JPH0582741A - Mos capacitor - Google Patents

Mos capacitor

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JPH0582741A
JPH0582741A JP3241537A JP24153791A JPH0582741A JP H0582741 A JPH0582741 A JP H0582741A JP 3241537 A JP3241537 A JP 3241537A JP 24153791 A JP24153791 A JP 24153791A JP H0582741 A JPH0582741 A JP H0582741A
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JP
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capacitance
mos
terminal
mos transistor
source
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JP3241537A
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Japanese (ja)
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Hiroyuki Kobayashi
博之 小林
Hideyoshi Suzuki
英好 鈴木
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PURPOSE:To eliminate the voltage dependency of the capacitance of a MOS capacitor and improve the accuracy and stability of a circuit to which the MOS capacitance is applied. CONSTITUTION:The source terminal S1 and the drain terminal D1 of a first MOS transistor T1 are connected in common. The source terminal S2 and the drain terminal D2 of a second MOS transistor T2 are connected in common. The identical conductivity type, i.e., p-type or n-type, is given to both the first and second MOS transistors T1 and T2. Further, the gate terminal and the seurce/drain terminal of the one MOS transistor are conneeted to the source/ drain terminal and the gate terminal of the other respectively.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、MOSキャパシタに関
する。MOSキャパシタは、電界効果トランジスタ(F
ET:field effect transistor)素子の1種であるM
OS(metal oxide semiconductor)トランジスタを使
用した容量デバイスであり、例えばスイッチトキャパシ
タフィルタやA/D変換回路等に多用される。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a MOS capacitor. The MOS capacitor is a field effect transistor (F
M, which is a type of ET (field effect transistor) element
It is a capacitive device using an OS (metal oxide semiconductor) transistor, and is often used in, for example, a switched capacitor filter or an A / D conversion circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】図5は従来のMOSキャパシタを示す図
である。MOSトランジスタのソース端子Sとドレイン
端子Dを共通にし、このソース・ドレイン端子SDとゲ
ート端子G間に電圧VGSを加え、これらの端子間に生じ
る容量CTを利用する。
2. Description of the Related Art FIG. 5 shows a conventional MOS capacitor. The source terminal S and the drain terminal D of the MOS transistors in common, the voltage V GS applied across the source-drain terminal SD and the gate terminal G, utilizing capacitance C T generated between these terminals.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、かかる
従来のMOSキャパシタにあっては、VGSとCTの間に
相関があり、VGSの変化に伴ってCTも変化してしまう
という問題点があった。ここで、MOSトランジスタの
ゲート−ソース(又はドレイン)間容量CTの大きさ
は、ゲート酸化膜容量COと空乏層容量CDとを加えた
(直列和)値で与えられる。COは膜厚に比例するもの
の電圧依存性がなく品種毎に固定であるが、CDはチャ
ネルの形成深さ(基板内部への深さ)に依存する性質が
ある。したがって、チャネルの深さは、ゲート−ソース
(又はドレイン)間電圧に対応するから、VGSの変化に
伴ってCTも変化してしまうのである。
However, in such a conventional MOS capacitor, there is a correlation between V GS and C T , and C T also changes as V GS changes. was there. Here, the size of the gate-source (or drain) capacitance C T of the MOS transistor is given by a value (series sum) obtained by adding the gate oxide film capacitance C O and the depletion layer capacitance C D. Although C O is proportional to the film thickness but does not depend on voltage and is fixed for each type, C D has a property that depends on the channel formation depth (depth into the substrate). Therefore, since the channel depth corresponds to the gate-source (or drain) voltage, C T also changes as V GS changes.

【0004】このことは、MOSキャパシタを構成部品
の1つとする適用先回路の精度や安定性を損なう不都合
がある。そこで、本発明は、容量の電圧依存性をなくす
ことができ、適用先回路の精度や安定性を向上すること
ができるMOSキャパシタの提供を目的とする。
This has the disadvantage of impairing the accuracy and stability of the circuit to which the MOS capacitor is one of the constituent parts. Therefore, an object of the present invention is to provide a MOS capacitor that can eliminate the voltage dependence of capacitance and improve the accuracy and stability of the application circuit.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためその原理図を図1に示すように、ソース端子
1とドレイン端子D1を共通にした第1のMOSトラン
ジスタT1と、同じくソース端子S2とドレイン端子D2
を共通にした第2のMOSトランジスタT2とを具備
し、前記第1のMOSトランジスタT1および第2のM
OSトランジスタT2をpチャネル型またはnチャネル
型に統一すると共に、各々のゲート端子G1、G2とソー
ス・ドレイン端子S1、G1、S2、D2とをたすき掛けに
接続したことを特徴とする。
In order to achieve the above object, the present invention has a first MOS transistor T 1 having a common source terminal S 1 and drain terminal D 1 as shown in the principle diagram of FIG. Similarly, source terminal S 2 and drain terminal D 2
And a second MOS transistor T 2 in common with the first MOS transistor T 1 and the second MOS transistor T 2.
The OS transistor T 2 is unified into a p-channel type or an n-channel type, and the respective gate terminals G 1 and G 2 and the source / drain terminals S 1 , G 1 , S 2 and D 2 are connected in a crossed manner. Is characterized by.

【0006】[0006]

【作用】本発明では、2つのMOSトランジスタT1
2のチャネルの形成深さが、2つの電圧V1、V2に応
じて変化する。ここで、T1のゲート−ソース間電圧
(VG S1)は「V1−V2」で与えられ、同じくT2のゲー
ト−ソース間電圧(VGS2)は「V2−V1」で与えられ
る。今、V2を基準としてV1が負電圧から正電圧へと変
化する場合を考えると、この場合のT1、T2の容量曲線
はそれぞれ図2(a)(b)のようになる(但し、
1、T2をデプリーション型とした場合)。
In the present invention, two MOS transistors T 1 ,
The formation depth of the channel of T 2 changes according to the two voltages V 1 and V 2 . Here, T 1 gate - in source voltage (V GS2) of the "V 2 -V 1" - source voltage (V G S1) is given by "V 1 -V 2 ', also the gate of T 2 Given. Considering the case where V 1 changes from a negative voltage to a positive voltage with V 2 as a reference, the capacitance curves of T 1 and T 2 in this case are as shown in FIGS. 2A and 2B, respectively ( However,
(When T 1 and T 2 are depletion type).

【0007】図2(a)はT1の容量曲線である。VGS1
が負電圧領域にあるとき(V1》0)は、T1の容量CT1
はゲート酸化膜容量COとほぼ同じ値で推移するが、V
GS1がゼロ電位に近い所定の負電位点(POFF)に至る
と、CT1はこの電位点POFFを境にして増加傾向に転ず
る。この傾向は空乏層容量CDの増加によるもので、T1
のチャネルの形成深さが大きくなるからである。なお、
OFFはデプリーション型トランジスタのオフバイアス
に相当する電位である。
FIG. 2A is a capacitance curve of T 1 . V GS1
Is in the negative voltage region (V 1 >> 0), the capacitance C T1 of T 1
Varies with the gate oxide film capacitance C O , but V
When GS1 reaches a predetermined negative potential point (P OFF ) close to zero potential, C T1 turns to an increasing trend with this potential point P OFF as a boundary. This tendency is due to an increase in the depletion layer capacitance C D , and T 1
This is because the formation depth of the channel is increased. In addition,
P OFF is a potential corresponding to the off bias of the depletion type transistor.

【0008】図2(b)はT2の変化曲線である。VGS2
=V2−V1、すなわちVGS2はVGS1の逆極性で与えられ
るから、VGS1が負電圧領域にあるときはVGS2は正電圧
領域にある。VGS1が正電位方向へと変化(V1の変化と
同相)すると、VGS2はV1の変化とは逆向きの負電圧方
向へと変化する。T2の容量CT2は、VGS2の変化に伴っ
て最初に大きくだんだんと減少し、最後にゲート酸化膜
容量COとほぼ同じ値で推移する。
FIG. 2B is a change curve of T 2 . V GS2
= V 2 -V 1, i.e. V GS2 because is given by the opposite polarity V GS1, V GS2 when V GS1 is in the negative voltage region is in the positive voltage region. When V GS1 changes in the positive potential direction (in-phase with the change in V 1 ), V GS2 changes in the negative voltage direction opposite to the change in V 1 . The capacitance C T2 of T 2 first gradually decreases with a change in V GS2 , and finally changes with the same value as the gate oxide film capacitance C O.

【0009】したがって、2つのMOSトランジスタT
1、T2のそれぞれの容量曲線は、互いに補完し合うよう
な反対の形状となり、両者を加算合成してほぼフラット
な容量変化曲線(図2(c)参照)を作ることができ
る。その結果、電圧依存性のないほぼ一定値のMOSキ
ャパシタを実現できる。
Therefore, the two MOS transistors T
The respective capacitance curves of 1 and T 2 have opposite shapes so as to complement each other, and the two can be additively combined to form a substantially flat capacitance change curve (see FIG. 2C). As a result, it is possible to realize a MOS capacitor having a substantially constant value without voltage dependence.

【0010】[0010]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図3、図4は本発明に係るMOSキャパシタの一
実施例を示す図であり、1ビットのA/D変換回路への
適用例である。図3において、10はMOSキャパシタ
である。MOSキャパシタ10は、ソース端子S11とド
レイン端子D11を共通にした第1のMOSトランジスタ
11と、同じくソース端子S12とドレイン端子D12を共
通にした第2のMOSトランジスタT12とを備え、第1
のMOSトランジスタT11と第2のMOSトランジスタ
12には、例えばnチャネル型のデプリーションモード
MOSトランジスタを使用する。なお、pチャネル型で
あってもよいし、又はエンハンスメントモードMOSト
ランジスタであってもよい。要は2つのMOSトランジ
スタT11、T12の電気的特性を揃えることが重要な第1
番目のポイントである。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 3 and 4 are diagrams showing an embodiment of a MOS capacitor according to the present invention, which is an example of application to a 1-bit A / D conversion circuit. In FIG. 3, 10 is a MOS capacitor. MOS capacitor 10 includes a first MOS transistor T 11 in which the source terminal S 11 and the drain terminal D 11 in common, also a second MOS transistor T 12 in which the source terminal S 12 and the drain terminal D 12 to a common Prepared, first
For the MOS transistor T 11 and the second MOS transistor T 12 , for example, n-channel depletion mode MOS transistors are used. It may be a p-channel type or an enhancement mode MOS transistor. In short, it is important to make the electrical characteristics of the two MOS transistors T 11 and T 12 uniform.
This is the second point.

【0011】第2番目のポイントは、T11とT12をたす
き掛けに接続することである。すなわち、T11のゲート
端子G11をT12のソース・ドレイン端子SD12に接続
し、かつT12のゲート端子G12をT11のソース・ドレイ
ン端子SD11に接続することである。一方、11は第1
のスイッチ、12は第2のスイッチ、13は第3のスイ
ッチ、14はインバータゲートであり、これらの各要素
は、MOSキャパシタ10と共に、A/D変換回路の要
部を構成するものである。なお、Vi1は第1の入力電
圧、Vi2は第2の入力電圧、VOは出力電圧である。
The second point is to connect T 11 and T 12 in a cross. That is to connect the gate terminal G 11 of the T 11 to a source-drain terminal SD 12 of T 12, and connects the gate terminal G 12 of the T 12 to a source-drain terminal SD 11 of T 11. On the other hand, 11 is the first
, 12 is a second switch, 13 is a third switch, and 14 is an inverter gate, and these elements together with the MOS capacitor 10 constitute a main part of the A / D conversion circuit. Note that V i1 is the first input voltage, V i2 is the second input voltage, and V O is the output voltage.

【0012】3つのスイッチ11〜13は、図示しない
制御回路からの信号に従って、次表に示す順番でオン/
オフを繰り返す。 ステップ2で第3のスイッチ13だけをONにすると、
インバータゲート14の入出力間が接続され、入出力の
電位がインバータゲート14のしきい値相当の電位(例
えば2.5V)に固定される。ここで、インバータゲー
ト14の入力電位、言い替えればMOSキャパシタ10
の出力端電位をVbで表すと、このVbはステップ2で
2.5Vにセットされることになる。
The three switches 11 to 13 are turned on / off in the order shown in the following table according to a signal from a control circuit (not shown).
Repeat off. When only the third switch 13 is turned on in step 2,
The input and output of the inverter gate 14 are connected to each other, and the input and output potentials are fixed at a potential equivalent to the threshold value of the inverter gate 14 (for example, 2.5 V). Here, the input potential of the inverter gate 14, in other words, the MOS capacitor 10
When the output terminal potential of the above is represented by Vb, this Vb is set to 2.5V in step 2.

【0013】次に、ステップ3で第1のスイッチ11を
ONにすると、第1の入力電圧Vi1がMOSキャパシタ
10の入力端電位Vaとなり、MOSキャパシタ10の
両端に電位差ΔV(ΔV=Va−Vb)が与えられ、こ
のΔVに相当する電荷がMOSキャパシタ10の容量に
蓄積される。ステップ6では、第2のスイッチ12だけ
がONとなり、Vaに基準電位(例えばTTLのハイレ
ベル又はローレベルに相当する電位で1ビットA/D変
換器のMSB又はLSBを表すものである)が与えられ
る。例えば0V(ローレベル)が与えられると、Vbに
は0V−ΔVの電位が現れ、この電位がインバータのし
きい値(2.5V)を越えていれば、VOがローレベル
となる。あるいは、しきい値を越えていなければ、VO
がハイレベルとなる。
Next, when the first switch 11 is turned on in step 3, the first input voltage V i1 becomes the input end potential Va of the MOS capacitor 10 and the potential difference ΔV (ΔV = Va− across the MOS capacitor 10). Vb) is given, and the charge corresponding to this ΔV is accumulated in the capacitance of the MOS capacitor 10. In step 6, only the second switch 12 is turned on, and Va has a reference potential (for example, a potential corresponding to a high level or a low level of TTL that represents the MSB or LSB of the 1-bit A / D converter). Given. For example, when 0 V (low level) is applied, a potential of 0 V-ΔV appears in Vb, and if this potential exceeds the threshold value (2.5 V) of the inverter, V O becomes low level. Alternatively, if the threshold is not exceeded, V O
Becomes a high level.

【0014】すなわち、本実施例のA/D変換回路は、
MOSキャパシタ10の容量に蓄積した第1の入力電圧
i1としきい値との差電圧ΔVを、インバータゲート1
4によってレベル判定し、1ビットのディジタル信号に
変換するものである。MOSキャパシタ10の容量は、
第1のMOSトランジスタT11の容量CT11と、第2の
MOSトランジスタT12の容量CT12との並列合成容量
であるが、T1 1とT12をたすき掛けにしたことにより、
ΔVの増減に対してそれぞれの容量CT 11、CT12が相補
的に変化する。
That is, the A / D conversion circuit of this embodiment is
The difference voltage ΔV between the first input voltage V i1 accumulated in the capacitance of the MOS capacitor 10 and the threshold value is calculated by the inverter gate 1
The level is determined by 4 and converted into a 1-bit digital signal. The capacitance of the MOS capacitor 10 is
Although it is a parallel combined capacitance of the capacitance C T11 of the first MOS transistor T 11 and the capacitance C T12 of the second MOS transistor T 12 , the combination of T 1 1 and T 12 causes
The capacitances C T 11 and C T12 change in a complementary manner as the ΔV increases and decreases.

【0015】図4(a)はCT11の容量変化曲線、図4
(b)はCT12の容量変化曲線であり、ΔVの変化に伴
ってCT11とCT12が逆特性で変化している。CT11単独
で見た場合には、ハイレベルVHとローレベルVLの間に
ΔCT11の容量変動が認められる。同様にCT12単独で見
た場合にも、ハイレベルVHとローレベルVLの間にΔC
T12の容量変動が認められ、2つの変動は互いに補完し
合う形になっている。かかる容量変動は主として、T11
およびT12のゲート−ソース間電圧の変化に伴って、そ
れぞれのトランジスタの空乏層容量CDが変動するため
に引き起こされる現象であるが、一方だけの変動の場合
(前述の従来例に相当)には、インバータゲート14に
おけるしきい値判定を誤らせ、A/D変換動作を不正確
にする原因となるので問題である。
FIG. 4 (a) is a capacitance change curve of C T11 , FIG.
(B) is a capacitance change curve of C T12 , in which C T11 and C T12 change with opposite characteristics as ΔV changes. When viewed by C T11 alone, a capacitance variation of ΔC T11 is observed between the high level V H and the low level V L. Similarly, when viewing C T12 alone, ΔC is between the high level V H and the low level V L.
The capacity fluctuation of T12 is recognized, and the two fluctuations complement each other. Such capacity fluctuation is mainly due to T 11
This is a phenomenon caused because the depletion layer capacitance C D of each transistor fluctuates with the change of the gate-source voltage of T 12 and T 12 , but in the case of only one fluctuation (corresponding to the above-mentioned conventional example). This is a problem because it makes the threshold value judgment in the inverter gate 14 erroneous and makes the A / D conversion operation inaccurate.

【0016】本実施例では、一方の変動を、他方の変動
によって補完させることにより、MOSキャパシタ10
の容量の平坦化を実現している。すなわち、図4(a)
の容量変化曲線(CT11)と、図4(b)の容量変化曲
線(CT12)とを合成することにより、特に、ローレベ
ルVLとハイレベルVH間のフラット化を達成でき、イン
バータゲート14におけるしきい値判定の安定性を向上
して、A/D変換動作の正確化を高めることができる。
In this embodiment, the MOS capacitor 10 is supplemented by compensating one fluctuation with the other fluctuation.
It has realized the flattening of the capacity of. That is, FIG. 4 (a)
By synthesizing the capacitance change curve (C T11 ) of FIG. 4 and the capacitance change curve (C T12 ) of FIG. 4B, flattening between the low level V L and the high level V H can be achieved, and The stability of the threshold value judgment in the gate 14 can be improved, and the accuracy of the A / D conversion operation can be improved.

【0017】以上述べたように、本実施例では、2端子
間の印加電圧が変化した場合でも容量を一定に保つこと
ができ、電圧依存性のない優れたMOSキャパシタを提
供することができる。したがって、例えばA/D変換器
に適用すると、その精度や動作安定性を向上できるとい
う特有の効果を奏することができる。なお、実施例では
デプリーションモードのnチャネル型MOSトランジス
タを使用しているが、これに限るものではなく、エンハ
ンスメントモードであってもよく、またはpチャネル型
であってもよいことは勿論である。
As described above, in this embodiment, the capacitance can be kept constant even when the voltage applied between the two terminals changes, and an excellent MOS capacitor having no voltage dependence can be provided. Therefore, when it is applied to, for example, an A / D converter, it is possible to obtain a unique effect that its accuracy and operation stability can be improved. Although the depletion mode n-channel type MOS transistor is used in the embodiment, it is not limited to this, and it is needless to say that it may be an enhancement mode or a p-channel type. is there.

【0018】[0018]

【発明の効果】本発明によれば、容量の電圧依存性をな
くすことができ、適用先回路の精度や安定性を向上する
ことができる。
According to the present invention, the voltage dependence of capacitance can be eliminated, and the precision and stability of the circuit to which it is applied can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の原理構成図である。FIG. 1 is a principle configuration diagram of the present invention.

【図2】図1の容量変化曲線図である。FIG. 2 is a capacitance change curve diagram of FIG.

【図3】一実施例の構成図である。FIG. 3 is a configuration diagram of an embodiment.

【図4】一実施例の容量変化曲線図である。FIG. 4 is a capacitance change curve diagram of an example.

【図5】従来例の構成図である。FIG. 5 is a configuration diagram of a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、S2:ソース端子 D1、D2:ドレイン端子 G1、G2:ゲート端子 T1:第1のMOSトランジスタ T2:第2のMOSトランジスタ T11:第1のMOSトランジスタ T12:第2のMOSトランジスタS 1, S 2: the source terminal D 1, D 2: the drain terminal G 1, G 2: the gate terminal T 1: first MOS transistor T 2: second MOS transistor T 11: a first MOS transistor T 12 : Second MOS transistor

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ソース端子(S1)とドレイン端子(D1
を共通にした第1のMOSトランジスタ(T1)と、 同じくソース端子(S2)とドレイン端子(D2)を共通
にした第2のMOSトランジスタ(T2)とを具備し、 前記第1のMOSトランジスタ(T1)および第2のM
OSトランジスタ(T2)をpチャネル型またはnチャ
ネル型に統一すると共に、 各々のゲート端子(G1、G2)とソース・ドレイン端子
(S1、G1、S2、D2)とをたすき掛けに接続したこと
を特徴とするMOSキャパシタ。
1. A source terminal (S 1 ) and a drain terminal (D 1 )
A first MOS transistor (T 1 ) having a common source and a second MOS transistor (T 2 ) having a common source terminal (S 2 ) and drain terminal (D 2 ) are also provided. MOS transistor (T 1 ) and the second M
The OS transistor (T 2 ) is unified into a p-channel type or an n-channel type, and each gate terminal (G 1 , G 2 ) and source / drain terminal (S 1 , G 1 , S 2 , D 2 ) are connected. A MOS capacitor characterized by being connected in a cross.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5631492A (en) * 1994-01-21 1997-05-20 Motorola Standard cell having a capacitor and a power supply capacitor for reducing noise and method of formation
US5861648A (en) * 1997-04-03 1999-01-19 Fujitsu Limited Capacitor unit of a booster circuit whose low-voltage operating point margin can be expanded while an increase in area occupied thereby is suppressed
WO2001024277A1 (en) * 1999-09-30 2001-04-05 Infineon Technologies Ag Circuit arrangement for creating a mos capacitor with a lower voltage dependency and a lower surface area requirement
DE10207739A1 (en) * 2002-02-22 2003-09-11 Infineon Technologies Ag Integrated semiconductor circuit with a parallel connection of coupled capacitances
JP2008219946A (en) * 2008-06-02 2008-09-18 Fujitsu Ltd Semiconductor device
JP2008252029A (en) * 2007-03-30 2008-10-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor device
JPWO2007004258A1 (en) * 2005-06-30 2009-01-22 スパンション エルエルシー Semiconductor device and manufacturing method thereof

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5631492A (en) * 1994-01-21 1997-05-20 Motorola Standard cell having a capacitor and a power supply capacitor for reducing noise and method of formation
US5861648A (en) * 1997-04-03 1999-01-19 Fujitsu Limited Capacitor unit of a booster circuit whose low-voltage operating point margin can be expanded while an increase in area occupied thereby is suppressed
WO2001024277A1 (en) * 1999-09-30 2001-04-05 Infineon Technologies Ag Circuit arrangement for creating a mos capacitor with a lower voltage dependency and a lower surface area requirement
US6700149B2 (en) 1999-09-30 2004-03-02 Infineon Technologies Ag Circuit configuration for forming a MOS capacitor with a lower voltage dependence and a lower area requirement
DE10207739A1 (en) * 2002-02-22 2003-09-11 Infineon Technologies Ag Integrated semiconductor circuit with a parallel connection of coupled capacitances
JPWO2007004258A1 (en) * 2005-06-30 2009-01-22 スパンション エルエルシー Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2008252029A (en) * 2007-03-30 2008-10-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor device
JP2008219946A (en) * 2008-06-02 2008-09-18 Fujitsu Ltd Semiconductor device

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