JPH0582725A - Delay-time control circuit, and automatic wiring layout - Google Patents

Delay-time control circuit, and automatic wiring layout

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JPH0582725A
JPH0582725A JP3241543A JP24154391A JPH0582725A JP H0582725 A JPH0582725 A JP H0582725A JP 3241543 A JP3241543 A JP 3241543A JP 24154391 A JP24154391 A JP 24154391A JP H0582725 A JPH0582725 A JP H0582725A
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JP
Japan
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cell
wiring
capacitance
automatic
cells
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP3241543A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hajime Kubosawa
元 久保沢
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0582725A publication Critical patent/JPH0582725A/en
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Abstract

PURPOSE:To provide a method of automatic layout for a signal delay control circuit, in which signal delay time can be adjusted without a change of cell arrangement after the completion of automatic wiring. CONSTITUTION:Capacitor cell arrays 41-44 are arranged in wiring channel regions 31-34 between cell arrays 21-25. Before automatic layout, nets N1 and N2 liable to be affected by signal delay are specified, and an allowable delay time between the specified nets is determined. When automatic layout is performed, capacitor selection cells X1 and X2 having switch elements are arranged. The specified nets N1 and N2 are connected with capacitor cells Y1 and Y2 through the selection cells. The on-off states of the switch elements are fixed to satisfy the allowable differential time delay.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ゲートアレイ方式やス
タンダードセル方式等の半導体集積回路に用いられる信
号伝播遅延時間調整回路及び自動配置配線方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a signal propagation delay time adjusting circuit used in a semiconductor integrated circuit such as a gate array system or a standard cell system, and an automatic placement and routing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】図7は、ゲートアレイ10の概略構成を
示す。
2. Description of the Related Art FIG. 7 shows a schematic structure of a gate array 10.

【0003】ゲートアレイ10は、本体部11と、その
周囲のボンディングパッド&I/Oインタフェース部1
2とからなる。本体部11は、基本セル列21〜25が
等間隔で配置され、これらの間には配線チャンネル領域
31〜34が確保されている。
The gate array 10 includes a main body portion 11 and a bonding pad & I / O interface portion 1 around the main body portion 11.
It consists of 2. In the main body portion 11, basic cell rows 21 to 25 are arranged at equal intervals, and wiring channel regions 31 to 34 are secured between them.

【0004】CADを用いた自動配置配線によりチップ
設計を行い、例えば、基本セル列22の基本セルAと基
本セル列24の基本セルBとがネットN1で接続され、
基本セルAと基本セル列21の基本セルCとがネットN
2で接続されているとする。これら基本セルA〜Cは、
機能セルの構成要素である。基本セルAから基本セルB
及び基本セルCへ同一信号を同時に送った場合、ネット
N1とネットN2の配線容量の差、通常はネットN1の
長さとネットN2の長さとの差に応じた、信号伝播遅延
時間の差が生ずる。クロック周波数を高くすると、この
差が誤動作の原因となる。このような問題は、回路の大
規模化が進展するほど著しくなる。
A chip is designed by automatic placement and wiring using CAD. For example, the basic cell A of the basic cell row 22 and the basic cell B of the basic cell row 24 are connected by a net N1.
The basic cell A and the basic cell C of the basic cell row 21 are net N
It is assumed that they are connected by 2. These basic cells A to C are
It is a component of a functional cell. Basic cell A to basic cell B
And when the same signal is sent to the basic cell C at the same time, a difference in signal propagation delay time occurs according to the difference in wiring capacitance between the net N1 and the net N2, usually the difference between the length of the net N1 and the length of the net N2. .. When the clock frequency is increased, this difference causes a malfunction. Such a problem becomes more serious as the circuit becomes larger.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】自動配置配線は、配線
率100%を実現することを目標として行われるので、
上記問題は解決されず、結果としてクロック周波数の高
速化が妨げられていた。このような場合、基本セルA、
B又はCの配置を変えることにより、ネットN1とネッ
トN2の長さをほぼ同一にすることも可能である。しか
し、セルの配置換えは他のセルの配置に影響を及ぼすの
で、自動配置配線後に手動配置配線を行うのは煩雑であ
り、また、配線率100%を達成できなくなる場合があ
る。このような問題は、スタンダードセル方式について
も生ずる。
Since automatic placement and routing is performed with the goal of achieving a wiring rate of 100%,
The above problem has not been solved, and as a result, the speeding up of the clock frequency has been hindered. In such a case, the basic cell A,
It is also possible to make the lengths of the net N1 and the net N2 substantially the same by changing the arrangement of B or C. However, since the cell rearrangement affects the arrangement of other cells, it is complicated to perform the manual placement and routing after the automatic placement and routing, and the wiring rate of 100% may not be achieved. Such a problem also occurs in the standard cell system.

【0006】本発明の目的は、このような問題点に鑑
み、自動配置配線後にセルの配置換えを行うことなく、
信号伝播遅延時間を調整することができる信号伝播遅延
時間調整回路及び自動配置配線方法を提供することにあ
る。
In view of such problems, an object of the present invention is to perform cell placement rearrangement after automatic placement and routing.
It is an object of the present invention to provide a signal propagation delay time adjusting circuit and an automatic placement and routing method capable of adjusting the signal propagation delay time.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段及びその作用】本発明に係
る信号伝播遅延時間調整回路を、実施例図中の対応する
構成要素の符号を引用して説明する。
The signal propagation delay time adjusting circuit according to the present invention will be described with reference to the reference numerals of the corresponding constituent elements in the drawings.

【0008】この信号伝播遅延時間調整回路は、例えば
図2〜4に示す如く、配線チャンネル領域に配置された
容量素子C1〜C4(容量セル列31〜34)と、入力
端と複数の出力端との間を選択的にオン・オフするスイ
ッチ素子T1〜T4を備えた容量選択セルX1、X2と
を有し、容量選択セルX1、X2以外のセルA〜Cの間
の配線が、容量選択セルX1、X2の該入力端に接続さ
れ、容量選択セルX1、X2の出力端が容量素子C1〜
C4に接続され、該セル間配線の長さに応じてスイッチ
素子T1〜T4のオン・オフが固定されてセル間信号伝
播遅延時間が調整される。
This signal propagation delay time adjusting circuit is, for example, as shown in FIGS. 2 to 4, capacitive elements C1 to C4 (capacitive cell rows 31 to 34) arranged in a wiring channel region, an input terminal and a plurality of output terminals. And capacitance selection cells X1 and X2 having switch elements T1 to T4 for selectively turning on and off the capacitance selection cells X1 and X2, and the wiring between the cells A to C other than the capacitance selection cells X1 and X2 is capacitance selection. The capacitance selection cells X1 and X2 are connected to the input ends of the cells X1 and X2, and the output ends of the capacitance selection cells X1 and X2 are capacitive elements C1 to C1.
The switch elements T1 to T4 are connected to C4, and ON / OFF of the switch elements T1 to T4 are fixed in accordance with the length of the inter-cell wiring to adjust the inter-cell signal propagation delay time.

【0009】本発明では、配線チャンネル領域31〜3
4に容量セル列41〜44を配置しているので、配線チ
ャンネル領域が特に制限されない。また、自動配線の際
に配線容量調整のための接続を行うことが可能となるの
で、自動配置配線後にセルの配置換えを行うことなく、
信号伝播遅延時間を調整することが可能となる。
In the present invention, the wiring channel regions 31 to 31 are formed.
Since the capacitor cell columns 41 to 44 are arranged in No. 4, the wiring channel region is not particularly limited. Also, since it is possible to make a connection for wiring capacity adjustment during automatic wiring, without rearranging cells after automatic placement and wiring,
It is possible to adjust the signal propagation delay time.

【0010】本発明の第1態様では、セルはゲートアレ
イ上の基本セルで構成され、容量素子C1〜C4は、例
えば図5に示す如く、半導体基板50上に絶縁膜55を
介し電極51〜54が配置された構成である。半導体基
板50は、n型、p型又は不純物層が形成されたもの等
である。
In the first embodiment of the present invention, the cell is composed of a basic cell on the gate array, and the capacitors C1 to C4 are formed on the semiconductor substrate 50 via the insulating film 55 and the electrodes 51 to 51 as shown in FIG. This is a configuration in which 54 is arranged. The semiconductor substrate 50 is, for example, an n-type, p-type, or one in which an impurity layer is formed.

【0011】次に、本発明に係る自動配置配線方法を、
図2〜4を参照し図1に基づいて説明する。
Next, the automatic placement and routing method according to the present invention will be described.
It demonstrates based on FIG. 1 with reference to FIGS.

【0012】この自動配置配線方法では、例えば図2に
示す如く、セル列21〜25間の配線チャンネル領域3
1〜34に容量素子(容量セル列31〜34)が配置さ
れており、次のようにして自動配置後自動配線する。以
下、括弧内の数値は図中のステップ識別番号である。
In this automatic placement and routing method, for example, as shown in FIG. 2, the wiring channel region 3 between the cell rows 21 to 25 is formed.
Capacitance elements (capacitance cell rows 31 to 34) are arranged in 1 to 34, and automatic wiring is performed after automatic arrangement as follows. Hereinafter, the numerical value in parentheses is the step identification number in the figure.

【0013】(1)自動配線前に、信号伝播遅延時間が
問題となるネット、例えば図2に示すネットN1、N2
を指定し、かつ、該指定ネットN1、N2間の許容信号
伝播遅延時間差を実質的に設定する。実質的にとは、許
容信号伝播遅延時間差の代わりに、許容配線容量差又は
許容配線長差等を設定してもよいことを意味する。
(1) Before automatic wiring, nets in which signal propagation delay time is a problem, for example, nets N1 and N2 shown in FIG.
And the allowable signal propagation delay time difference between the designated nets N1 and N2 is substantially set. Substantially means that instead of the allowable signal propagation delay time difference, an allowable wiring capacitance difference or an allowable wiring length difference may be set.

【0014】(2)自動配置の際に、例えば図3及び図
4に示すような、入力端と複数の出力端との間を選択的
にオン・オフするスイッチ素子T1〜T4を備えた容量
選択セルX1をセルの一種として配置する。
(2) Capacitors provided with switch elements T1 to T4 for selectively turning on and off between an input end and a plurality of output ends as shown in FIGS. 3 and 4 during automatic placement. The selected cell X1 is arranged as a kind of cell.

【0015】(3)自動配線の際に、指定ネットN1、
N2を容量選択セルX1、X2の入力端に接続し、容量
選択セルX1、X2の出力端を容量素子、例えば容量セ
ルY1、Y2の容量素子に接続し、設定された許容信号
伝播遅延時間差を満たすように、スイッチ素子T1〜T
4のオン・オフを固定する。
(3) When the automatic wiring is performed, the designated net N1,
N2 is connected to the input terminals of the capacitance selection cells X1 and X2, and the output terminals of the capacitance selection cells X1 and X2 are connected to the capacitance elements, for example, the capacitance elements of the capacitance cells Y1 and Y2, and the set allowable signal propagation delay time difference is set. To satisfy the switch elements T1 to T
Fix on / off of 4.

【0016】本方法発明では、自動配線の際に問題とな
るネットに対し配線容量調整のための接続を行うので、
自動配置配線後にセルの配置換えを行うことなく、信号
伝播遅延時間を調整することができる。
According to the method of the present invention, since the connection for adjusting the wiring capacity is made to the net which is a problem in the automatic wiring,
The signal propagation delay time can be adjusted without rearranging the cells after automatic placement and routing.

【0017】本方法発明の第1態様では、上記(1)に
おいて、自動配置前にネットN1、N2の指定を行い、
上記(2)において、自動配置の際に、指定ネットN
1、N2に接続されるセルの近くに容量選択セルX1、
X2を配置する。
In the first aspect of the present invention, in the above (1), nets N1 and N2 are designated before automatic placement,
In the above (2), when the automatic placement is performed, the designated net N
1, the capacity selection cell X1, near the cell connected to N2,
Place X2.

【0018】この構成の場合、指定ネットと容量選択セ
ルとを接続する配線を短くすることができる。
In the case of this structure, it is possible to shorten the wiring connecting the designated net and the capacitance selection cell.

【0019】[0019]

【実施例】以下、図面に基づいて本発明の実施例を説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0020】(1)第1実施例 図2は、ゲートアレイ10Aの概略構成を示す。図7と
同一構成要素には、同一符号を付してその説明を省略す
る。
(1) First Embodiment FIG. 2 shows a schematic structure of the gate array 10A. The same components as those in FIG. 7 are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【0021】CADで自動配置を行った後は、機能セル
を構成する基本セルA、B及びCは図7と同様の配置に
なっている。この状態で従来のようにCADで自動配線
すると、基本セルAと基本セルBとを接続するネットN
1の配線容量と、基本セルAと基本セルCとを接続する
ネットN2の配線容量との差、すなわち両配線長の差
が、図7の場合と同様に問題となる。
After the automatic placement by CAD, the basic cells A, B and C constituting the functional cell have the same placement as in FIG. In this state, if automatic wiring is performed by CAD as in the conventional case, the net N connecting the basic cell A and the basic cell B is connected.
The difference between the wiring capacity of 1 and the wiring capacity of the net N2 connecting the basic cell A and the basic cell C, that is, the difference between the two wiring lengths poses a problem as in the case of FIG.

【0022】この問題を解決するために、本実施例で
は、本体部11Aの基本セル列21〜25の間の配線チ
ャンネル領域31〜34にそれぞれ、容量セル列41〜
44を形成している。そして、自動配線により、ネット
N1を容量選択セルX1の入力端に接続し、容量選択セ
ルX1の出力端に容量セルY1を接続し、ネットN2を
容量選択セルX2の入力端に接続し、容量選択セルX2
の出力端に容量セルY2を接続している。容量選択セル
X1は基本セルBの近くの余った基本セルが使用され、
容量選択セルX2は基本セルCの近くの余った基本セル
が使用される。また、容量セルY1は、容量セル列41
〜44の内、容量選択セルX1の近くのものが使用さ
れ、容量セルY2は、容量セル列41〜44の内、容量
選択セルX2の近くのものが使用される。
In order to solve this problem, in this embodiment, in the wiring channel regions 31 to 34 between the basic cell columns 21 to 25 of the main body 11A, the capacitor cell columns 41 to 41 are respectively provided.
44 are formed. Then, by automatic wiring, the net N1 is connected to the input terminal of the capacity selection cell X1, the capacity cell Y1 is connected to the output terminal of the capacity selection cell X1, and the net N2 is connected to the input terminal of the capacity selection cell X2. Selected cell X2
The capacitance cell Y2 is connected to the output terminal of the. The remaining basic cells near the basic cell B are used as the capacity selection cell X1,
A remaining basic cell near the basic cell C is used as the capacity selection cell X2. In addition, the capacity cell Y1 has a capacity cell row 41.
Among the capacitance cell columns 41 to 44, those of the capacitance cell columns 41 to 44 that are close to the capacitance selection cell X2 are used.

【0023】図3及び図4に示す如く、容量選択セルX
1は、nMOSトランジスタT1〜T4を備え、nMO
SトランジスタT1〜T4のドレインが共通に接続され
て入力端となっており、nMOSトランジスタT1〜T
4の各ソースが出力端となっている。容量セルY1は、
容量素子C1〜C4からなり、その一端がそれぞれnM
OSトランジスタT1〜T4のソースに接続され、他端
が接地されている。したがって、nMOSトランジスタ
T1〜T4のゲートG1〜G4をそれぞれ電源供給線V
CC又はグランド線VSSの何れかと接続することにより、
ネットN1の配線容量を調整することができる。
As shown in FIGS. 3 and 4, the capacitance selection cell X
1 includes nMOS transistors T1 to T4,
The drains of the S transistors T1 to T4 are commonly connected to form an input terminal, and the nMOS transistors T1 to T4 are connected.
Each source of 4 is an output terminal. The capacity cell Y1 is
It is composed of capacitive elements C1 to C4, one end of each of which is nM.
It is connected to the sources of the OS transistors T1 to T4 and the other end is grounded. Therefore, the gates G1 to G4 of the nMOS transistors T1 to T4 are connected to the power supply line V, respectively.
By connecting either CC or ground line V SS ,
The wiring capacitance of the net N1 can be adjusted.

【0024】図2及び図3では、ゲートG1及びG3を
グランド線VSSに接続し、ゲートG2及びG4を電源供
給線VCCに接続して、ネットN1の付加容量をほぼC3
+C4としている。
In FIGS. 2 and 3, the gates G1 and G3 are connected to the ground line V SS , the gates G2 and G4 are connected to the power supply line V CC, and the additional capacitance of the net N1 is approximately C3.
It is + C4.

【0025】容量セルY1の列方向幅は限定されない
が、本実施例では基本セルの列方向幅と同一になってい
る。容量セルY1は、図4に示す如く、容量素子C1〜
C4のサイズが互いに異なり、ネットN1に付加する容
量を細かく選定することが可能となっている。例えば、
容量比がC1:C2:C3:C4=1:2:4:8の場
合、差が一定の15通りの付加容量を選択することがで
きる。容量セルY1は、図5に示す如く、半導体基板5
0の表面部に、絶縁膜、例えばフィールド酸化膜55を
介して互いに異なるサイズの電極51〜54が配置され
た構成となっている。
Although the width of the capacitance cell Y1 in the column direction is not limited, in the present embodiment, it is the same as the width of the basic cell in the column direction. As shown in FIG. 4, the capacitive cell Y1 includes capacitive elements C1 to C1.
Since the sizes of C4 are different from each other, it is possible to finely select the capacity to be added to the net N1. For example,
When the capacity ratio is C1: C2: C3: C4 = 1: 2: 4: 8, 15 additional capacities with a constant difference can be selected. As shown in FIG. 5, the capacitance cell Y1 is formed on the semiconductor substrate 5
On the surface portion 0, electrodes 51 to 54 of different sizes are arranged via an insulating film, for example, a field oxide film 55.

【0026】容量選択セルX2及び容量セルY2につい
ても上記容量選択セルX1及び容量セルY1と同様にな
っている。
The capacity selection cell X2 and the capacity cell Y2 are similar to the capacity selection cell X1 and the capacity cell Y1.

【0027】したがって、ネットN1及びN2のそれぞ
れに付加する容量を適当に選ぶことにより、ネットN1
とネットN2の信号伝播遅延時間差を目的に応じて調整
することができる。
Therefore, by appropriately selecting the capacity to be added to each of the nets N1 and N2, the net N1
And the difference in signal propagation delay time between the net N2 and the net N2 can be adjusted according to the purpose.

【0028】この調整は、自動配線の際に行う。すなわ
ち、自動配置前に、問題となるネットを指定し、かつ、
ネット間の許容信号伝播遅延時間差、許容配線容量差又
は許容配線長差を設定しておき、通常の自動配置後に、
余った基本セルを容量選択セルとし、通常の自動配線が
終わった後又はこれと並行して、設定された許容信号伝
播遅延時間差等を満たすように、指定されたネットに対
し上述のような配線容量調整のための接続設計を自動的
に行う。
This adjustment is performed during automatic wiring. That is, specify the problematic net before automatic placement, and
Set the allowable signal propagation delay time difference between nets, allowable wiring capacitance difference or allowable wiring length difference, and after normal automatic placement,
The remaining basic cells are used as capacity selection cells, and after normal automatic wiring is completed or in parallel with this, the above-mentioned wiring is performed for the specified net so as to satisfy the set allowable signal propagation delay time difference. Automatically design the connection for capacity adjustment.

【0029】本実施例によれば、配線チャンネル領域3
1〜34に容量セル列41〜44を配置しているので、
配線領域が特に制限されない。また、配線率100%を
目的として自動配線を行い、かつ、セルの配置換えを行
うことなく、自動配線の際に配線容量調整のための接続
を行うので、配線率100%の達成度が高くなり、しか
も、自動配置配線後に煩雑な手動配置配線を行う必要が
なくなる。
According to this embodiment, the wiring channel region 3
Since the capacity cell columns 41 to 44 are arranged in 1 to 34,
The wiring area is not particularly limited. Further, automatic wiring is performed for the purpose of achieving a wiring rate of 100%, and the connection for adjusting the wiring capacity is performed during automatic wiring without rearranging cells, so that the achievement rate of the wiring rate of 100% is high. Moreover, there is no need to perform complicated manual placement and routing after automatic placement and routing.

【0030】なお、容量選択セルX1及びX2は、自動
配置後に余った基本セルを使用する代わりに、自動配置
の際に、上記指定ネットが接続される基本セルの近くに
予め確保し、又は、この指定ネットと無関係に所定部分
に確保たものを使用してもよい。
It should be noted that the capacity selecting cells X1 and X2 are secured in advance near the basic cell to which the above-mentioned designated net is connected during the automatic arrangement, instead of using the remaining basic cells after the automatic arrangement, or It is also possible to use the one secured in a predetermined portion irrespective of this designated net.

【0031】(2)第2実施例 上記第1実施例において、nMOSトランジスタT1〜
T4のドレイン・ゲート間の容量は容量素子C1〜C4
の容量よりも小さいが、nMOSトランジスタT1〜T
4のドレインを共通に接続しているので、nMOSトラ
ンジスタT1〜T4のサイズ及び個数によっては、その
容量が無視できなくなる。そこで、本第2実施例では、
図6(A)に示す如く、図3に示す容量選択セルX1の
代わりに容量選択セルX1Aを用いている。
(2) Second Embodiment In the first embodiment, the nMOS transistors T1 to T1 are connected.
The capacitance between the drain and gate of T4 is the capacitance elements C1 to C4.
NMOS transistors T1 to T
Since the drains of the nMOS transistors 4 are commonly connected, the capacitance thereof cannot be ignored depending on the size and the number of the nMOS transistors T1 to T4. Therefore, in the second embodiment,
As shown in FIG. 6A, a capacitance selection cell X1A is used instead of the capacitance selection cell X1 shown in FIG.

【0032】すなわち、nMOSトランジスタT1〜T
4のドレインにnMOSトランジスタT0のソースを接
続して、容量選択セルX1A自体の容量を低減してい
る。
That is, the nMOS transistors T1 to T
The source of the nMOS transistor T0 is connected to the drain of No. 4 to reduce the capacitance of the capacitance selection cell X1A itself.

【0033】また、選択制御信号S1及びS2を、図6
(B)に示すようなデコーダ70を介して、nMOSト
ランジスタT0〜T4のゲートG0〜G4に供給してい
る。このデコーダ70は、アンドゲート71〜74と、
インバータ75〜78と、オアゲート79とを備え、選
択制御信号S1及びS2の値が‘11’、‘01’、
‘10’、‘00’のとき、それぞれnMOSトランジ
スタT1、T2、T3、T4をオンにし、同時にnMO
SトランジスタT0をオンにする。選択制御信号S1及
びS2は、電源供給線VCC又はグランド線VSSから与え
られる。
In addition, the selection control signals S1 and S2 are shown in FIG.
It is supplied to the gates G0 to G4 of the nMOS transistors T0 to T4 via the decoder 70 as shown in FIG. The decoder 70 includes AND gates 71 to 74,
The inverters 75 to 78 and the OR gate 79 are provided, and the values of the selection control signals S1 and S2 are “11”, “01”,
When it is "10" or "00", the nMOS transistors T1, T2, T3, and T4 are turned on, respectively, and at the same time, the nMO transistor is turned on.
The S transistor T0 is turned on. The selection control signals S1 and S2 are given from the power supply line V CC or the ground line V SS .

【0034】[0034]

【発明の効果】以上説明した如く、本発明に係る信号伝
播遅延時間調整回路では、配線チャンネル領域に容量素
子を配置しているので、配線チャンネル領域が特に制限
されず、また、自動配線の際に配線容量調整のための接
続を行うことが可能となるので、自動配置配線後にセル
の配置換えを行うことなく、信号伝播遅延時間を調整す
ることが可能となるという効果を奏する。
As described above, in the signal propagation delay time adjusting circuit according to the present invention, since the capacitive element is arranged in the wiring channel area, the wiring channel area is not particularly limited, and in the case of automatic wiring. Since it is possible to make a connection for adjusting the wiring capacitance, it is possible to adjust the signal propagation delay time without rearranging the cells after automatic placement and wiring.

【0035】本発明に係る自動配置配線方法では、自動
配線の際に問題となるネットに対し配線容量調整のため
の接続を行うので、自動配置配線後にセルの配置換えを
行うことなく、信号伝播遅延時間を調整することができ
るという効果を奏する。
In the automatic placement and routing method according to the present invention, the connection for adjusting the wiring capacitance is made to the net which is a problem during the automatic routing. Therefore, the signal propagation is performed without relocating the cells after the automatic placement and routing. This has the effect of adjusting the delay time.

【0036】本方法発明の第1態様では、自動配置前に
ネットの指定を行い、自動配置の際に、指定ネットに接
続されるセルの近くに容量選択セルを配置するので、指
定ネットと容量選択セルとを接続する配線を短くするこ
とができるという効果を奏する。
In the first aspect of the present invention, a net is designated before automatic placement, and at the time of automatic placement, a capacity selection cell is placed near a cell connected to the designated net. The effect is that the wiring connecting to the selected cell can be shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る自動配置配線方法の原理構成を示
すフローチャートである。
FIG. 1 is a flowchart showing a principle configuration of an automatic placement and routing method according to the present invention.

【図2】本発明の第1実施例のゲートアレイ概略構成図
である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a gate array according to a first embodiment of the present invention.

【図3】信号伝播遅延時間調整回路図である。FIG. 3 is a signal propagation delay time adjustment circuit diagram.

【図4】図2の要部を拡大した回路図である。FIG. 4 is an enlarged circuit diagram of a main part of FIG.

【図5】容量セル構成図であり、(A)は容量セル平面
図、(B)は(A)のB−B線断面図である。
5A and 5B are configuration diagrams of a capacitance cell, FIG. 5A is a plan view of the capacitance cell, and FIG. 5B is a cross-sectional view taken along line BB of FIG.

【図6】本発明の第2実施例の信号伝播遅延時間調整回
路図である。
FIG. 6 is a signal propagation delay time adjustment circuit diagram of a second embodiment of the present invention.

【図7】従来技術の問題点を説明するためのゲートアレ
イ概略構成図である。
FIG. 7 is a schematic configuration diagram of a gate array for explaining a problem of the conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10、10A ゲートアレイ 21〜25 基本セル列 31〜34 配線チャンネル領域 41〜44 容量セル列 A、B、C 基本セル X1、X2 容量選択セル Y1、Y2 容量セル N1、N2 ネット C1〜C4 容量素子 T0〜T4 nMOSトランジスタ VCC 電源供給線 VSS グランド線 50 半導体基板 51〜54 電極 55 絶縁膜10, 10A Gate array 21-25 Basic cell column 31-34 Wiring channel region 41-44 Capacitance cell column A, B, C Basic cell X1, X2 Capacitance selection cell Y1, Y2 Capacitance cell N1, N2 Net C1-C4 Capacitance element T0 to T4 nMOS transistor V CC power supply line V SS ground line 50 semiconductor substrate 51 to 54 electrode 55 insulating film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 27/118 H03K 19/173 7827−5J ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI Technical display location H01L 27/118 H03K 19/173 7827-5J

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 配線チャンネル領域(31〜34)に配
置された容量素子(41〜44、C1〜C4)と、 入力端と複数の出力端との間を選択的にオン・オフする
スイッチ素子(T1〜T4)を備えた容量選択セル(X
1、X2)とを有し、 該容量選択セル以外のセルの間の配線が、該容量選択セ
ルの該入力端に接続され、該容量選択セルの出力端が該
容量素子に接続され、該セル間配線の長さに応じて該ス
イッチ素子のオン・オフが固定されてセル間信号伝播遅
延時間が調整されることを特徴とする信号伝播遅延時間
調整回路。
1. A switch element for selectively turning on / off between a capacitive element (41-44, C1-C4) arranged in a wiring channel region (31-34) and an input terminal and a plurality of output terminals. (T1 to T4) provided capacity selection cell (X
And X2), the wiring between cells other than the capacitance selection cell is connected to the input end of the capacitance selection cell, and the output end of the capacitance selection cell is connected to the capacitance element. An inter-cell signal propagation delay time is adjusted by fixing ON / OFF of the switch element according to a length of inter-cell wiring.
【請求項2】 前記セルはゲートアレイ上の基本セルで
構成され、 前記容量素子(41〜44、C1〜C4)は半導体基板
(50)上に絶縁膜(55)を介し電極(51〜54)
が配置された構成であることを特徴とする請求項1記載
の信号伝播遅延時間調整回路。
2. The cells are composed of basic cells on a gate array, and the capacitive elements (41 to 44, C1 to C4) have electrodes (51 to 54) on a semiconductor substrate (50) via an insulating film (55). )
2. The signal propagation delay time adjusting circuit according to claim 1, wherein the signal propagation delay time adjusting circuit is arranged.
【請求項3】 セル列間の配線チャンネル領域(31〜
34)に容量素子(41〜44、C1〜C4)が配置さ
れ、自動配置後自動配線する自動配置配線方法であっ
て、 該自動配線前に、信号伝播遅延時間が問題となるネット
(N1、N2)を指定し、かつ、該指定ネット間の許容
信号伝播遅延時間差を実質的に設定しておき(1)、 該自動配置の際に、入力端と複数の出力端との間を選択
的にオン・オフするスイッチ素子(T1〜T4)を備え
た容量選択セル(X1、X2)をセルの一種として配置
し(2)、 該自動配線の際に、該指定ネットを該容量選択セルの該
入力端に接続し、該容量選択セルの出力端を該容量素子
に接続し、設定された該許容信号伝播遅延時間差を満た
すように、該スイッチ素子のオン・オフを固定する
(3)ことを特徴とする自動配置配線方法。
3. A wiring channel region (31 to 31) between cell columns.
34) is an automatic placement and routing method in which capacitive elements (41 to 44, C1 to C4) are placed, and automatic routing is performed after automatic placement. Before the automatic routing, a net (N1, N2) is specified, and a permissible signal propagation delay time difference between the specified nets is substantially set (1), and at the time of the automatic placement, the input end and the plurality of output ends are selectively selected. A capacitance selection cell (X1, X2) having switching elements (T1 to T4) for turning on and off is arranged as a kind of cell (2), and the specified net is connected to the capacitance selection cell during the automatic wiring. Connecting the output terminal of the capacitance selection cell to the input terminal, connecting the output terminal of the capacitance selection cell to the capacitive element, and fixing ON / OFF of the switch element so as to satisfy the set allowable signal propagation delay time difference (3). An automatic placement and routing method.
【請求項4】 前記自動配置前に前記ネット(N1、N
2)の指定を行い、該自動配置の際に、該指定ネットに
接続されるセルの近くに前記容量選択セル(X1、X
2)を配置することを特徴とする請求項3記載の自動配
置配線方法。
4. The nets (N1, N) before the automatic placement.
2) is specified, and at the time of the automatic placement, the capacity selection cells (X1, X) are placed near the cells connected to the specified net.
2. The automatic placement and routing method according to claim 3, wherein 2) is placed.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07192031A (en) * 1993-12-27 1995-07-28 Nec Corp Method and device for automatic layout for integrated circuit
US5869852A (en) * 1997-04-08 1999-02-09 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor integrated circuit and semiconductor integrated circuit having layout designed by cell base system

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