JPH06103390B2 - Photosensitive lithographic printing plate - Google Patents
Photosensitive lithographic printing plateInfo
- Publication number
- JPH06103390B2 JPH06103390B2 JP59237583A JP23758384A JPH06103390B2 JP H06103390 B2 JPH06103390 B2 JP H06103390B2 JP 59237583 A JP59237583 A JP 59237583A JP 23758384 A JP23758384 A JP 23758384A JP H06103390 B2 JPH06103390 B2 JP H06103390B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- printing plate
- lithographic printing
- photosensitive lithographic
- photosensitive
- diazo resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
- G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0212—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、感光性平版印刷版に係り、詳しくは膜強度が
強く、高耐刷力で保存安定性が良く、しかも画像再現性
が良好な感光性平版印刷版に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate, and more specifically, it has high film strength, high printing durability, good storage stability, and good image reproducibility. A photosensitive lithographic printing plate.
従来、芳香族ジアゾニウム塩、例えば、ジフエニルアミ
ン−4−ジアゾニウム塩と活性カルボニル化合物、例え
ばホルムアルデヒドを反応させたジアゾ樹脂は公知であ
る。特に印刷分野ではジアゾ樹脂の光分解による溶解性
の変化を利用して、オフセツト印刷用平版の製版用感光
性物質として広く利用されている。Conventionally, a diazo resin obtained by reacting an aromatic diazonium salt, for example, a diphenylamine-4-diazonium salt, with an active carbonyl compound, for example, formaldehyde, is known. Particularly in the printing field, it is widely used as a photosensitive material for plate making of lithographic plates for offset printing by utilizing the change in solubility due to photolysis of diazo resin.
ジアゾ樹脂をバインダー等と混合し、それを親水性の金
属、紙、好ましくはアルミニウム等に塗布することによ
りオフセツト印刷版が得られる。この版は、像様露光す
ることにより露光部が硬化し、現像液に不溶となり、こ
れを現像液により処理することにより版面上に親水性部
分と親油性部分が得られ水と脂肪性インキを用いて印刷
することができる。An offset printing plate can be obtained by mixing a diazo resin with a binder or the like and applying it to a hydrophilic metal, paper, preferably aluminum or the like. In this plate, the exposed area is cured by imagewise exposure and becomes insoluble in the developing solution. By treating this with the developing solution, a hydrophilic part and a lipophilic part are obtained on the plate surface, and water and fatty ink are removed. Can be used to print.
高分子化合物とジアゾ化合物とからなる感光性物質は、
ジアゾ化合物単独のものと比較して、後でラツカー盛り
等の必要性がなく、安定した印刷版が得られる等優れた
性能を示すことが知られている。The photosensitive substance consisting of a polymer compound and a diazo compound is
It is known that compared with a diazo compound alone, it shows excellent performance such as the need for a Rucker plate or the like later and a stable printing plate being obtained.
高分子化合物に関しては、種々のものが検討されている
が、親水性の高分子化合物であると現像性やジアゾ樹脂
との相溶性に優れているものの保存安定性や、感脂性が
悪く実用上支障がある。一方、高分子化合物が親油性で
あると保存安定性や感脂性は優れているものの現像性特
に水系の現像液での現像性が悪い(特開昭56-4144号、
同54-98614号各公報参照)。Although various types of polymer compounds have been investigated, hydrophilic polymer compounds have excellent developability and compatibility with diazo resins, but have poor storage stability and poor oil sensitivity and are practically used. There is a problem. On the other hand, when the polymer compound is lipophilic, the storage stability and oil sensitivity are excellent, but the developability is particularly poor with an aqueous developer (JP-A-56-4144,
54-98614).
ジアゾ樹脂に関しても種々検討されている。例えば特公
昭47-1167号公報又は米国特許第3300309号明細書では、
ジアゾのアニオンとして有機スルホン酸塩等の有機塩が
記載されている。また特開昭54-98613号公報ではジアゾ
のアニオンとしてハロゲン化ルイス酸塩が記載されてい
る。Various studies have also been conducted on diazo resins. For example, in Japanese Examined Patent Publication No. 47-1167 or U.S. Patent No. 3300309,
Organic salts such as organic sulfonates are described as anions of diazo. Further, JP-A-54-98613 describes a halogenated Lewis acid salt as an anion of diazo.
また近年、作業性等の点から、印刷版の耐刷力と画像再
現性の向上が強く望まれている。耐刷力を向上させるた
めに、感光層の膜厚や陽極酸化被膜の膜厚を厚くすると
いう手段が使われているが、これは、画像再現性が不良
となり使用範囲が限定される。Further, in recent years, from the viewpoint of workability and the like, improvement in printing durability and image reproducibility of printing plates has been strongly desired. In order to improve the printing durability, a means of increasing the film thickness of the photosensitive layer or the anodized film is used, but this causes poor image reproducibility and limits the range of use.
従来より、陽極酸化処理層を設けるとアルミニウム板の
表面硬度が向上し、画像部のアルミニウム板との接着性
も向上することは知られていた。またリン酸あるいはリ
ン酸を主成分とした電解液中で陽極酸化されたアルミニ
ウム板の方が、硫酸やシユウ酸等の電解液中で処理した
ものより接着性が良好なことは既に公知である。したが
つて、感光層として光二量化型フオトポリマーやアジド
系フオトポリマーといつた比較的接着力の劣るものを使
用する場合には、リン酸の陽極酸化層が使用されること
が多い(特公昭46-26521号、同54-37522号、同57-22035
号、同57-22032号各公報、及び米国特許第3594289号明
細書参照)。It has been conventionally known that the provision of the anodizing layer improves the surface hardness of the aluminum plate and also improves the adhesiveness of the image part to the aluminum plate. It is already known that an aluminum plate anodized in phosphoric acid or an electrolyte solution containing phosphoric acid as a main component has better adhesiveness than an aluminum plate treated in an electrolyte solution such as sulfuric acid or oxalic acid. . Therefore, when a photo-dimerizable photopolymer or an azide-based photopolymer having a relatively low adhesive strength is used as the photosensitive layer, an anodized layer of phosphoric acid is often used (Japanese Patent Publication No. 46-26521, 54-37522, 57-22035
No. 57-22032 and U.S. Pat. No. 3,594,289).
ところが、ジアゾ系の場合は、接着性が強すぎるため
に、リン酸の陽極酸化層を使用すると地汚れが発生した
り、消去が不能となる等の傾向があり、実用上難点が多
いとされている。However, in the case of the diazo type, since the adhesiveness is too strong, the use of an anodized layer of phosphoric acid tends to cause scumming, and it becomes impossible to erase, and it is said that there are many practical difficulties. ing.
したがつて、本発明の目的は、画像再現性を向上し、し
かも膜強度が強く、高耐刷力の印刷版を提供することに
ある。Therefore, an object of the present invention is to provide a printing plate having improved image reproducibility, high film strength, and high printing durability.
また、本発明の更に別の目的は、消去性が良好で地汚れ
が発生せず、保存安定性の良い印刷版を提供することに
ある。Still another object of the present invention is to provide a printing plate having good erasability, causing no background stain, and having good storage stability.
〔問題点を解決するための手段〕 本発明を概説すれば、本発明は感光性平版印刷版に関す
る発明であつて、該印刷版が、リン酸又はリン酸を主成
分とする電解液中で陽極酸化処理して得られる平均ポア
径が200〜900Åでポア密度が100〜1000個/μm2の陽極
酸化層を有するアルミニウム板上に、水酸基を有する親
油性高分子化合物とジアゾ樹脂を含有する感光層を設け
たものであることを特徴とする。[Means for Solving Problems] The present invention will be outlined. The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate, wherein the printing plate is phosphoric acid or an electrolyte solution containing phosphoric acid as a main component. A lipophilic polymer compound having a hydroxyl group and a diazo resin are contained on an aluminum plate having an anodized layer with an average pore diameter of 200 to 900Å and a pore density of 100 to 1000 / μm 2 obtained by anodizing treatment. It is characterized in that a photosensitive layer is provided.
本発明者等は鋭意研究を重ねた結果、上記の印刷版は、
特異的に画像再現性が向上し、高耐刷力で、保存安定性
及び消去性が良好であり、しかも地汚れの発生しない感
光性平版印刷版であることを見出し、本発明を完成し
た。As a result of earnest studies by the present inventors, the above printing plate is
The inventors have found that the photosensitive lithographic printing plate has image reproducibility specifically improved, high printing durability, good storage stability and erasability, and does not cause scumming.
以下、本発明を具体的に説明する。Hereinafter, the present invention will be specifically described.
本発明に使用されるジアゾ樹脂は、公知の方法、例え
ば、フオトグラフイツク サイエンス アンド エンジ
ニアリング(photo.Sci.Eng)第17巻、第33頁(197
3)、米国特許第2063631号、同第2679498号各明細書に
記載の方法に従い、硫酸やリン酸あるいは塩酸中でジア
ゾニウム塩とアルデヒド類例えばパラホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒドとを重縮合さ
せることによつて得られる。The diazo resin used in the present invention can be prepared by a known method, for example, Photographic Science and Engineering (photo.Sci.Eng) Vol. 17, p. 33 (197).
3), by polycondensing a diazonium salt with an aldehyde such as paraformaldehyde, acetaldehyde or benzaldehyde in sulfuric acid, phosphoric acid or hydrochloric acid according to the method described in U.S. Pat. Can be obtained.
その際、ジアゾニウム塩とアルデヒド類をモル比で通常
1:0.5〜1:2、好ましくは、1:0.6〜1:1.5で仕込み、低温
で短時間、例えば10℃以下3時間程度反応させることに
より高感度ジアゾ樹脂が得られる。At that time, the diazonium salt and the aldehyde are usually used in a molar ratio.
A highly sensitive diazo resin can be obtained by charging at 1: 0.5 to 1: 2, preferably 1: 0.6 to 1: 1.5 and reacting at a low temperature for a short time, for example, at 10 ° C. or less for about 3 hours.
本発明においては、ジアゾ樹脂のPF6塩又はBF4塩が好ま
しく、特に下記一般式Iで示され、かつ該式におけるn
が5以上である樹脂を20モル%以上、好ましくは、20〜
60モル%含有するジアゾ樹脂が好ましい。In the present invention, a PF 6 salt or a BF 4 salt of a diazo resin is preferable, and it is particularly represented by the following general formula I and n in the formula:
Is 5 mol or more, 20 mol% or more, preferably 20 to
A diazo resin containing 60 mol% is preferable.
(式中、R1,R2及びR3は水素原子、アルキル基又はアル
コキシ基を示し、Rは水素原子、アルキル基又はフエニ
ル基を示し、XはPF6又はBF4を示し、nは1〜200の数
を示す) かくして得られたジアゾ樹脂は、例えば、水酸基を有す
る親油性高分子化合物と混合して使用する。この目的に
使用しうる水酸基を有する親油性高分子化合物として
は、例えば、下記の様な水酸基を有するアクリルアミド
類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステル類又はメ
タクリル酸エステル類等の単量体から誘導される構成単
位を含有する通常2万〜20万の分子量をもつ共重合体が
挙げられる。 (In the formula, R 1 , R 2 and R 3 represent a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, R represents a hydrogen atom, an alkyl group or a phenyl group, X represents PF 6 or BF 4 , and n is 1 The diazo resin thus obtained is used, for example, as a mixture with a lipophilic polymer compound having a hydroxyl group. Examples of the lipophilic polymer compound having a hydroxyl group that can be used for this purpose include, for example, those derived from monomers such as acrylamides, methacrylamides, acrylic acid esters or methacrylic acid esters having a hydroxyl group as described below. And a copolymer having a molecular weight of 20,000 to 200,000, which contains the structural unit.
(1)芳香族性水酸基を有するモノマー、例えばN−
(4−ヒドロキシフエニル)アクリルアミド又はN−
(4−ヒドロキシフエニル)メタクリルアミド、o−,m
−,p−ヒドロキシスチレン、o−,m−,p−ヒドロキシフ
エニル−アクリレート又はメタクリレート (2)脂肪族水酸基を有するモノマー、例えば2−ヒド
ロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート 共重合する他のモノマーとしては、 (1)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸等の
α,β−不飽和カルボン酸 (2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−
2−クロロエチル、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、グリシジルアクリレート、N−ジメチルアミノエチ
ルアクリレート等の(置換)アルキルアクリレート (3)メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、アミ
ルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、2
−ヒドロキシエチルメタクリレート、4−ヒドロキシブ
チルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、N−
ジメチルアミノエチルメタクリレート等の(置換)アル
キルメタクリレート (4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロ
ールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミ
ド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリ
ルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒ
ドロキシエチルアクリルアミド、N−フエニルアクリル
アミド、N−ニトロフエニルアクリルアミド、N−エチ
ル−N−フエニルアクリルアミド等のアクリルアミド若
しくはメタクリルアミド類 (5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フエニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類 (6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類 (7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類 (8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロ
ピルビニルケトン、フエニルビニルケトン等のビニルケ
トン類 (9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレン等のオレフイン類 (10)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等 が挙げられるが、その他、水酸基を含有するモノマーと
共重合しうるモノマーであれば良く、これに限定される
ものではない。また、これ以外にも必要に応じて、ポリ
ビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド
樹脂、エポキシ樹脂、ノボラツク樹脂、天然樹脂等を添
加してもよい。(1) A monomer having an aromatic hydroxyl group, for example, N-
(4-hydroxyphenyl) acrylamide or N-
(4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-, m
-, P-Hydroxystyrene, o-, m-, p-hydroxyphenyl-acrylate or methacrylate (2) Monomer having aliphatic hydroxyl group, for example, 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate Other monomer to be copolymerized (1) α, β-unsaturated carboxylic acid such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, etc. (2) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, acrylic acid Hexyl, octyl acrylate, acrylic acid-
(Substituted) alkyl acrylate such as 2-chloroethyl, 2-hydroxyethyl acrylate, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl acrylate (3) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate,
Propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2
-Hydroxyethyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N-
(Substituted) alkylmethacrylates such as dimethylaminoethylmethacrylate (4) Acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-methylolmethacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylmethacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-hydroxyethyl Acrylamide such as acrylamide, N-phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide, or methacrylamide (5) Ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, Vinyl ethers such as butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether (6) Vinyl acetate , Vinyl chloroacetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate, etc. (7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene (8) Methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl Vinyl ketones such as ketones and phenyl vinyl ketones (9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene (10) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile, etc. However, other monomers may be used as long as they are copolymerizable with a monomer having a hydroxyl group, and the present invention is not limited thereto. In addition to these, polyvinyl butyral resin, polyurethane resin, polyamide resin, epoxy resin, novolak resin, natural resin and the like may be added if necessary.
本発明に用いられる水酸基を有する親油性の高分子化合
物は、感光性組成物の固形分中に通常40〜99重量%、好
ましくは50〜95重量%含有させる。また、ジアゾ樹脂は
通常1〜60重量%、好ましくは3〜30重量%含有させ
る。The lipophilic polymer compound having a hydroxyl group used in the present invention is usually contained in the solid content of the photosensitive composition in an amount of 40 to 99% by weight, preferably 50 to 95% by weight. The diazo resin is usually contained in an amount of 1 to 60% by weight, preferably 3 to 30% by weight.
本発明の感光性組成物には、更に性能を向上させるため
に以下に示した種々の公知の添加剤を加えることができ
る。Various known additives shown below can be added to the photosensitive composition of the present invention in order to further improve the performance.
(1)画像を可視画化することを目的とした染料 (2)塗布性を改良するためのフツ素系界面活性剤やア
ルキルエーテル類 (3)塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可塑剤 (4)感脂化剤 (5)安定剤 これらの添加量は一般に全固形分に対し0.01〜30重量%
である。(1) Dyes for visualizing images (2) Fluorine-based surfactants and alkyl ethers for improving coating properties (3) To impart flexibility and abrasion resistance to coating films Plasticizer for (4) Oil sensitizer (5) Stabilizer The addition amount of these is generally 0.01 to 30% by weight based on the total solid content.
Is.
本発明の感光性組成物は適当な溶媒、例えばメチルセロ
ソルブ、メチルエチルケトン、エチルセロソルブ、シク
ロヘキサノン、ジオキサン、酢酸エチル、ベンジルアル
コール、ジアセトンアルコール等に溶解して支持体に塗
布する。塗布量としては、乾燥重量で通常約0.5〜約5g/
m2である。このとき、用いるアルミニウム板はリン酸又
はリン酸を主成分とする電解液中で陽極酸化処理してお
く。例えば、アルミニウム板を10〜50重量%、好ましく
は、20〜40重量%のリン酸を含む水溶液中、又は、かか
るリン酸と全酸中25重量%以下、好ましくは、10重量%
以下の他の酸、例えば、硫酸、シユウ酸等との混酸を含
む水溶液中、浴温10〜50℃、好ましくは、25〜45℃で、
電流密度0.2〜10A/dm2、好ましくは、1〜7A/dm2で、10
秒〜10分、好ましくは、20秒〜3分の範囲で、得られる
陽極酸化層の平均ポア径が200〜900Å、好ましくは、30
0〜900Å、特に好ましくは400〜900Åで、ポア密度が10
0〜1,000個/μm2、好ましくは、100〜500個/μm2、特
に好ましくは100〜350個/μm2となるように陽極酸化処
理したものを使用する。The photosensitive composition of the present invention is dissolved in a suitable solvent, for example, methyl cellosolve, methyl ethyl ketone, ethyl cellosolve, cyclohexanone, dioxane, ethyl acetate, benzyl alcohol, diacetone alcohol, etc., and coated on a support. The amount applied is usually about 0.5 to about 5 g / dry weight.
m 2 . At this time, the aluminum plate used is anodized in phosphoric acid or an electrolytic solution containing phosphoric acid as a main component. For example, an aluminum plate in an aqueous solution containing 10 to 50% by weight, preferably 20 to 40% by weight of phosphoric acid, or 25% by weight or less, preferably 10% by weight in the phosphoric acid and the total acid.
Other acids below, for example, in an aqueous solution containing a mixed acid with sulfuric acid, oxalic acid, etc., at a bath temperature of 10 to 50 ° C, preferably 25 to 45 ° C,
Current density 0.2-10 A / dm 2 , preferably 1-7 A / dm 2 , 10
The average pore diameter of the obtained anodized layer is 200 to 900Å, preferably 30 to 10 minutes, preferably 20 seconds to 3 minutes.
0 to 900Å, particularly preferably 400 to 900Å, with a pore density of 10
The anodized product is used so that the anodization amount is 0 to 1,000 pieces / μm 2 , preferably 100 to 500 pieces / μm 2 , and particularly preferably 100 to 350 pieces / μm 2 .
本発明においては、陽極酸化処理の前後に、それぞれ周
知の方法に従いブラシ研摩、電解エツチング等の砂目立
て処理、及び/又は親水化処理等の表面処理を行つてお
くことが好ましい。In the present invention, before and after the anodizing treatment, it is preferable to carry out surface treatment such as brush polishing, graining treatment such as electrolytic etching, and / or hydrophilic treatment according to known methods.
親水化処理としては熱水封孔やケイ酸ソーダ処理が挙げ
られるが接着性やジアゾ残り、現像性の点からは、ケイ
酸ソーダ処理が好ましい。ケイ酸ソーダ処理の条件とし
ては濃度0.1〜5%のメタケイ酸ソーダ溶液中に、温度5
0℃〜95℃で10秒間〜5分間浸漬して行われる。好まし
くは、その後に60℃〜100℃の水に10秒間〜5分間浸漬
して処理される。Examples of the hydrophilic treatment include hot water sealing and sodium silicate treatment, but sodium silicate treatment is preferable from the viewpoints of adhesiveness, diazo residue and developability. The conditions for the sodium silicate treatment are as follows.
It is performed by immersing at 0 ° C to 95 ° C for 10 seconds to 5 minutes. Preferably, after that, it is immersed in water at 60 ° C to 100 ° C for 10 seconds to 5 minutes for treatment.
こうして製造した感光性平版印刷版上に、常法に従つて
被写物を重ねて露光するか電子線等を照射して画像の書
込みを行つた後、現像液を用いて現像すれば支持体上に
対応する画像を形成させることができる。露光に好適な
光源としては、メタルハライドランプ、水銀灯、カーボ
ンアーク灯等が挙げられる。On the photosensitive lithographic printing plate thus produced, an object is overlaid and exposed by an ordinary method, or an image is written by irradiating with an electron beam or the like to write an image, and then developed with a developer to obtain a support. A corresponding image can be formed on top. Suitable light sources for exposure include metal halide lamps, mercury lamps, carbon arc lamps and the like.
本発明に係る感光性印刷版の現像処理に用いられる現像
液は公知のいずれのものであつても良いが、好ましくは
以下のものがよい。すなわち本発明に係る感光性印刷版
を現像する現像液は、水、あるいは特定の有機溶媒及び
/又はアルカリ剤を含む水溶液が挙げられる。ここに特
定の有機溶媒とは、現像液中に含有させたとき上述の感
光性組成物層の非露光部(非画像部)を溶解又は膨潤す
ることができ、しかも常温(20℃)において水に対する
溶解度が10重量%以下の有機溶媒をいう。このような有
機溶媒としては上記のような特性を有するものでありさ
えすればよく、以下のもののみに限定されるものではな
いが、これらを例示するならば、例えば酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、
エチレングリコールモノブチルアセテート、乳酸ブチ
ル、レブリン酸ブチルのようなカルボン酸エステル;エ
チルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ
キサノンのようなケトン類;エチレングリコールモノブ
チルエーテル、エチレングリコールベンジルエーテル、
エチレングリコールモノフエニルエーテル、ベンジルア
ルコール、メチルフエニルカルビノール、n−アミルア
ルコール、メチルアミルアルコールのようなアルコール
類;キシレンのようなアルキル置換芳香族炭化水素;メ
チレンジクロライド、エチレンジクロライド、モノクロ
ロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素などがある。こ
れら有機溶媒は一種以上用いてもよい。これら有機溶媒
の中では、エチレングリコールモノフエニルエーテルと
ベンジルアルコールが特に有効である。また、これら有
機溶媒の現像液中における含有量はおおむね1〜20重量
%であり、特に2〜10重量%のときより好ましい結果を
得る。The developing solution used for the development treatment of the photosensitive printing plate according to the present invention may be any known one, but preferably the following. That is, the developer for developing the photosensitive printing plate according to the present invention includes water or an aqueous solution containing a specific organic solvent and / or an alkaline agent. Here, the specific organic solvent is capable of dissolving or swelling the non-exposed area (non-image area) of the above-mentioned photosensitive composition layer when contained in a developing solution, and is water at room temperature (20 ° C). Refers to an organic solvent having a solubility of 10% by weight or less. Such an organic solvent only needs to have the above-mentioned characteristics, and is not limited to the following, but if these are exemplified, for example, ethyl acetate, propyl acetate, acetic acid, etc. Butyl, amyl acetate, benzyl acetate,
Carboxylic acid esters such as ethylene glycol monobutyl acetate, butyl lactate and butyl levulinate; ketones such as ethyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol benzyl ether,
Alcohols such as ethylene glycol monophenyl ether, benzyl alcohol, methylphenyl carbinol, n-amyl alcohol, methyl amyl alcohol; alkyl-substituted aromatic hydrocarbons such as xylene; methylene dichloride, ethylene dichloride, monochlorobenzene, etc. There are various halogenated hydrocarbons. One or more of these organic solvents may be used. Among these organic solvents, ethylene glycol monophenyl ether and benzyl alcohol are particularly effective. Further, the content of these organic solvents in the developing solution is approximately 1 to 20% by weight, and particularly preferable results are obtained when the content is 2 to 10% by weight.
他方、現像液中に含有されるアルカリ剤としては、 (A)ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二又は第
三リン酸のナトリウム又はアンモニウム塩、メタケイ酸
ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の無機アル
カリ剤 (B)モノ、ジ又はトリメチルアミン、モノ、ジ又はト
リエチルアミン、モノ又はジイソプロピルアミン、n−
ブチルアミン、モノ、ジ又はトリエタノールアミン、モ
ノ、ジ又はトリイソプロパノールアミン、エチレンイミ
ン、エチレンジアミン等の有機アミン化合物等が挙げら
れる。On the other hand, as the alkaline agent contained in the developer, (A) sodium silicate, potassium silicate, potassium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide, sodium or ammonium salt of secondary or tertiary phosphate, Inorganic alkaline agents such as sodium metasilicate, sodium carbonate, ammonia (B) mono-, di- or trimethylamine, mono-, di- or triethylamine, mono- or diisopropylamine, n-
Examples include organic amine compounds such as butylamine, mono-, di- or triethanolamine, mono-, di- or triisopropanolamine, ethyleneimine and ethylenediamine.
これらアルカリ剤の現像液中における含有量は通常0.05
〜4重量%で、好ましくは0.5〜2重量%である。The content of these alkaline agents in the developer is usually 0.05.
-4% by weight, preferably 0.5-2% by weight.
また、保存安定性、耐刷性等をより以上に高めるために
は、水溶性亜硫酸塩を現像液中に含有させることが好ま
しい。このような水溶性亜硫酸塩としては、亜硫酸のア
ルカリ又はアルカリ土類金属塩が好ましく、例えば亜硫
酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫
酸マグネシウムなどがある。これらの亜硫酸塩の現像液
組成物における含有量は通常0.05〜4重量%で、好まし
くは0.1〜1重量%である。Further, in order to further improve storage stability, printing durability and the like, it is preferable to include a water-soluble sulfite in the developer. As such a water-soluble sulfite, an alkali or alkaline earth metal salt of sulfite is preferable, and examples thereof include sodium sulfite, potassium sulfite, lithium sulfite and magnesium sulfite. The content of these sulfites in the developer composition is usually 0.05 to 4% by weight, preferably 0.1 to 1% by weight.
また、上述の有機溶媒の水への溶解を助けるために一定
の可溶化剤を含有させることもできる。このような可溶
化剤としては、本発明の所期の効果を実現するため、用
いる有機溶媒より水易溶性で、低分子のアルコール、ケ
トン類を用いるのがよい。また、アニオン活性剤、両性
活性剤等も用いることができる。このようなアルコー
ル、ケトン類としては、例えばメタノール、エタノー
ル、プロパノール、ブタノール、アセトン、メチルエチ
ルケトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテル、メトキシブタノ
ール、エトキシブタノール、4−メトキシ−4−メチル
ブタノール、N−メチルピロリドン等を用いることが好
ましい。また、活性剤としては例えばイソプロピルナフ
タレンスルホン酸ナトリウム、n−ブチルナフタレンス
ルホン酸ナトリウム、N−メチル−N−ペンタデシルア
ミノ酢酸ナトリウム、ラウリルサルフエートナトリウム
塩等が好ましい。これらアルコール、ケトン類等の可溶
化剤の使用量については特に制限はないが、一般に現像
液全体に対し約30重量%以下とすることが好ましい。Further, a certain solubilizing agent may be contained in order to assist the dissolution of the above organic solvent in water. As such a solubilizing agent, in order to realize the intended effect of the present invention, it is preferable to use a low molecular weight alcohol or ketone which is more soluble in water than the organic solvent used. Moreover, an anion activator, an amphoteric activator, etc. can also be used. Examples of such alcohols and ketones include methanol, ethanol, propanol, butanol, acetone, methyl ethyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methoxybutanol, ethoxybutanol, 4-methoxy-4-methylbutanol, N. -It is preferable to use methylpyrrolidone or the like. Further, as the activator, for example, sodium isopropylnaphthalene sulfonate, sodium n-butylnaphthalene sulfonate, sodium N-methyl-N-pentadecylaminoacetate, sodium lauryl sulfate, and the like are preferable. The amount of the solubilizer such as alcohol or ketone used is not particularly limited, but is generally preferably about 30% by weight or less based on the entire developer.
本発明に係る感光性印刷版は、像様露光した後、上述の
現像液に接触させたり、あるいはこすつたりすれば、お
おむね常温〜40℃にて10〜60秒後には、感光性組成物層
の露光部に悪影響を及ぼすことなく、非露光部の感光性
組成物が完全に除去されることになる。The photosensitive printing plate according to the present invention is, after imagewise exposure, brought into contact with the above-mentioned developing solution or rubbed, after about 10 to 60 seconds at room temperature to 40 ° C., a photosensitive composition. The unexposed areas of the photosensitive composition will be completely removed without adversely affecting the exposed areas of the layer.
以下、本発明で使用する砂目、ジアゾ樹脂及びポリマー
の製造例を示す。The production examples of the grain, diazo resin and polymer used in the present invention are shown below.
〔砂目−1〕 アルミニウム板を17g/lの塩酸浴中で浴温度25℃にて50A
/dm2で25秒間電解研摩処理を行い、最大粗さ4μmの砂
目板を得た。該砂目板を40重量%のリン酸浴中で、浴温
度40℃にて4A/dm2で30秒間陽極酸化処理を行い、充分に
水洗後風乾した。得られた陽極酸化処理層を電子顕微鏡
で解析したところ、平均ポア径750Åのポアが175個/μ
m2確認された。[Grain-1] An aluminum plate in a 17g / l hydrochloric acid bath at a bath temperature of 25 ° C and 50A
Electropolishing treatment was performed for 25 seconds at / dm 2 to obtain a grained plate having a maximum roughness of 4 μm. The grained board was anodized in a 40% by weight phosphoric acid bath at a bath temperature of 40 ° C. at 4 A / dm 2 for 30 seconds, thoroughly washed with water and air dried. When the obtained anodized layer was analyzed by an electron microscope, 175 pores with an average pore diameter of 750Å / μ
m 2 confirmed.
〔砂目−2〕 〔砂目−1〕と同様にして砂目立て処理されたアルミニ
ウム板を30重量%のリン酸と2.5重量%の硫酸との混酸
浴中で、浴温度40℃にて4A/dm2で30秒間陽極酸化処理を
行い充分に水洗後風乾した。得られた陽極酸化処理層を
電子顕微鏡で解析したところ、平均ポア径500Åのポア
が220個/μm2確認された。[Grain-2] An aluminum plate grained in the same manner as in [Grain-1] was placed in a mixed acid bath of 30 wt% phosphoric acid and 2.5 wt% sulfuric acid at a bath temperature of 40 ° C for 4A. The sample was anodized at / dm 2 for 30 seconds, washed thoroughly with water, and air dried. When the obtained anodized layer was analyzed by an electron microscope, 220 pores / μm 2 having an average pore diameter of 500Å were confirmed.
〔砂目−3〕 〔砂目−2〕と同様にして、30重量%のリン酸と5重量
%の硫酸との混酸浴中で、他は同一条件にて得られた陽
極酸化処理層は平均ポア径350Åのポアが350個/μm2形
成されたことが確認された。[Grain-3] Similarly to [Grain-2], the anodized layer obtained under the same conditions in a mixed acid bath of 30 wt% phosphoric acid and 5 wt% sulfuric acid was It was confirmed that 350 pores with an average pore diameter of 350Å were formed / μm 2 .
〔砂目−4〕 〔砂目−2〕と同様にして、30重量%のリン酸と30重量
%の硫酸との混酸浴中で、他は同一条件にて得られた陽
極酸化処理層は平均ポア径250Åのポアが1000個/μm2
形成されたことが確認された。[Grain-4] In the same manner as in [Grain-2], the anodized layer obtained under the same conditions in a mixed acid bath of 30 wt% phosphoric acid and 30 wt% sulfuric acid was 1000 pores with an average pore diameter of 250Å / μm 2
It was confirmed that it was formed.
〔砂目−5〕 〔砂目−1〕と同様にして砂目立て処理されたアルミニ
ウム板を30重量%の硫酸浴中で、浴温度30℃にて6A/dm2
で30秒間陽極酸化処理を行い、充分に水洗後風乾した。
得られた陽極酸化処理層を参考例1と同様にして解析し
たところ、平均ポア径130Åのポアが1000個/μm2以上
確認された。[Grain-5] An aluminum plate that has been grained in the same manner as [Grain-1] in a 30 wt% sulfuric acid bath at a bath temperature of 30 ° C is 6 A / dm 2
Was anodized for 30 seconds, washed thoroughly with water, and then air dried.
The resulting anodized layer was analyzed in the same manner as in Reference Example 1, pores having an average pore diameter of 130Å was confirmed 1,000 / [mu] m 2 or more.
〔砂目−6〕 〔砂目−5〕と同様にして、電流密度を4A/dm2で他は同
一条件にして得られた陽極酸化処理層は平均ポア径80Å
のポアが1000個/μm2以上形成されたことが確認され
た。[Grain-6] Anodized layer obtained in the same manner as in [Grain-5] with a current density of 4 A / dm 2 under the same conditions as above has an average pore diameter of 80Å.
It was confirmed that 1000 pores / μm 2 or more were formed.
〔砂目−7〕 〔砂目−1〕と同様にして電流密度を9A/dm2で他は同一
条件にして得られた陽極酸化処理層は平均ポア径950Å
のポアが100個/μm2確認された。[Grain-7] Anodized layer obtained under the same conditions as in [Grain-1] except that the current density was 9 A / dm 2 and the average pore diameter was 950Å
100 pores / μm 2 were confirmed.
〔ポリマー1の合成〕 N−(4−ヒドロキシフエニル)メタクリルアミド10.0
g、アクリロニトリル25g、エチルアクリレート60g、メ
タクリル酸5g及びアゾビスイソブチロニトリル1.642gを
アセトン−メタノール1:1混合溶媒112mlに溶解し、窒素
置換した後60℃で8時間加熱した。[Synthesis of Polymer 1] N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide 10.0
g, acrylonitrile 25 g, ethyl acrylate 60 g, methacrylic acid 5 g and azobisisobutyronitrile 1.642 g were dissolved in acetone-methanol 1: 1 mixed solvent 112 ml, and after nitrogen substitution, the mixture was heated at 60 ° C. for 8 hours.
反応終了後反応液を水5l中にかくはん下注ぎ、生じた白
色沈殿を取乾燥してポリマー1を90g得た。After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 5 liters of water with stirring and the white precipitate formed was dried to obtain 90 g of Polymer 1.
このポリマーをゲルパーミエーシヨンクロマトグラフイ
ー(以下GPCと略記する)により分子量の測定をしたと
ころ、重量平均分子量は8.5万であつた。When the molecular weight of this polymer was measured by gel permeation chromatography (hereinafter abbreviated as GPC), the weight average molecular weight was 85,000.
〔ポリマー2の合成〕 2−ヒドロキシエチルメタクリレート45g、アクリロニ
トリル10g、エチルメタクリレート45g、メタクリル酸2g
と1.2gの過酸化ベンゾイルの混合液を、100℃に加熱し
たエチレングリコールモノメチルエーテル300gに2時間
かけて滴下した。滴下終了後エチレングリコールモノメ
チルエーテル300gと過酸化ベンゾイル0.3gを加えてその
まま4時間反応させた。反応終了後メタノールで希釈し
て水5l中にかくはん下注ぎ生じた白色沈殿を取乾燥し
てポリマー2を93g得た。[Synthesis of Polymer 2] 2-Hydroxyethyl Methacrylate 45 g, Acrylonitrile 10 g, Ethyl Methacrylate 45 g, Methacrylic Acid 2 g
And 1.2 g of benzoyl peroxide were added dropwise to 300 g of ethylene glycol monomethyl ether heated to 100 ° C. over 2 hours. After completion of the dropping, 300 g of ethylene glycol monomethyl ether and 0.3 g of benzoyl peroxide were added and the reaction was continued for 4 hours. After completion of the reaction, the mixture was diluted with methanol and poured into 5 liters of water with stirring, and the resulting white precipitate was dried to obtain 93 g of Polymer 2.
このポリマーをGPCにより分子量の測定をしたところ、
重量平均分子量は6.5万であつた。When the molecular weight of this polymer was measured by GPC,
The weight average molecular weight was 65,000.
〔ポリマー3の合成〕 メタクリル酸メチル60g、アクリロニトリル30g、メタク
リル酸10g及びアゾビスイソブチロニトリル1.5gをメチ
ルセロソルブ200gに溶解し、窒素を通じながら80℃にお
いて4時間重合させた。この反応混合物を5lの水中に滴
下し、生じた白色沈殿を取乾燥してポリマー3を70g
得た。[Synthesis of Polymer 3] 60 g of methyl methacrylate, 30 g of acrylonitrile, 10 g of methacrylic acid and 1.5 g of azobisisobutyronitrile were dissolved in 200 g of methyl cellosolve and polymerized at 80 ° C. for 4 hours while passing nitrogen through. The reaction mixture was added dropwise to 5 l of water, and the white precipitate formed was dried to give 70 g of Polymer 3.
Obtained.
このポリマーをGPCにより分子量の測定をした所、重量
平均分子量は6万であつた。When the molecular weight of this polymer was measured by GPC, the weight average molecular weight was 60,000.
〔ポリマー4の合成〕 メタクリル酸エチル70g、アクリロニトリル20g、メタク
リル酸10gをポリマー3の合成例と同様な方法で重合さ
せポリマー4を得た。[Synthesis of Polymer 4] 70 g of ethyl methacrylate, 20 g of acrylonitrile, and 10 g of methacrylic acid were polymerized in the same manner as in Synthesis Example of Polymer 3 to obtain Polymer 4.
このポリマーをGPCにより分子量の測定をした所、重量
平均分子量は6.3万であつた。When the molecular weight of this polymer was measured by GPC, the weight average molecular weight was 63,000.
〔ジアゾ樹脂−1の合成〕 p−ジアゾジフエニルアミン硫酸塩14.5g(50ミリモ
ル)を氷冷下で40.9gの濃硫酸に溶解した。この反応液
に1.2g(40ミリモル)のパラホルムアルデヒドをゆつく
り滴下した。この際、反応温度が10℃を超えないように
添加していつた。その後、2時間氷冷下かくはんを続け
た。[Synthesis of diazo resin-1] 14.5 g (50 mmol) of p-diazodiphenylamine sulfate was dissolved in 40.9 g of concentrated sulfuric acid under ice cooling. 1.2 g (40 mmol) of paraformaldehyde was slowly added dropwise to this reaction solution. At this time, the reaction temperature was added so that the temperature did not exceed 10 ° C. After that, stirring was continued for 2 hours under ice cooling.
この反応混合物を氷冷下、500mlのエタノールに滴下
し、生じた沈殿を過した。エタノールで洗浄後、この
沈殿物を100mlの純水に溶解し、この液に6.8gの塩化亜
鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を過
した後エタノールで洗浄し、これを150mlの純水に溶解
した。この液に8gのヘキサフルオロリン酸アンモニウム
を溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を取し
水洗した後、30℃、1昼夜乾燥してジアゾ樹脂−1を得
た。The reaction mixture was added dropwise to 500 ml of ethanol under ice cooling, and the formed precipitate was passed through. After washing with ethanol, the precipitate was dissolved in 100 ml of pure water, and to this solution was added a cold concentrated aqueous solution containing 6.8 g of zinc chloride. After passing through the generated precipitate, it was washed with ethanol and dissolved in 150 ml of pure water. To this solution was added a cold concentrated aqueous solution in which 8 g of ammonium hexafluorophosphate was dissolved. The resulting precipitate was collected, washed with water, and dried at 30 ° C for one day to obtain diazo resin-1.
このジアゾ樹脂−1をGPCにより分子量の測定をしたと
ころ、5量体以上が約35モル%含まれていた。When the molecular weight of this diazo resin-1 was measured by GPC, it contained about 35 mol% of a pentamer or more.
〔ジアゾ樹脂−2の合成〕 ジアゾ樹脂−1と同様にし合成し、最後のヘキサフルオ
ロリン酸アンモニウムの代りに2−ヒドロキシ−4−メ
トキシ−ベンゾフエノン−5−スルホン酸15gを溶解し
た水溶液で処理しジアゾ樹脂−2を得た。[Synthesis of diazo resin-2] Synthesized in the same manner as diazo resin-1, and treated with an aqueous solution in which 15 g of 2-hydroxy-4-methoxy-benzophenone-5-sulfonic acid was dissolved in place of the final ammonium hexafluorophosphate. Diazo resin-2 was obtained.
このジアゾ樹脂−2をGPCにより測定したところ、5量
体以上が約32モル%含まれていた。When this diazo resin-2 was measured by GPC, it contained about 32 mol% of a pentamer or more.
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されない。Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.
The present invention is not limited to these examples.
実施例1〜4、比較例1〜3 上記製造例で得た砂目1〜7に次のような組成を有する
感光液−1をホワラーを用いて塗布した。その後85℃の
温度で3分間乾燥し感光性平版印刷版を得た。塗布量は
乾燥重量で2.0g/m2であつた。Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 Photosensitive liquid-1 having the following composition was applied to the sands 1 to 7 obtained in the above-mentioned production example using a whirler. Then, it was dried at a temperature of 85 ° C. for 3 minutes to obtain a photosensitive lithographic printing plate. The coating amount was 2.0 g / m 2 as a dry weight.
(感光液−1) 得られた感光性平版印刷版を3KWの超高圧水銀灯で60cm
の距離から30秒間露光し、現像液−1で現像し、平版印
刷版を得た。(Photosensitive liquid-1) The photosensitive lithographic printing plate obtained was 60 cm with a 3 KW ultra-high pressure mercury lamp.
Was exposed for 30 seconds from the above distance and developed with Developer-1 to obtain a lithographic printing plate.
(現像液−1) 得られた平版印刷版の感度、点太り量、耐刷力、消去性
及び保存安定性を測定した。その結果を表1に示した。(Developer-1) The sensitivity, dot thickness, printing durability, erasability and storage stability of the obtained lithographic printing plate were measured. The results are shown in Table 1.
なお、耐刷力は枚葉オフセツト印刷機で上質紙に印刷
し、平網のカスレあるいは着肉不良が起こつた枚数を耐
刷力とした。The printing durability was defined as the number of sheets printed on a high-quality paper with a sheet-fed offset printing machine, and the number of sheets in which flat screen scraping or defective inking occurred.
表1から本発明の印刷版は高耐刷力でしかも点太り量が
硫酸アルマイトに比べて小さく網点再現性が良好である
ことがわかる。また、1.5重量%のフツ化水素を含む消
去液N−300を用いて不要画像の消去性を比較したとこ
ろ950Åの砂目−7のみ完全に消去されなかつた。また
保存安定性(40℃、R.H.80%)を砂目−1と砂目−7で
比較したところ、砂目−7のみ汚れが発生した。 It can be seen from Table 1 that the printing plate of the present invention has a high printing durability, a small dot weight is smaller than that of alumite sulfate, and a good dot reproducibility. Further, when the erasability of unnecessary images was compared using the erasing liquid N-300 containing 1.5% by weight of hydrogen fluoride, only 950Å grain-7 was not completely erased. Further, when the storage stability (40 ° C., RH 80%) was compared between grain-1 and grain-7, only the grain-7 was stained.
実施例5〜7、比較例4〜5 砂目−2に以下の感光液−2を塗布した。これを露光、
現像して、感度、点太り量、耐刷力、及び保存安定性を
測定した。その結果を表2に示した。塗布量は乾燥重量
で1.5g/m2であつた。Examples 5 to 7 and Comparative Examples 4 to 5 The following photosensitive solution-2 was applied to the grain-2. Expose this,
After development, the sensitivity, the amount of dot thickening, the printing durability, and the storage stability were measured. The results are shown in Table 2. The coating amount was 1.5 g / m 2 as a dry weight.
(感光液−2) 表2より、水酸基を有するポリマーを含む感光液を、リ
ン酸を主成分とした電解質液で陽極酸化したアルミニウ
ム板−2に塗布した印刷版は極めて優れた保存安定性と
共に高耐刷力を持つことがわかる。(Photosensitive liquid-2) From Table 2, a printing plate obtained by applying a photosensitive solution containing a polymer having a hydroxyl group to an aluminum plate-2 anodized with an electrolyte solution containing phosphoric acid as a main component has excellent storage stability and high printing durability. I understand.
実施例8、比較例6、7 砂目−1、−5、−6に以下の感光液−3を塗布した。
これを露光、現像して、感度と、膜強度を測定した。そ
の結果を表3に示した。塗布量は乾燥重量で1.5g/m2で
あつた。Example 8 and Comparative Examples 6 and 7 The following Photosensitive Solution-3 was applied to the sand grains-1, -5 and -6.
This was exposed and developed to measure the sensitivity and the film strength. The results are shown in Table 3. The coating amount was 1.5 g / m 2 as a dry weight.
(感光液−3) 表3から、本発明の印刷版は、膜強度が極めて優れてい
ることがわかる。(Photosensitive liquid-3) From Table 3, it can be seen that the printing plate of the present invention has extremely excellent film strength.
実施例9、比較例8〜11 砂目1、5、7に下記感光液4を塗布した。これを実施
例1と同様に露光、現像して、感度、網点再現性、耐刷
力、及び消去性、保存安定性を測定した。その結果を表
4に示した。塗布量は乾燥重量で1.5g/m2であつた。Example 9 and Comparative Examples 8 to 11 The following Photosensitive Solution 4 was applied to the grains 1, 5, and 7. This was exposed and developed in the same manner as in Example 1 to measure the sensitivity, halftone dot reproducibility, printing durability, erasability and storage stability. The results are shown in Table 4. The coating amount was 1.5 g / m 2 as a dry weight.
(感光液−4) 表4から、水酸基を有する親油性高分子化合物と、平均
ポア径が200〜900Å、ポア密度が100〜1000個/μm2の
リン酸陽極酸化層を組合せることにより、特異的に、保
存安定性、消去性を維持した上で耐刷力も優れているこ
とがわかる。(Photosensitive liquid-4) From Table 4, by combining a lipophilic polymer compound having a hydroxyl group with a phosphoric acid anodic oxide layer having an average pore diameter of 200 to 900Å and a pore density of 100 to 1000 / μm 2 , it is possible to obtain specific storage stability. It can be seen that the printing durability is excellent while maintaining the erasability and erasability.
以上詳細に説明したように、本発明の感光性平版印刷版
は、画像再現性が向上し、高耐刷力で、保存安定性及び
消去性が良好であり、しかも地汚れが発生しないという
優れた効果を奏するものである。As described in detail above, the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is excellent in image reproducibility, high printing durability, good storage stability and erasability, and does not cause scumming. It has a great effect.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 文屋 信一 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成工業株式会社総合研究所内 (56)参考文献 特開 昭59−97136(JP,A) 特開 昭56−121031(JP,A) 特開 昭55−17580(JP,A) 特開 昭58−153698(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Shinichi Shinya Sanryo Kasei Kogyo Co., Ltd. Research Institute (Shinryo Kasei Kogyo Co., Ltd.) (No. 59) ) JP 56-121031 (JP, A) JP 55-17580 (JP, A) JP 58-153698 (JP, A)
Claims (5)
で陽極酸化処理して得られる平均ポア径が200〜900Åで
ポア密度が100〜1000個/μm2の陽極酸化層を有するア
ルミニウム板上に、水酸基を有する親油性高分子化合物
とジアゾ樹脂を含有する感光層を設けたものであること
を特徴とする感光性平版印刷版。1. An anodic oxide layer having an average pore diameter of 200 to 900Å and a pore density of 100 to 1000 pores / μm 2 obtained by anodizing in phosphoric acid or an electrolyte solution containing phosphoric acid as a main component. A photosensitive lithographic printing plate comprising an aluminum plate and a photosensitive layer containing a lipophilic polymer compound having a hydroxyl group and a diazo resin provided on the aluminum plate.
ルアミド類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステル
類及びメタクリル酸エステル類よりなる群から選択した
単量体から誘導される構成単位を含有する高分子化合物
である特許請求の範囲第1項記載の感光性平版印刷版。2. A polymer containing a structural unit derived from a monomer selected from the group consisting of acrylamides, methacrylamides, acrylic esters and methacrylic esters having a hydroxyl group. The photosensitive lithographic printing plate according to claim 1, which is a compound.
アゾジフエニルアミンとアルデヒド類との縮合物であつ
て、アニオンがPF6又はBF4である特許請求の範囲第1項
記載の感光性平版印刷版。3. The diazo resin according to claim 1, which is a condensate of a substituted or unsubstituted p-diazodiphenylamine and an aldehyde, and whose anion is PF 6 or BF 4 . Photosensitive lithographic printing plate.
コキシ基を示し、Rは水素原子、アルキル基又はフエニ
ル基を示し、XはPF6又はBF4を示し、nは1〜200の数
を示す)で表され、かつ該式におけるnが5以上の樹脂
を20モル%以上含有するものである特許請求の範囲第1
項記載の感光性平版印刷版。4. The diazo resin has the following general formula I: (In the formula, R 1 , R 2 and R 3 represent a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, R represents a hydrogen atom, an alkyl group or a phenyl group, X represents PF 6 or BF 4 , and n is 1 The number of the resin is represented by the formula (1) to (200) and n in the formula contains 5 or more resins in an amount of 20 mol% or more.
The photosensitive lithographic printing plate described in the item.
あり、ポア密度が100〜500個/μm2である特許請求の範
囲第1項記載の感光性平版印刷版。5. The photosensitive lithographic printing plate according to claim 1, wherein the anodic oxide layer has an average pore diameter of 300 to 900Å and a pore density of 100 to 500 pores / μm 2 .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59237583A JPH06103390B2 (en) | 1984-11-13 | 1984-11-13 | Photosensitive lithographic printing plate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59237583A JPH06103390B2 (en) | 1984-11-13 | 1984-11-13 | Photosensitive lithographic printing plate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61117548A JPS61117548A (en) | 1986-06-04 |
JPH06103390B2 true JPH06103390B2 (en) | 1994-12-14 |
Family
ID=17017467
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59237583A Expired - Lifetime JPH06103390B2 (en) | 1984-11-13 | 1984-11-13 | Photosensitive lithographic printing plate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06103390B2 (en) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5517580A (en) * | 1978-07-26 | 1980-02-07 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Preparation of supporter for printing plate |
JPS56121031A (en) * | 1980-02-28 | 1981-09-22 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photosensitive composition |
DE3206470A1 (en) * | 1982-02-23 | 1983-09-01 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | METHOD FOR THE PRODUCTION OF CARRIER MATERIALS FOR OFFSET PRINTING PLATES |
JPS5997136A (en) * | 1982-11-26 | 1984-06-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive composition |
-
1984
- 1984-11-13 JP JP59237583A patent/JPH06103390B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61117548A (en) | 1986-06-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4731316A (en) | Photosensitive composition | |
JPH0572723A (en) | Photosensitive composition | |
JP2810998B2 (en) | Photosensitive composition | |
JPH042943B2 (en) | ||
JPH0642071B2 (en) | Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate | |
JPH06103390B2 (en) | Photosensitive lithographic printing plate | |
JP2596005B2 (en) | Photosensitive lithographic printing plate | |
JP3778620B2 (en) | Photosensitive composition | |
JPS6336491B2 (en) | ||
JP2622711B2 (en) | Photosensitive composition | |
JP2571354B2 (en) | Photosensitive composition | |
JP2671406B2 (en) | Photosensitive composition | |
JP2650322B2 (en) | Photosensitive composition | |
JPS6259948A (en) | Photosensitive composition | |
JPS61284759A (en) | Photosensitive composition for negative type lithographic plate | |
JP2687018B2 (en) | Photosensitive composition | |
JP2646579B2 (en) | Photosensitive composition | |
JPS6259947A (en) | Photosensitive composition | |
JP2627578B2 (en) | Photosensitive composition | |
JP2607158B2 (en) | Photosensitive composition | |
JP2596004B2 (en) | Photosensitive lithographic printing plate | |
JPS6295533A (en) | Photosensitive lithographic printing plate | |
JPH0237579B2 (en) | ||
JPH0153450B2 (en) | ||
JPS62134649A (en) | Photosensitive lithographic printing plate material |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |