JPH06124808A - Sliding resistor - Google Patents
Sliding resistorInfo
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- JPH06124808A JPH06124808A JP5088907A JP8890793A JPH06124808A JP H06124808 A JPH06124808 A JP H06124808A JP 5088907 A JP5088907 A JP 5088907A JP 8890793 A JP8890793 A JP 8890793A JP H06124808 A JPH06124808 A JP H06124808A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は摺動抵抗体に係り、例
えば、スロットルセンサやハイトセンサ（車高センサ）
等の位置センサに用いることができる摺動抵抗体に関す
るものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sliding resistor, for example, a throttle sensor or a height sensor (vehicle height sensor).
The present invention relates to a sliding resistor that can be used for position sensors such as.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、摺動抵抗体はカーボンレジンを主
体としたもの、及び、Ｒｕを主体としたもの、あるい
は、特公昭５２−５９９９号公報にはクロム薄膜を形成
しその上に白金ロジューム薄膜を重畳するものが示され
ている。2. Description of the Related Art Conventionally, sliding resistors are mainly made of carbon resin and Ru, or in Japanese Patent Publication No. 52-5999, a chromium thin film is formed on which a platinum rhodium is formed. Overlapping thin films are shown.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】ところが、カーボン系
は自己の摩耗により摺動寿命が短く、摺動抵抗が高くな
ると言う問題がある。又、Ｒｕ系は自己摩耗または接点
を摩耗させてしまい、摺動寿命が短いという問題があ
る。さらに、特公昭５２−５９９９号公報のものでは摺
動寿命が短く必要寿命がもたないという問題があった。However, there is a problem that the carbon system has a short sliding life and a high sliding resistance due to its own wear. Further, the Ru system has a problem that it has a short sliding life due to self-abrasion or abrasion of contacts. Further, the Japanese Patent Publication No. 52-5999 has a problem that the sliding life is short and the required life is not provided.
【０００４】そこで、この発明の目的は、摺動寿命を長
くすることができる摺動抵抗体を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a sliding resistor having a long sliding life.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】第１の発明は、絶縁基材
上に配置され、Ｃｒ−Ａｕ−Ｏ系の薄膜よりなる摺動抵
抗体をその要旨とするものである。SUMMARY OF THE INVENTION A first invention has as its gist a sliding resistor which is disposed on an insulating base material and is made of a Cr-Au-O type thin film.
【０００６】第２の発明は、絶縁基材上に配置され、Ｃ
ｒ−Ｎ−Ｏ系の薄膜よりなる摺動抵抗体をその要旨とす
るものである。ここで、第１又は第２の発明において、
前記薄膜をＡｕ又はＣのコーティング膜で覆うことが望
ましい。A second aspect of the invention is to dispose C on an insulating substrate.
The gist of the invention is a sliding resistor made of an r-N-O type thin film. Here, in the first or second invention,
It is desirable to cover the thin film with a coating film of Au or C.
【０００７】[0007]
【作用】第１の発明は、摺動抵抗体として、Ｃｒ−Ａｕ
−Ｏ系の薄膜抵抗体を用いることによりＡｕの自己潤滑
効果により摺動性に優れる。According to the first aspect of the present invention, as the sliding resistor, Cr-Au is used.
By using a -O type thin film resistor, the self-lubricating effect of Au provides excellent slidability.
【０００８】又、Ｃｒ−Ｏの組成を有する（金属酸化
物）ことにより、膜硬度および摺動部での表面硬度が高
くなる。第２の発明は、薄膜摺動抵抗体としてＣｒ−Ｎ
−Ｏ系の抵抗体を用いることにより膜の硬度が高くなり
耐摩耗性が向上する。Further, by having the composition of Cr-O (metal oxide), the film hardness and the surface hardness at the sliding portion become high. The second invention is Cr-N as a thin film sliding resistor.
The hardness of the film is increased and the wear resistance is improved by using the -O-based resistor.
【０００９】さらに、第１又は第２の発明において、抵
抗体の上にＡｕ又はカーボンからなるコーティング膜を
施すことで摩耗に対する初期なじみ効果により長寿命化
が図れる。Further, in the first or second aspect of the present invention, by providing a coating film made of Au or carbon on the resistor, it is possible to prolong the service life by the initial familiarizing effect against wear.
【００１０】[0010]
（第１実施例）以下、この発明を自動車エンジンのスロ
ットルセンサに具体化した一実施例を図面に従って説明
する。(First Embodiment) An embodiment in which the present invention is embodied in a throttle sensor of an automobile engine will be described below with reference to the drawings.
【００１１】図１には、本摺動抵抗体１を用いたスロッ
トルセンサの要部の斜視図を示す。又、図２には図１を
Ａ矢印方向から見た断面図を示す。絶縁基材としてのガ
ラス基板２上にはＣｒ−Ａｕ−Ｏ系の薄膜よりなる摺動
抵抗体１が配置されている。この摺動抵抗体１は二次同
時スパッタリング法により形成したものである。FIG. 1 is a perspective view of a main part of a throttle sensor using the sliding resistor 1. Further, FIG. 2 shows a sectional view of FIG. 1 viewed from the direction of arrow A. A sliding resistor 1 made of a Cr-Au-O-based thin film is arranged on a glass substrate 2 as an insulating base material. The sliding resistor 1 is formed by the secondary simultaneous sputtering method.
【００１２】つまり、サファイヤガラス基板２をスパッ
タリング装置内に取り付け、装置内を５×１０-6Ｔorr
以下に真空排気する。そして、ＡｒにＯ2 を０．８％加
えたガスを上記装置内に５×１０-3Ｔorr 導入し、Ｃｒ
ターゲットに対しＲＦ３００Ｗを、又、Ａｕターゲット
に対しＤＣ５０Ｗの電力を印加して、３５分間スパッタ
リングを行う。That is, the sapphire glass substrate 2 is mounted in the sputtering apparatus, and the inside of the apparatus is 5 × 10 -6 Torr.
Evacuate below. Then, a gas obtained by adding 0.8% of O 2 to Ar was introduced into the apparatus at 5 × 10 −3 Torr, and Cr was added.
RF 300 W is applied to the target and DC 50 W is applied to the Au target, and sputtering is performed for 35 minutes.
【００１３】このようにして得られた摺動抵抗体１の組
成は、Ｃｒが４０原子％，Ａｕが４０原子％，酸素
（Ｏ）が２０原子％である。又、摺動抵抗体１の膜厚は
１μｍである。The composition of the sliding resistor 1 thus obtained is 40 atomic% of Cr, 40 atomic% of Au and 20 atomic% of oxygen (O). The film thickness of the sliding resistor 1 is 1 μm.
【００１４】このように成膜した摺動抵抗体１上におい
て、その両端部にはそれぞれ電極３，４が形成されてい
る。この電極３，４は、Ｎｉ，Ａｕの２層からなり、ス
パッタリング装置を用いて膜厚が０．５μｍの薄膜とな
っている。Electrodes 3 and 4 are formed on both ends of the sliding resistor 1 thus formed. The electrodes 3 and 4 consist of two layers of Ni and Au, and are thin films with a thickness of 0.5 μm using a sputtering device.
【００１５】この電極３，４にリード線５，６がそれぞ
れ半田付けされている。又、摺動抵抗体１上にスクラッ
チタイプのコンタクト（接触子）７が配置され、コンタ
クト（接触子）７の先端は４つの爪状に分割されてい
る。コンタクト７の先端部７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄは摺
動抵抗体１上を摺接している。即ち、コンタクト７は付
勢された状態で摺動抵抗体１と接触している。そして、
図２に示すように、スロットルバルブの開閉動作に伴っ
てコンタクト７が摺動抵抗体１上を摺動するようになっ
ている。Lead wires 5 and 6 are soldered to the electrodes 3 and 4, respectively. A scratch type contact (contact) 7 is arranged on the sliding resistor 1, and the tip of the contact (contact) 7 is divided into four claws. The tip portions 7a, 7b, 7c, 7d of the contact 7 are in sliding contact with the sliding resistor 1. That is, the contact 7 is in contact with the sliding resistor 1 while being urged. And
As shown in FIG. 2, the contact 7 slides on the sliding resistor 1 as the throttle valve opens and closes.
【００１６】このようにして得られた摺動抵抗体１の摺
動寿命を測定したところ、従来のカーボン系が２００〜
３００万回なのに対し１０００万回以上の摺動で接触抵
抗が２００Ω以下が得られた。When the sliding life of the sliding resistor 1 thus obtained was measured, it was found that the conventional carbon-based material had a sliding life of 200-200.
A contact resistance of 200Ω or less was obtained by sliding 10 million times or more as compared with 3 million times.
【００１７】Ｃｒに対するＡｕ及びＯの比率は、Ｃｒ＝
２０〜６０原子％、Ａｕ＝１０〜５０原子％、Ｏ＝１０
〜５０原子％の範囲であれば同様の摺動寿命が得られ
た。尚、実験方法としては、図３に示す接触抵抗の測定
回路を用いた。つまり、摺動抵抗体１には定電流源２０
が接続され、その摺動抵抗体１には図４，５に示すコン
タクト７が接触している。そして、摺動抵抗体１に対し
コンタクト７を摺動させながら電圧測定器２１による電
圧を測定した。このとき、摺動抵抗体１に対し０．０４
９Ｎ（ニュートン）の接触力にてコンタクト７を摺動さ
せ、かつ、摺動速度は４００ｃｍ／ｍｉｎ、摺動幅は１
０ｍｍとした。The ratio of Au and O to Cr is Cr =
20-60 atomic%, Au = 10-50 atomic%, O = 10
Similar sliding life was obtained in the range of up to 50 atomic%. The contact resistance measurement circuit shown in FIG. 3 was used as the experimental method. That is, the sliding resistor 1 has a constant current source 20.
, And the contact 7 shown in FIGS. 4 and 5 is in contact with the sliding resistor 1. Then, the voltage was measured by the voltage measuring device 21 while sliding the contact 7 against the sliding resistor 1. At this time, 0.04 for the sliding resistor 1
The contact 7 is slid with a contact force of 9 N (Newton), the sliding speed is 400 cm / min, and the sliding width is 1
It was set to 0 mm.
【００１８】このように本実施例においては、ガラス基
板２（絶縁基材）上にＣｒ−Ａｕ−Ｏ系の薄膜よりなる
摺動抵抗体１を配置したので、摺動寿命を長くすること
ができる。つまり、摺動抵抗体としてＣｒ−Ａｕ−Ｏ系
の薄膜抵抗体を用いることによりＡｕの自己潤滑効果に
より摺動性に優れたものとなる。又、Ｃｒ−Ｏ系を用い
ることにより膜の硬度が高くなり耐摩耗性が向上する。As described above, in this embodiment, since the sliding resistor 1 made of a Cr--Au--O type thin film is arranged on the glass substrate 2 (insulating base material), the sliding life can be extended. it can. That is, by using a Cr-Au-O type thin film resistor as the sliding resistor, the self-lubricating effect of Au makes the sliding property excellent. Further, by using the Cr-O system, the hardness of the film is increased and the wear resistance is improved.
【００１９】尚、この実施例の応用例としては、薄膜の
摺動抵抗体１の形成法は、スパッタリングに限らず、イ
オンプレーティング法、蒸着法、プラズマＣＶＤ法等の
物理的蒸着法（ＰＶＤ）であっても、化学的蒸着法（Ｃ
ＶＤ）でもよい。As an application example of this embodiment, the method for forming the thin film sliding resistor 1 is not limited to sputtering, but physical vapor deposition methods (PVD, PVD, etc.) such as ion plating, vapor deposition and plasma CVD are also applicable. ), The chemical vapor deposition method (C
VD) may be used.
【００２０】又、電極３，４については特に設けずに、
直接摺動抵抗体から半田付やワイヤボンダ等によりリー
ド線を取り出すようにしてもよい。さらに、絶縁基材に
ついてもガラス基板に限らず、アルミナ、アルミナにガ
ラスコーティングしたもの、ステンレス鋼板にＳｉ
Ｏ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等の絶縁膜を付けたものでもよい。 （第２実施例）次に、第２実施例を第１実施例との相違
点を中心に説明する。Further, the electrodes 3 and 4 are not particularly provided,
You may make it take a lead wire directly from a sliding resistor by soldering or a wire bonder. Further, the insulating base material is not limited to the glass substrate, but alumina, alumina-glass-coated, stainless steel plate made of Si
It may be provided with an insulating film such as O 2 or Al 2 O 3 . (Second Embodiment) Next, the second embodiment will be described focusing on the differences from the first embodiment.
【００２１】図６に本実施例によって製作された摺動抵
抗体を示す。本実施例では、第１実施例での薄膜の摺動
抵抗体１に対し、コーティング層８を一層付加すること
により、摺動寿命をさらに向上させている。FIG. 6 shows a sliding resistor manufactured according to this embodiment. In this embodiment, the sliding life is further improved by adding one coating layer 8 to the thin-film sliding resistor 1 of the first embodiment.
【００２２】コーティング層８としてカーボン（Ｃ）を
抵抗加熱式の蒸発装置にて５００Å蒸着したものを使用
している。このようにして得られた摺動抵抗体の摺動寿
命を測定したところ第１実施例よりもさらに寿命が向上
し、２０００万回以上の摺動寿命が得られた。As the coating layer 8, carbon (C) vapor-deposited by a resistance heating type vaporizer of 500 liters is used. When the sliding life of the thus obtained sliding resistor was measured, the life was further improved as compared with the first embodiment, and a sliding life of 20 million times or more was obtained.
【００２３】本第２実施例の応用例としては、コーティ
ング層８としてＡｕをスパッタリング装置で付加しても
よい。Ａｕを３０００Å付加した場合には、２０００万
回以上の摺動寿命が得られた。As an application example of the second embodiment, Au may be added as the coating layer 8 by a sputtering device. When 3000 Å of Au was added, a sliding life of 20 million times or more was obtained.
【００２４】このように本実施例では、Ｃｒ−Ａｕ−Ｏ
からなる薄膜抵抗体の上にＡｕ又はカーボンからなるコ
ーティング膜を施すことにより摩耗に対する初期なじみ
効果により長寿命化が図れる。 （第３実施例）次に、第３実施例を第１実施例との相違
点を中心に説明する。As described above, in the present embodiment, Cr-Au-O is used.
By applying a coating film made of Au or carbon on the thin film resistor made of, it is possible to prolong the life due to the initial familiarizing effect against wear. (Third Embodiment) Next, the third embodiment will be described focusing on the differences from the first embodiment.
【００２５】図２と同様に、絶縁基材としてのガラス基
板２上にはＣｒ−Ｎ−Ｏ系の薄膜よりなる摺動抵抗体１
が配置されている。この摺動抵抗体１は二元同時スパッ
タリング法により形成したものである。製法は、ガラス
基板２をスパッタリング装置内に取付け、装置内を５×
１０-6Ｔorr 以下に真空排気する。そして、ＡｒにＯ 2
を１０％、さらにＮ2 を２０％加えたガスを上記装置内
に５×１０-3Ｔorr 導入し、Ｃｒターゲットに対しＲＦ
５４０Ｗの電力を印加して３０分間スパッタリングを行
う。As in FIG. 2, a glass substrate as an insulating substrate is used.
A sliding resistor 1 made of a Cr—N—O type thin film is provided on the plate 2.
Are arranged. This sliding resistor 1 is a dual simultaneous spatter.
It is formed by the tarring method. The manufacturing method is glass
Attach the substrate 2 to the sputtering equipment and move the inside of the equipment to 5 x
10-6Evacuate below Torr. And O for Ar 2
10%, and N2Gas with 20% added in the above equipment
5 × 10-3Torr introduced, RF to Cr target
Apply 540W power and sputter for 30 minutes.
U
【００２６】このようにして得られた摺動抵抗体の組成
はＣｒが５０原子％，窒素が３０原子％，酸素が２０原
子％である。又、摺動抵抗体１の膜厚は３μｍである。
このようにして得られた摺動抵抗体１の寿命は、従来の
カーボン系が２００〜３００万回なのに対し２０００万
回以上の摺動寿命が得られた。The composition of the sliding resistor thus obtained is 50 atomic% of Cr, 30 atomic% of nitrogen and 20 atomic% of oxygen. The film thickness of the sliding resistor 1 is 3 μm.
The sliding resistor 1 thus obtained has a life of 20 million times or more as compared with the conventional carbon type having a life of 2 to 3 million times.
【００２７】尚、実験方法としては、図３に示した接触
抵抗の測定回路を用いた。つまり、摺動抵抗体１に対し
コンタクト７を摺動させながら定電流源２０より電流を
流し、電圧測定器２１により電圧を測定した。このと
き、摺動抵抗体１に対し０．０５Ｎ（ニュートン）の接
触力を印加し、かつ摺動速度は５０〜４００ｃｍ／ｍｉ
ｎとした。As a test method, the contact resistance measuring circuit shown in FIG. 3 was used. That is, a current was passed from the constant current source 20 while sliding the contact 7 with respect to the sliding resistor 1, and the voltage was measured by the voltage measuring device 21. At this time, a contact force of 0.05 N (Newton) is applied to the sliding resistor 1, and the sliding speed is 50 to 400 cm / mi.
It was set to n.
【００２８】このように本実施例においては、ガラス基
板（絶縁基板）１の上にＣｒ−Ｎ−Ｏ系の薄膜よりなる
摺動抵抗体１を配置したので、摺動寿命を長くすること
ができる。つまり、上記材料を使用することにより、膜
の硬度が高くなり（Ｈv １５００〜２０００）耐アブレ
ッシブ摩耗性が向上する。さらに、Ｃｒ−Ｎ−Ｏという
原子間結合力の強い材料を使用することにより異種材料
からなるコンタクトとの耐凝着摩耗性も向上する。又、
Ｃｒに対する窒素（Ｎ）と酸素（Ｏ）の比率をＣｒ＝３
０〜７５原子％，Ｎ＝２０〜５０原子％，Ｏ＝１〜３０
原子％の間に変化させることにより、比抵抗を１×１０
-4〜１×１０+2Ω・ｃｍの間に自在に可変できる。又、
酸素を上記の比率に保持することでガラス，セラミック
系下地基板との密着力を実用上充分に確保することがで
きる。As described above, in this embodiment, since the sliding resistor 1 made of a Cr--N--O type thin film is arranged on the glass substrate (insulating substrate) 1, the sliding life can be extended. it can. That is, by using the above materials, the hardness of the film is increased (Hv 1500 to 2000) and the abrasive wear resistance is improved. Furthermore, the use of Cr—N—O, which is a material having a strong interatomic bond strength, also improves the resistance to cohesive wear with contacts made of different materials. or,
The ratio of nitrogen (N) and oxygen (O) to Cr is Cr = 3
0-75 atom%, N = 20-50 atom%, O = 1-30
By changing it between atomic%, the specific resistance is 1 × 10.
It can be freely changed within the range of -4 to 1 × 10 +2 Ω · cm. or,
By keeping oxygen in the above ratio, it is possible to sufficiently secure the adhesion to the glass or ceramic base substrate practically.
【００２９】尚、本摺動抵抗体１の形成法はスパッタリ
ングに限らず、イオンプレーティング法，蒸着法等の物
理的蒸着法（ＰＶＤ）であっても、化学的蒸着法（ＣＶ
Ｄ）等の薄膜形成技術でも、又、上記組成の微粉末を作
り、これをペーストに加工することによりスクリーン印
刷等で膜を形成してもよい。又、絶縁基材についても、
ガラス基板に限らずＡｌ2 Ｏ3 等のセラミックス基板，
あるいは，セラミックス基板にガラスコーティングした
もの，ステンレス鋼板等の金属板にＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ
3 等の絶縁膜を付けたものでもよい。 （第４実施例）次に、第４実施例を第３実施例との相違
点を中心に説明する。The method of forming the sliding resistor 1 is not limited to sputtering, but may be physical vapor deposition (PVD) such as ion plating or vapor deposition, but chemical vapor deposition (CV).
A thin film forming technique such as D) may also be used, or a fine powder having the above composition may be prepared and processed into a paste to form a film by screen printing or the like. Also, regarding the insulating base material,
Not limited to glass substrates, ceramic substrates such as Al 2 O 3
Alternatively, a ceramic substrate coated with glass, a metal plate such as a stainless steel plate, or SiO 2 , Al 2 O
It may have an insulating film such as 3 . (Fourth Embodiment) Next, the fourth embodiment will be described focusing on the differences from the third embodiment.
【００３０】本実施例では、図６に示したように第３実
施例の摺動抵抗体１に対しコーティング層８を一層付加
することにより摺動寿命をさらに向上させている。コー
ティング層８として、カーボン（Ｃ）を５００Å蒸着し
たものを使用することにより第３実施よりさらに寿命が
向上し、３０００万回以上の摺動寿命が得られた。In this embodiment, as shown in FIG. 6, the sliding life is further improved by adding one coating layer 8 to the sliding resistor 1 of the third embodiment. By using the carbon layer (C) vapor-deposited with 500 Å as the coating layer 8, the life was further improved as compared with the third embodiment, and a sliding life of 30 million cycles or more was obtained.
【００３１】第４実施例の応用例として、コーティング
層８としてＡｕをスパッタリング又は蒸着装置で付加し
てもよい。Ａｕを２０００〜３０００Å付加した場合に
は３０００万回以上の摺動寿命が得られた。As an application example of the fourth embodiment, Au may be added as the coating layer 8 by a sputtering or vapor deposition apparatus. When Au was added in an amount of 2000 to 3000Å, a sliding life of 30 million cycles or more was obtained.
【００３２】このようにして、Ｃｒ−Ｎ−Ｏ系からなる
抵抗体の上にカーボン又はＡｕからなるコーティング膜
を施すことで摩耗に対する初期なじみ効果、及びカーボ
ン，Ａｕの自己潤滑効果により摩耗量を低減し、又、こ
れに伴い電気的摺動ノイズも低く抑制することができ、
長寿命化が図れる。In this way, by applying the coating film made of carbon or Au on the resistor made of Cr-NO system, the wear-in amount is improved by the initial familiarizing effect against wear and the self-lubricating effect of carbon and Au. And the electrical sliding noise can be suppressed to a low level.
The life can be extended.
【００３３】[0033]
【発明の効果】以上詳述したようにこの発明によれば、
摺動寿命を長くすることができる優れた効果がある。As described above in detail, according to the present invention,
There is an excellent effect that the sliding life can be extended.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図１】摺動抵抗体を用いたスロットルセンサの要部の
斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a main part of a throttle sensor using a sliding resistor.
【図２】図１をＡ矢印方向から見た断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of FIG. 1 viewed from a direction of an arrow A.
【図３】実験のための回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram for an experiment.
【図４】実験に用いたコンタクトの平面図である。FIG. 4 is a plan view of a contact used in an experiment.
【図５】実験に用いたコンタクトの側面図である。FIG. 5 is a side view of a contact used in an experiment.
【図６】第２，４実施例の断面図である。FIG. 6 is a sectional view of the second and fourth embodiments.
１ 摺動抵抗体 ２ 絶縁基材としてのガラス基板 ８ コーティング層 1 Sliding resistor 2 Glass substrate as insulating base 8 Coating layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 有賀 勝彦 愛知県刈谷市昭和町１丁目１番地 日本電 装 株式会社内 (72)発明者 内田 公雄 愛知県刈谷市昭和町１丁目１番地 日本電 装 株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Katsuhiko Ariga 1-1, Showa-cho, Kariya city, Aichi Nihon Denso Co., Ltd. (72) Inventor Kimio Uchida 1-1-cho, Showa-machi, Kariya city, Aichi Nidec Within the corporation
Claims (3)
系の薄膜よりなることを特徴とする摺動抵抗体。1. A Cr—Au—O disposed on an insulating substrate.
A sliding resistor comprising a thin film of a system.
の薄膜よりなることを特徴とする摺動抵抗体。2. A sliding resistor which is disposed on an insulating base material and is made of a Cr—N—O type thin film.
で覆った請求項１又は請求項２に記載の摺動抵抗体。3. The sliding resistor according to claim 1, wherein the thin film is covered with a coating film of Au or C.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5088907A JPH06124808A (en) | 1992-08-24 | 1993-04-15 | Sliding resistor |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4-224365 | 1992-08-24 | ||
| JP22436592 | 1992-08-24 | ||
| JP5088907A JPH06124808A (en) | 1992-08-24 | 1993-04-15 | Sliding resistor |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06124808A true JPH06124808A (en) | 1994-05-06 |
Family
ID=26430247
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5088907A Withdrawn JPH06124808A (en) | 1992-08-24 | 1993-04-15 | Sliding resistor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06124808A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1151793A (en) * | 1997-07-31 | 1999-02-26 | Matsushita Electric Works Ltd | Thin-film element and its manufacture |
-
1993
- 1993-04-15 JP JP5088907A patent/JPH06124808A/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1151793A (en) * | 1997-07-31 | 1999-02-26 | Matsushita Electric Works Ltd | Thin-film element and its manufacture |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000704 |