2
に示すリ−ドフレ−ム5を利用し、リ−ド51とベッド
53にはこれを用いる。図は、DIP(Dual In-Line P
ackage) タイプの半導体装置に適用されるリ−ドフレ−
ムの平面図を示している。リ−ドフレ−ム5は、厚さが
150〜200μm程度であり、タイバ−50に支持さ
れたリ−ド51及びつりピン52とつりピンに支持され
ている半導体チップ載置用ベッド(以下、ベッドとい
う)53とを備えている。この実施例では、このリ−ド
フレ−ム5に外部に導出した少なくとも1つの空孔を内
部に有する多孔性金属焼結体を用いたことに特徴があ
る。この多孔性金属焼結体のリ−ドフレ−ムは、金属粉
末を加圧成型し、これを焼結してなるもので、焼結体内
部は、外部に導出した複数の空孔を有する多孔質状であ
る。材料の金属粉末は、導電性のものなら何を用いても
よく、とくに耐腐食性に優れたものが好ましい。In addition to the above materials, maleimide resin and polyphenylene sulfide (P
PS) resin, polyhydroxyphenylene ether (P
PO) -based resins, liquid crystal polymers, amino bismaleimide resins and the like. In this resin-sealed semiconductor device, as shown in FIG.
The lead frame 5 shown in FIG. 2 is used, and the lead frame 5 and the bed 53 are used. The figure shows DIP (Dual In-Line P
ackage) type semiconductor device
A top view of the camera is shown. The lead frame 5 has a thickness of about 150 to 200 μm, and the lead 51 and the hanging pin 52 supported by the tie bar 50 and the semiconductor chip mounting bed (hereinafter, referred to as a supporting pin) supported by the hanging pin. 53). This embodiment is characterized in that the lead frame 5 is made of a porous metal sintered body having at least one hole led to the outside inside. The lead frame of this porous metal sintered body is obtained by press-molding metal powder and sintering this, and the inside of the sintered body is a porous body having a plurality of pores led to the outside. It is qualitative. Any metal powder may be used as the metal powder as long as it is conductive, and one having excellent corrosion resistance is particularly preferable.
【0014】その具体例としてはFe、Cu、Ni、S
n、Zn、Alなどがあり、さらにこれらの合金があげ
られる。一般にフレーム材に使用されている42アロイ
や銅系合金などを使用することができる。これらの多孔
性金属焼結体のリードフレームの製造方法としては金型
による打抜き加工やエッチング加工により作ることがで
きるが、加工により内部及び表面に空孔が形成されてい
ることが必要であり、エッチングの場合、強酸などを含
むエッチング液が空孔より染み込んで内部深くオ−バ−
エッチングすることを押えるため、エッチング前に空孔
を樹脂で塞いだ状態で加工する方法などを用いるのが有
利である。樹脂は表面層を含浸する程度で良い。前述し
た空孔を塞いだ樹脂は溶媒で煮沸処理によって、完全に
除去することができ、最終加工品は、完全な多孔質状態
にすることが必要である。また、放電加工、エッチン
グ、研磨などにより表面を多孔質に形成することもでき
る。本発明の半導体装置用リードフレームは、実装時に
パッケージ全体が急速に高温にさらされたとき、吸湿し
た内部の水分気化に伴って発生した蒸気圧をリードフレ
ーム内の空孔から逃がす役目をするために空孔が内部で
連結していることが必要である。Specific examples thereof are Fe, Cu, Ni and S.
n, Zn, Al, and the like, and alloys of these. For example, 42 alloy or copper alloy which is generally used as a frame material can be used. As a method for manufacturing the lead frame of these porous metal sintered bodies, it is possible to make it by punching or etching with a mold, but it is necessary that holes are formed inside and on the surface by the processing, In the case of etching, the etching solution containing a strong acid, etc. permeates through the holes and deeply overruns inside.
In order to suppress the etching, it is advantageous to use a method in which the holes are filled with resin before the etching. The resin only needs to impregnate the surface layer. The resin which has closed the pores can be completely removed by boiling with a solvent, and the final processed product needs to be in a completely porous state. Further, the surface can be made porous by electric discharge machining, etching, polishing or the like. The lead frame for a semiconductor device of the present invention serves to release the vapor pressure generated due to vaporization of moisture inside the absorbed moisture from the holes in the lead frame when the entire package is rapidly exposed to high temperature during mounting. It is necessary that the holes are internally connected.
【0015】図3は、図1のA領域の拡大断面図であ
る。この図は、リ−ドフレ−ムのリ−ド51の内部構造
を示したものであり、樹脂封止体3に埋設している部分
とそこから露出している部分の境界領域を表示してい
る。金属粉末は比較的平均した粒子を用いる。焼結によ
って粒子間は部分的に融着し、部分的に粒子間に空孔が
でき、この空孔が連続的に繋がって表面に露出してい
る。完成した樹脂封止型半導体装置を回路基板などに実
装するときに発生する高温によって吸湿した樹脂封止体
3内部の水分が気化し、その水蒸気がリ−ド51内の空
孔を通して外部に排出される。この水蒸気は、リ−ド5
1からのみ排出されるのではなく、例えば、図1には図
示されていないベッド53を支持するつりピンからも、
ベッド53を介して外部へ排出される。FIG. 3 is an enlarged sectional view of the area A in FIG. This figure shows the internal structure of the lead 51 of the lead frame, showing the boundary area between the part embedded in the resin encapsulant 3 and the part exposed from it. There is. The metal powder uses relatively averaged particles. The particles are partially fused by sintering, and voids are partially formed between the particles, and these voids are continuously connected and exposed on the surface. The moisture inside the resin encapsulation body 3 absorbed by the high temperature generated when the completed resin encapsulation type semiconductor device is mounted on a circuit board is vaporized, and the water vapor is discharged to the outside through the holes in the lead 51. To be done. This water vapor is lead 5
1 is not discharged only from, for example, a hanging pin that supports the bed 53 not shown in FIG.
It is discharged to the outside through the bed 53.
【0016】以下、この実施例に置ける3つのサンプル
を示す。42アロイ金属粉末を用いた多孔性金属焼結体
のリードフレームの作成を行った。多孔質金属粉末の平
均空孔径は7μm、空孔率70%である。この金属粉末
を150μm厚の薄板に加工し、表面層部分の空孔にメ
チルメタアクリレート樹脂を充填し、エッチングにより
QFP(Quad Flat Package)タイプの184ピンリード
フレームを作成する。次いで、空孔に充填したメチルメ
タアクリレートを溶媒で溶かしてから15mm平方テス
ト用素子の半導体チップをマウントボンディングしてか
ら樹脂封止して第1のサンプルを作成する(No.1)。
リン青銅金属粉末を用いた多孔性金属焼結体によリード
フレームの作成を行った。多孔質金属粉末の平均空孔径
は5μm、空孔率25%で、この金属粉末を用いて第2
ののサンプルを作成する(No.2)。新東工業社製ポー
セラックス(ステレンスの粉末を用いた多孔性金属焼結
体)によりリードフレームの作成を行った。多孔質金属
の平均空孔径は8μm、空孔率24%である。この金属
粉末を用いて第3のサンプルを作成する(No.3)。比
較例としてQFPタイプの184ピン42アロイ製のリ
ードフレームを用いて15mm平方テスト用素子をマウ
ントボンディング後、樹脂封止してサンプルを作成する
(No.6)。Below, three samples in this embodiment will be shown. A lead frame of a porous metal sintered body using 42 alloy metal powder was prepared. The average pore diameter of the porous metal powder is 7 μm and the porosity is 70%. This metal powder is processed into a thin plate having a thickness of 150 μm, the holes in the surface layer are filled with a methyl methacrylate resin, and a QFP (Quad Flat Package) type 184-pin lead frame is formed by etching. Next, the methyl methacrylate filled in the holes is dissolved with a solvent, the semiconductor chip of the 15 mm square test element is mount-bonded, and the resin is sealed to prepare a first sample (No. 1).
A lead frame was made from a porous metal sintered body using phosphor bronze metal powder. The porous metal powder has an average pore diameter of 5 μm and a porosity of 25%.
Make a sample of (No.2). A lead frame was prepared by using porcerax (a porous metal sintered body using stainless steel powder) manufactured by Shinto Kogyo Co., Ltd. The average pore diameter of the porous metal is 8 μm, and the porosity is 24%. A third sample is prepared using this metal powder (No. 3). As a comparative example, a 15 mm square test element is mount-bonded using a QFP type 184-pin 42-alloy lead frame, followed by resin sealing to prepare a sample (No. 6).
【0017】前述した3例及び比較例のサンプルを用い
て、 (1) 85℃/85%で168時間吸湿処理を行って
から、ベーパーフェイズリフロー(VPS)処理を21
5℃で2回行い内部に発生するクラック発生および外部
に達するクラック発生を観察し、そしてベッド裏と封止
樹脂との剥離を観察した。 (2) 85℃/85%168時間で吸湿処理を行って
からVPS処理を215℃で2回行い、そのあと、12
5℃/2.5気圧の条件でプレッシャークッカーによる
対湿信頼性テスト(PCT)を行う。 (3) (2)と同じ前処理を行ってから−65℃〜2
00℃での冷熱サイクルテスト(TCT)を実施した。 この結果を表1および表2に示す。表における(1)の
クラック発生の観察では発生個数/観察個数を記載し、
(2)、(3)のVPS−PCT又はTCTテストで
は、不良数/測定個数を記載している。Using the samples of the above-mentioned three examples and the comparative example, (1) moisture absorption treatment was performed at 85 ° C./85% for 168 hours, and then vapor phase reflow (VPS) treatment was performed.
It was carried out twice at 5 ° C. and the generation of cracks inside and the cracks reaching outside were observed, and peeling between the back of the bed and the sealing resin was observed. (2) After performing moisture absorption treatment at 85 ° C./85% for 168 hours, VPS treatment is performed twice at 215 ° C., and then 12
A reliability test against humidity (PCT) by a pressure cooker is performed under the condition of 5 ° C / 2.5 atm. (3) After performing the same pretreatment as in (2), -65 ° C to 2
A thermal cycle test (TCT) at 00 ° C was performed. The results are shown in Tables 1 and 2. In the observation of crack generation in (1) in the table, the number of occurrences / the number of observations is described,
In the VPS-PCT or TCT test of (2) and (3), the number of defects / the number of measurements is described.
【0018】[0018]
【表1】 [Table 1]
【0019】[0019]
【表2】 [Table 2]
【0020】次に、図4乃び図5を参照して第2の実施
例を説明する。図4は、図3と同じ樹脂封止体の内部と
外部の境界部分のリ−ド断面を示し、図5はリ−ドの外
部に露出している部分の断面図を示している。前実施例
では、リ−ドフレ−ムの内部構造は、表面領域でも内部
領域でも粒子群がほぼ均一に焼結されている状態である
が、リ−ドフレ−ムの内部構造は、必ずしも均一にする
必要はない。例えば、リ−ドフレ−ムの表面部分の粒子
群を密の状態にして空孔を極小さくするかもしくは無く
し、その内部を表面部分より疎の状態にして水蒸気の通
る空間を十分確保することができる。この様にすれば、
水蒸気の通路を任意の方向に向けることができる。図4
に示すリ−ド51の表面部分511の粒子は密状態に
し、その内部512及び図5に示す樹脂封止体3から露
出しているリ−ド51の端部513付近を前記表面部分
より粒子状態を密にすれば、リ−ド51は、パイプのよ
うになって効率よく内部の水蒸気を外部に排出する。ま
た、ベッド53(図1参照)の表面部分の粒子状態を疎
にして空孔を大きくすれば、樹脂封止体3内部の水蒸気
がベッド53内に効率よく侵入しつりピンを通して外部
へ排出される。このとき、つりピンの表面部分をリ−ド
51と同じ様に粒子を密の状態にしておけば、水蒸気の
排出効果はさらに向上する。Next, a second embodiment will be described with reference to FIGS. 4 shows a lead cross section of a boundary portion between the inside and the outside of the same resin sealing body as in FIG. 3, and FIG. 5 shows a cross sectional view of a portion exposed to the outside of the lead. In the previous example, the internal structure of the lead frame was a state in which the particle groups were sintered almost uniformly in both the surface region and the internal region, but the internal structure of the lead frame was not always uniform. do not have to. For example, the particle group on the surface portion of the lead frame may be made dense to minimize or eliminate the pores, and the inside may be made sparser than the surface portion to secure a sufficient space for water vapor to pass. it can. If you do this,
The water vapor passages can be oriented in any direction. Figure 4
The particles of the surface portion 511 of the lead 51 shown in FIG. 2 are made dense, and the inside 512 and the vicinity of the end 513 of the lead 51 exposed from the resin sealing body 3 shown in FIG. If the state is made dense, the lead 51 becomes like a pipe and efficiently discharges the internal water vapor to the outside. Further, if the particle state of the surface portion of the bed 53 (see FIG. 1) is made sparse and the pores are made large, the water vapor inside the resin sealing body 3 efficiently enters the bed 53 and is discharged to the outside through the hanging pin. It At this time, if the surface portion of the fishing pin is made to have a dense particle like the lead 51, the water vapor discharging effect is further improved.
【0021】リ−ドフレ−ムの内部の密度をその部分に
よって疎密状態にすることは、金属粉末の粒度の違いに
よって成し得ることができる。金属粉末の粒度が小さけ
れば密状態にすることができ、この粒度が大きければ疎
の状態にすることができる。この様な状態は、金属粉末
の成型時に調整することができる。多孔性金属焼結体の
リ−ドフレ−ムは、形成当初は、内部構造が均一である
が、形を揃えたり成型するために行う切断や研磨処理に
よって表面が図4や図5に示すように粒子が潰れて表面
部分の空孔に入って空孔を埋めてしまう。したがって、
その部分は、内部に比較して密な状態になっている。こ
の表面の密な状態はエッチングや放電加工研磨によって
容易に無くすことができる。リ−ドフレ−ムのある部分
は、密な状態にし、他の部分は疎の状態にすることは容
易にできる。The density of the inside of the lead frame can be made to be sparse and dense depending on its part, by the difference in particle size of the metal powder. If the particle size of the metal powder is small, it can be made dense, and if this particle size is large, it can be made sparse. Such a state can be adjusted at the time of molding the metal powder. The lead frame of the porous metal sintered body has a uniform internal structure at the beginning of formation, but the surface of the lead frame is formed by cutting or polishing treatments for aligning the shapes or for molding as shown in FIGS. 4 and 5. The particles are crushed and enter the holes in the surface area and fill the holes. Therefore,
That part is denser than the inside. This dense state of the surface can be easily eliminated by etching or electric discharge machining polishing. It is easy to make one part of the lead frame dense and the other part sparse.
【0022】次に、図6乃至図8を参照して第3の実施
例を説明する。図6乃至図8は、リ−ドフレ−ムのベッ
ド53とつりピン52部分の拡大平面図を示す。この実
施例は、従来の圧延金属のリ−ドフレ−ムに多孔性金属
焼結体のリ−ドフレ−ムを併用したことに特徴がある。
多孔性金属焼結体のリ−ドフレ−ムは、圧延金属のリ−
ドフレ−ムと同じ大きさでも良いが、部分的に併用して
も良い。貼合わせる手段としては、接着剤を使用するこ
とができ、その接着剤の種類としては、耐熱性及び耐湿
性の点からシリコ−ン系、ポリイミド系、エポキシ系、
ポリエステル系などの中から適宜選択することができ
る。圧延金属のリ−ドフレ−ムに張付けられる多孔性金
属焼結体の厚さは、リ−ドフレ−ムとしての強度を格別
低下させずに、実装時の水蒸気排出効果を維持できるた
めに、50μm程度以下にする必要がある。貼付け位置
は、リ−ドフレ−ムの全面に貼付する場合以外は、排出
効果を考慮して決めることができ、とくに、少なくとも
ベッド裏とここに連続しているつりピン部分に貼付ける
のが好ましい。図6は、DIPタイプの半導体装置に適
用されるものである。図6(a)は、リ−ドフレ−ム全
面に多孔性金属焼結体6を貼付けた場合を示したもので
あり、圧延金属と金属焼結体の複合体を同時にエッチン
グなどを行って効率的にリ−ドフレ−ムを形成すること
ができる。Next, a third embodiment will be described with reference to FIGS. 6 to 8 are enlarged plan views of the bed 53 and the hanging pin 52 of the lead frame. This embodiment is characterized in that the conventional lead frame of rolled metal is combined with the lead frame of porous metal sintered body.
The lead frame of the sintered porous metal is the lead of the rolled metal.
The size may be the same as the dframe, but it may be partially used together. As a means for laminating, an adhesive can be used, and as the type of the adhesive, a silicone type, a polyimide type, an epoxy type, from the viewpoint of heat resistance and moisture resistance,
It can be appropriately selected from polyester type and the like. The thickness of the porous metal sintered body attached to the lead frame of the rolled metal is 50 μm in order to maintain the water vapor discharge effect during mounting without significantly lowering the strength of the lead frame. It must be below the level. The sticking position can be determined in consideration of the discharge effect except when sticking to the entire surface of the lead frame, and it is particularly preferable to stick the sticking pin at least on the back of the bed and the fishing pin portion continuous there. . FIG. 6 is applied to a DIP type semiconductor device. FIG. 6 (a) shows a case where the porous metal sintered body 6 is stuck on the entire surface of the lead frame, and the efficiency is obtained by simultaneously etching the composite of the rolled metal and the metal sintered body. Thus, a lead frame can be formed.
【0023】図ではつりピン52とベッド53の裏面全
面に取付けられている。図6(b)では、つりピン52
からベッド53までつりピンと同じ幅で一直線に多孔性
金属焼結体6が貼付けられている。図6(c)では、つ
りピン52とベッド53の中心に円形に多孔性金属焼結
体6が貼付けられている。図6(d)では、多孔性金属
焼結体6は、つりピン52とベッドコ−ナ−部に対して
交差する形で形成されている。図6(e)では、多孔性
金属焼結体6は、つりピン52とベッド53周辺に沿っ
て形成されている。図7及び図8は、QFPタイプの半
導体装置に適用されるものである。図7(a)は、リ−
ドフレ−ム全面に多孔性金属焼結体6を貼付けた場合を
示したものであり、つりピン52とベッド53の裏面全
面に取付けられている。図7(b)ではつりピン52か
らベッド53までつりピンと同じ幅で一直線に、直線が
交差する形で、多孔性金属焼結体6が貼付けられてい
る。図7(c)では、つりピン52とベッド53の中心
に円形に多孔性金属焼結体6が貼付けられている。図8
(a)では、多孔性金属焼結体6は、つりピン52とベ
ッド53の各コ−ナ−部から直線的に中心に突出する形
で形成されている。図8(b)では、多孔性金属焼結体
6は、つりピン52とベッド53周辺に沿って形成され
ている。In the figure, the fishing pin 52 and the bed 53 are attached to the entire back surface. In FIG. 6B, the hanging pin 52
The porous metal sintered body 6 is attached in a straight line from the to the bed 53 with the same width as the hanging pin. In FIG. 6C, the porous metal sintered body 6 is attached in a circular shape to the center of the fishing pin 52 and the bed 53. In FIG. 6D, the porous metal sintered body 6 is formed so as to intersect the hanging pin 52 and the bed corner portion. In FIG. 6E, the porous metal sintered body 6 is formed along the periphery of the hanging pin 52 and the bed 53. 7 and 8 are applied to a QFP type semiconductor device. Figure 7 (a) shows
It shows a case where the porous metal sintered body 6 is attached to the entire surface of the dframe, and is attached to the entire rear surface of the hanging pin 52 and the bed 53. In FIG. 7B, the porous metal sintered body 6 is attached in a straight line with the same width as the hanging pin from the hanging pin 52 to the bed 53, and the straight lines intersect each other. In FIG. 7C, a circular porous metal sintered body 6 is attached to the center of the hanging pin 52 and the bed 53 in a circular shape. Figure 8
In (a), the porous metal sintered body 6 is formed so as to linearly project from the respective corner portions of the hanging pin 52 and the bed 53 to the center. In FIG. 8B, the porous metal sintered body 6 is formed along the periphery of the hanging pin 52 and the bed 53.
【0024】次に、図9を参照して第4の実施例を説明
する。この実施例は、多孔性金属焼結体を放熱板に用い
た点に特徴がある。図は、樹脂封止型半導体装置の断面
図である。リ−ドフレ−ムから形成したベッド53の主
表面には、エポキシ樹脂などのマウント剤4によって半
導体チップ1が取付けられている。ベッド53、半導体
チップ1、リ−ド52の一部及びリ−ド51と半導体チ
ップ1の電極とを接続するボンディングワイヤ52は、
いずれも樹脂封止体3に被覆されている。このベッド5
3の裏面には多孔性金属焼結体の放熱板7が取付けら
れ、部分的に樹脂封止体3に被覆され一部は外部に露出
している。放熱板7に多孔性金属焼結体を用いているの
で、回路基板への実装時に発生する水蒸気は、ここを通
って外部に排出される。この実施例では、リ−ドフレ−
ムに従来の圧延金属を用いたが、勿論前記多孔性金属焼
結体を用いることも可能である。図9(a)は、ベッド
53の裏面全面に放熱板7を貼付けた例である。リ−ド
フレ−ムが多孔性金属焼結体の場合は、放熱板と同じ材
料であるので、ベッド部のみ厚くした多孔性金属焼結体
のリ−ドフレ−ムを用いて放熱板と一体化させることも
できる。また、この場合、ベッド部を厚くしなくても、
ベッド部の裏面を樹脂封止体から露出させればベッド部
は放熱板としても作用する。図9(b)及び図9(c)
は、いずれもベッド53の裏面の中心部など一部に放熱
板7を取付けた例である。Next, a fourth embodiment will be described with reference to FIG. This embodiment is characterized in that a porous metal sintered body is used for the heat dissipation plate. The figure is a cross-sectional view of a resin-sealed semiconductor device. A semiconductor chip 1 is attached to a main surface of a bed 53 formed of a lead frame by a mount agent 4 such as epoxy resin. The bed 53, the semiconductor chip 1, a part of the lead 52, and the bonding wire 52 connecting the lead 51 and the electrode of the semiconductor chip 1 are
Both are covered with the resin sealing body 3. This bed 5
A heat radiating plate 7 made of a porous metal sintered body is attached to the back surface of 3, and is partially covered with the resin sealing body 3 and a part is exposed to the outside. Since the porous metal sintered body is used for the heat radiating plate 7, the water vapor generated at the time of mounting on the circuit board is discharged to the outside through this. In this embodiment, the lead frame
Although a conventional rolled metal is used for the frame, it is of course possible to use the porous metal sintered body. FIG. 9A is an example in which the heat dissipation plate 7 is attached to the entire back surface of the bed 53. If the lead frame is a porous metal sintered body, it is made of the same material as the heat sink, so it is integrated with the heat sink using the lead frame of the porous metal sintered body with only the bed thickened. You can also let it. In addition, in this case, without thickening the bed,
If the back surface of the bed portion is exposed from the resin sealing body, the bed portion also functions as a heat dissipation plate. 9 (b) and 9 (c)
In each of the examples, the heat dissipation plate 7 is attached to a part such as the center of the back surface of the bed 53.
【0025】次に、第5の実施例を説明する。この実施
例は少なくとも一部は多孔性金属焼結体であるリ−ドフ
レ−ムの多孔性金属焼結体に熱可塑性樹脂を含浸させた
ことに特徴がある。このリ−ドフレ−ムを用いて樹脂封
止型半導体装置を形成する。そして、この半導体装置を
基板に実装すると、実装時の高温により含浸させた熱可
塑樹脂が溶融し、リ−ドフレ−ムの各部に樹脂封止体内
部の水蒸気排出路が形成される。多孔性金属焼結体のリ
−ドフレ−ムへの熱可塑性樹脂の含浸方法としては、熱
可塑性樹脂を溶媒に溶解させ、多孔性金属焼結体に含浸
させる方法、真空含浸法などがあり、含浸後加熱などに
より溶媒を除去する。熱可塑性樹脂が予めリ−ドフレ−
ムに含浸されているので、外部からの樹脂封止体内部へ
の水分の浸入は、かなり防ぐことができる。含浸された
熱可塑性樹脂は、一種の弁の役を果たし、強度の向上に
も役立つことができる。多孔性金属焼結体の表面領域の
みに含浸させても良い。熱可塑性樹脂としてはポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリイソブチレ
ン、ポリスチレン、ABS樹脂、アクリル樹脂、酢酸ビ
ニル樹脂、ブチラ−ル樹脂、ポリブタジエン、ポリカ−
ボネ−ト、ナイロン、ポリエステル等が挙げられる。実
装時の温度が200〜250℃程度なので、この温度で
溶融する材料が選ばれる。この多孔性金属焼結体に熱可
塑性樹脂を含浸させたものは、前述の第4の実施例の放
熱板に適用すると最適である。Next, a fifth embodiment will be described. This embodiment is characterized in that the porous metal sintered body of the lead frame, which is at least partly a porous metal sintered body, is impregnated with a thermoplastic resin. Using this lead frame, a resin-sealed semiconductor device is formed. Then, when this semiconductor device is mounted on a substrate, the impregnated thermoplastic resin is melted by the high temperature at the time of mounting, and a water vapor discharge path inside the resin sealing body is formed in each part of the lead frame. Examples of the method for impregnating the lead frame of the porous metal sintered body with the thermoplastic resin include a method of dissolving the thermoplastic resin in a solvent and impregnating the porous metal sintered body, a vacuum impregnation method, and the like. After impregnation, the solvent is removed by heating or the like. The thermoplastic resin is pre-read
Since the resin is impregnated, it is possible to considerably prevent the infiltration of water from the outside into the inside of the resin sealing body. The impregnated thermoplastic resin acts as a kind of valve and can also help improve strength. It is also possible to impregnate only the surface region of the porous metal sintered body. Examples of the thermoplastic resin include polyethylene, polypropylene, polybutene, polyisobutylene, polystyrene, ABS resin, acrylic resin, vinyl acetate resin, butyral resin, polybutadiene, and polycarbonate.
Bonnet, nylon, polyester and the like can be mentioned. Since the mounting temperature is about 200 to 250 ° C., a material that melts at this temperature is selected. This porous metal sintered body impregnated with a thermoplastic resin is most suitable when applied to the heat dissipation plate of the fourth embodiment described above.
【0026】また、多孔性金属焼結体の薄板をエッチン
グにより加工してリ−ドフレ−ムを形成する場合におい
て、樹脂を予め比較的深く前記薄板に含浸させておき、
これを最後まで取除かなければ、前記のリ−ドフレ−ム
に熱可塑性樹脂を含浸したものが容易に得られる。次
に、図10を参照して第6の実施例を説明する。図は、
樹脂封止型半導体装置の断面図である。第1の実施例を
説明する図1と殆ど同じ構造であるが、使用しているリ
−ドフレ−ムの構造が異なっている。この図では、リ−
ドフレ−ムのベッド53部分がリ−ド51部分より凹ん
でおり、ベッド裏は、樹脂封止体3から露出しているの
で、放熱作用を備えている。また、ボンディングワイヤ
2も余り破損されない。When the thin plate of the porous metal sintered body is processed by etching to form the lead frame, the thin plate is relatively deeply impregnated with resin in advance,
If this is not removed to the end, the above-mentioned lead frame impregnated with a thermoplastic resin can be easily obtained. Next, a sixth embodiment will be described with reference to FIG. The figure is
It is sectional drawing of a resin sealing type semiconductor device. The structure is almost the same as that of FIG. 1 for explaining the first embodiment, but the structure of the lead frame used is different. In this figure,
The bed 53 of the dframe is recessed from the lead 51, and the back of the bed is exposed from the resin encapsulant 3 so that it has a heat radiation effect. Also, the bonding wire 2 is not damaged much.
【0027】以下に、2つのサンプルを作成する。圧延
された42アロイ製のリ−ドフレ−ムと42アロイ製の
多孔性金属焼結体製のリ−ドフレ−ムを貼合わせて図6
(a)に示すリ−ドフレ−ムを形成し、これを用いて図
1の様な樹脂封止型半導体装置を形成する。多孔性金属
焼結体の空孔率は10%、平均空孔径は5μm、厚さは
30μmであった(No. 4)。次に42アロイの多孔性
金属焼結体製のリ−ドフレ−ムに、ABS樹脂を含浸さ
せ、QFP184ピンタイプのリ−ドフレ−ムを形成
し、これを用いて図1の様な樹脂封止型半導体装置を形
成する(No. 5)。このサンプルの特性を測定し、従来
例(No. 6)の特性と共に表2に掲載する。これらの測
定結果により本発明の効果が認められる。Below, two samples are prepared. A rolled 42-alloy lead frame and a 42-alloy porous metal-sintered lead frame are bonded together to form the structure shown in FIG.
The lead frame shown in (a) is formed, and the resin frame type semiconductor device as shown in FIG. 1 is formed by using the lead frame. The porosity of the porous metal sintered body was 10%, the average pore diameter was 5 μm, and the thickness was 30 μm (No. 4). Next, a lead frame made of a 42 alloy porous metal sintered body was impregnated with ABS resin to form a QFP184 pin type lead frame, which was used to seal the resin as shown in FIG. A static semiconductor device is formed (No. 5). The properties of this sample were measured and listed in Table 2 together with the properties of the conventional example (No. 6). From these measurement results, the effect of the present invention is recognized.
【0028】[0028]
【発明の効果】以上の様に本発明のリードフレームを用
いた樹脂封止型半導体装置は、回路基板に実装する際に
発生する樹脂封止体内部の水蒸気は効率的に外部に排出
させることができる。リ−ドフレ−ムは封止樹脂との密
着性に優れているので、不良発生がなく高信頼性を得る
ことができる。As described above, in the resin-sealed semiconductor device using the lead frame of the present invention, the water vapor inside the resin-sealed body generated when the semiconductor device is mounted on the circuit board can be efficiently discharged to the outside. You can Since the lead frame has excellent adhesiveness with the sealing resin, no defect occurs and high reliability can be obtained.
【図1】本発明の第1の実施例の樹脂封止型半導体装置
の断面図。FIG. 1 is a sectional view of a resin-sealed semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】第1の実施例及び従来のリ−ドフレ−ムの平面
図。FIG. 2 is a plan view of a first embodiment and a conventional lead frame.
【図3】図1の樹脂封止体とリード部の界面Aを示す拡
大断面図。FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view showing an interface A between the resin sealing body and the lead portion shown in FIG.
【図4】図1の樹脂封止体とリード部の界面Aを示す第
2の実施例の拡大断面図。FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of a second embodiment showing an interface A between the resin sealing body and the lead portion of FIG.
【図5】図1の樹脂封止体とリード部の界面Aを示す第
2の実施例の拡大断面図。5 is an enlarged cross-sectional view of a second embodiment showing an interface A between the resin sealing body and the lead portion of FIG.
【図6】第3の実施例のリ−ドフレ−ムの部分拡大平面
図。FIG. 6 is a partially enlarged plan view of a lead frame according to a third embodiment.
【図7】第3の実施例のリ−ドフレ−ムの部分拡大平面
図。FIG. 7 is a partially enlarged plan view of a lead frame according to a third embodiment.
【図8】第3の実施例のリ−ドフレ−ムの部分拡大平面
図。FIG. 8 is a partially enlarged plan view of a lead frame according to a third embodiment.
【図9】第4の実施例の樹脂封止型半導体装置の断面
図。FIG. 9 is a sectional view of a resin-encapsulated semiconductor device according to a fourth embodiment.
【図10】第6の実施例の樹脂封止型半導体装置の断面
図。FIG. 10 is a sectional view of a resin-sealed semiconductor device of a sixth embodiment.
1 半導体チップ 2 ボンディングワイヤ 3 樹脂封止体 4 マウント剤 5 リードフレーム 6 多孔性金属焼結体 7 放熱板 51 リ−ド 52 つりピン 53 ベッド 1 Semiconductor Chip 2 Bonding Wire 3 Resin Sealing Body 4 Mounting Agent 5 Lead Frame 6 Porous Metal Sintered Body 7 Heat Dissipating Plate 51 Lead 52 Fishing Pin 53 Bed
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 東 道也 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝総合研究所内 (72)発明者 下澤 宏 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝総合研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Michiya Higashi 1 Komukai Toshiba-cho, Sachi-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture, Toshiba Research Institute Co., Ltd. (72) Inventor Hiroshi Shimozawa, Komukai Toshiba, Kawasaki-shi, Kanagawa Town No. 1 Toshiba Corporation Research Institute
Claims (10)
する半導体装置用リ−ドフレ−ム。1. A lead frame for a semiconductor device, comprising a porous metal sintered body.
焼結体を取付けたことを特徴とする半導体装置用リ−ド
フレ−ム。2. A lead frame for a semiconductor device, wherein a porous metal sintered body is attached to at least a part of the surface thereof.
チップ載置用ベッドを支持するつりピン及びリ−ドを備
え、これらのうちの少なくとも1つの表面に多孔性金属
焼結体を取付けたことを特徴とする半導体装置用リ−ド
フレ−ム。3. A semiconductor chip mounting bed, a hanging pin and a lead for supporting the semiconductor chip mounting bed, and a porous metal sintered body attached to at least one surface of these. A lead frame for a semiconductor device, which is characterized by:
形成され、その内部部分は疎に形成されていることを特
徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の半導
体装置用リ−ドフレ−ム。4. The semiconductor according to claim 1, wherein a surface portion of the porous metal sintered body is densely formed and an inner portion thereof is sparsely formed. Lead frame for equipment.
を有する半導体チップ載置用ベッドと、 前記半導体チップ載置用ベッド又は前記つりピンを有す
る半導体チップ載置用ベッドの上に取付けた半導体チッ
プと、 前記半導体チップの主面上に形成された電極と、 一端が前記電極に近接してこの電極と電気的に接続され
ており、他端が前記半導体チップの外方に延在している
リ−ドと、 前記リ−ドの前記他端を除いた部分、前記半導体チップ
載置用ベッド又はつりピンを有する半導体チップ載置用
ベット及び前記半導体チップを被覆する樹脂封止体とを
備え、 前記リ−ド、前記つりピン又は前記半導体チップ載置用
ベッドの内の少なくとも1つは、多孔性金属焼結体から
なることを特徴とする樹脂封止型半導体装置。5. A semiconductor chip mounting bed or a semiconductor chip mounting bed having hanging pins, and a semiconductor chip mounted on the semiconductor chip mounting bed or the semiconductor chip mounting bed having hanging pins. An electrode formed on the main surface of the semiconductor chip, one end of which is close to the electrode and electrically connected to the electrode, and the other end of which extends outside the semiconductor chip. A lead, a portion excluding the other end of the lead, a semiconductor chip mounting bed or a semiconductor chip mounting bed having a hanging pin, and a resin encapsulant covering the semiconductor chip. At least one of the lead, the hanging pin, and the semiconductor chip mounting bed is made of a porous metal sintered body, and a resin-sealed semiconductor device is provided.
を有する半導体チップ載置用ベッドと、 前記半導体チップ載置用ベッド又はつりピンを有する半
導体チップ載置用ベッドの上に取付けた半導体チップ
と、 前記半導体チップの主面上に形成された電極と、 一端が前記電極に近接してこの電極と電気的に接続され
ており、他端が前記半導体チップの外方に延在している
リ−ドと、前記リ−ドの前記他端を除いた部分、前記半
導体チップ及び前記半導体チップ載置用ベッド又はつり
ピンを有する半導体チップ載置用ベッドを被覆する樹脂
封止体とを備え、 前記リ−ド、前記つりピン又は前記半導体チップ載置用
ベッドの内の少なくとも1つには、多孔性金属焼結体が
取付けられていることを特徴とする樹脂封止型半導体装
置。6. A semiconductor chip mounting bed or a semiconductor chip mounting bed having a hanging pin, and a semiconductor chip mounted on the semiconductor chip mounting bed or a semiconductor chip mounting bed having a hanging pin. An electrode formed on the main surface of the semiconductor chip, one end of which is close to the electrode and electrically connected to the electrode, and the other end of which extends outside the semiconductor chip. And a portion other than the other end of the lead, the semiconductor chip and the resin sealing body that covers the semiconductor chip mounting bed or the semiconductor chip mounting bed having a hanging pin, A resin-sealed semiconductor device, wherein a porous metal sintered body is attached to at least one of the lead, the hanging pin, and the semiconductor chip mounting bed.
れた前記一端部分の前記多孔性金属焼結体の表面は密に
形成されていることを特徴とする請求項5又は請求項6
に記載の樹脂封止型半導体装置。7. The surface of the porous metal sintered body at the one end portion electrically connected to the electrode of the lead is densely formed. 6
The resin-encapsulated semiconductor device according to.
を有する半導体チップ載置用ベッドと、 前記半導体チップ載置用ベッド又はつりピンを有する半
導体チップ載置用ベッドの上に取付けた半導体チップ
と、 前記半導体チップの主面上に形成された電極と、 一端が前記電極に近接してこの電極と電気的に接続され
ており、他端が前記半導体チップの外方に延在している
リ−ドと、 前記半導体チップ載置用ベッド又はつりピンを有する半
導体チップ載置用ベッド、前記半導体チップ及び前記リ
−ドの前記他端を除いた部分を被覆する樹脂封止体と、 前記半導体チップ載置用ベッド又はつりピンを有する半
導体チップ載置用ベッドの前記半導体チップが載置され
ている面とは反対の面に取付けられ、前記樹脂封止体か
ら部分的に露出している放熱板とを備えており、 前記放熱板は、多孔性金属焼結体からなることを特徴と
する樹脂封止型半導体装置。8. A semiconductor chip mounting bed or a semiconductor chip mounting bed having a hanging pin, and a semiconductor chip mounted on the semiconductor chip mounting bed or a semiconductor chip mounting bed having a hanging pin. An electrode formed on the main surface of the semiconductor chip, one end of which is close to the electrode and electrically connected to the electrode, and the other end of which extends outside the semiconductor chip. A semiconductor chip mounting bed or a semiconductor chip mounting bed having a hanging pin, a resin sealing body that covers the semiconductor chip and a portion of the lead excluding the other end, and the semiconductor The chip mounting bed or the semiconductor chip mounting bed having a hanging pin is attached to the surface opposite to the surface on which the semiconductor chip is mounted, and is partially exposed from the resin sealing body. And a heat plate, the heat sink, a resin-encapsulated semiconductor device characterized by comprising a porous metal sintered body.
によって含浸され、被覆されていること特徴とする請求
項1乃至請求項8のいずれかに記載の樹脂封止型半導体
装置。9. The resin-encapsulated semiconductor device according to claim 1, wherein the porous metal sintered body is impregnated with and coated with a thermoplastic resin.
させる工程と、 前記多孔性金属焼結体薄板をエッチング液によってエッ
チング加工してリ−ドフレ−ムを形成する工程と、 前記リ−ドフレ−ムに含浸している前記樹脂を除去する
工程と、 前記リ−ドフレ−ムに半導体チップを取付ける工程と、 前記リ−ドフレ−ムのリ−ド先端と前記半導体チップ上
の電極とをボンディングワイヤで接続する工程と、 前記半導体チップ、前記リ−ドフレ−ムのリ−ドの一部
及び前記ボンディングワイヤを樹脂封止体で被覆する工
程とを備えていることを特徴とする樹脂封止型半導体装
置の製造方法。10. A step of impregnating a thin plate of a porous metal sintered body with a resin; a step of etching the thin plate of the porous metal sintered body with an etching solution to form a lead frame; A step of removing the resin impregnated in the lead frame, a step of attaching a semiconductor chip to the lead frame, a lead tip of the lead frame and an electrode on the semiconductor chip. With a bonding wire, and a step of coating the semiconductor chip, a part of the lead of the lead frame and the bonding wire with a resin encapsulant. Manufacturing method of sealed semiconductor device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4298230A JPH06125029A (en) | 1992-10-12 | 1992-10-12 | Lead frame for semiconductor device, resin sealed type semiconductor device, and manufacture of resin sealed type semiconductor device |
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0802303A1 (en) * | 1996-04-17 | 1997-10-22 | Halliburton Energy Services, Inc. | Sealing apparatus |
JP2003031753A (en) * | 2001-07-19 | 2003-01-31 | Sony Corp | Semiconductor device and manufacturing method therefor |
JP2003046051A (en) * | 2001-07-30 | 2003-02-14 | Nec Corp | Lead frame, semiconductor device and resin-molding method therefor |
JP2008103557A (en) * | 2006-10-19 | 2008-05-01 | Toyota Motor Corp | Electronic component |
WO2016081647A1 (en) * | 2014-11-19 | 2016-05-26 | Qualcomm Incorporated | Integrated circuit package |
JP2016152386A (en) * | 2015-02-19 | 2016-08-22 | 三菱マテリアル株式会社 | Substrate for power module and power module |
JPWO2020110987A1 (en) * | 2018-11-28 | 2021-09-27 | 京セラ株式会社 | Flat coil and transformer, wireless transmitter, electromagnet equipped with it |
-
1992
- 1992-10-12 JP JP4298230A patent/JPH06125029A/en active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0802303A1 (en) * | 1996-04-17 | 1997-10-22 | Halliburton Energy Services, Inc. | Sealing apparatus |
JP2003031753A (en) * | 2001-07-19 | 2003-01-31 | Sony Corp | Semiconductor device and manufacturing method therefor |
JP2003046051A (en) * | 2001-07-30 | 2003-02-14 | Nec Corp | Lead frame, semiconductor device and resin-molding method therefor |
JP4611579B2 (en) * | 2001-07-30 | 2011-01-12 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | Lead frame, semiconductor device and resin sealing method thereof |
JP2008103557A (en) * | 2006-10-19 | 2008-05-01 | Toyota Motor Corp | Electronic component |
WO2016081647A1 (en) * | 2014-11-19 | 2016-05-26 | Qualcomm Incorporated | Integrated circuit package |
JP2016152386A (en) * | 2015-02-19 | 2016-08-22 | 三菱マテリアル株式会社 | Substrate for power module and power module |
JPWO2020110987A1 (en) * | 2018-11-28 | 2021-09-27 | 京セラ株式会社 | Flat coil and transformer, wireless transmitter, electromagnet equipped with it |
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