JPH0585843B2 - - Google Patents

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JPH0585843B2
JPH0585843B2 JP60184463A JP18446385A JPH0585843B2 JP H0585843 B2 JPH0585843 B2 JP H0585843B2 JP 60184463 A JP60184463 A JP 60184463A JP 18446385 A JP18446385 A JP 18446385A JP H0585843 B2 JPH0585843 B2 JP H0585843B2
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Japan
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axis
light
lens
hologram
optical
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JP60184463A
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Japanese (ja)
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JPS6244607A (en
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Takashi Yokokura
Takuji Sato
Takashi Genma
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Topcon Corp
Original Assignee
Topcon Corp
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Publication date
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  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
  • Holo Graphy (AREA)
  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ホログラム原器を用いてレンズやミ
ラー等の光学素子、特に非球面光学素子の面形状
を精密に測定するためのホログラフイツク干渉計
に関するもので、さらに詳しくは、その参照波面
発生用光学面のチルト量をモニターするモニター
手段を有するホログラフイツク干渉計に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to a holographic interferometer for precisely measuring the surface shape of optical elements such as lenses and mirrors, especially aspherical optical elements, using a hologram prototype. More specifically, the present invention relates to a holographic interferometer having monitoring means for monitoring the amount of tilt of an optical surface for generating a reference wavefront.

従来技術 非球面光学素子の面形状を測定する方法とし
て、基準となる非球面からの反射または透過波面
と参照光波面との干渉により作成されたホログラ
ム原器、または基準非球面の光学設計値から電子
計算機でホログラムパターンを計算して電子ビー
ム描画法等で作成したいわゆる「計算機ホログラ
ム」をホログラム原器として利用し、被検非球面
光学素子からの反射または透過波面の前記ホログ
ラム原器による回折光と参照光とを干渉させ、そ
の干渉縞の量や形状から被検非球面光学素子の基
準非球面からの誤差を精密に測定するホログラフ
イツク干渉計が知られている。
Prior Art As a method for measuring the surface shape of an aspherical optical element, a hologram prototype created by interference between a reflected or transmitted wavefront from a reference aspherical surface and a reference light wavefront, or optical design values of a reference aspherical surface is used. A so-called "computer-generated hologram", which is created by calculating a hologram pattern using an electronic computer and using an electron beam drawing method, is used as a hologram prototype, and the diffracted light by the hologram prototype of the reflected or transmitted wavefront from the aspherical optical element to be tested is used. A holographic interferometer is known in which the error of the aspherical optical element under test from the reference aspherical surface is precisely measured by interfering the aspherical surface with a reference light and the amount and shape of the interference fringes.

また、干渉計としては、例えば、第22図に示
すフイゾー型干渉計が知られている。すなわち、
光源(レーザ)LSからの光はコリメータレンズ
Cで平行光束とされる。その後、結像レンズL1
と発散レンズL2との間に傾設されたハーフミラ
ーからなるビームスプリツタBSで反射された光
束は、その内の一部が、発散レンズL2で発散さ
れた後参照球面Rで反射され、入射光(l1)と同
一の光路を通つてビームスプリツタBS、ホログ
ラム原器H、結像レンズL1を介して0次の参照
光となつて空間フイルターSFの開口を通過する。
Further, as an interferometer, for example, a Fizeau type interferometer shown in FIG. 22 is known. That is,
The light from the light source (laser) LS is collimated by a collimator lens C. Then, the imaging lens L 1
A part of the light beam reflected by the beam splitter BS, which is a half mirror tilted between the diverging lens L2 and the diverging lens L2 , is reflected by the reference sphere R after being diverged by the diverging lens L2. , passes through the same optical path as the incident light (l 1 ), passes through the beam splitter BS, the hologram prototype H, and the imaging lens L 1 to become a zero-order reference light and passes through the aperture of the spatial filter SF.

一方、参照球面Rを透過し、被検光学素子(非
球面凹面鏡)Tで反射された光すなわち物体光
は、逆進してビームスプリツタBSを透過する。
ビームスプリツタBSを透過してホログラム原器
で回折されない0次光は空間フイルターSFでカ
ツトされ、一方ホログラム原器で回折された例え
ば一次の回折光は空間フイルターSFの開口を通
過し、上述の0次参照光と干渉スクリーンまたは
フイルム上で干渉縞を形成する。
On the other hand, the light that passes through the reference spherical surface R and is reflected by the optical element to be tested (aspherical concave mirror) T, that is, the object light, travels backwards and passes through the beam splitter BS.
The 0th-order light that passes through the beam splitter BS and is not diffracted by the hologram prototype is cut off by the spatial filter SF, while the 1st-order diffracted light, for example, which is diffracted by the hologram prototype, passes through the aperture of the spatial filter SF and is cut off by the spatial filter SF. Interference fringes are formed on an interference screen or film with the zero-order reference light.

さらに、従来のホログラフイツク干渉計による
測定法としては、オンアクシス法とオフアクシス
法とが知られている。オンアクシス法は物体光と
参照光とを同軸にして測定する方式であり、オフ
アクシス法は物体光と参照光とが非同軸すなわ
ち、物体光の伝搬軸と参照光の伝搬軸が互いに傾
斜して交差する型式の測定法である。オンアクシ
ス法及びオフアクシス法はそれぞれに長所欠点が
あり、被検物に応じて使いわける必要がある。
Furthermore, as measurement methods using conventional holographic interferometers, on-axis methods and off-axis methods are known. The on-axis method is a method in which the object beam and the reference beam are coaxial and measurements are taken, while the off-axis method is a method in which the object beam and the reference beam are measured non-coaxially, that is, the propagation axis of the object beam and the propagation axis of the reference beam are tilted to each other. This is a type of measurement method that intersects. The on-axis method and the off-axis method each have advantages and disadvantages, and it is necessary to use them properly depending on the object to be examined.

本発明が解決しようとする問題点 オフアクシス法で測定する場合、オフアクシス
角すなわち物体光と参照光の互いの伝搬軸のなす
角は、被検物の種類や非球面度の大きさにより最
適の値が決定されるため、被検物毎にまたはそれ
に対応したホログラム原器毎に異なる。
Problems to be Solved by the Invention When measuring by the off-axis method, the off-axis angle, that is, the angle formed by the mutual propagation axes of the object beam and the reference beam, is optimal depending on the type of specimen and the degree of asphericity. Since the value of is determined, it differs for each test object or for each corresponding hologram prototype.

このため、被検物やホログラム原器を干渉計本
体にセツトする都度にオフアクシス角すなわち参
照波面発生用の光学部材例えば平面半透鏡の傾き
角(チルト量)を変えなければならない。しか
し、従来のホログラフイツク干渉計には、この参
照波面発生用光学部材のチルト量をモニターする
手段がないため、正規の参照波面の伝搬軸が得ら
れているか否かをチエツクできなかつた。
For this reason, it is necessary to change the off-axis angle, that is, the inclination angle (tilt amount) of an optical member for generating a reference wavefront, such as a flat semi-transparent mirror, each time a test object or a hologram prototype is set in the interferometer body. However, since the conventional holographic interferometer does not have a means for monitoring the amount of tilt of the optical member for generating the reference wavefront, it has not been possible to check whether or not the propagation axis of the normal reference wavefront has been obtained.

また、オンアクシス法とオフアクシス法とを一
台のホログラフイツク干渉計で兼用できるように
と望む場合、参照波面発生用光学部材のチルト量
を可変にし、オンアクシス法のときは参照波面発
生面を光軸に垂直にしなければならない。従つ
て、参照波面発生面が光軸に正確に垂直になつて
いるか否か確認する必要があるが、従来はこのオ
ンアクシス状態をチエツクする手段もなかつた。
In addition, if it is desired to be able to use both the on-axis method and the off-axis method with a single holographic interferometer, the amount of tilt of the reference wavefront generation optical member is made variable, and when the on-axis method is used, the reference wavefront generation surface is must be perpendicular to the optical axis. Therefore, it is necessary to check whether the reference wavefront generation surface is exactly perpendicular to the optical axis, but conventionally there was no means for checking this on-axis state.

このため、従来のホログラフイツク干渉計にお
いては、しばしば参照波面発生面が測定に要求さ
れる配置角度にセツトされず、測定結果に誤差が
入いる欠点があつた。
For this reason, conventional holographic interferometers have the disadvantage that the reference wavefront generation surface is often not set at the angle required for measurement, resulting in errors in the measurement results.

発明の目的 本発明の目的は、オンアクシス状態やオフアク
シス角を正確に設定できるホログラフイツク干渉
計を提供することにある。
OBJECTS OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a holographic interferometer that can accurately set the on-axis state and off-axis angle.

発明の構成 上記目的を達成するための本発明のホログラフ
イツク干渉計の構成は、光源と、該光源からの光
を平行光束として被検物に投射するためのコリメ
ーターレンズと、該コリメーターレンズの後方に
配置された参照波面発生用光学面と、前記被検物
からの反射光波面と前記参照波面発生用光学面か
らの参照波面の少なくともいずれか一方を回折さ
せるホログラム原器とから成るホログラフイツク
干渉計であつて、前記参照波面発生用光学面と前
記コリメーターレンズの光軸との交差角をモニタ
ーするためのモニター手段を有することを特徴と
することにある。
Structure of the Invention The structure of the holographic interferometer of the present invention for achieving the above object includes a light source, a collimator lens for projecting the light from the light source onto an object as a parallel beam, and the collimator lens. and a hologram prototype that diffracts at least one of the reflected light wavefront from the object to be measured and the reference wavefront from the reference wavefront generation optical surface, which is disposed behind the reference wavefront generation optical surface. The present invention is an optical interferometer characterized by having a monitoring means for monitoring an intersection angle between the reference wavefront generating optical surface and the optical axis of the collimator lens.

発明の効果 本発明によれば、参照波面発生光学面の配置角
をモニターできるため、オンアクシス法、オフア
クシス法いずれにおいても高精度測定の基礎とな
る参照波面伝搬軸の正確な位置付けができる。
Effects of the Invention According to the present invention, since the arrangement angle of the reference wavefront generating optical surface can be monitored, the reference wavefront propagation axis, which is the basis for high-precision measurement, can be accurately positioned in both on-axis and off-axis methods.

実施例 以下本発明に関するホログラフイツク干渉計の
実施例を詳述する。
Embodiments Hereinafter, embodiments of the holographic interferometer according to the present invention will be described in detail.

A 全体的光学構成 第1図に本発明に関するホログラフイツク干渉
計の光学構成の全体図を示す。光源であるレーザ
101からの光は、ミラー102a,102bに
より光路を変換された後、集光レンズ103によ
り集光される。この集光点近傍にはピンホール1
04aを有するピンホールレチクル板104が配
置されている。このピンホール104aを通過し
た発散光はピンホール104aを2次光源とする
ごとく作用する。なお、ミラー102aと102
bの間には1/4波長板105が配設されている。
A. Overall optical configuration FIG. 1 shows an overall diagram of the optical configuration of a holographic interferometer according to the present invention. Light from a laser 101 as a light source has its optical path changed by mirrors 102a and 102b, and then is condensed by a condenser lens 103. There is a pinhole near this focal point.
A pinhole reticle plate 104 having a diameter of 04a is arranged. The diverging light passing through the pinhole 104a acts as if the pinhole 104a were a secondary light source. Note that the mirrors 102a and 102
A 1/4 wavelength plate 105 is disposed between the wavelengths b.

コリメータレンズ106が、その焦点がピンホ
ール104aに位置するように配設されている。
ピンホール104aを二次光源としてピンホール
104aから射出された光束は、コリメータレン
ズ106により平行光束とされる。コリメータレ
ンズ106の後方には参照平面板107が配置さ
れている。この参照平面板107は前側平面10
7aが装置光軸(コリメータ光軸)O1に対し垂
直になるように配置されている。また、その後側
平面107bは前側平面107aに対し微小角度
傾斜しており、前側平面107aでの反射光と後
側平面107bでの反射光との互いの干渉光が測
定に影響を与えないようになつている。
A collimator lens 106 is arranged so that its focal point is located at the pinhole 104a.
A light beam emitted from the pinhole 104a using the pinhole 104a as a secondary light source is made into a parallel light beam by a collimator lens 106. A reference plane plate 107 is arranged behind the collimator lens 106. This reference plane plate 107 is the front plane 10
7a is arranged perpendicular to the apparatus optical axis (collimator optical axis) O1 . Further, the rear plane 107b is inclined at a small angle with respect to the front plane 107a, so that interference light between the light reflected from the front plane 107a and the light reflected from the rear plane 107b does not affect the measurement. It's summery.

被検物Tが例えば非球面凹面鏡のような凹面物
体である場合、参照平面板107の後方には、参
照レンズ109が装置鏡筒108に取付けられて
配置される。参照平面板107を透過した平行光
束は集束光束となり、点Pで一度点収束した後、
再び発散光となつて被検物例えば非球面凹面鏡T
に入射する。
When the test object T is a concave object such as an aspherical concave mirror, a reference lens 109 is attached to the apparatus lens barrel 108 and arranged behind the reference plane plate 107 . The parallel light beam transmitted through the reference plane plate 107 becomes a convergent light beam, and after converging once at point P,
It becomes diverging light again and hits the object to be inspected, for example, an aspherical concave mirror T.
incident on .

被検物Tから反射された物体光と、参照平面板
107の前側平面107aから反射された参照光
とは、ピンホールレチクル板104とコリメータ
ーレンズ106との間にそのハーフミラー面11
0aを光軸O1に対し傾設したプリズム型ビーム
スプリツタ110に入射する。物体光と参照光は
ともにハーフミラー面110aで反射され、後述
するホログラム原器ホルダー200に支持された
ホログラム原器300に入射する。
The object light reflected from the test object T and the reference light reflected from the front plane 107a of the reference plane plate 107 are connected to the half mirror surface 11 between the pinhole reticle plate 104 and the collimator lens 106.
0a is incident on a prism type beam splitter 110 tilted with respect to the optical axis O1 . Both the object light and the reference light are reflected by the half mirror surface 110a and enter a hologram prototype 300 supported by a hologram prototype holder 200, which will be described later.

レーザ101、ミラー102a,102b、1/
4波長板105、ピンホールレチクル104、ズ
ームスプリツタ110、コリメータレンズ10
6、参照平面板107、参照レンズ109、被検
物T及びホログラム原器ホルダー200は1つの
共通光学ベンチ100上に設置される。
Laser 101, mirrors 102a, 102b, 1/
4-wave plate 105, pinhole reticle 104, zoom splitter 110, collimator lens 10
6. The reference flat plate 107, the reference lens 109, the test object T, and the hologram prototype holder 200 are installed on one common optical bench 100.

ホログラム原器300を透過した光は、結像レ
ンズ111、ハーフミラー112を介して空間フ
イルター113に結像される。この空間フイルタ
ー113は、参照光と物体光の内、ホログラム原
器300で回折された一方の光と、ホログラム原
器300で回折されなかつた他方の光のみを選択
的に取り出すためのものである。より具体的に述
べるならば、第22図に示す従来のフイゾー型干
渉計のように、この空間フイルター113は、例
えば参照平面板107からの参照光でホログラム
原器300により回折されなかつた0次参照光
と、被検物Tからの物体光でホログラム原器30
0で回折された一次物体光のみを選択的に取り出
し、参照光の回折光や物体光の0次及び2次以上
の高次回折光はカツトするように作用する。
The light transmitted through the hologram prototype 300 is imaged on a spatial filter 113 via an imaging lens 111 and a half mirror 112. This spatial filter 113 is for selectively extracting only one of the reference light and the object light that was diffracted by the hologram prototype 300 and the other light that was not diffracted by the hologram prototype 300. . To be more specific, as in the conventional Fizeau interferometer shown in FIG. A hologram prototype 30 is created using the reference light and the object light from the test object T.
It selectively extracts only the first-order object light diffracted at zero, and cuts out the diffracted light of the reference light and the zero-order, second-order and higher-order diffraction lights of the object light.

空間フイルター113で選択された物体光と参
照光は、ズームレンズ114、ハーフミラー11
5及び結像レンズ116を介してTVカメラ11
7の撮像面117a上に参照光と物体光の干渉パ
ターンを形成する。TVカメラ117の撮影像は
モニターテレビ118とパーソナルコンピユータ
で構成される干渉パターン解析装置119へ送ら
れる。なお、ハーフミラー115を透過した参照
光と物体光は、即時現像型カメラ120のフイル
ム120a上に撮像面117a上に形成されると
同様の干渉パターンを形成しこれをフイルム12
0aに記録させる。
The object light and reference light selected by the spatial filter 113 are passed through the zoom lens 114 and the half mirror 11.
5 and the TV camera 11 via the imaging lens 116.
An interference pattern between the reference light and the object light is formed on the imaging surface 117a of No. 7. The image captured by the TV camera 117 is sent to an interference pattern analysis device 119 consisting of a monitor television 118 and a personal computer. Note that the reference light and object light that have passed through the half mirror 115 form a similar interference pattern when formed on the imaging surface 117a of the film 120a of the instant development type camera 120.
Record on 0a.

結像レンズ111を通つた光の一部は、ハーフ
ミラー112を透過し、十字線を光軸と一致させ
て配置されたレチクル板121上に結像される。
レチクル板121上の像は撮影レンズ122を介
してTVカメラ123で撮像され、切換回路12
4を介してモニター118に写し出される。これ
らレチクル板121、撮影レンズ122、TVカ
メラ123、モニター118は、被検物Tを測定
光路中にセツトするためのアライメント光学系1
25を形成する。
A portion of the light that has passed through the imaging lens 111 is transmitted through a half mirror 112 and is imaged on a reticle plate 121 arranged with the crosshairs aligned with the optical axis.
The image on the reticle plate 121 is captured by a TV camera 123 via a photographing lens 122, and the switching circuit 12
4 on the monitor 118. These reticle plate 121, photographing lens 122, TV camera 123, and monitor 118 are connected to an alignment optical system 1 for setting the object T in the measurement optical path.
Form 25.

結像レンズ111,116、ハーフミラー11
2,115、空間フイルター113、ズームレン
ズ114、撮影レンズ122、TVカメラ11
7,123及びカメラ120は、光学ベンチ13
0上に載置される。この光学ベンチ130は、後
述するオフアクシス角調整のため、コリメータレ
ンズ107と参照レンズ109の合成光学系の射
出瞳EPと共役な点LCを中心に公知のマイクロ送
り機構131の駆動により旋回するアーム131
に固設されている。なお、被検物が平面物体の場
合は参照レンズ109は不要であり、このときは
旋回中心LCはコリメータレンズ107の射出瞳
中心と共役な位置にする。
Imaging lenses 111, 116, half mirror 11
2,115, spatial filter 113, zoom lens 114, photographic lens 122, TV camera 11
7, 123 and the camera 120 are the optical bench 13
0. This optical bench 130 has an arm that rotates by driving a known micro-feeding mechanism 131 around a point LC that is conjugate to the exit pupil EP of a composite optical system of a collimator lens 107 and a reference lens 109 in order to adjust the off-axis angle described later. 131
It is fixedly installed. Note that when the object to be inspected is a flat object, the reference lens 109 is not necessary, and in this case, the center of rotation LC is set at a position conjugate with the center of the exit pupil of the collimator lens 107.

以上述べたように、本ホログラフイツク干渉計
の型式はフイゾー型であるから、光学要素数をト
ワイマン・グリーン型やマツハツエンダー型より
も大幅に低減できる。また本干渉計は、従来のフ
イゾー型干渉計と異なり、そのビームスプリツタ
をコリメータレンズとピンホール104aの間の
発散光束中に配置したため、コリメータレンズに
よる平行光束中にビームスプリツタを設ける従来
のものに比してそのハーフミラー面の面積を1/4
程度に小さくできる。
As described above, since the present holographic interferometer is of the Fizeau type, the number of optical elements can be significantly reduced compared to the Twyman-Green type and Matsuhatsu-Ender type. Furthermore, unlike the conventional Fizeau type interferometer, this interferometer has its beam splitter placed in the diverging beam between the collimator lens and the pinhole 104a. The area of the half mirror surface is 1/4 compared to that of the original.
It can be made as small as possible.

さらに、このハーフミラー面の狭小化によりビ
ームスプリツタをプリズム型で構成でき、後述す
るように、ホログラムパターン描画のための演算
情報、描画情報の減少化を実現できる。また、ビ
ームスプリツタが小型になつたため、その製作精
度を著しく高めることができ、またその製作コス
トも低減できる。
Furthermore, by narrowing the half mirror surface, the beam splitter can be constructed in a prism type, and as will be described later, it is possible to reduce calculation information and drawing information for drawing a hologram pattern. Furthermore, since the beam splitter has become smaller, its manufacturing precision can be significantly improved, and its manufacturing cost can also be reduced.

さらにまた、ホログラム原器もこのビームスプ
リツタによる収束反射光束内に配置する構成とし
たため、小型化でき、コスト低減かつ高精密描画
を可能にしている。これにより、大口径の被検物
や非球面度の大きい非球面被検物をも高精度に測
定できるホログラフイツク干渉計が実現できた。
Furthermore, since the hologram prototype is also arranged within the convergence and reflection beam of the beam splitter, it is possible to reduce the size, reduce costs, and achieve high-precision drawing. This has made it possible to create a holographic interferometer that can measure with high precision even large-diameter test objects and highly aspherical test objects.

B ホログラム原器 第2図はホログラム原器の構成を示す平面図で
ある。ホログラム原器300は中央に計算機ホロ
グラムよりなるホログラムパターン部301を有
する。従来の干渉計は参照光と物体光の分離合成
にミラー型のビームスプリツタを利用していた。
このミラー型ビームスプリツタの場合、ミラー表
面とミラー裏面(ハーフミラー面)が平行に形成
されているとそれぞれの面で反射した光が互いに
干渉して測定に悪影響を与えるため、従来のミラ
ー型ビームスプリツタはミラー表面とミラー裏面
を平行にせず微小角傾斜させていた。このため光
軸に対する対称性がくずれるため、従来たとえオ
ンアクシス型のホログラム原器であつても、その
ホログラムパターンは、全象限について計算して
描画データを得なければならなかつた。しかし、
本ホログラフイツク干渉計では、ビームスプリツ
タ110は前述したようにプリズム型ビームスプ
リツタであるから、光軸に対する対称性が保存さ
れており、オンアクシス型ホログラム原器のホロ
グラムパターンは同心円パターンとなりかつ点対
称となる。このため、そのパターン計算及び描画
データの演算は、第4図に示すように、(x,y)
の第1象限についてのみ行い、他の(−x,y)、
(−x,−y)、(x,−y)の第2、第3、第4象
限については第1象限のデータを単純に座標変換
すればよく、演算経費、演算時間の短縮と、描画
データの低減をすることができる。逆に、従来と
同程度の経費と時間をホログラムパターンの演算
と描画データの作成に費すならば、それらデータ
はより高精度なものとなりうる。
B Hologram Prototype Figure 2 is a plan view showing the configuration of the hologram prototype. The hologram prototype 300 has a hologram pattern section 301 made of a computer-generated hologram in the center. Conventional interferometers use mirror-type beam splitters to separate and combine the reference beam and object beam.
In the case of this mirror type beam splitter, if the mirror surface and mirror back surface (half mirror surface) are formed in parallel, the light reflected from each surface will interfere with each other and adversely affect the measurement. The beam splitter had the mirror surface and mirror back surface not parallel to each other but tilted at a slight angle. As a result, the symmetry with respect to the optical axis is disrupted, and conventionally, even in the case of an on-axis hologram prototype, the hologram pattern had to be calculated for all quadrants to obtain drawing data. but,
In this holographic interferometer, the beam splitter 110 is a prism type beam splitter as described above, so symmetry with respect to the optical axis is preserved, and the hologram pattern of the on-axis hologram prototype is a concentric circle pattern. Point symmetry. For this reason, the pattern calculation and drawing data calculation are performed using (x, y) as shown in Figure 4.
This is done only for the first quadrant of , and the other (-x, y),
For the second, third, and fourth quadrants of (-x, -y) and (x, -y), it is sufficient to simply coordinate transform the data in the first quadrant, reducing calculation costs and calculation time, and rendering Data can be reduced. On the other hand, if the same amount of expense and time as in the past is spent on calculating hologram patterns and creating drawing data, those data can have higher precision.

ホログラムパターン部301の周囲には、ホロ
グラムパターンを電子ビームのスキヤンニングで
描画する行程で同時に描画された十字型の歪検査
パターン302が形成されている。この歪検査パ
ターンは予め作成されている基準パターンと照合
され、相互の位置ずれ量からホログラムパターン
の歪量を検査できるようになつている。
A cross-shaped distortion test pattern 302 is formed around the hologram pattern section 301, which is drawn at the same time as the hologram pattern is drawn by electron beam scanning. This distortion test pattern is compared with a reference pattern created in advance, and the amount of distortion of the hologram pattern can be tested from the amount of mutual positional deviation.

また、歪検査パターンの外側2か所には白黒比
検査パターン303が形成されている。この白黒
比検査パターンは、例えば第3図に示すような黒
部304と白部305を同面積で交互に平面的に
配列してなる市松模様のパターンが利用される。
この白黒比検査パターン303は、ホログラムパ
ターン301を電子ビーム描画する行程で同時に
描画されるため、この白黒比検査パターン303
の白黒比をデンシトメーターで測定すれば、ホロ
グラムパターン自体の白黒比を間接的に知ること
ができる。
Further, a black-white ratio test pattern 303 is formed at two locations outside the distortion test pattern. This black-and-white ratio test pattern is, for example, a checkered pattern in which black portions 304 and white portions 305 of the same area are alternately arranged in a plane as shown in FIG. 3.
This black-and-white ratio test pattern 303 is drawn at the same time as the hologram pattern 301 is written with an electron beam, so this black-and-white ratio test pattern 303
By measuring the black and white ratio of the hologram pattern using a densitometer, the black and white ratio of the hologram pattern itself can be indirectly known.

ホログラム原器300の四隅には、このホログ
ラム原器300をホログラム原器ホルダー200
に取付けるときの位置合せ用の十字線型の位置合
せマーク306が形成されている。図中下側の二
つの位置合せマークの下方にはL字型の上下判別
マーク307が形成されている。
The hologram prototype 300 is placed in a hologram prototype holder 200 at each corner of the hologram prototype 300.
A cross-hair-shaped alignment mark 306 is formed for alignment when attaching to. An L-shaped upper/lower discrimination mark 307 is formed below the two alignment marks on the lower side of the figure.

C ホログラム原器ホルダー 第5図ないし第7図はホログラム原器ホルダー
200を示す図である。光学ベンチ100に載置
された軸受201,202にはシヤフト203が
光軸O2(第1図参照)方向に平行に摺動可能に支
持されている。シヤフト203にはビス204,
204によりZ軸方向(光軸O2方向)移動ステ
ージ205が固着されている。軸受201にはシ
リンダー206が取付けられ、その中にバネ20
7が嵌挿されている。一方軸受202にはZ軸送
りネジ208が螺合されている。このZ軸送りネ
ジ208は鋼球209を介してバネ207と協働
してZ軸方向移動ステージ205を挟持し、その
送りによりステージ205をZ軸方向にそつて前
後させる。
C Hologram Prototype Holder FIGS. 5 to 7 are diagrams showing the hologram prototype holder 200. A shaft 203 is supported by bearings 201 and 202 placed on the optical bench 100 so as to be slidable in parallel to the optical axis O 2 (see FIG. 1). The shaft 203 has a screw 204,
A stage 205 moving in the Z-axis direction (optical axis O2 direction) is fixed by 204. A cylinder 206 is attached to the bearing 201, and a spring 20 is installed in the cylinder 206.
7 is inserted. On the other hand, a Z-axis feed screw 208 is screwed into the bearing 202 . This Z-axis feed screw 208 cooperates with the spring 207 via a steel ball 209 to clamp the Z-axis direction moving stage 205, and by its feeding, the stage 205 is moved back and forth along the Z-axis direction.

Z軸方向移動ステージ205のステージ面20
5aには鋼球210を介してX−Y方向移動ステ
ージ211が載置されている。このステージ21
1の裏面には、第6図に示すように、ビス212
が植設されており、Z軸方向移動ステージ205
に形成された開口213の後部に渡された棒21
4との間にバネ215が掛けられている。このバ
ネ215の引張力によりX−Y方向移動ステージ
211はZ軸方向移動ステージ205のステージ
面205a方向に引き付けられ、移動面の安定が
図られる。
Stage surface 20 of Z-axis direction movement stage 205
An XY direction moving stage 211 is placed on 5a via a steel ball 210. This stage 21
On the back side of 1, there are screws 212 as shown in Figure 6.
is implanted, and the Z-axis direction moving stage 205
The rod 21 passed to the rear of the opening 213 formed in
A spring 215 is hung between the 4 and 4. The tensile force of the spring 215 pulls the X-Y direction moving stage 211 toward the stage surface 205a of the Z-axis direction moving stage 205, thereby stabilizing the moving surface.

またZ軸方向移動ステージ205には、第5図
に示すように、2つのY軸送りネジ216,21
7と1つのX軸送りネジ218とが取付けられて
いる。X−Y方向移動ステージ211の側面はベ
アリング219を介してガイド220を有してお
り、これらガイド220は鋼球221を介して送
りネジ216,217,218により押圧されて
いる。
Further, the Z-axis direction moving stage 205 has two Y-axis feed screws 216, 21, as shown in FIG.
7 and one X-axis feed screw 218 are attached. The side surface of the XY direction moving stage 211 has guides 220 via bearings 219, and these guides 220 are pressed by feed screws 216, 217, 218 via steel balls 221.

X−Y方向移動ステージ211は、さらにX軸
送りネジ218の取付位置と対向側部に切欠部2
22を有している。切欠部222の側面とZ軸方
向移動ステージ205の起立片224との間には
弾圧体223が挿着されている。
The X-Y direction moving stage 211 further has a notch 2 on the side opposite to the mounting position of the X-axis feed screw 218.
It has 22. A resilient body 223 is inserted between the side surface of the notch 222 and the upright piece 224 of the Z-axis direction moving stage 205.

弾圧体223は、第6図に示すように、シリン
ダ225と、そのシリンダ内に挿入されたピスト
ン226と、このピストン226に常時押圧力を
与えるためにシリンダ225内に嵌挿されたバネ
227とから構成されている。
As shown in FIG. 6, the elastic body 223 includes a cylinder 225, a piston 226 inserted into the cylinder, and a spring 227 inserted into the cylinder 225 to constantly apply a pressing force to the piston 226. It consists of

同様に、ステージ211は切欠部228,22
9がY軸送りネジ216,217に対向して形成
されており、ステージ205の起立片230,2
31とこれら切欠部の側面との間に弾圧体23
2,233を介在させている。弾圧体232,2
33の構成は前記弾圧体223と同様である。
Similarly, the stage 211 has notches 228 and 22
9 are formed facing the Y-axis feed screws 216, 217, and the upright pieces 230, 2 of the stage 205
31 and the sides of these notches, the elastic body 23
2,233 are interposed. Pressure body 232,2
The structure of 33 is the same as that of the elastic body 223 described above.

上述のホログラム原器ホルダーの構成におい
て、送りネジ216,217の同方向、同量の送
りによつて、ステージ211は、第10B図に示
すように、移動量Yをうる。また、送りネジ21
8の送りによつて、ステージ211は、第10A
図に示すように移動量Xを得る。さらに、送りネ
ジ216,218を固定し、送りネジ217のみ
を送ることによつて、第10C図に示すように、
ステージ211は回転角θの回動がなされる。
In the configuration of the hologram prototype holder described above, by feeding the feed screws 216 and 217 in the same direction and by the same amount, the stage 211 can move an amount Y as shown in FIG. 10B. In addition, the feed screw 21
8, the stage 211 moves to the 10th A.
The amount of movement X is obtained as shown in the figure. Furthermore, by fixing the feed screws 216 and 218 and feeding only the feed screw 217, as shown in FIG. 10C,
The stage 211 is rotated by a rotation angle θ.

X−Y方向移動ステージ211は、その中央に
略矩形の開口部235を有し、左上隅と右下隅に
円形開口236,237が形成されている。これ
ら円形開口236,237はZ軸方向移動ステー
ジ205に形成された開口238と対応してい
る。開口238には、ホログラム原器300上の
位置合せマーク304を観察するための顕微鏡用
対物レンズ240が挿着されている。
The X-Y direction moving stage 211 has a substantially rectangular opening 235 at its center, and circular openings 236 and 237 at the upper left corner and lower right corner. These circular openings 236 and 237 correspond to an opening 238 formed in the Z-axis direction movement stage 205. A microscope objective lens 240 for observing the alignment mark 304 on the hologram prototype 300 is inserted into the opening 238 .

またステージ211の開口部235の周辺には
円形の溝241が形成されており、この溝には図
示なき真空ポンプのノズル242がパイプ243
を介して連結されている。さらにステージ211
の外側面にはガイド片244が固着されている。
これによりホログラム原器300はガイド片にそ
つてステージ211上に載置され真空ポンプで溝
241内の空気を吸収することによりステージ2
11上に大気圧で密着される。
Further, a circular groove 241 is formed around the opening 235 of the stage 211, and a nozzle 242 of a vacuum pump (not shown) is inserted into the pipe 243.
are connected via. Furthermore stage 211
A guide piece 244 is fixed to the outer surface of the holder.
As a result, the hologram prototype 300 is placed on the stage 211 along the guide piece, and the air in the groove 241 is absorbed by the vacuum pump.
11 at atmospheric pressure.

シヤフト203の先端及びステージ205に植
設されたポール245の先端にはアーム246,
247が取付けられており、そのアーム246,
247の先端には、発光ダイオード248と熱線
吸収フイルター249とがそれぞれ収納されてお
り、ステージ211上に載置されたホログラム原
器の位置合せマーク304の照明に利用される。
An arm 246 is attached to the tip of the shaft 203 and the tip of the pole 245 implanted in the stage 205.
247 is attached, and its arm 246,
A light emitting diode 248 and a heat ray absorption filter 249 are housed at the tips of the holograms 247, respectively, and are used to illuminate the alignment marks 304 of the hologram prototype placed on the stage 211.

第8図は、上述の構成をもつホログラム原器ホ
ルダー200に取付けられたホログラム原器アラ
イメント用光学系250を模式的に示す斜視図で
ある。アライメント用光学系250は、上述した
発光ダイオード248、熱線吸収フイルター24
9、対物レンズ240、ミラー251及びビーム
スプリツタ252からなる第1光路253と、発
光ダイオード248、熱線吸収フイルター24
9、対物レンズ240、ミラー251及びビーム
スプリツタ252からなる第2光路255と、第
1光路253と第2光路255のビームスプリツ
タ252で合成された接眼光路256とから構成
されている。
FIG. 8 is a perspective view schematically showing a hologram prototype alignment optical system 250 attached to the hologram prototype holder 200 having the above-described configuration. The alignment optical system 250 includes the above-mentioned light emitting diode 248 and heat ray absorption filter 24.
9. A first optical path 253 consisting of an objective lens 240, a mirror 251, and a beam splitter 252, a light emitting diode 248, and a heat absorption filter 24
9, a second optical path 255 consisting of an objective lens 240, a mirror 251, and a beam splitter 252; and an eyepiece optical path 256, in which the first optical path 253 and the second optical path 255 are combined by the beam splitter 252.

この接眼光路256は図示しない公知の移動手
段で光軸O3と垂直な平面(x−y平面)内で移
動するレチクル板257,258と接眼レンズ2
59とを有し、レチクル板257,258には第
9図に示すような円形指標260,261が形成
されている。
This eyepiece optical path 256 is connected to reticle plates 257 and 258 that move within a plane (xy plane) perpendicular to the optical axis O 3 and the eyepiece lens 2 by a known moving means (not shown).
59, and circular indicators 260, 261 as shown in FIG. 9 are formed on the reticle plates 257, 258.

以上述べたように、本ホログラム原器ホルダー
によれば、従来のようにX方向移動ステージとY
軸方向移動ステージ及びθ回転用ステージの三重
ステージ構造にすることなく、これらX,Y,θ
に関する移動を1つのステージにおいて行うこと
ができる。またそのための構成も極めて簡素で、
かつ高精度の移動制御及び位置出しができる利点
を有する。
As described above, according to this hologram prototype holder, the X-direction moving stage and the Y-direction moving stage are
These X, Y, θ rotation stages can be
Movements related to can be performed in one stage. Also, the configuration for this is extremely simple,
It also has the advantage of allowing highly accurate movement control and positioning.

D オフアクシス量の測定装置 干渉計による測定法には、通常オンアクシス型
の測定法とオフアクシス型の測定法がある。
D Measuring device for off-axis quantities Measurement methods using interferometers generally include on-axis measurement methods and off-axis measurement methods.

オンアクシス型は被検物からの物体光と参照平
面からの参照光が同軸な測定型式を言い、測定に
使用するホログラム原器の空間周波数を低くでき
るため、非球面度の大きな被検物も測定できるメ
リツトを持つ。しかし反面、ホログラム原器によ
る0次から高次までの回折光が、その焦点距離は
異なるけれどもすべて光軸上に重畳され、例えば
一次回折光を取り出すためにその焦点位置に空間
フイルターを配置しても、そのフイルター内を0
次や2次以上の高次回折光の一部もこの空間フイ
ルターを通過する。そのため、光軸を含む中心部
が測定不可能部となる欠点がある。
The on-axis type refers to a measurement type in which the object light from the test object and the reference light from the reference plane are coaxial, and because the spatial frequency of the hologram prototype used for measurement can be lowered, it can also be used for test objects with a large degree of asphericity. It has measurable benefits. However, on the other hand, the diffracted light from the 0th order to the higher order by the hologram prototype is all superimposed on the optical axis, although their focal lengths are different.For example, in order to extract the first order diffracted light, a spatial filter is placed at the focal position. Also, the inside of that filter is 0
A portion of the second and higher order diffraction light also passes through this spatial filter. Therefore, there is a drawback that the central part including the optical axis becomes an unmeasurable part.

一方、オフアクシス型は、上記オンアクシス型
のような測定不可能部は生じないが、オンアクシ
ス型に比してホログラム原器の空間周波数が高く
なるため、ホログラム原器の製作とアライメント
上の制約から、例えば非球面度の小さな非球面被
検物しか測定できない。
On the other hand, with the off-axis type, unlike the on-axis type mentioned above, unmeasurable parts do not occur, but because the spatial frequency of the hologram prototype is higher than that with the on-axis type, it is difficult to manufacture and align the hologram prototype. Due to limitations, for example, only aspherical objects with small degrees of asphericity can be measured.

さらにオフアクシス角は、被検物の種類や非球
面度の量により異なるため、ホログラム原器を作
成するときは予め最適なオフアクシス角を決めて
作成する。そこで、本実施例のホログラフイツク
干渉計は、オンアクシス及びオフアクシスの両型
式の測定が可能でかつオフアクシス角を可変にし
た干渉計として構成されている。
Furthermore, since the off-axis angle varies depending on the type of object and the amount of asphericity, when creating a hologram prototype, the optimal off-axis angle is determined in advance. Therefore, the holographic interferometer of this embodiment is configured as an interferometer that is capable of both on-axis and off-axis measurements and has a variable off-axis angle.

第11図は、オンアクシス測定とオフアクシス
測定を模式的に示す光学配置図である。オンアク
シス測定の場合は、参照平面板107はコリメー
ターレンズ106の光軸O1に垂直に配位される。
物体光と参照光の干渉パターンを観察するための
観察光学系すなわち空間フイルター113、ズー
ムレンズ114、結像レンズ116及び撮像管1
17は、光軸O1と垂直に交わる光軸O2上に配列
される。
FIG. 11 is an optical layout diagram schematically showing on-axis measurement and off-axis measurement. For on-axis measurements, the reference plane plate 107 is aligned perpendicular to the optical axis O 1 of the collimator lens 106 .
An observation optical system for observing the interference pattern between the object light and the reference light, that is, a spatial filter 113, a zoom lens 114, an imaging lens 116, and an imaging tube 1.
17 are arranged on the optical axis O2 perpendicular to the optical axis O1 .

物体光及び参照光のそれぞれのホログラム原器
300による回折光のうちの1次回折光の焦点位
置には、空間フイルター113が配置されてお
り、物体光と参照光それぞれの1次回折光どうし
の干渉縞を撮像管で受像しあるいは写真撮影する
ことになる。
A spatial filter 113 is arranged at the focal position of the first-order diffracted light of the diffracted light by the hologram prototype 300 of each of the object light and reference light, and interference fringes between the first-order diffracted light of the object light and reference light are formed. This will be imaged with an image pickup tube or photographed.

他方、オンアクシス測定の場合は、破線で示す
ように、参照平面107を角度α回転させる(こ
の角度αをオフアクシス角という)。観察光学系
は旋回中心LCを中心に光学ベンチ130ととも
に角度β旋回される。ここで旋回角βは tanβ=2f tan α/L (ここでfはコリメーターレンズの焦点距離) として定められる。
On the other hand, in the case of on-axis measurement, the reference plane 107 is rotated by an angle α (this angle α is referred to as an off-axis angle), as shown by a broken line. The observation optical system is rotated by an angle β together with the optical bench 130 about the rotation center LC. Here, the turning angle β is determined as tanβ=2f tan α/L (here, f is the focal length of the collimator lens).

これにより、物体光のホログラム原器300に
よる1次回折光と参照光の0次回折光のみが空間
フイルター113′(オフアクシス時の空間フイ
ルター113のこと)を通過し、両方の干渉縞を
観察、撮影できるように構成されている。
As a result, only the 1st-order diffracted light of the object light by the hologram prototype 300 and the 0th-order diffracted light of the reference light pass through the spatial filter 113' (spatial filter 113 during off-axis), and both interference fringes are observed and photographed. It is configured so that it can be done.

オフアクシス角αは参照平面からの反射光(参
照光)のうちビームスプリツタ110のハーフミ
ラー面110aを透過し、ピンホールレチクル1
04上に出来る像Sの結像位置から知ることがで
きる。すなわち、結像位置と光軸O1とのずれ量
は微小角のオフアクシス角αに比例する。
The off-axis angle α is such that the reflected light (reference light) from the reference plane passes through the half mirror surface 110a of the beam splitter 110 and is reflected by the pinhole reticle 1.
This can be determined from the imaging position of the image S formed on 04. That is, the amount of deviation between the imaging position and the optical axis O 1 is proportional to the small off-axis angle α.

第12図はピンホールレチクル104の構造を
示す平面図である。レチクル104の一端にはピ
ンホール104aが形成され、そこから他端側へ
長手方向にそつてスケール401が形成されてい
る。スケール401はオフアクシス角αに対応す
るスポツトSの光軸O1(ピンホール104aの中
心)からのずれ量に応じて目盛付けされ、それら
目盛の下方にオフアクシス角の目盛数字402が
印字してある。
FIG. 12 is a plan view showing the structure of the pinhole reticle 104. A pinhole 104a is formed at one end of the reticle 104, and a scale 401 is formed along the longitudinal direction from there to the other end. The scale 401 is graduated according to the amount of deviation of the spot S from the optical axis O 1 (the center of the pinhole 104a) corresponding to the off-axis angle α, and scale numbers 402 of the off-axis angle are printed below these graduations. There is.

第13図は、オフアクシス角αをセツトすると
きに利用するオフアクシス角調整用顕微鏡410
の光学配置を示す図である。顕微鏡410は対物
レンズ411を有し、レチクル104上のスケー
ル401及びオフアクシス角の目盛数字402か
らの光を平行光にし、ミラー412で反射したの
ち結像レンズで絞り414上に結像する。接眼レ
ンズ415を介してスケール像とオフアクシス角
の目盛数字像とを観察する。
FIG. 13 shows an off-axis angle adjusting microscope 410 used when setting the off-axis angle α.
FIG. The microscope 410 has an objective lens 411, converts light from a scale 401 on the reticle 104 and off-axis angle scale numbers 402 into parallel light, reflects it on a mirror 412, and forms an image on an aperture 414 with an imaging lens. A scale image and an off-axis scale numeral image are observed through the eyepiece 415.

第14図はオンアクシス用調整顕微鏡420の
光学配置を示している。前述のオフアクシス角調
整用顕微鏡410との構成上の相異は、ミラー4
12がハーフミラー421に変更され、かつ対物
レンズ411がなく、干渉計の集光レンズ103
が結像レンズ413と協働して結像作用をする点
である。
FIG. 14 shows the optical arrangement of the on-axis adjustment microscope 420. The difference in configuration from the off-axis angle adjustment microscope 410 described above is that the mirror 4
12 is changed to a half mirror 421, and there is no objective lens 411, and the condensing lens 103 of the interferometer
The point is that it works together with the imaging lens 413 to form an image.

ピンホールレチクル104のスケール401の
走り方向を参照平面板107の回転方向と平行に
したことにより、スポツトSがスケール401か
ら上下方向にずれて投影された場合は、参照平面
板107の面倒れや、光軸O1回わりの回転が発
生していると判別できるから、これらのチエツク
もできる。
If the running direction of the scale 401 of the pinhole reticle 104 is made parallel to the rotating direction of the reference flat plate 107, and the spot S is projected with a vertical deviation from the scale 401, the surface of the reference flat plate 107 may be tilted or , since it can be determined that the optical axis O has rotated by one rotation, these checks can also be made.

E 干渉計の調整方法 a オンアクシス測定型式の場合のセツトアツプ (測定光学系のオンアクシス型配列) a−1: オンアクシス用調整顕微鏡420を
第1図に2点鎖線で示すように、コリメータ
ーレンズ106の光軸O1上にセツトする。
E Interferometer adjustment method a Setup for on-axis measurement type (on-axis type arrangement of measurement optical system) a-1: Adjust the on-axis adjustment microscope 420 with a collimator as shown by the two-dot chain line in Figure 1. Set it on the optical axis O1 of the lens 106.

a−2: 顕微鏡420のハーフミラー421
を透過し集光レンズ103でピンホール10
4a上に集光された光束の参照平面板107
による反射スポツト像Sが再びピンホール1
04a上に結像されたかどうかを接眼レンズ
415で観察する。
a-2: Half mirror 421 of microscope 420
It passes through the pinhole 10 with the condensing lens 103.
Reference plane plate 107 for the light beam focused on 4a
The reflected spot image S is again pinhole 1.
It is observed through the eyepiece lens 415 whether the image is formed on 04a.

スポツトSがピンホール104aと一致し
たときのみスポツト光は接眼レンズ415で
観察される。接眼レンズ415を通してスポ
ツトSが観察できるように参照平面板107
を調整する。スポツトSが観察されたとき参
照平面板107は光軸O1と垂直になり、干
渉計はオンアクシス型配列となる。
The spot light is observed by the eyepiece lens 415 only when the spot S coincides with the pinhole 104a. A reference plane plate 107 is installed so that the spot S can be observed through the eyepiece lens 415.
Adjust. When the spot S is observed, the reference plane plate 107 is perpendicular to the optical axis O1 , and the interferometer is in an on-axis arrangement.

(調整用レンズのセツテイング) a−3: 切換スイツチ124を切り換えてア
ライメント光学系125のTVカメラ123
からの映像がモニターテレビ118に写し出
されるようにセツトする。
(Setting the adjustment lens) a-3: Switch the changeover switch 124 to set the TV camera 123 of the alignment optical system 125.
The monitor TV 118 is set so that images from the TV are displayed on the monitor TV 118.

モニターテレビ118には、参照平面板1
07からのピンホール104aと共役なスポ
ツト像がレチクル板121の十字線の交点と
合致している状況が写し出される。
The monitor television 118 has a reference flat plate 1.
A situation is shown in which the spot image conjugate to the pinhole 104a from 07 matches the intersection of the crosshairs on the reticle plate 121.

a−4: 干渉計の装置鏡筒108に参照レン
ズ109を有する参照レンズホルダー109
aを図示せぬ公知の保持手段で取付ける。
a-4: Reference lens holder 109 having a reference lens 109 in the device lens barrel 108 of the interferometer
A is attached using a known holding means (not shown).

a−5: 調整ミラー501を有するホルダー
500の基準面502が、参照レンズホルダ
ー109aの基準面109b(第15A図参
照)に当接するように、ホルダー500を取
付けネジ503で参照レンズホルダー109
aに取付ける。
a-5: Attach the holder 500 to the reference lens holder 109 with the mounting screw 503 so that the reference surface 502 of the holder 500 having the adjustment mirror 501 contacts the reference surface 109b (see FIG. 15A) of the reference lens holder 109a.
Attach to a.

a−6: 光学ベンチ100上にオートコリメ
ーター510を載置し、第15B図に示すよ
うに、その十字線ターゲツト511がレチク
ル512の丸指示512aと一致するよう、
オートコリメーター510を調整用ミラー5
01に正対させる。この後、このオートコリ
メーター510が動かないように光学ベンチ
100上に固定する。
a-6: Place the autocollimator 510 on the optical bench 100, and as shown in FIG.
Mirror 5 for adjusting autocollimator 510
Directly face 01. Thereafter, this autocollimator 510 is fixed on the optical bench 100 so that it does not move.

a−7: 調整用ミラー501をホルダー50
0ごと参照レンズホルダー109aから取り
はずす。
a-7: Place the adjustment mirror 501 into the holder 50
0 from the reference lens holder 109a.

a−8: 公知の図示なき5軸ホルダー(x,
y,z,φA,φBの5軸;φA,φBは横方向及
び縦方向の傾斜方向を示す)に保持された調
整用レンズ520を、参照レンズ109とオ
ートコリメーター510の間に配置する。こ
のとき、調整用レンズ520は、第15A図
に示すように、調整用レンズ520の球面波
520aを発生するための球面521の曲率
中心Q1が参照レンズ109の焦点Fと一致
し、かつ調整用レンズの平面522がオート
コリメーターの光軸O5と垂直になるように
配置される。
a-8: Known five-axis holder (not shown) (x,
The adjustment lens 520 held in the five axes of y, z, φ A , φ B ; φ A and φ B indicate horizontal and vertical tilt directions) is placed between the reference lens 109 and the autocollimator 510 . Place it in At this time, as shown in FIG. 15A, the adjustment lens 520 has a center of curvature Q 1 of the spherical surface 521 for generating the spherical wave 520a of the adjustment lens 520, which coincides with the focal point F of the reference lens 109, and The plane 522 of the lens is arranged perpendicular to the optical axis O 5 of the autocollimator.

この調整用レンズ520のセツテイング
は、モニターテレビ118に写し出される参
照平面板107からの参照光と、調整用レン
ズ520の球面521からの物体光(球面
波)との干渉縞を一色状態にすることにより
粗な位置出しを行い、続いて、オートコリメ
ーターの接眼視察像によりターゲツト像51
1とレチクル像512aとを一致させること
により精密位置出しを行う。
The adjustment lens 520 is set so that the interference fringes between the reference light from the reference plane plate 107 projected on the monitor television 118 and the object light (spherical wave) from the spherical surface 521 of the adjustment lens 520 are made to be one color. Then, the target image 51 is determined using the autocollimator's eyepiece observation image.
1 and the reticle image 512a, precise positioning is performed.

(整用ホログラム原器のセツテイング) a−9: 調整用レンズ520の非球面波52
3aを発生するための非球面523が前述の
セツテイング完了位置に位置するとき、この
非球面523からの物体光と参照平面板10
7からの参照光とによる干渉で発生した干渉
パターンから成る調整用ホログラム原器、ま
たはそのような干渉パターンを計算機で演算
により求め、その演算結果に基づいて電子ビ
ーム描画法で作成した計算機ホログラムから
成る調整用ホログラム原器を、前述したホロ
グラム原器ホルダー200のX−Y方向移動
ステージ211上に真空吸着させる。
(Setting the hologram standard for adjustment) a-9: Aspherical wave 52 of the adjustment lens 520
When the aspherical surface 523 for generating 3a is located at the above-mentioned setting completion position, the object light from this aspherical surface 523 and the reference flat plate 10
An adjustment hologram prototype consisting of an interference pattern generated by interference with the reference light from 7, or a computer-generated hologram created by calculating such an interference pattern with a computer and using the electron beam writing method based on the calculation results. The hologram prototype for adjustment is vacuum-adsorbed onto the XY direction moving stage 211 of the hologram prototype holder 200 described above.

a−10: 切換スイツチ124を切り換えて、
干渉縞観察光学系のTVカメラ117の映像
がモニターテレビ118に映し出されるよう
にする。
a-10: Switch the changeover switch 124,
The image of the TV camera 117 of the interference fringe observation optical system is displayed on the monitor TV 118.

a−11: 送りネジ208,216,217及
び218を調整して、調整用レンズ520の
非球面523からの物体光(非球面波)の調
整用ホログラム原器による例えば1次回折光
と、参照平面板107からの参照光の例えば
0次回折光との空間フイルター113におけ
る干渉縞が一色状態になるようにする。これ
により調整用ホログラム原器がX,Y,Z及
びθ方向に関して調整されて位置出しが完了
した。
a-11: Adjust the feed screws 208, 216, 217, and 218 to separate the object light (aspherical wave) from the aspherical surface 523 of the adjusting lens 520 into, for example, the first-order diffracted light by the adjusting hologram prototype, and the reference plane. The interference fringes in the spatial filter 113 with, for example, the 0th order diffracted light of the reference light from the face plate 107 are made to be one color. As a result, the adjustment hologram prototype was adjusted in the X, Y, Z, and θ directions, and positioning was completed.

(測定用ホログラム原器のセツテイング) a−12: 図示しないレチクル移動ノブを調整
して、上記ステツプ(a−11)で位置出しさ
れた調整用ホログラム原器の位置合せマーク
306に、第9図に示す接眼レンズ259の
観察視野例のように、レチクル板257,2
58の円形指標260,261を合致させ
る。
(Setting the hologram prototype for measurement) a-12: Adjust the reticle moving knob (not shown) and place it on the alignment mark 306 of the hologram prototype for adjustment that was positioned in step (a-11) above, as shown in FIG. As shown in the example of the observation field of the eyepiece 259, the reticle plates 257, 2
58 circular indicators 260 and 261 are matched.

a−13: 念のため、オートコリメーター51
0を覗いてターゲツト像511とレチクル指
標512aとの合致しているか否か、すなわ
ち調整用レンズ520の位置出しされた状態
を正しく保つているか否かを再確認する。
a-13: Just in case, autocollimator 51
0 and reconfirms whether the target image 511 and the reticle index 512a match, that is, whether the adjusting lens 520 is correctly positioned.

正しく位置出しされていればステツプ(a
−9)から(a−12)のセツテイングは正し
く行なわれたと判定し、この後はオートコリ
メーター510と調整用レンズ520は不要
なので取りはずす。
If the position is correct, step (a)
It is determined that the settings from -9) to (a-12) have been performed correctly, and the autocollimator 510 and adjustment lens 520 are unnecessary after this, so they are removed.

a−14: 調整用ホログラム原器をステージ2
11から取りはずし、その代りに測定用ホロ
グラム原器300をステージ211上に載置
し、真空吸着する。
a-14: Stage 2 hologram prototype for adjustment
11, and instead, the measurement hologram prototype 300 is placed on the stage 211 and vacuum-adsorbed.

a−15: ホログラム原器ホルダーの接眼レン
ズ259を覗きながら、前記ステツプ(a−
12)で位置出しされたレチクル257,25
8の円形指標260,261とステツプ(a
−14)で載置された測定用ホログラム原器3
00の位置合せマーク306とが合致するよ
うに送りネジ216,217,218を調整
し、ステージ211ごとホログラム原器を移
動させ位置出しする。
a-15: While looking through the eyepiece lens 259 of the hologram prototype holder, follow the step (a-15).
12) Reticles 257, 25 positioned
8 circular indicators 260, 261 and step (a
-14) Measurement hologram prototype 3 mounted on
The feed screws 216, 217, and 218 are adjusted so that the hologram prototype is aligned with the alignment mark 306 of 00, and the hologram prototype is moved and positioned together with the stage 211.

(被検物のセツテイング) a−16: 被検物Tを公知の6軸ホルダー
(x,y,z,θA,θB,θの6軸:θは光軸
回わりの回転)にセツトする。
(Setting the test object) a-16: Set the test object T in a known 6-axis holder (x, y, z, θ A , θ B , θ 6 axes: θ is rotation around the optical axis). do.

a−17: 切換スイツチ124を切り換えてア
ライメント光学系125のテレビカメラ12
3からの映像がモニタテレビ118に写し出
されるようにする。モニタテレビ118の画
面上のレチクル板121の十字線像に被検面
からの一次回折スポツト光(通常0次回折光
より明るい)が合致されかつ最小のスポツト
となるように、被検物Tを保持するホルダー
を調整する。
a-17: Switch the changeover switch 124 to the television camera 12 of the alignment optical system 125.
3 is displayed on a monitor television 118. The object T is held so that the first-order diffracted spot light (usually brighter than the 0th-order diffracted light) from the test surface matches the crosshair image of the reticle plate 121 on the screen of the monitor television 118 and becomes the smallest spot. Adjust the holder.

a−18: 次に、切換スイツチ124を切り換
え、干渉縞観察光学系のテレビカメラ117
の映像をモニタテレビ118に送るようにす
る。これによりモニタテレビ118に干渉縞
を映し出し、ホルダーを微調整して干渉縞の
方向及びピツチが計測に適するようにする。
a-18: Next, switch the changeover switch 124 to turn on the television camera 117 of the interference fringe observation optical system.
The video is sent to the monitor television 118. As a result, the interference fringes are displayed on the monitor television 118, and the holder is finely adjusted so that the direction and pitch of the interference fringes are suitable for measurement.

b オフアクシス測定型式の場合のセツトアツプ オフアクシス測定型式の場合は、上述のオンア
クシス測定の場合に、さらに参照平面板107の
傾斜調整作業が追加されるだけである。この参照
平面板107の傾斜作業は、前述のオンアクシス
のセツトアツプステツプのステツプ(a−15)と
ステツプ(a−16)の間、すなわち測定用ホログ
ラム原器のセツテイング完了後に行われる。この
参照平面板の傾斜作業は以下のステツプで実行さ
れる。
b. Setup for off-axis measurement type In the case of off-axis measurement type, the work of adjusting the inclination of the reference flat plate 107 is simply added to the above-mentioned on-axis measurement. This tilting operation of the reference plane plate 107 is performed between step (a-15) and step (a-16) of the on-axis setup step described above, that is, after the setting of the hologram prototype for measurement is completed. This work of tilting the reference flat plate is carried out in the following steps.

b−1: オフアクシス調整用顕微鏡410
を、第1図に2点鎖線で示すようにピンホー
ルレチクル104のスケール401の前方で
所望のオフアクシス角の目盛数字に対応した
位置付近に配置する。次に、接眼レンズ41
5を覗きながら所望のオフアクシス角の目盛
線、例えば2.5゜の目盛線が視野中央にくるよ
うに顕微鏡の位置出しをする。
b-1: Off-axis adjustment microscope 410
is placed in front of the scale 401 of the pinhole reticle 104 near a position corresponding to the scale number of the desired off-axis angle, as shown by the two-dot chain line in FIG. Next, the eyepiece lens 41
5, position the microscope so that the scale line of the desired off-axis angle, for example, 2.5°, is in the center of the field of view.

b−2: 参照平面板107を傾けて、それに
よる反射スポツトSが所望の目盛線(例えば
2.5゜の目盛線)の交点と一致するようにす
る。参照平面板107の傾斜調整が終了した
ら顕微鏡410を取りはずす。
b-2: Tilt the reference plane plate 107 so that the reflection spot S is aligned with the desired graduation line (e.g.
2.5° scale line). When the tilt adjustment of the reference plane plate 107 is completed, the microscope 410 is removed.

b−3: 切換スイツチ124を切り換え、ア
ライメント光学系125のテレビカメラ12
3の映像がモニタテレビ118に映し出され
るようにする。そしてこのモニタテレビ11
8上に映し出されたレチクル121の十字線
の交点上に参照平面板107からの反射スポ
ツト像が合致するように、マイクロ機構13
0を操作して光学ベンチ130を旋回中心
LDを中心に回転させる。
b-3: Switch the changeover switch 124 to turn on the television camera 12 of the alignment optical system 125.
3 is displayed on the monitor television 118. And this monitor TV 11
The micro mechanism 13
0 to rotate the optical bench 130
Rotate around the LD.

実施例の変形 (1) 参照平面板107の代りに、参照レンズ10
9の最後面を利用してもよい。この場合、オフ
アクシス測定を実行するには、この参照レンズ
を傾斜させるか又は偏心させるかすればよい。
Modification of the embodiment (1) Instead of the reference plane plate 107, the reference lens 10
You may use the rearmost surface of 9. In this case, this reference lens can be tilted or decentered to perform off-axis measurements.

(2) オフアクシス角のチエツクのためのピンホー
ルレチクル104のスケール401の代りに、
第16図に示すように、ラインセンサー601
を利用し、スポツトSを直接受光し、その受光
素子位置からオフアクシス角を検出してオフア
クシス角を調整するようにしてもよい。
(2) Instead of the scale 401 of the pinhole reticle 104 for off-axis angle checking,
As shown in FIG. 16, line sensor 601
Alternatively, the off-axis angle may be adjusted by directly receiving light at the spot S and detecting the off-axis angle from the position of the light-receiving element.

(3) ホログラム原器300のセツテイングのため
の位置合せマーク306及びアライメント光学
系250の変形例は多数考えられるが、そのい
くつかを以下に簡単に述べる。
(3) There are many possible variations of the alignment mark 306 and alignment optical system 250 for setting the hologram prototype 300, some of which will be briefly described below.

(3-1) 第17図に示す例は、位置合せマー
ク306の対物レンズ240による像を直接
エリアセンサー602で受像し、その位置を
素子番地情報として記憶し、測定用ホログラ
ム原器の位置合せマークが同一素子番地に位
置するように調整する。
(3-1) In the example shown in FIG. 17, the image of the alignment mark 306 by the objective lens 240 is directly received by the area sensor 602, its position is stored as element address information, and the alignment of the measurement hologram prototype is performed. Adjust so that the marks are located at the same element address.

(3-2) 第18図に示す例は、ホログラム原
器300の位置合せマークとして中抜き円形
マーク606を利用し、アライメント光学系
250のレチクル板257,258に、この
円形マーク606とネガーポジの関係にある
黒丸マーク607を配し、その後に受光素子
608を配置する構成としている。これによ
りホログラム原器300の円形マーク606
とレチクル257,258の黒丸マーク60
7を合致させ、受光素子608からの出力が
ゼロとなるように調整用ホログラム原器をセ
ツテイング後、レチクル257,258を移
動させる。その後の測定用ホログラム原器の
セツテイングは、同様に受光素子608から
の出力がゼロになるように測定用ホログラム
原器を調整する。
(3-2) In the example shown in FIG. 18, a hollow circular mark 606 is used as the alignment mark of the hologram prototype 300, and this circular mark 606 and a negative/positive A related black circle mark 607 is arranged, followed by a light receiving element 608. As a result, the circular mark 606 of the hologram prototype 300
and black circle mark 60 on reticle 257, 258
After setting the hologram standard for adjustment so that the output from the light receiving element 608 becomes zero, the reticles 257 and 258 are moved. The subsequent setting of the measurement hologram prototype is similarly adjusted so that the output from the light receiving element 608 becomes zero.

(3-3) 第19A図は、ホログラム原器30
0の位置合せマーク306の代りに、細かい
第1の同心円マーク609を設け、またこの
第1の同心円マーク609と同一形状の第2
の同心円マーク610を、例えばZ軸方向移
動ステージ205に対物レンズ240の前方
でX−Y方向移動ステージ211の極近傍
に、対物レンズ240の光軸と垂直な平面内
で移動可能に設置した構成を示す。この第2
同心円マーク610を有する基準板608
は、両マーク609,610により生ずるモ
アレ縞611(第19B図参照)が消失する
ように移動させられる。このときの基準板6
08の調整位置を基準として、測定用ホログ
ラム原器の第1の同心円マークと基準板の第
2の同心円マークとのモアレ縞が現われない
ように測定用ホログラム原器を位置出しす
る。
(3-3) Figure 19A shows the hologram prototype 30
0 alignment mark 306, a fine first concentric mark 609 is provided, and a second concentric mark 609 having the same shape as the first concentric mark 609 is provided.
A concentric circle mark 610 is installed, for example, on the Z-axis movement stage 205 in front of the objective lens 240 and very close to the X-Y direction movement stage 211 so as to be movable within a plane perpendicular to the optical axis of the objective lens 240. shows. This second
Reference plate 608 with concentric marks 610
is moved so that moire fringes 611 (see FIG. 19B) caused by both marks 609 and 610 disappear. Reference plate 6 at this time
Using the adjustment position 08 as a reference, the measurement hologram prototype is positioned so that moire fringes between the first concentric circle mark of the measurement hologram prototype and the second concentric circle mark of the reference plate do not appear.

(3-4) 第20図に示す例は、ホログラム原
器300の位置合せマークの代りに、それを
フレネルレンズ620で構成する。すなわ
ち、光源からの光を4分割デイテクタ621
で受光し、各分割素子面からの出力が等しく
なる、すなわちデイテクタ621の中心とフ
レネルレンズ620の光軸とが一致するよう
に、デイテクタ621を移動させ、その移動
位置を基準位置として、測定用ホログラム原
器のセツテイングをする。
(3-4) In the example shown in FIG. 20, instead of the alignment mark of the hologram prototype 300, it is configured with a Fresnel lens 620. In other words, the light from the light source is divided into four by the detector 621.
The detector 621 is moved so that the output from each split element surface is equal, that is, the center of the detector 621 and the optical axis of the Fresnel lens 620 match, and the moving position is used as the reference position for measurement. Set up the hologram prototype.

なお、フレネルレンズ620に非点収差を
もたせておくとデイテクタ621の各分割素
子面からの出力差によりZ軸すなわち光軸方
向のホログラム原器のずれも調整できる。
Note that if the Fresnel lens 620 is provided with astigmatism, the deviation of the hologram prototype in the Z-axis, that is, the optical axis direction can also be adjusted by the output difference from each divided element surface of the detector 621.

(4) 調整用ホログラム原器のセツテイングにおい
て、球面521と非球面523とを有する調整
用レンズ520を利用する代りに、第21A
図、第21B図に示すように、球面521のみ
を有する調整用レンズ650を利用する。
(4) In setting the adjustment hologram prototype, instead of using the adjustment lens 520 having a spherical surface 521 and an aspheric surface 523, the 21st A.
As shown in FIG. 21B, an adjustment lens 650 having only a spherical surface 521 is used.

すなわち、まず、前述のステツプ(a−3)
からステツプ(a−8)を実行して、球面52
1の曲率中心Q1と参照レンズ109の焦点F
とを一致させ、かつ平面522がコリメーター
光軸O5と垂直になるように調整用レンズ65
0をセツテイングする。次に、この調整レンズ
650を第21B図に示すように予め定めた距
離Dだけ後退(または前進)させる。これによ
り球面522からの反射波面は完全な球面波で
なく、収差を有する、換言すれば非球面波とな
つて射出される。調整用ホログラム原器を、こ
の非球面波と参照平面板からの参照光とによる
干渉パターンとして作成しておけば、第21B
図のように調整用レンズ650を移動させた
後、前述のステツプ(a−9)ないしステツプ
(a−11)をその調整用ホログラム原器を使用
して実行することにより、その調整用ホログラ
ム原器を正しくセツテイングでき、ひいてはス
テツプ(a−12)ないしステツプ(a−15)に
より測定用ホログラム原器を正しくセツテイン
グすることができる。
That is, first, the above-mentioned step (a-3)
Then execute step (a-8) to obtain the spherical surface 52.
1 and the focal point F of the reference lens 109
The adjustment lens 65 is aligned so that the plane 522 is perpendicular to the collimator optical axis O5 .
Set to 0. Next, the adjustment lens 650 is moved backward (or advanced) by a predetermined distance D, as shown in FIG. 21B. As a result, the reflected wavefront from the spherical surface 522 is not a perfect spherical wave, but has an aberration, in other words, it is emitted as an aspherical wave. If the hologram prototype for adjustment is created as an interference pattern between this aspherical wave and the reference light from the reference plane plate, the 21st B.
After moving the adjustment lens 650 as shown in the figure, by performing the steps (a-9) to (a-11) described above using the adjustment hologram prototype, the adjustment hologram prototype can be adjusted. The device can be set correctly, and in turn, the hologram prototype for measurement can be set correctly by steps (a-12) to (a-15).

(5) 第2図及び第4図に基づいて詳述したホログ
ラム原器300のホログラムパターン301は
振幅型のホログラムパターンであるが、本発明
はこれに限定されるものでなく位相型のホログ
ラムパターンを利用してもよい。
(5) Although the hologram pattern 301 of the hologram prototype 300 detailed based on FIGS. 2 and 4 is an amplitude-type hologram pattern, the present invention is not limited to this, and the hologram pattern You may also use

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明に係るホログラフイツク干渉計
の全体を示す光学配置図、第2図はホログラム原
器の構成を示す平面図、第3図はホログラム原器
に施されている白黒比検査パターンの構成を示す
図、第4図はホログラムパターンの一例をその第
1象現について示した図、第5図はホログラム原
器ホルダーを示す正面図、第6図は第5図の−
視断面図、第7図は第5図の−視断面図、
第8図はホログラム原器ホルダーのアライメント
光学系を示す斜視光学配置図、第9図はホログラ
ム原器ホルダーのアライメント光学系の接眼視野
の一例を示す図、第10A図ないし第10C図は
ホログラム原器ホルダーの作用を示す模式図、第
11図はオンアクシス測定とオフアクシス測定の
光学配置関係を示す部分図、第12図はピンホー
ルレチクルの一例を示す図、第13図はオフアク
シス調整用顕微鏡の構成を示す光学配置図、第1
4図はオンアクシス調整用顕微鏡の構成を示す光
学配置図、第15A図は本発明のホログラフイツ
ク干渉計のセツテイング調整を説明するために参
照レンズ、調整用ミラー、調整用レンズ及びオー
トコリメーターの四者の配置関係を示す図、第1
5B図はオートコリメーターの接眼観察視野の一
例を示す図、第16図はピンホールレチクルの変
形例を示す光学配置図、第17図ないし第20図
はそれぞれホログラム原器の位置合せマーク及び
アライメント光学系の変形例を示す図、第21A
図及び第21B図は調整用ホログラム原器の他の
セツテイング方法を示す図、第22図は従来のフ
イゾー型干渉計の光学配置図である。 101……レーザー、104……ピンホールレ
チクル、106……コリメーターレンズ、107
……参照平面板、109……参照レンズ、T……
被検物、110……ビームスプリツタ、113…
…空間フイルター、117,123……テレビカ
メラ、200……ホログラム原器ホルダー、20
5……Z軸方向移動ステージ、211……X−Y
方向移動ステージ、208,216,217,2
18……送りネジ、223,232,233……
弾性体、215……スプリング、240……対物
レンズ、300……ホログラム原器、301……
ホログラムパターン、302……歪検査パター
ン、306……位置合せマーク、303……白黒
比検査パターン、410……オフアクシス調整用
顕微鏡、420……オンアクシス調整用顕微鏡、
501……調整用ミラー、520,650……調
整用レンズ、510……オートコリメーター。
Fig. 1 is an optical layout diagram showing the entire holographic interferometer according to the present invention, Fig. 2 is a plan view showing the configuration of the hologram prototype, and Fig. 3 is a black-white ratio inspection pattern applied to the hologram prototype. FIG. 4 is a diagram showing an example of a hologram pattern in its first quadrant, FIG. 5 is a front view showing a hologram prototype holder, and FIG. 6 is a diagram showing the configuration of FIG.
7 is a cross-sectional view of FIG. 5,
Fig. 8 is a perspective optical layout diagram showing the alignment optical system of the hologram prototype holder, Fig. 9 is a diagram showing an example of the ocular field of view of the alignment optical system of the hologram prototype holder, and Figs. 10A to 10C are the hologram prototype holder. A schematic diagram showing the function of the instrument holder, Figure 11 is a partial diagram showing the optical arrangement relationship for on-axis measurement and off-axis measurement, Figure 12 is a diagram showing an example of a pinhole reticle, and Figure 13 is for off-axis adjustment. Optical layout diagram showing the configuration of the microscope, 1st
Figure 4 is an optical layout diagram showing the configuration of a microscope for on-axis adjustment, and Figure 15A is an illustration of the reference lens, adjustment mirror, adjustment lens, and autocollimator to explain the setting adjustment of the holographic interferometer of the present invention. Diagram showing the placement relationship of the four parties, 1st
Figure 5B is a diagram showing an example of the eyepiece observation field of an autocollimator, Figure 16 is an optical layout diagram showing a modification of the pinhole reticle, and Figures 17 to 20 are the alignment marks and alignment of the hologram prototype, respectively. Diagram 21A showing a modification of the optical system
21B and 21B are diagrams showing another setting method of the hologram prototype for adjustment, and FIG. 22 is an optical layout diagram of a conventional Fizeau type interferometer. 101...Laser, 104...Pinhole reticle, 106...Collimator lens, 107
...Reference plane plate, 109...Reference lens, T...
Test object, 110...Beam splitter, 113...
... Spatial filter, 117, 123 ... Television camera, 200 ... Hologram prototype holder, 20
5...Z-axis direction movement stage, 211...X-Y
Directional movement stage, 208, 216, 217, 2
18...Feed screw, 223, 232, 233...
Elastic body, 215... Spring, 240... Objective lens, 300... Hologram prototype, 301...
Hologram pattern, 302...Distortion inspection pattern, 306...Alignment mark, 303...Black and white ratio inspection pattern, 410...Microscope for off-axis adjustment, 420...Microscope for on-axis adjustment,
501... Adjustment mirror, 520, 650... Adjustment lens, 510... Autocollimator.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 光源と、該光源からの光を平行光束として被
検物に投射するためのコリメーターレンズと、該
コリメーターレンズの後方に配置された参照波面
発生用光学面と、前記被検物からの反射光波面と
前記参照波面発生用光学面からの参照波面の少な
くともいずれか一方を回折させるホログラム原器
と、オンアクシス法とオフアクシス法の切替え手
段とから成るホログラフイツク干渉計であつて、
前記ホログラム原器に要求される前記参照波面の
入射角を設定するために前記参照波面発生用光学
面と前記コリメーターレンズの光軸との交差角を
モニターするためのモニター手段を有することを
特徴とするホログラフイツク干渉計。 2 前記光源が、レーザ光源と、該レーザ光源か
らの光を集光する集光レンズと、該集光レンズの
焦点位置に配置され該集光レンズからの光を選択
し二次光源となすためのピンホールとから構成さ
れ、かつ前記モニター手段が、該ピンホールの前
記参照波面発生用光学面における反射像の結像位
置をモニターすることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載のホログラフイツク干渉計。 3 前記参照波面発生用光学面が前記コリメータ
ー光軸と垂直な軸を回転軸として回動可能であ
り、また前記モニター手段が、前記ピンホールを
含む前記コリメーターの光軸と垂直な平面内にあ
り、かつ前記回転軸と垂直な方向に走る前記光学
面の回転角に対応したスケールを設けたスケール
板であることを特徴とする特許請求の範囲第2項
記載のホログラフイツク干渉計。 4 前記ピンホールが、前記スケール板に一体形
成されたことを特徴とする特許請求の範囲第3項
記載のホログラフイツク干渉計。 5 前記モニター手段が、前記スケール板上に投
影された前記反射像を前記スケールとともに拡大
観察するためのオフアクシス用顕微鏡を有してい
ることを特徴とする特許請求の範囲第3項または
第4項記載のホログラフイツク干渉計。 6 前記モニター手段が、前記反射像が前記ピン
ホール上に再投影されたか否かを観察するために
前記コリメーターレンズの光軸上に配置されたオ
ンアクシス用顕微鏡を有していることを特徴とす
る特許請求の範囲第2項記載のホログラフイツク
干渉計。 7 前記参照波面発生用光学面が、平面板である
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第
6項いずれかに記載のホログラフイツク干渉計。
[Scope of Claims] 1. A light source, a collimator lens for projecting the light from the light source onto an object as a parallel beam, and an optical surface for generating a reference wavefront disposed behind the collimator lens; A holographic interference device comprising a hologram prototype that diffracts at least one of a reflected light wavefront from the object to be inspected and a reference wavefront from the reference wavefront generation optical surface, and means for switching between an on-axis method and an off-axis method. It is a total,
In order to set the incident angle of the reference wavefront required for the hologram prototype, the hologram prototype includes monitoring means for monitoring the intersection angle between the reference wavefront generation optical surface and the optical axis of the collimator lens. A holographic interferometer. 2. The light source includes a laser light source, a condensing lens that condenses light from the laser light source, and is arranged at a focal position of the condensing lens to select light from the condensing lens and use it as a secondary light source. 2. A hologram according to claim 1, wherein the holographic device comprises a pinhole, and the monitoring means monitors the imaging position of a reflected image of the pinhole on the optical surface for generating a reference wavefront. Itsuku interferometer. 3. The reference wavefront generating optical surface is rotatable about an axis perpendicular to the optical axis of the collimator, and the monitoring means is configured to rotate within a plane perpendicular to the optical axis of the collimator including the pinhole. 3. The holographic interferometer according to claim 2, wherein the holographic interferometer is a scale plate provided with a scale corresponding to the rotation angle of the optical surface and running in a direction perpendicular to the rotation axis. 4. The holographic interferometer according to claim 3, wherein the pinhole is integrally formed with the scale plate. 5. Claim 3 or 4, wherein the monitor means includes an off-axis microscope for magnifying and observing the reflected image projected onto the scale plate together with the scale. The holographic interferometer described in section. 6. The monitoring means includes an on-axis microscope arranged on the optical axis of the collimator lens to observe whether the reflected image is re-projected onto the pinhole. A holographic interferometer according to claim 2. 7. The holographic interferometer according to any one of claims 1 to 6, wherein the reference wavefront generating optical surface is a flat plate.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS57161606A (en) * 1981-03-31 1982-10-05 Agency Of Ind Science & Technol Inline homogram displacement gauge

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