JPH06107562A - 腎臓病の治療に有用な医薬組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 腎機能不全又は腎臓病、特に腎不全の防止、
治療、抑制又は好転のためのレニン阻害剤組成物を提供
する。 【構成】 例えば、下記のレニン阻害剤を含有する腎機
能不全治療剤。 ［式中、Ａｆは、水素、低級アルキル、アリールアルキ
ルなど、Ｗｆは、Ｃ＝Ｏ又はＣＨＯＨ、ＵｆはＣＨ_２又
はＮＲ_２ｆ、Ｒ_１ｆは低級アルキル、シクロアルキルメ
チル、ベンジルなど、Ｒ_２ｆは水素又は低級アルキル、
Ｒ_３ｆは低級アルキル、低級アルケニル（（アルコキ
シ）アルコキシ）低級アルキル、ベンジン又は複素環式
環置換メチル、Ｒ_６ｆは低級アルキル、シクロアルキル
メチル又はベンジル、Ｒａｆはビニル、ホルミル、ヒド
ロキシメチル又は水素、Ｒｄｆは水素又は低級アルキ
ル、ＲｂｆおよびＲｅｆはＯＨ又はＮＨ_２、Ｒｃｆは水
素、低級アルキル、ビニル又はアリールアルキルであ
る］

Description

【発明の詳細な説明】

【産業上の利用分野】本発明は、腎機能不全又は腎臓
病、特に腎不全の防止、治療、抑制又は好転のためのレ
ニン阻害剤組成物に関する。

【背景技術】腎機能不全又は腎臓病には、急性腎不全及
び慢性腎不全が含まれる。概して、腎臓病は、１つ又は
それ以上の次の症状を示すことを特徴とする：腎血流量
の減少、糸球体濾過速度の低下、蛋白尿、血尿、並びに
水及びナトリウム排出の変化。急性腎不全は、急性虚血
性又は腎毒素性障害に対して数時間以内に起こる糸球体
濾過速度（ＧＦＲ）の突然の及び持続的低減を特徴とす
る症状である。急性腎不全は、初期障害が排除された場
合に、直ちに元に戻るわけではない。ＧＦＲが直ちに改
善され、そしてネフロンを通過する流量が増大すること
は、急性腎不全の予後において、決定的に重要なことで
あると考えられる。慢性腎不全は、（１）３〜６ヵ月目
に起こるＧＦＲの低減、（２）数年間に亘るＧＦＲの持
続的低減及び（３）尿毒症を特徴とする。腎機能不全と
いう用語は、ＧＦＲの経度の低減が生じた症状を特性表
示するためにしばしば用いられるが、しかし、尿毒症症
候は現われていない。慢性腎不全は、不可逆的ネフロン
損失を示、一方、急性腎不全は潜在的に可逆性のネフロ
ン損傷による単一ネフロンＧＦＲ低減を反映する。蛋白
尿（血漿蛋白質の尿中排出量上昇）は、急性及び慢性腎
不全中に認められ得るし、糸球体損傷の程度の正確な指
標であることが示されている（Ｄｎｎｉｓ，ｅｔ ａ
ｌ．，“Ｔｈｅ Ｋｉｄｎｅｙ：Ｐｈｙｓｉｏｌｏｇｙ
ａｎｄ Ｐａｔｈｏｐｈｙｓｉｏｌｏｇｙ”，Ｄ．
Ｗ．Ｓｅｌｄｉｎ及びＧ．Ｇｉｅｂｉｓｃｈ編、第２
巻、１８０５〜１８１８頁、Ｒａｖｅｎ Ｐｒｅｓｓ，
Ｎ．Ｙ．，１９８５）。蛋白尿を低減する薬剤は、糸球
体損傷に有益な効果を及ぼすことが示されている（Ａｎ
ｄｅｒｓｏｎ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｃｌｉｎ，Ｉｎｖｃ
ｓｔ．７６，６１２（１９８５））。アンギオテンシン
ＩＩが腎不全にある役割を演じると考えられる。アンギ
オテンシンＩＩ（ＡＩＩ）は、２つの工程において腎臓
中に産生されるペプチドホルモンであってその第一工程
は酵素レニンによるアンギオテンシノゲンの切断であ
る。レニンは、主として、腎臓の傍糸球体細胞に貯蔵さ
れる。腎血管床の直接的血管収縮とそれによる腎血流量
の変化、ナトリウムの再吸収の刺激、糸球体フィードバ
ックの修正、水圧の変化による、又は糸球体間質細胞収
縮に派生する濾過表面積の減少によるＧＦＲ変化、そし
て間接的にアルドステロン分泌の刺激による遠位ネフロ
ンのナトリウム再吸収の増大を含めて、アンギオテンシ
ンＩＩは腎臓に顕著な効果を及ぼす。さらに、ＡＩＩは
糸球体間質中への循環高分子の通過量を増大し、それら
の流出を低減する。アンギオテンシンＩＩのこれらの効
力は全て、腎臓病に負の影響力を及ぼす。したがって、
レニン阻害剤のようなアンギオテンシンＩＩの形成を防
止又は阻害する薬剤は、腎臓病に有に益な効果を及ぼし
得る。レニン阻害剤は全身性高血圧症を治療するための
薬剤として開示されており、その基質に作用することに
よってレニンを阻害する場合に生じる副作用は公知でな
い。

【課題を解決するための手段】レニン阻害剤は、腎機能
不全又は腎臓病そして特に腎不全の防止、治療、抑制又
は好転に有用であることが、ここに見出された。レニン
阻害剤及びレニン阻害剤の調整方法の実施例としては、
次の参考文献に開示されたものが挙げられるが、これら
に限定されいない。また、これらの記載内容は参照によ
り本明細書中に含めるものとする。 好ましいレニン阻害剤及びそれらの製造方法としては、
１９８９年５月２日に発光された米国特許第４，８２
６，８１５号；１９８９年８月１５日に発行された米国
特許第４，８５７，５０７号；１９８９年５月２日に発
行された米国特許第４，８２６，９５８号；１９８９年
６月６日に発行された米国特許第４，８３７，２０４
号；１９８９年７月４日に発行された米国特許第４，８
４５，０７９号に開示されたものが挙げられるが、これ
らの記載内容は参照により本明細書中に含めるものとす
る。好ましいレニン阻害剤及びそれらの製造方法として
は、さらに、同時係属中の米国特許出願で、１９８９年
９月１日に提出されたＵＳＳＮ第４０３，９０６号；１
９８８年８月１６日提出のＵＳＳＮ第２３１，８６９号
（１９８９年３月２２日公開された欧州特許第０３０７
８３号）；１９８７年１２月１８日提出のＵＳＳＮ第１
３２，３５６号（１９８８年７月１４日に公開されたＷ
０８８／０５０５０）；１９８９年１０月３日に提出さ
れたＰＣＴ／ＵＳ８９／０４３８５（１９９０年４月９
日に公開されたＷ０９０／０３９７１）；１９８９年１
０月１８に提出のＰＣＴ／ＵＳ８９／０４６４９（１９
９０年５月１７日に公開されたＷ０９０／０４９１
７）；そして１９９０年８月９日に提出されたＵＳＳＮ
５６４，９２５に開示されたものが挙げられるが、これ
らの記載内容は参照により本明細書中に含めるものとす
る。本発明の好ましいレニン阻害化合物は、式：（１）

【化８】 ｛式中、Ａは水素、低級アルキル、アリールアルキル、
−ＯＲ_２０（ここで、Ｒ_２０は水素又は低級アルキルで
ある）、−ＮＲ_２１Ｒ_２２（ここでＲ_２１及びＲ_２２は
水素及び低級アルキルからそれぞれ選択される）である
か；あるいはＡは

【化９】 （式中、ＢはＮＨ、Ｏ、ＣＨ_２又はＮＨＣＨ_２であり、
そしてＲ_２３は低級アルキル、アルコキシ、アリールア
ルコキシ、アリールアルコキシアルキル、アミノ、アル
キルアミノ、ジアルキルアミノ、カルボキシアルキル、
アルコキシカルボニルアルキル、（ジヒドロキシアルキ
ル）（アルキル）アミノ、アミノアルキル、Ｎ−保護ア
ミノアルキル、（複素環式）アルキルもしくは置換又は
非置換複素環式である）であって；ＷはＣ＝０、ＣＨ_２
又はＣＨＯＨであり；ＵはＣＨ_２又はＮＲ_２（ここでＲ
_２は水素又は低級アルキルである）であるが、ＷがＣＨ
ＯＨである場合には、ＵはＣＨ_２であり；Ｒ_１は低級ア
ルキル、シクロアルキルアルキル、ベンジル、４−メト
キシベンジル、４−ヒドロキシベンジル、ハロベンジ
ル、（１−ナフチル）メチル、（２−ナフチル）メチ
ル、（４−イミダゾリル）メチル、（アルファ，アルフ
ァ）−ジメチルベンジル、一ベンジルオキシエチル、フ
ェネチル、フェノキシ、チオフェノキシ又はアニリンで
あるが、Ｒ_１がフェノキシ、チオフェノキシ、又はアニ
リノである場合には、ＢはＣＨ_２であるか又はＡは水素
であり；Ｒ_３は低級アルキル、（チオアルコキシ）アル
キル、ベンジル又は複素環式環置換メチルであり；Ｒ_５
は水素又は低級アルキルであり；Ｒ_６は低級アルキル又
はシクロアルケニルメチル又はベンジルであり；Ｒ_７，
Ｒ_８及びＲ_９は水素又は低級アルキルであって、同一で
あっても異なってもよく；ＶはＮＨ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、Ｓ
Ｏ_２又はＣＨ_２であり；Ｒ_１０は低級アルキル、シクロ
アルキル、（シクロアルキル）アルキル、アリール、ア
リールアルキル又はＮ−保護基であるか、もしくはＶ及
びＲ_１０が一緒になってＮ_３であって；但し、ＶがＮＨ
である場合はＲ_１０はＮ−保護基のみであってもよ
い｝；（２）

【化１０】 ｛式中、Ａｂは水素、低級アルキル、アリールアルキ
ル、−ＯＲ_２０ｂ又はＳＲ_２０ｂ（ここで、Ｒ_２０ｂは
水素又は低級アルキル又はアミノアルキルである）、Ｎ
Ｒ_２１ｂＲ_２２ｂ（ここでＲ_２１ｂ及びＲ_２２ｂは水素
及び低級アルキル、アミノアルキル、シアノアルキル及
びヒドロキシアルキルからそれぞれ選択される）である
か；あるいはＡｂは

【化１１】 （式中、ＢｂはＮＨ、アルキルアミノ、Ｓ、Ｏ、ＣＨ_２
又はＣＨＯＨであり；Ｒ_２３ｂは低級アルキル、シクロ
アルキル、アリール、アリールアルキル、アルコキシ、
アルケニルオキシ、ヒドロキシアルコキシ、ジヒドロキ
シアルコキシ、アリールアルコキシ、アリールアルコキ
シアルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミ
ノ、（ヒドロキシアルキル）（アルキル）アミノ、（ジ
ヒドロキシアルキル）（アルキル）アミノ、アミノアル
キル、Ｎ−保護アミノアルキル、アルキルアミノアルキ
ル、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニルアルキ
ル、（Ｎ−保護）（アルキル）アミノアルキル、ジアル
キルアミノアルキル（複素環式）アルキルもしくは置換
又は非置換複素環式である）であって；ＷｂはＣ＝０又
はＣＨＯＨであり；ＵｂはＣＨ_２又はＮＲ_２ｂ（ここで
Ｒ_２ｂは水素又は低級アルキルである）であって、Ｗｂ
がＣＨＯＨである場合には、ＵｂはＣＨ_２であり；Ｒ
_１ｂは低級アルキル、シクロアルキルアルキル、ベンジ
ル、４−メトキシベンジル、４−ヒドロキシベンジル、
ハロベンジル、（１−ナフチル）メチル、（２−ナフチ
ル）メチル、（４−イミダゾリル）メチル、（アルフ
ァ，アルファ）−ジメチルベンジル、１−ベンジルオキ
シエチル、フェネチル、フェノキシ、チオフェノキシ又
はアニリノであるが、Ｒ_１ｂがフェノキシ、チオフェノ
キシ、又はアニリノである場合には、ＢｂはＣＨ_２又は
ＣＨＯＨであるか、もしくはＡｂが水素であり；Ｒ_３ｂ
は低級アルキル、低級アルケニル又は複素環式環置換メ
チルであり；Ｒ_５ｂは水素又は低級アルキルであり；Ｒ
_６ｂは低級アルキル、シクロアルキルメチル又はベンジ
ルであり；Ｒ_１０ｂは低級アルキル、シクロアルキル、
（シクロアルキル）アルキル、アリール、アリールアル
キル又はＮ−保護基であるか、もしくはＶｂ及びＲ
_１０６が一緒になってＮ_３であり得るが；但し、Ｌｂが
ＮＨである場合はＲ_１０ｂはＮ−保護基であり；Ｒ
_１３ｂはＣＨＯＨ又はＣＯであり；Ｒ_１４ｂはＣＨ_２、
ＣＦ_２又はＣＦであるが、但しＲ_１３ｂがＣＯである場
合には、Ｒ_１４ｂはＣＦ_２であり；Ｒ_１５ｂはＣＨ_２、
ＣＨＲ_２５ｂ（ここでＲ_２５ｂは低級アルキル、シクロ
アルキル、シクロアルキルアルキル、アリール又はアリ
ールアルキルである）であるか、もしくはＲ_１４ｂとＲ
_１５ｂが一緒になって

【化１２】 であり得るが、但しＲ_１４ｂがＣＦ_２である場合は、Ｒ
_１５ｂはＣＨ_２であり；Ｌｂは０、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ_２、
ＮＲ_２６ｂ（ここでＲ_２６ｂは水素又は低級アルキルで
ある）又はＮＲ_２７ｂＣ（Ｏ）（ここで、Ｒ_２７ｂは水
素又は低級アルキルである）である｝；（３）

【化１３】 ｛式中、Ａｃは

【化１４】 （式中、ＢｃはＮＨ又はＣＨ_２であり；Ｒ_２３ｃは低級
アルキル、アルコキシもしくは置換又は非置換複素環式
である）であり；ＷｃはＣ＝０であり；ＵｃはＮＲ_２ｃ
（ここでＲ_２ｃは水素又は低級アルキルである）であ
り；Ｒ_１ｃは低級アルキル、シクロアルキルアルキル、
ベンジル、４−メトキシベンジル、４−ヒドロキシベン
ジル、ハロベンジル、（１−ナフチル）メチル、（２−
ナフチル）メチル、（４−イミダゾリル）メチル、（ア
ルファ，アルファ）ジメチルベンジル、１−ベンジルオ
キシエチル又はフェネチルであり；Ｒ_３ｃは低級アルキ
ル、ベンジル又は複素環式環置換メチルであり；Ｒ_５ｃ
は水素又は低級アルキルであり；Ｒ_６ｃは低級アルキ
ル、シクロアルキルメチル、ベンジル又はＣＨ_２Ｒ
_２４ｃ（ここで、Ｒ_２４ｃは１，３−ジオキサン−２−
イル、１，３−ジオキソラン−２−イル、１，３−ジチ
オラン−２−イル又は１，３−ジチアン−２−イルから
選択される）であり；Ｒ_１６ｃはＣＨ_２、ＣＦ_２又はＣ
ＨＲ_６３ｃ（ここでＲ_６３ｃは低級アルキル、ヒドロキ
シ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アリル、アリー
ルアルコキシ又はチオアルキルである）であり；Ｒ
_１７ｃは水素又は低級アルキルであり；Ｒ_１８ｃは低級
アルキル、もしくは脂肪親和性又は芳香性アミノ酸側鎖
であり；Ｄｃは水素、低級アルキル又は−ＣＨ_２ＯＲ
_２８ｃ（ここでＲ_２８ｃは水素、低級アルキル又はアリ
ールアルキルである｝；（４）

【化１５】 ｛式中、Ａｄは水素、低級アルキル、アリールアルキ
ル、−ＯＲ_２０ｄ又はＳＲ_２０ｄ（ここで、Ｒ_２０ｄは
水素、低級アルキル又はアミノアルキルである）、−Ｎ
Ｒ_２１ｄＲ_２２ｄ（ここでＲ_２１ｄ及びＲ_２２ｄは水
素、低級アルキル、アミノアルキル、シアノアルキル及
びヒドロキシアルキルからそれぞれ選択される）である
か；あるいはＡｄは

【化１６】 （式中、ＢｄはＮＨ、アルキルアミノ、Ｓ、Ｏ、ＣＨ_２
又はＮＨＣＨ_２であり；そしてＲ_２３ｄは低級アルキ
ル、シクロアルキル、アリール、アリールアルキル、ア
ルコキシ、アルケニルオキシ、ヒドロキシアルコキシ、
ジヒドロキシアルコキシ、アリールアルコキシ、アリー
ルアルコキシアルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジア
ルキルアミノ、（ヒドロキシアルキル）（アルキル）ア
ミノ、（（ジアルキルアミノ）アルキル）（アルキル）
アミノ、（ジヒドロキシアルキル）（アルキル）アミ
ノ、アミノアルキル、Ｎ−保護アミノアルキル、アルキ
ルアミノアルキル、カルボキシアルキル、アルコキシカ
ルボニルアルキル、（Ｎ−保護）（アルキル）アミノア
ルキル、ジアルキルアミノアルキル（複素環式）アルキ
ルもしくは置換又は非置換複素環式である）であって；
ＷｂはＣ＝０又はＣＨＯＨであり；ＵｂはＣＨ_２又はＮ
Ｒ_２ｄ（ここでＲ_２ｄは水素又は低級アルキルである）
であり、ＷｄがＣＨＯＨである場合には、ＵｄはＣＨ_２
であり；Ｒ_１ｄはＣＨＲ_２４ｄ（ここで、Ｒ_２４ｄは低
級アルキル、シクロアルキルアルキル、ベンジル、４−
メトキシベンジル、４−ヒドロキシベンジル、ハロベン
ジル、（１−ナフチル）メチル、（２−ナフチル）メチ
ル、（４−イミダゾリル）メチル、（アルファ，アルフ
ァ）−ジメチルベンジル、１−ベンジルオキシエチル、
又はフェネチルである）であるか、もくはＲ_１ｄはＣ＝
ＣＨＲ_２５ｄ（ここで、Ｒ_２５ｄはアリールである）で
あり；Ｒ_３ｄは低級アルキル、アルケニル、ベンジル又
は複素環式環置換メチルであり；Ｒ_５ｄは水素又は低級
アルキルであり；Ｒ_６ｄは低級アルキル、シクロアルキ
ルメチル又はベンジルであり；Ｒ_１１ｄは水素又はヒド
ロキシであり；ｎは０又は１であって；ｎが０である場
合にはＴｄはアルキリデン又は酸化アルキリデンであ
り；ｎが１である場合にはＺｄは水素又はヒドロキシで
あり、Ｔｄは低級アルキル、ヒドロキシアルキル、アミ
ノアルキル、ハロアルキルまたはアジドアルキルであ
り；Ｒ_１２ｄは水素、低級アルキル、シクロアルキルア
ルキル、アリールアルキル、アミノアルキル、又はジア
ルキルアミノアルキルである｝：（５）

【化１７】 ｛式中、Ａｅは水素、低級アルキル、アリールアルキ
ル、−ＯＲ_２０ｅ又はＳＲ_２０ｅ（ここで、Ｒ_２０ｅは
水素、低級アルキル又はアミノアルキルである）、−Ｎ
Ｒ_２１ｅＲ_２２ｃ（ここでＲ_２１ｅ及びＲ_２２ｃは水
素、低級アルキル、アミノアルキル、シアノアルキル及
びヒドロキシアルキルからそれぞれ選択される）である
か；あるいはＡｅは

【化１８】 （式中、ＢｅはＮＨ、アルキルアミノ、Ｓ、Ｏ、ＣＨ_２
又はＣＨＯＨであり；そしてＲ_２３ｅは低級アルキル、
シクロアルキル、アリール、アリールアルキル、アルコ
キシ、アルケニルオキシ、ヒドロキシアルコキシ、ジヒ
ドロキシアルコキシ、アリールアルコキシ、アリールア
ルコキシアルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキ
ルアミノ、（ヒドロキシ）（アルキル）アミノ、（ジヒ
ドロキシ）（アルキル）アミノ、アミノアルキル、Ｎ−
保護アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、カルボ
キシアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、（Ｎ−
保護）（アルキル）アミノアルキル、ジアルキルアミノ
アルキル（複素環式）アルキルもしくは置換又は非置換
複素環式である）であって；ＷｅはＣ＝０であり；Ｕｅ
はＮＲ_２ｅ（ここでＲ_２ｅは水素又は低級アルキルであ
る）であり；Ｒ_１ｅはは低級アルキル、シクロアルキル
アルキル、ベンジル、４−メトキシベンジル、４−ヒド
ロキシベンジル、ハロベンジル、（１−ナフチルメチ
ル）メチル、（２−ナフチル）メチル、（４−イミダゾ
リル）メチル、（アルファ，アルファ）−ジメチルベン
ジル、１−ベンジルオキシエチル、フェネチル、フェノ
キシ、チオフェノキシ又はアニリノであって、Ｒ_１ｅが
フェノキシ、チオフェノキシ又はアニリノである場合に
は、ＢｅはＣＨ_２又はＣＨＯＨであるか、もしくはＡｅ
が水素であり；Ｒ_３ｅは低級アルキル、ベンジル又は複
素環式環置換メチルであり；Ｒ_５ｅは水素又は低級アル
キルであり；Ｒ_６ｅは低級アルキル、シクロアルキルメ
チル又はベンジルであり；ＭｅはＯ、ＮＨ又はＳであ
り；Ｒ_１０ｅは水素、低級アルキル、シクロアルキル、
（シクロアルキル）アルキル、アリール、アリールアル
キル又Ｎ−保護基である｝；（６）

【化１９】 ｛式中、Ａｆは、水素、低級アルキル、アリールアルキ
ル、−ＯＲ_１０ｆ又は−ＳＲ_１０ｆ（ここで、Ｒ_１０ｆ
は水素、低級アルキル又はアミノアルキルである）、−
ＮＲ_１１ｆＲ_１２ｆ（ここで、Ｒ_１１ｆ及びＲ_１２ｆは
水素、低級アルキル、アミノアルキル、シアノアルキ
ル、ヒドロキシアルキル、カルボキシアルキル、アルコ
キシカルボニルアルキル、（アミノ）カルボキシアルキ
ル、（（Ｎ−保護）アミノ）カルボキシアルキル、（ア
ルキルアミノ）カルボキシアルキル、（（Ｎ−保護）ア
ルキルアミノ）カルボキシアルキル、（ジアルキルアミ
ノ）カルボキシアルキル、（アミノ）アルコキシカルボ
ニルアルキル、（（Ｎ−保護）アミノ）アルコキシカル
ボニルアルキル、（アルキルアミノ）アルコキシカルボ
ニルアルキル、（（Ｎ−保護）アルキルアミノ）アルコ
キシカルボニルアルキル及び（ジアルキルアミノ）アル
コキシカルボニルアルキルからそれぞれ選択される）で
あるか；あるいは、Ａｆは、

【化２０】 （式中、ＢｆはＮＨ、アルキルアミノ、Ｓ、Ｏ、ＣＨ_２
又はＣＨＯＨであり、そしてＲ_２３ｆは低級アルキル、
シクロアルキル、アリール、アリールアルキル、アルコ
キシ、アルケニルオキシ、ヒドロキシアルコキシ、ジヒ
ドロキシアルコキシ、アリールアルコキシ、アリールア
ルコキシアルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキ
ルアミノ、（ヒドロキシアルキル）（アルキル）アミ
ノ、（ジヒドロキシアルキル）（アルキル）アミノ、ア
ミノアルキル、Ｎ−保護アミノアルキル、アルキルアミ
ノアルキル、（Ｎ−保護）（アルキル）アミノアルキ
ル、ジアルキルアミノアルキル、カルボキシアルコキシ
アルキル、（アルコキシカルボニル）アルコキシアルキ
ル、カルボキシアルキル、カルボキシアルキルアミノ、
アルコキシカルボニルアルキル、アルコキシカルボニル
アルキルアミノ、（アミノ）カルボキシアルキル、（ア
ミノ）カルボキシアルキルアミノ、（（Ｎ−保護）アミ
ノ）カルボキシアルキル、（（Ｎ−保護）アミノ）カル
ボキシアルキルアミノ、（アルキルアミノ）カルボキシ
アルキル、（アルキルアミノ）カルボキジアルキルアミ
ノ、（（Ｎ−保護アルキルアミノ）カルボキシアルキ
ル、（（Ｎ−保護）アルキルアミノ）カルボキシアルキ
ルアミノ、（ジアルキルアミノ）カルボキシアルキル、
（ジアルキルアミノ）カルボキシアルキルアミノ、（ア
ミノ）アルコキシカルボニルアルキル、（アミノ）アル
コキシカルボニルアルキルアミノ、（（Ｎ−保護アミ
ノ）アルコキシカルボニルアルキル、（（保護）アミ
ノ）アルコキシカルボニルアルキルアミノ、（アルキル
アミノ）アルコキシカルボニルアルキル、（アルキルア
ミノ）アルコキシカルボニルアルキルアミノ、（（Ｎ−
保護アルキルアミノ）−アルコキシカルボニルアルキ
ル、（（Ｎ−保護）アルキルアミノ）アルコキシカルボ
ニルアルキルアミノ、（ジアルキルアミノ）アルコキシ
カルボニルアルキル、（ジアルキルアミノ）アルコキシ
カルボニルアルキルアミノ、アミノシクロアルキル、ア
ミノアルキルアミノ、ジアルキルアミノアルキル（アル
キル）アミノ、アリールアルキルアミノ、アリールアル
キル（アルキル）アミノ、アルコキシアルキル（アルキ
ル）アミノ、（ポリアルコキシ）アルキル（アルキル）
アミノ、ジ−（アルコキシアルキル）アミノ、ジ−（ヒ
ドロキシアルキル）アミノ、ジー（（ポリアルコキシ）
アルキル）アミノ、ポリアルコキシ、（ポアルコキシ）
アルキル、（複素環式）アルキルもしくは置換又は非置
換複素環式（この場合、飽和複素環式は水素、オキソ、
アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルコキ
シ、ポリアルコキシ又は低級アルキルで非置換、一置換
又は二置換化されてもよく、不飽和複素環式は非置換で
あるかあるいは水素、アミノ、アルキルアミノ、ジアル
キルアミノ、アルコキシ、ポリアルコキシ又は低級アル
キルで一置換されてもよい）である）であって；Ｗｆ
は、Ｃ＝Ｏ又はＣＨＯＨであり；ＵｆはＣＨ_２又はＮＲ
_２ｆであって、ＷｆがＣＨＯＨある場合にはＵｆはＣＨ
_２であり；Ｒ_１ｆは低級アルキル、シクロアルキルメチ
ル、ベンジル、４−メトキシベンジル、ハロベンジル、
（１−ナフチル）メチル、（２−ナフチル）メチル、
（４−イミダゾリル）メチル、（アルファ，アルファ）
−ジメチルベンジル、１−ベンジルオキシエチル、フェ
ネチル、フェノキシ、チオフェノキシ又はアニリノであ
って；Ｒ_１ｆがフェノキシ、チオフェノキシ又はアニリ
ノである場合には、ＢｆはＣＨ_２又はＣＨＯＨであるか
もしくはＡｆが水素であり；Ｒ_２ｆは水素又は低級アル
キルであり；Ｒ_３ｆは低級アルキル、低級アルケニル、
（（アルコキシ）アルコキシ）低級アルキル、（チオア
ルコキシ）アルキル、ベンジル又は複素環式環置換メチ
ルであり；Ｒ_６ｆは低級アルキル、シクロアルキルメチ
ル又はベンジルであり；Ｒａｆはビニル、ホルミル、ヒ
ドロキシメチル又は水素であり；Ｒｄｆは水素又は低級
アルキルであり；ＲｂｆおよびＲｅｆはＯＨ及びＮＨ_２
からそれぞれ選択され；そしてＲＣｆは水素、低級アル
キル、ビニル又はアリールアルキルである｝；（７）

【化２１】 ｛式中、Ａｇは水素、低級アルキル、アミノアルキル、
（アルキル）アミノアルキル、ジアルキルアミノアルキ
ル、（アルコキシ）アミノアルキル、（アルコキシ）
（アルキル）アミノアルキル、フェニルアルキル、（置
換フェニル）アルキル（この場合、フェニル環は低級ア
ルコキシ、低級アルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジ
アルキルアミノ、ヒドロキシ、ハロ、メルカプト、ニト
ロ、チオアルコキシ、カルボキサルデヒド、カルボキ
シ、アルコキシカルボニル及びカルボキサミドからそれ
ぞれ選択される１，２又は３つの置換基で置換され
る）、置換又は非置換複素環式（この場合、飽和複素環
式は非置換であるかあるいはヒドロキシ、オキソ、アミ
ノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルコキシ、
ポリアルコキシ、低級アルキル、ハロアルキル、又はポ
リハロアルキルで一置換又は二置換されてもよく；不飽
和複素環式は非置換であるか、もしくはヒドロキシ、ア
ミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルコキ
シ、ポリアルコキシ、低級アルキル、ハロアルキル又は
ポリハロアルキルで一置換されてもよい）であるか；あ
るいはＡｇは（非置換複素環式）アルキル又は（置換複
素環式）アルキル（この場合、非置換又は置換複素環式
は上記と同様である）である；かあるいはＡｇは−ＯＲ
_７ｇ又は−ＳＲ_７ｇ（ここでＲ_７ｇは水素、低級アルキ
ル、アミノアルキル、（アルキル）アミノアルキル、ジ
アルキルアミノアルキル、（アルコキシ）アミノアルキ
ル、（アルコキシ）（アルキル）アミノアルキル、フェ
ニルアルキル、（置換フェニル）アルキル（この場合、
置換フェニルは上記と同様である）、ナフチルアルキル
（置換ナフチル）アルキル（この場合、置換ナフチルは
上記と同様である）、上記と同様の置換又は非置換複素
環式、（非置換複素環式）アルキル又は（置換複素環
式）アルキル（この場合、非置換又は置換複素環式は上
記と同様である）、（非置換複素環式）Ｃ（Ｏ）−又は
（置換複素環式）Ｃ（Ｏ）−（この場合、非置換又は置
換複素環式は上記と同様である）であるか；あるいはＡ
ｇは−ＮＲ_８ｇＲ_９ｇ（ここでＲ_８ｇ及びＲ_９ｇは水
素、ヒドロキシ、アルコキシ、低級アルキル、アミノア
ルキル、シアノアルキルおよびヒドロキシアルキルから
それぞれ選択される）であるか；あるいはＡｇは

【化２２】 （式中、ＢｇはＮＨ、アルキルアミノ、Ｓ、Ｏ、Ｃ
Ｈ_２、ＮＨＣＨ_２又はＣＨＯＲ_５２ｇ（ここで、Ｒ
_５２ｇは水素、低級アルキル又は低級アルキルカルボニ
ルである）であり；そしてＲ_１０ｇは水素、低級アルキ
ル、シクロアルキル、フェニル、上記と同様の置換フェ
ニル、ナフチル、上記と同様の置換ナフチル、アルコキ
シ、アルケニルオキシ、ヒドロキシアルコキシ、ジヒド
ロキシアルコキシ、フェニルアルコキシ、（置換フェニ
ル）アルコキシ（ここで、置換フェニルは上記と同様で
ある）、ナフチルアルコキシ、（置換ナフチル）アルコ
キシ（ここで、置換ナフチルは上記と同様である）、フ
ェニルアルコキシアルキル、（置換フェニル）アルコキ
シアルキル（ここで、置換フェニルは上記と同様であ
る）、ナフチルアルコキシアルキル、（置換ナフチル）
アルコキシアルキル（ここで、置換ナフチルは上記と同
様である）、チオアルコキシアルキル、低級アルキルス
ルフィニアルキル、低級アルキルスルホニルアルキル、
フェニルチオアルキル、（置換フェニル）チオアルキル
（ここで、置換フェニルは上記と同様である）、ナフチ
ルチオナルキル、（置換ナフチル）チオアルキル（ここ
で、置換ナフチルは上記と同様である）、フェニルスル
ホニルアルキル、（置換フェニル）スルホニルアルキル
（ここで、置換フェニルは上記と同様である）、ナフチ
ルスルホニル、（置換ナフチル）スルホニルアルキル
（ここで、置換ナフチルは上記と同様である）、アミ
ノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、（ヒドロキシ
アルキル）（アルキル）アミノ、（ジヒドロキシアルキ
ル）（アルキル）アミノ、アミノアルキル、アルコキシ
カルボニルアルキル、カルボキシアルキル、（Ｎ−保
護）アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、（Ｎ−
保護）（アルキル）アミノアルキル、ジアルキルアミノ
アルキル、（複素環式）アルキル、上記と同様の置換又
は非置換複素環式、アミノシクロアルキル、アミノアル
キルアミノ、（ジアルキルアミノアルキル） （アルキル）アミノ、フェニルアルキルアミノ、（置換
フェニル）アルキルアミノ（ここで、置換フェニルは上
記と同様である）、ナフチルアルキルアミノ、（置換ナ
フチル）アルキルアミノ（ここで、置換ナフチルは上記
と同様である）、（フェニルアルキル）（アルキル）ア
ミノ、（（置換フェニル）アルキル）（アルキル）アミ
ノ（ここで、置換フェニルは上記と同様である）、（ナ
フチルアルキル）（アルキル）アミノ、（（置換ナフチ
ル）アルキル）（アルキル）アミノ（ここで、置換ナフ
チルは上記と同様である）、アルコキシアルキル（アル
キル）アミノ、（ポリアルコキシ）アルキル（アルキ
ル）アミノ、ジ−（アルコキシアルキル）アミノ、ジ−
（ヒドロキシアルキル）アミノ、ジ−（（ポリアルコキ
シ）アルキル）アミノ、（（複素環式）アルキル）（ア
ルキル）アミノ、（（複素環式）アルキル）アミノ、
（複素環式）（アルキル）アミノ、（アルキルアミノア
ルキル）（アルキル）アミノ、（ジアルキルアミノアル
キル）（アルキル）アミノ、（（アルコキシ）（アルキ
ル）アミノアルキル）（アルキル）アミノ、（（アルコ
キシ）アミノアルキル）（アルキル）アミノ、ポリアル
コキシまたは（ポリアルコキシ）アルキルである）であ
るか；あるいはＡｇはＲ_４１ｇＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２−又
はＲ_４１ｇＣＨ（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）−（ここで、Ｒ
_４１ｇは低級アルキル、シクロアルキル、フェニル、上
記と同様の置換フェニル、ナフチル、上記と同様の置換
ナフチル、フェニルアルキル、（置換フエニル）アルキ
ル（ここで、置換フェニルは上記と同様である）、ナフ
チルアルキル、（置換ナフチル）アルキル（ここで、置
換ナフチルは上記と同様である）、フェニルアルコキシ
アルキル、（置換フェニル）アルコキシアルキル（ここ
で、置換フェニルは上記と同様である）、ナフチルアル
コキシアルキル、（置換ナフチル）アルコキシアルキル
（ここで、置換ナフチルは上記と同様である）、チオア
ルコキシアルキル、低級アルキルスルフィニアルキル、
低級アルキルスルホニルアルキル、フェニルチオアルキ
ル、（置換フェニル）チオアルキル（ここで、置換フェ
ニルは上記と同様である）、ナフチルチオアルキル、
（置換ナフチル）チオアルキル（ここで、置換ナフチル
は上記と同様である）、フェニルスルホニルアルキル、
（置換フェニル）スルホニルアルキル（ここで、置換フ
ェニルは上記と同様である）、ナフチルスルホニルアル
キル、（置換ナフチル）スルホニルアルキル（ここで、
置換ナフチルは上記と同様である）、アミノアルキル、
アルコキシカルボニルアルキル、カルボキシアルキル、
（Ｎ−保護）アミノアルキル、アルキルアミノアルキ
ル、（Ｎ−保護）（アルキル）アミノアルキル、ジアル
キルアミノアルキル、（複素環式）アルキル、上記と同
様の置換又は非置換複素環式、アミノシクロアルキル又
は（ポリアルコキシ）アルキルである）であって；Ｗｇ
はＣ＝０、ＣＨＯＨ又はＮＲ_２ｇ（ここで、Ｒ_２ｇは水
素又は低級アルキルである）であり；ＵｇはＣ＝０、Ｃ
Ｈ_２又はＮＲ_２ｇ（ここでＲ_２ｇは水素又は低級アルキ
ルである）であるが但し、ＷｇがＣＨＯＨである場合に
はＵｇはＣＨ_２であり、そしてＵｇがＣ＝０である場合
には、ＷｇはＮＲ_２ｇであり；ＶｇはＣＨ、Ｃ（ＯＨ）
又はＣ（ハロゲン）であるが、但しＶｇがＣＨである場
合にはＵｇはＮＲ_２ｇであり；Ｒ_１ｇは低級アルキル、
シクロアルキルアルキル、ベンジル、（アルファ，アル
ファ）−ジメチルベンジル、４−メトキシベンジル、ハ
ロベンジル、４−ヒドロキシベンジル、（１−ナフチ
ル）メチル、（２−ナフチル）メチル、（非置換複素環
式）メチル、（置換複素環式）メチル（ここで、非置換
又は置換複素環式は上記と同様である）、フェネチル、
１−ベンジルオキシエチル、フェノキシ、チオフエノキ
シ又はアニリノであって、Ｒ_１がフェノキシ、チオフェ
ノキシ、又はアニリノである場合には、Ｂ_９はＣＨ_２又
はＣＨＯＨであるか、もしくはＡｇが水素であり；Ｒ
_３ｇは低級アルキル、低級アルケニル、（（アルコキ
シ）アルコキシ）アルコキシ、カルボキシアルキル、
（チオアルコキシ）アルキル、アジドアルキル、アミノ
アルキル、（アルキル）アミノアルキル、ジアルキルア
ミノアルキル、（アルコキシ）（アルキル）アミノアル
キル、（アルコキシ）アミノアルキル、ベンジル又は複
素環式環置換メチルであり；Ｒ_４ｇは低級アルキル、シ
クロアルキルメチル、又はベンジルであり；Ｒ_５ｇはＯ
Ｈ又はＮＨ_２であり；そしてＺｇは

【化２３】 （式中、ＭｇはＯ、又はＮＨであり；ＴｇはＣ＝０、Ｃ
＝Ｓ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ_２又はＣＨ_２であり；Ｅｇは
Ｏ、Ｓ、ＮＲ_６ｇ（ここでＲ_６ｇは水素、低級アルキ
ル、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシ、アルキル、アミ
ノ又はアルキルアミノである）であるか；もしくはＥｇ
はＣＲ_６ｇＲ_４２ｇ（ここでＲ_６ｇは上記と同様であ
り、Ｒ_４２ｇは水素又は低級アルキルである）である
か；もしくは、ＥｇはＣ＝ＣＲ_４３ｇＲ_４４ｇ（ここで
Ｒ_４３ｇおよびＲ_４４ｇは水素及び低級アルキルからそ
れぞれ選択される）であり；Ｇｇは存在しないか、ＣＨ
_２またはＮＲ_１１ｇ（ここで、Ｒ_１１ｇは水素又は抵抗
アルキルである）であるが、但し、ＧｇがＮＲ_１１ｇで
ある場合にはＲ_６ｇは低級アルキル又はヒドロキシアル
キルであり；ＱｇはＣＲ_４５Ｒ_４６ｇ（ここで、Ｒ
_４５ｇ及びＲ_４６ｇは水素及び低級アルキルからそれぞ
れ選択される）であるか；もしくはＱｇはＣ＝ＣＲ
_４７ｇＲ_４８ｇ（ここでＲ_４７ｇ及びＲ_４８ｇは水素及
び低級アルキルからそれぞれ選択される）であり；そし
てＲ_４９ｇは−ＣＨ_２ＯＨ、カルボキシ、アルコキシカ
ルボニル又は−ＣＯＮＲ_５０ｇＲ_５１ｇ（ここでＲ
_５０ｇは水素または低級アルキルであり、Ｒ_５１ｇは水
素、低級アルキル、アミノアルキル、アルキルアミノア
ルキル、ジアルキルアミノアルキル又はアルコキシアル
キルである）である）である｝；（８）

【化２４】 ｛式中、Ａｈは水素、低級アルキル、アリールアルキ
ル、−ＯＲ_２０ｈ又は−ＳＲ_２０ｈ（ここで、Ｒ_２０ｈ
は水素又は低級アルキル又はアミノアルキルである）、
−ＮＲ_２１ｈＲ_２２ｈ（ここでＲ_２１ｈ及びＲ_２２ｈは
水素及び低級アルキル、アミノアルキル、シアノアルキ
ル及びヒドロキシアルキルである）であるか；もしく
は、 Ａｈは

【化２５】 （式中、ＢｈはＮＨ、アルキルアミノ、Ｓ、Ｏ、ＣＨ_２
又はＣＨＯＨであり；Ｒ_２３ｈは低級アルキル、シクロ
アルキル、アリール、アリールアルキル、アルコキシ、
アルケニルオキシ、ヒドロキシアルコキシ、ジヒドロキ
シアルコキシ、アリールアルコキシ、アリールアルコキ
シアルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミ
ノ、（ヒドロキシアルキル）（アルキル）アミノ、
（（ジアルキルアミノ）アルキル）（アルキル）アミ
ノ、（ジヒドロキシアルキル）（アルキル）アミノ、ア
ミノアルキル、Ｎ−保護アミノアルキル、アルキルアミ
ノアルキル、（Ｎ−保護）（アルキル）アミノアルキ
ル、ジアルキルアミノアルキル（複素環式）アルキルも
しくは置換又は非置換複素環式である）であって；Ｗｈ
はＣ＝０又はＣＨＯＨであり；ＵｈはＣＨ_２又はＮＲ
_２ｈ（ここでＲ_２ｈは水素又は低級アルキルである）で
あって、ＷｈがＣＨＯＨである場合には、ＵｈはＣＨ_２
であり；Ｒ_１ｈは低級アルキル、シクロアルキルアルキ
ル、ベンジル、４−メトキシベンジル、４−ヒドロキシ
ベンジル、ハロベンジル、（１−ナフチル）メチル、
（２−ナフチル）メチル、（４−イミダゾリル）メチ
ル、（アルファ，アルファ）−ジメチルベンジル、１−
ベンジルオキシエチル、フェネチル、フェノキシ、チオ
フェノキシ又はアニリノであって、Ｒ_１ｈがフェノキ
シ、チオフェノキシ、又はアニリノである場合には、Ｂ
ｈはＣＨ_２又はＣＨＯＨであるか、もしくはＡｈが水素
であり；Ｒ_３ｈは低級アルキル、低級アルケニル、
（（アルコキシ）アルコキシ）アルキル、カルボキシア
ルキル、（チオアルコキシ）アルキル、ベンジル又は複
素環式環置換メチルであり；Ｒ_５ｈは水素又は低級アル
キルであり；Ｒ_６ｈは低級アルキル、シクロアルキルメ
チル又はベンジルである｝；（９）

【化２６】 ｛式中、Ａｉは Ｉ） Ｒ_５ｉＣ（Ｏ）−（ＣＨ_２）_ｗ” （この場合、 １） ｗ”は０〜４であり、そして ２） Ｒ_５ｉは ｉ） 水素 ｉｉ） アルコキシ ｉｉｉ） チオアルコキシ ｉｖ） アミノ又は ｖ） 置換アミノ である）； （ＩＩ） アルキルスルホニル、（アリール）スルホニ
ル又は（複素環式）スルホニル； （ＩＩＩ） アリール、アリールアルキル、複素環式又
は（複素環式）アルキル；もしくは （ＩＶ） Ｒ_９０ｉ ⁻又はＲ_９０ｉＮＨＣ（Ｏ）−（こ
こでＲ_９０ｉは、 １） カルボキシ ２） アルコキシカルボニル ３） アルキルスルホニル ４） アリール ５） アリールスルホニル ６） 複素環式 又は ７） （複素環式）スルホニル から選択される置換基によって置換されるＣ_１〜Ｃ_４直
鎖又は分枝鎖炭素鎖である）であり；Ｒ_１ｉは、 （Ｉ） 水素 （ＩＩ） 低級アルキル （ＩＩＩ） 低級アルケニル （ＩＶ） シクロアルキルアルキル （Ｖ） シクロアルケニルアルキル （ＶＩ） アリールオキシアルキル （ＶＩＩ） チオアリールオキシアルキル （ＶＩＩＩ） アリールオキシアルキル （ＩＸ） アリールチオアルコキシアルキル 又は （Ｘ） 次の： １） アルコキシ ２） チオアルコキシ ３） アリール 及び ４） 複素環式 から選択される置換基によって置換されるＣ_１〜Ｃ_３直
鎖又は分枝炭素鎖であり；Ｘｉは （Ｉ） ＣＨ_２ （ＩＩ） ＣＨＯＨ （ＩＩＩ） Ｃ（Ｏ） （ＩＶ） Ｏ （Ｖ） Ｓ （ＶＩ） ＳＯ （ＶＩＩ） ＳＯ_２ （ＶＩＩＩ） Ｎ（Ｏ） 又は （ＩＸ） −Ｐ（Ｏ）− であり；Ｒ_３ｉは、 （Ｉ） 低級アルキル （ＩＩ） ハロアルキル （ＩＩＩ） 低級アルケニル （ＩＶ） シクロアルキルアルキル （Ｖ） シクロアルケニルアルキル （ＶＩ） アルコキシアルキル （ＶＩＩ） チオアルコキシアルキル （ＶＩＩＩ） （アルコキシアルコキシ）アルキル （ＩＸ） ヒドロキシアルキル、 （Ｘ） −（ＣＨ_２）_ｅｅＮＨＲ_１２ｉ （ここで、 １） ｅｅは１〜３であり、そして ２） Ｒ_１２ｉは ｉ） 水素 ｉｉ） 低級アルキル 又は ｉｉｉ） Ｎ−保護基である） （ＸＩ） アリールアルキル 又は （ＸＩＩ） （複素環式）アルキル であり、そして；Ｔｉは、

【化２７】 （式中Ｒ_４ｉは、 （Ｉ） 低級アルキル （ＩＩ） シクロアルキルアルキル （ＩＩＩ） シクロアルケニルアルキル 又は （ＩＶ） アリールアルキル であり、Ｄｉは、 （Ｉ）

【化２８】 （式中、Ｒ_７３ｉは低級アルキルである） （ＩＩ）

【化２９】 （式中、 １） Ｍｉは ｉ） Ｏ ｉｉ） Ｓ 又は ｉｉｉ） ＮＨ であり、 ２） Ｑｉは ｉ） Ｏ 又は ｉｉ） Ｓ であり、 ３） Ｅｉは ｉ） Ｏ ｉｉ） Ｓ ｉｉｉ） ＣＨＲ_７３ｉ（ここでＲ_７３ｉは低級アルキ
ルである） ｉｖ） Ｃ＝ＣＨ_２ 又は ｖ） ＮＲ_１８ｉ（ここで、Ｒ_１８ｉは、 ａ） 水素 ｂ） 低級アルキル ｃ） ヒドロキシアルキル ｄ） ヒドロキシ ｅ） アルコキシ ｆ） アミノ 又は ｇ） アルキルアミノ である）であって、そして ４） Ｇｉは ｉ） 存在しないか ｉｉ） ＣＨ_２ であるか又は ｉｉｉ） ＮＲ_１９ｉ（ここでＲ_１９ｉは水素又は低級
アルキルである）であるが、但しＧｉがＮＲ_１９ｉであ
る場合には、Ｒ_１８ｉは低級アルキルか又はヒドロキシ
アルキルである） （ＩＩＩ）

【化３０】 （式中、 １） Ｖ”は０又は１であり、そして ２） Ｒ_２１ｉは ｉ） ＮＨ ｉｉ） Ｏ ｉｉｉ） Ｓ 又は ｉｖ） ＳＯ_２ であるか；もしくは （ＩＶ） 置換メチレン基 である。）である｝；（１０）

【化３１】 ｛式中、Ｘｊは、 （Ｉ） Ｎ （ＩＩ） Ｏ 又は （ＩＩＩ） ＣＨ であり；Ｒ_１ｊは （Ｉ） 存在しないか、或いは （ＩＩ） 水素 （ＩＩＩ） Ｎ−保護基 （ＩＶ） アリール （Ｖ） 複素環式 又は （ＶＩ） Ｒ_６ｊ−Ｑ−（ここで、 １） Ｒ_６ｊは ｉ） 低級アルキル ｉｉ） アミノ ｉｉｉ） アルキルアミノ ｉｖ） ジアルキルアミノ ｖ） （アルコキシアルキル）（アルキル）アミノ ｖｉ） （アルコキシアルコキシアルキル）（アルキ
ル）アミノ ｖｉｉ） アリール ｖｉｉｉ） アリールアルキル ｉｘ） アミノアルキル ｘ） （Ｎ−保護）アミノアルキル ｘｉ） アルキル ｘｉｉ） 置換低級アルキル（ここで、置換基はアルコ
キシ、チオアルコキシ、ハロゲン、アルキルアミノ、
（Ｎ−保護）（アルキル）アミノ及びジアルキルアミノ
から選択される） ｘｉｉｉ）

【化３２】 （式中、ｍ’’’は１〜５であり；Ｒ_７ｊは水素、ヒド
ロキシ、アルコキシ、チオアルコキシ、アルコキシアル
コキシ、ポリアルコキシ、アミノ、（Ｎ−保護）アミ
ノ、アルキルアミノ、（Ｎ−保護）（アルキル）アミノ
又はジアルキルアミノである）；もしくは ｘｉｖ）

【化３３】 （式中、Ｒ_８ｊはＯ、Ｓ、ＳＯ_２、Ｏ＝Ｃ又はＲ_９ｊＮ
（ここでＲ_９ｊは水素、低級アルキル又はＮ−保護基で
ある）であり； ２） Ｑｊは ｉ） Ｃ＝０ 又は ｉｉ） ＣＨ_２ であるが、但しＲ_１ｊがＮ−保護基である場合にはＸｊ
はＮである） （ＶＩＩ） Ｒ_５４ｊＳ（Ｏ）_２（ここでＲ_５４ｊは、 １） アミノ ２）アルキルアミノ ３）ジアルキルアミノ ４）低級アルキル ５）ハロアルキル ６）アリール ７）ｐ−ビフェニル 又は ８） 複素環式 である）、或いは （ＶＩＩＩ） （Ｒ_５５ｊ）_２Ｐ（０）−（ここで、Ｒ
_５５ｊは、 １） アルコキシ ２） アルキルアミノ 又は ３） ジアルキルアミノ である） であり；Ａｊ及びＬｊは、 （Ｉ） 存在しないか、 （ＩＩ） Ｃ＝０ （ＩＩＩ） ＳＯ_２ 及び （ＩＶ） ＣＨ_２ からそれぞれ選択され；Ｄｊは、 （Ｉ） Ｃ＝０ （ＩＩ） ＳＯ_２ 又は （ＩＩＩ） ＣＨ_２ であり；Ｙｊは、 （Ｉ） Ｎ 又は （ＩＩ） ＣＨ であり；Ｒ_２ｊは （Ｉ） 水素 （ＩＩ） 低級アルキル （ＩＩＩ） シクロアルキルアルキル （ＩＶ） −ＣＨ_２−Ｒ_１０ｊ−（ＣＨ_２）_ｑ’’’−
Ｒ_１１ｊ（ここで、 １） ｑ’’’は０，１又は２であり ２） Ｒ_１０ｊは存在しないか、もしくはｑ’’’が１
又は２である場合に限りＲ_１０ｊはＯ、ＮＨ又はＳであ
り、そして ３） Ｒ_１１ｊは ｉ） アリール又は ｉｉ） 複素環式 である）であり；Ｚｊは、 （Ｉ） 水素又は （ＩＩ） −Ｒ_２８ｊＣ（Ｏ）Ｒ_２９ｊ、−Ｒ_２８ｊＳ
（Ｏ）_２Ｒ_２９ｊ又は−Ｒ_２８ｊＣ（Ｓ）Ｒ_２９ｊ（こ
こで、 １） Ｒ_２８ｊは ｉ） ＮＨ ｉｉ） −Ｎ（Ｒ_２０ｊ）（ここで、Ｒ_２００ｊは低級
アルキル又はベンジルである）、もしくは ｉｉｉ） ＣＨ_２ であり、そして ２） Ｒ_２９ｊは ｉ） アルキル ｉｉ） ベンジルオキシ ｉｉｉ） アルキルアミノ ｉＶ） ジアルキルアミノ ｖ） アリール 又は ｖｉ） 複素環式 である）であり；Ｒ_３ｊは、 （Ｉ） 水素 （ＩＩ） 低級アルキル （ＩＩＩ） 低級アルケニル （ＩＶ） シクロアルキルアルキル （Ｖ） シクロアルケニルアルキル （ＶＩ） アルコキシアルキル （ＶＩＩ） チオアルコキシアルキル （ＶＩＩＩ） （アルコキシアルコキシ）アルキル （ＩＸ） （ポリアルコキシ）アルキル （Ｘ） アリールアルキル 又は （ＸＩ） （複素環式）アルキル であり；ｎ’’’は０又は１であり；そして、Ｔｊは、

【化３４】 （式中、Ｒ_４ｊは （Ｉ） 低級アルキル （ＩＩ） シクロアルキルアルキル 又は （ＩＩＩ） アリールアルキル であり；そしてＲ_５ｊは （Ｉ）

【化３５】 （式中、Ｒ_７３ｊは低級アルキルである） （ＩＩ）

【化３６】 （式中、 １） Ｍｊは ｉ） Ｏ ｉｉ） Ｓ 又は ｉｉｉ） ＮＨ であり； ２） Ｏｊは ｉ） Ｏ 又は ｉｉ） Ｓ であり； ３） Ｅｊは ｉ） Ｏ ｉｉ） Ｓ ｉｉｉ） ＣＨＲ_６１ｊ（ここでＲ_６１ｊは低級アルキ
ルである） ｉｖ） Ｃ＝ＣＨ_２ 又は ｖ） ＮＲ_１８ｊ（ここでＲ_１８ｊは ａ） 水素 ｂ） 低級アルキル ｃ） ヒドロキシアルキル ｄ） ヒドロキシ ｅ） アルコキシ ｆ） アミノ 又は ｇ） アルコキシアミノ である） であり；そして ４） Ｇｊは ｉ） 存在しないか ｉｉ） ＣＨ_２ 又は ｉｉｉ） ＮＲ_１９ｊ（ここでＲ_１９ｊは水素又は低級
アルキルである）であるが、但しＧｊがＮＲ_１９ｊであ
る場合には、Ｒ_１８ｊは低級アルキル又はヒドロキシア
ルキルである）； （ＩＩＩ）

【化３７】 （式中、 １） Ｖ’’’は０又は１であり、そして ２） Ｒ_２１ｊは ｉ） ＮＨ ｉｉ） Ｏ ｉｉｉ） Ｓ 又は ｉｖ） ＳＯ_２ である）であるか、もしくは （ＩＶ） 置換メチル基である）である｝の化合物又は
製薬上受容可能なその塩、エステル又はプロドラッグか
ら成る群から選択される。本明細書で用いる場合、“低
級アルキル”という用語は、メチル、エチル、ｎ−プロ
ピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ
−ブチル、ｎ−ペンチル、２−メチルブチル、２，２−
ジメチルプロピル、ｎ−ヘキシル、２−メチルペンチ
ル、２，２−ジメチルブチル、ｎ−ヘプチル、２−メチ
ルヘキシル等を含めた１〜７個の炭素原子を含有する直
鎖又は分枝鎖アルキル基を示す。本明細書において用い
る場合、“低級アルケニル”という用語は、少なくとも
１つの炭素−炭素の二重結合を含有する直鎖又は分枝鎖
低級アルキル基を示す。本明細書中で用いる場合、“シ
クロアルキル”という用語は、３〜７個の炭素原子を有
する脂肪族環を示す。本明細書中で用いる場合、“シク
ロアルキルアルキル”という用語は、低級アルキル基に
付加されたシクロアルキル残基を示し、その例としては
シクロヘキシルメチル及びシクロペンチルメチルが挙げ
られるが、しかしこれらに限定されない。本明細書中で
用いる場合、“シクロアルケニル”という用語は、３〜
７個の炭素原子を有し、そして少なくとも１つの炭素−
炭素二重結合をも有する脂肪族環を示し、その例として
はシクロヘキセニル等が挙げられるが、しかしこれ等に
限定されない。本明細書中で用いる場合、“シクロアル
ケニルアルキル”という用語は、低級アルキル基に付加
されたシクロアルケニル残基を示し、その例としてはシ
クロヘキセニルメチル、シクロペンテニルエチル等が挙
げられるが、これらに限定されない。本明細書中で用い
る場合、“アリールアルキル”という用語は、本明細書
に記載されているように、低級アルキル基に付加された
アリール基を示し、その例としてはベンジル、１−及び
２−ナフチルメチル、ハロベンジル並びにアルコキシベ
ンジルが挙げられるが、しかしこれらに限定されない。
本明細書中で用いる場合、“フェニルアルキル”という
用語は、低級アルキル基に付加されたフェニル基を示
し、その例としてはベンジル、フェネチル等が挙げられ
るが、しかしこれらに限定されない。本明細書中で用い
る場合、“（置換フェニル）アルキル”という用語は、
低級アルキル基に付加された置換フェニル基を示すが、
この場合、フェニル環は、低級アルコキシ、低級アルキ
ル、アミノ、低級アルキルアミノ、ヒドロキシ、ハロ、
メルカプト、ニトロ、チオアルコキシ、カルボキサルデ
ヒド、カルボキシ、カルボアルコキシ及びカルボキサミ
ド基から選択される１，２又は３つの置換基で置換さ
れ、その例としてはハロベンジル、アルコキシベンジル
等が挙げられるが、しかしこれらに限定されない。本明
細書中で用いる場合、“ナフチルアルキル”という用語
は、低級アルキル基に付加されたナフチル基を示し、そ
の例としては１−ナフチルメチル、２−ナフチルメチル
等が挙げられるが、しかしそれらに限定されない。本明
細書中で用いる場合、“（置換ナフチル）アルキル”と
いう用語は、低級アルキル基に付加された置換ナフチル
基を示し、この場合、ナフチル環は、低級アルコキシ、
低級アルキル、アミノ、低級アルキルアミノ、ヒドロキ
シ、ハロ、メルカプト、ニトロ、チオアルコキシ、カル
ボキサルデヒド、カルボキシ、カルボアルコキシ及びカ
ルボキサミド基から選択される１，２又は３つの置換で
置換される。その例としてはハロナフチルメチル、アル
コキシナフチルメチル等が挙げられるが、しかしこれら
に限定されない。本明細書中で用いる場合、“（複素環
式）アルキル”という用語は、以下に示すように低級ア
ルキル基に付加された非置換又は置換複素環式環を示
し、その例としてはイミダゾリルメチル、チアゾリルメ
チル等が挙げられるが、これらに限定されない。本明細
書中で用いる場合、“ヒドロキシアルキル”という用語
は、低級アルキル基に付加された−ＯＨを示す。本明細
書中で用いる“アルコキシアルキル”という用語は、低
級アルキル基に付加されたアルコキシ基を示す。本明細
書中で用いる“アリールアルコキシアルキル”という用
語は、低級アルキル基に付加されたアリールアルコキシ
を示す。本明細書中で用いる“フェニルアルコキシアル
キル”という用語は、低級アルキル基に付加されたフェ
ニルアルコキシ基を示し、その例としてはフェニルメト
キシメチル等が挙げられるが、しかしこれらに限定され
ない。本明細書中で用いる場合、“（置換フェニル）ア
ルコキシアルキル”という用語は、低級アルキル基に付
加された（置換フェニル）アルコキシ基を示し、その例
としては４−クロロフェニルメトキシメチルが挙げられ
るが、しかしこれらに限定されない。本明細書中で用い
る場合、“ナフチルアルコキシアルキル”という用語
は、低級アルキル基に付加されたナフチルアルコキシ基
を示し、その例としては１−ナフチルメトキシメチル等
が挙げられるが、しかしそれらに限定されない。本明細
書中で用いる場合、“（置換ナフチル）アルコキシアル
キル”という用語は、低級アルキル基に付加された（置
換ナフチル）アルコキシ基を示し、その例としてはハロ
ナフチルメトキシメチル等が挙げられるが、しかしこれ
らに限定されない。本明細書中で用いる場合、“チオア
ルコキシアルキル”という用語は、低級アルキル基に付
加されたチオアルコキシ基を示す。本明細書中で用いる
場合、“（（アルコキシ）アルコキシ）アルキル”とい
う用語は、低級アルキル基に付加されるアルコキシ基に
付加されたアルコキシ基を示し、その例としてはメトキ
シメトキシメチル等が挙げられるが、しかしこれらに限
定されない。本明細書中で用いる場合、“ポリアルコキ
シアルキル”という用語は、低級アルキル基に付加され
るポリアルコキシ残基を示し、その例としてはメトキシ
エトキシメトキシメチル等が挙げられるが、しかしこれ
らに限定されない。本明細書中に用いられる“アミノア
ルキル”という用語は、低級アルキル基に付加された−
ＮＨ_２を示す。本明細書中に用いられる“アルキルアミ
ノアルキル”という用語は、低級アルキル基に付加され
た−ＮＨＲ_７０（ここでＲ_７０は低級アルキル基であ
る）を示す。本明細書中に用いられる“ジアルキルアミ
ノアルキル”という用語は、低級アルキル基に付加され
たジアルキルアミノを示す。本明細書中に用いる場合
“アミノシクロアルキル”という用語は、シクロアルキ
ル基に付加された−ＮＨ_２を示す。本明細書中で用いる
場合、“Ｎ−保護アミノアルキル”という用語は、低級
アルキル基に付加された−ＮＨＲ_７１（ここで、Ｒ_７１
はＮ−保護基である）を示す。本明細書中で用いる場
合、“（Ｎ−保護）（アルキル）アミノアルキル”とい
う用語は、低級アルキル基に付加される−ＮＲ_７１Ｒ
_７２（ここでＲ_７１は上記と同様であり、そしてＲ_７２
は低級アルキル基である）を示す。本明細書中で用いる
“アルコキシカルボニルアルキル”という用語は、Ｒ
_７３Ｃ（Ｏ）Ｒ_７４−（ここで、Ｒ_７３はアルコキシ基
であり、Ｒ_７４は低級アルキル基である）を示す。本明
細書中で用いる場合“カルボキシアルキル”という用語
は、低級アルキル基に付加されたカルボン酸基（−ＣＯ
ＯＨ）を示す。本明細書中で用いる場合“シアノアルキ
ル”という用語は、低級アルキル基に付加された−ＣＮ
を示す。本明細書中で用いる場合“アジドアルキル”と
いう用語は、低級アルキル基に付加された−Ｎ_３を示
す。本明細書中で用いる場合“（アルコキシ）アミノア
ルキル”という用語は、アミノ基に付加され、次いで低
級アルキル基に付加されるアルコキシ基を示す。本明細
書中で用いる場合“（アルコキシ）（アルキル）アミノ
アルキル”という用語は、低級アルキル基に付加される
−ＮＲ_７５Ｒ_７６基（ここでＲ_７５はアルコキシ基であ
り、そしてＲ_７６は低級アルキル基である）を示す。本
明細書中で用いる場合“低級アルキルスルフィニルアル
キル”という用語は、低級アルキル基に付加されたＲ
_７７Ｓ（Ｏ）−基（ここでＲ_７７は低級アルキルであ
る）を示す。本明細書中で用いる場合“低級アルキルス
ルホニルアルキル”という用語は、低級アルキル基に付
加されたＲ_７８Ｓ（Ｏ）_２基（ここでＲ_７８は低級アル
キルである）を示す。本明細書中で用いる場合“フェニ
ルチオアルキル”という用語は、低級アルキル基に付加
されたＲ_７９Ｓ−基（ここでＲ_７９はフェニル基であ
る）を示す。本明細書中で用いる場合“（置換フェニ
ル）チオアルキル”という用語は、低級アルキル基に付
加されたＲ_８０Ｓ−基（ここでＲ_８０は置換フェニル基
である）を示す。本明細書中で用いる場合“ナフチルチ
オアルキル”という用語は、低級アルキル基に付加され
たＲ_８１Ｓ−基（ここでＲ_８１はナフチル基である）を
示す。本明細書中で用いる場合“（置換ナフチル）チオ
アルキル”という用語は、低級アルキル基に付加された
Ｒ_８２Ｓ−基（ここでＲ_８２は置換ナフチル基である）
を示す。本明細書中で用いる場合“フェニルスルホニル
アルキル”という用語は、低級アルキル基に付加された
Ｒ_８３Ｓ（Ｏ）_２−基（ここでＲ_８３はフェニル基であ
る）を示す。本明細書中で用いる場合“（置換フェニ
ル）スルホニルアルキル”という用語は、低級アルキル
基に付加されたＲ_８４Ｓ（Ｏ）_２−基（ここでＲ_８４は
置換フェニル基である）を示す。本明細書中で用いる場
合“ナフチルスルホニルアルキル”という用語は、低級
アルキル基に付加されたＲ_８５Ｓ（Ｏ）_２−基（ここで
Ｒ_８５はナフチル基である）を示す。本明細書中で用い
る場合“（置換ナフチル）スルホニルアルキル”という
用語は、低級アルキル基に付加されたＲ_８６Ｓ（Ｏ）_２
−基（ここでＲ_８６は置換ナフチル基である）を示す。
本明細書中で用いる場合“カルボキシアルコキシアルキ
ル”という用語は、低級アルキル基に付加されるアルコ
キシ基に付加されたカルボン酸基（−ＣＯＯＨ）を示
す。本明細書中で用いる場合“アルコキシカルボニルア
ルコキシアルキル”という用語は、低級アルキル基に付
加されるアルコキシ基に付加されたアルコキシカルボニ
ル基（Ｒ_８７ＣＯ−、ここで、Ｒ_８７はアルコキシ基で
ある）を示す。本明細書中で用いる場合“（アミノ）カ
ルボキシアルキル”という用語は、カルボン酸基（−Ｃ
ＯＯＨ）及びアミノ基（−ＮＨ_２）を付加される低級ア
ルキル基を示す。本明細書中で用いる場合“（Ｎ−保
護）アミノ）カルボキシアルキル”という用語は、カル
ボン酸基（−ＣＯＯＨ）及び−ＮＨＲ_８８（ここで、Ｒ
_８８はＮ−保護基である）を付加される低級アルキル基
を示す。本明細書中で用いる場合“（アルキルアミノ）
カルボキシアルキル”という用語は、カルボン酸基（−
ＣＯＯＨ）及びアルキルアミノ基を付加される低級アル
キル基を示す。本明細書中で用いる場合“（（Ｎ−保
護）アルキルアミノ）−カルボキシアルキル”という用
語は、カルボン酸基（−ＣＯＯＨ）及び−ＮＲ_８９Ｒ
_９０（ここで、Ｒ_８９は上記と同様であり、そしてＲ
_９０は低級アルキル基である）を付加される低級アルキ
ル基を示す。本明細書中で用いる場合“（ジアルキルア
ミノ）カルボキシアルキル”という用語は、カルボン酸
基（−ＣＯＯＨ）及び−ＮＲ_９１Ｒ_９２（ここで、Ｒ
_９１及びＲ_９２は低級アルキルからそれぞれ選択され
る）を付加される低級アルキル基を示す。本明細書中で
用いる場合“（アミノ）アルコキシカルボニルアルキ
ル”という用語は、上記と同様のアルキルカルボニル
基、およびアミノ基（−ＮＨ_２）を付加される低級アル
キル基を示す。本明細書中で用いる場合“（（Ｎ−保
護）アミノ）アルコキシカルボニルアルキル”という用
語は、上記と同様のアルコキシカルボニル基、及び−Ｎ
ＨＲ_９３（ここで、Ｒ_９３は上記と同様である）を付加
される低級アルキル基を示す。本明細書中で用いる場合
“（アルキルアミノ）アルコキシカルボニルアルキル”
という用語は、上記と同様のアルコキシカルボニル基、
及び上記と同様のアルキルアミノ基を付加される低級ア
ルキル基を示す。本明細書中で用いる場合“（（Ｎ−保
護）アルキルアミノ）アルコキシカルボニルアルキル”
という用語は、上記と同様のアルコキシカルボニル及び
−ＮＲ_９４Ｒ_９５（ここでＲ_９４はＮ−保護基であり、
Ｒ_９５は低級アルキルである）を付加される低級アルキ
ル基を示す。本明細書中で用いる場合“（ジアルキルア
ミノ）アルコキシカルボニルアルキル”という用語は、
上記と同様のアルコキシカルボニル基と−ＮＲ_９６Ｒ
_９７（ここでＲ_９６及びＲ_９７は低級アルキルからそれ
ぞれ選択される）を付加される低級アルキルを示す。本
明細書中で用いる場合“カルボキシアルキルアミノ”と
いう用語は、−ＮＨＲ_９８（ここで、Ｒ_９８はカルボキ
シアルキル基である）を示す。本明細書中で用いる場合
“アルコキシカルボニルアルキルアミノ”という用語
は、−ＮＨＲ_９９（ここで、Ｒ_９９はアルコキシカルボ
ニルアルキル基である）を示す。本明細書中で用いる場
合“（アミノ）カルボキシアルキルアミノ”という用語
は、−ＮＨＲ_１００（ここで、Ｒ_１００は（アミノ）カ
ルボキシアルキル基である）を示す。本明細書中で用い
る場合“（（Ｎ−保護）アミノ）カルボキシアルキルア
ミノ”という用語は、−ＮＨＲ_１０１（ここで、Ｒ
_１０１は（（Ｎ保護）アミノ）カルボキシアルキル基で
ある）を示す。本明細書中で用いる場合“（アルキルア
ミノ）カルボキシアルキルアミノ”という用語は、−Ｎ
ＨＲ_１０２（ここで、Ｒ_１０２は（アルキルアミノ）カ
ルボキシアルキルアミノ基である）を示す。本明細書中
で用いる場合“（（Ｎ−保護）アルキルアミノ）−カル
ボキシアルキルアミノ”という用語は、−ＮＨＲ_１０３
（ここで、Ｒ_１０３は（（Ｎ−保護）アルキルアミノ）
カルボキシアルキル基である）を示す。本明細書中で用
いる場合“（ジアルキルアミノ）カルボキシアルキルア
ミノ”という用語は、−ＮＨＲ_１０４（ここで、Ｒ
_１０４は（ジアルキルアミノ）カルボキシアルキル基で
ある）を示す。本明細書中で用いる場合“（アミノ）ア
ルコキシカルボニルアルキルアミノ”という用語は、−
ＮＨＲ_１０５（ここで、Ｒ_１０５は（アミノ）アルコキ
シカルボニルアルキル基である）を示す。本明細書中で
用いる場合“（（Ｎ−保護）アミノ）アルコキシカルボ
ニルアルキルアミノ”という用語は、−ＮＨＲ
_１０６（ここで、Ｒ_１０６は（（Ｎ−保護）アミノ）ア
ルコキシカルボニルアルキル基である）を示す。本明細
書中で用いる場合“（アルキルアミノ）アルコキシカル
ボニルアルキルアミノ”という用語は、−ＮＨＲ_１０７
（ここで、Ｒ_１０７は（アルキルアミノ）アルコキシカ
ルボニルアルキル基である）を示す。本明細書中で用い
る場合“（（Ｎ−保護）アルキルアミノ）アルキルカル
ボニルアルキルアミノ”という用語は、−ＮＨＲ_１０８
（ここで、Ｒ_１０８は（（Ｎ−保護）アルキルアミノ）
アルコキシカルボニルアルキル基である）を示す。本明
細書中で用いる場合“（ジアルキルアミノ）アルコキシ
カルボニルアルキルアミノ”という用語は、−ＮＨＲ
_１０９（ここで、Ｒ_１０９は（ジアルキルアミノ）アル
コキシカルボニルアルキル基である）を示す。本明細書
中で用いる場合“アルキリデン”という用語は、炭素−
炭素、二重結合を介して付加される直鎖又は分枝鎖アル
キル基であって、その例としてはメチリデン、エチリデ
ン、１−プロピリデン、１−ブチリデン、１−ペンリデ
ン、２−プロピリデン、２−ブチリデン、２−ペンチリ
デン、３−ペンチリデン、３−ヘキシリデン、３−ヘプ
チリデン及び４−ヘプチリデンが挙げられるが、しかし
これらに限定されない。本明細書中で用いる場合“酸化
アルキリデン”という用語は、アルキリデン基から得ら
れるエポキシド部分を示す。本明細書中で用いる場合
“アミノ”という用語は、−ＮＨ_２置換基を示す。本明
細書中で用いる場合、“アルキルアミノ”という用語は
−ＮＨＲ_１１０（ここで、Ｒ_１１０は低級アルキル基で
ある）を示す。本明細書中で用いる場合、“ジアルキル
アミノ”という用語は−ＮＲ_１１１Ｒ_１１２（ここで、
Ｒ_１１１及びＲ_１１２は低級アルキル基からそれぞれ選
択される）を示す。本明細書中で用いる場合、“アリー
ルアルキルアミノ”という用語はＲ_１１３ＮＨ−（ここ
で、Ｒ_１１３はアリールアルキル残基である）を示す。
本明細書中で用いる場合、“アリールアルキル（アルキ
ル）アミノ”という用語はＲ_１１４Ｒ_１１５Ｎ−（ここ
で、Ｒ_１１４はアリールアルキル残基であり、そしてＲ
_１１５は低級アルキル残基である）を示す。本明細書中
で用いる場合、“フェニルアルキルアミノ”という用語
はアミノ基に付加されるフェニルアルキル基を示し、そ
の例としてはベンジルアミノ等が挙げられるが、しかし
これらに限定されない。本明細書中で用いる場合、
“（置換フェニル）アルキルアミノ”という用語はアミ
ノ基に付加される（置換フェニル）アルキル基を示し、
その例としては４−クロロベンジルアミノ等が挙げられ
るが、しかしこれらに限定されない。本明細書中で用い
る場合、“ナフチルアルキルアミノ”という用語はアミ
ノ基に付加されるナフチルアルキル基を示し、その例と
しては１−ナフチルメチルアミノ等が挙げられるが、し
かしこれらに限定されない。本明細書中で用いる場合、
“（置換ナフチル）アルキルアミノ”という用語はアミ
ノ基に付加された（置換ナフチル）アルキル基を示す。
本明細書中で用いる場合、“（フェニルアルキル）（ア
ルキル）アミノ”という用語はＲ_１１６Ｒ_１１７Ｎ−
（ここで、Ｒ_１１６はフェニルアルキル残基であり、そ
してＲ_１１７は低級アルキル残基である）を示す。本明
細書中で用いる場合、“（（置換フェニル）アルキル）
−（アルキル）アミノ”という用語はＲ_１１８Ｒ_１１９
Ｎ−（ここで、Ｒ_１１８は（置換フェニル）アルキル基
であり、そしてＲ_１１９は低級アルキル残基である）を
示す。本明細書中で用いる場合、“（ナフチルアルキ
ル）（アルキル）アミノ”という用語はＲ_１２０Ｒ
_１２１Ｎ−（ここで、Ｒ_１２０はナフチルアルキル基で
あり、そしてＲ_１２１は低級アルキル基である）を示
す。本明細書中で用いる場合、“（（置換ナフチル）ア
ルキル）（アルキル）アミノ”という用語はＲ_１２２Ｒ
_１２３Ｎ−（ここで、Ｒ_１２２は（置換ナフチル）アル
キル基であり、そしてＲ_１２３は低級アルキル基であ
る）を示す。本明細書中で用いる場合、“アミノアルキ
ルアミノ”という用語はＲ_１２４ＮＨ−（ここで、Ｒ
_１２４はアミノアルキル残基である）を示す。本明細書
中で用いる場合、“ジアルキルアミノ（アルキル）アミ
ノ”という用語はＲ_１２５Ｒ_１２６Ｎ−（ここで、Ｒ
_１２５は低級アルキル残基に付加されるジアルキルアミ
ノ残基であり、そしてＲ_１２６は低級アルキル残基であ
る。本明細書中で用いる場合、“（（ジアルキルアミ
ノ）アルキル）（アルキル）アミノ”という用語は−Ｎ
Ｒ_１２７Ｒ_１２８（ここで、Ｒ_１２７は低級アルキル残
基に付加されるジアルキルアミノ残基であり、そしてＲ
_１２８は低級アルキル残基である）を示す。本明細書中
で用いる場合、“（ヒドロキシアルキル）（アルキル）
アミノ”という用語は−ＮＲ_１２９Ｒ_１３０（ここで、
Ｒ_１２９はヒドロキシアルキル基であり、そしてＲ
_１３０は低級アルキル基である）を示す。本明細書中で
用いる場合、“ジヒドロキシアルキル）（アルキル）ア
ミノ”という用語は低級アルキル基を付加したアミノ基
に付加される−ＯＨ基で二置換される別の低級アルキル
基を示す。本明細書中で用いる場合、“ジ（ヒドロキシ
アルキル）アミノ”という用語はＲ_１３１Ｒ_１３２Ｎ−
（ここで、Ｒ_１３１及びＲ_１３２はヒドロキシアルキル
残基である）を示す。本明細書中で用いる場合、“アル
コキシアルキル（アルキル）アミノ”という用語はＲ
_１３３Ｒ_１３４Ｎ−（ここで、Ｒ_１３３は低級アルキル
基であり、そしてＲ_１３４はアルコキシアルキル基であ
る）を示す。本明細書中で用いる場合、“ジ（アルコキ
シアルキル）アミノ”という用語はＲ^１３５Ｒ_１３６Ｎ
−（ここで、Ｒ_１３５及びＲ_１３６は低級アルキル基に
付加されるアルキル残基である）を示す。本明細書中で
用いる場合、“ジ（ポリアルコキシアルキル）アミノ”
という用語はＲ_１３７Ｒ_１３８Ｎ−（ここで、Ｒ_１３７
及びＲ_１３８は低級アルキル基に付加されるポリアルコ
キシ基である）を示す。本明細書中で用いる場合、
“（（ポリアルコキシ）アルキル）（アルキル）アミ
ノ”という用語はＲ_１３９Ｒ_１４０Ｎ−（ここで、Ｒ
_１３９は低級アルキル基に付加されるポリアルコキシ残
基であり、そしてＲ_１４０は低級アルキル残基である）
を示す。本明細書中で用いる場合、“（（複素環式）ア
ルキル）（アルキル）アミノ”という用語は−Ｒ_１４１
Ｒ_１４２（ここで、Ｒ_１４１は複素環式アルキル基であ
り、そしてＲ_１４２は低級アルキル基である）を示す。
本明細書中で用いる場合、“（複素環式アルキル）アミ
ノ”という用語は−ＮＨＲ_１４３（ここで、Ｒ_１４３は
複素環式アルキル基である）を示す。本明細書中で用い
る場合、“（複素環式）（アルキル）アミノ”という用
語は−ＮＲ_１４４Ｒ_１４５（ここで、Ｒ_１４４は置換又
は非置換複素環式基であり、そしてＲ_１４５は低級アル
キル基である）を示す。本明細書中で用いる場合、
“（アルキルアミノアルキル）（アルキル）アミノ”と
いう用語は−ＮＲ_１４６Ｒ_１４７（ここで、Ｒ_１４６は
アルキルアミノアルキル基であり、そしてＲ_１４７は低
級アルキル基である）を示す。本明細書中で用いる場
合、“（ジアルキルアミノアルキル）（アルキル）アミ
ノ”という用語は−ＮＲ_１４８Ｒ_１４９（ここで、Ｒ
_１４８はジアルキルアミノアルキル基であり、そしてＲ
_１４９は低級アルキル基である）を示す。本明細書中で
用いる場合、“（（アルコキシ）（アルキル）アミノア
ルキル）−（アルキル）アミノ”という用語は−ＮＲ
_１５０Ｒ_１５１（ここで、Ｒ_１５０は低級アルキル基に
付加される−ＮＲ_１５２Ｒ_１５３（ここでＲ_１５２はア
ルコキシ基であり、Ｒ_１５３は低級アルキル基である）
であり、そしてＲ_１５１は低級アルキル基である）を示
す。本明細書中で用いる場合、“（（アルコキシ）アミ
ノアルキル）（アルキル）アミノ”という用語は−ＮＲ
_１５４Ｒ_１５５（ここで、Ｒ_１５４は低級アルキル基に
付加される−ＮＨＲ_１５６（ここでＲ_１５６はアルコキ
シ基である）であり、Ｒ_１５５は低級アルキル基であ
る）を示す。本明細書中で用いる場合、“（アルコキシ
アルコキシアルキル）（アルキル）アミノ”という用語
は−ＮＲ_３０５Ｒ_３０６（ここで、Ｒ_３０５はアルコキ
シアルコキシアルキル基であり、そしてＲ_３０６は低級
アルキル基である）を示す。本明細書中で用いる場合、
“ジ（アルコキシアルコキシアルキル）アミノ”という
用語は−ＮＲ_３０７Ｒ_３０８（ここで、Ｒ_３０７及びＲ
_３０８はアルコキシアルコキシアルキル基である）を示
す。本明細書中で用いる場合、“アルキルスルホニルア
ミノ”という用語はＲ_３０９ＮＨ−（ここで、Ｒ_３０９
はアルキルスルホニル基である）を示す。本明細書中で
用いる場合、“アリールスルホニルアミノ”という用語
はＲ_３１０ＮＨ−（ここで、Ｒ_３１０はアリールスルホ
ニル基である）を示す。本明細書中で用いる場合、“ア
ルキルアミノカルボニルアミノ”という用語はＲ_３１１
Ｃ（Ｏ）ＮＨ−（ここで、Ｒ_３１１はアルキルアミノ基
である）を示す。本明細書中で用いる場合、“アルキル
アミノカルボニルオキシ”という用語はＲ_３１２Ｃ
（Ｏ）Ｏ−（ここで、Ｒ_３１２はアルキルアミノ基であ
る）を示す。本明細書中で用いる場合、“アルコキシカ
ルボニルオキシ”という用語はＲ_３１３Ｃ（Ｏ）−（こ
こで、Ｒ_３１３はアルコキシ基である）を示す。本明細
書中で用いる場合、“低級アルキルカルボニル”という
用語はＲ_１５７Ｃ（Ｏ）−（ここで、Ｒ_１５７は低級ア
ルキルである）を示し、その例としてはアセチル、プロ
ピオニル等が挙げられるが、それらに限定されない。本
明細書中で用いる場合、“アルコキシ”及び“チオアル
コキシ”という用語はそれぞれＲ_１５８Ｏ−及びＲ
_１５８Ｓ−（ここでＲ_１５８は低級アルキル基である）
を示す。本明細書中で用いる場合、“アルコキシアルコ
キシ”という用語はアルコキシ基に付加されるアルコキ
シ基を示し、その例としてはメトキシメトキシ等が挙げ
られるが、しかしこれらに限定されない。本明細書中で
用いる場合、“アリールオキシアルキル”という用語
は、低級アルキル基に付加されるアリールオキシ基（Ｒ
_３０３Ｏ−（ここでＲ_３０３はアリール基である）を示
す。本明細書中で用いる場合、“チオアリールオキシア
ルキル”という用語は、低級アルキル基に付加されるチ
オアリールオキシ基（Ｒ_３０４Ｓ−（ここでＲ_３０４は
アリール基である）を示す。本明細書中で用いる場合、
“アリールアルコキシ”及び“アリールチオアルコキ
シ”という用語はそれぞれアルコキシ基又はチオアルコ
キシ基に付加されるアリール基を示し、その例としては
フェノキシメチル、チオフェノキシメチル等が挙げられ
るが、しかしこれらに限定されない。本明細書中で用い
る場合、“アリールアルコキシアルキル”及び“アリー
ルチオアルコキシアルキル”という用語は、低級アルキ
ル基に付加される、それぞれアリールアルコキシ基又は
アリールチオアルコキシ基を示す。本明細書中で用いる
場合、“アルケニルオキシ”という用語は、Ｒ_１５９Ｏ
−（ここで、Ｒ_１５９は、少なくとも１つの炭素・炭素
二重結合を含有する、１〜７個の炭素原子を有するアル
キル基である）を示す。本明細書中で用いる場合、“ヒ
ドロキシアルコキシ”という用語は、アルコキシ基に付
加される−ＯＨを示す。本明細書中で用いる場合、“ヒ
ドロキシアルコキシ”という用語は、−ＯＨ基で二置換
されるアルコキシ基を示す。本明細書中で用いる場合、
“アリールアルコキシ”という用語は、アルコキシ基に
付加されるアリール基を示す。本明細書中で用いる場
合、“アルキルアリールオキシ”という用語は、Ｒ
_１６０Ｏ−（ここで、Ｒ_１６０はアルキルアリール基で
ある）を示す。本明細書中で用いる場合、“フェニルア
ルコキシ”という用語は、アルコキシ基に付加されるフ
ェニル基を示し、その例としてはベンジルオキシ等が挙
げられるが、しかしこれらに限定されない。本明細書中
で用いる場合、“（置換フェニル）アルコキシ”という
用語は、アルコキシ基に付加される置換フェニル基を示
し、その例としては４−クロロベンジルオキシ等が挙げ
られるが、しかしこれらに限定されない。本明細書中で
用いる場合、“ナフチルアルコキシ”という用語は、ア
ルコキシ基に付加されるナフチル基を示す。本明細書中
で用いる場合、“（置換ナフチル）アルコキシ”という
用語は、アルコキシ基に付加される置換ナフチル基を示
す。本明細書中で用いる場合、“ポリアルコキシ”とい
う用語は、Ｒ_１６１Ｏ−（ここで、Ｒ_１６１は１〜５，
Ｃｍ−Ｏ−Ｃｍ′リンケージ（この場合、ｍ及びｍ′は
それぞれ１〜３である）を含有する直鎖又は分枝鎖であ
る）を示す。本明細書中で用いる場合、“ハロ”又は
“ハロゲン”という用語は、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｆ又はＩ置換
基を示す。本明細書中で用いる場合、“ハロアルキル”
という用語は、１つ又はそれ以上の原子がハロゲンで置
換される低級アルキル基を示し、その例としてはフルオ
ロメチル、２−クロロエチル、トリフルオロメチル、
２，２，ジクロロエチル等が挙げられるが、しかしこれ
らに限定されない。本明細書中で用いる場合、“ポリハ
ロアルキル”という用語は、１つ又はそれ以上のハロゲ
ンで置換される低級アルキル基を示し、その例としては
トリフルオロメチル、２，２−ジクロロエチル等が挙げ
られるが、しかしこれらに限定されない。 本明細書中
で用いる場合、“ハロベンジル”という用語は、ベンジ
ル基のフェニル環に付加されるハロ置換基を示す。本明
細書中で用いる、“ハロフェニル”という用語は、フェ
ニル基に付加されるハロ置換基を示す。本明細書中で用
いる、“アルキルスルホニル”という用語は、Ｒ_３００
Ｓ（Ｏ）_２（ここで、Ｒ_３００は低級アルキル基であ
る）を示す。本明細書中で用いる場合、“（アリール）
スルホニル”という用語は、Ｒ_３０１Ｓ（Ｏ）_２−（こ
こで、Ｒ_３０１はアリール基である）を示す。本明細書
中で用いる場合、“（複素環式）スルホニル”という用
語は、Ｒ_３０２Ｓ（Ｏ）_２−（ここで、Ｒ_３０２は複素
環式基である）を示す。本明細書中で用いる場合、“ア
リールスルホニルアルキル”という用語は、低級アルキ
ル基に付加されるアリールスルホニル基を示す。本明細
書中で用いる場合、“アリール”という用語は、１つ又
はそれ以上の芳香族環を有する単環式又は二環式炭素環
式環系を示し、その例としてはフェニル、ナフチル、テ
トラヒドロナフチル、インダニル等が挙げられるが、し
かしこれらに限定されない；あるいは“アリール”は、
本明細書中に記載されているように、複素環式芳香族環
を示す。アリール基は、低級アルキル、ハロアルキル、
アルコキシ、チオアルコキシ、アミノ、アルキルアミ
ノ、ジアルキルアミノ、ヒドロキシ、ハロ、メルカプ
ト、ニトロ、カルボキサルデヒド、カルボキシ、アルコ
キシカルボニル及びカルボキサミドからそれぞれ選択さ
れる１，２又は３つの置換基で非置換であるか又は置換
され得る。本明細書中で用いる場合、“置換フェニル”
という用語は、低級アルコキシ、低級アルキル、アミ
ノ、低級アルキルアミノ、ヒドロキシ、ハロ、メルカプ
ト、ニトロ、チオアルコキシ、カルボキサルデヒド、カ
ルボキシ、カルボアルコキシ及びカルボキサミドから選
択される１，２又は３つの置換基で置換されるフェニル
環を示し、その例としてはハロフェニル、低級アルキル
フェニル、アルコキシフェニル等が挙げられるが、しか
しこれらに限定されない。本明細書中で用いる場合、
“置換ナフチル”という用語は、低級アルコキシ、低級
アルキル、アミノ、低級アルキルアミノ、ヒドロキシ、
ハロ、メルカプト、ニトロ、チオアルコキシ、カルボキ
サルデヒド、カルボキシ、カルボアルコキシ及びカルボ
キサミドから選択される１，２又は３つの置換基で置換
されるナフチル環を示し、その例としてはハロナフチ
ル、アルコキシナフチル等が挙げられるが、しかしこれ
らに限定されない。本明細書で用いる場合、“アルキル
アリール”という用語は、アリール基に付加される低級
アルキル基を示す。本明細書中で用いる場合、“複素環
式基”又は“複素環式”という用語は、酸素、硫黄およ
び窒素から選択される異種原子を含有する任意の３−又
は４−員環、あるいは１〜３個の窒素原子を含有する；
もしくは１個の窒素原子と１個の酸素原子を含有する；
もしくは１個の窒素原子と１個の硫黄原子を含有する５
−又は６員環（ここで、５員環は０〜２個の二重結合を
有し、６員環は０〜３個の二重結合を有する）。この場
合、窒素及び硫黄の異種原子は任意に酸化されてもよ
く；窒素異種原子は任意に四級化されてもよい。それら
の例としては、任意の上記複素環式環がベンゼン環に融
合される任意の二環式環が挙げられる。窒素が異種原子
である複素環式基が好ましい。十分に飽和された複素環
式も好ましい。好ましい複素環式基としては；ピリイ
ル、ピロリニル、ピロリジニル、ピラゾリル、ピラゾリ
ニル、ピラゾリジニル、イミダゾリル、イミダゾリニ
ル、イミダゾリジニル、ピリジル、ピペリジニル、ピラ
ジニル、ピペラジニル、Ｎ−メチルピペラジニル、アゼ
チジニル、Ｎ−メチルアゼチジニル、ピリミジニル、ピ
リダジニル、オキサゾリル、オキサゾリジニル、イソキ
サゾリル、イソキサゾリジニル、モルホリニル、チアゾ
リル、チアゾリジニル、イソチアソリジリル、イソチア
ゾリジニル、インドリル、キノリニル、イソキノリニ
ル、ベンズイミダゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンズオ
キサゾリル、フリル、チエニル、トリアゾリル及びベン
ゾチエニルが挙げられる。複素環式基は、ヒドロキシ、
ハロ、オキソ（＝０）、アルキルイミノ（ＲＮ＝，ここ
でＲ＊は低級アルキル基である）、アミノ、アルキルア
ミノ、ジアルキルアミノ、アルコキシ、チオアルコキ
シ、ポリアルコキシ、低級アルキル、ハロアルキル又は
シクロアルキルからそれぞれ選択される置換基、非置換
であるか、もしくは−置換又は二置換され得る。最も好
ましい複素環式基としては、イミダゾリル、ピリジル、
ピペラジニル、Ｎ−メチルピペラジニル、アゼチジニ
ル、Ｎ−メチルアゼチジニル、チアゾリル、チエニル、
トリアゾリル、並びに以下に示すものが挙げられる：

【化３８】 （式中、ｋは１又は２であり、ＸはＮ、ＮＨ、Ｏ又はＳ
であって、ＸがＮである場合にのみ、Ｘは連接点たり得
る）

【化３９】 （式中、ＹはＮＨ、Ｎ−低級アルキル、Ｏ、Ｓ、又はＳ
Ｏ_２である）、又は

【化４０】 （式中、記号（ｉ）、（ｉｉ）及び（ｉｉｉ）は、１つ
又はそれ以上の異種原子を含有し、２つの二重結合を有
する５員複素環を表わす；この場合、Ｚ_１はＮ、Ｏ又は
Ｓであって連接点ではなく、そしてＺ_２は、それが連接
点である場合にはＮであり、連接点でない場合にはＺ_２
はＮＨ、Ｏ又はＳである；但し、Ｚ_２が連接点である場
合には、Ｚ_１はＮである。本明細書で用いる場合、“Ｎ
−保護基”又は“Ｎ−保護”という用語は、アミノ酸又
はペプチドのＮ末端を保護するよう、あるいは合成操作
中の望ましくない反応に対してアミノ基を保護するよ
う、あるいは化合物に及ぼすエキソペプチターゼの作用
を防止するよう、あるいは化合物の溶解性を増大するよ
う意図された基を示し、その例としては、スルホニル、
アシル、アセチル、ピバロイル、ｔ−ブチルオキシカル
ボニル（Ｂｏｃ）、カルボニルベンジルオキシ（Ｃｂ
ｚ）、ベンゾイルもしくはＬ−又はＤ−アミノアシル残
基が挙げられるが、これらは、それ自体、同様にＮ−保
護されてもよい。本明細書で用いる場合、“０−保護
基”という用語は、合成操作中の望ましくない反応に対
してヒドロキシ基を保護する置換基を示し、その例とし
ては置換メチルエーテル、例えばメトキシメチル、ベン
ジルオキシメチル、２−メトキシエトキシメチル、２−
（トリメチルシリル）エトキシメチル、ベンジル及びト
リフェニルメチル；テトラヒドロピラニルエーテル；置
換エチルエーテル、例えば２，２，２−トリクロロエチ
ル、及びｔブチル、；シリルエーテル、例えばトリメチ
ルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、及びｔ−ブチル
ジフェニルシリル；環状アセタル及びケタル、例えばメ
チレンアセタル、アセトニド及びベンジリデンアセタ
ル；環状オルトエステル、例えばメトキシメチレン；環
状炭酸塩；及び環状ホウ酸塩が挙げられる。本明細書で
用いる場合、“置換アミノ”という用語は： Ｉ） アルキルアミノ ＩＩ） ジアルキルアミノ ＩＩＩ） （ヒドロキシアルキル）（アルキル）アミノ ＩＶ） （ジヒドロキシアルキル）（アルキル）アミノ Ｖ） アルコキシカルボニルアルキルアミノ ＶＩ） カルボキシアルキルアミノ ＶＩＩ） （アミノ）カルボキシアルキルアミノ ＶＩＩＩ） （Ｎ−保護）アミノ）カルボキシアルキル
アミノ ＩＸ） （アルキルアミノ）カルボキシアルキルアミノ Ｘ） （（Ｎ−保護）アルキルアミノ）カルボキシアル
キルアミノ ＸＩ） （ジアルキルアミノ）カルボキシアルキルアミ
ノ ＸＩＩ） （アミノ）アルコキシカルボニルアルキルア
ミノ ＸＩＩＩ） （Ｎ−保護）アミノ）アルコキシカルボニ
ルアルキルアミノ ＸＩＶ） （アルキルアミノ）アルコキシカルボニルア
ルキルアミノ ＸＶ） （Ｎ−保護）アルキルアミノ）アルコキシカル
ボニルアルキルアミノ ＸＶＩ） （ジアルキルアミノ）アルコキシカルボニル
アルキルアミノ ＸＶＩＩ） （アルコキシアルキル）アルキル）アミノ ＸＶＩＩＩ） （アルコキシアルコキシアルキル）（ア
ルキル）アミノ ＸＩＸ） ジ−（アルコキシアルキル）アミノ ＸＸ） ジ−（アルコキシアルコキシアルキル）アミノ ＸＸＩ） ジ−（ヒドロキシアルキル）アミノ ＸＸＩＩ） （（非置換複素環式）アルキル）（アルキ
ル）アミノ ＸＸＩＩＩ） （（置換複素環式）アルキル）（アルキ
ル）アミノ ＸＸＩＶ）

【化４１】 （式中、ａａ′は１〜５であり、Ｒ_６ｑ及びＲ_７ｑは、 １） 水素 ２） ヒドロキシ ３） アルコキシ ４） チオアルコキシ ５） アルコキシアルコキシ ６） カルボキシ ７） アルコキシカルボニル ８） ハロゲン ９） アミノ １０） アルキルアミノ １１） ジアルキルアミノ １２） アルキルスルホニルアミノ １３） アリールスルホニルアミノ １４） アルキルアミノカルボニルアミノ １５） アルキルアミノカルボニルオキシ １６） アルコキシカルボニルオキシ １７）

【化４２】 （式中、ｄｄ′は１〜５である）、及び １８）Ｒ_８ｑ−Ｚｑ−（式中、ＺｑはＯ、Ｓ又はＮＨで
あり、Ｒ_８ｑはヒドロキシ、アルコキシ、チオアルコキ
シ、アルコキシアルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、
ジアルキルアミノ、カルボキシ、アルコキシカルボニ
ル、アリール及び複素環式から選択される置換基によっ
て置換されるＣ_１〜Ｃ_６直鎖又は分枝鎖である）からそ
れぞれ選択される）； ＸＸＶ）

【化４３】 （式中、Ｒ_９ｑは、 １） Ｏ ２） Ｓ ３） ＳＯ_２ 又は ４） Ｃ＝０ である）；あるいは、 ＸＸＶＩ）

【化４４】 （式中、Ｒ_１０ｑは、 １） 水素 ２） 低級アルキル ３） Ｎ−保護基 ４） Ｒ_１１ｑ−Ｃ（Ｏ）−（式中、Ｒ_１１ｑはアミノ
アルキル、（Ｎ−保護）アミノアルキル、１−アミノ−
２−フェニルエチル又は１−（Ｎ−保護）アミノ−２−
フェニルエチルである）である）；を示す。本明細書に
用いる“置換メチレン基”という用語は； （Ｉ） −ＣＨＲ_１３ｑＲ_１４ｑ （式中、 １） Ｒ_１３ｑは ｉ） 水素 又は ｉｉ）ヒドロキシ であり ２） Ｒ_１４ｑは ｉ） 水素 ｉｉ）低級アルキル、ｉｉｉ）ヒドロキシ、ｉｖ）ヒド
ロキシアルキル、ｖ）アルコキシ、ｖｉ）アルコキシア
ルキル、ｖｉｉ）アシド、ｖｉｉｉ）アジドアルキル、
ｉｘ）アミノ、ｘ）（Ｎ−保護）アミノ、ｘｌ）アミノ
アルキル、ｘｉｉ）（Ｎ−保護）アミノアルキル、ｘｉ
ｉｉ）アルキルアミノ、ｘｉｖ）（Ｎ−保護）（アルキ
ル）アミノ、ｘｖ）アルキルアミノアルキル、ｘｖｉ）
（Ｎ−保護）（アルキル）−アミノアルキル、ｘｖｉ
ｉ）ジアルキルアミノ、ｘｖｉｉｉ）ジアルキルアミノ
アルキル、ｘｉｘ）カルボキシアルキル、ｘｘ）チオア
ルコキシ、ｘｘｉ）チオアルコキシアルキル、ｘｘｉ
ｉ）アルキルスルホニル、ｘｘｉｉｉ）アルキルスルホ
ニルアルキル、ｘｘｉｖ）チオアリールオキシ、ｘｘ
ｖ）チオアリールオキシアルキル、ｘｘｖｉ）アリール
スルホニル、ｘｘｖｉｉ）アリールスルホニルアルキ
ル、ｘｘｖｉｉｉ）（非置換複素環式）アルキル、又は
ｘｘｉｖ）（置換複素環式）アルキルであって、Ｒ
_１３ｑがヒドロキシである場合には、Ｒ_１４ｑは水素、
アルコキシ、アジド、アミノ、アルキルアミノ、ジアル
キルアミノ、（Ｎ−保護）アミノ、（Ｎ−保護）（アル
キル）アミノ、チオアルコキシ、アルキルスルホニル、
又はアリールスルホニルではなく、そしてＲ_１３ｑが水
素である場合には、Ｒ_１４ｑは水素又は低級アルキルで
はない）； （ＩＩ） −ＣＣ＝（Ｈ_２）Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ_１５ｑ； （ＩＩＩ） −Ｃ（ＯＨ）（Ｒ_１６ｑ）Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ
_１５ｑ；又は （ＩＶ） −ＣＨ（Ｒ_１６ｑ）Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ_１５ｑ （式中、 １） Ｒ_１５ｑは ｉ） 低級アルキル ｉｉ） ヒドロキシアルキル ｉｉｉ） アルコキシアルキル ｉｖ） アミノアルキル ｖ） アルキルアミノアルキル ｖｉ） ジアルキルアミノアルキル ｖｉｉ） 複素環式 又は ｉｘ） （複素環式）アリール であり、そして ２） Ｒ_１６ｑは ｉ） 水素 ｉｉ） 低級アルキル ｉｉｉ） ヒドロキシアルキル ｉｖ） ハロアルキル 又は ｖ） アジドアルキル である）； （Ｖ）

【化４５】 １） ｔ′は０〜３であり、 ２） Ｒ_２０ｑ ｉ） ＣＨ_２ 又は ｉｉ） Ｎ であり、 ３） Ｒ_２１ｑは、 ｉ） ＮＨ ｉｉ） Ｏ ｉｉｉ） Ｓ 又は ｉｖ） ＳＯ_２ であって、ｔ′が０である場合にはＲ_２０ｑはＣＨ_２で
あり、そしてｔ′が１〜３である場合には、Ｒ_２０ｑは
Ｎである）； （ＶＩ） −ＣＨ_２ＣＨ（Ｒ_２２ｑ）Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ
_２３ｑ （式中、 １） Ｒ_２２ｑは ｉ） 低級アルキル 又は ｉｉ） シクロアルキルア
ルキルであり、そして ２） Ｒ_２３ｑは ｉ）低級アルキル、ｉｉ）ヒドロキシアルキル、ｉｉ
ｉ）アルコキシアルキル、ｉｖ）アミノアルキル、ｖ）
アルキルアミノアルキル、ｖｉ）ジアルキルアミノアル
キル、ｖｉｉ）アリール、ｖｉｉｉ）アリールアルキ
ル、ｉｘ）複素環式、ｘ）（複素環式）アルキル 又
ｘｉ）

【化４６】 （式中、 ａ） ｕ′は０〜３であり ｂ） Ｒ_２４ｑはＣＨ_２又はＮであり、そして ｃ） Ｒ_２５ｑはＮＨ、Ｏ、Ｓ又はＳＯ_２であって、 ｕ′が０である場合にはＲ_２４ｑはＣＨ_２であり、ｕ′
が１〜３である場合にはＲ_２４ｑはＮである）であ
る）； （ＶＩＩ）

【化４７】 （式中、 １） Ｒ_２２ｑは上記と同様であり、そして ２） Ｒ_７４ｑは、 ｉ） 水素 ｉｉ） 低級アルキル ｉｉｉ） Ｎ保護基 又は ｉｖ） Ｒ_７５ｑ−Ｃ（Ｏ）−（ここで、Ｒ_７５ｑはア
ミノアルキル又は（Ｎ−保護）アミノアルキルである）
である）； （ＶＩＩＩ）

【化４８】 （式中、 １） Ｒ_２６ｑは、 ｉ） 低級アルキル 又は ｉｉ） シクロアルキルアルキル であり、 ２） Ｒ_２７ｑは ｉ） 低級アルキル 又は ｉｉ） シクロアルキルアルキル である）； （ＩＸ） −ＣＨ_２ＣＨ（Ｒ_８１ｑ）ＮＨＣ（Ｏ）Ｒ
_８２ｑ又は−ＣＨ_２ＣＨ（Ｒ_８１ｑ）ＮＨＳ（Ｏ）_２Ｒ
_８２ｑ （式中、 １） Ｒ_８１ｑ ｉ） 低級アルキル 又は ｉｉ） シクロアルキルアルキル であり、 ２） Ｒ_８２ｑは、 ｉ） 低級アルキル ｉｉ） アルコキシ ｉｉｉ） アルキルアミノ ｉｖ） ジアルキルアミノ ｖ） −ＯＲ＊（ここでＲ＊はアミノアルキル、アルキ
ルアミノアルキル、ジアルキルアミノアルキル又は（複
素環式）アルキルである） 又は ｖｉ）

【化４９】 （式中、Ｒ_２１ｑは上記と同様である）である）； （Ｘ） −ＣＨ_２ＮＨＣ（Ｏ）Ｒ_８２ｑ又は−ＣＨ_２Ｎ
ＨＳ（Ｏ）_２Ｒ_８２ｑ（ここでＲ_８２ｑは上記と同様で
ある）；もしくは、 （ＸＩ） −ＣＦ_２ＣＨ（ＯＨ）Ｒ_８３ｑ（式中、Ｒ
_８３は低級アルキル、低級アルケニル、シクロアルキ
ル、シクロアルケニル、シクロアルキルアルキル、シク
ロアルケニルアルキル、アリール、アリールアルキル、
複素環式又は（複素環式）アルキルである）；を示す。
本明細書中で用いる場合、“脂肪親和性又は芳香性アミ
ノ酸側鎖”という用語は、イソブチル、イソプロピル、
ｓｅｃ−ブチル、ベンジル、ｐ−メトキシベンジル、イ
ミダゾール−４−イル−メチル、ｐ−ヒドロキシベンジ
ル、１−及び２−ナフチルメチル、（ピラゾリル）メチ
ル、（チアゾリル）メチル、シクロヘキシルメチル、
（３−インドリル）メチル、ＣＨ_３ＳＣＨ_２−基等から
選択されるアミノ酸側鎖を示す。本明細書中の説明およ
び特許請求の範囲におけるアミノ酸側鎖についての引用
は、一般に蛋白質中で天然に生じるか否かにかかわら
ず、そしてＤ型およびＬ型のいずれをも引用したものと
解釈されるべきものである。本明細書中で用いる場合、
“Ａｌａ”、“Ｈｉｓ”“Ｌｅｕ”、“Ｐｈｅ”、“Ｔ
ｙｒ”、“Ｃｙｓ”“Ｇｌｙ”、“Ｌｙｓ”、“Ｓａ
ｒ”、“Ｐｒｏ”、“ＨｏｍＰｈｅ”及び“ｎｏｒＬｅ
ｒ”という用語は、それぞれ、アラニン、ヒスチジン、
ロイシン、フェニルアラニン、チロシン、システイン、
グリシン、リシン、サルコシン、プロリン、ホモフェニ
ルアラニン及びノルロイシンを示す。一般に、アミノ酸
の略号は、アミノ酸及びペプチドに対するＩＵＰＡＣ−
ＩＵＢＪｏｉｎｔ Ｃｏｍｍｉｓｓｏｎ ｏｎ Ｂｉｏ
ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｎｏｍｅｎｃｌａｔｕｒｅ（Ｅｕ
ｒ．Ｊ．Ｂｉｏｃｈｅｍ．１９８４，１５８，９〜３
１）に従う。本発明の新規のレニン阻害化合物のキラル
中心は、“Ｒ”、“Ｓ”又は“Ｒ，Ｓ”構造を有し得
る。“Ｓ”及び“Ｒ”構造という用語は、ｔｈｅ ＩＵ
ＰＡＣ１９７４Ｒｅｃｏｍｍｅｎｄａｔｉｏｎｓ ｆｏ
ｒ Ｓｅｃｔｉｏｎ Ｅ．Ｆｕｎｄａｍｅｎｔａｌ Ｓ
ｔｅｒｅｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｐｕｒｅ Ａｐｐｌ．
Ｃｈｅｍ．（１９７６）４５，１３〜３０に記載されて
いる通りである。（９）群に示される一般構造を有する
レニン阻害剤は、Ｆｕｎｇ ｅｔ ａｌ．，（ＰＣＴ特
許出願Ｗ０９０／０３９７１（ＰＣＴ／ＵＳ８９／０４
３８５）（１９９０年４月１９日公開）（この記載内容
は参照により本明細書中に含めるものとする）が記載し
たのと同様に調製し得る。置換基Ｄを含有するセグメン
トの合成は、実施例に記載されているし、あるいは過去
に記載されている（Ｋｅｍｐｔ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｍ
ｅｄ．ｃｈｅｍ，１９８７，３０，１９７８；Ｌｕｌｙ
ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．１９８７，３
０，１６０９； Ｂｕｈｌｍａｙｅｒ，ｅｔ ａｌ．，
Ｕ．Ｓ．Ｐａｔｅｎｔ Ｎｏ ．４，７２７，０６０；
Ｍｏｒｉｓａｗａ，ｅｔ ａｌ．，Ｅｕｒｏｐｅａｎ
ＰａｔｅｎｔＡｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｎｏ．０２２８
１９２；Ｔｅｎ Ｂｒｉｃｋ．ＰＣＴ Ｐａｔｅｎｔ
Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｎｏ．Ｗ０８７／０２９８
６）。（１０）群に示される一般構造を有するレニン阻
害剤は、Ｄｅ，ｅｔ ａｌ．，（ＰＣＴ Ｐａｔｅｎｔ
Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｎｏ．Ｗ０９０／０４９１
７（ＰＣＴ／ＵＳ８９／０４６４９）（１９９０年５月
１７日公開）（この記載内容は、参照により本明細書中
に含めるものとする）が記載したと同様に調製し得る。
置換基Ｒ_５を含有するセグメントの合成は、本実施例に
記載するし、あるいは、過去に、記載されている（Ｋｅ
ｍｐｔ，ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．１９８
７，３０，１９７８；Ｌｕｌｙ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｍ
ｅｄ．Ｃｈｅｍ．１９８７，３０，１６０９；Ｂｕｈｌ
ｍａｙｅｒ，ｅｔ ａｌ．，ｕ．ｓ．Ｐａｔｅｎｔ Ｎ
ｏ．４，７２７，０６０；Ｍｏｒｉｓａｗａ，ｅｔ ａ
ｌ．，Ｅｕｒｏｐｅａｎ Ｐａｔｅｎｔ Ａｐｐｌｉｃ
ａｔｉｏｎ ＮＯ．０２２８１９２；Ｔｅｎ Ｂｒｉｎ
ｋ，ＰＣＴ Ｐａｔｅｎｔ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ
Ｎｏ．Ｗ０８７／０２９８６）。

【実施例】以下の実施例により、本発明の新規の化合物
の調製をさらに説明する。実施例１ ３−（４−モルホリニル）プロピル−５（Ｓ）−アミノ
−６−シクロヘキシル−４（Ｓ）−ヒドロキシ−２
（Ｓ）イソプロピル−ヘキサンアミドの２（Ｓ）−（１
（Ｓ）−（４−（メトキシメトキシ）ピペリジン−１−
イル）カルボニル−２−フェニル）エトキシ−ヘキサン
酸アミド 実施例１Ａ：４（Ｓ）−ｔ−ブチルオキシカルボニルア
ミノ−５−シクロヘキシル−３（Ｒ，Ｓ）−ヒドロキシ
−１−ペンテン ドライトルエン（６０ｍｌ）中に溶解したＢｏｃ−シク
ロヘキシルアラニンメチルエステル（１０．２ｇ，３
５．８ｍｍｏｌ，の−７８℃撹拌溶液に、水素化ジイソ
ブチルアルミニウム（トルエンに溶解した３４ｍｌの
１．５Ｍ溶液）を加えた。３０分後、臭化ビニルマグネ
シウム（テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶解した１０
８ｍｌの１Ｍ溶液）を加えた。０℃で１５時間撹拌後、
その混合液をメタノールで注意しながら反応停止し、Ｒ
ｏｃｈｅｌｌｅ塩（１４０ｍｌ Ｈ_２Ｏに溶解した２２
ｍｌの飽和水溶液）で処理して、濾過した。酢酸エチル
で５回、固体を抽出後、抽出と濾液とを併合して、有機
相をブラインで洗浄し、脱水し、濾過して、蒸発し、油
（１０．２ｇ）とした。シリカゲル上でクロマトグラフ
ィ処理し、ヘキサン／酢酸エチル混合液で溶離して、
６．１ｇの所望の物質を生成した。 Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ Ｃ_６Ｈ_２９ＮＯ_３とし
て算出した分析値：１／４ Ｈ_２Ｏ：Ｃ，６６．８；
Ｈ，１０．３；Ｎ，４．９． 実測値：Ｃ，６６．９；Ｈ，１０．２；Ｎ，４．７．実施例１Ｂ：３−（ｔ−ブチルオキシカルボニル）−４
−（シクロヘキシルメチル）−２，２−ジメチル−５−
ビニルオキサゾリジン Ｓ，Ｔｈａｉｓｒｉｖｏｎｇ（Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．
１９６７，３０，９７０）の手法を用いた。２５０ｍｌ
のジクロロメタンに溶解した実施例１Ａの結果生じた化
合物４０ｇ及び１０２ｇの２−メトキシプロペンの溶液
を、室温で撹拌した。その反応混合液に固体ｐ−トルエ
ンスルホン酸ピリジニウム（ＰＰＴＳ）（１７７ｇ）を
徐々に加えた。付加完了後、反応液を１時間撹拌し、固
体重炭酸ナトリウムを加えて中和した。その固体を濾し
取り、濾液を濃縮した。シリカゲル上でフラッシュクロ
マトグラフィ処理して、５７ｇの所望の化合物を生成し
た。 ＩＲ（ＣＤＣｌ_３）１６９０（Ｃ＝Ｏ ｃａｒｂａｍａ
ｔｅ）ｃｍ^−１；^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）５．９５
（ｍ，ＩＨ），５．３２（ｍ，ＩＨ），５．２０（ｄ
ｔ，ＩＨ），４．２７（ｄｄ，ＩＨ）１．４７（ｓ，９
Ｈ）． Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ Ｃ_１９Ｈ_３３ＮＯ
_３Ｃ，７０．５５；Ｈ，１０．２８；Ｎ，４．３３． Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，７０．４７；Ｈ，１０．２７；Ｎ，
４．０９．実施例１Ｃ：３−（ｔ−ブチルオキシカルボニル）−４
−（シクロヘキシルメチル）−２，２−ジメチルオキサ
ゾリジン−５−カルボサルデヒド １５０ｍｌの２：１ジクロロメタン：メタノールに溶解
した１０ｇの実施例１Ｂの結果生じた化合物の溶液を、
ドライアイスアセトン溶中で冷却した。青色が残るまで
（１時間）、その溶液中にオゾンを泡立てた。その反応
混合液を、−４５℃に冷却した８ｇの亜鉛ダスト、８ｍ
ｌの氷酢酸、２００ｍｌの水、及び２００ｍｌのメタノ
ールの懸濁液中にカニューレで挿入した。５分後、浴槽
を除去し、その混合液を一晩、室温に加温した。１００
ｍｌの飽和塩化ナトリウム溶液を加え、全反応混合液を
３００ｍｌ部分のジクロロメタンで２回抽出した。併合
したジクロロメタン抽出物をデカントし、脱水し（Ｍｇ
ＳＯ_４）濾過して、蒸発した。その粗製アルデヒドをフ
ラッシュクロマトグラフィで精製し、（１：４）酢酸エ
チル：ヘキサンで溶離して、９．７ｇの所望の化合物を
２つのアルデヒドプロトンの積分共鳴によって判定した
場合、ジアステレオマーの混合物（３：１，トランス：
シス）として生成した。 ＩＲ（ＣＤＣｌ_３）１７３５（Ｃ＝Ｏ ａｌｄｅｈｙｄ
ｅ）１６９０（Ｃ＝Ｏｃａｒｂａｍａｔｅ）ｃｍ^−１；
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）９．８３（ｓ，１Ｈ，ＣＨ
Ｏ），９．７３． （ｄ，ＩＨ，ＣＨＯ ｃｉｓ ｄｉａｓｔｅｒｅｏｍｅ
ｒ），４．１４（ｍ，ＩＨ），１．４６（ｓ，９Ｈ）． Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ Ｃ_１８Ｈ_３１ＮＯ
_４Ｃ，６６．４３；Ｈ，９．６０；Ｎ，４．３０． Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，６５．２７；Ｈ，９．７９；Ｎ，４．
２０．アルデヒド異性体の平衡 ３００ｍｌのメタノールに溶解した２５ｇの上記アルデ
ヒド及び粉末炭酸カリウム（１０．７ｇ）の懸濁液を、
室温で６時間撹拌した。その反応混合液を氷水浴中で冷
却し、９．３ｇの氷酢酸で５分間処理した。０．５Ｍ燐
酸二水素ナトリウム溶液（３００ｍｌ）をその混合液に
加えた。３０分後、その溶液を減圧下で２分の１の容量
に濃縮し、エーテル（６００ｍｌ）で抽出した。併合し
たエーテル抽出物を脱水（ＭｇＳＯ_４）し、濾過して、
濃縮した。そのアルデヒドを（１：４）酢酸エチル：ヘ
キサンを用いてフラッシュクロマトグラフィ処理して精
製し、１９．５ｇの所望の化合物をトランス：シス ジ
アステレオマーの８：１混合物として生成した。 実施例１Ｄ：３−（３（Ｒ）−（３−ｔｅｒｔ−ブチル
オキシカルボニル）−２，２−ジメチル−４（Ｓ）−シ
クロヘキシルメチル−５（Ｒ）オキサゾリジニル）−３
−ヒドロキシ−２（Ｒ）−イソプロピル−１−オキソプ
ロピル）−４（Ｒ）−メチル−５（Ｓ）−フェニル−２
−オキサゾリジノン 表題化合物を、Ｓ．Ｔｈａｉｓｒｉｖｏｎｇｓ，Ｄ．
Ｔ．Ｐａｌｓ，Ｌ．Ｔ．Ｋｒｏｌｌ，ｓ．Ｒ．Ｔｕｒｎ
ｅｒ及びＦ．Ｓ．Ｈａｎ（Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．１９
８７，３０，９７６〜８２）の手法と同様の方法で、実
施例１Ｃの結果生じた化合物から、収率６３％で生成し
た。融点９７℃。^１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）０．９１（ｄ，３Ｈ），１．
０６（ｄ，３Ｈ），１．１（ｄ，３Ｈ），１．４８
（ｓ，９Ｈ），０．９−１．９（ｓｅｖｅｒａｌ ｂ
ｍ，１２Ｈ ｔｏｔａｌ），２．１２（ｂｄ，１Ｈ），
２．３（ｍ，１Ｈ），３．８１（ｄｄ，１Ｈ），３．９
４（ｔｄ，１Ｈ），４．０４（ｂｍ，１Ｈ），４．２２
（ｄｄ，１Ｈ），４．８４（ｄｑ，１Ｈ），５．６１
（ｄ，１Ｈ），７．３１−７．４５（ｍ，５Ｈ），Ｈｉ
ｇｈ ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ ｍａｓｓ ｓｐｅｃｔｒ
ｕｍ．Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ（Ｍ＋Ｈ）＋ｏｆ Ｃ_３３Ｈ
_５１Ｎ_２Ｏ_７：５８７．３６９８．Ｆｏｕｎｄ：５８
７．３６９６． Ａｎａｌｙｓｉｓ．Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ Ｃ_３３Ｈ_５０
Ｎ_２Ｏ_７：Ｃ，６７．５５；Ｈ，８．５９； Ｎ，４．７７．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，６７．４１；Ｈ，８．
６１；Ｎ，４．７７．実施例１Ｅ：３−（３（Ｒ）−（３−ｔｅｒｔ−ブチル
オキシカルボニル）−２，２−ジメチル−４（Ｓ）−シ
クロヘキシルメチル−５（Ｒ）オキサゾリジニル）−３
−（（１−イミダゾリル）チオニルオキシ）−２（Ｒ）
−イソプロピル−１−オキソプロピル）−４（Ｒ）−メ
チル−５（Ｓ）−フェニル−２−オキサゾリジノン 実施例１Ｄから生じた化合物（１．８４ｇ，３．１３６
ｍｍｏｌ）及び１，１′−チオカルボニルジ−イミダゾ
リド（１．１２８ｇ，６．３３０ｍｍｏｌ）を、窒素雰
囲気下で２４時間、８ｍＬのドライ１，２−ジクロロエ
タン中で還流した。その混合液を濃縮し、残渣をフラッ
シュクロマトグラフィ（２．５％ ＭｅＯＨ−ＣＨ_２Ｃ
ｌ_２）によって精製して、１．８９６ｇ（８７％）の表
題化合物を得た。^１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）０．９３（ｄ，３Ｈ），１．
０４（ｄ，３Ｈ），１．０８（ｄ，３Ｈ），１．５（ｂ
ｓ，９Ｈ），０．９−１．９（Ｓｅｖｅｒａｌｂｍ，１
３Ｈ ｔｏｔａｌ），２．０５（ｍ，１Ｈ），４．１３
（ｂｍ，１Ｈ），４．２３（ｄｄ，１Ｈ），４．８１
（ｄｄ，１Ｈ），４．９４（ｄｑ，１Ｈ），５．７０
（ｄ，１Ｈ），６．３３（ｄｄ，１Ｈ），７．０６（ｂ
ｓ，１Ｈ），７．３−７．５（ｍ，５Ｈ），７．６１
（ｂｓ，１Ｈ），８．４０（ｂｓ，１Ｈ）．Ｈｉｇｈ
ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ ｍａｓｓ ｓｐｅｃｔｒｕｍ．
Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ（Ｍ＋Ｈ）＋ｏｆ Ｃ_３７Ｈ_５３Ｎ
_４Ｏ_７Ｓ：６９７．３６３５．Ｆｏｕｎｄ：６９７．３
６２９． Ａｎａｌｙｓｉｓ．Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ Ｃ_３７Ｈ_５２
Ｎ_４Ｏ_７Ｓ：Ｃ，６３．７７；Ｈ，７．５２；Ｎ，８．
０４．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，６３．５８；Ｈ，７．４４；
Ｎ，７．９４．実施例１Ｆ：３−（３−（３−（ｔｅｒｔ−ブチルオキ
シカルボニル）−２，２−ジメチル−４（Ｓ）−シクロ
ヘキシルメチル−５（Ｓ）オキサゾリジニル）−２
（Ｒ）−イソプロピル−１−オキソプロピル）−４
（Ｒ）−メチル−５（Ｓ）−フェニル−２−オキサゾリ
ジノン ２７５ｍｌのドライトルエンに溶解した実施例１Ｅの結
果生じた物質（６．５０ｇ，９．３３ｍｍｏｌ）の溶液
をアルゴンで３０分間脱泡し、つぎに加温して還流した
（アルゴン中）。７５ｍｌのドライ脱泡トルエンに溶解
した水素化トリ−ｎ−ブチルチン（５．４３ｇ，１８．
６ｍｍｏｌ）の溶液を１５分間に亘って滴下付加した。
さらに２時間還流後、反応液を冷却し、濃縮して、フラ
ッシュクロマトグラフィ（５％ＥｔＯＡｃ−ヘキサン）
によって精製して、４．８２ｇ（９０％）の表題化合物
を白色泡沫として生成した。^１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）０．９０（ｄ，３Ｈ），０．
９２（ｄ，３Ｈ），０．９−１．１（ｂｍ，３Ｈ），
１．０６（ｄ，３Ｈ），１．１５−１．３５（ｂｍ，３
Ｈ），１．５１（ｓ，９Ｈ），１．５７−２．１４（ｓ
ｅｖｅｒａｌ ｂｍ，１６Ｈ ｔｏｔａｌ），３．８４
（ｍ，１Ｈ），３．９７（ｍ，１Ｈ），４．８５（ｄ
ｑ，１Ｈ），５．６８（ｄ，１Ｈ），７．３−７．４６
（ｍ，５Ｈ），Ｍａｓｓ ｓｐｅｃｔｒｕｍ：（Ｍ＋
Ｈ）＋ ＝５７．１ Ａｎａｌｙｓｉｓ．Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ Ｃ_３３Ｈ_５０
Ｎ_２Ｏ_６：Ｃ，６９．４４；Ｈ，８．８３；Ｎ，４．９
１．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，６９．３１；Ｈ，８．８２；Ｎ，
４．８９．実施例１Ｇ：２（Ｓ）−（（３−（ｔｅｒｔ−ブチルオ
キシカルボニル）−２，２−ジメチル−４（Ｓ）−シク
ロヘキシルメチル−５（Ｓ）オキサゾリジニル）メチ
ル）−３−メチルブタン酸 Ｄ．Ａ．Ｅｖａｎｓ，Ｔ．Ｃ．Ｂｒｉｔｔｏｒｎ及び
Ｊ．Ａ．Ｅｌｌｍａｎ（Ｔｅｌｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅ
ｔｔ．１９８７，２８（４９），６１４１〜４４）の手
法を用いて、実施例１Ｆの結果生じた物質（６．１０
ｇ，１０．７ｍｍｏｌ）をＴＨＦに溶解したＬｉＯＨ水
溶液および過酸化水素を用いて加水分解した。その粗製
物質をフラッシュクロマトグラフィ（１５％ＥｔＯＡｃ
−０．５％ＨＯＡｃ−ヘキサン）によって精製して、
３．５３ｇ（９０％）の表題化合物を粘性無色油として
生成した。^１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）０．９６（ｄ，３Ｈ），１．
００（ｄ，３Ｈ），１．１−１．３（ｂｍ，５Ｈ），
１．４８（ｓ，９Ｈ），１．５−１．９（ｓｅｖｅｒａ
ｌ ｂｍ，１５Ｈ ｔｏｔａｌ），２．０（ｍ，１
Ｈ），２．６６（ｍ，１Ｈ），３．７（ｂｍ，１Ｈ），
３．９０（ｍ，１Ｈ）．Ｍａｓｓ ｓｐｅｃｔｒｕｍ：
（Ｍ＋Ｈ）＋ ＝４１２． Ａｎａｌｙｓｉｓ．Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ Ｃ_２３Ｈ_４１
ＮＯ_５０．２５Ｈ_２Ｏ：Ｃ，６６．３９； Ｈ，１０．０５；Ｎ，３．３７．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，６
６．４６；Ｈ，９．８４；Ｎ，３．３６．実施例１Ｈ：３−（４−モルホリニル）プロピル２
（Ｓ）−（（３−ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル）
−２，２−ジメチル−４（Ｓ）−シクロヘキシルメチル
−５（Ｓ）−オキサゾリジニル）メチル）−３−メチル
ブタンアミド Ｐ．Ｂｕｈｌｍａｙｅｒ，ｅｔ ａｌ．，（Ｊ．Ｍｅ
ｄ．Ｃｈｅｍ．１９８８，３１（９），１８３９〜４
６）の手法を用いた。実施例１Ｇの結果として生じる化
合物（７５ｍｇ，０．１８２ｍｍｏｌ）、ＨＯＢＴ（４
２．０ｍｇ，０．２７４ｍｍｏｌ）及びＮ−メチルモル
ホリン（５５ｍｇ，０．５５ｍｍｏｌ）を１．０ｍｌの
ドライＤＭＦに溶解し、その溶液を−２０℃に冷却した
（窒素中）。ＥＤＡＣ（５３ｍｇ，０．２８ｍｍｏｌ）
を固体として加え、その結果生じた混合物を−２０〜０
℃で１時間撹拌した。その混合物を密封し、０℃（冷蔵
庫中）で４８時間反応させた。その結果生じた溶液に、
４−（３−アミノプロピル）モルホリン（０．２３ｍｍ
ｏｌ）を加えた。その結果生じた溶液を０℃で４時間撹
拌し、さらに２０時間撹拌して、それを徐々に室温に上
げた。高真空蒸留によって揮発成分を除去し、残渣をＣ
Ｈ_２Ｃｌ_２とＮａＨＣＯ_３水溶液との間に分配した。水
性相をＣＨ_２Ｃｌ_２で３回抽出し、併合した有機相をブ
ラインで洗浄し、脱水（Ｎａ_２ＳＯ_４）して、濃縮し
た。フラッシュクロマトグラフィ（４％ ＭｅＯＨ−Ｃ
Ｈ_２Ｃｌ_２）によって精製して、所望の化合物を得た。^１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）０．９２（ｄ，３Ｈ），０．
９５（ｄ，３Ｈ），１．４６（Ｓ） ａｎｄ １．４８
（ｓ，１２Ｈ ｔｏｔａｌ），１．５７（ｂｓ，３
Ｈ），０．８−１．８（ｓｅｖｅｒａｌ ｂｍ，１８Ｈ
ｔｏｔａｌ），２．０１（ｍ，１Ｈ），２．４６（ｂ
ｍ，６Ｈ），３．３７（ｍ，２Ｈ），３．６４（ｂｍ，
１Ｈ），３．７５（ｂｍ，５Ｈ），６．８０（ｂｔ，１
Ｈ）．Ｈｉｇｈｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ ｍａｓｓ ｓｐ
ｅｃｔｒｕｍ．Ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ（Ｍ＋Ｈ）＋ｏｆ
Ｃ_３０Ｈ_５６Ｎ_３Ｏ_５：５３８．４２２０．Ｆｏｕｎ
ｄ：５３８．４２２０．実施例１Ｉ：１（Ｓ）−（４−（メトキシメトキシ）ピ
ペリジン−１−イル−カルボニル）−２−フェニルエタ
ノール ８００ｍＬのＤＭＦに溶解した１７６ｇ（１．３ｍｏ
ｌ）の１ヒドロキシベンゾトリアゾール（Ａｌｄｒｉｃ
ｈ）８０ｇ（０．４８ｍｏｌ）のＬ−３−フェニル乳酸
（Ｌ−フェニルアラニンから調製）、７６ｇ（０．５２
ｍｏｌ）の４−（メトキシメトキシ）ピペリジンの溶液
を、−２５℃に冷却しながら、１３２ｇのＥＤＣ ＨＣ
ｌ（Ｓａｂｅｒ Ｌａｂｓ）を加えた（機械的に撹
拌）。付加後、反応液を２４時間撹拌して室温にした。
過剰のＤＭＦを高真空下で除去、残渣を１．５Ｌの酢酸
エチルに溶解した。その酢酸エチル溶液を４Ｌの飽和重
炭酸ナトリウムで洗浄した。酢酸エチル層を分離し、脱
水（ＭｇＳＯ_４）して、蒸発し、約１３８ｇの粗製アミ
ドを生成した。その物質を、酢酸エチル／ヘキサンを溶
離剤とし用いて、シリカゲルクロマトグラフィによって
単離した。収量１２０ｇ（７９％）。^１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ）１．６１（ｍ，２
Ｈ），１．８１（ｍ，２Ｈ），２．８９（ｍ，２Ｈ），
３．３８（ｓ，３Ｈ），３．５（ｍ，２Ｈ），３．７９
（ｍ，２Ｈ），３．９６（ｍ，１Ｈ），４．６２（ｔ，
１Ｈ），４．６８（ｓ，２Ｈ）．実施例１Ｊ：２（Ｓ）−（１（Ｓ）−（４−（メトキシ
メトキシ）ピペリジン−１−イル−カルボニル）−２−
フェニルエトキシ）−ヘキサン酸 １０ｍｌのＴＨＦに溶解した、実施例１Ｉの結果的化合
物（１．４５ｇ，４．９５ｍｍｏｌ）を４ｍｌのＴＨＦ
（０〜５℃）に溶解した水素ナトリウム（油中６０％懸
濁液，０．５ｇ，１１．２ｍｍｏｌ）の冷却懸濁液中に
滴下付加した。この懸濁液を０〜５℃で２０分間撹拌
し、つぎに室温まで暖めて、さらに１時間撹拌した。６
ｍｌのＴＨＦに溶解したＤ−２−ブロモヘキサン酸の溶
液を、Ｎ_２雰囲気下で冷却懸濁液中に滴下付加した。つ
ぎにそれを室温まで暖めて、一晩撹拌し、冷水で停止し
て、エチルアセテートで抽出して望ましくない開始物質
を除去した。それを１Ｍの硫酸水素ナトリウムで酸性化
し、クロロホルムで抽出した。濾過、蒸発した後、その
粗製物質をシリカゲル上で精製し、ＣＨ_２Ｃｌ_２：ＣＨ
_３ＯＨ：ＡｃＯＨ（１９．４：０．３：０．３）で溶離
して、０．７９ｇの所望の酸を生成した（収率４３
％）。^１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ）０．８８（ｔ，３
Ｈ），３．３５（ｓ，３Ｈ），３．９８（ｂｔ，１
Ｈ），４．６（ｍ，１Ｈ），４．６４（ｓ，２Ｈ），
７．３８（ｍ，５Ｈ），Ｍａｓｓ ｓｐｅｃｔｒｕｍ：
（Ｍ＋Ｈ）＋ ＝４０８．実施例１Ｋ：３−（４−モルホリニル）プロピル５
（Ｓ）−アミノ−６−シクロヘキシル−４（Ｓ）−ヒド
ロキシ２−（Ｓ）−イソプロピルヘキサンアミドの２
（Ｓ）−（１（Ｓ）−（４（メトキシメトキシ）ピペリ
ジン−１−イルカルボニル−２−フェニル）エトキシヘ
キサン酸アミド 実施例１Ｈからの結果的化合物（０．１６１ｍｍｏｌ）
を、１．０ｍｌのドライＣＨ_２Ｃｌ_２に溶解することに
よって脱保護し、その溶液を−１０℃に冷却して（窒素
中）、１．０ｍｌのトリフリオロ酢酸で処理した。その
結果生じた溶液を−１０〜０℃で４時間撹拌した。溶剤
を、窒素流によって大々的に除去し、残渣（トリフロオ
ロ酢酸中の濃縮溶液として）を０℃で、１．０ｍｌのＴ
ＨＦ及び０．３ｍｌの水に溶解した。その溶液を、１８
時間に亘って、徐々に周囲温度にした。その粗製アミノ
アルコールを、過剰量の１．０Ｍ Ｎａ_２ＣＯ_３水溶液
を用いて反応液を塩基性にし、その溶液をＮａＣｌで飽
和して、５％ＥｔＯＨ−ＣＨＣｌ_３ １０ｍｌで３回抽
出した。併合有機相をブラインで洗浄し、脱水（Ｎａ_２
ＳＯ_４）して、濃縮し、残渣を高真空下で一晩放置し
て、６６．２ｍｇ（１００％）の黄色粘性油を生成し
た。実施例１Ｊから結果的に生じた化合物（７２ｍｇ，
０．１７７ｍｍｏｌ）、上記アミノアルコール（０．１
６８ｍｍｏｌ）、ＨＯＢＴ（３４ｍｇ，０．２２ｍｍｏ
ｌ）、及びＮ−メチルモルホリン（２５ｍｇ，０．２５
ｍｍｏｌ）を１．０ｍｌのドライＤＭＦ中で一緒に合わ
せて、カップリングを達成した。その結果生じた溶液を
−２０℃に冷却し（アルゴン中）、ＥＤＡＣ（４５ｍ
ｇ，０．２３ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を氷浴を解氷
させて、計２４時間かけて、徐々に室温に上げた。溶剤
を高真空蒸留によって除去し、残渣を１５ｍｌのＣＨ_２
Ｃｌ_２、９ｍｌの飽和ＮａＨＣＯ_３水溶液及び１ｍｌの
Ｈ_２Ｏの間に分配した。水性相をさらに抽出し（３×１
０ｍｌＣＨ_２Ｃｌ_２）、併合有機相を１０ｍｌブライン
で洗浄して、脱水（Ｎａ_２ＳＯ_４）し、濃縮した。フラ
ッシュクロマトグラフィによって精製して、表題化合物
を吸湿性ガラス状固体として生成した。融点４９〜５１
℃。^１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）０．９０（ｍ），０．９１
（ｄ）ａｎｄ ０．９２（ｄ，９Ｈ ｔｏｔａｌ），
０．６５−１．９０（ｓｅｖｅｒａｌ ｂｍ，ａｐｐｒ
ｏｘ．２８Ｈ ｔｏｔａｌ），２．０２（ｍ，１Ｈ），
２．４５（ｂｍ，６Ｈ），２．９５（ｍ，１Ｈ），３．
０５（ｄｄ，１Ｈ），３．２０（ｂｍ，２Ｈ），３．３
６（ｓ，３Ｈ），３．４５（ｍ，２Ｈ），３．６−４．
０（ｓｅｖｅｒａｌ ｂｍ）ａｎｄ ３．７１（ｍ，１
０Ｈ ｔｏｔａｌ），４．４８（ｄｄ，１Ｈ），４．６
８（ｓ，２Ｈ），５．８０（ｄ）ａｎｄ ５．８８
（ｄ，１Ｈｔｏｔａｌ），６．８７（ｂｔ，１Ｈ），
７．３（ｂｍ，５Ｈ），Ｍａｓｓ ｓｐｅｃｔｒｕｍ：
（Ｍ＋Ｈ）＋ ＝７８７．実施例２ ３−（４−モルホリニル）プロピル−５（Ｓ）−アミノ
−６−シクロヘキシル−４（Ｓ）−ヒドロキシ−２
（Ｓ）イソプロピル−ヘキサンアミドの２（Ｓ）−（１
（Ｓ）−（４−（メトキシメトキシ）ピペリジン−１−
イル）カルボニル−２−フェニル）エトキシ−ヘキサン
酸アミド（別法） 実施例２Ａ：２（Ｓ）−シクロヘキシルアラニンメチル
エステル塩酸塩 Ｌ−フェニルアラニン（２１５ｇ，１．３ｍｏｌｅ）を
ＨＯＡｃ中のＰｄ／Ｃ上で水素添加し、濾過して濃縮し
た。その結果生じたシクロヘキシルアラニンをＭｅＯＨ
（１２００ｍＬ）中に入れた。塩化チオニル（４２７
ｇ，３．５９ｍｏｌｅ）をそのスラリーに徐々に加える
と、最終的に均質になった。その反応液を氷／水浴中で
冷却し、塩化チオニルを付加し続けた。その反応混合液
を加熱して、２時間還流し、冷却し、濃縮して、固体を
生成し、これをエーテル中に取り出して、濾過した。白
色固体を、漏斗中でエーテルで洗浄し、真空脱水して２
７１ｇの物質を２工程に亘って、収率９４％生成した。実施例２Ｂ：２（Ｓ）−Ｎ−（トリフェニルメチル）シ
クロヘキシルアラニンメチルエステル シクロヘキシルアラニンＨＣｌ塩（８８ｇ，３９８ｍｍ
ｏｌ）をクロロホルム（４００ｍＬ）中に入れた。つぎ
に、トリエチルアミン（８４．６ｇ，８３６ｍｍｏｌ）
をスラリーに一度加え、５分間撹拌した。つぎに、トリ
フェニルメチルクロリド（１１１ｇ，３９８ｍｍｏｌ）
を加えて、反応液を周囲温度で５時間撹拌した。しかし
ながら、反応液の内部温度は５０℃に達し、外部冷却は
用いなかった。反応混合液を１ＭのＫＨＳＯ_４溶液（２
×１００ｍＬ）、飽和ＮａＨＣＯ_３（２００ｍＬ）、及
びブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、次いでＭｇＳＯ_４
上で脱水した。つぎにその溶液を濃縮して２００ｇの残
渣を生じ、これを９００〜１０００ｇのシリカゲルを通
して濾過して（溶離勾配ヘキサン液−１０：１ヘキサ
ン：酢酸エチル）、ヘキサン：酢酸エチルから結晶化し
て、大きな白色結晶として、１５７ｇの物質（９３％）
を生成した。実施例２Ｃ：ジメチル３（Ｓ）−４−シクロヘキシル−
（Ｎ−トリフェニルメチル）アミノ−２−オキソブチル
ホスホネート １．６ＬのＴＨＦに溶解したジメチルメチルホスホネー
ト（２７２．５ｇ，２．２ｍｏｌの−７８℃溶液にｎ−
ＢｕＬｉ（２．５Ｍ，８００ｍＬ，２．０ｍｍｏｌ）を
加えて、４５分間撹拌した。４０ｍＬのＴＨＦに溶解し
た実施例２Ｂの物質（１５６ｇ，３６６ｍｍｏｌ）をつ
ぎに滴下付加した。この反応混合液を−５０℃で３時間
撹拌し、つぎに−４０℃で６時間撹拌して、最終的に一
晩かけて周囲温度にした。反応混合液を濃縮し、それを
エーテル中に取って、１Ｍ ＫＨＳＯ_４飽和ＮａＨＣＯ
_３（２回）、及びブラインで洗浄し、脱水して、濃縮し
た。残渣（２００ｇ）を１０００ｇのシリカゲルに通し
て濾過し（１：１ヘキサン：酢酸エチル、１３５ｇのベ
ータケト燐酸塩を油として生成した（７２％）。実施例２Ｄ：６（Ｓ）−７−シクロヘキシル−２−メチ
ル−６−（Ｎ−トリフェニルメチル）−アミノ−５−オ
キソヘプト−２−エン−３−ＯｉＣ酸 実施例２の物質（１１７．２ｇ，２２９ｍｏｌ）を６０
０ｍｌのＴＨＦに溶解して、０℃に冷却した。この溶液
にヘキサンを加え、ＮａＨ（６％、９．６ｇ（湿重
量））で洗浄してその混合液を３０分間撹拌した。つぎ
に、１００ｍｌのＴＨＦに溶解したメチル３−メチル−
２−オキソブチレート（２９．８ｇ，２２９ｍｍｏｌ）
を加えて、０℃で４時間撹拌した。減圧下で揮発成分を
除去し、残渣を１：１ヘキサン：エーテル（５００ｍ
ｌ）中に溶解して、水（１００ｍｌ）、ＮａＨＣＯ
_３（２００ｍｌ）、ブライン（２００ｍｌ）で洗浄し、
脱水（ＭｇＳＯ_４）して、濃縮し、１２９ｇの所望のエ
ステルを油として生成した。この物質（１２３ｇ）を４
６０ｍｌのＴＨＦ及び２２９ｍｌのＭｅＯＨ中に取り、
０℃に冷却して、つぎに２２９ｍｌの蒸溜水に溶解した
１８．８６ｇのＬｉＯＨ−Ｈ_２Ｏを加えた。この溶液を
室温に上げて、３日間撹拌した。減圧下で揮発成分を除
去し、その結果生じた水溶液をエーテル（１００ｍｌ×
２）で洗浄して、６ＮＨＣｌでｐＨ３に酸性化した。つ
ぎにその水溶液をＥｔＯＡｃ（３００ｍｌ×２）で抽出
し、ブラインで洗浄して、脱水（ＭｇＳＯ_４）し、濃縮
して、１１６ｇの黄色泡沫を生成した。この物質を５２
５ｍ１の温ヘキサン／ＥｔＯＡｃ（１２／１）から再結
晶化して、７２．４ｇの白色固体（３工程で６２％）を
生成した。 実施例２Ｅ：６（Ｓ）−７−シクロヘキシル−２−メチ
ル−６−（Ｎ−トリフェニルメチル）−アミノ−５−オ
キソヘプト−２−エン−３−ＯｉＣ酸のＮ−ヒドロキシ
スクシンイミドエステル ５０ｍｌのＴＨＦに溶解した実施例２Ｄの物質３．０６
ｇ（６．０ｍｍｏｌ）の溶液を６．８ｇ（６０ｍｍｏ
ｌ）のＮ−ヒドロキシスクシンイミドに加えた。この均
質溶液を０℃に冷却し、つぎに５ｍｌのＴＨＦに溶解し
たＤＣＣ（１．２５ｇ，１２ｍｍｏｌ）を加えた。冷却
浴を除去し、反応液を２時間撹拌した。この時点で、さ
らに１．２５ｇのＤＣＣを加えた。５時間の全反応の
後、混合液を濾過し、濃縮して、エーテルに溶解した。
有機相をＮａＨＣＯ_３（水溶液，５０ｍｌ×２）及びブ
ラインで洗浄し、脱水して（ＭｇＳＯ_４）、減圧で濃縮
し、５．２ｇの物質を油として生じ、これを２０ｍｌの
エーテルに溶解した。ＨＣｌ／エーテルの１Ｎ溶液（３
０ｍｌ）を加えた。ゴム状固体が、溶液から直ちに析出
した；ＣＨ_２Ｃｌ_２（２５ｍｌ）を加え、透明反応混合
液を一晩撹拌した。１２時間後、混合液から析出した物
質を濾過によって収集し、エーテルで洗浄して、脱水
後、２．１ｇの白色固体を、２工程での収率８７％で生
成した。実施例２Ｆ：（５Ｓ，６Ｓ）−６−シクロヘキシルメチ
ル−３−イソプロピリデン−５−ヒドロキシピペリジン
−２−オン ２０ｍｌのＣＨ_２Ｃｌ_２に溶解した実施例２Ｅの物質
（１．２ｇ，３．０ｍｍｏｌ）の０℃スラリーに、イミ
ダゾール（２０４ｍｇ，３．０ｍｍｏｌ）を加えた。そ
の結果生じた反応混合液を１時間撹拌し、つぎに２０ｍ
ｌのＫＨＳＯ_４、水、飽和ＮａＨＣＯ_３及びブラインで
洗浄した。有機部分をＭｇＳＯ_４上で脱水し、濾過して
−７８℃に冷却した。この冷却溶液にＬ−Ｓｅｌｅｃｔ
ｒｉｄｅ▲Ｒ▼ （Ａｌｄｒｉｃｈ，１．０Ｍ，５．０
ｍｌ，５．０ｍｍｏｌ）を加えて、１０分間撹拌した。
つぎに、反応混合液を−４０℃に温めて、２０％クエン
酸溶液で停止した。有機相を２０ｍｌの水、飽和ＮａＨ
ＣＯ_３溶液、ブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ_４上で脱水し
て、濃縮し、透明油を生成した。この残渣をシリカゲル
上で精製して（５０％ヘキサン／酢酸エチル）、油を生
じ、これをエーテルで第三化して、白色固体５４５ｍｇ
（収率７２％）を活性エステルから生成した。実施例２Ｇ：（２Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−６−シクロヘキシ
ルメチル−２−イソプロピル−５−アミノ−４−ヘキサ
ノリド ５００ｍｌの酢酸エチルに溶解した実施例２Ｆの物質
（２４．７ｇ，９８．４ｍｍｏｌ）の溶液を２．５ｇの
ドライＰｄ／ｃで処理し、周囲温度で４時間、４ａｔｍ
で水素添加した。この反応混合液を濾過し、濃縮して、
白色泡沫固体を生成し、これをさらに精製せずに取り出
した。飽和テイタムを２００ｍｌの６ＮＨＣｌ及び５０
ｍｌのエタノール中に溶解し、つぎに、加熱して、１４
時間還流した。この反応混合液を減圧下で濃縮し、トル
エンで共沸的に脱水して、淡色油を生成した。この物質
を水中に取り出して、ヘキサンで抽出し、次いでＮａＨ
ＣＯ_３溶液を加えて塩基性にした。酢酸エチルで抽出
し、その後、脱水（ＭｇＳＯ_４）して、揮発成分を除去
し、黄色味がかった油を生じ、これを放置すると、白色
固体に固化した。ヘキサンからの再結晶化により、２
０．７ｇ（９０％）の物質を白色針状結晶として生成し
た。実施例２Ｈ：３−（４−モルホリニル）プロピル−５
（Ｓ）−アミノ−６−シクロヘキシル−４（Ｓ）−ヒド
ロキシ−２（Ｓ）−イソプロピルヘキサンアミドの２
（Ｓ）−（１（Ｓ）−（４−メトキシメトキシ）ピペリ
ジン−１−イル）カルボニル−２−フェニル）エトキシ
ヘキサン酸アミド 実施例２Ｇの物質を４−（３−アミノプロピル）モルホ
リンと反応させて、その結果生じた物質を、実施例１Ｋ
の手法によって、実施例１Ｊの物質と結合させて、所望
の物質を生成する。実施例３ （２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−２−アミノ−１−シクロヘキシ
ル−３，４−ジヒドロキシ−６−メチルヘプタンの（２
Ｓ）−２−ベンジル−３−（１−メチルピペリジン−４
−イルスルホニル）プロピオニル−（Ｌ）−（４−チア
ゾリル）Ａｌａアミド 実施例３Ａ：３−ヒドロキシ−２−メチレン−３−フェ
ニルプロピオン酸メチル ベンズアルデヒド（８２．１ｍＬ，０．８／ｍｏｌ）、
アクリル酸メチル（１０９．１ｍＬ，１．２１１ｍｏ
ｌ）、１．４−ジアザビシクロ（２，２，２）オクタン
（１３．６ｇ，０．１２ｍｏｌ）及び酢酸（１．４ｍ
Ｌ，０．０２４ｍｏｌ）の混合物を３５℃で６０時間撹
拌し、この時点で反応を調べて、^１Ｈ ＮＭＲによる７
０％完了まで進行させた。つぎに、アクリル酸メチル
（２０．９ｍＬ，０．２３ｍｏｌを加え、その溶液を３
５℃でさらに４８時間反応させた。その混合液をジエチ
ルエーテル（１．０Ｌ）で希釈し、ｐＨ７の燐酸緩衝液
の２００ｍｌ部分で２回洗浄した。真空濃縮後、残りの
混合液を減圧下（１２ｍｍ）で蒸留して６．５ｇの未反
応ベンズアルデヒド、及び１３０．０ｇ（９０％）の無
色油状の所望の物質を得た。 ｂ．ｐ．１３０℃（１２ｍｍ）；ＩＲ（ｆｉｌｍ）１７
１８，１４４０ｃｍ^−１，^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）
ｄｅｌｔａ ３．６７（ｓ，３Ｈ），５．５２（ｂｒ
ｓ，１Ｈ），５．８３−５．８５（ｍ，１Ｈ），６．２
９−６．３１（ｍ，１Ｈ），７．２３−７．３９（ｍ，
５Ｈ）；^１３Ｃ ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）ｄ
ｅｌｔａ ５１．８，７２．９，１２５．８，１２６．
５，１２７．７，１２８．３，１４１．２，１４１．
９，１６６．６．実施例３Ｂ：（Ｚ）−１−ブロモ−２−カルボメトキシ
−３−フェニル−２−プロペン 温度計、スターラー、及び付加用漏斗を装備した２Ｌの
三首Ｍｏｒｔｏｎフラスコに実施例３Ａの結果的に生じ
た化合物（３０５．９ｇ，１５８５ｍｏｌ）を加え、そ
の後、４８％ＨＢｒ（５０５ｍＬ，４．４６ｍｏｌ）を
一度に加えた。フラスコを氷水浴中に浸漬し、この時点
で濃硫酸（４６０ｍＬ，８．６２ｍｏｌを９０分に亘っ
て滴下付加し、付加工程中は反応混合液の内部温度を２
３〜２７℃に維持した。氷水浴を除去後、混合液を、周
囲温度で一晩撹拌した。つぎに、その溶液を分離漏斗に
移し、有機層を酸層から分離した。酸を排液し、有機層
を２Ｌの１：１酢酸エチル／ヘキサンで希釈して、重炭
酸ナトリウムの飽和水溶液（１Ｌ）で洗浄し、硫酸ナト
リウム上で脱水して、濃縮し、４００ｇ（９９％）の所
望の物質を淡黄色油として生成し、さらに精製すること
なくこれを用いた。沸点１８０℃（１２ｍｍ）。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）１７１８，７１２ｃｍ^−１，^１Ｈ Ｎ
ＭＲ（ＣＤＣｌ_３）ｄｅｌｔａ ３．８９（ｓ，３
Ｈ），４．４０（ｓ，２Ｈ），７．３８−７．４５
（Ｍ，３Ｈ），７．５６−７．６０（ｍ，２Ｈ），７．
８３（ｓ，１Ｈ）；^１３ＣＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ_３）ｄｅｌｔａ ２６．７７，５２．４７，１２８．
６３，１２８．８７，１２９．６１，１３４．２０，１
４２．９５，１６６．６２．実施例３Ｃ：（Ｚ）−２−カルボメトキシ−３−フェニ
ル−２−プロペン−１−スルボン酸のナトリウム塩 撹拌器、温度計及び添加用漏斗を装備した１２Ｌの三首
丸底フラスコに、実施例３Ｂの結果的に生じた物質（４
００ｇ，１．５７ｍｏｌ）及びメタノール（４Ｌ）を加
えた。その混合液を５０℃に加熱し、水（４Ｌ）に溶解
した亜硫酸ナトリウム（１９９ｇ，１．５７ｍｏｌ）の
溶液を７５分間に亘って加え、その間、フラスコの内部
温度を５０℃に維持した。付加完了後、透明溶液を５０
℃でさらに４５分間撹拌した。その反応混合液を、さら
に精製せずに、次の工程に用いた。濃縮によって化合物
を否定的粉末として単離し、これに等量の臭化ナトリウ
ムを混和した。 ＩＲ（ＫＢｒ）１７１１，１６２８，１２１５ｃ
ｍ^−１，^１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯＤ−６）ｄｅｌｔａ
３．７０（ｓ，３Ｈ），３．７７（ｓ，２Ｈ），７．３
３−７．４１（ｍ，３Ｈ），７．４８（ｓ，１Ｈ），
７．８７−７．８９（ｍ，２Ｈ）；^１３Ｃ ＮＭＲ（７
５ＭＨｚ，ＤＭＳＯ Ｄ−６）ｄｅｌｔａ ４９．８
８，５１．９３，１２７．３６，１２８．３３，１２
８．９１，１２９．８２，１３４．７５，１３９．０
６，１６８．６０．実施例３Ｄ：２−カルボメトキシ−３−フェニルプロパ
ン−１−スルホン酸ナトリウム 実施例３Ｃの結果的に生じた化合物を含有する１：１メ
タノール／水混合液８Ｌに、６０ｇのＷ−２４ｒａｎｅ
ｙニッケルを加えた。その結果生じた懸濁液を５０ｐｓ
ｉの水素下で加圧し、Ｐａｒｒ振盪器上で振盪し、この
時点でさらに２０ｇのｒａｎｅｙニッケルを加えた。５
０ｐｓｉの水素下で６時間後、濾過して触媒を除去し、
溶液を濃縮し、脱水した。白色固体を脱水するために、
酢酸エチル（６Ｌ）及びヘプタン（４Ｌ）を加え、その
溶液を撹拌器で一晩、激しく撹拌した。濾過して白色懸
濁液を除去し、５３０ｇ（８８％）の所望の物質を不安
形粉末として生成し、これに、ほぼ等量のＮａＢｒを混
和した。この化合物をさらに精製せずに使用した。 ＩＲ（ＫＢｒ）１７４０，１２１５，１０５０ｃ
ｍ^−１，^１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯＤ−６）ｄｅｌｔａ
２．４８−２．５４（ｍ，１Ｈ），２．７４−２．８７
（ｍ，２Ｈ），２．９１−３．０４（ｍ，２Ｈ），３．
４８（ｓ，３Ｈ），７．１２−７．３２（ｍ，５Ｈ）；
^１３Ｃ ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，Ｄ_２Ｏ／ＤＭＳＯＤ−
６）ｄｅｌｔａ ３８．１８，４４．８０，５２．６
７，５２．８２，１２７．４２，１２９．１３，１２
９．３４，１３８．１４，１７６．８４．実施例３Ｅ：２−カルボメトキシ−３−フェニル−１−
プロパンスルホニル塩化物 ３Ｌの丸底フラスコに、実施例３Ｄから結果的に生じた
化合物（５３０ｇ，１．３９ｍｏｌ）及びトルエン（５
２０ｍＬ）を加え、その後、ＰＣｌ_５（３１７ｇ，１．
５２ｍｏｌ）を加えた。その混合液を、４５分間撹拌し
ながら、５０℃に加温した。つぎに、それをトルエン
（１Ｌ）で希釈し、セライトを通して濾過した。真空濃
縮後、３７１ｇ（９６％）所望の化合物を淡褐色油とし
て得た： ＩＲ（ｆｉｌｍ）；１７４０，１３８０，１１７０ｃｍ
^−１；^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；ｄｅｌｔａ ２．
９２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１，１４．０），３．１７
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６，１４．０），３．４１−３．
５０（ｍ，１Ｈ），３．６７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．
３，１４．３），３．７２（ｓ，３Ｈ），４．２０（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８，１４．３），７．１５−７．１
８（ｍ，２Ｈ），７．２５−７．３５（ｍ，３Ｈ）；
^１３Ｃ ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）ｄｅｌｔａ
３７．２６，４２．８８，５２．６２，６４．８９，
１２７．４９，１２８．８７，１２８．９２，１３５．
６１，１７１．７９．実施例３Ｆ：２−ベンジル−３−（１−メチルピペリジ
ン−４−イルスルホニル）プロピオン酸メチル １Ｌの丸底フラスコに、実施例３Ｅの結果得られた化合
物（８４．５ｇ，０．３０５ｍｏｌ）及びジクロロメタ
ン（３０５ｍＬ）を加えた。その混合液を氷水浴中で０
℃に冷却し、ジクロロメタン（３０５ｍＬ）に溶解した
Ｎ−メチルピペラジン（３５．５ｍＬ，３２．１ｇ）の
溶液を９０分間、激しく撹拌しながら滴下付加した。付
加完了後、氷水浴を除去し、周囲温度に温めながら、混
合液をさらに４時間撹拌した。つぎに、溶液を５％Ｎａ
ＯＨ水溶液１Ｌを含有する分離漏斗に注ぎ入れた。層に
分け、有機層を炭酸カリウム上で脱水した。真空濃縮し
て油を生成し、これを溶離剤として４：１ヘキサン／酢
酸アセテートを用いて２００ｇのシリカゲルを通して濾
過した。濃縮して、８４．３ｇ（８１％）の所望の物質
を黄色油として生成した： ＩＲ（ｆｉｌｍ）；１７３５，１１６５，９５５ｃｍ
^−１；^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；ｄｅｌｔａ ２．
３０（ｓ，３Ｈ），２．４２（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝４．
８），２．８８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．７，１４．
０），２．９３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．７，１４．
０），３．０６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０，１３．
６），３．１８−３．２７（ｍ，５Ｈ），３．４３（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８２，１３．９），３．６７（ｓ，
３Ｈ），７．１４−７．１７（ｍ，２Ｈ），７．２４−
７．３４（ｍ，３Ｈ）；^１３Ｃ ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，
ＣＤＣｌ_３）ｄｅｌｔａ３７．９１，４２．２２，４
５．３６，４５．８３，４９．６１，５２．２１，５
４．３６，１２７．０６，１２８．６６，１２８．９
２，１２９．０６，１３６．７９，１７３．３３．実施例３Ｇ：（２Ｓ）２−ベンジル−３−（１−メチル
−ピペリジン−４−イルスルホニル）プロピオン酸 実施例３Ｆから結果的に生じたラセミエステル（１３５
ｇ，３９７ｍｍｏｌ）を、アセトン（３００ｍＬ）及び
水（９００ｍＬ）中に懸濁した。３５℃の温度で激しく
撹拌しながら、Ｓｕｂｔｉｌｉｓｉｎ Ｃａｒｌｓｂｅ
ｒｇの粗製製剤（１０ｍＬ，Ａｌｃａｌａｓｅ ２．４
Ｌ，Ｎｏｖｏ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓを加えた。水
酸化ナトリウム溶液（６Ｍ）を用いて反応液をｐＨ７．
５〜８．０に維持した。３日後、減圧下でアセトンを除
去し、水性相をＣＨＣｌ_３（１Ｌ）で抽出して、未反応
エステルを除去した。水性相を３Ｍ ＨＣｌでｐＨ７に
調製し、水〜水／メタノール勾配液を用いて、Ａｍｂｅ
ｒｌｉｔｅ ＸＡＤ−１６（２ｋｇ，水，メタノール及
び水で順次、予洗した）のカラムを通して溶離すること
によって脱塩した。溶剤を蒸発させて、４６ｇ（７０
％）の白色固体を得た： 融点１８４．５℃；ＴＬＣ（２５％ 酢酸エチル／２５
％ 水／２５％ 酢酸／２５％ ネブタノール）Ｒ_１＝
０．４３；ａｎａｌ．（Ｃ_１５Ｈ_２２Ｎ_２Ｏ_４ＳＯ．２
５Ｈ_２Ｏ） Ｃａｌｃｄ：Ｃ，５４．４４；Ｈ，６．８５；Ｎ，８．
４７． Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，５４．７７；Ｈ，６．５３；Ｎ，８．
３９．実施例３Ｈ：（２−プロモアリル）アセトアミドマロン
酸ジエチル ドライテトラヒドロフラン（２．５０Ｌ）に溶解したア
セトアミノマロン酸ジエチル（２１７ｇ，１．０ｍｏ
ｌ）及び２，３−ジブロモプロペン（２４０ｇ，１．２
ｍｏｌ）の撹拌混合液に、窒素中で水素化ナトリウム
（２６．４ｇ，１．１ｍｏｌ）を何回かに分けて加え
た。反応混合液を室温で３０分間撹拌し、つぎに加熱し
て還流した。（８時間加熱後、その結果生じたスラリー
を室温に冷却し、シリカゲルの短いパッドを通して吸引
濾過した。テトラヒドロフラン（２×５０ｍＬ）で洗浄
した固体残渣と濾液を併合して濃縮した。残渣を酢酸エ
チル（２．０Ｌ）に溶解し、水とグラインで洗浄して、
次いで、ＭｇＳＯ_４上で脱水した。濾過し、濃縮して、
黄色油を生じ、こを脱水して固化した。その結果生じた
固体を温酢酸エチル／ヘキサンの混合液から再結晶化
し、３０／ｇ（８９％）の所望の物質を生成した：融点
８５〜８７℃。実施例３Ｉ：（３−ブロモ−２−オキソ−プロピル）ア
セトアミドマロン酸ジエチル ２：１アセトニトリル／水の混合液（１．６８Ｌ）に溶
解した実施例３Ｈの結果的化合物（２８０ｇ，０．８３
ｍｏｌ）の冷却（０℃）撹拌溶液に、固体のＮ−プロモ
スクシンイミド（１９３ｇ，１．０８ｍｏｌ）を１５分
間の間に３回に分けて加えた。その結果生じたオレンジ
色混合液を０℃でさらに１時間撹拌し、つぎに室温に暖
めた。４時間後、反応混合液を１０％チオ硫酸ナトリウ
ム水溶液で処理し、酢酸エチルで希釈して、水、１０％
ＮａＨＳＯ_４水溶液（３回）、水及びブラインで順次洗
浄した。脱水（ＭｇＳＯ_４）し、濃縮して、黄色固体を
生じ、これを酢酸エタルとヘキサンの混合液から再結晶
化して、２４７ｇ（８５％）の所望の化合物を白色固体
として生成した。融点９７〜９８．５℃。実施例３Ｊ：（４−チアゾリルメチル）アセトアミドマ
ロン酸ジエチル 撹拌装置、ストッパー及び脱水管を装備した５Ｌの三首
丸底フラスコに実施例３Ｉの結果生じた化合物（３２５
ｇ，０．９２ｍｏｌ）を加え、窒素を流し込んだテトラ
ヒドロフランに溶解したチオホルムアミドの新たに調製
した溶液（０．８Ｍ，１．２５Ｌ）を一度に加えた。そ
の反応混合液を室温で４時間撹拌した。その結果生じた
スラリーを、つぎにエーテル（１．２５Ｌ）で希釈し、
０℃に冷却した。つぎに吸引濾過して固体を収集し、冷
エーテル（３回）で洗浄して、表題化合物を塩酸塩とし
て生成した。この物質を４Ｌの分液漏斗に移し、酢酸エ
チル（２Ｌ）でスラリーにし、２Ｍ ＮａＯＨを注意深
く加えて塩基性にした。有機層を分離し、水及びブライ
ンで洗浄し、つぎにＭｇＳＯ_４で脱水した。濾過及び濃
縮して淡黄色油を生じ、これを脱水して固体とし、２４
２ｇの所望の化合物を生成した。この物質を酢酸エチル
／ヘキサン混合液から再結晶化して、１８５．６ｇ（６
４％）の純水物質とした。融点１０４〜１０６℃。実施例３Ｋ：Ｎ−アセチル−３−（４−チアゾリル）−
ＤＬ−アラニンエチルエステル テトラヒドロフラン（６２０ｍＬ）とエタノール（３１
０ｍＬ）の混合液中に溶解した実施例３Ｊ（１８５．６
ｇ，０．５９ｍｏｌ）からの結果的化合物（１８５．６
ｇ，０５９ｍｏｌ）の溶液に、２Ｍ ＬｉＯＨ水溶液
（３２５ｍＬ，０．６５ｍｏｌ）を２０分間に亘って滴
下付加した。室温で２．５時間撹拌後、反応混合液を濃
縮し、その結果生じた混合水溶液をエーテル（３×２０
０ｍＬ）で抽出し、３Ｍ ＨＣｌでｐＨ３に調整して、
減圧下で濃縮した。残留水分をトルエン部分（２×２０
０ｍＬ）を蒸発させることによって除去した。残渣をト
ルエン（１．５Ｌ）で希釈し、その結果生じたスラリー
を加熱して還流し、水を分離した（Ｄｅａｎ Ｓｔａｒ
ｋトラップ）。３時間後、反応混合液を室温に冷却し、
酢酸エチル（１．５Ｌ）で希釈して、ＳｉＯ_２（６０
ｇ）を通して吸引濾過した。固体をさらに酢酸エチル
（４×５００ｍＬ）で洗浄し、併合有機層を濃縮して、
淡黄色油を生じ、これを脱水（０．５ｔｏｒｒ）して固
化し、１１９．６ｇ（８４％）の所望の化合物を生成し
た。融点５８〜６２℃。実施例３Ｌ：Ｎ−アセチル−３−（４−チアゾリル）−
Ｌ−アラニン及びＮ−アセチル−３−（４−チアゾリ
ル）−Ｄ−アラニン エチルエーテル 撹拌器を装備した５Ｌの三首丸底フラスコに、実施例３
Ｋの結果的に生じた化合物（２１０ｇ，０．８７ｍｏ
ｌ）、蒸溜水（１．６Ｌ）、及び１ＭＫＣｌ水溶液
（０．８Ｌ）を入れた。その均質溶液を０．１Ｍ Ｎａ
ＯＨでｐＨ７．０に調整し、つぎに、０．１ＭのＫＣｌ
水溶液（２５ｍＬ）に溶解したＳｕｂｔｉｌｉｓｉｎ
Ｃａｒｌｓｂｅｒｇ（１．８ｇ）で処理した。その反応
混合液を、必要な場合は１．０Ｍ ＮａＯＨを加えてｐ
Ｈ６．２５〜７．２５に保持して、室温で撹拌した。４
０時間後、４３０ｍＬの塩基を消費して、反応が完了し
たことを判定した。つぎに、その反応混合液をクロロホ
ルム（４×１．５Ｌ）で抽出し、水性相を注意しながら
２Ｍ ＨＣｌでｐＨ４に酸性化した後、減圧下で濃縮し
た。残留水分は、トルエン（３×５００ｍＬ）及びエタ
ノール（３×５００ｍＬ）部分の連続蒸発によって除去
をした。残渣を温エタノール中に入れ、吸引濾過して無
機塩を除去した。固体を温エタノール（３×４００ｍ
Ｌ）で洗浄した。残渣を温エタノール中に入れて吸引濾
過し、無機塩を除去した。固体を温エタノール（３×４
００ｍＬ）で洗浄し、濾液を濃縮して９２．ｇ（５０
％）のＮ、アセチル−３−（４−チアゾリル）−Ｌ−ア
ラニンを白色固体として得た。融点１８６℃。抽出によ
って得られた併合クロロホルム画分を飽和ＮａＨＣＯ_３
水溶液、水及びブラインで洗浄し、つぎにＭｇＳＯ_４で
脱水した。濾過、濃縮して、１０３ｇ（４９％）のＮ−
アセチル−３−（４−４チアソリル）−Ｄ−アラニンエ
チルエステルを生成した。この物質を酢酸エチル／ヘキ
サンから再結晶してさらに精製した。融点７９〜８０．
５℃。実施例３Ｍ：Ｎ−アセチル−３−（４−チアゾリル）−
Ｄ−アラニンエチルエステルのエピ化 電磁撹拌器、還流冷却器、及び窒素流入口を装備した２
Ｌの丸底三首フラスコに、ナトリウム（０．９６ｇ，
０．０４５ｍｏｌ）及びエタノール（９００ｍＬ）を入
れ、その混合液を、ナトリウムが消費されるまで還流さ
せた。その結果生じたナトリウムエトキシドの溶液をわ
ずかに冷却し、実施例３ＬからのＮ−アセチル−３−
（４−チアゾリル）−Ｄ−アラニンエチルエステル（１
０２ｇ，０．４２ｍｏｌ）を加えた。その反応混合液を
つぎに加熱して還流した。３時間後、溶液を室温に冷却
し、氷酢酸（０．０４５ｍｏｌ）で停止して、濃縮し、
エタノールを除去した。残渣を酢酸エチルで希釈し、水
およびブラインで洗浄して、ＭｇＳＯ_４で脱水した。濾
過し、濃縮して、黄色油を生じ、これを温酢酸エチル及
びヘキサン混合液から再結晶化して、８９ｇ（８７％）
の実施例３Ｌから得られたものと同じ物質を生成した。実施例３Ｎ：３−（４−チアゾリル）−Ｌ−アラニンの
二塩酸塩 電磁撹拌器を装備した２Ｌの丸底フラスコに、実施例３
ＬからのＮ−アセチル−３−（４−チアゾリル）−Ｌ−
アラニン（９２．６ｇ，０．４３ｍｏｌ）と６Ｍ ＨＣ
ｌ（１Ｌ）を入れた。その結果生じた溶液を加熱して、
還流した。３時間後、混合液を室温に冷却した。つぎに
その溶液を減圧下で濃縮し、トルエン（３×２００ｍ
Ｌ）から蒸発させて、真空下で一晩脱水し、１２０ｇの
わずかに湿った固体を生じた。この物質を、さらに精製
せずに次の反応に用いた。実施例３０：Ｎ−Ｂｏｃ−３−（４−チアゾリル）−Ｌ
−アラニン 電磁撹拌器を装備した４ＬのＥｒｌｅｎｍｅｙｅｒフラ
スコに、実施例３Ｎからの結果的化合物（１２５．９
ｇ）とテトラヒドロフラン（１．５Ｌ）を入れ、その混
合液を飽和重炭酸ナトリウム水溶液でｐＨ６．６に調整
した。つぎに、その結果生じた溶液を３．０Ｍ ＮａＯ
ＨでＤＨ８．９に調整して、テトラヒドロフラン（１５
０ｍＬ）に溶解したジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカルボネー
ト（１１７．８ｇ，０．５１ｍｏｌ）の溶液を加えた。
その反応混合液を、室温で４０時間、激しく撹拌した。
テトラヒドロフランを真空下で除去し、残渣のｐＨを
３．０Ｍ ＨＣｌで２．０に調整して、その混合液を酢
酸エチル（３×３００ｍＬ）で抽出した。併合した抽出
物をＭｇＳＯ_４で脱水し、濾過、濃縮して、１５０きの
白色固体を生じた。温１：１酢酸エチル／ヘキサン
（１．６Ｌ）から再結晶化して、１０７．６ｇ（実施例
３Ｍの結果的化合物から８２％）の所望の化合物を生成
した。融点１１５℃；［ａｌｐｈａ］_０＝＋１２９．８
（Ｃ＝１．０４，ＣＨＣｌ_３）分析（Ｃ_１１Ｈ_１６Ｎ_２
Ｏ_３） 計算値：Ｃ，４８．６３，Ｈ，５．８８；Ｎ，１０．２
９ 実測値；Ｃ，４８．５６；Ｈ，５．９１；Ｎ，１０．１
７実施例３Ｐ：（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−２−アミノ−１−
シクロヘキシル−３，４−ジヒドロキシ−６−メチルヘ
プタンのＢｏｃ−Ｌ−（４−チアゾリル）Ａｌａのアミ
ド （２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−２−［（ｔｅｒｔ−ブチルオキ
シカルボニル）アミノ］−１−シクロヘキシル−３，４
−ジヒドロキシ−６−メチルヘプタン（５．０５ｇ，
１．４７ｍｍｏｌ，Ｌｕｌｙ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｏｒ
ｇ．Ｃｈｅｍ．１９８８，５３，６１０９）をエタノー
ルに溶解した４Ｍ ＨＣｌ中で９０分間撹拌した後、蒸
発させた。エーテルを加え、３回蒸発させて、残渣を高
真空下で脱水した。この残渣に、１−ヒドロキシベンゾ
トリアゾール（５．５７ｇ，４１．２ｍｍｏｌ）、実施
例３０の結果生じた酸（４．００ｇ，１４．７ｍｍｏ
ｌ）ジメチルホルムアミド６０ｍＬ）、及びＮ−メチル
モルホリン（３．４０ｍＬ，３０．９ｍｍｏｌ）を加え
た。その混合物を−２３℃に冷却し、塩酸１−（３−ジ
メチルアミノプロピル）３−エチルカルボジイミド
（４．３ｇ，２１．０ｍｍｏｌ）で処理した。−２３℃
で２時間、そして室温で２１時間置いた後、混合液を飽
和ＮａＨＣＯ_３溶液中に注ぎ入れて、酢酸エチル中に抽
出した。有機層を水およびブラインで洗浄し、つぎにＮ
ａ_２ＳＯ_４で脱水して、蒸発し、白色固体を生じ、これ
を１：１５（ｖ／ｖ）塩化メチレン／エーテルから数回
再結晶化して、６．２８ｇ（８６％）の所望の物質をフ
レーク状白色固体として生成した。 融点１６０℃；ＴＬＣ（１５％ ＣＨ_３ＯＨ／８５％Ｃ
ＨＣｌ_３）Ｒ_１＝０．６３；^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ
ｌ_３）ｄｅｌｔａ８．７８（１Ｈ，ｄ），７．１４（１
Ｈ，ｄ），６．１８（２Ｈ，ｂｒ ｄ），４．４４（１
Ｈ，ｄｄ），４．２７（１Ｈ，ｍ）４．１０（１Ｈ，
ｍ）３．３７（１Ｈ，ｄｄ）． ３．３０−３．１２（３Ｈ，ｍ），１．８９（１Ｈ，ｓ
ｅｐｔｅｔ），１．４６（９Ｈ，ｓ），０．９４（３
Ｈ，ｄ），０．８８（３Ｈ，ｄ）． 分析（Ｃ_２５Ｈ_４３Ｎ_３Ｏ_６Ｓ） 計算値；Ｃ，５０．３３，；Ｈ，６．７１；Ｎ，８．４
４ 実測値；Ｃ，６０．４３，；Ｈ，８．６８；Ｎ，８．５
１．実施例３Ｑ：（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−２−アミノ−１−
シクロヘキシル−３，４−ジヒドロキシ−６−メチルヘ
プタンのＨ−Ｌ−（４−チアゾリル）Ａｌａのアミド トリフルオロ酢酸（５０ｍＬ）を、カニユーレを通し
て、０℃で、塩化メチレン（５０ｍＬ）に溶解した実施
例３Ｐからの結果的化合物（６．２７ｇ，１２．６ｍｍ
ｏｌ）の溶液に加えた。この反応液を０℃で３時間撹拌
し、真空中で濃縮して（４０℃浴）、油を生じ、これを
Ｋ_２ＣＯ_３水溶液でｐＨ１０〜１１の塩基性とした。こ
の物質をクロロホルム中に抽出して、Ｎａ_２ＳＯ_４で脱
水し、濾過して濃縮して、泡沫とした。１：４（ｖ／
ｖ）塩化メチレン／ヘキサンから再結晶化して、５．０
０ｇ（１００％）の所望の物質を羽毛状白色固体として
生成した。 融点１１１−１１２℃；ＴＬＣ（１５％ ＣＨ_３ＯＨ／
８５％ＣＨＣｌ_３）Ｒ_１＝０．４６；^１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ
ＤＣｌ_３）ｄｅｌｔａ８．７７（１Ｈ，ｄ），７．４０
（１Ｈ，ｂｒ ｄ），７．１３（１Ｈ，ｄ），４．５４
（１Ｈ，ｍ）４．２５（１Ｈ，ｍ）３．８０（１Ｈ，ｄ
ｄ），３．３３（３Ｈ，ｄｄ），３．２５−３．１２
（３Ｈ，ｍ），０．９５（３Ｈ，ｄ），０．８６（３
Ｈ，ｄ）． 分析（Ｃ_２０Ｈ_３５Ｎ_３Ｏ_３Ｓ） 計算値；Ｃ，６０．４２，；Ｈ，８・８７；Ｎ，１０．
５７． 実測値；Ｃ，６０．０５，；Ｈ，８．６５；Ｎ，１０．
４２．実施例３Ｒ：（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−２−アミノ−１−
シクロヘキシル−３，４−ジヒドロキシ−６−メチルヘ
プタンの（２Ｓ）−２−ベンジル−３−（１−メチルピ
ペリジン−４−イルスルホニル）プロピオニル−（Ｌ）
−（４−チアゾリル）Ａｌａアミド ジメチルスルホンアミド（２０ｍＬ）に溶解した実施例
３Ｇからの結果的に生じた酸（１．０００ｇ，３．０６
４ｍｍｏｌ）及び実施例３Ｑからの結果的アミン（１．
１１０ｇ，２．７９２ｍｍｏｌ）、及び１−ヒドロキシ
ベンゾトリアゾール（１．０２２ｇ，７．５６３ｍｍｏ
ｌ）に、Ｎ−メチルモルホリン（０．３５ｍＬ，３．２
ｍｍｏｌ）を加えた。この混合液を−２３℃に冷却し
て、塩酸１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エ
チルカルボジイミド（０．７６０ｇ，３．９６ｍｍｏ
ｌ）で処理した。−２３℃で２時間、室温で１４時間
後、反応液を飽和ＮａＨＣＯ_３溶液（１００ｍＬ）中に
注ぎ入れ、酢酸エチル（２×５０ｍＬ）で抽出して、こ
れを水（２×５０ｍＬ）及びブライン（５０ｍＬ）で洗
浄し、つぎにＮａ_２ＳＯ_４で脱水して、蒸発し、１．９
４ｇを生成した。エタノール（１５ｍＬ）／ヘキサン
（９０ｍＬ）から再結晶化して１．５９９ｇ（７９％）
の白色固体を生成した。 融点１６９−１７０℃；ＴＬＣ（１０％ ＣＨ_３ＯＨ／
９０％ＣＨＣｌ_３）Ｒ_１＝０．４０；^１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ
ＤＣｌ_３）ｄｅｌｔａ８．７３（１Ｈ，ｄ），７．４３
（１Ｈ，ｄ），７．３７−７．１６（６Ｈ，ｍ），６．
２３（１Ｈ，ｄ），４．６３（１Ｈ，ｄｄ），２．３０
（３Ｈ，ｓ），０．９５（３Ｈ，ｄ），０．８７（３
Ｈ，ｄ） 分折（Ｃ_３５Ｈ_５５Ｎ_５Ｏ_６Ｓ_２０．７５Ｈ_２Ｏ） 計算値；Ｃ，５８．４３，；Ｈ，７．９１；Ｎ，９．７
３． 実測値；Ｃ，５８．５１，；Ｈ，７．７４；Ｎ，９．６
０． 本発明の化合物は、無機又は有機酸から得られる塩の形
態で用い得る。これらの塩の例としては次のものが挙げ
られるが、これらに限定されない：酢酸塩、アジピン酸
塩、アルギン酸塩、クエン酸塩、アスパラギン酸塩、安
息香酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、二硫酸塩、酪酸塩、
樟脳酸塩、樟脳スルホン酸塩、ジグルコン酸塩、シクロ
ペンタンプロピン酸塩、ドデシル硫酸塩、エタン硫酸
塩、グルコヘプタン酸塩、グリセロ燐酸塩、ヘミ硫酸
塩、ヘプタン酸塩、ヘキサン酸塩、フマル酸塩、塩酸
塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩、２−ヒドロキシ−エ
タン硫酸塩、乳酸塩、マレイン酸塩、メタンスルホン酸
塩、ニコチン酸塩、２−ナフタレンスルホン酸塩、蓚酸
塩、Ｐａｍｏａｔｅ、ペクチン酸塩、過硫酸塩、３−フ
エニルプロピオン酸塩、ピクリン酸塩、ピバル酸塩、プ
ロピオン酸塩、コハク酸塩、酒石酸塩、チオシアン酸
塩、トシル酸塩、及びウンデカン酸塩。さらに、塩基性
窒素含有基は、メチル、エチル、プロピル及びブチルの
塩化物、臭化物及び沃化物といった低級アルキルハロゲ
ン化物のような物質；ジメチル、ジエチル、ジブチル及
びジアミル硫酸塩のようなジアルキル硫酸塩；デシル、
ラウリル、ミリスチル、及びステアリル塩化物、臭化物
及び沃化物のような長鎖ハロゲン化物；ベンジル及びフ
ェネチル臭化物のようなアラルキルハロゲン化物等によ
って第四化し得る。それによって、水又は油一可溶性又
は分散性物質が得られる。製薬上受容可能な酸付加塩を
生成するために用い得る酸の例としては、塩酸、硫酸及
び燐酸のような無機酸、並びに蓚酸、マレイン酸、フマ
ル酸、コハク酸及びクエン酸のような有機酸が挙げられ
る。その他の塩としては、ナトリウム、カリウム、カル
シウム又はマグネシウムのようなアルカリ金属又はアル
カリ土類金属を有する塩、又は有機塩基を有する塩が挙
げられる。本発明の化合物は、エステルを含むプロドラ
ッグの形態で用いてもよい。このようなエステルの例と
して、ブロック化又は非ブロック化アミノ酸残基、燐酸
塩機能、又はへミコハク酸塩残基によってアシル化され
た本発明のヒドロキシル置換化合物が挙げられる。とく
に重要なアミノ酸エステルはグリシン及びリシンであ
る；しかしながら、他のアミノ酸残基も用い得る。その
他のエステルとしては、カルボン酸基がエステル化され
てエステルを生じる本発明の化合物が含まれ、その例と
しては、メチル、エチル、又はベンジルエステルが挙げ
られるが、これらに限定されない。これらのエステル
は、本発明の化合物のプロドラッグとして用い得るし、
また、消化管内でのこれらの物質の可溶性を増大するの
に役立つ。プロドラッグは、代謝されるｉｎ ｖｉｖｏ
で、本発明の親化合物に転化する。プロドラッグエステ
ルの調製は、本発明のヒドロキシル置換化合物を活性化
アミノアシル、ホスホリル、又はヘミスクシニル誘導体
と反応させることによって行う。その結果生じる物質
を、つぎに脱保護化して、所望のプロドラッグエステル
を生成する。本発明のカルボン酸基含有化合物のエステ
ルであるプロドラッグは、当業界で公知の方法によって
調製する。

【作用】本発明の新規の方法は、腎機能不全及び腎臓
病、特に、急性腎不全（術後乏尿を含む）及び慢性腎不
全を含めた腎不全の防止、治療、抑制又は好転のため
の、ヒト又はその他の哺乳類におけるレニン阻害剤の使
用を指示する。本発明はさらに、腎機能不全及び腎臓
病、特に腎不全の防止、治療、抑制又は好転に有用なレ
ニン阻害剤組成物を示す。腎不全に及ぼすレニン阻害剤
の効力は、例えば虚血、尿管閉塞、又はゲンタマイシン
のような腎毒性薬剤によって、急性腎不全を発症させら
れた動物に投与した場合のレニン阻害剤のＧＦＲを最終
的に変え得る腎臓血液動態に及ぼす効果を観察すること
によって実証される。さらに、慢性腎不全に及ぼすレニ
ン阻害剤の効力は、例えば、腎質量の低減、プロマイシ
ン誘発性ネフローゼ、又は糖尿病性腎症によって慢性腎
不全を模擬的に発症させられた動物に投与されたレニン
阻害剤による蛋白尿、組織病理学的改善及びＧＦＲの長
期安定化を観察することによって立証され得る。１度に
又は何回かに分けて動物に投与された１日の総用量は、
例えば、体重１ｋｇ当たり１日、０．００１〜１０ｍ
ｇ、通常は０．０１〜１ｍｇ／ｋｇの量である。単一投
与形態として担体物質と併用され得る活性成分の量は、
治療対象者及び特定の投与方式によって変わる。しかし
ながら、任意の特定の患者に対する特定の用量レベル
は、使用する特定の化合物の活性、年齢、体重、全身の
健康状態、性別、食事、投与時間、投与径路、排出速
度、併用薬、及び治療中の特定の病気の重症度を含めた
種々の因子に依るものと思われる。本発明の化合物は、
経口的に、吸入スプレーにより、鼻に噴霧することによ
って非経口的に、直腸的に、又は局所的に、常用の非毒
性の製薬上受容可能な担体、アジェバント、及びビヒク
ルを所望により含有する投与単位消法物を投与し得る。
局所投与には、経皮パッチ又はイオン導入装置のような
経皮的投与の使用を包含し得る。さらに、局所投与には
点眼も含まれる。本明細書で用いられる“非経口”とい
う用語は、皮下注射、静注、筋注、胸骨注射、又は注入
法を含む。注射可能な製剤、例えば滅菌注射用水性また
は油性懸濁液は、適当な分散又は浸潤剤及び沈殿防止剤
を用いて公知の技術によって処方し得る。滅菌注射製剤
は、例えば１，３−ブタンジオールに溶解した溶液のよ
うな、非毒性の製薬上受容可能な希釈剤又は溶剤に溶解
した滅菌注射用溶液又は懸濁液であってもよい。使用し
得る受容可能なビヒクル及び溶剤としては、水、デキス
トロース溶液、マンニトール溶液、リンガー液、及び等
張塩化ナトリウム溶液が挙げられる。さらに、溶剤又は
懸濁溶媒として、滅菌付揮発性油を慣用的に用いる。こ
のために、合成モノ−又はジ−グリセリドを含めた任意
の無刺激性不揮発性油を用いてもよい。さらに、オレイ
ン酸のような脂肪酸を、注射製剤中に使用することが判
明している。注射製剤は親液化粉末から容易に生成又は
再構成し得る。本業の直腸投与のための坐薬は、本薬剤
を常温では固体であるが直腸温度では液体で、したがっ
て直腸内では溶融して薬剤を放出するココアバター及び
ポリエチレングリコールのような適当な非刺激性賦形剤
を混合することによって調製し得る。経口投与のための
固体投薬形態としては、カプセル、錠剤、丸剤、粉末、
及び顆粒がある。このような固体投与形態においては、
活性化合物は、蔗糖、ラクトース又はデンプンのような
少なくとも１つの不活性希釈剤を混合し得る。このよう
な投薬形態は、さらに、不活性希釈剤以外の付加的物
質、例えばステアリン酸マグネシウムのような滑剤を包
含し、一般に実用されている。カプセル、錠剤及び丸剤
の場合、その投薬形態にはさらに緩衝剤が含まれる。錠
剤及び丸剤は、腸溶性被膜を付加的にかぶせて調製し得
る。固体投薬形態は口内吸収を増強するための物質も包
含する。固体投与形態はさらに、液体充填カプセル、例
えば軟質弾性ゼラチンカプセルに封入された活性物質の
ＰＥＧ溶液を包含する。経口投与のための液体投薬形態
としては、水のような、当業界で一般に用いられる不活
性希釈剤を含有する、製薬上受容可能な乳濁液溶液、懸
濁液、シロップ、及びエリクシルが挙げられる。このよ
うな組成物は、浸潤剤、乳化剤及び沈殿防止剤のような
アジュバント、並びに甘味剤、風味剤及び香料を包含し
てもよい。上記は、本発明の説明にすぎず、したがっ
て、本発明は開示された化合物に限定されない。当業者
には明らかな変更及び修正は、特許請求の範囲に定義さ
れている本発明の範囲及び性質内であると考えられる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 417/12 9051−4Ｃ Ｃ０７Ｋ 5/06 Ｚ 8930−4Ｈ 5/08 8318−4Ｈ

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 腎機能不全を防止し、治療し、抑制し、
   又は好転させるための、製剤担体及び治療的有効量のレ
   ニン阻害剤を包含する医薬品組成物。
2. 【請求項２】 腎機能不全が慢性腎不全又は急性腎不全
   である請求項１記載の組成物。
3. 【請求項３】 レニン阻害剤が、式： 【化１】 ［式中、Ａｆは、水素、低級アルキル、アリールアルキ
   ル、−ＯＲ_１０ｆ又は−ＳＲ_１０ｆ（ここで、Ｒ_１０ｆ
   は水素、低級アルキル又はアミノアルキルである）、−
   ＮＲ_１１ｆＲ_１２ｆ（ここで、Ｒ_１１ｆ及びＲ_１２ｆは
   水素、低級アルキル、アミノアルキル、シアノアルキ
   ル、ヒドロキシアルキル、カルボキシアルキル、アルコ
   キシカルボニルアルキル、（アミノ）カルボキシアルキ
   ル、（（Ｎ−保護）アミノ）カルボキシアルキル、（ア
   ルキルアミノ）カルボキシアルキル、（（Ｎ−保護）ア
   ルキルアミノ）カルボキシアルキル、（ジアルキルアミ
   ノ）カルボキシアルキル、（アミノ）アルコキシカルボ
   ニルアルキル、（（Ｎ−保護）アミノ）アルコキシカル
   ボニルアルキル、（アルキルアミノ）アルコキシカルボ
   ニルアルキル、（（Ｎ−保護）アルキルアミノ）アルコ
   キシカルボニルアルキル及び（ジアルキルアミノ）アル
   コキシカルボニルアルキルからそれぞれ選択される）で
   あるか、もしくは、 Ａｆは、 【化２】 （式中、ＢｆはＮＨ、アルキルアミノ、Ｓ、Ｏ、ＣＨ_２
   又はＣＨＯＨであり、そしてＲ_２３ｆは低級アルキル、
   シクロアルキル、アリール、アリールアルキル、アルコ
   キシ、アルケニルオキシ、ヒドロキシアルコキシ、ジヒ
   ドロキシアルコキシ、アリールアルコキシ、アリールア
   ルコキシアルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキ
   ルアミノ、（ヒドロキシアルキル）（アルキル）アミ
   ノ、（ジヒドロキシアルキル）（アルキル）アミノ、
   （ジヒドロキシアルキル）（アルキル）アミノ、アミノ
   アルキル、Ｎ−保護アミノアルキル、アルキルアミノア
   ルキル、（Ｎ−保護）（アルキル）アミノアルキル、ジ
   アルキルアミノアルキル、カルボキシアルコキシアルキ
   ル、（アルコキシカルボニル）アルコキシアルキル、カ
   ルボキシアルキル、カルボキシアルキルアミノ、アルコ
   キシカルボニルアルキル、アルコキシカルボニルアルキ
   ルアミノ、（アミノ）カルボキシアルキル、（アミノ）
   カルボキシアルキルアミノ、（（Ｎ−保護）アミノ）カ
   ルボキシアルキル、（（Ｎ−保護）アミノ）カルボキシ
   アルキルアミノ、（アルキルアミノ）カルボキシアルキ
   ル、（アルキルアミノ）カルボキシアルキルアミノ、
   （（Ｎ−保護アルキルアミノ）カルボキシアルキル、
   （（Ｎ−保護）アルキルアミノ）カルボキシアルキルア
   ミノ、（ジアルキルアミノ）カルボキシアルキル、（ジ
   アルキルアミノ）カルボキシアルキルアミノ、（アミ
   ノ）アルコキシカルボニルアルキル、（アミノ）アルコ
   キシカルボニルアルキルアミノ、（（Ｎ−保護アミノ）
   アルコキシカルボニルアルキル、（（保護）アミノ）ア
   ルコキシカルボニルアルキルアミノ、（アルキルアミ
   ノ）アルコキシカルボニルアルキル、（アルキルアミ
   ノ）アルコキシカルボニルアルキルアミノ、（（Ｎ−保
   護アルキルアミノ）−アルコキシカルボニルアルキル、
   （（Ｎ−保護）アルキルアミノ）アルコキシカルボニル
   −アルキルアミノ、（ジアルキルアミノ）アルコキシカ
   ルボニルアルキル、（ジアルキルアミノ）アルコキシカ
   ルボニル−アルキルアミノ、アミノシクロアルキル、ア
   ミノアルキルアミノ、ジアルキルアミノアルキル（アル
   キル）アミノ、アリールアルキルアミノ、アリールアル
   キル（アルキル）アミノ、アルコキシアルキル（アルキ
   ル）アミノ、（ポリアルコキシ）アルキル（アルキル）
   アミノ、ジ−（アルコキシアルキル）アミノ、ジ−（ヒ
   ドロキシアルキル）アミノ、ジ−（（ポリアルコキシ）
   アルキル）アミノ、ポリアルコキシ、（ポアルコキシ）
   アルキル、（複素環式）アルキルもしくは置換又は非置
   換複素環式（ここで、飽和複素環式体はヒドロキシ、オ
   キソ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ア
   ルコキシ、ポリアルコキシ又は低級アルキルで非置換、
   一置換又は二置換化されてもよく、不飽和複素環式体は
   ヒドロキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミ
   ノ、アルコキシ、ポリアルコキシ又は低級アルキルで非
   置換又は一置換化されてもよい）である）であり；Ｗｆ
   は、Ｃ＝Ｏ又はＣＨＯＨであり；ＵｆはＣＨ_２又はＮＲ
   _２ｆであって、ＷｆがＣＨＯＨある場合にはＵｆはＣＨ
   _２であり；Ｒ_１ｆは低級アルキル、シクロアルキルメチ
   ル、ベンジル、４−メトキシベンジル、ハロベンジル、
   （１−ナフチル）メチル、（２−ナフチル）メチル、
   （４−イミダゾリル）メチル、（アルファ，アルファ）
   −ジメチルベンジル、１−ベンジルオキシエチル、フェ
   ネチル、フェノキシ、チオフェノキシ又はアニリノであ
   って、Ｒ_１ｆがフェノキシ、チオフェノキシ又はアニリ
   ノである場合には、ＢｆはＣＨ_２又はＣＨＯＨであるか
   もしくはＡｆは水素であり；Ｒ_２ｆは水素又は低級アル
   キルであり；Ｒ_３ｆは低級アルキル、低級アルケニル
   （（アルコキシ）アルコキシ）低級アルキル、ベンジン
   又は複素環式環置換メチルであり；Ｒ_６ｆは低級アルキ
   ル、シクロアルキルメチル又はベンジルであり；Ｒａｆ
   はビニル、ホルミル、ヒドロキシメチル又は水素であ
   り；Ｒｄｆは水素又は低級アルキルであり；Ｒｂｆおよ
   びＲｅｆはＯＨ及びＮＨ_２からそれぞれ選択され；そし
   てＲｃｆは水素、低級アルキル、ビニル又はアリールア
   ルキルである］；並びに 【化３】 （式中、Ａｉは （Ｉ） Ｒ_５ｉＣ（Ｏ）−（ＣＨ_２）_Ｗ” （式中、１） ｗ”は０〜４であり、そして ２） Ｒ_５ｉは ｉ） ヒドロキシ ｉｉ） アルコキシ ｉｉｉ） チオアルコキシ ｉｖ） アミノ又は ｖ） 置換アミノ である； （ＩＩ） アルキルスルホニル、（アリール）スルホニ
   ル又は（複素環式）スルホニル； （ＩＩＩ） アリール、アリールアルキル、複素環式又
   は（複素環式）アルキル；もしくは （ＩＶ） Ｒ_９０ｉ−又はＲ_９０ｉＮＨＣ（Ｏ）−（こ
   こでＲ_９０ｉは、 １） カルボキシ ２） アルコキシカルボニル ３） アルキルスルホニル ４） アリール ５） アリールスルホニル ６） 複素環式 又は ７） （複素環式）スルホニル から選択される置換基によって置換されるＣ_１〜Ｃ_４直
   鎖又は分枝鎖である）であり；Ｒ_１ｉは、 （Ｉ） 水素 （ＩＩ） 低級アルキル （ＩＩＩ） 低級アルケニル （ＩＶ） シクロアルキルアルキル （Ｖ） シクロアルケニルアルキル （ＶＩ） アリールオキシアルキル （ＶＩＩ） チオアリールオキシアルキル （ＶＩＩＩ） アリールアルコキシアルキル （ＩＸ） アリールチオアルコキシアルキル 又は （Ｘ） 次の １） アルコキシ ２） チオアルコキシ ３） アリール 及び ４） 複素環式 から選択される置換基によって置換されるＣ_１〜Ｃ_３直
   鎖又は分枝炭素鎖であり； Ｘｉは （Ｉ） ＣＨ_２ （ＩＩ） ＣＨＯＨ （ＩＩＩ） Ｃ（Ｏ） （ＩＶ） Ｏ （Ｖ） Ｓ （ＶＩ） Ｓ（Ｏ） （ＶＩＩ） ＳＯ_２ （ＶＩＩＩ） Ｎ（Ｏ） 又は （ＩＸ） −Ｐ（Ｏ）− であり；Ｒ_３ｉは、 （Ｉ） 低級アルキル （ＩＩ） ハロアルキル （ＩＩＩ） 低級アルケニル （ＩＶ） シクロアルキルアルキル （Ｖ） シクロアルケニルアルキル （ＶＩ） アルコキシアルキル （ＶＩＩ） チオアルコキシアルキル （ＶＩＩＩ） （アルコキシアルコキシ）アルキル （ＩＸ） ヒドロキシアルキル、 （Ｘ） −（ＣＨ_２）_ｅｅＮＨＲ_１２ｉ （ここで、 １） ｅｅは１〜３であり、そして ２） Ｒ_１２ｉは ｉ） 水素 ｉｉ） 低級アルキル 又は ｉｉｉ） Ｎ−保護基 である）、 （ＸＩ） アリールアルキル 又は （ＸＩＩ） （複素環式）アルキル であり、 Ｔｉは、 【化４】 （式中Ｒ_４ｉは、 （Ｉ） 低級アルキル （ＩＩ） シクロアルキルアルキル （ＩＩＩ） シクロアルケニルアルキル 又は （ＩＶ） アリールアルキル であり、 Ｄｉは、（Ｉ） 【化５】 （式中、Ｒ_７３ｉは低級アルキルである） （ＩＩ） 【化６】 （式中、 １） Ｍｉは ｉ） Ｏ ｉｉ） Ｓ 又は ｉｉｉ） ＮＨ であり、 ２） Ｑｉは ｉ） Ｏ 又は ｉｉ） Ｓ であり、 ３） Ｅｉは ｉ） Ｏ ｉｉ） Ｓ ｉｉｉ） ＣＨＲ_７３ｉ（ここでＲ_７３ｉは低級アルキ
   ルである） ｉｖ） Ｃ＝ＣＨ_２ 又は ｖ） ＮＲ_１８ｉ（ここで、Ｒ_１８ｉは、 ａ） 水素 ｂ） 低級アルキル Ｃ） ヒドロキシアルキル ｄ） ヒドロキシ ｅ） アルコキシ ｆ） アミノ 又は ｇ） アルキルアミノ である）であり、そして ４） Ｇｉは ｉ） 存在しないか ｉｉ） ＣＨ_２又は ｉｉｉ） ＮＲ_１９ｉ（ここでＲ_１９ｉは水素又は低級
   アルキルである）であるが、但しＧｉがＮＲ_１９ｉであ
   る場合には、Ｒ_１８ｉは低級アルキルか又はヒドロキシ
   アルキルである） （ＩＩＩ） 【化７】 （式中、 １） Ｖ”は０又は１であり、そして ２） Ｒ_２１ｉは ｉ） ＮＨ ｉｉ） Ｏ ｉｉｉ） Ｓ 又は ｉｖ） ＳＯ_２ である）であるか、又は （ＩＶ） 置換メチレン基 である。）である化合物、又は製薬上受容可能なその
   塩、エステル又はプロドラッグから選択される請求項１
   記載の組成物。
4. 【請求項４】 レニン阻害剤が、２（Ｓ）−アミノ−１
   −シクロヘキシルー３（Ｒ），４（Ｓ）−ジヒドロキシ
   −６−メチルヘプタンのＨ−（（べータ，ベータ−ジメ
   チル）−べータ−Ａｌａ）−４−ＯＣＨ_３）Ｐｈｅ−Ｈ
   ｉｓアミド；３−（４−モルホリニル）プロピル−５−
   （Ｓ）−アミノ−６−シクロヘキシル−４（Ｓ）−ヒド
   ロキシ−２（Ｓ）イソプロピルヘキサンアミドの２
   （Ｓ）−（１（Ｓ）−（４−（メトキシメトキシ）ピペ
   リジン−１−イル）−カルボニル−２−フェニル）エト
   キシヘキサン酸アミド；及び（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−２
   −アミノー１−シクロヘキシルー３，４−ジヒドロキシ
   −６−メチルヘプタンの２（Ｓ）−２−ベンジル−３−
   （１−メチルピペリジン−４−イルスルホニル）−プロ
   ピオニル−（Ｌ）−（４−チアゾリル）Ａｌａのアミ
   ド；又は製薬上受容可能なその塩、エステル又はプロド
   ラッグから選択される請求項３記載の組成物。