JPH06120320A - Carrier - Google Patents

Carrier

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JPH06120320A
JPH06120320A JP28928192A JP28928192A JPH06120320A JP H06120320 A JPH06120320 A JP H06120320A JP 28928192 A JP28928192 A JP 28928192A JP 28928192 A JP28928192 A JP 28928192A JP H06120320 A JPH06120320 A JP H06120320A
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JP
Japan
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drive
driven
shaft
magnet
arm
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP28928192A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoichi Deguchi
洋一 出口
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Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
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Publication date
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Publication of JPH06120320A publication Critical patent/JPH06120320A/en
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Abstract

PURPOSE:To perform the smooth operation of a carry arm by optimizing the positional relation between a drive magnet and a driven magnet used for a magnetic coupling at all times when transmitting not only the torque but also the axial force in the axial direction perpendicular to this rotational direction. CONSTITUTION:This is a magnetic coupling structure, where the rotation and expansion and contraction parts of a carry arm using a multijoint arm is composed of driven parts 26 and 30 positioned inside airtight space and drivers 32 and 34 positioned outside of the airtight space, and this is equipped with a structure 22 which shifts the rotation, extension, and contraction parts axially, putting the interval between the opposed fellow driven parts and drivers in the same condition. Accordingly, even after the shifting in axial direction for lifting up the carry arm, the magnetic attraction between the driven parts and the drivers at the rotation, extension, and contraction parts is maintained at maximum, and accurate and quick operation can be performed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は搬送装置に関し、さらに
詳しくは、半導体素子製造装置等の減圧雰囲気下におい
て用いられる多関節アームで構成された搬送アームを備
えた搬送装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transfer device, and more particularly to a transfer device having a transfer arm composed of multi-joint arms used in a reduced pressure atmosphere such as a semiconductor device manufacturing apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、半導体ウェハ等の被処理体に対
する成膜あるいはエッチング処理等の減圧処理を行う場
合には、被処理体をロードロックチャンバーからプロセ
スチャンバー内へ搬入あるいは同チャンバーから搬出す
るための搬送装置が用いられている。この搬送装置とし
ては、この種の技術分野において周知構造とされている
例えばフログレッグアーム等の多関部アームを備えた搬
送ロボットが用いられており、フログレッグアームの第
1支点側に位置する基台の回転動作、搬送アーム自体の
伸縮動作により、被処理体の搬入あるいは搬出がそれぞ
れ行えるようになっている。
2. Description of the Related Art Generally, when a film to be processed such as a semiconductor wafer or a depressurization process such as an etching process is carried out, the processed object is carried into or out of a load lock chamber into a process chamber. Is used. As the transfer device, a transfer robot having a multi-function arm such as a frog leg arm having a well-known structure in this technical field is used, and is located on the first fulcrum side of the frog leg arm. The object to be processed can be loaded or unloaded by rotating the base or expanding / contracting the transfer arm itself.

【0003】ところで、このようなフログレッグアーム
等は複数の駆動伝達軸の回転により上記基台の回転とア
ームの伸縮とを実現しており、ロードロックチャンバー
内に位置する基台およびアームへの回転駆動源は、チャ
ンバー内部の汚染を防止する観点からチャンバー外部に
配置するのが通常である。従って、駆動力を伝達する回
転軸は大気側と真空雰囲気側とに貫通し、大気−真空の
境界部にて気密性を維持することが必要になる。
By the way, such a frog leg arm realizes the rotation of the base and the extension / contraction of the arm by the rotation of a plurality of drive transmission shafts. The rotary drive source is usually arranged outside the chamber from the viewpoint of preventing contamination inside the chamber. Therefore, it is necessary that the rotary shaft that transmits the driving force penetrates between the atmosphere side and the vacuum atmosphere side and maintains airtightness at the atmosphere-vacuum boundary.

【0004】このため、従来では、例えば、大気側と真
空雰囲気側との境界部に位置し、回転軸とハウジングと
の支持部に対して、油中に磁性粉を含有させた磁性流体
を充填する磁気シール構造を用いる場合があった。
For this reason, conventionally, for example, a magnetic fluid containing magnetic powder in oil is filled in the support portion of the rotary shaft and the housing located at the boundary between the atmosphere side and the vacuum atmosphere side. In some cases, a magnetic seal structure for

【0005】しかしながら、磁性流体を用いた場合に
は、大気圧への昇圧及び真空雰囲気への減圧が繰り返さ
れると、シール部での耐圧よりも差圧が増大した場合に
は、シール部内での磁性流体が破壊されて流出し、ロー
ドロックチャンバー内に浮遊することがある。従って、
浮遊している磁性流体がパーティクルとして半導体ウェ
ハ表面に落下して付着すると、被処理体上に形成される
回路の破壊や品質不良を招くことになる。
However, when the magnetic fluid is used, if the differential pressure increases more than the pressure resistance of the seal portion when the pressure increase to the atmospheric pressure and the pressure reduction to the vacuum atmosphere are repeated, the pressure inside the seal portion increases. The magnetic fluid may be destroyed, flow out, and float in the load lock chamber. Therefore,
If the floating magnetic fluid drops and adheres to the surface of the semiconductor wafer as particles, it may lead to the destruction of the circuit formed on the object to be processed and the poor quality.

【0006】そこで、搬送アームの回転軸を真空雰囲気
に設定される気密空間内に位置させ、この回転軸に従動
磁石を、そして、気密空間外に従動磁石と対向させて駆
動磁石を配置した構成が提案されている( 例えば、特開
平3ー136779号公報)。 この提案構造によれ
ば、磁性流体シール等を用いなくても、気密空間の内外
にて磁気カップリングさせて搬送アームへ駆動力を伝達
することができる。
Therefore, the rotary shaft of the transfer arm is located in an airtight space set in a vacuum atmosphere, and the driven magnet is arranged so as to oppose the driven magnet outside the airtight space. Has been proposed (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 3-136779). According to the proposed structure, the driving force can be transmitted to the transfer arm by magnetic coupling inside and outside the airtight space without using a magnetic fluid seal or the like.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の磁気カ
ップリング駆動型の搬送装置では、駆動方向が回転方向
のみであった。すなわち、従来の搬送アームの駆動は、
アームを水平面にて伸縮する駆動と回転する駆動のみで
あり、この両者の駆動は共に回転駆動により達成されて
いたからである。
In the above-described conventional magnetic coupling drive type transfer device, the drive direction is only the rotational direction. That is, the drive of the conventional transfer arm is
This is because there are only the drive for expanding and contracting the arm in the horizontal plane and the drive for rotating the arm, and both of these drives are achieved by the rotary drive.

【0008】本発明者は、搬送アームの上記の駆動に加
えて、搬送アームの水平高さを可変させることで、半導
体ウェハの搬送上種々の付加価値が得られることを見い
出した。この際、搬送アームの昇降駆動は摺動軸を軸方
向移動させることで行うのが最も構成部品を少なくで
き、かつ、効率的な駆動を行うことができる。
The present inventor has found that in addition to the above-described driving of the transfer arm, by varying the horizontal height of the transfer arm, various added values can be obtained in the transfer of the semiconductor wafer. At this time, the elevating and lowering drive of the transfer arm is performed by moving the sliding shaft in the axial direction, which can minimize the number of constituent parts and can perform the efficient drive.

【0009】しかしながら、回転駆動を磁気カップリン
グにて行って、磁性流体シール等を用いずに大気側から
の駆動力の伝達を可能にしつつ、摺動軸の軸方向駆動を
も併せて行うと、回転のための駆動側,従動側の磁石の
軸方向での位置関係が常時一定とはならなくなり、適正
な磁気カップリングによる駆動が不能となる。
However, when the rotational driving is performed by the magnetic coupling to enable transmission of the driving force from the atmosphere side without using a magnetic fluid seal or the like, the sliding shaft is also driven in the axial direction. The positional relationship between the drive-side magnet and the driven-side magnet for rotation in the axial direction is not always constant, and driving by proper magnetic coupling becomes impossible.

【0010】そこで、本発明の目的とするところは、搬
送アームの伸縮のための回転軸が独自に回転するのみな
らず、搬送アームを昇降させた後においても、常に磁気
カップリングに用いられる駆動磁石と従動磁石との間の
位置関係を維持して搬送アームの円滑な動作が行える搬
送装置を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is that not only the rotary shaft for expanding and contracting the transfer arm rotates independently, but also the drive that is always used for the magnetic coupling even after the transfer arm is moved up and down. It is an object of the present invention to provide a transfer device capable of smoothly operating the transfer arm while maintaining the positional relationship between the magnet and the driven magnet.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、請求項1記載の発明は、半導体製造装置におけるロ
ードロックチャンバー内に配置された搬送アームと、こ
の搬送アームを伸縮駆動するための回転軸と、上記搬送
アームを昇降させるための摺動軸と、上記回転軸および
摺動軸の周囲を、前記ロードロックチャンバー内と連通
する気密空間とする外郭ハウジングと、上記回転軸およ
び摺動軸にそれぞれ固定された第1,第2の従動磁石
と、上記外郭ハウジングの外側にてその壁面を挾んで上
記第1,第2の従動磁石に対向して配置された第1,第
2の駆動磁石と、前記第1の駆動磁石を回転させる回転
駆動手段と、前記第1,第2の駆動磁石を共に軸方向に
移動させる軸方向移動手段と、を設けたことを特徴とす
る。
In order to achieve this object, a first aspect of the present invention provides a transfer arm arranged in a load lock chamber of a semiconductor manufacturing apparatus, and a rotation for driving the transfer arm to extend and contract. A shaft, a sliding shaft for moving up and down the transfer arm, an outer housing having an airtight space that communicates with the inside of the load lock chamber around the rotating shaft and the sliding shaft, the rotating shaft and the sliding shaft First and second driven magnets fixed respectively to the first and second driven magnets, which are arranged to face the first and second driven magnets while sandwiching the wall surface outside the outer housing. It is characterized in that a magnet, a rotation driving means for rotating the first driving magnet, and an axial moving means for moving both the first and second driving magnets in the axial direction are provided.

【0012】請求項2記載の発明は、上記第1の磁石と
は独立して上記第2の磁石を回転駆動する回転駆動手段
をさらに設け、前記第2の従動磁石を介して上記摺動軸
を回転させて上記搬送アームを水平面内にて回転させる
ことを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is further provided a rotation driving means for rotating and driving the second magnet independently of the first magnet, and the sliding shaft is provided through the second driven magnet. Is rotated to rotate the transfer arm in a horizontal plane.

【0013】請求項3記載の発明は、第1の駆動および
従動磁石の配置領域とを、第2の駆動および従動磁石の
配置領域とを磁気的に分離する手段とを設けたことを特
徴とする。
According to a third aspect of the present invention, there is provided means for magnetically separating the first drive and driven magnet arrangement area from the second drive and driven magnet arrangement area. To do.

【0014】[0014]

【作用】駆動磁石と従動磁石とを用いた磁気カップリン
グによる回転動作を良好に行わせるには、駆動磁石と従
動磁石との間の対向間隔を常に一定の磁気吸引力が得ら
れる状態に設定することが必要である。そこで、本発明
においては、搬送アームを昇降させる際には、第1,第
2の駆動磁石を共に軸方向に移動させ、対となる第1,
第2の従動磁石との磁気カップリングによる磁気吸引力
を昇降位置に依存せずに常に一定としている。
In order to favorably perform the rotation operation by the magnetic coupling using the drive magnet and the driven magnet, the facing distance between the drive magnet and the driven magnet is set to a state where a constant magnetic attraction force is always obtained. It is necessary to. Therefore, in the present invention, when the transfer arm is moved up and down, the first and second drive magnets are both moved in the axial direction to form a pair of first and second drive magnets.
The magnetic attraction force by the magnetic coupling with the second driven magnet is always constant regardless of the ascending / descending position.

【0015】[0015]

【実施例】以下、図面において本発明の詳細を説明す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The details of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0016】図1は、本発明の搬送装置が適用される真
空処理装置の全体構成を示す配置図である。
FIG. 1 is a layout diagram showing the overall construction of a vacuum processing apparatus to which the carrying apparatus of the present invention is applied.

【0017】すなわち、真空処理装置100は、被処理
体の一例である半導体ウェハ( 以下、半導体ウェハの場
合で説明する) の搬送方向( 図中、矢印Aで示す方向)
に沿って上流側から順に、大気圧−真空雰囲気に置換可
能な搬入側のロックチャンバー102、プロセスチャン
バー104、そして真空雰囲気−大気圧に置換可能な搬
出側のロードロックチャンバー106が配置されてい
る。そして、これら各チャンバー同士はその連結部に半
導体ウェハWを搬送するための開口が形成され、この開
口はゲートバルブ108によって開閉されるようになっ
ている。
That is, the vacuum processing apparatus 100 is configured to convey a semiconductor wafer (which will be described below in the case of a semiconductor wafer), which is an example of an object to be processed, in a conveying direction (direction indicated by an arrow A in the drawing).
A load-side lock chamber 102 and a process chamber 104 that can be replaced with an atmospheric pressure-vacuum atmosphere, and a load-lock chamber 106 that can be replaced with a vacuum atmosphere-atmospheric pressure are arranged in this order from the upstream side. . Then, an opening for carrying the semiconductor wafer W is formed at the connecting portion between these chambers, and this opening is opened and closed by the gate valve 108.

【0018】上述したロードロックチャンバーのうち、
例えば、搬入側のロードロックチャンバー102は、プ
ロセスチャンバー104に搬入される半導体ウェハWを
一時的に収納して大気圧から真空状態に減圧処理を行う
空間を有している。図1に示した真空処理装置の場合に
は、内部に配備されている搬送ロボット110により、
例えば、25枚の半導体ウェハWを格納できるセンダカ
セット120内から何枚かの半導体ウェハWを順次取り
出し、内部に有するバッファ130内に縦方向で間隔を
あけて載置するようになっている。
Of the load lock chambers described above,
For example, the load lock chamber 102 on the loading side has a space in which the semiconductor wafer W loaded into the process chamber 104 is temporarily stored and a pressure reduction process is performed from atmospheric pressure to a vacuum state. In the case of the vacuum processing apparatus shown in FIG. 1, the transfer robot 110 provided inside
For example, some semiconductor wafers W are sequentially taken out from a sender cassette 120 capable of storing 25 semiconductor wafers W, and are placed in a buffer 130 provided therein at intervals in the vertical direction.

【0019】このように、ロードロックチャンバー10
2内において一時的に複数枚の半導体ウェハWを収容し
ておく理由は、一枚毎の半導体ウェハWに対して大気圧
からの減圧処理を行う時に比べて大気の混入機会を少な
くし、これによって大気圧からの減圧を繰り返さないで
すむようにして減圧に要する時間を短縮するためであ
る。
Thus, the load lock chamber 10
The reason for accommodating a plurality of semiconductor wafers W temporarily in 2 is to reduce the chance of entering the atmosphere as compared with the case where the pressure reduction process from atmospheric pressure is performed for each semiconductor wafer W. This is to reduce the time required for decompression by avoiding repeated decompression from atmospheric pressure.

【0020】一方、バッファ130に対する半導体ウェ
ハWの載置方法としては、例えば、図2に示すように、
2段の載置部を有するバッファ130が設置されている
場合、上段の載置部と干渉しない高さに搬送ロボット1
10の搬送アーム10を位置させ( 図2(A) 参照) 、こ
の位置から載置部に向け搬送アーム10を下げて半導体
ウェハWを定置させる( 図2(B) 参照) 。次いで、下段
の載置部に対して、上述した順序を繰り返すことによっ
て半導体ウェハWを上下各段にそれぞれ定置させる( 図
2(C) 、(D) 参照) 。この方法によると、載置部に定置
された半導体ウェハWの表面にパーティクル等の不純物
が落下して付着するのを防止することができる。
On the other hand, as a method of mounting the semiconductor wafer W on the buffer 130, for example, as shown in FIG.
When the buffer 130 having the two-stage mounting portions is installed, the transfer robot 1 has a height that does not interfere with the upper-stage mounting portions.
The transfer arm 10 of 10 is positioned (see FIG. 2 (A)), and the transfer arm 10 is lowered from this position toward the mounting portion to place the semiconductor wafer W (see FIG. 2 (B)). Next, the semiconductor wafer W is placed on each of the upper and lower stages by repeating the above-described order on the mounting portion on the lower stage (see FIGS. 2C and 2D). According to this method, it is possible to prevent impurities such as particles from falling and adhering to the surface of the semiconductor wafer W placed on the mounting portion.

【0021】また、上述した半導体ウェハ表面へのパー
ティクルの付着を防止しなければならない場合として
は、バッファ130からの半導体ウェハの取り出し時が
あり、この場合には、バッファ130の下段側から半導
体ウェハが取り出されてプロセスチャンバー104内の
サセプタに載置される。
In addition, when it is necessary to prevent the particles from adhering to the surface of the semiconductor wafer, the semiconductor wafer may be taken out of the buffer 130. In this case, the semiconductor wafer is taken from the lower side of the buffer 130. Are taken out and placed on the susceptor in the process chamber 104.

【0022】従って、搬送ロボット110の搬送アーム
10は伸縮可能であると共に、バッファ130およびサ
セプタでの半導体ウェハの載置、取り出しのために、搬
送アーム10を支持するアーム台12が回転及び昇降を
行える構造とされている。
Therefore, the transfer arm 10 of the transfer robot 110 can be expanded and contracted, and the arm base 12 supporting the transfer arm 10 can be rotated and moved up and down for loading and unloading the semiconductor wafer on the buffer 130 and the susceptor. It has a structure that can be done.

【0023】そして、図3及び図4は、本発明による搬
送装置の第1実施例を、上述したロードロックチャンバ
に配置されている搬送アーム10の駆動部に適用した場
合を示しており、この実施例では、搬送アーム10の構
造として、前述したフログレッグ方式が用いられてい
る。
FIGS. 3 and 4 show a case where the first embodiment of the transfer device according to the present invention is applied to the drive unit of the transfer arm 10 arranged in the above-mentioned load lock chamber. In the embodiment, the frog leg method described above is used as the structure of the transfer arm 10.

【0024】すなわち、搬送アーム10は、例えば、図
4に示すように、アームの全体回転を行わせるアーム台
12を備えており、このアーム台12は、ロードロック
チャンバーのベース部をなす基台部14の内方に配置さ
れ、内部にフログレッグアームの伸縮支点軸を回転させ
るための駆動部が配置されている。
That is, the transfer arm 10 is provided with, for example, as shown in FIG. 4, an arm base 12 for rotating the entire arm, and the arm base 12 serves as a base forming a base portion of the load lock chamber. A drive unit is disposed inside the portion 14 for rotating the expansion and contraction fulcrum shaft of the frog leg arm.

【0025】そして、この基台部14の下面には外郭ハ
ウジング16が配置されている。この外郭ハウジング1
6は、上面を基台部14の下面から離間させて配置さ
れ、フログレッグアームの伸縮用支点軸を駆動する駆動
軸18の外方および軸方向下端を囲繞することのできる
空間を形成された有底部材で構成されている。また、外
郭ハウジング16の上面と基台部14の下面との間に
は、これら各面に延長方向両端をそれぞれ一体化されて
伸縮可能な隔壁をなす金属溶接ベローズ20が設けら
れ、外郭ハウジング16の内部空間がこの金属溶接ベロ
ーズ20によって気密に封止されるとともに、外郭ハウ
ジング16が軸方向で変位できるようになっている。
An outer housing 16 is arranged on the lower surface of the base portion 14. This outer housing 1
6 is arranged with its upper surface separated from the lower surface of the base portion 14 to form a space capable of surrounding the outer side and the lower end in the axial direction of the drive shaft 18 which drives the expansion and contraction fulcrum shaft of the frog leg arm. It is composed of a bottomed member. Further, between the upper surface of the outer housing 16 and the lower surface of the base portion 14, metal welded bellows 20 that are expandable and contractible partition walls that are integrated with both ends in the extension direction are provided on these surfaces, respectively. The inner space of is sealed airtight by the metal welded bellows 20 and the outer housing 16 can be displaced in the axial direction.

【0026】このような外郭ハウジング16の変位を行
わせるために、外郭ハウジング16の下端部には、例え
ば、エアシリンダ22のピストン22Aが連結されてい
る。
In order to perform such displacement of the outer housing 16, a piston 22A of an air cylinder 22, for example, is connected to the lower end of the outer housing 16.

【0027】上述した外郭ハウジング16は、駆動軸1
8の軸方向に沿って、2ヵ所の大径部16A、16B
と、この大径部16A、16Bをそれぞれをはさんで駆
動軸18の軸方向に沿って対向する小径部16A1、1
6B1を設けた形状を設定されている。そして、その小
径部の一方、図3では、駆動軸18の軸端部近傍に相当
する位置の小径部16B1の内周面には軸方向に沿って
軸受24が並べられ、大径部16Bの内周面には駆動軸
18の外周面に固定された第1の従動磁石26が入り込
んでいる。
The outer housing 16 described above is the drive shaft 1
2 large diameter parts 16A, 16B along the axial direction of 8
And the small diameter portions 16A1 and 1A1 which face each other across the large diameter portions 16A and 16B along the axial direction of the drive shaft 18, respectively.
The shape provided with 6B1 is set. Then, one of the small diameter portions, in FIG. 3, the bearing 24 is arranged along the axial direction on the inner peripheral surface of the small diameter portion 16B1 at a position corresponding to the vicinity of the shaft end portion of the drive shaft 18, and the large diameter portion 16B A first driven magnet 26 fixed to the outer peripheral surface of the drive shaft 18 is inserted in the inner peripheral surface.

【0028】また、他方の小径部16A1の内周面に
は、軸受24を介して筒軸28が駆動軸18と同心にて
独立して回転自在に支持されており、この筒軸28の上
端はアーム台12と固定されている。そして、他方の大
径部16Aの内周面には、筒軸28の外周面に固定され
た第2の従動磁石30が入り込んでいる。
A cylindrical shaft 28 is concentrically and independently rotatably supported by a bearing 24 on the inner peripheral surface of the other small diameter portion 16A1 so as to be rotatable. Is fixed to the arm base 12. Then, the second driven magnet 30 fixed to the outer peripheral surface of the cylindrical shaft 28 is inserted into the inner peripheral surface of the other large diameter portion 16A.

【0029】従って、駆動軸18および筒軸28を、い
ずれも外郭ハウジング16の内側に位置して独立して回
転することで、搬送アーム10の伸縮駆動とアーム台1
2の回転駆動を行い、筒軸28の昇降によりアーム台1
2を昇降することができる。
Therefore, the drive shaft 18 and the cylinder shaft 28 are both located inside the outer housing 16 and independently rotated, whereby the telescopic drive of the transfer arm 10 and the arm base 1 are performed.
2 is driven to rotate and the cylinder shaft 28 is moved up and down to move the arm base 1
2 can be raised and lowered.

【0030】一方、外郭ハウジング16をはさんで第
1、第2の従動磁石26、30と対向する位置には、第
1、第2の駆動磁石32、34が配置されている。図3
では、第1、第2の従動磁石26、30の下方に第1、
第2の駆動磁石32、34が配置されており、これら駆
動磁石32、34は、軸受36を介して外郭ハウジング
16に対して回転自在に支持されている。そして、この
第1、第2の駆動磁石32、34は、いずれも独自の回
転駆動機構( 図示されず) によって回転する構造を備え
ている。この回転駆動機構としては、例えばサーボモー
タの出力ギアを第1,第2の駆動磁石32,34に形成
したギアと噛合させて構成でき、回転駆動機構はエアシ
リンダ22にて昇降される。
On the other hand, first and second drive magnets 32 and 34 are arranged at positions facing the first and second driven magnets 26 and 30 with the outer housing 16 interposed therebetween. Figure 3
Then, below the first and second driven magnets 26, 30, the first,
The second drive magnets 32, 34 are arranged, and these drive magnets 32, 34 are rotatably supported by the outer housing 16 via bearings 36. Each of the first and second drive magnets 32 and 34 has a structure in which it is rotated by its own rotation drive mechanism (not shown). The rotary drive mechanism can be configured by, for example, engaging an output gear of a servo motor with gears formed on the first and second drive magnets 32 and 34, and the rotary drive mechanism is moved up and down by an air cylinder 22.

【0031】また、第1の従動磁石26と第2の駆動磁
石34との間の領域には、磁性体例えばパーマロイ等に
て形成された磁気遮蔽部材38が、外郭ハウジング16
の内外に突出して設けられている。この遮蔽部材38に
より、第1の従動磁石26と第2の駆動磁石34とが互
いに影響を与えないようになっている。
In the area between the first driven magnet 26 and the second drive magnet 34, a magnetic shielding member 38 made of a magnetic material such as permalloy is provided in the outer housing 16.
It is provided so as to project inside and outside. The shield member 38 prevents the first driven magnet 26 and the second drive magnet 34 from affecting each other.

【0032】次に作用について説明する。Next, the operation will be described.

【0033】この搬送装置における搬送アーム10は、
アーム台12の下面に位置する筒軸28およびこの内側
に位置する駆動軸18がともに外郭ハウジング16の内
側に位置し、この外郭ハウジング20の底部と上面に固
定されている金属溶接ベローズ26とで形成される内部
空間が外気と遮断されることにより、回転・伸縮動作部
および昇降動作部が外気から密封される。
The transfer arm 10 in this transfer device is
The cylindrical shaft 28 located on the lower surface of the arm base 12 and the drive shaft 18 located inside thereof are both located inside the outer housing 16, and the bottom of the outer housing 20 and the metal welded bellows 26 fixed to the upper surface thereof. By shutting off the formed internal space from the outside air, the rotating / extending / contracting motion part and the elevating / lowering motion part are sealed from the outside air.

【0034】一方、搬送装置における搬送アーム10
は、チャンバー間での半導体ウェハの搬送および、バッ
ファおよびサセプタへの半導体ウェハの載置および取り
出しのために、回転、伸縮および昇降動作を行う。この
ため、回転動作は筒軸28を回転させることでアーム台
12を回転させ、伸縮動作は搬送アーム10の回転支点
軸を駆動する駆動軸18を回転させることにより得られ
る。これに対して、昇降動作は、エアシリンダ24のピ
ストン24Aが駆動された際の外郭ハウジング16の昇
降力が第2の駆動及び従動磁石34,30を介して筒軸
28に伝達されることで実現できる。
On the other hand, the transfer arm 10 in the transfer device
Performs rotation, expansion / contraction, and elevating / lowering operations in order to transfer the semiconductor wafer between the chambers and to mount / unload the semiconductor wafer on / from the buffer and the susceptor. Therefore, the rotation operation is obtained by rotating the arm shaft 12 by rotating the cylinder shaft 28, and the expansion and contraction operation is obtained by rotating the drive shaft 18 that drives the rotation fulcrum shaft of the transfer arm 10. On the other hand, in the lifting operation, the lifting force of the outer housing 16 when the piston 24A of the air cylinder 24 is driven is transmitted to the cylinder shaft 28 via the second drive and driven magnets 34 and 30. realizable.

【0035】従って、筒軸28を介したアーム台12の
回転は、第2の従動磁石30に対して第2の駆動磁石3
4を回転させたときに互いの磁極同士が吸引し合うこと
で行われる。また、駆動軸18の回転は、第1の従動磁
石26に対して第1の駆動磁石26を回転させたときに
互いの磁極同士が吸引し合うことで行われる。このと
き、両者の駆動は、例えばパーマロイ材等の磁気遮蔽部
材38によって互いに他方の対の磁石に磁気的な悪影響
を与えないようになっている。
Therefore, the rotation of the arm base 12 via the cylindrical shaft 28 causes the second drive magnet 3 to rotate with respect to the second driven magnet 30.
This is done by causing the magnetic poles to attract each other when the 4 is rotated. Further, the rotation of the drive shaft 18 is performed by attracting the magnetic poles of each other when the first drive magnet 26 is rotated with respect to the first driven magnet 26. At this time, the driving of both is prevented from exerting a magnetic adverse effect on the other pair of magnets by the magnetic shield member 38 such as a permalloy material.

【0036】一方、アーム台12の昇降動作は、外郭ハ
ウジング16の変位に応じて筒軸28を一体的に昇降さ
せることで行われるが、このとき軸部18も筒軸28と
同様にして第1の駆動及び従動磁石32,26を介して
一体的に昇降されることになる。従って、外郭ハウジン
グと一体の第1,第2の駆動磁石32,34の昇降移動
に追従させて、第1、第2の従動磁石26,30を昇降
させることができる。
On the other hand, the raising and lowering operation of the arm base 12 is performed by integrally raising and lowering the cylinder shaft 28 according to the displacement of the outer shell housing 16. At this time, the shaft portion 18 is also moved in the same manner as the cylinder shaft 28. It will be integrally moved up and down via the drive and driven magnets 32 and 26 of FIG. Therefore, the first and second driven magnets 26 and 30 can be moved up and down by following up and down movements of the first and second drive magnets 32 and 34 that are integrated with the outer housing.

【0037】従って、外郭ハウジング16の変位によっ
て駆動磁石側の位置が変化しても、これに対向する従動
磁石側との間の位置関係は常に同じ関係に設定されてい
ることになるので、昇降変位した位置でアーム台12あ
るいは駆動軸18の回転を独自に行わせる場合、従動磁
石に対する駆動磁石の位置を変位前と同じ状態とするこ
とができ、これによって、磁極同士での吸引力を変化さ
せないようにして実行することができる。
Therefore, even if the position on the drive magnet side changes due to the displacement of the outer housing 16, the positional relationship between the drive magnet side and the driven magnet side facing the drive magnet side is always set to the same relationship. When the arm base 12 or the drive shaft 18 is independently rotated at the displaced position, the position of the drive magnet with respect to the driven magnet can be set to the same state as before the displacement, thereby changing the attraction force between the magnetic poles. It can be executed without being allowed.

【0038】次に、図5において本発明の他の実施例に
ついて説明する。
Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0039】図5に示す実施例においても、図3に示し
た例と同様に、基台部14の下面に外郭ハウジング40
が配置されているが、その上面が直接、基台部14の下
面に締結されて一体化されている点で上記実施例とは異
なっている。この外郭ハウジング40は、その断面形状
がカップ状に設定されて、搬送アーム10の回転支点軸
を駆動する駆動軸50の外方および軸端部を囲繞できる
空間を気密に封止している。
In the embodiment shown in FIG. 5, as in the example shown in FIG. 3, the outer shell housing 40 is provided on the lower surface of the base portion 14.
Is arranged, which is different from the above embodiment in that the upper surface is directly fastened to and integrated with the lower surface of the base portion 14. The outer housing 40 has a cup-shaped cross section, and hermetically seals a space that can surround the outer side and the shaft end of the drive shaft 50 that drives the rotation fulcrum shaft of the transfer arm 10.

【0040】一方、外郭ハウジング40の内部でしかも
駆動軸50の周囲には、上面をアーム台12の下面に締
結された筒軸60が駆動軸50と同心にて配置されてい
る。この筒軸60は、基台部14に対向する位置および
軸方向下端近傍に相当する位置の外周面に設けられてい
る軸受62によって外郭ハウジング40に対して回転方
向及び軸方向に移動自在に支持されている。この軸受6
2は、構造の詳細を説明しないが、例えば、スプライン
結合等を用いた筒軸60の回転および軸方向での摺動を
許容する構造のものが用いられている。
On the other hand, inside the outer housing 40 and around the drive shaft 50, a cylindrical shaft 60 whose upper surface is fastened to the lower surface of the arm base 12 is arranged concentrically with the drive shaft 50. The cylindrical shaft 60 is movably supported in the rotational direction and the axial direction with respect to the outer housing 40 by a bearing 62 provided on the outer peripheral surface at a position facing the base portion 14 and a position corresponding to the vicinity of the lower end in the axial direction. Has been done. This bearing 6
No. 2 does not describe the details of the structure, but for example, one having a structure that allows rotation and sliding in the axial direction of the cylinder shaft 60 using spline coupling or the like is used.

【0041】上述した駆動軸50は、筒軸60の内周面
との間に配置されている一対の軸受64によって筒軸6
0に対して回転方向のみ移動自在に支持されており、軸
端部近傍の外周面には、第1の従動磁石66が固定され
ている。
The drive shaft 50 described above has a pair of bearings 64 arranged between it and the inner peripheral surface of the cylinder shaft 60.
It is movably supported only in the rotational direction with respect to 0, and a first driven magnet 66 is fixed to the outer peripheral surface near the shaft end.

【0042】また、上述した筒軸60の外周面にも第2
の従動磁石68が設けられており、この第2の従動磁石
68は、軸受62同士の間で筒軸60の外周面に固定さ
れている。
A second member is also provided on the outer peripheral surface of the cylinder shaft 60 described above.
Driven magnet 68 is provided, and the second driven magnet 68 is fixed to the outer peripheral surface of the cylinder shaft 60 between the bearings 62.

【0043】従って、駆動軸50および筒軸60は、上
面を基台部14の下面に一体化されている外郭ハウジン
グ40により外部と遮断された状態で駆動されることに
なる。一方、外郭ハウジング40の外方には、第1、第
2の従動磁石66、68に対向して第1、第2駆動磁石
70、72がそれぞれ配置されている。これら第1、第
2駆動磁石70、72は、本実施例の場合、外郭ハウジ
ング40の側壁から所定距離だけ離れた位置で、かつ、
互いの間隔を対向する従動磁石同士の配置間隔に合わせ
た位置に配設されており、駆動軸50の軸方向に変位し
た場合においても、常に同じ位置関係を設定されるよう
になっている。
Therefore, the drive shaft 50 and the cylinder shaft 60 are driven in a state of being shielded from the outside by the outer housing 40 whose upper surface is integrated with the lower surface of the base portion 14. On the other hand, outside the outer housing 40, first and second drive magnets 70 and 72 are respectively arranged facing the first and second driven magnets 66 and 68. In the case of the present embodiment, the first and second drive magnets 70, 72 are located at a predetermined distance from the side wall of the outer housing 40, and
The magnets are arranged at positions corresponding to the distance between the driven magnets facing each other, and the same positional relationship is always set even when the driven magnets are displaced in the axial direction.

【0044】このため、第1、第2の駆動磁石70、7
2の支持機構としては、互いに独立して回転する機能と
互いに一体の状態で駆動軸の軸方向に変位させる機能と
を併せ持つ構造のものが用いられ、その構造の一例とし
ては、駆動磁石同士の支持部をクラッチ機構により連結
して独立した回転を可能にし、そして、このクラッチ機
構を昇降機構に連結してクラッチ機構そのものを駆動軸
50の軸方向に沿って昇降変位させて駆動磁石同士を連
動させる構造等がある。
Therefore, the first and second drive magnets 70, 7
As the support mechanism of 2, a structure having a function of rotating independently of each other and a function of displacing in the axial direction of the drive shaft in a state of being integrated with each other is used. The support part is connected by a clutch mechanism to enable independent rotation, and the clutch mechanism is connected to the elevating mechanism to displace the clutch mechanism itself up and down along the axial direction of the drive shaft 50 to interlock the drive magnets. There is a structure to make it.

【0045】次に作用について説明する。Next, the operation will be described.

【0046】搬送装置における搬送アームは、アーム台
12の下面に位置する筒軸60およびこの内側に位置す
る駆動軸50がともに外郭ハウジング40の内側に位置
し、この外郭ハウジング40の底部と上面が締結されて
いる基台部14とで形成される内部空間が外気と遮断さ
れることにより、回転・伸縮動作部および昇降動作部が
外気から密封される。
In the transfer arm of the transfer device, the cylindrical shaft 60 located on the lower surface of the arm base 12 and the drive shaft 50 located inside thereof are both located inside the outer housing 40, and the bottom and upper surface of the outer housing 40 are By shutting off the internal space formed by the fastened base part 14 from the outside air, the rotation / extension operation part and the elevating operation part are sealed from the outside air.

【0047】一方、搬送アームは、チャンバー間での半
導体ウェハの搬送そしてバッファおよびサセプタへの半
導体ウェハの載置および取り出しのために、回転、伸縮
および昇降動作を行う。このため、回転動作は筒軸60
を介してアーム台12を回転させ、伸縮動作は搬送アー
ムの回転支点軸を駆動する駆動軸50を回転させること
により得られる。また、昇降動作は、筒軸40および駆
動軸50が共に上下方向に変位させられることにより得
られる。
On the other hand, the transfer arm rotates, expands and contracts, and moves up and down in order to transfer the semiconductor wafer between the chambers and to place and take out the semiconductor wafer to and from the buffer and the susceptor. Therefore, the rotation operation is performed by the cylinder shaft 60.
The arm base 12 is rotated via the, and the expansion and contraction operation is obtained by rotating the drive shaft 50 that drives the rotation fulcrum shaft of the transfer arm. Further, the lifting operation is obtained by displacing both the cylinder shaft 40 and the drive shaft 50 in the vertical direction.

【0048】従って、アーム台12の回転、およびアー
ム10の伸縮動作は、図3に示した例と同様に、駆動軸
50および筒軸40に有する第1、第2従動磁石66、
68の何れかに対して第1、第2駆動磁石70、72の
何れかを回転させることにより、磁極の移動に応じて互
いの磁極同士が吸引し合うことにより行われる。
Therefore, the rotation of the arm base 12 and the extension / contraction operation of the arm 10 are similar to those in the example shown in FIG. 3, and the first and second driven magnets 66, 66 having the drive shaft 50 and the cylindrical shaft 40 are provided.
By rotating either of the first and second drive magnets 70, 72 with respect to any of 68, the magnetic poles attract each other according to the movement of the magnetic poles.

【0049】一方、アーム台12の昇降させるために
は、少なくとも筒軸40に昇降力を伝達させればよい
が、本実施例においても筒軸40及び駆動軸50の双方
を昇降させている。筒軸40および駆動軸50の昇降動
作は、第1、第2駆動磁石70、72を共に変位させる
ことにより、磁極の移動に応じて互いの磁極同士が吸引
し合うことで行われる。そして、この昇降動作時におけ
る従動磁石同士および駆動磁石同士は、いずれも同じ間
隔を持ったままで変位する。
On the other hand, in order to raise / lower the arm base 12, it is sufficient to transmit the raising / lowering force to at least the cylinder shaft 40. In this embodiment, both the cylinder shaft 40 and the drive shaft 50 are also moved up / down. The vertical movement of the cylinder shaft 40 and the drive shaft 50 is performed by displacing the first and second drive magnets 70 and 72 so that the magnetic poles attract each other as the magnetic poles move. Then, the driven magnets and the drive magnets are displaced while maintaining the same interval during the lifting operation.

【0050】従って、第1、第2の駆動磁石70、72
が変位した場合、これら駆動磁石同士の間隔およびこれ
に応じて変位する第1、第2従動磁石66、68同士の
間隔が常に同じ状態を維持されるので、昇降変位した位
置でアーム台12あるいは駆動軸50を回転させる場
合、従動磁石に対する駆動磁石の位置を変位前と同じ状
態とすることができ、これによって、磁極同士での吸引
力を変化させないようにして実行することができる。
Therefore, the first and second drive magnets 70, 72
Is displaced, the spacing between the drive magnets and the spacing between the first and second driven magnets 66 and 68 that are displaced accordingly are always maintained at the same state. When the drive shaft 50 is rotated, the position of the drive magnet with respect to the driven magnet can be set to the same state as before the displacement, and this can be performed without changing the attraction force between the magnetic poles.

【0051】本実施例によれば、筒軸60を介したアー
ム台12および駆動軸50の昇降動作を、これら部材の
回転、伸縮動作のための駆動磁石を兼用することにより
行えるので、構成部品の数を少なくして構造が大型化す
るのを抑えることができる。
According to this embodiment, since the arm base 12 and the drive shaft 50 can be moved up and down through the cylinder shaft 60 by using the drive magnets for the rotation and expansion and contraction of these members as well, the constituent parts can be constructed. It is possible to suppress the increase in size of the structure by reducing the number of.

【0052】なお、本発明の実施例として説明した搬送
アームの構造は、伸縮動作のための回転支軸を駆動する
駆動軸が単一の場合を対象としたが、複数の駆動軸を設
けた構造を対象とすることも可能であり、好ましくは複
数軸を同心配置とすることができる。
Although the structure of the transfer arm described as the embodiment of the present invention is intended for the case where there is a single drive shaft for driving the rotation support shaft for the expansion and contraction operation, a plurality of drive shafts are provided. It is also possible to target the structure, and preferably the axes can be concentrically arranged.

【0053】また、本発明は、上述したロードロックチ
ャンバー内に装備されているフレグロックアームにより
構成された搬送アームに適用するだけでなく、多関節ア
ームの構造からなる搬送アームを用いて回転、昇降を行
わせる搬送装置においても適用すること勿論可能であ
る。また、外郭ハウジングの内外に配置される駆動磁
石、従動磁石としては、所望の駆動力を確保するために
軸方向に沿って多段に配列しても良い。
Further, the present invention is not only applied to the transfer arm constituted by the fleg lock arm mounted in the load lock chamber described above, but also rotated by using the transfer arm having the structure of the multi-joint arm. It is of course possible to apply the present invention to a carrying device for raising and lowering. Further, the driving magnets and the driven magnets arranged inside and outside the outer housing may be arranged in multiple stages along the axial direction in order to secure a desired driving force.

【0054】さらに、上述した搬送アームを備えた搬送
装置を1台設置し、この搬送装置によって複数のチャン
バー内への被処理体あるいはその他の減圧雰囲気下にお
いて処理を実行される材料の搬入、搬出を搬送アームの
回転、伸縮および昇降動作によって行う場合、いわゆる
マルチチャンバータイプにおいても本発明を適用するこ
とが勿論可能である。
Further, one transfer device having the above-mentioned transfer arm is installed, and the transfer device carries in and out the objects to be processed into a plurality of chambers or other materials to be processed under a reduced pressure atmosphere. Of course, the present invention can be applied to a so-called multi-chamber type when the transfer arm is rotated, expanded and contracted, and moved up and down.

【0055】また、上記実施例はアーム第12を昇降さ
せることで、半導体ウェハを多段収容できるバッファ1
30に対するウェハの受け渡しを可能としたが、これに
限らず例えばプロセスチャンバ104内のサセプタに対
する受渡しに利用するなど、種々の用途に利用すること
ができる。
Further, in the above embodiment, the buffer 1 capable of accommodating semiconductor wafers in multiple stages by moving the arm 12 up and down.
Although it is possible to transfer the wafer to and from the wafer 30, the present invention is not limited to this, and the wafer can be used for various purposes such as the transfer to the susceptor in the process chamber 104.

【0056】本発明の実施例によれば、真空装置の搬送
装置に使われている磁気シールを無くしたので,磁気シ
ールによるプロセスチャンバやロードロック室の汚染の
ないクリーンな真空装置における搬送装置を提供でき
る。
According to the embodiment of the present invention, since the magnetic seal used in the transfer device of the vacuum device is eliminated, a transfer device in a clean vacuum device in which the magnetic seal does not contaminate the process chamber or the load lock chamber is provided. Can be provided.

【0057】[0057]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、磁気カッ
プリング構造を用いて搬送アームの少なくとも伸縮動作
部および軸方向への移動動作部を気密空間内で動作させ
る構造とすることができ、軸方向への移動が行われた後
においても、伸縮動作を行うための動作部に対する駆動
側の磁石と従動側の磁石との位置関係を整合させること
ができる。従って、軸方向への移動が行われた後に伸縮
動作のための駆動側磁石が動作した場合、従動側の磁石
との間で磁極同士の吸引力を常に一定の状態に設定する
ことができ、迅速かつ円滑な伸縮動作を行わせることが
できる。
As described above, according to the present invention, at least the telescopic operation part and the axial movement operation part of the transfer arm can be operated in the airtight space by using the magnetic coupling structure. Even after the axial movement, the positional relationship between the drive-side magnet and the driven-side magnet with respect to the operation unit for performing the expansion / contraction operation can be matched. Therefore, when the drive-side magnet for the expansion / contraction operation is operated after the movement in the axial direction, the attraction force between the magnetic poles between the driven-side magnet and the driven-side magnet can always be set to a constant state. The expansion and contraction operation can be performed quickly and smoothly.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明による搬送装置が適用される装置の一例
である真空処理装置の全体構成を説明するための配置図
である。
FIG. 1 is a layout diagram for explaining an overall configuration of a vacuum processing apparatus which is an example of an apparatus to which a carrying apparatus according to the present invention is applied.

【図2】(A) 乃至(D) は図1に示した真空処理装置のロ
ードロックチャンバーでの半導体素子の載置手順を説明
するための模式図である。
2A to 2D are schematic views for explaining a procedure for mounting a semiconductor element in a load lock chamber of the vacuum processing apparatus shown in FIG.

【図3】本発明を適用した搬送装置の駆動部の構造を模
式的に示した断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing the structure of a drive unit of a carrying device to which the present invention is applied.

【図4】図3に示した搬送装置の駆動部が適用される搬
送アームの要部構造を説明するための一部断面図であ
る。
4 is a partial cross-sectional view for explaining a main part structure of a transfer arm to which the drive unit of the transfer device shown in FIG. 3 is applied.

【図5】本発明の別実施例を適用した搬送装置の駆動部
の構造を模式的に示した断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing the structure of a drive unit of a carrying device to which another embodiment of the present invention is applied.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 搬送アーム 12 アーム台 14 基台部 16,40 外郭ハウジング 18,50 駆動軸 20 隔壁部をなす金属溶接ベローズ 22 エアシリンダ 28,60 筒軸 30,66 第1の従動磁石 26,68 第2の従動磁石 32,70 第1の駆動磁石 34,72 第2の駆動磁石 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Transfer arm 12 Arm base 14 Base part 16,40 Outer housing 18,50 Drive shaft 20 Metal welded bellows forming a partition wall 22 Air cylinder 28,60 Cylindrical shaft 30,66 First driven magnet 26,68 Second Driven magnet 32,70 First drive magnet 34,72 Second drive magnet

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体製造装置におけるロードロックチ
ャンバー内に配置された搬送アームと、 この搬送アームを伸縮駆動するための回転軸と、 上記搬送アームを昇降させるための摺動軸と、 上記回転軸および摺動軸の周囲を、前記ロードロックチ
ャンバー内と連通する気密空間とする外郭ハウジング
と、 上記回転軸および摺動軸にそれぞれ固定された第1,第
2の従動磁石と、 上記外郭ハウジングの外側にてその壁面を挾んで上記第
1,第2の従動磁石に対向して配置された第1,第2の
駆動磁石と、 前記第1の駆動磁石を回転させる回転駆動手段と、 前記第1,第2の駆動磁石を共に軸方向に移動させる軸
方向移動手段と、 を設けたことを特徴とする搬送装置。
1. A transfer arm disposed in a load lock chamber of a semiconductor manufacturing apparatus, a rotary shaft for driving the transfer arm to extend and retract, a slide shaft for raising and lowering the transfer arm, and the rotary shaft. And an outer housing having a periphery of the sliding shaft as an airtight space communicating with the inside of the load lock chamber, first and second driven magnets fixed to the rotary shaft and the sliding shaft, respectively, First and second drive magnets that are arranged to face the first and second driven magnets and sandwich the wall surface on the outer side; rotation drive means for rotating the first drive magnet; A transport device, comprising: an axial moving means for moving both the first and second drive magnets in the axial direction.
【請求項2】 請求項1において、 上記第1の磁石とは独立して上記第2の磁石を回転駆動
する回転駆動手段をさらに設け、前記第2の従動磁石を
介して上記摺動軸を回転させて上記搬送アームを水平面
内にて回転させることを特徴とする搬送装置。
2. The rotary drive means according to claim 1, further comprising a rotation drive means for rotating and driving the second magnet independently of the first magnet, and the sliding shaft is connected via the second driven magnet. A carrier device, wherein the carrier arm is rotated to rotate in a horizontal plane.
【請求項3】 請求項1または2において、 上記第1の駆動および従動磁石の配置領域とを、上記第
2の駆動および従動磁石の配置領域とを磁気的に分離す
る手段とを設けたことを特徴とする搬送装置。
3. The means for magnetically separating the first drive and driven magnet arrangement area from the second drive and driven magnet arrangement area according to claim 1 or 2. A transport device characterized by.
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