JPH06121971A - Washing device - Google Patents

Washing device

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Publication number
JPH06121971A
JPH06121971A JP30370092A JP30370092A JPH06121971A JP H06121971 A JPH06121971 A JP H06121971A JP 30370092 A JP30370092 A JP 30370092A JP 30370092 A JP30370092 A JP 30370092A JP H06121971 A JPH06121971 A JP H06121971A
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JP
Japan
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cleaning
tank
cleaning liquid
liquid
contaminated
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JP30370092A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshihide Shibano
佳英 柴野
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Individual
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Abstract

PURPOSE:To provide the washing device which can decrease the amt. of the contamination washing liquid to be thrown. CONSTITUTION:A work 4 is immersed into a washing liquid 3 housed in a washing tank 1 and is subjected to washing. This washing tank 1 is provided with an outflow port 8 and an inflow port 9. A contamination washing liquid separating means 11 for taking the contamination washing liquid 3 contg. the contaminants by washing of the work 4 out of the outflow port 8 and separating the contamination washing liquid 3 contg. the concd. contaminants and the washing liquid 3 substantially free from contaminants is provided. A storage tank 12 is provided between the washing tank 1 and the contamination washing liquid separating means 1. A contamination washing liquid circulating means 15 for taking the contamination washing liquid 3 contg. the concd. contaminant out of the contamination washing liquid separating means 11 and circulating the liquid to the storage tank 12 is provided. The storage tank 12 is provided with a contamination washing liquid throwing means 12a for throwing the contamination washing liquid 3. A contamination washing liquid circulating means 14 for taking the washing liquid 3 contg. substantially no contaminants out of the contamination washing liquid separating means 11 and circulating the washing liquid to the washing tank 1 from the inflow port 9 is provided.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、洗浄槽に収容された洗
浄液にワークを浸漬して洗浄する洗浄装置に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning device for cleaning a work by immersing it in a cleaning liquid contained in a cleaning tank.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、製造業の各分野では製造された加
工品を最終製品とする前に洗浄することが一般的であ
る。前記洗浄は製造中に付着した材料屑及び油分や、加
工されずに残存している原料等の異物、汚れ等を除去す
るために行われるものであり、このような洗浄に使用さ
れる各種洗浄装置が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in each field of the manufacturing industry, it is common to wash manufactured processed products before making them final products. The cleaning is performed to remove material scraps and oil adhered during manufacturing, and foreign materials such as raw materials remaining unprocessed and dirt, and various cleanings used for such cleaning. The device is known.

【0003】例えば、タングステン−コバルト合金製超
硬チップ等の表面の異物を酸で洗浄する酸洗装置が知ら
れている。前記超硬チップはタングステン及びコバルト
のそれぞれ単体の金属粉末を適当な割合で混合したのち
焼結して製造されているが、焼結により合金化した粒子
の間隙に合金化されていない原料の単体コバルト粉末が
残存する。前記超硬チップはその表層部に前記原料のコ
バルト粉末が存在すると、超硬チップとして所期の物性
が得られないことがあるので、前記酸洗装置により残存
する原料のコバルト粉末を溶解除去している。
For example, there is known a pickling apparatus for cleaning foreign substances on the surface of a tungsten-cobalt alloy cemented carbide chip with an acid. The cemented carbide chip is manufactured by mixing metal powders of tungsten and cobalt alone in appropriate proportions and then sintering, but a single substance of the raw material which is not alloyed in the gap of the particles alloyed by sintering. Cobalt powder remains. When the raw material cobalt powder is present in the surface layer of the cemented carbide tip, desired physical properties may not be obtained as the cemented carbide tip, so the remaining raw material cobalt powder is dissolved and removed by the pickling device. ing.

【0004】前記超硬チップの酸による洗浄は、例えば
10%程度の希硝酸が収容された酸洗槽に前記超硬チッ
プを所定時間、例えば10分程度浸漬することにより行
われている。このような装置では、前記酸洗槽に収容さ
れている希硝酸は前記超硬チップが浸漬されるたびにそ
の表層部のコバルト粒子と反応し硝酸コバルトを生成す
るので次第に酸化力が低減し、希硝酸の1つのバッチの
初期と末期とでは製品ごとの洗浄品質のバラツキが大き
くなる。前記バラツキを低減するために、前記酸洗槽中
の希硝酸の濃度を測定し、所定の酸化力が失われた時点
で希硝酸を交換することが考えられるが、希硝酸の濃度
は通常は硝酸イオン濃度により測定されるので、前記酸
洗槽中では希硝酸自体の濃度と生成した硝酸コバルトの
濃度との合計として示され、希硝酸自体の濃度を把握す
ることが難しい。
The cleaning of the cemented carbide chips with an acid is carried out by immersing the cemented carbide chips in a pickling tank containing about 10% dilute nitric acid for a predetermined time, for example, about 10 minutes. In such an apparatus, the dilute nitric acid contained in the pickling tank reacts with the cobalt particles in the surface layer every time the cemented carbide tip is immersed to form cobalt nitrate, so that the oxidizing power is gradually reduced, There is a large variation in cleaning quality from product to product at the beginning and end of one batch of nitric acid. In order to reduce the variation, it is possible to measure the concentration of dilute nitric acid in the pickling tank and replace the dilute nitric acid when the predetermined oxidizing power is lost, but the concentration of dilute nitric acid is usually Since it is measured by the nitrate ion concentration, it is shown as the total of the concentration of the dilute nitric acid itself and the concentration of the produced cobalt nitrate in the pickling tank, and it is difficult to grasp the concentration of the dilute nitric acid itself.

【0005】そこで、前記酸洗槽を使用するときには、
希硝酸の濃度を測定する代わりに、所定数の前記超硬チ
ップを洗浄した希硝酸は所定の酸化力が失われたものと
見做して全量廃棄し、新しい希硝酸と交換するようにし
ている。しかしながら、前記希硝酸の交換は通常の規模
で酸洗を行うときには5〜6時間に1回の割りで行われ
るので、反応生成物で汚染された希硝酸の廃棄量が大量
になり、しかも前記希硝酸は重金属を含むので大がかり
な排水処理設備を必要とするとの不都合がある。
Therefore, when using the pickling tank,
Instead of measuring the concentration of dilute nitric acid, the dilute nitric acid obtained by washing a predetermined number of the cemented carbide chips is considered to have lost the predetermined oxidizing power, and all is discarded, so that it is replaced with new dilute nitric acid. There is. However, since the dilute nitric acid is exchanged once every 5 to 6 hours when the pickling is performed on a normal scale, a large amount of dilute nitric acid contaminated with the reaction product is discarded, and Since dilute nitric acid contains heavy metals, there is a disadvantage that a large-scale wastewater treatment facility is required.

【0006】また、近年超音波を用いる洗浄方法が普及
するに伴い、前記酸洗槽にて超音波洗浄を併用すること
が試みられている。超音波洗浄を併用するときには、酸
と超音波との相乗効果により、前記超硬チップをさらに
効率よく洗浄することができるが、その結果、前記反応
生成物の生成量も増大するので、前記酸洗槽に供給され
ている希硝酸の酸化力の低減が甚だしく、前記希硝酸の
交換頻度が増大し、前記反応生成物で汚染された希硝酸
の廃棄量がさらに大量になる。
Further, with the recent spread of cleaning methods using ultrasonic waves, it has been attempted to use ultrasonic cleaning in the pickling tank together. When ultrasonic cleaning is used in combination, the cemented carbide tip can be cleaned more efficiently by the synergistic effect of acid and ultrasonic waves, but as a result, the amount of the reaction product produced also increases, so The oxidizing power of the dilute nitric acid supplied to the washing tank is extremely reduced, the frequency of exchanging the dilute nitric acid is increased, and the amount of dilute nitric acid contaminated with the reaction product is further increased.

【0007】また、酸を用いず、ワークの表面の洗浄を
行う超音波洗浄装置も知られている。このような超音波
洗浄装置は、例えば、金属材料に切削加工、中ぐり加
工、研磨加工等を施したり、ガラス、セラミックス等に
切削加工を施したり、或はプラスチックの押出し成形、
射出成形等により製造される成形加工品の表面に付着し
ているバリ、材料屑、油分等を除去するために使用され
るもので、一般に、底部に超音波振動子を備えた洗浄槽
に洗浄液を収容してなる超音波洗浄槽、超音波洗浄槽で
洗浄されたワークをリンスするリンス洗浄槽、リンス洗
浄されたワークを乾燥する乾燥手段を備えている。
An ultrasonic cleaning device for cleaning the surface of a work without using an acid is also known. Such an ultrasonic cleaning device may be used, for example, to perform cutting, boring, polishing, etc. on a metal material, cutting on glass, ceramics, etc., or extrusion molding of plastic,
It is used to remove burrs, material scraps, oil, etc. adhering to the surface of molded products manufactured by injection molding, etc. Generally, a cleaning liquid is used in a cleaning tank equipped with an ultrasonic vibrator at the bottom. And an rinsing cleaning tank for rinsing the workpiece cleaned in the ultrasonic cleaning tank, and a drying unit for drying the rinse-cleaned workpiece.

【0008】前記成形加工品は、まず、前記超音波洗浄
槽に収容された洗浄液に浸漬され、超音波振動子から前
記洗浄液に超音波が放射される。すると、前記超音波に
より前記洗浄液中にキャビテーションが生じ、前記成形
加工品は該キャビテーションの崩壊に伴って発生する衝
撃波に曝されることにより、その表面に付着している材
料屑、油分等が除去される。前記洗浄液が水系溶剤であ
るときには、油分を乳化して除去しやすくするために界
面活性剤などの洗剤を含む洗浄液が使用されることが多
い。
The molded product is first immersed in the cleaning liquid contained in the ultrasonic cleaning tank, and ultrasonic waves are radiated from the ultrasonic vibrator to the cleaning liquid. Then, cavitation is generated in the cleaning liquid by the ultrasonic waves, and the molded product is exposed to a shock wave generated due to the collapse of the cavitation, thereby removing material scraps, oil, etc. adhering to the surface thereof. To be done. When the cleaning liquid is an aqueous solvent, a cleaning liquid containing a detergent such as a surfactant is often used in order to emulsify and easily remove the oil.

【0009】尚、前記超音波洗浄槽では前記洗浄液を循
環させて使用することが一般的であり、前記超音波洗浄
槽に洗浄液流出口及び洗浄液流入口を設け、洗浄液流出
口から超音波洗浄槽外に取り出された洗浄液を、油分の
除去、材料屑等の異物の濾別、脱気等の所定の処理のの
ち、再び洗浄液流入口から超音波洗浄槽に戻すようにな
っている。
The ultrasonic cleaning tank is generally used by circulating the cleaning liquid. The ultrasonic cleaning tank is provided with a cleaning liquid outflow port and a cleaning liquid inflow port, and the cleaning liquid outflow port is connected to the ultrasonic cleaning tank. The cleaning liquid taken out is subjected to a predetermined treatment such as removal of oil content, filtration of foreign matter such as material scraps, deaeration, etc., and then is returned to the ultrasonic cleaning tank from the cleaning liquid inlet.

【0010】前記成形加工品は、超音波洗浄槽で洗浄さ
れたのち、続いてリンス洗浄槽に浸漬される。前記リン
ス洗浄槽にはリンス液が収容されており、前記成形加工
品に付着して超音波洗浄槽から持ち込まれる洗浄液がリ
ンス洗浄される。前記リンス洗浄槽は底部に超音波振動
子が備えられて、ワークをリンス液に浸漬したときにリ
ンス液に超音波を放射するようになっており、前記リン
ス液としては通常水道水が使用される。前記リンス液
は、ワークのリンス効果を向上させるためワークをリン
ス洗浄するたびに廃棄される。
The molded product is cleaned in an ultrasonic cleaning tank and then immersed in a rinse cleaning tank. A rinse liquid is stored in the rinse cleaning tank, and the cleaning liquid that adheres to the molded product and is brought into the ultrasonic cleaning tank is rinsed. The rinse cleaning tank is provided with an ultrasonic transducer at the bottom, so that when the work is immersed in the rinse liquid, ultrasonic waves are emitted to the rinse liquid, and tap water is usually used as the rinse liquid. It The rinse liquid is discarded every time the work is rinsed to improve the rinse effect of the work.

【0011】そして、前記成形加工品は、リンス洗浄槽
で洗浄されたのち、最後に乾燥手段で乾燥され、最終製
品となる。
Then, the molded product is washed in a rinse washing tank and finally dried by a drying means to obtain a final product.

【0012】前記超音波洗浄装置によれば、前記成形加
工品は洗浄液及びリンス液に浸漬することにより洗浄さ
れるので、機械部品のような小型のものであっても、一
度に大量に処理できるので、効率よく洗浄することがで
きる。しかしながら、前記超音波洗浄装置では、超音波
洗浄槽の洗浄液は前記のように循環使用されるものの、
リンス洗浄槽では前記成形加工品に付着して超音波洗浄
槽から持ち込まれる洗浄液により汚染されたリンス液が
前記成形加工品をリンス洗浄するたびに廃棄されるので
その廃棄量が大量になるとの不都合がある。
According to the ultrasonic cleaning apparatus, since the molded product is cleaned by immersing it in the cleaning liquid and the rinse liquid, even a small machine part such as a machine part can be processed in a large amount at one time. Therefore, it can be efficiently washed. However, in the ultrasonic cleaning device, although the cleaning liquid in the ultrasonic cleaning tank is circulated and used as described above,
In the rinse cleaning tank, the rinse liquid contaminated by the cleaning liquid adhering to the molded product and brought in from the ultrasonic cleaning tank is discarded every time the molded product is rinse-cleaned, so that the waste amount becomes large. There is.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる不都
合を解消して、汚染洗浄液の廃棄量を低減することがで
きる洗浄装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a cleaning device capable of eliminating such inconvenience and reducing the amount of contaminated cleaning liquid to be discarded.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、本発明の洗浄装置は、洗浄槽に収容された洗浄液
中にワークを浸漬して該ワークの洗浄を行う洗浄装置で
あって、該洗浄槽内の洗浄により該ワークから除去され
た汚染物質を含む汚染洗浄液を該洗浄槽外から取り出し
て該汚染物質が濃縮された汚染洗浄液と実質的に該汚染
物質を含まない洗浄液とに分離する汚染洗浄液分離手段
を設け、該汚染洗浄液分離手段から該汚染物質が濃縮さ
れた汚染洗浄液を取り出して廃棄する汚染洗浄液廃棄手
段を設け、該汚染洗浄液分離手段から実質的に該汚染物
質を含まない洗浄液を取り出して該洗浄槽に循環させる
洗浄液循環手段を設けてなることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a cleaning apparatus of the present invention is a cleaning apparatus for cleaning a work by immersing the work in a cleaning liquid contained in a cleaning tank. A contaminated cleaning liquid containing contaminants removed from the work by cleaning in the cleaning tank is taken out of the cleaning tank and separated into a contaminated cleaning liquid in which the contaminants are concentrated and a cleaning liquid substantially free of the contaminants. A contaminated cleaning liquid separating means is provided, and a contaminated cleaning liquid disposal means for taking out and discarding the contaminated cleaning liquid concentrated with the contaminated cleaning liquid from the contaminated cleaning liquid separating means is provided, and the contaminated cleaning liquid separating means does not substantially contain the contaminant. It is characterized in that a cleaning liquid circulating means for taking out the cleaning liquid and circulating it in the cleaning tank is provided.

【0015】前記汚染洗浄液分離手段としては、例え
ば、東レ株式会社製酢酸セルロース系またはポリエーテ
ル系複合膜等の限外濾過膜を使用するモジュールが適し
ている。前記限外濾過膜は、分離すべき汚染物質によ
り、それぞれ好適なものが選択して使用される。
As the means for separating the contaminated cleaning liquid, for example, a module using an ultrafiltration membrane such as a cellulose acetate-based or polyether-based composite membrane manufactured by Toray Industries, Inc. is suitable. The ultrafiltration membrane is selected and used depending on the contaminants to be separated.

【0016】本発明の洗浄装置は、前記洗浄槽と前記汚
染洗浄液分離手段との間に前記汚染洗浄液を一時貯留す
る貯留槽を設け、前記汚染洗浄液分離手段から前記汚染
物質が濃縮された洗浄液を取り出して該貯留槽に循環さ
せる汚染洗浄液循環手段を設け、該貯留槽に前記汚染洗
浄液廃棄手段を設けてなる。
In the cleaning apparatus of the present invention, a storage tank for temporarily storing the contaminated cleaning liquid is provided between the cleaning tank and the contaminated cleaning liquid separating means, and the cleaning liquid in which the contaminants are concentrated is collected from the contaminated cleaning liquid separating means. Contaminant cleaning liquid circulation means for taking out and circulating it in the storage tank is provided, and the storage tank is provided with the contaminated cleaning liquid disposal means.

【0017】本発明の洗浄装置は、前記洗浄槽が洗浄槽
に収容された酸溶液にワークを浸漬して該酸溶液と該ワ
ークの表層部とを反応させて反応生成物を該酸溶液に溶
解させることにより該ワークの表面を洗浄する酸洗槽で
あって、該反応生成物を前記汚染物質として含む酸溶液
が前記汚染洗浄液循環手段により該反応生成物が濃縮さ
れた酸溶液と実質的に該反応生成物を含まない酸溶液と
に分離されることを特徴とする。
In the cleaning apparatus of the present invention, the cleaning tank is immersed in an acid solution housed in the cleaning tank to cause the reaction between the acid solution and the surface layer of the workpiece to convert the reaction product into the acid solution. A pickling tank for cleaning the surface of the work by dissolving, wherein the acid solution containing the reaction product as the contaminant is substantially the same as the acid solution in which the reaction product is concentrated by the contaminated cleaning solution circulating means. Is separated into an acid solution containing no reaction product.

【0018】また、本発明の洗浄装置は、前記洗浄槽が
他の洗浄槽で洗浄されたワークをリンスして該ワークに
付着している該他の洗浄槽で使用された他の洗浄液の濯
ぎを行うリンス洗浄槽であって、該他の洗浄液を前記汚
染物質として含むリンス液が前記汚染洗浄液循環手段に
より該他の洗浄液が濃縮されたリンス液と実質的に該他
の洗浄液を含まないリンス液とに分離されることを特徴
とする。
Further, in the cleaning apparatus of the present invention, the cleaning tank rinses a work cleaned in another cleaning tank and rinses another cleaning liquid used in the other cleaning tank adhering to the work. In the rinse cleaning tank, the rinse liquid containing the other cleaning liquid as the contaminant is a rinse liquid in which the other cleaning liquid is concentrated by the contaminated cleaning liquid circulating means, and the rinse liquid is substantially free of the other cleaning liquid. It is characterized in that it is separated into a liquid.

【0019】本発明の洗浄装置では、前記洗浄槽がリン
ス洗浄槽であって前記他の洗浄液が洗剤を含むときに
は、前記リンス洗浄槽と前記汚染洗浄液分離手段との間
に、該洗剤に乳化されている油分を除去する乳化油分除
去手段を設ける。
In the cleaning apparatus of the present invention, when the cleaning tank is a rinse cleaning tank and the other cleaning liquid contains a detergent, it is emulsified in the detergent between the rinse cleaning tank and the contaminated cleaning liquid separating means. A means for removing emulsified oil is provided to remove the oil that has accumulated.

【0020】本発明の洗浄装置は、前記洗浄槽が底部に
超音波振動子を備えてなる超音波洗浄槽であってもよ
い。
The cleaning apparatus of the present invention may be an ultrasonic cleaning tank in which the cleaning tank has an ultrasonic vibrator at the bottom.

【0021】[0021]

【作用】本発明の洗浄装置によれば、洗浄槽内で洗浄す
ることによりワークから除去された汚染物質を含む汚染
洗浄液は、前記洗浄槽から取り出され、汚染洗浄液分離
手段に供給される。次に、前記汚染洗浄液は、前記汚染
洗浄液分離手段により、汚染物質が濃縮された汚染洗浄
液と、実質的に汚染物質質を含まない洗浄液とに分離さ
れる。
According to the cleaning apparatus of the present invention, the contaminated cleaning liquid containing the contaminants removed from the work by cleaning in the cleaning tank is taken out from the cleaning tank and supplied to the contaminated cleaning liquid separating means. Next, the contaminated cleaning liquid is separated by the contaminated cleaning liquid separating means into a contaminated cleaning liquid in which contaminants are concentrated and a cleaning liquid substantially free of contaminant substances.

【0022】そして、前記汚染洗浄液分離手段から取出
された前記汚染物質が濃縮された汚染洗浄液のみが汚染
洗浄液廃棄手段により廃棄され、実質的に汚染物質質を
含まない洗浄液は洗浄液循環手段により前記洗浄槽に戻
される。従って、本発明の洗浄装置によれば、汚染洗浄
液は前記汚染洗浄液分離手段により濃縮されて廃棄され
るのでその廃棄量が低減されると共に、前記汚染洗浄液
分離手段により分離された実質的に汚染物質質を含まな
い洗浄液は前記洗浄槽に戻されて再使用に供されるので
洗浄液自体の節約にもなる。
Then, only the contaminated cleaning liquid, which is the contaminated cleaning liquid separated from the contaminated cleaning liquid separating means, is discarded by the contaminated cleaning liquid discarding means, and the cleaning liquid containing substantially no contaminant material is washed by the cleaning liquid circulating means. Returned to the tank. Therefore, according to the cleaning apparatus of the present invention, the contaminated cleaning liquid is concentrated and discarded by the contaminated cleaning liquid separation means, so that the amount of waste is reduced and the substantially contaminated substance separated by the contaminated cleaning liquid separation means is reduced. Since the cleaning liquid containing no quality is returned to the cleaning tank for reuse, the cleaning liquid itself can be saved.

【0023】また、本発明の洗浄装置によれば、前記洗
浄槽と前記汚染洗浄液分離手段との間に前記汚染洗浄液
を一時貯留する貯留槽を設け、前記汚染洗浄液分離手段
から前記汚染物質が濃縮された洗浄液を取り出して該貯
留槽に循環させる汚染洗浄液循環手段を設けることによ
り、前記汚染洗浄液分離手段により濃縮された汚染洗浄
液が前記汚染洗浄液循環手段により前記貯留槽に供給さ
れ、前記貯留槽から再び前記汚染洗浄液分離手段に供給
されるので、前記貯留槽中にさらに濃縮された汚染洗浄
液が得られる。従って、前記貯留槽に前記汚染洗浄液廃
棄手段を設けることにより、前記汚染洗浄液がさらに濃
縮されて廃棄され、汚染洗浄液の廃棄量がさらに低減さ
れる。
Further, according to the cleaning apparatus of the present invention, a storage tank for temporarily storing the contaminated cleaning liquid is provided between the cleaning tank and the contaminated cleaning liquid separating means, and the contaminant is concentrated from the contaminated cleaning liquid separating means. By providing the contaminated cleaning liquid circulating means for taking out the cleaned cleaning liquid and circulating it in the storage tank, the contaminated cleaning liquid concentrated by the contaminated cleaning liquid separating means is supplied to the storage tank by the contaminated cleaning liquid circulation means, and is discharged from the storage tank. The contaminated cleaning liquid is supplied to the contaminated cleaning liquid separating means again, so that the contaminated cleaning liquid further concentrated in the storage tank can be obtained. Therefore, by providing the contaminated cleaning liquid discarding means in the storage tank, the contaminated cleaning liquid is further concentrated and discarded, and the amount of the contaminated cleaning liquid discarded is further reduced.

【0024】本発明の洗浄装置では、前記洗浄槽が酸洗
槽であるときには、酸洗による反応生成物を汚染物質と
して含む酸溶液が、前記汚染洗浄液分離手段により反応
生成物が濃縮された酸溶液と実質的に反応生成物が含ま
ない酸溶液とに分離される。そして、前記汚染洗浄液分
離手段から取出された前記反応生成物が濃縮された酸溶
液のみが汚染洗浄液廃棄手段により廃棄され、実質的に
反応生成物を含まない酸溶液が洗浄液循環手段により前
記酸洗槽に戻される。
In the cleaning apparatus of the present invention, when the cleaning tank is a pickling tank, the acid solution containing the reaction product of the pickling as a contaminant is an acid solution in which the reaction product is concentrated by the contaminated cleaning liquid separating means. The solution is separated into an acid solution that is substantially free of reaction products. Then, only the acid solution in which the reaction product extracted from the contaminated cleaning liquid separating means is concentrated is discarded by the contaminated cleaning liquid disposal means, and the acid solution substantially containing no reaction product is cleaned by the cleaning liquid circulation means. Returned to the tank.

【0025】また、本発明の洗浄装置で、前記洗浄槽が
他の洗浄槽で洗浄されたワークをリンスして該ワークに
付着している該他の洗浄液の濯ぎを行うリンス洗浄槽で
あるときには、前記他の洗浄液を汚染物質として含むリ
ンス液が、前記汚染洗浄液分離手段により前記他の洗浄
液が濃縮されたリンス液と実質的に前記他の洗浄液を含
まないリンス液とに分離される。そして、前記汚染洗浄
液分離手段から取出された前記他の洗浄液が濃縮された
リンス液のみが汚染洗浄液廃棄手段により廃棄され、実
質的に前記他の洗浄液を含まないリンス液が洗浄液循環
手段により前記リンス洗浄槽に戻される。
Further, in the cleaning apparatus of the present invention, when the cleaning tank is a rinse cleaning tank for rinsing a work cleaned in another cleaning tank and rinsing the other cleaning liquid adhering to the work. The rinse liquid containing the other cleaning liquid as a contaminant is separated by the contaminated cleaning liquid separating means into a rinse liquid in which the other cleaning liquid is concentrated and a rinse liquid substantially not containing the other cleaning liquid. Then, only the rinse liquid in which the other cleaning liquid extracted from the contaminated cleaning liquid separating means is concentrated is discarded by the contaminated cleaning liquid discarding means, and the rinse liquid substantially free of the other cleaning liquid is rinsed by the cleaning liquid circulating means. It is returned to the washing tank.

【0026】前記他の洗浄液が洗剤を含むときには、該
洗浄液にワークから除去された油分が乳化されて含まれ
ている。前記乳化油分は前記汚染洗浄液分離手段に供給
されると、前記汚染洗浄液分離手段により乳化状態が破
壊され、油分が前記汚染洗浄液分離手段の寿命を短縮す
る傾向がある。
When the other cleaning liquid contains a detergent, the cleaning liquid contains the oil removed from the work in an emulsified state. When the emulsified oil component is supplied to the contaminated cleaning liquid separating device, the emulsified state is destroyed by the contaminated cleaning liquid separating device, and the oil component tends to shorten the life of the contaminated cleaning liquid separating device.

【0027】そこで、前記洗浄槽がリンス洗浄槽であっ
て前記他の洗浄液が洗剤を含むときには、前記リンス洗
浄槽と前記汚染洗浄液分離手段との間に、前記洗剤に乳
化されている油分を除去する乳化油分除去手段を設ける
ことにより、前記汚染洗浄液分離手段の寿命が延長され
る。
Therefore, when the cleaning tank is a rinse cleaning tank and the other cleaning liquid contains a detergent, the oil component emulsified in the detergent is removed between the rinse cleaning tank and the contaminated cleaning liquid separating means. By providing the emulsified oil content removing means, the life of the contaminated cleaning liquid separating means is extended.

【0028】また、本発明の洗浄装置によれば、前記洗
浄槽が底部に超音波振動子を備える超音波洗浄槽である
ことにより、洗浄効率が向上される。この結果、超音波
を併用しない場合に比べて前記洗浄液の汚染物質濃度が
高くなるが、本発明の洗浄装置では前述のようにして前
記汚染洗浄液が濃縮されるので、前記汚染洗浄液の廃棄
量の増加が避けられる。
Further, according to the cleaning apparatus of the present invention, the cleaning efficiency is improved because the cleaning tank is an ultrasonic cleaning tank having an ultrasonic vibrator at the bottom. As a result, the concentration of pollutants in the cleaning liquid is higher than in the case where ultrasonic waves are not used together, but since the contaminated cleaning liquid is concentrated as described above in the cleaning device of the present invention, the amount of waste of the contaminated cleaning liquid is reduced. The increase can be avoided.

【0029】[0029]

【実施例】次に、添付の図面を参照しながら本発明の洗
浄装置についてさらに詳しく説明する。図1は本発明の
第1の実施例の洗浄装置の構成を示す模式図であり、図
2は本発明の第2の実施例の洗浄装置の構成を示す模式
図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the cleaning apparatus of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a schematic diagram showing the configuration of a cleaning apparatus according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic diagram showing the configuration of a cleaning apparatus according to the second embodiment of the present invention.

【0030】次に、本発明の第1の実施例について説明
する。
Next, a first embodiment of the present invention will be described.

【0031】図1に示す本発明の第1の実施例では、洗
浄槽1は酸洗槽であり、底部に超音波振動子2を備え洗
浄液として槽内に収容された希硝酸3にタングステン−
コバルト合金からなる超硬チップ4を浸漬したときに超
音波振動子2から希硝酸3に超音波を放射して希硝酸3
と超硬チップ4の表層部とを反応させて反応生成物を希
硝酸3に溶解させることにより超硬チップ4の洗浄を行
う超音波洗浄槽5と、超音波洗浄槽5に隣接して設けら
れ超音波洗浄槽5に超硬チップ4を浸漬したときにオー
バーフローする希硝酸3を収容するオーバーフロー槽6
とからなる。超音波洗浄槽5とオーバーフロー槽6と
は、傾斜した排液路7により接続されている。
In the first embodiment of the present invention shown in FIG. 1, the cleaning tank 1 is a pickling tank, and an ultrasonic vibrator 2 is provided at the bottom portion thereof.
When the carbide tip 4 made of a cobalt alloy is immersed, ultrasonic waves are radiated from the ultrasonic vibrator 2 to the dilute nitric acid 3 to dilute the nitric acid 3.
An ultrasonic cleaning tank 5 for cleaning the cemented carbide tip 4 by reacting the surface layer of the cemented carbide tip 4 with the reaction product in dilute nitric acid 3 and provided adjacent to the ultrasonic cleaning tank 5. An overflow tank 6 for containing dilute nitric acid 3 which overflows when the cemented carbide tip 4 is immersed in the ultrasonic cleaning tank 5.
Consists of. The ultrasonic cleaning tank 5 and the overflow tank 6 are connected by an inclined drainage path 7.

【0032】オーバーフロー槽6の上部には希硝酸3が
流出する流出口8が設けられており、酸洗槽5の側面に
は希硝酸3が流入する流入口9が設けられている。流入
口9は、流入する希硝酸3が超音波洗浄槽5内で超音波
振動子2に平行な層流を形成するようにする整流装置
(図示せず)を内蔵している。
An outlet 8 through which the dilute nitric acid 3 flows out is provided above the overflow tank 6, and an inlet 9 through which the dilute nitric acid 3 flows into is provided on the side surface of the pickling tank 5. The inflow port 9 has a built-in rectifying device (not shown) that allows the inflowing dilute nitric acid 3 to form a laminar flow parallel to the ultrasonic transducer 2 in the ultrasonic cleaning tank 5.

【0033】流出口8には導管10が設けられ、導管1
0は前記反応生成物を含む希硝酸3を反応生成物が濃縮
された希硝酸3と実質的に反応生成物を含まない希硝酸
3とに分離する限外濾過膜モジュール11に接続されて
おり、オーバーフロー槽6と限外濾過膜モジュール11
との間には、前記反応生成物を含む希硝酸3を一時貯留
する貯留槽12が設けられている。また、導管10の限
外濾過膜モジュール11と貯留槽12との間にはポンプ
13が設けられ、ポンプ13により貯留槽12に一時貯
留された希硝酸3を限外濾過膜モジュール11に供給す
るようになっている。
The outlet 8 is provided with a conduit 10, and the conduit 1
Reference numeral 0 is connected to an ultrafiltration membrane module 11 for separating the dilute nitric acid 3 containing the reaction product into the dilute nitric acid 3 in which the reaction product is concentrated and the dilute nitric acid 3 containing substantially no reaction product. , Overflow tank 6 and ultrafiltration membrane module 11
A storage tank 12 for temporarily storing the dilute nitric acid 3 containing the reaction product is provided between and. Further, a pump 13 is provided between the ultrafiltration membrane module 11 of the conduit 10 and the storage tank 12, and the diluted nitric acid 3 temporarily stored in the storage tank 12 is supplied to the ultrafiltration membrane module 11 by the pump 13. It is like this.

【0034】限外濾過膜モジュール11には、実質的に
反応生成物を含まない希硝酸3を取り出して洗浄槽1に
循環させる洗浄液循環手段として導管14が設けられ、
導管14は超音波洗浄槽5の流入口9に接続されてい
る。また、限外濾過膜モジュール11には、反応生成物
が濃縮された希硝酸3を取り出す汚染洗浄液循環手段と
して導管15が設けられ、導管15は貯留槽12に接続
されている。
The ultrafiltration membrane module 11 is provided with a conduit 14 as a cleaning liquid circulating means for taking out dilute nitric acid 3 substantially containing no reaction product and circulating it in the cleaning tank 1.
The conduit 14 is connected to the inflow port 9 of the ultrasonic cleaning tank 5. Further, the ultrafiltration membrane module 11 is provided with a conduit 15 as a contaminated cleaning liquid circulating means for taking out the diluted nitric acid 3 in which the reaction product is concentrated, and the conduit 15 is connected to the storage tank 12.

【0035】貯留槽12の底部には、限外濾過膜モジュ
ール11から取り出された反応生成物が濃縮された希硝
酸3を廃棄する汚染洗浄液廃棄手段として洗浄液廃棄用
導管12aが設けられており、洗浄液廃棄用導管12a
は付設された開閉弁12bにより適宜開閉できる様にな
っている。
At the bottom of the storage tank 12, there is provided a cleaning liquid discarding conduit 12a as a contaminated cleaning liquid discarding means for discarding the dilute nitric acid 3 in which the reaction product taken out from the ultrafiltration membrane module 11 is discarded. Cleaning liquid disposal conduit 12a
Can be opened / closed by an on-off valve 12b attached thereto.

【0036】超音波洗浄槽5の流入口9に対向する側面
には、流入口9により形成される希硝酸3の前記層流を
乱さずに希硝酸3を槽外に排出する整流装置(図示せ
ず)を内蔵する排出口16が設けられている。流入口9
及び排出口16は、超音波洗浄槽5の外部で導管17を
介して接続されており、導管17の途中に設けられたポ
ンプ18により、超音波洗浄槽5内の希硝酸3を排出口
16から導管17を経由して流入口9に循環させる第1
の循環手段を構成している。導管17にはポンプ18の
下流にフィルター19が設けられ、超硬チップ4の洗浄
の際などに発生する微小な塵埃等の不純物を除去するよ
うになっている。
On the side of the ultrasonic cleaning tank 5 facing the inflow port 9, a rectifying device for discharging the diluted nitric acid 3 out of the bath without disturbing the laminar flow of the diluted nitric acid 3 formed by the inflow port 9 (see FIG. A discharge port 16 having a built-in (not shown) is provided. Inlet 9
The discharge port 16 is connected to the outside of the ultrasonic cleaning tank 5 via a conduit 17, and the pump 18 provided in the conduit 17 discharges the diluted nitric acid 3 in the ultrasonic cleaning tank 5 from the discharge port 16 From the first through the conduit 17 to the inlet 9
It constitutes the circulation means of. A filter 19 is provided in the conduit 17 downstream of the pump 18 to remove impurities such as fine dust generated when the cemented carbide tip 4 is washed.

【0037】超音波洗浄槽5及びオーバーフロー槽6は
その底部ほど反応生成物の濃度が高くなる傾向があるの
で、それぞれの底部に希硝酸3の排出用導管20a,2
0bが設けられている。排出用導管20a,20bは導
管17に接続され、フィルター19の下流で導管17か
ら分岐され超音波洗浄槽5の上部に設けられた供給口2
2に接続されている攪拌用導管21と共に、第2の循環
手段を構成している。前記第2の循環手段は、超音波洗
浄槽5及びオーバーフロー槽6の底部から希硝酸3を取
り出し導管17中で排出口16から取り出された希硝酸
3と混合すると共に、ポンプ18により流入口9に循環
される希硝酸3の一部を超音波洗浄槽5の上部に設けら
れた供給口22に循環させて超音波洗浄槽5内の希硝酸
3を攪拌する。
Since the ultrasonic cleaning tank 5 and the overflow tank 6 tend to have higher concentrations of reaction products at the bottoms thereof, the dilute nitric acid 3 discharge conduits 20a, 2 are provided at the bottoms thereof.
0b is provided. The discharge conduits 20a and 20b are connected to the conduit 17, and are branched from the conduit 17 downstream of the filter 19 and provided at the upper part of the ultrasonic cleaning tank 5 at the supply port 2
Together with the stirring conduit 21 connected to 2, the second circulation means is constituted. The second circulation means takes out the diluted nitric acid 3 from the bottoms of the ultrasonic cleaning tank 5 and the overflow tank 6 and mixes it with the diluted nitric acid 3 taken out from the discharge port 16 in the conduit 17, and the pump 9 makes the inlet 9 Part of the diluted nitric acid 3 circulated in the ultrasonic cleaning tank 5 is circulated to the supply port 22 provided in the upper portion of the ultrasonic cleaning tank 5 to stir the diluted nitric acid 3 in the ultrasonic cleaning tank 5.

【0038】尚、前記導管17、排出用導管20a,2
0b、供給用導管21には、適宜バルブ23が配設さ
れ、各導管の流量を調整できるようになっている。前記
第1または第2の循環手段はバルブ23の操作によりど
ちらか一方だけを使用することもでき、両方の手段を併
用することもできる。
The conduit 17 and the discharge conduits 20a, 2
0b, a valve 23 is appropriately provided in the supply conduit 21 so that the flow rate of each conduit can be adjusted. Only one of the first and second circulation means can be used by operating the valve 23, or both means can be used together.

【0039】次に、本実施例の洗浄装置による超硬チッ
プ4の酸洗について説明する。
Next, the pickling of the cemented carbide chip 4 by the cleaning apparatus of this embodiment will be described.

【0040】超音波洗浄を有利に行うためには、洗浄液
に溶存する気体の量が少ない方が好ましいことが知られ
ており、超音波洗浄槽5には図示しない脱気装置により
溶存気体が脱気された希硝酸3が供給されている。超音
波洗浄槽5に供給された希硝酸3中に超硬チップ4を浸
漬し、超音波振動子2により希硝酸3に超音波を放射し
て超硬チップ4の洗浄を行うことにより、超硬チップ4
の表層部のタングステン−コバルト合金の粒子の間隙に
存在する未焼結のコバルト粒子が希硝酸3と反応し、硝
酸コバルト(反応生成物)を生成して希硝酸3に溶解す
る。このため、超音波洗浄槽5内の希硝酸3は汚染物質
として前記反応生成物を含んでいる。
It is known that it is preferable that the amount of gas dissolved in the cleaning liquid is small in order to advantageously perform ultrasonic cleaning, and the dissolved gas is removed from the ultrasonic cleaning tank 5 by a degassing device (not shown). The vaporized dilute nitric acid 3 is supplied. By dipping the cemented carbide tip 4 in the dilute nitric acid 3 supplied to the ultrasonic cleaning tank 5 and irradiating the dilute nitric acid 3 with ultrasonic waves by the ultrasonic vibrator 2, the cemented carbide tip 4 is cleaned. Hard tip 4
The unsintered cobalt particles existing in the gaps between the particles of the tungsten-cobalt alloy in the surface layer of the above react with the dilute nitric acid 3 to form cobalt nitrate (reaction product) and dissolve in the dilute nitric acid 3. Therefore, the diluted nitric acid 3 in the ultrasonic cleaning tank 5 contains the reaction product as a contaminant.

【0041】前記超音波洗浄による酸洗のために、超音
波洗浄槽5内の希硝酸3中に超硬チップ4を浸漬する
と、反応生成物を含む希硝酸3が、傾斜した排液路7を
介して超音波洗浄槽5からオーバーフロー槽6にオーバ
ーフローする。次いで、反応生成物を含む希硝酸3は、
オーバーフロー槽6の上部に設けられた流出口8から取
り出され、導管10により貯留槽12を経てポンプ13
により限外濾過膜モジュール11に供給される。
When the cemented carbide tip 4 is dipped in the dilute nitric acid 3 in the ultrasonic cleaning tank 5 for pickling by the ultrasonic cleaning, the dilute nitric acid 3 containing the reaction product is inclined to the drainage path 7. Through the ultrasonic cleaning tank 5 to the overflow tank 6. Then, the dilute nitric acid 3 containing the reaction product is
It is taken out from an outflow port 8 provided at the upper part of the overflow tank 6 and is passed through a storage tank 12 by a conduit 10 to a pump 13
Is supplied to the ultrafiltration membrane module 11.

【0042】前記限外濾過膜は、溶液中の溶質を膜と各
分子との関係、例えば分子の大きさによる膜の透過し易
さによって定まる分配係数に従って分離するもので、例
えば、東レ株式会社製酢酸セルロース系またはポリエー
テル系複合膜などを使用することができる。このような
限外濾過膜に前記反応生成物を含む希硝酸3を透過させ
ると、硝酸分子は硝酸コバルト分子より遙かに小さいの
で、前記分配係数に従って限外濾過膜の一次側では反応
生成物が富化された希硝酸3が得られ、二次側では反応
生成物が貧化された希硝酸3が得られる。前記限外濾過
膜は、直列の複数段に組み合わせて使用することにより
反応生成物の分離度が幾何級数的に向上されるので、複
数の中空糸状限外濾過膜あるいはスパイラル状限外濾過
膜を収容してなる限外濾過膜モジュール11として使用
することにより、反応生成物がほぼ完全に分離される。
The ultrafiltration membrane separates the solute in the solution according to the relationship between the membrane and each molecule, for example, a partition coefficient determined by the permeability of the membrane depending on the size of the molecule. For example, a cellulose acetate-based or polyether-based composite membrane made by the same can be used. When dilute nitric acid 3 containing the reaction product is permeated through such an ultrafiltration membrane, the nitric acid molecule is much smaller than the cobalt nitrate molecule, so that the reaction product on the primary side of the ultrafiltration membrane follows the partition coefficient. Is obtained, and dilute nitric acid 3 having a depleted reaction product is obtained on the secondary side. When the ultrafiltration membranes are used in combination in a plurality of stages in series, the degree of separation of reaction products is improved geometrically. Therefore, a plurality of hollow fiber ultrafiltration membranes or spiral ultrafiltration membranes are used. By using the ultrafiltration membrane module 11 housed therein, the reaction products are almost completely separated.

【0043】従って、導管14により限外濾過膜モジュ
ール11から取り出される希硝酸3には実質的に前記反
応生成物は含まれず、清澄な希硝酸3のみが導管14か
ら流入口9を経て超音波洗浄槽5に循環される。このと
き前記清澄な希硝酸3は、前記反応生成物が分離された
結果、超音波洗浄槽5内の希硝酸3に比較して酸の濃度
が低減されている。
Therefore, the dilute nitric acid 3 taken out from the ultrafiltration membrane module 11 by the conduit 14 does not substantially contain the above reaction product, and only the clear dilute nitric acid 3 is ultrasonically passed from the conduit 14 through the inflow port 9 and ultrasonic waves. It is circulated to the cleaning tank 5. At this time, the clear dilute nitric acid 3 has a lower acid concentration than the dilute nitric acid 3 in the ultrasonic cleaning tank 5 as a result of separation of the reaction product.

【0044】一方、導管15により限外濾過膜モジュー
ル11から取り出される希硝酸3には、超音波洗浄槽5
から流出する希硝酸3に含まれる反応生成物が実質的に
全て含まれており、元の希硝酸3に比べて反応生成物が
濃縮された希硝酸3が貯留槽12に循環される。貯留槽
12では、反応生成物が濃縮された希硝酸3は超音波洗
浄槽5から取り出された希硝酸3と混合され、再び限外
濾過膜モジュール11に供給される。
On the other hand, for the diluted nitric acid 3 taken out from the ultrafiltration membrane module 11 by the conduit 15, the ultrasonic cleaning tank 5 is used.
Substantially all of the reaction product contained in the diluted nitric acid 3 flowing out of the storage tank 12 is circulated in the storage tank 12 as compared with the original diluted nitric acid 3. In the storage tank 12, the diluted nitric acid 3 in which the reaction product is concentrated is mixed with the diluted nitric acid 3 taken out from the ultrasonic cleaning tank 5, and the mixed nitric acid 3 is supplied again to the ultrafiltration membrane module 11.

【0045】前記操作の繰り返しにより、貯留槽12内
では益々反応生成物が濃縮され、限外濾過膜モジュール
11からは前記実質的に反応生成物を含まない希硝酸3
が取り出される。この結果、超音波洗浄槽5内では、従
来の酸洗槽に比べて希硝酸3に含まれる反応生成物の濃
度が著しく低減されるので、希硝酸3の濃度測定を正確
かつ容易に行うことができるとともに、希硝酸3を交換
すること無く長期間に亘り連続して使用できる。
By repeating the above operation, the reaction products are more and more concentrated in the storage tank 12, and the diluted nitric acid 3 containing substantially no reaction products is extracted from the ultrafiltration membrane module 11.
Is taken out. As a result, the concentration of the reaction product contained in the dilute nitric acid 3 is significantly reduced in the ultrasonic cleaning tank 5 as compared with the conventional pickling tank, so that the concentration of the dilute nitric acid 3 can be accurately and easily measured. In addition, the diluted nitric acid 3 can be continuously used for a long time without replacement.

【0046】また、反応生成物を含む希硝酸3を系外に
排出するときには、超音波洗浄槽5内の希硝酸3は含有
する反応生成物の濃度が著しく低減されているので廃棄
する必要はなく、貯留槽12内の反応生成物が濃縮され
た希硝酸3を適宜開閉弁12bを開閉して洗浄液廃棄用
導管12aから廃棄すればよい。このようにすることに
より、酸洗槽1の希硝酸3を全量交換する必要がなくな
り、前記反応生成物により汚染され重金属を含む希硝酸
3の廃棄量を低減することができるので、排水処理設備
も小規模で済むという効果が得られる。
When the diluted nitric acid 3 containing the reaction product is discharged to the outside of the system, the concentration of the reaction product contained in the diluted nitric acid 3 in the ultrasonic cleaning tank 5 is remarkably reduced, so it is necessary to discard it. Instead, the dilute nitric acid 3 in which the reaction product in the storage tank 12 is concentrated may be discarded from the cleaning liquid discarding conduit 12a by opening / closing the opening / closing valve 12b as appropriate. By doing so, it is not necessary to replace all of the dilute nitric acid 3 in the pickling tank 1, and the amount of the dilute nitric acid 3 contaminated by the reaction product and containing heavy metals can be reduced. The effect is that it can be done on a small scale.

【0047】超音波洗浄槽5内の前記反応生成物を含む
希硝酸3は、前述の限外濾過膜モジュール11を経由す
る循環系とは別に、排出口16から取り出され導管17
を介して流入口9から超音波洗浄槽5に循環させる第1
の循環手段によっても循環されている。前記流入口9及
び排出口16には整流装置が内蔵されているので、超音
波洗浄槽5内の前記反応生成物を含む希硝酸3を前記第
1の循環手段により循環させることにより、超音波洗浄
槽5内の希硝酸3に超音波振動子2に平行な層流が形成
され、前記超音波振動子2から放射される超音波の定在
波が形成され易くなり、キャビテーションが発生しやす
い環境とすることができる。
The dilute nitric acid 3 containing the reaction product in the ultrasonic cleaning tank 5 is taken out from the discharge port 16 separately from the circulation system passing through the ultrafiltration membrane module 11 described above, and the conduit 17 is provided.
Through the inlet 9 to the ultrasonic cleaning tank 5 via the first
It is also circulated by the circulation means. Since a rectifying device is built in the inflow port 9 and the exhaust port 16, by diluting the dilute nitric acid 3 containing the reaction product in the ultrasonic cleaning tank 5 by the first circulating means, A laminar flow parallel to the ultrasonic oscillator 2 is formed in the dilute nitric acid 3 in the cleaning tank 5, a standing wave of ultrasonic waves emitted from the ultrasonic oscillator 2 is easily formed, and cavitation is easily generated. Can be the environment.

【0048】前記のようにして、超音波振動子2に平行
な層流が形成されている超音波洗浄層5に超音波を放射
することにより、前記未焼結のコバルト粒子と希硝酸3
との反応は著しく促進され、従来超音波を放射しないと
きには10%−希硝酸中で10分程度かかったものが、
1%−希硝酸中で1分程度で完了することができる。ま
た、放射される超音波の密度を変化させることにより、
超硬チップ4の表層部の酸洗される厚さも容易にコント
ロールすることができる。
As described above, by radiating ultrasonic waves to the ultrasonic cleaning layer 5 in which the laminar flow parallel to the ultrasonic oscillator 2 is formed, the unsintered cobalt particles and dilute nitric acid 3
The reaction with and is remarkably promoted, and it took about 10 minutes in 10% dilute nitric acid when ultrasonic waves were not emitted.
It can be completed in about 1 minute in 1% -dilute nitric acid. Also, by changing the density of the emitted ultrasonic waves,
The pickled thickness of the surface layer portion of the cemented carbide chip 4 can also be easily controlled.

【0049】この結果、超音波を併用しない場合に比較
して反応生成物の生成量は格段に増大する。しかし、本
実施例の酸洗装置では、前述のようにして前記反応生成
物が分離され、超音波洗浄槽5中の希硝酸3に溶解して
いる前記反応生成物の量が著しく低減されるので、超音
波を併用するにも係わらず希硝酸3を交換すること無く
長期間に亘って連続して使用できる。また、前記実質的
に反応生成物を含まない希硝酸3も前記導管14を介し
て流入口9から超音波洗浄槽5に循環されているので、
前記層流を乱すことがない。
As a result, the amount of reaction products produced is significantly increased as compared with the case where ultrasonic waves are not used together. However, in the pickling apparatus of this example, the reaction product is separated as described above, and the amount of the reaction product dissolved in the dilute nitric acid 3 in the ultrasonic cleaning tank 5 is significantly reduced. Therefore, despite the combined use of ultrasonic waves, the dilute nitric acid 3 can be continuously used for a long period of time without replacement. Further, since the dilute nitric acid 3 containing substantially no reaction product is also circulated from the inflow port 9 to the ultrasonic cleaning tank 5 via the conduit 14,
It does not disturb the laminar flow.

【0050】前記流入口9から超音波洗浄槽5に循環さ
れる実質的に反応生成物を含まない希硝酸3は、前述の
ように酸の濃度が低減されているので、そのまま超音波
洗浄槽5に循環されると超音波洗浄槽5内の酸の濃度が
局部的に不均一になり、超硬チップ4の洗浄品質にバラ
ツキが出る虞れがある。しかし、前記実質的に反応生成
物を含まない希硝酸3は前記のように流入口9から超音
波洗浄槽5に循環されることにより、流入時に排出口1
6から取り出される反応生成物を含む希硝酸3と混合さ
れるので、超音波洗浄槽5内の酸の濃度分布を均一にす
ることができ、超硬チップ4の洗浄品質のバラツキを避
けることができる。
The diluted nitric acid 3 containing substantially no reaction product, which is circulated from the inflow port 9 to the ultrasonic cleaning tank 5, has the acid concentration reduced as described above, and therefore the ultrasonic cleaning tank is used as it is. When it is circulated to the ultrasonic cleaning tank 5, the concentration of the acid in the ultrasonic cleaning tank 5 becomes locally non-uniform, and the cleaning quality of the cemented carbide tip 4 may vary. However, the dilute nitric acid 3 containing substantially no reaction product is circulated from the inflow port 9 to the ultrasonic cleaning tank 5 as described above, so that the inflow port 1 at the time of inflow.
Since it is mixed with the dilute nitric acid 3 containing the reaction product taken out from 6, the acid concentration distribution in the ultrasonic cleaning tank 5 can be made uniform, and variations in the cleaning quality of the cemented carbide tip 4 can be avoided. it can.

【0051】また、超音波洗浄槽5及びオーバーフロー
槽6の希硝酸3は排出用導管20a,20bから取り出
され、前記第1の循環手段または前記流入口9に循環さ
れる希硝酸3の一部を攪拌用導管21を介して超音波洗
浄槽5の上部に設けられた供給口22に循環させる第2
の循環手段により循環される。超音波洗浄槽5及びオー
バーフロー槽6では前記のようにその底部ほど反応生成
物の濃度が高くなる傾向があるので、その一部を供給口
22に循環させることにより超音波洗浄槽5内の希硝酸
3が攪拌され、超音波洗浄槽5内の酸の濃度分布を均一
にすることができる。この結果、導管14から循環され
た清澄な希硝酸3が反応生成物の含有量が低いまま再び
オーバーフローされることが避けられ、攪拌された希硝
酸3が前述の限外濾過膜モジュール11を経由する循環
系に供給されるので、超音波洗浄槽5中の希硝酸3に溶
解している前記反応生成物の量を効率よく低減させるこ
とができる。
Further, the diluted nitric acid 3 in the ultrasonic cleaning tank 5 and the overflow tank 6 is taken out from the discharge conduits 20a and 20b, and a part of the diluted nitric acid 3 is circulated to the first circulation means or the inflow port 9. Secondly, the liquid is circulated through a stirring conduit 21 to a supply port 22 provided in the upper portion of the ultrasonic cleaning tank 5.
It is circulated by the circulation means. In the ultrasonic cleaning tank 5 and the overflow tank 6, the concentration of the reaction product tends to increase toward the bottom as described above. Therefore, by circulating a part of the reaction product to the supply port 22, the rare gas in the ultrasonic cleaning tank 5 is diluted. The nitric acid 3 is stirred, and the acid concentration distribution in the ultrasonic cleaning tank 5 can be made uniform. As a result, the clear dilute nitric acid 3 circulated from the conduit 14 is prevented from overflowing again with a low content of the reaction product, and the stirred dilute nitric acid 3 passes through the ultrafiltration membrane module 11 described above. Since it is supplied to the circulating system, the amount of the reaction product dissolved in the diluted nitric acid 3 in the ultrasonic cleaning tank 5 can be efficiently reduced.

【0052】前記のように超音波洗浄槽5から反応生成
物を含む希硝酸3を取り出し、反応生成物を分離して希
硝酸3のみを超音波洗浄槽5に循環させる操作を繰り返
すと、超音波洗浄槽5中の希硝酸3の濃度が逓減する。
しかし、本実施例の酸洗装置では、前記のようにして希
硝酸3の濃度を正確に測定できるので、必要に応じて新
しい硝酸を補充し、濃度調整を行うことができる。前記
濃度調整は、例えば、超音波洗浄槽5に硝酸イオン濃度
センサ及び硝酸補充タンクを付設し、硝酸イオン濃度セ
ンサと硝酸補充タンクとを、硝酸イオン濃度センサで検
知された硝酸イオン濃度が所定値以下になったときに、
硝酸補充タンクから所定量の硝酸が供給されるように制
御する制御装置に接続することにより自動的に行うこと
ができる。硝酸補充タンクから補充される硝酸はオーバ
ーフロー槽6に供給されるようにすることにより、導管
17,20b中で前記反応生成物を含む希硝酸3と混合
されるので、超音波洗浄槽5内の酸の濃度が急激に変動
することを避けることができる。
When the dilute nitric acid 3 containing the reaction product is taken out from the ultrasonic cleaning tank 5, the reaction product is separated and only the dilute nitric acid 3 is circulated in the ultrasonic cleaning tank 5 as described above, The concentration of dilute nitric acid 3 in the sonic cleaning tank 5 gradually decreases.
However, in the pickling apparatus of the present embodiment, the concentration of dilute nitric acid 3 can be accurately measured as described above, so that fresh nitric acid can be replenished to adjust the concentration as needed. For the concentration adjustment, for example, a nitrate ion concentration sensor and a nitric acid replenishment tank are attached to the ultrasonic cleaning tank 5, and the nitrate ion concentration sensor and the nitric acid replenishment tank are provided so that the nitrate ion concentration detected by the nitrate ion concentration sensor has a predetermined value. When:
This can be automatically performed by connecting to a control device that controls so that a predetermined amount of nitric acid is supplied from the nitric acid supplement tank. The nitric acid replenished from the nitric acid replenishment tank is mixed with the dilute nitric acid 3 containing the reaction product in the conduits 17 and 20b by being supplied to the overflow tank 6, so that the ultrasonic cleaning tank 5 has It is possible to avoid sudden fluctuations in the acid concentration.

【0053】尚、前記超音波洗浄槽5からオーバーフロ
ーする希硝酸3は、傾斜する排液路7によりオーバーフ
ロー槽6に案内され滝状に落下することがないので、オ
ーバーフロー槽6に流入する際に空気の巻き込みを避け
ることができ、脱気された状態が維持される。従って、
そのまま超音波洗浄槽5に循環されても、超音波による
キャビテーション形成を妨げることはない。
The dilute nitric acid 3 overflowing from the ultrasonic cleaning tank 5 is guided by the inclined drainage passage 7 to the overflow tank 6 and does not fall in a waterfall shape. The inclusion of air can be avoided and the degassed state is maintained. Therefore,
Even if it is circulated in the ultrasonic cleaning tank 5 as it is, it does not hinder the formation of cavitation by ultrasonic waves.

【0054】本実施例では酸溶液として希硝酸3を用い
ているが、適当な材質の限外濾過膜を選択することによ
り、塩酸、硫酸など他の酸溶液を使用することもでき
る。
Although dilute nitric acid 3 is used as the acid solution in this embodiment, other acid solutions such as hydrochloric acid and sulfuric acid can be used by selecting an ultrafiltration membrane made of an appropriate material.

【0055】次に、本発明の第2の実施例について説明
する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described.

【0056】本実施例の洗浄装置は、超音波洗浄槽、リ
ンス槽及び乾燥手段を備える超音波洗浄装置において、
超音波洗浄槽で洗剤の水溶液で超音波洗浄されたワーク
をリンスするリンス洗浄槽である。前記ワークは前記リ
ンス洗浄槽で前記洗剤の水溶液がリンスされたのち、前
記乾燥手段で乾燥される。
The cleaning apparatus of this embodiment is an ultrasonic cleaning apparatus equipped with an ultrasonic cleaning tank, a rinse tank, and a drying means.
It is a rinse cleaning tank for rinsing a workpiece ultrasonically cleaned with an aqueous solution of detergent in an ultrasonic cleaning tank. The work is rinsed with the aqueous solution of the detergent in the rinse cleaning tank and then dried by the drying means.

【0057】本実施例の洗浄装置は、図2に示すよう
に、洗剤の水溶液で超音波洗浄された成形加工品24を
リンスする洗浄槽1に、リンス液25として水道水を収
容し、貯留槽12に乳化油分分離材26を設けたことを
除いて、前記図1示の第1の実施例と略同様の構成とな
っている。
As shown in FIG. 2, the cleaning apparatus of this embodiment stores tap water as a rinse liquid 25 in a cleaning tank 1 for rinsing a molded product 24 ultrasonically cleaned with an aqueous solution of a detergent, and stores the rinse water. The configuration is substantially the same as that of the first embodiment shown in FIG. 1 except that the tank 12 is provided with the emulsified oil separation material 26.

【0058】即ち、洗浄槽1は底部に超音波振動子2を
備えた超音波洗浄槽5と、超音波洗浄槽5に隣接して設
けられ超音波洗浄槽5に成形加工品24を浸漬したとき
にオーバーフローするリンス液25を収容するオーバー
フロー槽6とからなり、超音波洗浄槽5とオーバーフロ
ー槽6とは、傾斜した排液路7により接続されている。
超音波洗浄槽5は、槽内に収容されたリンス液25に前
記洗剤の水溶液で超音波洗浄された成形加工品24を浸
漬したときに超音波振動子2からリンス液25に超音波
を放射して成形加工品24の表面に付着している洗剤を
リンスする洗浄を行う。
That is, the cleaning tank 1 is provided with the ultrasonic vibrator 2 at the bottom thereof, and the ultrasonic cleaning tank 5 is provided adjacent to the ultrasonic cleaning tank 5 and the molded product 24 is immersed in the ultrasonic cleaning tank 5. The overflow tank 6 contains a rinse liquid 25 that sometimes overflows, and the ultrasonic cleaning tank 5 and the overflow tank 6 are connected by an inclined drainage passage 7.
The ultrasonic cleaning tank 5 radiates ultrasonic waves from the ultrasonic vibrator 2 to the rinse liquid 25 when the molded product 24 ultrasonically cleaned with the detergent aqueous solution is immersed in the rinse liquid 25 contained in the tank. Then, cleaning is performed by rinsing the detergent adhering to the surface of the molded product 24.

【0059】本実施例の洗浄装置において、限外濾過膜
モジュール11は、汚染物質として前記洗剤を含むリン
ス液25を、前記洗剤が濃縮されたリンス液25と実質
的に前記洗剤を含まないリンス液25とに分離するもの
である。
In the cleaning apparatus of this embodiment, the ultrafiltration membrane module 11 includes a rinse liquid 25 containing the detergent as a contaminant and a rinse liquid 25 containing the detergent and a rinse liquid substantially free of the detergent. It is separated into the liquid 25.

【0060】また、乳化油分除去材26は前記洗剤に乳
化されている油分を除去するために設けられ、貯留槽1
2は乳化油分除去材26により、リンス液25がオーバ
ーフロー槽6から流入する上流側26aと、リンス液2
5がポンプ13により限外濾過膜モジュール11に供給
される下流側26bとに仕切られている。そして、限外
濾過膜モジュール11から前記洗剤の濃度が高められた
リンス液25を取り出す汚染洗浄液循環手段としての導
管15が乳化油分除去材26の上流側26aに接続さ
れ、洗浄液廃棄用導管12aは乳化油分除去材26の下
流側26bに設けられている。
The emulsified oil content removing material 26 is provided to remove the oil content emulsified in the detergent, and the storage tank 1
2 is an emulsified oil content removing material 26, and the rinse liquid 25 flows into the upstream side 26a from the overflow tank 6 and the rinse liquid 2
5 is partitioned by the pump 13 into the downstream side 26b supplied to the ultrafiltration membrane module 11. Then, the conduit 15 as the contaminated cleaning liquid circulating means for taking out the rinse liquid 25 having the detergent concentration increased from the ultrafiltration membrane module 11 is connected to the upstream side 26a of the emulsified oil removing material 26, and the cleaning liquid discarding conduit 12a is It is provided on the downstream side 26 b of the emulsified oil removing material 26.

【0061】次に、本実施例の洗浄装置による成形加工
品24のリンス洗浄について説明する。
Next, the rinse cleaning of the molded product 24 by the cleaning apparatus of this embodiment will be described.

【0062】成形加工品24は、金属材料に切削加工、
中ぐり加工、研磨加工等を施したり、ガラス、セラミッ
クス等に切削加工を施したり、或はプラスチックの押出
し成形、射出成形等により製造され、その表面に付着し
ているバリ、材料屑、前記加工に使用された油分等を除
去するために、予め、図1示の超音波洗浄槽5と同様の
装置で、洗剤の水溶液に浸漬して超音波洗浄される。前
記水溶液は、溶存酸素量2〜5ppmに脱気され、前記
キャビテーションを発生しやすくしてバリ、材料屑等を
除去し易くすると共に、前記油分を乳化し易くされてい
る。前記洗剤は界面活性剤等からなり、さらに前記油分
を乳化し易くするために前記水溶液に添加されている。
The molded product 24 is formed by cutting a metal material,
Burrs, material scraps, etc. attached to the surface produced by boring, polishing, etc., by cutting glass, ceramics, etc., or by extrusion molding of plastic, injection molding, etc. In order to remove the oil content and the like used in the above, ultrasonic cleaning is performed in advance by immersing in an aqueous solution of detergent in the same device as the ultrasonic cleaning tank 5 shown in FIG. The aqueous solution is degassed to an amount of dissolved oxygen of 2 to 5 ppm, which easily causes the cavitation to easily remove burrs, material scraps and the like, and facilitates emulsification of the oil component. The detergent is composed of a surfactant or the like, and is added to the aqueous solution to facilitate emulsification of the oil.

【0063】前記のようにして超音波洗浄を行うことに
より、成形加工品24の表面に付着しているバリ、材料
屑、油分等が除去されるが、前記超音波洗浄槽から引き
上げられた成形加工品24には微小な材料屑、乳化され
た油分等を含む前記洗剤が付着している。成形加工品2
4をこのまま乾燥したのでは、前記洗剤の蒸発により前
記微小な材料屑、前記油分等が成形加工品24の表面に
付着してしまい、十分な洗浄効果が得られない。
By performing the ultrasonic cleaning as described above, burrs, material scraps, oils, etc. adhering to the surface of the molded product 24 are removed, but the molding is pulled up from the ultrasonic cleaning tank. The detergent containing minute material scraps, emulsified oil, etc. is attached to the processed product 24. Molded product 2
If No. 4 is dried as it is, the minute material scraps, the oil content and the like adhere to the surface of the molded product 24 due to evaporation of the detergent, and a sufficient cleaning effect cannot be obtained.

【0064】そこで、前記成形加工品24は前記超音波
洗浄後、直ちに本実施例の洗浄槽1に収容されたリンス
液25に浸漬され、前記洗剤を除去するリンス洗浄が行
われる。前記リンス洗浄は、超音波洗浄槽5に供給され
たリンス液25中に成形加工品24を浸漬し、超音波振
動子2によりリンス液25に超音波を放射することによ
り行われ、成形加工品24の表面に付着している前記洗
剤がリンス液25によりリンスされる。このため、超音
波洗浄槽5内のリンス液25は汚染物質として前記洗剤
を含んでいる。
Therefore, the molded product 24 is immediately immersed in the rinse liquid 25 contained in the cleaning tank 1 of this embodiment after the ultrasonic cleaning, and the rinse cleaning for removing the detergent is performed. The rinse cleaning is performed by immersing the molded product 24 in the rinse liquid 25 supplied to the ultrasonic cleaning tank 5 and irradiating the rinse liquid 25 with ultrasonic waves by the ultrasonic vibrator 2. The detergent adhering to the surface of 24 is rinsed by the rinse liquid 25. Therefore, the rinse liquid 25 in the ultrasonic cleaning tank 5 contains the detergent as a contaminant.

【0065】超音波洗浄槽5内のリンス液25中に成形
加工品24を浸漬すると、前記洗剤を含むリンス液25
が、傾斜した排液路7を介して超音波洗浄槽5からオー
バーフロー槽6にオーバーフローする。次いで、前記洗
剤を含むリンス液25は、オーバーフロー槽6の上部に
設けられた流出口8から取り出され、導管10により貯
留槽12に設けられた乳化油分吸着材26の上流側26
aに導かれる。そして、リンス液25は乳化油分吸着材
26を上流側26aから下流側26bに透過することに
より、前記洗剤に乳化されている油分が乳化油分吸着材
26に吸着され、乳化油分吸着材26の下流側26bに
乳化油分を含まないリンス液25が得られる。
When the molded product 24 is immersed in the rinse liquid 25 in the ultrasonic cleaning tank 5, the rinse liquid 25 containing the detergent is added.
But overflows from the ultrasonic cleaning tank 5 to the overflow tank 6 via the inclined drainage path 7. Next, the rinse liquid 25 containing the detergent is taken out from the outflow port 8 provided in the upper portion of the overflow tank 6, and is upstream 26 of the emulsified oil adsorbent 26 provided in the storage tank 12 by the conduit 10.
led to a. Then, the rinse liquid 25 permeates the emulsified oil content adsorbent 26 from the upstream side 26a to the downstream side 26b, so that the oil content emulsified in the detergent is adsorbed by the emulsified oil content adsorbent 26 and downstream of the emulsified oil content adsorbent 26. A rinse liquid 25 containing no emulsified oil is obtained on the side 26b.

【0066】前記乳化油分吸着材26は、洗剤などの界
面活性剤に乳化されている油分を吸着する能力を有する
ものであればどの様なものであってもよいが、前記のよ
うに使用するためにマット状に成形されているいるもの
が好ましい。
The emulsified oil content adsorbent 26 may be of any type as long as it has the ability to adsorb the emulsified oil content to a surfactant such as a detergent, and is used as described above. Therefore, it is preferable to use a mat-shaped material.

【0067】次に、貯留槽12に一時貯留されたリンス
液25が、乳化油分吸着材26の下流側26bからポン
プ13により限外濾過膜モジュール11に供給される。
前記リンス液25は、前記のように乳化油分吸着材26
透過することにより乳化油分が除去されているので、限
外濾過膜モジュール11に供給されたときに限外濾過膜
に油分が付着することがない。従って、本実施例の洗浄
装置では、限外濾過膜モジュール11を長期間に亘り機
能を低下させることなく使用することができる。
Next, the rinse liquid 25 temporarily stored in the storage tank 12 is supplied to the ultrafiltration membrane module 11 by the pump 13 from the downstream side 26b of the emulsified oil adsorbent 26.
As described above, the rinse liquid 25 is the emulsified oil content adsorbent 26.
Since the emulsified oil content is removed by permeating, the oil content does not adhere to the ultrafiltration membrane when supplied to the ultrafiltration membrane module 11. Therefore, in the cleaning apparatus of this embodiment, the ultrafiltration membrane module 11 can be used for a long period of time without lowering its function.

【0068】前記限外濾過膜は、前記第1の実施例と同
様に、例えば、東レ株式会社製酢酸セルロース系または
ポリエーテル系複合膜などから好適な材質のものを選択
して使用することができ、このような限外濾過膜に前記
洗剤を含むリンス液25を透過させると、限外濾過膜の
一次側では前記洗剤が富化されたリンス液25が得ら
れ、二次側では前記洗剤が貧化されたリンス液25が得
られる。
As the ultrafiltration membrane, as in the case of the first embodiment, for example, a material of a suitable material may be selected and used from cellulose acetate-based or polyether-based composite membranes manufactured by Toray Industries, Inc. When the rinse liquid 25 containing the detergent is permeated through such an ultrafiltration membrane, the rinse liquid 25 enriched with the detergent is obtained on the primary side of the ultrafiltration membrane, and the detergent is enriched on the secondary side. As a result, the rinse liquid 25 in which the oxygen is depleted is obtained.

【0069】従って、導管14により限外濾過膜モジュ
ール11から取り出されるリンス液25には実質的に前
記洗剤は含まれず、実質的に清澄水からなるリンス液2
5のみが導管14から流入口9を経て超音波洗浄槽5に
循環される。
Therefore, the rinse liquid 25 taken out from the ultrafiltration membrane module 11 by the conduit 14 does not substantially contain the detergent, and the rinse liquid 2 is substantially clear water.
Only 5 is circulated from the conduit 14 through the inflow port 9 to the ultrasonic cleaning tank 5.

【0070】一方、導管15により限外濾過膜モジュー
ル11から取り出されるリンス液25には、超音波洗浄
槽5から流出するリンス液25に含まれる前記洗剤が実
質的に全て含まれており、元のリンス液25に比べて前
記洗剤が濃縮されたリンス液25が貯留槽12に循環さ
れる。貯留槽12では、前記洗剤が濃縮されたリンス液
25は超音波洗浄槽5から取り出されるリンス液25と
混合され、再び限外濾過膜モジュール11に供給され
る。
On the other hand, the rinse liquid 25 taken out from the ultrafiltration membrane module 11 by the conduit 15 contains substantially all of the detergent contained in the rinse liquid 25 flowing out from the ultrasonic cleaning tank 5. The rinse liquid 25 in which the detergent is concentrated as compared with the rinse liquid 25 is circulated in the storage tank 12. In the storage tank 12, the rinse liquid 25 in which the detergent is concentrated is mixed with the rinse liquid 25 taken out from the ultrasonic cleaning tank 5, and is supplied again to the ultrafiltration membrane module 11.

【0071】前記操作の繰り返しにより、貯留槽12内
では前記洗剤が益々濃縮され、限外濾過膜モジュール1
1からは前記実質的に清澄水からなるリンス液25が取
り出される。この結果、超音波洗浄槽5内ではリンス液
25の大部分を繰り返し使用できるので、従来のリンス
洗浄槽に比べてリンス液25の消費量を大幅に低減する
ことができる。
By repeating the above operation, the detergent is further concentrated in the storage tank 12, and the ultrafiltration membrane module 1
From No. 1, the rinse liquid 25 consisting of the substantially clear water is taken out. As a result, most of the rinse liquid 25 can be repeatedly used in the ultrasonic cleaning tank 5, so that the consumption amount of the rinse liquid 25 can be significantly reduced as compared with the conventional rinse cleaning tank.

【0072】また、前記洗剤を含むリンス液25を系外
に排出するときには、貯留槽12内の前記洗剤が濃縮さ
れたリンス液25を適宜開閉弁12bを開閉して洗浄液
廃棄用導管12aから廃棄すればよい。このようにする
ことにより、洗浄槽1のリンス液25を全量交換する必
要がなくなり、リンス液25の廃棄量を低減することが
できる。
Further, when the rinse liquid 25 containing the detergent is discharged to the outside of the system, the rinse liquid 25 in which the detergent is concentrated in the storage tank 12 is discarded from the cleaning liquid discarding conduit 12a by opening / closing the opening / closing valve 12b as appropriate. do it. By doing so, it is not necessary to replace all of the rinse liquid 25 in the cleaning tank 1, and the amount of waste rinse liquid 25 can be reduced.

【0073】超音波洗浄槽5内の前記水系溶剤を含むリ
ンス液25は、前述の限外濾過膜モジュール11を経由
する循環系とは別に、排出口16から取り出され導管1
7を介して流入口9から超音波洗浄槽5に循環させる第
1の循環手段によっても循環され、前記第1の実施例と
同様に超音波振動子2に平行な層流が形成されキャビテ
ーションが発生しやすい環境とすることができる。ま
た、前記実質的に清澄水からなるリンス液25も前記導
管14を介して流入口9から超音波洗浄槽5に循環され
ているので、前記層流を乱すことがない。
The rinse liquid 25 containing the water-based solvent in the ultrasonic cleaning tank 5 is taken out from the discharge port 16 separately from the circulation system passing through the ultrafiltration membrane module 11 described above, and the conduit 1
It is also circulated by the first circulation means for circulating the ultrasonic cleaning tank 5 from the inflow port 9 through 7, and as in the first embodiment, a laminar flow parallel to the ultrasonic transducer 2 is formed to cause cavitation. The environment can be easily generated. Further, since the rinse liquid 25 substantially consisting of clear water is also circulated from the inflow port 9 to the ultrasonic cleaning tank 5 via the conduit 14, it does not disturb the laminar flow.

【0074】また、超音波洗浄槽5及びオーバーフロー
槽6のリンス液25は排出用導管20a,20bから取
り出され、前記第1の循環手段または前記流入口9に循
環されるリンス液25の一部を攪拌用導管21を介して
超音波洗浄槽5の上部に設けられた供給口22に循環さ
せる第2の循環手段により循環されている。この結果、
超音波洗浄槽5内のリンス液25が攪拌されるので、導
管14から循環された実質的に清澄なリンス液25が前
記洗剤の含有量が低いまま再びオーバーフローされるこ
とが避けられると共に、攪拌されたリンス液25が前述
の限外濾過膜モジュール11を経由する循環系に供給さ
れるので、超音波洗浄槽5中の前記洗剤の量を効率よく
低減させることができる。
Further, the rinse liquid 25 in the ultrasonic cleaning tank 5 and the overflow tank 6 is taken out from the discharge conduits 20a and 20b and is part of the rinse liquid 25 circulated to the first circulation means or the inflow port 9. Is circulated by a second circulation means that circulates through the stirring conduit 21 to the supply port 22 provided in the upper portion of the ultrasonic cleaning tank 5. As a result,
Since the rinse liquid 25 in the ultrasonic cleaning tank 5 is agitated, the substantially clear rinse liquid 25 circulated from the conduit 14 is prevented from overflowing again while the content of the detergent is low, and the agitation is performed. Since the rinse solution 25 thus supplied is supplied to the circulation system via the ultrafiltration membrane module 11 described above, the amount of the detergent in the ultrasonic cleaning tank 5 can be efficiently reduced.

【0075】前記第2の実施例は、洗剤の水溶液により
超音波洗浄されたワークのリンス洗浄について説明して
いるが、例えば、酸など他の洗浄液により洗浄されたワ
ークのリンス洗浄の場合にも適用することができる。こ
のとき、他の洗浄液が洗剤を含まないときには、乳化油
分除去材26は設けなくともよい。
In the second embodiment, the rinse cleaning of the work ultrasonically cleaned with the aqueous solution of the detergent is described. However, for example, in the case of the rinse cleaning of the work cleaned with another cleaning liquid such as acid. Can be applied. At this time, when the other cleaning liquid does not contain a detergent, the emulsified oil content removing material 26 may not be provided.

【0076】[0076]

【発明の効果】以上のことから明らかなように、本発明
の洗浄装置によれば、汚染洗浄液は汚染洗浄液分離手段
により濃縮されて廃棄されるのでその廃棄量を低減する
ことができる。また、本発明の洗浄装置によれば、洗浄
槽と汚染洗浄液分離手段との間に前記汚染洗浄液を一時
貯留する貯留槽を設け、前記汚染洗浄液分離手段により
濃縮された汚染洗浄液を再び前記貯留槽に循環させるこ
とにより、前記汚染物質が濃縮された洗浄液がさらに濃
縮されるので、前記汚染洗浄液の廃棄量がさらに低減さ
れる。
As is clear from the above, according to the cleaning apparatus of the present invention, the contaminated cleaning liquid is concentrated and discarded by the contaminated cleaning liquid separating means, so that the amount of disposal can be reduced. Further, according to the cleaning device of the present invention, a storage tank for temporarily storing the contaminated cleaning liquid is provided between the cleaning tank and the contaminated cleaning liquid separating means, and the contaminated cleaning liquid concentrated by the contaminated cleaning liquid separating means is again stored in the storage tank. By circulating the cleaning liquid in which the contaminants are concentrated, the cleaning liquid is further concentrated, so that the amount of waste of the contaminated cleaning liquid is further reduced.

【0077】本発明の洗浄装置は、酸洗槽またはリンス
洗浄槽に好適に使用することができ、排水処理設備を小
規模にすることができる。また、本発明の洗浄装置をリ
ンス洗浄槽に使用するときに、汚染物質に洗剤が含まれ
るときには前記リンス洗浄槽と前記汚染洗浄液分離手段
との間に、前記洗剤に乳化されている油分を除去する乳
化油分除去手段を設けることにより、前記汚染洗浄液分
離手段の寿命を延長することができる。
The cleaning apparatus of the present invention can be suitably used in a pickling tank or a rinse cleaning tank, and the waste water treatment facility can be made small. Further, when the cleaning device of the present invention is used in a rinse cleaning tank, when contaminants include detergent, the emulsified oil in the detergent is removed between the rinse cleaning tank and the contaminated cleaning liquid separating means. By providing the emulsified oil content removing means, the life of the contaminated cleaning liquid separating means can be extended.

【0078】また、本発明の洗浄装置は、前記洗浄槽の
底部に超音波振動子を備え、超音波洗浄槽とすることに
より、洗浄効率を向上させることができる。この結果、
超音波を併用しない場合に比べて前記洗浄液の汚染物質
濃度が高くなるが、本発明の洗浄装置では前述のように
して前記汚染洗浄液を濃縮することにより、前記汚染洗
浄液の廃棄量を低減することができる。
Further, in the cleaning apparatus of the present invention, the cleaning efficiency can be improved by providing an ultrasonic vibrator at the bottom of the cleaning tank and using the ultrasonic cleaning tank. As a result,
Although the concentration of contaminants in the cleaning liquid is higher than in the case where ultrasonic waves are not used together, in the cleaning apparatus of the present invention, by concentrating the contaminated cleaning liquid as described above, the amount of waste of the contaminated cleaning liquid can be reduced. You can

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係わる洗浄装置の第1の実施例の構成
を示す模式図。
FIG. 1 is a schematic diagram showing the configuration of a first embodiment of a cleaning apparatus according to the present invention.

【図2】本発明に係わる洗浄装置の第2の実施例の構成
を示す模式図。
FIG. 2 is a schematic diagram showing the configuration of a second embodiment of the cleaning apparatus according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…洗浄槽、 2…超音波振動子、 3…洗浄液、 4
…ワーク、5…超音波洗浄槽、 11…汚染洗浄液分離
手段、 12…貯留槽、14…洗浄液循環手段、 15
…汚染洗浄液循環手段、 24…ワーク、25…洗浄
液、 26…乳化油分分離手段。
1 ... Cleaning tank, 2 ... Ultrasonic transducer, 3 ... Cleaning liquid, 4
... Workpiece, 5 ... Ultrasonic cleaning tank, 11 ... Contamination cleaning liquid separating means, 12 ... Storage tank, 14 ... Cleaning liquid circulating means, 15
... Contamination cleaning liquid circulating means, 24 ... Work, 25 ... Cleaning liquid, 26 ... Emulsified oil separation means.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】洗浄槽に収容された洗浄液中にワークを浸
漬して該ワークの洗浄を行う洗浄装置であって、 該洗浄槽内の洗浄により該ワークから除去された汚染物
質を含む汚染洗浄液を該洗浄槽外から取り出して該汚染
物質が濃縮された汚染洗浄液と実質的に該汚染物質を含
まない洗浄液とに分離する汚染洗浄液分離手段を設け、
該汚染洗浄液分離手段から該汚染物質が濃縮された汚染
洗浄液を取り出して廃棄する汚染洗浄液廃棄手段を設
け、該汚染洗浄液分離手段から実質的に該汚染物質を含
まない洗浄液を取り出して該洗浄槽に循環させる洗浄液
循環手段を設けてなることを特徴とする洗浄装置。
1. A cleaning device for cleaning a work by immersing the work in a cleaning liquid housed in a cleaning tank, the contaminated cleaning liquid containing contaminants removed from the work by cleaning in the cleaning tank. A contaminated cleaning liquid separating means for separating the contaminated cleaning liquid in which the contaminants are concentrated and the cleaning liquid substantially free of the contaminants from the cleaning tank,
A contaminated cleaning liquid discarding means for taking out and discarding the contaminated cleaning liquid concentrated with the contaminants from the contaminated cleaning liquid separating means is provided, and the cleaning liquid substantially free of the contaminants is taken out from the contaminated cleaning liquid separating means and put into the cleaning tank. A cleaning device comprising a cleaning liquid circulating means for circulating the cleaning liquid.
【請求項2】前記洗浄槽と前記汚染洗浄液分離手段との
間に前記汚染洗浄液を一時貯留する貯留槽を設け、前記
汚染洗浄液分離手段から前記汚染物質が濃縮された洗浄
液を取り出して該貯留槽に循環させる汚染洗浄液循環手
段を設け、該貯留槽に前記汚染洗浄液廃棄手段を設けて
なることを特徴とする請求項1記載の洗浄装置。
2. A storage tank for temporarily storing the contaminated cleaning liquid is provided between the cleaning tank and the contaminated cleaning liquid separating means, and the cleaning liquid in which the contaminant is concentrated is taken out from the contaminated cleaning liquid separating means. 2. The cleaning apparatus according to claim 1, further comprising a contaminated cleaning liquid circulating means for circulating the contaminated cleaning liquid, and the contaminated cleaning liquid discarding means provided in the storage tank.
【請求項3】前記洗浄槽が洗浄槽に収容された酸溶液に
ワークを浸漬して該酸溶液と該ワークの表層部とを反応
させて反応生成物を該酸溶液に溶解させることにより該
ワークの表面を洗浄する酸洗槽であって、該反応生成物
を前記汚染物質として含む酸溶液が前記汚染洗浄液循環
手段により該反応生成物が濃縮された酸溶液と実質的に
該反応生成物を含まない酸溶液とに分離されることを特
徴とする請求項1記載の洗浄装置。
3. The cleaning tank is prepared by immersing a work in an acid solution contained in the cleaning tank to react the acid solution with the surface layer of the work to dissolve a reaction product in the acid solution. A pickling tank for cleaning the surface of a work, wherein an acid solution containing the reaction product as the contaminant is substantially the same as the acid solution in which the reaction product is concentrated by the contaminated cleaning liquid circulating means. The cleaning apparatus according to claim 1, wherein the cleaning apparatus is separated into an acid solution containing no.
【請求項4】前記洗浄槽が他の洗浄槽で洗浄されたワー
クをリンスして該ワークに付着している該他の洗浄槽で
使用された他の洗浄液の濯ぎを行うリンス洗浄槽であっ
て、該他の洗浄液を前記汚染物質として含むリンス液が
前記汚染洗浄液循環手段により該他の洗浄液が濃縮され
たリンス液と実質的に該他の洗浄液を含まないリンス液
とに分離されることを特徴とする請求項1記載の洗浄装
置。
4. A rinse cleaning tank in which the cleaning tank rinses a work cleaned in another cleaning tank and rinses another cleaning liquid used in the other cleaning tank adhering to the work. And a rinse liquid containing the other cleaning liquid as the contaminant is separated by the contaminated cleaning liquid circulating means into a rinse liquid in which the other cleaning liquid is concentrated and a rinse liquid containing substantially no other cleaning liquid. The cleaning device according to claim 1, wherein:
【請求項5】前記他の洗浄液が洗剤を含むときに、前記
リンス洗浄槽と前記汚染洗浄液分離手段との間に、該洗
剤に乳化されている油分を除去する乳化油分除去手段を
設けてなることを特徴とする請求項4記載の洗浄装置。
5. When the other cleaning liquid contains a detergent, an emulsified oil removing means for removing oil emulsified in the detergent is provided between the rinse cleaning tank and the contaminated cleaning liquid separating means. The cleaning device according to claim 4, wherein:
【請求項6】前記洗浄槽が、底部に超音波振動子を備え
てなる超音波洗浄槽であることを特徴とする請求項1記
載の洗浄装置。
6. The cleaning apparatus according to claim 1, wherein the cleaning tank is an ultrasonic cleaning tank having an ultrasonic transducer at the bottom.
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