JPH0586078A - Phosphorus-containing polythiol and its production - Google Patents

Phosphorus-containing polythiol and its production

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JPH0586078A
JPH0586078A JP24804491A JP24804491A JPH0586078A JP H0586078 A JPH0586078 A JP H0586078A JP 24804491 A JP24804491 A JP 24804491A JP 24804491 A JP24804491 A JP 24804491A JP H0586078 A JPH0586078 A JP H0586078A
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JP
Japan
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group
integer
compound
atom
sulfur atom
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JP24804491A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideki Kazama
秀樹 風間
Tadashi Hara
忠司 原
Shingo Matsuoka
信吾 松岡
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Tokuyama Corp
Original Assignee
Tokuyama Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide a new compound having high refractive index and balanced optical properties such as specific gravity, transparency and weather resistance and useful as a material for lens. CONSTITUTION:The compound of formula I (A<1> is alkylene, etc.; X<1> is O or S; A<2> is alkylene, etc.; A<3> is alkyl, aralkyl, etc.), e.g. p- methoxyphenyldithiophosphonic ac id 0,S-di-2-mercaptoethyl ester. The compound of formula I can be produced by reacting a thiol compound of formula II with a compound of formula III and optionally reacting the reactional product with a thiol compound of formula IV (X<5> is O or S).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は新規な含リンポリチオー
ルに関するものであり、合成樹脂の原料、加硫剤、架橋
剤、エポキシ樹脂硬化剤、酸化防止剤、医農薬中間体等
の広範囲な用途を有する新規含リンポリチオールに関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel phosphorus-containing polythiol, which has a wide range of applications such as raw materials for synthetic resins, vulcanizing agents, cross-linking agents, epoxy resin curing agents, antioxidants, pharmaceutical and agricultural chemical intermediates And a novel phosphorus-containing polythiol having

【0002】[0002]

【従来技術】一分子中に複数個のメルカプト基を有する
ポリチオール化合物は、樹脂の改質、架橋等に利用され
ている有用な化合物である。近年、特に光学材料の分野
で、樹脂の高屈折率化の手段のひとつとして樹脂中にイ
オウ原子を導入することが検討されており、これらポリ
チオール化合物が有用な樹脂原料として使用されてい
る。
2. Description of the Related Art A polythiol compound having a plurality of mercapto groups in one molecule is a useful compound used for resin modification and crosslinking. In recent years, particularly in the field of optical materials, introduction of a sulfur atom into a resin has been studied as one means for increasing the refractive index of the resin, and these polythiol compounds have been used as useful resin raw materials.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上記ポリチオール化合
物を原料として得られる樹脂は、従来のレンズ材料と比
較すると屈折率がかなり高くなっている。しかしなが
ら、比重、透明性、耐候性等の特性の点でバランスのと
れた材料ではなく、レンズ材料としては必ずしも満足の
ゆくものではなかった。
The resin obtained from the above polythiol compound as a raw material has a considerably higher refractive index than conventional lens materials. However, it is not a material that is well balanced in terms of characteristics such as specific gravity, transparency, and weather resistance, and is not always satisfactory as a lens material.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を克服すべく鋭意研究した結果、新規なリン原子を有す
るポリチオール化合物の合成に成功し、また、該ポリチ
オール化合物を原料とする樹脂が上記目的を達成し得る
材料であることを見いだし、本発明を提案するに至っ
た。
As a result of intensive studies to overcome the above problems, the present inventors have succeeded in synthesizing a novel polythiol compound having a phosphorus atom, and have a resin using the polythiol compound as a raw material. Has been found to be a material capable of achieving the above object, and has come to propose the present invention.

【0005】即ち、本発明は、下記式(1)That is, the present invention provides the following formula (1)

【0006】[0006]

【化11】 [Chemical 11]

【0007】[但し、A1 は、−(R1−X2m−R2
{但し、R1 及びR2は、それぞれ同種または異種のア
ルキレン基、または
[0007] [where, A 1 is, - (R 1 -X 2) m -R 2 -
{However, R 1 and R 2 are the same or different alkylene groups, or

【0008】[0008]

【化12】 [Chemical formula 12]

【0009】(但し、kは0〜2の整数である。)であ
り、X2 は酸素原子またはイオウ原子であり、mは0以
上の整数である。}であり、A2 は、−R3−(X3−R
4n−{但し、R3 及びR4 は、それぞれ同種または異
種のアルキレン基、または
(Wherein k is an integer of 0 to 2), X 2 is an oxygen atom or a sulfur atom, and m is an integer of 0 or more. } And A 2 is -R 3- (X 3 -R
4 ) n- {wherein R 3 and R 4 are the same or different alkylene groups, or

【0010】[0010]

【化13】 [Chemical 13]

【0011】(但し、kは0〜2の整数である。)であ
り、X3 は酸素原子またはイオウ原子であり、nは0以
上の整数である。}であり、A3 は、−(X4p−R5
{ただし、R5 は、アルキル基又は
(Wherein k is an integer of 0 to 2), X 3 is an oxygen atom or a sulfur atom, and n is an integer of 0 or more. A}, A 3 is, - (X 4) p -R 5
{However, R 5 is an alkyl group or

【0012】[0012]

【化14】 [Chemical 14]

【0013】(但し、R6 、R7 、R8 、R9 及びR10
は、それぞれ同種または異種の水素原子、アルキル基、
アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アルキルチ
オ基、アリールオキシ基またはアリールチオ基であり、
qは0以上の整数である。)であり、X4 は酸素原子ま
たはイオウ原子であり、pは0または1である。}であ
り、X1 は、酸素原子またはイオウ原子である。]で示
される含リンポリチオールである。
(However, R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10
Are the same or different hydrogen atoms, alkyl groups,
An aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an aryloxy group or an arylthio group,
q is an integer of 0 or more. ), X 4 is an oxygen atom or a sulfur atom, and p is 0 or 1. } And X 1 is an oxygen atom or a sulfur atom. ] It is phosphorus containing polythiol shown by these.

【0014】前記一般式(1)中のX1 、X2 、X3
びX4 は、酸素原子またはイオウ原子であれば良いが、
高屈折率の観点からイオウ原子が特に好ましい。
X 1 , X 2 , X 3 and X 4 in the general formula (1) may be oxygen atoms or sulfur atoms.
From the viewpoint of high refractive index, sulfur atom is particularly preferable.

【0015】前記一般式(1)中のR1 、R2 、R3
びR4 で示されるアルキレン基は特に限定されないが、
炭素数の増加に伴い屈折率が低下するため、炭素数2〜
6個の範囲で、特に2〜4個の範囲で選択することが好
ましい。
The alkylene group represented by R 1 , R 2 , R 3 and R 4 in the general formula (1) is not particularly limited,
Since the refractive index decreases as the carbon number increases,
It is preferable to select within the range of 6, especially within the range of 2 to 4.

【0016】さらに、前記一般式(1)中のR5 で示さ
れるアルキル基は、特に限定されないが、一般には炭素
原子数1〜4個の直鎖状または分枝状のものが好適であ
る。一般に好適に使用される該アルキル基の具体例を提
示すると、メチル基、エチル基、n−プロピル基、is
o−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、t
−ブチル基等が挙げられる。
Further, the alkyl group represented by R 5 in the above general formula (1) is not particularly limited, but in general, a linear or branched one having 1 to 4 carbon atoms is preferable. .. Typical examples of the alkyl groups that are generally and preferably used include methyl group, ethyl group, n-propyl group, is
o-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, t
A butyl group and the like.

【0017】前記一般式(1)中のR6 、R7 、R8
9 及びR10は、それぞれ同種または異種の水素原子、
アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ
基、アルキルチオ基、アリールオキシ基またはアリール
チオ基である。
R 6 , R 7 , R 8 in the general formula (1)
R 9 and R 10 are the same or different hydrogen atoms,
It is an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an aryloxy group or an arylthio group.

【0018】上記のアルキル基は特に限定されないが、
一般には炭素数1〜4個の直鎖状または分枝状のものが
好適である。一般に好適に使用される該アルキル基の具
体例を提示すると、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチ
ル基、t−ブチル基等が挙げられる。
Although the above alkyl group is not particularly limited,
Generally, linear or branched ones having 1 to 4 carbon atoms are suitable. Typical examples of the alkyl groups that are generally suitably used include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, an n-butyl group, an iso-butyl group, and a t-butyl group. ..

【0019】アリール基としては、炭素数に特に制限さ
れるものではないが、フェニル基、ナフチル基、フェナ
ンスリル基、アンスリル基、トリル基またはキシリル基
等の炭素数6〜14のアリール基が好ましい。アラルキ
ル基としては、炭素数に特に制限されるものではない
が、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、
フェニルブチル基等の炭素数7〜10のアラルキル基が
望ましい。アルコキシ基は特に限定されないが、一般に
は炭素数1〜4個の直鎖状または分枝状のものが好適で
ある。一般に好適に使用される該アルコキシ基の具体例
を提示すると、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキ
シ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、iso
−ブトキシ基、t−ブトキシ基等が挙げられる。
The aryl group is not particularly limited in carbon number, but is preferably an aryl group having 6 to 14 carbon atoms such as phenyl group, naphthyl group, phenanthryl group, anthryl group, tolyl group or xylyl group. The aralkyl group is not particularly limited in carbon number, but is a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group,
An aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms such as a phenylbutyl group is desirable. The alkoxy group is not particularly limited, but a linear or branched one having 1 to 4 carbon atoms is generally preferable. Typical examples of the alkoxy groups which are generally and preferably used are given below: methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, iso.
Examples include -butoxy group and t-butoxy group.

【0020】さらに、アルキルチオ基は特に限定されな
いが、一般には炭素数1〜4個の直鎖状または分枝状の
ものが好適である。一般に好適に使用される該アルキル
チオ基の具体例を提示すると、メチルチオ基、エチルチ
オ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、
n−ブチルチオ基、iso−ブチルチオ基、t−ブチル
チオ基等が挙げられる。
Further, the alkylthio group is not particularly limited, but a linear or branched one having 1 to 4 carbon atoms is generally preferred. Typical examples of the alkylthio group which are generally and preferably used include methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, iso-propylthio group,
Examples thereof include n-butylthio group, iso-butylthio group, t-butylthio group and the like.

【0021】また、アリールオキシ基は特に限定されな
いが、一般には炭素数6〜10個の範囲であることが好
ましく、具体的には、フェノキシ基、ナフチルオキシ基
等が挙げられる。
The aryloxy group is not particularly limited, but it is generally preferable that the aryloxy group has 6 to 10 carbon atoms, and specific examples thereof include a phenoxy group and a naphthyloxy group.

【0022】さらに、アリールチオ基は特に限定されな
いが、一般には炭素数6〜10個の範囲であることが好
ましく、具体的には、フェニルチオ基、ナフチルチオ基
等が挙げられる。
Further, the arylthio group is not particularly limited, but it is generally preferable that the arylthio group has 6 to 10 carbon atoms, and specific examples thereof include a phenylthio group and a naphthylthio group.

【0023】前記一般式(1)中のm及びnは0以上の
整数であれば良いが、あまり大きくなりすぎると耐候性
が低下することがあるため、0〜2の範囲であることが
好ましい。
In the above general formula (1), m and n may be integers of 0 or more, but if they are too large, the weather resistance may decrease, so that they are preferably in the range of 0 to 2. ..

【0024】また、前記一般式(1)中のqは、0以上
の整数であれば良いが、炭素数の増加とともに屈折率は
減少するので、0が好適である。
Further, q in the general formula (1) may be an integer of 0 or more, but 0 is preferable because the refractive index decreases as the carbon number increases.

【0025】なお、k、m、n、pおよびqが0のとき
は、−(CH2k−、−(R1−X2m−、−(X3−R
4n−、−(X4p−及び−(CH2q−は、それぞれ
結合手を示す。
When k, m, n, p and q are 0,-(CH 2 ) k -,-(R 1 -X 2 ) m -,-(X 3 -R
4) n -, - (X 4) p - and - (CH 2) q - represents a respective bond.

【0026】本発明の化合物を具体的に例示すると、次
のとおりである。
Specific examples of the compound of the present invention are as follows.

【0027】p―メトキシフェニルジチオホスホン酸
O,S―ジ―2―メルカプトエチル、フェニルトリチオ
ホスホン酸ジ―2―メルカプトエチル、ジチオリン酸O
―フェニルO´,S―ジ―2―メルカプトエチル、テト
ラチオリン酸フェニルジ―p―メルカプトフェニル、ジ
チオリン酸O―p―メトキシフェニルO´,S―ジ―p
―メルカプトフェニル、テトラチオリン酸p―メチルチ
オフェニルジ―2―メルカプトエチル、p―メチルチオ
フェニルジチオホスホン酸O,S―ジ―2―メルカプト
エチル、トリチオリン酸O―p―メチルチオフェニル
S,S´―ジ―p―メルカプトフェニル、ビフェニルジ
チオホスホン酸O,S―ジ―p―メルカプトフェニル、
p―フェノキシフェニルトリチオホスホン酸ジ―2―メ
ルカプトエチル、p―フェニルチオフェニルジチオホス
ホン酸O,S―ジ―2―メルカプトエチル、ベンジルト
リチオホスホン酸ジ―p―メルカプトフェニル、トリチ
オリン酸S―ベンジルO,S´―ジ―p―メルカプトフ
ェニル、テトラチオリン酸メチルジ―2―メルカプトエ
チル、フェニルトリチオホスホン酸ジ―p―メルカプト
メチルベンジル、トリチオリン酸O―フェニルS,S´
―ジ―2―(p―2―メルカプトエチルフェニル)エチ
ル、テトラチオリン酸フェニルジ―2―(2―メルカプ
トエチルチオ)エチル、p―メトキシフェニルジチオホ
スホン酸O―2―メルカプトエチルS―p―メルカプト
フェニル、ジチオリン酸O―p―メトキシフェニルO´
―p―メルカプトフェニルS―2―メルカプトエチル、
トリチオリン酸O―2―メルカプトエチルS―p―メト
キシフェニルS´―p―メルカプトメチルベンジル、p
―メチルチオフェニルトリチオホスホン酸2―メルカプ
トエチルp―メルカプトメチルベンジル、ジチオリン酸
O―2―メルカプトエチルO´―p―メチルチオフェニ
ルS―2―(p―2―メルカプトエチルフェニル)エチ
ル、ビフェニルトリチオホスホン酸2―メルカプトエチ
ル2―(p―2―メルカプトエチルフェニル)エチル、
p―フェノキシフェニルトリチオホスホン酸2―メルカ
プトエチル2―(2―メルカプトエチルチオ)エチル、
p―フェニルチオフェニルジチオホスホン酸O―p―メ
ルカプトフェニルS―p―メルカプトメチルベンジル、
ベンジルトリチオホスホン酸p―メルカプトフェニル2
―(p―2―メルカプトエチルフェニル)エチル、テト
ラチオリン酸ベンジル2―メルカプトフェニル2―(2
―メルカプトエチルチオ)エチル、テトラチオリン酸メ
チルp―メルカプトメチルベンジル2―(p―2―メル
カプトエチルフェニル)エチル、フェニルトリチオホス
ホン酸2―(2―メルカプトエチルチオ)エチルp―メ
ルカプトメチルベンジル、トリチオリン酸O,S―ジ―
2―メルカプトエチルS´―フェニル、p―ベンジルフ
ェニルトリチオホスホン酸ジ―2―メルカプトエチル、
メチルジチオホスホン酸O,S―ジ―2―メルカプトエ
チル、トリチオリン酸O,S―ジ―2―メルカプトエチ
ルS´―トリル等をあげることができる。
P-methoxyphenyldithiophosphonic acid O, S-di-2-mercaptoethyl, phenyltrithiophosphonic acid di-2-mercaptoethyl, dithiophosphoric acid O
-Phenyl O ', S-di-2-mercaptoethyl, phenyldi-p-mercaptophenyl tetrathiophosphate, Op-methoxyphenyl O', S-di-p dithiophosphate
-Mercaptophenyl, p-methylthiophenyldi-2-mercaptoethyl tetrathiophosphate, p-methylthiophenyldithiophosphonic acid O, S-di-2-mercaptoethyl, trithiophosphate O-p-methylthiophenyl S, S'-di -P-mercaptophenyl, biphenyldithiophosphonic acid O, S-di-p-mercaptophenyl,
Di-2-mercaptoethyl p-phenoxyphenyltrithiophosphonate, O, S-di-2-mercaptoethyl p-phenylthiophenyldithiophosphonate, di-p-mercaptophenyl benzyltrithiophosphonate, S-trithiophosphate Benzyl O, S'-di-p-mercaptophenyl, methyldi-2-mercaptoethyl tetrathiophosphate, di-p-mercaptomethylbenzyl phenyltrithiophosphonate, O-phenyl S, S 'trithiophosphate
-Di-2- (p-2-mercaptoethylphenyl) ethyl, phenyl dithiothiophosphate di-2- (2-mercaptoethylthio) ethyl, p-2-methoxyphenyldithiophosphonate O-2-mercaptoethyl Sp-mercapto Phenyl, dithiophosphoric acid Op-methoxyphenyl O '
-P-mercaptophenyl S-2-mercaptoethyl,
O-2-mercaptoethyl trithiophosphate S-p-methoxyphenyl S'-p-mercaptomethylbenzyl, p
-Methylthiophenyl trithiophosphonate 2-mercaptoethyl p-mercaptomethylbenzyl, dithiophosphoric acid O-2-mercaptoethyl O'-p-methylthiophenyl S-2- (p-2-mercaptoethylphenyl) ethyl, biphenyltrithio 2-mercaptoethyl 2- (p-2-mercaptoethylphenyl) ethyl phosphonate,
2-mercaptoethyl 2- (2-mercaptoethylthio) ethyl p-phenoxyphenyltrithiophosphonate,
p-phenylthiophenyldithiophosphonic acid Op-mercaptophenyl Sp-mercaptomethylbenzyl,
Benzyltrithiophosphonate p-mercaptophenyl 2
-(P-2-mercaptoethylphenyl) ethyl, benzyl tetrathiophosphate 2-mercaptophenyl 2- (2
-Mercaptoethylthio) ethyl, methyl tetrathiophosphate p-mercaptomethylbenzyl 2- (p-2-mercaptoethylphenyl) ethyl, phenyltrithiophosphonate 2- (2-mercaptoethylthio) ethyl p-mercaptomethylbenzyl, Trithiophosphoric acid O, S-di-
2-mercaptoethyl S'-phenyl, di-2-mercaptoethyl p-benzylphenyl trithiophosphonate,
Methyldithiophosphonic acid O, S-di-2-mercaptoethyl, trithiophosphoric acid O, S-di-2-mercaptoethyl S'-tolyl and the like can be mentioned.

【0028】一般式(1)で示される含リンポリチオー
ルは、どのような方法により得ても良いが、一般には次
に述べる方法により製造することができる。
The phosphorus-containing polythiol represented by the general formula (1) may be obtained by any method, but generally it can be produced by the method described below.

【0029】下記式(2)The following equation (2)

【0030】[0030]

【化15】 [Chemical 15]

【0031】[但し、A1 は、−(R1−X2m−R2
{但し、R1 及びR2は、それぞれ同種または異種のア
ルキレン基、または
[0031] [where, A 1 is, - (R 1 -X 2) m -R 2 -
{However, R 1 and R 2 are the same or different alkylene groups, or

【0032】[0032]

【化16】 [Chemical 16]

【0033】(但し、kは0〜2の整数である。)であ
り、X2 は酸素原子またはイオウ原子であり、mは0以
上の整数である。}であり、X1 は酸素原子またはイオ
ウ原子である。]で示されるチオール化合物と、下記式
(3)
(Wherein k is an integer of 0 to 2), X 2 is an oxygen atom or a sulfur atom, and m is an integer of 0 or more. } And X 1 is an oxygen atom or a sulfur atom. ] The thiol compound shown by the following formula (3)

【0034】[0034]

【化17】 [Chemical 17]

【0035】[但し、 A3 は、−(X4p−R5{た
だし、R5 は、アルキル基又は
[Wherein A 3 is-(X 4 ) p -R 5 {wherein R 5 is an alkyl group or

【0036】[0036]

【化18】 [Chemical 18]

【0037】(但し、R6 、R7 、R8 、R9 及びR10
は、それぞれ同種または異種の水素原子、アルキル基、
アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アルキルチ
オ基、アリールオキシ基またはアリールチオ基であり、
qは0以上の整数である。)であり、X4は酸素原子ま
たはイオウ原子であり、pは0または1である。}であ
る。]で示される化合物とを反応させ、必要に応じて、
さらに、下記式
(However, R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10
Are the same or different hydrogen atoms, alkyl groups,
An aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an aryloxy group or an arylthio group,
q is an integer of 0 or more. ), X 4 is an oxygen atom or a sulfur atom, and p is 0 or 1. }. ] With a compound represented by
Furthermore, the following formula

【0038】[0038]

【化19】 [Chemical 19]

【0039】[但し、A2 は、−R3−(X3−R4n
{但し、R3 及びR4は、それぞれ同種または異種のア
ルキレン基、または
[However, A 2 is -R 3- (X 3 -R 4 ) n-
{However, R 3 and R 4 are the same or different alkylene groups, or

【0040】[0040]

【化20】 [Chemical 20]

【0041】(但し、kは0〜2の整数である。)であ
り、X3 は酸素原子またはイオウ原子であり、nは0以
上の整数である。}であり、X5 は酸素原子またはイオ
ウ原子である。]で示されるチオール化合物を反応させ
る方法である。
(Wherein k is an integer of 0 to 2), X 3 is an oxygen atom or a sulfur atom, and n is an integer of 0 or more. } And X 5 is an oxygen atom or a sulfur atom. ] It is the method of making the thiol compound shown by these react.

【0042】原料となる前記一般式(2)、(3)及び
(4)で示される化合物はいかなる方法で得られたもの
でも使用できる。前記一般式(1)で示される化合物を
得る反応の具体例を例示すれば、以下の通りである。
The compounds represented by the above general formulas (2), (3) and (4), which are raw materials, may be obtained by any method. Specific examples of the reaction for obtaining the compound represented by the general formula (1) are as follows.

【0043】各化合物の仕込みモル比は必要に応じて適
宜選択すれば良いが、一般式(2)で示される化合物と
一般式(3)で示される化合物のみを反応させる方法で
は、一般式(2)で示される化合物4モルに対し、一般
式(3)で示される化合物1モルを用い、また、一般式
(4)で示される化合物をさらに反応させる方法では、
通常、一般式(2)で示される化合物2モルに対し、一
般式(3)で示される化合物1モル、一般式(4)で示
される化合物2モルを用いるのが一般的である。
The charged molar ratio of each compound may be appropriately selected as necessary, but in the method of reacting only the compound represented by the general formula (2) and the compound represented by the general formula (3), the general formula ( In the method of using 1 mol of the compound represented by the general formula (3) for 4 mol of the compound represented by 2) and further reacting the compound represented by the general formula (4),
Generally, 1 mol of the compound represented by the general formula (3) and 2 mol of the compound represented by the general formula (4) are generally used with respect to 2 mol of the compound represented by the general formula (2).

【0044】前記反応に際しては、原料類と反応しない
溶媒であれば公知のものが使用できるが、通常は、溶媒
は使用しない方が収率向上の点から好ましい。
In the above reaction, known solvents can be used as long as they do not react with the raw materials, but it is usually preferable not to use a solvent from the viewpoint of improving the yield.

【0045】前記反応における温度は、原料の種類によ
って異なるが、一般には20〜120℃、より好ましく
は60〜100℃の範囲から選べば良い。反応時間も原
料の種類によって異なるが、通常、各段階とも10分〜
24時間、好ましくは30分〜12時間の範囲から選べ
ば十分である。また、反応中においては撹拌を行うのが
好ましい。
The temperature in the above reaction varies depending on the kind of the raw material, but it is generally 20 to 120 ° C., more preferably 60 to 100 ° C. The reaction time also varies depending on the type of raw material, but usually 10 minutes to
It is sufficient to select from the range of 24 hours, preferably 30 minutes to 12 hours. In addition, stirring is preferably performed during the reaction.

【0046】反応系から目的生成物、即ち、前記一般式
(1)で示される化合物を単離精製する方法は特に限定
されず、公知の方法が採用できる。
The method for isolating and purifying the desired product, that is, the compound represented by the general formula (1) from the reaction system is not particularly limited, and known methods can be employed.

【0047】本発明の前記一般式(1)で示される化合
物は、ポリイソシアネートとの重付加により、高屈折率
で比重が小さく透明性および耐衝撃性に優れた樹脂を与
える。
The compound represented by the general formula (1) of the present invention gives a resin having a high refractive index, a small specific gravity and excellent transparency and impact resistance by polyaddition with polyisocyanate.

【0048】ポリイソシアネートの具体例を示すと、例
えば、キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジ
イソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレ
ンジイソシアネート、4,4´−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート等が挙げられる。
Specific examples of the polyisocyanate include xylylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, tolylene diisocyanate and 4,4'-diphenylmethane diisocyanate.

【0049】本発明の含リンポリチオールとポリイソシ
アネートの重付加による高屈折率樹脂を得る重合方法
は、特に限定的ではなく、公知の注型重合方法を採用で
きる。
The polymerization method for obtaining the high refractive index resin by polyaddition of the phosphorus-containing polythiol of the present invention and polyisocyanate is not particularly limited, and a known cast polymerization method can be adopted.

【0050】また、本発明の前記一般式(1)で示され
る化合物を、そのメルカプト基を利用してラジカル重合
性基を持つ化合物と反応させることにより、ラジカル重
合性単量体を合成することができる。該ラジカル重合性
単量体の単独重合体、またはこれと共重合可能な単量体
との共重合体は、高屈折率で比重が小さく透明性に優れ
た樹脂である。上記のラジカル重合性基を持つ化合物は
特に限定されないが、アクリル酸ハライド、メタクリル
酸ハライド及び
Further, a radical-polymerizable monomer is synthesized by reacting the compound represented by the general formula (1) of the present invention with a compound having a radical-polymerizable group by utilizing the mercapto group. You can The homopolymer of the radical-polymerizable monomer or the copolymer of the radical-polymerizable monomer and the copolymerizable monomer is a resin having a high refractive index, a small specific gravity and excellent transparency. The compound having a radically polymerizable group is not particularly limited, but acrylic acid halide, methacrylic acid halide and

【0051】[0051]

【化21】 [Chemical 21]

【0052】(但し、rは1または2であり、Zはハロ
ゲン原子である。)等が好適に用いられる。
(However, r is 1 or 2, and Z is a halogen atom.) And the like are preferably used.

【0053】また、前記一般式(1)で示される化合物
は、一分子中に二個以上の不飽和結合を有する化合物と
重付加させることもできる。上記の一分子中に二個以上
の不飽和結合を有する化合物と一般式(1)で示される
含リンポリチオールとの混合割合は、不飽和結合/SH
のモル比が0.5〜3.0、さらに1.0〜2.0とな
るような範囲であることが好ましい。
The compound represented by the general formula (1) can also be polyadded with a compound having two or more unsaturated bonds in one molecule. The mixing ratio of the compound having two or more unsaturated bonds in one molecule and the phosphorus-containing polythiol represented by the general formula (1) is such that unsaturated bonds / SH
The molar ratio is preferably 0.5 to 3.0, and more preferably 1.0 to 2.0.

【0054】[0054]

【効果】本発明の含リンポリチオールとポリイソシアネ
ートとを付加重合させて得られる樹脂は高屈折率であ
り、さらに比重、透明性、耐候性等の光学特性の点でバ
ランスのとれた材料であり、光学材料、特に、レンズ材
料として好適に使用できる。
[Effect] The resin obtained by addition-polymerizing the phosphorus-containing polythiol of the present invention and polyisocyanate is a material having a high refractive index and a well-balanced optical characteristics such as specific gravity, transparency, and weather resistance. It can be preferably used as an optical material, especially as a lens material.

【0055】さらに、本発明の含リンポリチオール化合
物のメルカプト基を利用してラジカル重合性基を持つ化
合物と反応させることにより、ラジカル重合性単量体を
得ることができる。このラジカル重合性単量体はラジカ
ル重合により高屈折率であり、比重、透明性、耐候性等
の光学特性に優れた樹脂を与える。
Further, a radical-polymerizable monomer can be obtained by utilizing the mercapto group of the phosphorus-containing polythiol compound of the present invention to react with a compound having a radical-polymerizable group. This radical-polymerizable monomer has a high refractive index by radical polymerization and gives a resin having excellent optical properties such as specific gravity, transparency and weather resistance.

【0056】[0056]

【実施例】以下、本発明を具体的に説明するために、実
施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限
定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0057】なお、実施例において得られた含リンポリ
チオールは下記の試験法によって諸物性を測定した。
Various properties of the phosphorus-containing polythiol obtained in the examples were measured by the following test methods.

【0058】(1)IRスペクトル(IR) BIO−RAD製DIGILAB FTS−7型フーリ
エ変換赤外分光光度計を用い、KBr法または液膜法を
用いて測定した。
(1) IR spectrum (IR) A DIGILAB FTS-7 type Fourier transform infrared spectrophotometer manufactured by BIO-RAD was used to measure by the KBr method or the liquid film method.

【0059】(2)1H−核磁気共鳴スペクトル(1H−
NMRスペクトル) 日本電子(株)製 PXM−60SI型(60MHz)
を用い、試料をCDCl3に希釈し、テトラメチルシラ
ンを内部標準として測定した。
(2) 1 H-nuclear magnetic resonance spectrum ( 1 H-
NMR spectrum) PXM-60SI type (60 MHz) manufactured by JEOL Ltd.
Was used to dilute the sample in CDCl 3 and tetramethylsilane was measured as an internal standard.

【0060】(3)元素分析 (株)柳本製作所製 CHNコーダ MT−2型を用
い、炭素及び水素の分析を、硫黄及びリンについてはフ
ラスコ燃焼法を用いて測定を行った。
(3) Elemental analysis Carbon and hydrogen were analyzed using CHN coder MT-2 type manufactured by Yanagimoto Seisakusho Co., Ltd., and sulfur and phosphorus were measured by a flask combustion method.

【0061】(4)屈折率 アタゴ(株)製 アッベ屈折計を用いて、20℃におけ
る屈折率を測定した。接触液にはブロモナフタリンまた
はヨウ化メチレンを使用した。
(4) Refractive Index Using an Abbe refractometer manufactured by Atago Co., Ltd., the refractive index at 20 ° C. was measured. Bromonaphthalene or methylene iodide was used as the contact liquid.

【0062】(5)耐候性 スガ試験機(株)製ロングライフキセノンフェードメー
ター(FAC―25AX―HC型)中に試料、及び比較
としてポリスチレンを設置し、100時間キセノン光を
露光した後、ポリスチレンよりも試料の着色の程度の低
いものを○、同等のものを△、高いものを×で評価し
た。
(5) Weather resistance A sample was placed in a long-life xenon fade meter (FAC-25AX-HC type) manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., and polystyrene was placed for comparison, and exposed to xenon light for 100 hours, and then polystyrene. A sample having a lower degree of coloring was evaluated as ◯, an equivalent sample was evaluated as Δ, and a higher sample was evaluated as x.

【0063】実施例1 温度計、撹はん機及び還流管をつけた3つ口フラスコにExample 1 In a three-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer and a reflux tube.

【0064】[0064]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0065】20.0g(0.050mol)、2−メ
ルカプトエタノール42.6g(0.55mol)を室
温で加えた。反応液をよく撹拌しながら、反応温度を1
00℃まで徐々に昇温してゆき、100℃で2時間撹拌
した。
20.0 g (0.050 mol) and 2-mercaptoethanol 42.6 g (0.55 mol) were added at room temperature. While stirring the reaction solution well, set the reaction temperature to 1
The temperature was gradually raised to 00 ° C, and the mixture was stirred at 100 ° C for 2 hours.

【0066】その後、反応混合物を水にあけ、トルエン
で抽出した後、有機層を水で洗浄した。有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下で溜去すること
により、無色透明の油状物28.2gを得た。
Then, the reaction mixture was poured into water and extracted with toluene, and then the organic layer was washed with water. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 28.2 g of a colorless transparent oily substance.

【0067】このもののIRスペクトルにおいて、31
50〜2850cm-1にC−H結合に基づく吸収、25
50cm-1にS−H結合に基づく吸収、そして、688
cm-1にP=S結合に基づく吸収が認められた(図
1)。
In the IR spectrum of this product, 31
Absorption based on C—H bond at 50 to 2850 cm −1 , 25
Absorption based on S—H bond at 50 cm −1 , and 688
Absorption based on the P = S bond was observed at cm -1 (Fig. 1).

【0068】また、このものの1H−NMR(CDCl3
溶媒中、テトラメチルシラン基準、ppm)では、δ
6.8〜8.2ppmにメトキシフェニル基由来のシグ
ナル(b)、4.3ppmにオキシメチレン基由来のシ
グナル(c)、3.9ppmにメトキシ基由来のシグナ
ル(a)、2.5〜3.3ppmにチオメチレン基由来
のシグナル(d)、1.5〜1.8ppmにメルカプト
基由来のシグナル(e)が観測された(図2)。
Further, 1 H-NMR (CDCl 3
In a solvent, tetramethylsilane standard, ppm), δ
Signal from methoxyphenyl group (b) at 6.8 to 8.2 ppm, signal from oxymethylene group at 4.3 ppm (c), signal from methoxy group at 3.9 ppm (a), 2.5 to 3 A thiomethylene group-derived signal (d) was observed at 0.3 ppm, and a mercapto group-derived signal (e) was observed at 1.5 to 1.8 ppm (FIG. 2).

【0069】[0069]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0070】さらに、元素分析値(()内は計算値であ
る。)はC:38.89重量%(38.80)、H:
5.11重量%(5.03)、S:37.60重量%
(37.67)と、P:9.03重量%(9.10)で
あり、計算値とよく一致した。
Further, elemental analysis values (values in parentheses are calculated values) are C: 38.89% by weight (38.80), H:
5.11 wt% (5.03), S: 37.60 wt%
(37.67) and P: 9.03% by weight (9.10), which were in good agreement with the calculated values.

【0071】実施例2〜33 種々の原料を用いて実施例1において詳細に記述したの
と同様な方法により、表1に記載した含リンポリチオー
ルを合成した。なお、表1には得られた含リンポリチオ
ールの性状、元素分析結果も併せて記した。
Examples 2-33 The phosphorus-containing polythiols shown in Table 1 were synthesized by using the various raw materials in the same manner as described in detail in Example 1. Table 1 also shows the properties of the obtained phosphorus-containing polythiol and the results of elemental analysis.

【0072】[0072]

【表1】 [Table 1]

【0073】[0073]

【表2】 [Table 2]

【0074】[0074]

【表3】 [Table 3]

【0075】[0075]

【表4】 [Table 4]

【0076】[0076]

【表5】 [Table 5]

【0077】[0077]

【表6】 [Table 6]

【0078】[0078]

【表7】 [Table 7]

【0079】[0079]

【表8】 [Table 8]

【0080】[0080]

【表9】 [Table 9]

【0081】[0081]

【表10】 [Table 10]

【0082】[0082]

【表11】 [Table 11]

【0083】応用例1 実施例1で得られた化合物5.00g(0.015mo
l)とm−キシリレンジイソシアネート2.76g
(0.015mol)、ジラウリン酸ジ−n−ブチルす
ず0.05g(7.9×10-5mol)をよく撹拌し、
24時間かけて徐々に加熱して重付加させた。このもの
の屈折率(nD)は1.662、アッベ数(ν)は3
1、比重は1.34、耐候性は○であり、無色透明であ
った。
Application Example 1 5.00 g (0.015 mo) of the compound obtained in Example 1
l) and m-xylylene diisocyanate 2.76 g
(0.015 mol) and 0.05 g of di-n-butyltin dilaurate (7.9 × 10 −5 mol) were well stirred,
Gradually heating and polyaddition were performed over 24 hours. This product has a refractive index (n D ) of 1.662 and an Abbe number (ν) of 3
1, the specific gravity was 1.34, the weather resistance was ◯, and it was colorless and transparent.

【0084】応用例2〜33 応用例1と同様にして、実施例2〜33で得られた含リ
ンポリチオール及び各種モノマーを使用して重合体を得
た。得られた重合体の物性を表2に示した。
Application Examples 2 to 33 In the same manner as in Application Example 1, polymers were obtained using the phosphorus-containing polythiols obtained in Examples 2 to 33 and various monomers. The physical properties of the obtained polymer are shown in Table 2.

【0085】[0085]

【表12】 [Table 12]

【0086】[0086]

【表13】 [Table 13]

【0087】[0087]

【表14】 [Table 14]

【0088】[0088]

【表15】 [Table 15]

【0089】[0089]

【表16】 [Table 16]

【0090】[0090]

【表17】 [Table 17]

【0091】[0091]

【表18】 [Table 18]

【0092】[0092]

【表19】 [Table 19]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は、実施例1で得られた本発明の含リンポ
リチオールの赤外吸収スペクトルである。
FIG. 1 is an infrared absorption spectrum of the phosphorus-containing polythiol of the present invention obtained in Example 1.

【図2】図2は、実施例1で得られた本発明の含リンポ
リチオールの1H−核磁気共鳴スペクトルである。
FIG. 2 is a 1 H-nuclear magnetic resonance spectrum of the phosphorus-containing polythiol of the present invention obtained in Example 1.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記式 【化1】 [但し、A1 は、−(R1−X2m−R2−{但し、R1
及びR2 は、それぞれ同種または異種のアルキレン基、
または 【化2】 (但し、kは0〜2の整数である。)であり、X2 は酸
素原子またはイオウ原子であり、mは0以上の整数であ
る。}であり、 A2 は、−R3−(X3−R4n−{但し、R3 及びR4
は、それぞれ同種または異種のアルキレン基、または 【化3】 (但し、kは0〜2の整数である。)であり、X3 は酸
素原子またはイオウ原子であり、nは0以上の整数であ
る。}であり、 A3 は、−(X4p−R5{ただし、R5 は、アルキル
基又は 【化4】 (但し、R6 、R7 、R8 、R9 及びR10は、それぞれ
同種または異種の水素原子、アルキル基、アリール基、
アラルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリー
ルオキシ基またはアリールチオ基であり、qは0以上の
整数である。)であり、X4は酸素原子またはイオウ原
子であり、pは0または1である。}であり、 X1 は、酸素原子またはイオウ原子である。]で示され
る含リンポリチオール。
1. The following formula: [However, A 1 is-(R 1 -X 2 ) m -R 2- {however, R 1
And R 2 are the same or different alkylene groups,
Or [Chemical 2] (However, k is an integer of 0 to 2), X 2 is an oxygen atom or a sulfur atom, and m is an integer of 0 or more. A}, A 2 is, -R 3 - (X 3 -R 4) n - { However, R 3 and R 4
Are the same or different alkylene groups, or (However, k is an integer of 0 to 2.), X 3 is an oxygen atom or a sulfur atom, and n is an integer of 0 or more. }, A 3 is-(X 4 ) p -R 5 {wherein R 5 is an alkyl group or (However, R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 are each the same or different hydrogen atom, alkyl group, aryl group,
It is an aralkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an aryloxy group or an arylthio group, and q is an integer of 0 or more. ), X 4 is an oxygen atom or a sulfur atom, and p is 0 or 1. } And X 1 is an oxygen atom or a sulfur atom. ] The phosphorus-containing polythiol shown by these.
【請求項2】 下記式 【化5】 [但し、A1 は、−(R1−X2m−R2−{但し、R1
及びR2 は、それぞれ同種または異種のアルキレン基、
または 【化6】 (但し、kは0〜2の整数である。)であり、X2 は酸
素原子またはイオウ原子であり、mは0以上の整数であ
る。}であり、 X1 は酸素原子またはイオウ原子である。]で示される
チオール化合物と、下記式 【化7】 [但し、 A3 は、−(X4p−R5{ただし、R5
は、アルキル基又は 【化8】 (但し、R6 、R7 、R8 、R9 及びR10は、それぞれ
同種または異種の水素原子、アルキル基、アリール基、
アラルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリー
ルオキシ基またはアリールチオ基であり、qは0以上の
整数である。)であり、X4 は酸素原子またはイオウ原
子であり、pは0または1である。}である。]で示さ
れる化合物とを反応させ、必要に応じて、さらに、下記
式 【化9】 [但し、A2 は、−R3−(X3−R4n−{但し、R3
及びR4 は、それぞれ同種または異種のアルキレン基、
または 【化10】 (但し、kは0〜2の整数である。)であり、X3 は酸
素原子またはイオウ原子であり、nは0以上の整数であ
る。}であり、X5 は、酸素原子またはイオウ原子であ
る。]で示されるチオール化合物を反応させることを特
徴とする請求項1記載の含リンポリチオールの製造方
法。
2. The following formula: [However, A 1 is-(R 1 -X 2 ) m -R 2- {however, R 1
And R 2 are the same or different alkylene groups,
Or (However, k is an integer of 0 to 2), X 2 is an oxygen atom or a sulfur atom, and m is an integer of 0 or more. } And X 1 is an oxygen atom or a sulfur atom. ] And a thiol compound represented by the following formula: [However, A 3 is, - (X 4) p -R 5 { However, R 5
Is an alkyl group or (However, R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 are each the same or different hydrogen atom, alkyl group, aryl group,
It is an aralkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an aryloxy group or an arylthio group, and q is an integer of 0 or more. ), X 4 is an oxygen atom or a sulfur atom, and p is 0 or 1. }. ] The compound represented by the formula: [However, A 2 is, -R 3 - (X 3 -R 4) n - { However, R 3
And R 4 are the same or different alkylene groups,
Or (However, k is an integer of 0 to 2.), X 3 is an oxygen atom or a sulfur atom, and n is an integer of 0 or more. } And X 5 is an oxygen atom or a sulfur atom. ] The thiol compound shown by these is made to react, The manufacturing method of phosphorus-containing polythiol of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8740506B2 (en) 2010-03-10 2014-06-03 Nhk Spring Co., Ltd. Positioning apparatus

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