JPH0577A - 培養装置 - Google Patents
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- JPH0577A JPH0577A JP15196391A JP15196391A JPH0577A JP H0577 A JPH0577 A JP H0577A JP 15196391 A JP15196391 A JP 15196391A JP 15196391 A JP15196391 A JP 15196391A JP H0577 A JPH0577 A JP H0577A
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- C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
- C12M—APPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
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- C12M41/12—Means for regulation, monitoring, measurement or control, e.g. flow regulation of temperature
- C12M41/14—Incubators; Climatic chambers
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
- C12M—APPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
- C12M41/00—Means for regulation, monitoring, measurement or control, e.g. flow regulation
- C12M41/30—Means for regulation, monitoring, measurement or control, e.g. flow regulation of concentration
- C12M41/34—Means for regulation, monitoring, measurement or control, e.g. flow regulation of concentration of gas
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 半永久的にガスを発生できるＰＳＡ方式等の
ガス発生器を補助ガス供給装置として培養庫に連結でき
るようにして、従来の予備ガスボンベを不要とし、予備
ガスボンベの定期的な残量チェックという面倒な作業を
廃止して、使用性に優れた培養装置を提供する。 【構成】 培養庫１に形成された培養室２内を所定のガ
ス濃度に制御する培養装置において、主ガス供給源３，
７と、培養室を主経路８で連通し、補助ガス供給装置１
１と培養室を補助経路１２で連通し、両経路８，１２に
電磁弁１０，１３を設ける。主経路に設けた圧力センサ
ー５，９と培養室内のガス濃度を検出する濃度センサー
１５，１６からの信号に基づき培養室内を所定のガス濃
度に制御する一方、圧力センサー５，９からの信号に基
づき補助ガス供給装置を運転制御すると共に電磁弁を制
御する制御装置１７とを備え、これから補助ガス供給装
置に信号を出力するための外部出力端子１４を培養庫に
設けた。
ガス発生器を補助ガス供給装置として培養庫に連結でき
るようにして、従来の予備ガスボンベを不要とし、予備
ガスボンベの定期的な残量チェックという面倒な作業を
廃止して、使用性に優れた培養装置を提供する。 【構成】 培養庫１に形成された培養室２内を所定のガ
ス濃度に制御する培養装置において、主ガス供給源３，
７と、培養室を主経路８で連通し、補助ガス供給装置１
１と培養室を補助経路１２で連通し、両経路８，１２に
電磁弁１０，１３を設ける。主経路に設けた圧力センサ
ー５，９と培養室内のガス濃度を検出する濃度センサー
１５，１６からの信号に基づき培養室内を所定のガス濃
度に制御する一方、圧力センサー５，９からの信号に基
づき補助ガス供給装置を運転制御すると共に電磁弁を制
御する制御装置１７とを備え、これから補助ガス供給装
置に信号を出力するための外部出力端子１４を培養庫に
設けた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は培養室内のガス環境を制
御して細胞等の培養を行うための培養装置に関する。
御して細胞等の培養を行うための培養装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来この種培養装置は、癌細胞等の細胞
組織を培養するため特開昭６０−１４１２７９号公報に
示される如く、室内の温度、湿度環境のほかに、二酸化
炭素や酸素等のガス濃度を制御できるように構成されて
いる。
組織を培養するため特開昭６０−１４１２７９号公報に
示される如く、室内の温度、湿度環境のほかに、二酸化
炭素や酸素等のガス濃度を制御できるように構成されて
いる。
【０００３】このガスは通常ガスボンベに封入されたも
のを室内に供給するものであるので、有限である。従っ
て、ボンベが空になった場合はガスの供給が停止して、
環境条件が崩れ、培養中の細胞が死滅してしまうため予
備のガスボンベを準備して置き、ガスの供給をこれに切
り換えるようにしている。
のを室内に供給するものであるので、有限である。従っ
て、ボンベが空になった場合はガスの供給が停止して、
環境条件が崩れ、培養中の細胞が死滅してしまうため予
備のガスボンベを準備して置き、ガスの供給をこれに切
り換えるようにしている。
【０００４】図２に従来の培養装置の構成図を示す。１
００は培養庫、１０１はその培養室、１０２は培養室１
０１内の例えば酸素ガス濃度を検出するための濃度セン
サーである。１０３は窒素ガスを封入した主ガス供給源
としての主ガスボンベであり、接続口Ａにて主経路１０
４に連通されている。この主経路１０４には、塵埃を除
去するためのフィルター１０６が介設され、三方切換弁
１０７の一方の入口に接続されている。１０８は同様に
窒素ガスを封入した予備ガス供給源としての予備ガスボ
ンベであり、接続口Ｂにて予備経路１０９に連通されて
いる。この予備経路１０９には同様に塵埃を除去するた
めのフィルター１１０が介設され三方切換弁１０７の他
方の入口に接続されている。
００は培養庫、１０１はその培養室、１０２は培養室１
０１内の例えば酸素ガス濃度を検出するための濃度セン
サーである。１０３は窒素ガスを封入した主ガス供給源
としての主ガスボンベであり、接続口Ａにて主経路１０
４に連通されている。この主経路１０４には、塵埃を除
去するためのフィルター１０６が介設され、三方切換弁
１０７の一方の入口に接続されている。１０８は同様に
窒素ガスを封入した予備ガス供給源としての予備ガスボ
ンベであり、接続口Ｂにて予備経路１０９に連通されて
いる。この予備経路１０９には同様に塵埃を除去するた
めのフィルター１１０が介設され三方切換弁１０７の他
方の入口に接続されている。
【０００５】三方切換弁１０７は共通経路１１１にて培
養室１０１内と連通されるが、共通経路１１１には二方
弁から成るバルブ１１２が介設される。センサー１０２
の出力は制御装置１１３に入力され、制御装置１１３は
センサー１０２の出力に基づき、バルブ１１２の制御出
力を発生してバルブ１１２を開閉し、室１０１内の酸素
ガス濃度を所定の値に調節する。
養室１０１内と連通されるが、共通経路１１１には二方
弁から成るバルブ１１２が介設される。センサー１０２
の出力は制御装置１１３に入力され、制御装置１１３は
センサー１０２の出力に基づき、バルブ１１２の制御出
力を発生してバルブ１１２を開閉し、室１０１内の酸素
ガス濃度を所定の値に調節する。
【０００６】ここで酸素ガス濃度の制御に窒素ガスを用
いるのは、大気中の酸素濃度が約２１％であり、室１０
１内を酸素ガス濃度５％等の低い値で使用する場合は窒
素ガスによって室１０１内の酸素ガス濃度を下げる必要
があるからである。
いるのは、大気中の酸素濃度が約２１％であり、室１０
１内を酸素ガス濃度５％等の低い値で使用する場合は窒
素ガスによって室１０１内の酸素ガス濃度を下げる必要
があるからである。
【０００７】１１４，１１５は圧力センサーであり、フ
ィルター１０６と主ガスボンベ１０３の間及び予備ガス
ボンベ１０８とフィルター１１０の間の主経路１０４及
び予備経路１０９の圧力をそれぞれ検出し、これらの出
力を増幅回路を含む比較器１１６に入力している。
ィルター１０６と主ガスボンベ１０３の間及び予備ガス
ボンベ１０８とフィルター１１０の間の主経路１０４及
び予備経路１０９の圧力をそれぞれ検出し、これらの出
力を増幅回路を含む比較器１１６に入力している。
【０００８】比較器１１６は圧力センサー１１４の出力
に基づき、主ガスボンベ１０３にガスがあって主経路１
０４の圧力が所定値以上であれば、三方切換弁１０７を
主経路１０４側に切り換えて主ガスボンベ１０３から培
養室１０１内に窒素ガスを供給する。
に基づき、主ガスボンベ１０３にガスがあって主経路１
０４の圧力が所定値以上であれば、三方切換弁１０７を
主経路１０４側に切り換えて主ガスボンベ１０３から培
養室１０１内に窒素ガスを供給する。
【０００９】一方、主経路１０４の圧力が所定の圧力よ
り低下すると、比較器１１６は三方切換弁１０７を予備
経路１０９側に切り換え、予備ガスボンベ１０８からガ
スを供給する。
り低下すると、比較器１１６は三方切換弁１０７を予備
経路１０９側に切り換え、予備ガスボンベ１０８からガ
スを供給する。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の構
成によると、主ガスボンベ１０３を交換するまでの間で
ある予備ガスボンベ１０８の使用時には、定期的にこの
予備ガスボンベ１０８の残量を点検しなければならず、
作業が面倒であるという問題があった。例えば、予備ガ
スボンベ１０８に標準の容量である７ｍ3のものを使用
し内部に窒素を充填した場合であって培養室内の酸素濃
度を５％に保った場合には、１０〜１４日で空になって
しまう。
成によると、主ガスボンベ１０３を交換するまでの間で
ある予備ガスボンベ１０８の使用時には、定期的にこの
予備ガスボンベ１０８の残量を点検しなければならず、
作業が面倒であるという問題があった。例えば、予備ガ
スボンベ１０８に標準の容量である７ｍ3のものを使用
し内部に窒素を充填した場合であって培養室内の酸素濃
度を５％に保った場合には、１０〜１４日で空になって
しまう。
【００１１】本発明は上記問題を解決するためになされ
たもので、例えば半永久的にガスを発生できるＰＳＡ方
式等のガス発生器を補助ガス供給装置として培養庫に連
結できるようにして、従来の予備ガスボンベを不要と
し、予備ガスボンベの定期的な残量チェックという面倒
な作業を廃止して、使用性に優れた培養装置を提供する
ことを目的とする。
たもので、例えば半永久的にガスを発生できるＰＳＡ方
式等のガス発生器を補助ガス供給装置として培養庫に連
結できるようにして、従来の予備ガスボンベを不要と
し、予備ガスボンベの定期的な残量チェックという面倒
な作業を廃止して、使用性に優れた培養装置を提供する
ことを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は、培養庫に形成
された培養室内を所定のガス濃度に制御する培養装置に
おいて、主ガス供給源と、この主ガス供給源と前記培養
室を連通する主経路と、補助ガス供給装置と、この補助
ガス供給装置と前記培養室を連通する補助経路と、両経
路にそれぞれ設けた主流通制御手段と補助流通手段と、
前記培養室内のガス濃度を検出する濃度センサーと、前
記主経路に設けた圧力センサーと、前記濃度センサーか
らの信号に基づき培養室内を所定のガス濃度に制御する
一方、圧力センサーからの信号に基づき補助ガス供給装
置を運転制御すると共に前記両流通制御手段を制御する
制御装置とを備え、この制御装置から補助ガス供給装置
に信号を出力するための外部出力端子を培養庫に設けた
ものである。
された培養室内を所定のガス濃度に制御する培養装置に
おいて、主ガス供給源と、この主ガス供給源と前記培養
室を連通する主経路と、補助ガス供給装置と、この補助
ガス供給装置と前記培養室を連通する補助経路と、両経
路にそれぞれ設けた主流通制御手段と補助流通手段と、
前記培養室内のガス濃度を検出する濃度センサーと、前
記主経路に設けた圧力センサーと、前記濃度センサーか
らの信号に基づき培養室内を所定のガス濃度に制御する
一方、圧力センサーからの信号に基づき補助ガス供給装
置を運転制御すると共に前記両流通制御手段を制御する
制御装置とを備え、この制御装置から補助ガス供給装置
に信号を出力するための外部出力端子を培養庫に設けた
ものである。
【００１３】
【作用】本発明によれば、外部出力端子を介して補助ガ
ス供給装置を接続できるため、この補助ガス供給装置を
例えばＰＳＡ方式等のガス発生器とすることにより、半
永久的にガスを発生させることができ、主ガス供給源の
主ガスボンベが空になった場合には、補助ガス供給装置
に切り替えてガス供給を行うことにより、従来の予備ガ
スボンベを不要とし、予備ガスボンベの定期的な残量チ
ェックという面倒な作業を廃止できる。また、外部出力
端子の出力は警報出力としても利用することができ、主
ガス供給源の主ガスボンベが空になったことを遠隔地に
て知ることができ、主ガスボンベの交換を早期に行うこ
とができる。
ス供給装置を接続できるため、この補助ガス供給装置を
例えばＰＳＡ方式等のガス発生器とすることにより、半
永久的にガスを発生させることができ、主ガス供給源の
主ガスボンベが空になった場合には、補助ガス供給装置
に切り替えてガス供給を行うことにより、従来の予備ガ
スボンベを不要とし、予備ガスボンベの定期的な残量チ
ェックという面倒な作業を廃止できる。また、外部出力
端子の出力は警報出力としても利用することができ、主
ガス供給源の主ガスボンベが空になったことを遠隔地に
て知ることができ、主ガスボンベの交換を早期に行うこ
とができる。
【００１４】
【実施例】次に本発明の実施例を説明する。図１は本発
明の培養装置の構成図を示す。培養装置を構成する培養
庫１の培養室２内は断熱材にて断熱されており、例えば
二酸化炭素を封入した二酸化炭素ガスボンベ３が接続口
Ｃにて二酸化炭素ガス供給経路４に連通せられ、この経
路４は培養室２に連通せられている。この二酸化炭素ガ
ス供給経路４には、塵埃を除去するためのフィルター
（図示せず）、圧力センサー５、及び二方弁から成る電
磁弁６が介設されている。
明の培養装置の構成図を示す。培養装置を構成する培養
庫１の培養室２内は断熱材にて断熱されており、例えば
二酸化炭素を封入した二酸化炭素ガスボンベ３が接続口
Ｃにて二酸化炭素ガス供給経路４に連通せられ、この経
路４は培養室２に連通せられている。この二酸化炭素ガ
ス供給経路４には、塵埃を除去するためのフィルター
（図示せず）、圧力センサー５、及び二方弁から成る電
磁弁６が介設されている。
【００１５】７は窒素を封入した主ガスボンベであり、
接続口Ａにて主経路８に連通せられ、この主経路８は培
養室２に連通せられている。この主経路８にも塵埃を除
去するためのフィルター（図示せず）、圧力センサー
９、及び二方弁から成る電磁弁１０が介設されている。
接続口Ａにて主経路８に連通せられ、この主経路８は培
養室２に連通せられている。この主経路８にも塵埃を除
去するためのフィルター（図示せず）、圧力センサー
９、及び二方弁から成る電磁弁１０が介設されている。
【００１６】１１はＰＳＡ方式の補助ガス供給装置であ
る。この補助ガス供給装置は、所謂圧カスイング吸着に
よって、特定ガスを分離、濃縮してガスを発生する装置
で、本実施例の場合は、窒素ガスを吸着する吸着剤を用
いて、圧力を上げると窒素ガスを吸着し、圧力を下げる
とその窒素ガスを吐き出すことにより、大気から窒素ガ
スを分離して発生する装置である。この装置は、コンパ
クトでいつもガスを発生できるという利点がある。
る。この補助ガス供給装置は、所謂圧カスイング吸着に
よって、特定ガスを分離、濃縮してガスを発生する装置
で、本実施例の場合は、窒素ガスを吸着する吸着剤を用
いて、圧力を上げると窒素ガスを吸着し、圧力を下げる
とその窒素ガスを吐き出すことにより、大気から窒素ガ
スを分離して発生する装置である。この装置は、コンパ
クトでいつもガスを発生できるという利点がある。
【００１７】この補助ガス供給装置１１は接続口Ｂにて
予備経路１２に連通せられ、この予備経路１２は電磁弁
１０下流の主経路８に連通せられている。この予備経路
１２にも、塵埃を除去するためのフィルター（図示せ
ず）及び二方弁から成る電磁弁１３が介設されている。
予備経路１２に連通せられ、この予備経路１２は電磁弁
１０下流の主経路８に連通せられている。この予備経路
１２にも、塵埃を除去するためのフィルター（図示せ
ず）及び二方弁から成る電磁弁１３が介設されている。
【００１８】ここで、予備経路１２は直接培養室２に連
通させても良い。
通させても良い。
【００１９】１５は培養室２内の二酸化炭素ガス濃度を
検出するための二酸化炭素ガス濃度センサー、１６は同
酸素ガス濃度を検出するための酸素ガス濃度センサー
で、二酸化炭素ガス濃度センサー１５は赤外線検知方式
のガスセンサー、酸素ガス濃度センサー１６は電気伝導
度を検知する方式のガスセンサーで構成され、各センサ
ー１５及び１６の出力はマイクロコンピュータにて構成
される制御装置１７に入力される。
検出するための二酸化炭素ガス濃度センサー、１６は同
酸素ガス濃度を検出するための酸素ガス濃度センサー
で、二酸化炭素ガス濃度センサー１５は赤外線検知方式
のガスセンサー、酸素ガス濃度センサー１６は電気伝導
度を検知する方式のガスセンサーで構成され、各センサ
ー１５及び１６の出力はマイクロコンピュータにて構成
される制御装置１７に入力される。
【００２０】制御装置１７は接点１９によって電磁弁
６，１０，１３の制御出力をそれぞれ発生し、この出力
信号は培養庫１に設けた外部出力端子１４を介して前記
補助ガス供給装置１１に送られると共に、同じく外部出
力端子１４を介してブザー．ランプ及び又は文字表示パ
ネル等から成る警告手段１８に送られ、これら補助ガス
供給装置１１と警告手段１８を運転制御する。
６，１０，１３の制御出力をそれぞれ発生し、この出力
信号は培養庫１に設けた外部出力端子１４を介して前記
補助ガス供給装置１１に送られると共に、同じく外部出
力端子１４を介してブザー．ランプ及び又は文字表示パ
ネル等から成る警告手段１８に送られ、これら補助ガス
供給装置１１と警告手段１８を運転制御する。
【００２１】次に制御装置１７の動作を説明する。一般
にこの種培養装置は二酸化炭素ガス濃度５％、酸素ガス
濃度５％における用途が多く、標準的なガスボンベで二
酸化炭素ガスでは約１年間、窒素ガスでは１乃至２週間
で空になる。従って窒素ガスの消費量は多く、電磁弁１
０の動作回数も多くなるので、電磁弁６よりも故障確率
は大きくなる。
にこの種培養装置は二酸化炭素ガス濃度５％、酸素ガス
濃度５％における用途が多く、標準的なガスボンベで二
酸化炭素ガスでは約１年間、窒素ガスでは１乃至２週間
で空になる。従って窒素ガスの消費量は多く、電磁弁１
０の動作回数も多くなるので、電磁弁６よりも故障確率
は大きくなる。
【００２２】また、酸素ガス濃度の制御に窒素ガスを用
いているのは、大気中の酸素濃度が約２１％であり、５
％で使用する場合は窒素ガスによって培養室２内の酸素
ガス濃度を下げる必要があるからである。
いているのは、大気中の酸素濃度が約２１％であり、５
％で使用する場合は窒素ガスによって培養室２内の酸素
ガス濃度を下げる必要があるからである。
【００２３】尚、大気中の二酸化炭素濃度は約０．０３
％である。
％である。
【００２４】また、制御装置１７はセンサー１５の出力
に基づいて電磁弁６を開閉し、培養室２内を所定の二酸
化炭素ガス濃度に制御するが、説明の便宜上、以下は酸
素ガス濃度の制御についてのみ説明する。
に基づいて電磁弁６を開閉し、培養室２内を所定の二酸
化炭素ガス濃度に制御するが、説明の便宜上、以下は酸
素ガス濃度の制御についてのみ説明する。
【００２５】主ガスボンベ７に正常量の窒素が残存して
いる場合は、培養庫１の設置後電源を投入すると培養室
２内の酸素ガス濃度は大気の２１％であるから、制御装
置１７は制御出力を発生して電磁弁１０を開き、主ガス
ボンベ７から窒素ガスを培養室２内に導入する。
いる場合は、培養庫１の設置後電源を投入すると培養室
２内の酸素ガス濃度は大気の２１％であるから、制御装
置１７は制御出力を発生して電磁弁１０を開き、主ガス
ボンベ７から窒素ガスを培養室２内に導入する。
【００２６】これによって培養室２内の酸素は押し出さ
れて希釈され、酸素ガス濃度は、大気の酸素ガス濃度約
２１％から降下して行く。
れて希釈され、酸素ガス濃度は、大気の酸素ガス濃度約
２１％から降下して行く。
【００２７】その後、５％の設定値の下ではその下限値
に到達すると制御装置１７は制御出力を発生して主バル
ブ１０を閉じる。
に到達すると制御装置１７は制御出力を発生して主バル
ブ１０を閉じる。
【００２８】それによって酸素ガス濃度が上昇し、設定
値の上限値まで上昇すると、制御装置１７は再び電磁弁
１０を開く。
値の上限値まで上昇すると、制御装置１７は再び電磁弁
１０を開く。
【００２９】以下これを繰り返して培養室２内の酸素ガ
ス濃度を平均して設定値（上限値と下限値の間）に制御
する。
ス濃度を平均して設定値（上限値と下限値の間）に制御
する。
【００３０】この間制御装置１７は電磁弁１３を閉じて
いる。
いる。
【００３１】この後、主ボンベ７内の窒素の残存量が少
なくなり経路８の圧力が低下すると圧力センサー９がこ
れを検知して制御装置１７に信号を送り、制御装置１７
は接点１９がＯＮとなり外部出力端子１４を介して補助
ガス供給装置１１並びに警告手段１８に信号を送り、こ
れら補助ガス供給装置１１と警告手段１８を動作させる
一方、これと同時に電磁弁１３を開放する。
なくなり経路８の圧力が低下すると圧力センサー９がこ
れを検知して制御装置１７に信号を送り、制御装置１７
は接点１９がＯＮとなり外部出力端子１４を介して補助
ガス供給装置１１並びに警告手段１８に信号を送り、こ
れら補助ガス供給装置１１と警告手段１８を動作させる
一方、これと同時に電磁弁１３を開放する。
【００３２】これによって、補助ガス供給装置１１から
経路８を介して培養室２内へ窒素ガスが供給され、培養
室２内は設定値のガス濃度に維持される。
経路８を介して培養室２内へ窒素ガスが供給され、培養
室２内は設定値のガス濃度に維持される。
【００３３】このように構成された培養装置において、
培養庫１には、外部出力端子１４が設けられているた
め、この外部出力端子１４を介して補助ガス供給装置１
１を接続できるため、この補助ガス供給装置１１を例え
ばＰＳＡ方式等のガス発生器とすることにより、装置を
コンパクトにできるばかりでなく、半永久的にガスを発
生させることができ、主ガス供給源の主ガスボンベ７が
空になった場合には、補助ガス供給装置１１に切り替え
てガス供給を行うことにより、従来の予備ガスボンベを
不要とし、予備ガスボンベの定期的な残量チェックとい
う面倒な作業を廃止できる。
培養庫１には、外部出力端子１４が設けられているた
め、この外部出力端子１４を介して補助ガス供給装置１
１を接続できるため、この補助ガス供給装置１１を例え
ばＰＳＡ方式等のガス発生器とすることにより、装置を
コンパクトにできるばかりでなく、半永久的にガスを発
生させることができ、主ガス供給源の主ガスボンベ７が
空になった場合には、補助ガス供給装置１１に切り替え
てガス供給を行うことにより、従来の予備ガスボンベを
不要とし、予備ガスボンベの定期的な残量チェックとい
う面倒な作業を廃止できる。
【００３４】また、外部出力端子１４の出力は警告手段
１８によって警報出力としても利用できるため、主ガス
供給源の主ガスボンベ７が空になったことを遠隔地にて
知ったり、簡単に認識することができ、主ガスボンベ７
の交換を早期に行うことができる。
１８によって警報出力としても利用できるため、主ガス
供給源の主ガスボンベ７が空になったことを遠隔地にて
知ったり、簡単に認識することができ、主ガスボンベ７
の交換を早期に行うことができる。
【００３５】また、本発明では主経路８とは独立して補
助ガス供給装置１１を設け、更に電磁弁１０とは別個の
電磁弁１３にて補助ガス供給装置への切り換えと供給制
御を行うので、上記のような主経路８の故障時にも補助
ガス供給装置１１の供給を確保でき、培養細胞の死滅を
防止できる。
助ガス供給装置１１を設け、更に電磁弁１０とは別個の
電磁弁１３にて補助ガス供給装置への切り換えと供給制
御を行うので、上記のような主経路８の故障時にも補助
ガス供給装置１１の供給を確保でき、培養細胞の死滅を
防止できる。
【００３６】尚、本実施例では補助ガス供給装置１１を
ＰＳＡ方式の窒素ガス発生器として説明したが、これに
限定されるものではなく、有機高分子薄膜を隔てて空気
を吸引ブロアで吸引し、この膜中を空気が圧力の低い方
向へ移動することにより、空気中の酸素と窒素の膜への
溶解拡散性の違いを利用してガスを分離する所謂、膜式
の窒素ガス発生器でも良い。
ＰＳＡ方式の窒素ガス発生器として説明したが、これに
限定されるものではなく、有機高分子薄膜を隔てて空気
を吸引ブロアで吸引し、この膜中を空気が圧力の低い方
向へ移動することにより、空気中の酸素と窒素の膜への
溶解拡散性の違いを利用してガスを分離する所謂、膜式
の窒素ガス発生器でも良い。
【００３７】また、本実施例では培養室２内を大気より
低い酸素濃度に制御する場合について説明したが、大気
より高い酸素濃度に制御する場合は主ガスボンベ７に酸
素ガスが封入される。
低い酸素濃度に制御する場合について説明したが、大気
より高い酸素濃度に制御する場合は主ガスボンベ７に酸
素ガスが封入される。
【００３８】また、制御装置１７は接点１９による接点
出力で説明したが、電圧出力でも同様の効果が得られ
る。
出力で説明したが、電圧出力でも同様の効果が得られ
る。
【００３９】
【発明の効果】本発明によれば、外部出力端子を介して
補助ガス供給装置を接続できるため、この補助ガス供給
装置を例えばＰＳＡ方式等のガス発生器とすることによ
り、半永久的にガスを発生させることができ、主ガス供
給源の主ガスボンベが空になった場合には、補助ガス供
給装置に切り替えてガス供給を行うことにより、従来の
予備ガスボンベを不要とし、予備ガスボンベの定期的な
残量チェックという面倒な作業を廃止できる。
補助ガス供給装置を接続できるため、この補助ガス供給
装置を例えばＰＳＡ方式等のガス発生器とすることによ
り、半永久的にガスを発生させることができ、主ガス供
給源の主ガスボンベが空になった場合には、補助ガス供
給装置に切り替えてガス供給を行うことにより、従来の
予備ガスボンベを不要とし、予備ガスボンベの定期的な
残量チェックという面倒な作業を廃止できる。
【００４０】また、外部出力端子の出力は警報出力とし
ても利用することができ、主ガス供給源の主ガスボンベ
が空になったことを遠隔地にて知ることができ、主ガス
ボンベの交換を早期に行うことができる。
ても利用することができ、主ガス供給源の主ガスボンベ
が空になったことを遠隔地にて知ることができ、主ガス
ボンベの交換を早期に行うことができる。
【図１】本発明の培養装置の構成図である。
【図２】従来の培養装置の構成図である。
１ 培養庫 ２ 培養室 ７ 主ガスボンベ ６，１０，１３ 電磁弁 ８ 主経路 １１ 補助ガス供給装置 １２ 補助経路 １４ 外部出力端子 １７ 制御装置
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 培養庫に形成された培養室内を所定のガ
ス濃度に制御する培養装置において、主ガス供給源と、
この主ガス供給源と前記培養室を連通する主経路と、補
助ガス供給装置と、この補助ガス供給装置と前記培養室
を連通する補助経路と、両経路にそれぞれ設けた主流通
制御手段と補助流通制御手段と、前記培養室内のガス濃
度を検出する検出手段と、前記主ガス供給源の空を検知
する検知手段と、前記検出手段からの信号に基づき培養
室内を所定のガス濃度に制御する一方、検知手段からの
信号に基づき補助ガス供給装置を運転制御すると共に前
記両流通制御手段を制御する制御装置とを備え、この制
御装置から補助ガス供給装置に信号を出力するための外
部出力端子を培養庫に設けたことを特徴とする培養装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15196391A JP3021789B2 (ja) | 1991-06-24 | 1991-06-24 | 培養装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15196391A JP3021789B2 (ja) | 1991-06-24 | 1991-06-24 | 培養装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0577A true JPH0577A (ja) | 1993-01-08 |
| JP3021789B2 JP3021789B2 (ja) | 2000-03-15 |
Family
ID=15530044
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15196391A Expired - Fee Related JP3021789B2 (ja) | 1991-06-24 | 1991-06-24 | 培養装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3021789B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001181874A (ja) * | 1999-12-20 | 2001-07-03 | Mitsubishi Electric Corp | 脱脂洗浄方法及び洗浄装置 |
| WO2001084096A1 (en) * | 2000-04-28 | 2001-11-08 | Spx Corporation | Co2 gas measurement system for a laboratory incubator |
| KR100425779B1 (ko) * | 2002-01-10 | 2004-04-01 | 설동근 | 가압식 세포 배양기 |
| KR100809836B1 (ko) * | 2007-02-16 | 2008-03-04 | 고려대학교 산학협력단 | 압력 조절 배양 장치 |
| WO2010058898A1 (ko) * | 2008-11-19 | 2010-05-27 | 전북대학교 산학협력단 | 세포 배양용 인큐베이터 |
| WO2013011137A1 (en) | 2011-07-21 | 2013-01-24 | Biogaia Ab | Production and use of bacterial histamine |
| CN110669667A (zh) * | 2019-09-27 | 2020-01-10 | 深圳先进技术研究院 | 氧气浓度可控的多通道培养系统 |
| WO2020256014A1 (ja) * | 2019-06-20 | 2020-12-24 | ヤマト科学株式会社 | 成育装置 |
-
1991
- 1991-06-24 JP JP15196391A patent/JP3021789B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| WO2008100033A1 (en) * | 2007-02-16 | 2008-08-21 | Korea University Industrial & Academic Collaboration Foundation | Pressure controllable incubation system |
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| WO2013011137A1 (en) | 2011-07-21 | 2013-01-24 | Biogaia Ab | Production and use of bacterial histamine |
| WO2020256014A1 (ja) * | 2019-06-20 | 2020-12-24 | ヤマト科学株式会社 | 成育装置 |
| JP2021000006A (ja) * | 2019-06-20 | 2021-01-07 | ヤマト科学株式会社 | 成育装置 |
| CN110669667A (zh) * | 2019-09-27 | 2020-01-10 | 深圳先进技术研究院 | 氧气浓度可控的多通道培养系统 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3021789B2 (ja) | 2000-03-15 |
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